JP6998739B2 - Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method - Google Patents

Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、アリル基含有カーボネート樹脂、その製造方法、樹脂ワニス、および積層板の製造方法に関する。 The present invention relates to an allyl group-containing carbonate resin, a method for producing the same, a resin varnish, and a method for producing a laminated board.

従来、電子製品に用いられる部材、例えば絶縁性の積層板やその片面又は両面に銅箔が積層した積層板(銅張積層板)に、エポキシ樹脂が用いられている。積層板は、例えばエポキシ樹脂、硬化剤等が溶剤に溶解した樹脂ワニスをガラスクロス等の繊維質基材に含浸させ、乾燥してプリプレグとし、これを単独で又は複数枚を重ねて熱プレスすることで製造される。エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノールとホルムアルデヒドを用いたフェノールノボラック樹脂が広く使用されている。 Conventionally, epoxy resin has been used for members used in electronic products, for example, an insulating laminated board and a laminated board (copper-clad laminated board) in which copper foil is laminated on one side or both sides thereof. The laminated board is made by impregnating a fibrous base material such as glass cloth with a resin varnish in which an epoxy resin, a curing agent, etc. is dissolved in a solvent, drying the prepreg, and heat-pressing the prepreg alone or in layers. It is manufactured by. As a curing agent for the epoxy resin, a phenol novolac resin using phenol and formaldehyde is widely used.

近年、電子製品の高性能化が図られる中、積層板を構成する樹脂にさらなる低誘電率、低誘電正接が求められている。エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物の電気特性(低誘電率、低誘電正接)は、汎用の電子製品に要求されるレベルを満たすことはできても、高性能電子製品(スマートフォン、タブレット等)に要求されるレベルを満たすことは困難である。 In recent years, as the performance of electronic products has been improved, the resin constituting the laminated board is required to have a lower dielectric constant and a lower dielectric loss tangent. Although the electrical characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) of the cured product obtained by curing the epoxy resin with phenol novolac resin can meet the levels required for general-purpose electronic products, high-performance electronic products (smartphones, smartphones, etc.) It is difficult to meet the level required for tablets, etc.).

2官能フェニレンエーテルオリゴマーをエポキシ樹脂硬化剤として用いることが提案されている(特許文献1)。かかるエポキシ樹脂硬化剤によれば、電気特性に優れたエポキシ樹脂硬化物が得られるとされている。
しかし、特許文献1のエポキシ樹脂硬化剤を用いた硬化物の誘電正接は未だ十分に低いとはいえない。
It has been proposed to use a bifunctional phenylene ether oligomer as an epoxy resin curing agent (Patent Document 1). According to such an epoxy resin curing agent, it is said that an epoxy resin cured product having excellent electrical characteristics can be obtained.
However, it cannot be said that the dielectric loss tangent of the cured product using the epoxy resin curing agent of Patent Document 1 is still sufficiently low.

特開2004-224860号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-224860

本発明は、マレイミド硬化剤として使用でき、低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られるアリル基含有カーボネート樹脂およびその製造方法、ならびに低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られる樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板の製造方法を提供することを目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used as a maleimide curing agent, and an allyl group-containing carbonate resin and a method for producing the same, which can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and a resin varnish which can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. And an object thereof is to provide a method for manufacturing a laminated board using the same.

本発明は、以下の態様を有する。
〔1〕下記式(1)で表される化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂。

Figure 0006998739000001
[式中、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、2個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは0以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有し、Xは水素原子またはアリル基を示し、2個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
〔2〕前記式(1)中のRが、アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基である、〔1〕のアリル基含有カーボネート樹脂。
〔3〕前記式(1)中のRが、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基である、〔2〕のアリル基含有カーボネート樹脂。
Figure 0006998739000002
[式中、pは1または2を示し、qは0~2の整数を示す。]
〔4〕前記式(1)中のn個のRの少なくとも一部が、脂環式ジメタノール化合物由来の残基である、〔1〕~〔3〕のいずれかのアリル基含有カーボネート樹脂。
〔5〕炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物および脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール化合物とを反応させる工程を有し、前記ジオール化合物の少なくとも一部がアリル基を含有する、アリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔6〕前記炭酸エステルと前記ジオール化合物とを反応させる工程が、
炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、一次反応生成物を得て、前記一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程、または
炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程である、〔5〕のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔7〕前記一次反応生成物を得る際の、前記脂環式ジメタノール化合物と前記芳香族ジオール化合物との合計量に対する前記炭酸ジエステルのモル比が、1.05~3.00である、〔6〕のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔8〕前記炭酸エステルと前記ジオール化合物との反応により生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させ、前記水酸基をアリルエーテル化する工程をさらに有する、〔6〕または〔7〕のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔9〕前記〔1〕~〔4〕のいずれかのアリル基含有カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、溶剤とを含む樹脂ワニス。
〔10〕前記アリル基含有カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含み、
エポキシ樹脂をさらに含む〔9〕の樹脂ワニス。
〔11〕前記〔9〕または〔10〕の樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、前記樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る、積層板の製造方法。 The present invention has the following aspects.
[1] An allyl group-containing carbonate resin containing a compound represented by the following formula (1) as a main component.
Figure 0006998739000001
[In the formula, R 1 indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound, or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and the two R 1s are different even if they are the same. Also, n indicates an integer of 0 or more, R 2 indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and when n is 2 or more. , N R 2s may be the same or different, respectively, at least a portion of the two R 1s and n R 2s contains an allyl group, where X represents a hydrogen atom or allyl group. The two Xs may be the same or different. ]
[2] The allyl group-containing carbonate resin according to [1], wherein R1 in the formula ( 1 ) is a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound.
[3] The allyl group-containing carbonate resin of [2], wherein R1 in the formula ( 1 ) is a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula (r3).
Figure 0006998739000002
[In the formula, p indicates 1 or 2, and q indicates an integer of 0 to 2. ]
[4] The allyl group-containing carbonate resin according to any one of [1] to [3], wherein at least a part of n R 2s in the formula (1) is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound. ..
[5] The present invention comprises a step of reacting a carbonic acid diester with at least one diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound, a biphenol compound and an alicyclic dimethanol compound, and at least a part of the diol compound is an allyl group. A method for producing an allyl group-containing carbonate resin containing the above.
[6] The step of reacting the carbonic acid ester with the diol compound is
The carbonic acid diester is reacted with the alicyclic dimethanol compound, or the carbonic acid diester is associated with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of the alicyclic dimethanol compound and the bisphenol compound and the biphenol compound. The reaction is carried out to obtain a primary reaction product, and the primary reaction product is reacted with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound, or a carbonic acid diester and a bisphenol compound. The method for producing an allyl group-containing carbonate resin according to [5], which is a step of reacting with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of the biphenol compound and the biphenol compound.
[7] The molar ratio of the carbonic acid diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound in obtaining the primary reaction product is 1.05 to 3.00. 6] A method for producing an allyl group-containing carbonic acid resin.
[8] Further comprising a step of reacting an allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the end, which is produced by the reaction of the carbonic acid ester with the diol compound, with allyl halide to convert the hydroxyl group into an allyl ether. 6] or [7], a method for producing an allyl group-containing carbonate resin.
[9] A resin varnish containing the allyl group-containing carbonate resin according to any one of the above [1] to [4], a maleimide compound having two or more maleimide groups, and a solvent.
[10] The allyl group-containing carbonate resin contains a compound in which at least one of the two Xs in the formula (1) is a hydrogen atom.
The resin varnish of [9] further containing an epoxy resin.
[11] Manufacture of a laminated board in which the fibrous base material is impregnated with the resin varnish of the above [9] or [10], and the fibrous base material impregnated with the resin varnish is heated and pressed and cured to obtain a laminated board. Method.

本発明によれば、マレイミド硬化剤として使用でき、低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られるアリル基含有カーボネート樹脂およびその製造方法、ならびに低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られる樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板の製造方法を提供できる。 According to the present invention, an allyl group-containing carbonate resin which can be used as a maleimide curing agent and can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and a method for producing the same, and a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be obtained. A resin varnish and a method for manufacturing a laminated board using the resin varnish can be provided.

≪アリル基含有カーボネート樹脂≫
本発明のアリル基含有カーボネート樹脂(以下、「本カーボネート樹脂」ともいう。)は、下記式(1)で表される化合物を主成分として含む。「主成分」とは、本カーボネート樹脂を構成する成分のうち最も含有量が多い成分を示す。
本カーボネート樹脂は、nの値が異なる複数の化合物の混合物であってよい。
本カーボネート樹脂は、式(1)で表される化合物以外の成分(例えば、後述する式(2)で表される化合物、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物、またはそれらのアリルエーテル化化合物等)を含んでいてもよい。これらの成分は、本カーボネート樹脂の製造に用いられた原料や、製造時に副生した副生物であってもよい。
本カーボネート樹脂中の式(1)で表される化合物の含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。この含有量の上限は特に限定されず、100質量%であってよい。式(1)で表される化合物の含有量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される。
≪Allyl group-containing carbonate resin≫
The allyl group-containing carbonate resin of the present invention (hereinafter, also referred to as “the present carbonate resin”) contains a compound represented by the following formula (1) as a main component. The “main component” refers to the component having the highest content among the components constituting the present carbonate resin.
The carbonate resin may be a mixture of a plurality of compounds having different values of n.
This carbonate resin contains a component other than the compound represented by the formula (1) (for example, a compound represented by the formula (2) described later, a bisphenol compound, a biphenol compound, or an allyl etherified compound thereof, etc.). You may. These components may be a raw material used in the production of the present carbonate resin or a by-product produced as a by-product during the production.
The content of the compound represented by the formula (1) in the carbonate resin is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more. The upper limit of this content is not particularly limited and may be 100% by mass. The content of the compound represented by the formula (1) is measured by gel permeation chromatography (GPC).

Figure 0006998739000003
[式中、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、2個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは0以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有し、Xは水素原子またはアリル基を示し、2個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0006998739000003
[In the formula, R 1 indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound, or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and the two R 1s are different even if they are the same. Also, n indicates an integer of 0 or more, R 2 indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and when n is 2 or more. , N R 2s may be the same or different, respectively, at least a portion of the two R 1s and n R 2s contains an allyl group, where X represents a hydrogen atom or allyl group. The two Xs may be the same or different. ]

nは、0~50の整数が好ましく、0~40の整数がより好ましく、0~35の整数がさらに好ましい。
nの平均値は、本カーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)が、3000~12000の範囲内となる値が好ましい。より好ましいMwは後述のとおりである。nの平均値が大きいほど、Mwが大きくなる傾向がある。
For n, an integer of 0 to 50 is preferable, an integer of 0 to 40 is more preferable, and an integer of 0 to 35 is further preferable.
The average value of n is preferably a value in which the weight average molecular weight (Mw) of the present carbonate resin is in the range of 3000 to 12000. More preferable Mw is as described later. The larger the average value of n, the larger the Mw tends to be.

ビスフェノール化合物は、連結基を介して結合した2個のヒドロキシフェニル基を有する化合物である。ヒドロキシフェニル基は置換基を有していてもよい。
ビスフェノール化合物由来の残基とは、ビスフェノール化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた構造の基である。つまり、置換基を有していてもよい2個のフェニレン基が連結基を介して結合した構造の基である。
置換基としては、アリル基、アルキル基等が挙げられる。置換基の数は1つでもよく2つ以上でもよい。
ビスフェノール化合物の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールB、ビスフェノールAP、ビスフェノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールS、ビスフェノールZ、これらのビスフェノール化合物のヒドロキシフェニル基の少なくとも一方にアリル基が結合したアリル基含有ビスフェノール化合物等が挙げられる。
A bisphenol compound is a compound having two hydroxyphenyl groups bonded via a linking group. The hydroxyphenyl group may have a substituent.
The residue derived from the bisphenol compound is a group having a structure in which two phenolic hydroxyl groups are removed from the bisphenol compound. That is, it is a group having a structure in which two phenylene groups which may have a substituent are bonded via a linking group.
Examples of the substituent include an allyl group and an alkyl group. The number of substituents may be one or two or more.
Specific examples of the bisphenol compound include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol B, bisphenol AP, bisphenol C, bisphenol E, bisphenol S, bisphenol Z, and allele in which an allyl group is bonded to at least one of the hydroxyphenyl groups of these bisphenol compounds. Group-containing bisphenol compounds and the like can be mentioned.

ビフェノール化合物は、直接結合した2個のヒドロキシフェニル基を有する化合物である。ヒドロキシフェニル基は置換基を有していてもよい。
ビフェノール化合物由来の残基とは、ビフェノール化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた構造の基である。つまり、置換基を有していてもよいビフェニレン基である。
置換基としては、アリル基、ハロゲン原子、アルキル基等が挙げられる。置換基の数は1つでもよく2つ以上でもよい。
ビフェノール化合物の具体例としては、ビフェノール、ハロゲン化ビフェノール、アルキルビフェノール、これらのビフェノール化合物のヒドロキシフェニル基の少なくとも一方にアリル基が結合したアリル基含有ビフェノール化合物等が挙げられる。
A biphenol compound is a compound having two directly bonded hydroxyphenyl groups. The hydroxyphenyl group may have a substituent.
The residue derived from the biphenol compound is a group having a structure obtained by removing two phenolic hydroxyl groups from the biphenol compound. That is, it is a biphenylene group which may have a substituent.
Examples of the substituent include an allyl group, a halogen atom, an alkyl group and the like. The number of substituents may be one or two or more.
Specific examples of the biphenol compound include biphenol, halogenated biphenol, alkyl biphenol, and an allyl group-containing biphenol compound in which an allyl group is bonded to at least one of the hydroxyphenyl groups of these biphenol compounds.

脂環式ジメタノール化合物は、脂環式基と、脂環式基に結合した2つのメタノール基(-CHOH)とを有する化合物である。
脂環式ジメタノール化合物由来の残基とは、脂環式ジメタノール化合物から2個の水酸基を除いた構造の基である。具体的には、下記式(r4)で表される基が挙げられる。
The alicyclic dimethanol compound is a compound having an alicyclic group and two methanol groups (-CH 2 OH) bonded to the alicyclic group.
The residue derived from the alicyclic dimethanol compound is a group having a structure in which two hydroxyl groups are removed from the alicyclic dimethanol compound. Specifically, a group represented by the following formula (r4) can be mentioned.

Figure 0006998739000004
[式中、Rは、脂環式基を示す。]
Figure 0006998739000004
[In the formula, R 3 represents an alicyclic group. ]

脂環式基は、単環構造でもよく多環構造でもよい。脂環式基は、不飽和結合を有しないことが好ましい。脂環式基の炭素数は、6~20が好ましく、8~15がより好ましい。脂環式基の具体例としては、シクロヘキシレン基、トリシクロデカンジイル基、ペルヒドロ-1,4;5,8-ナフチレン-2,3-ジイル基、ビシクロ [2.2.1] ヘプタン-2,3-ジイル基等が挙げられる。
脂環式基は、アリル基、アルキル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
脂環式ジメタノール化合物の具体例としては、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、トランス-2,3-ジ(ヒドロキシメチル)-ペルヒドロ-1,4;5,8-ジメタノナフタレン、トランス-2,3-ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ [2.2.1] ヘプタン等が挙げられる。それぞれ異性体を混合していてもよい。
The alicyclic group may have a monocyclic structure or a polycyclic structure. The alicyclic group preferably does not have an unsaturated bond. The alicyclic group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 8 to 15 carbon atoms. Specific examples of the alicyclic group include cyclohexylene group, tricyclodecandyl group, perhydro-1,4; 5,8-naphthylene-2,3-diyl group, bicyclo [2.2.1] heptane-2. , 3-Diyl group and the like.
The alicyclic group may have a substituent such as an allyl group, an alkyl group or a halogen atom.
Specific examples of the alicyclic dimethanol compound include cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, trans-2,3-di (hydroxymethyl) -perhydro-1,4; 5,8-dimethanonaphthalene, and trans-. Examples thereof include 2,3-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] heptane. The isomers may be mixed with each other.

式(1)中、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有する。つまり、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部は、アリル基含有ビスフェノール化合物(例えば前述のアリルビスフェノール)由来の残基、アリル基含有ビフェノール化合物(例えば前述のアリルビフェノール)由来の残基またはアリル基含有脂環式ジメタノール化合物由来の残基である。これにより、本カーボネート樹脂をマレイミド硬化剤として使用できる。
2個のRおよびn個のRの一部は、アリル基を含有していなくてもよい。
本カーボネート樹脂中の全てのRおよびRのうち、アリル基を含有するRおよびアリル基を含有するRの合計の割合は、2~80モル%が好ましく、5~50モル%がより好ましい。
In formula (1), at least a part of two R 1s and n R 2s contains an allyl group. That is, at least a part of the two R 1s and n R 2s is derived from a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound (for example, the above-mentioned allyl bisphenol) and an allyl group-containing biphenol compound (for example, the above-mentioned allyl biphenol). Residues or residues derived from allyl group-containing alicyclic dimethanol compounds. As a result, the carbonate resin can be used as a maleimide curing agent.
Some of the two R1s and n R2s may not contain an allyl group.
Of all R 1 and R 2 in the carbonate resin, the total ratio of R 1 containing an allyl group and R 2 containing an allyl group is preferably 2 to 80 mol%, preferably 5 to 50 mol%. More preferred.

式(1)中の2つのRは同一であってもよく異なっていてもよい。
としては、アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基が好ましい。この場合、式(1)中のXが水素原子であるときに、OXがフェノール性水酸基となる。フェノール性水酸基は、エポキシ樹脂との反応性に優れる。また、フェノール性水酸基は、アリルエーテル化する場合の反応性(ハロゲン化アリルとの反応性)にも優れる。
アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基としては、原料が安価であり容易に入手可能な点から、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基が好ましい。これらの基は、アリル基含有ビスフェノールA、アリル基含有ビスフェノールFまたはアリル基含有ビフェノールに由来する残基である。
The two R1s in the equation ( 1 ) may be the same or different.
As R 1 , a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound is preferable. In this case, when X in the formula (1) is a hydrogen atom, OX becomes a phenolic hydroxyl group. The phenolic hydroxyl group has excellent reactivity with the epoxy resin. Further, the phenolic hydroxyl group is also excellent in reactivity (reactivity with allyl halide) in the case of allyl etherification.
As the residue derived from the allyl group-containing bisphenol compound or the residue derived from the allyl group-containing biphenol compound, the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula ( The group represented by r3) is preferable. These groups are residues derived from allyl group-containing bisphenol A, allyl group-containing bisphenol F or allyl group-containing biphenol.

Figure 0006998739000005
Figure 0006998739000005

式中、pは1または2を示し、qは0~2の整数を示す。
pとしては1が好ましい。qとしては1が好ましい。
In the formula, p indicates 1 or 2, and q indicates an integer of 0 to 2.
1 is preferable as p. 1 is preferable as q.

式(1)中のnが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。
硬化物がより低誘電正接になる点では、式(1)中のn個のRの少なくとも一部は、脂環式ジメタノール化合物由来の残基、すなわち式(r4)で表される基であることが好ましい。nが1である場合は、Rが脂環式ジメタノール化合物由来の残基であることが好ましく、nが2以上である場合は、n個のRの少なくとも1個が脂環式ジメタノール化合物由来の残基であることが好ましい。
n個のRの一部はビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基であってもよい。ビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基は、アリル基を有していても有さなくてもよい。
When n in the formula (1) is 2 or more, the n R2s may be the same or different.
At least a part of the n R2s in the formula (1) is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound, that is, a group represented by the formula (r4), in that the cured product has a lower dielectric loss tangent. Is preferable. When n is 1, it is preferable that R 2 is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and when n is 2 or more, at least one of n R 2 is an alicyclic diethanol. It is preferably a residue derived from a methanol compound.
A part of n R 2s may be a residue derived from a bisphenol compound or a residue derived from a biphenol compound. Residues derived from bisphenol compounds or residues derived from biphenol compounds may or may not have an allyl group.

本カーボネート樹脂中の全てのRのうち、脂環式ジメタノール化合物由来の残基であるRの割合は、20~100モル%が好ましく、50~90モル%がより好ましい。脂環式ジメタノール化合物由来の残基であるRの割合が前記下限値以上であると、より低誘電正接の硬化物が得られる。 The proportion of R 2 which is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound in all R 2 in the present carbonate resin is preferably 20 to 100 mol%, more preferably 50 to 90 mol%. When the ratio of R 2 which is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound is at least the above lower limit value, a cured product having a lower dielectric loss tangent can be obtained.

式(1)中、2個のXはそれぞれ水素原子であってもよくアリル基であってもよい。
本カーボネート樹脂は、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含んでもよい。この場合、本カーボネート樹脂をエポキシ樹脂硬化剤としても使用できる。
本カーボネート樹脂をエポキシ樹脂硬化剤として使用する場合、本カーボネート樹脂中の全てのXのうち、水素原子であるXの割合は、50~100モル%が好ましく、80~100モル%がより好ましい。水素原子であるXの割合が前記下限値以上であると、エポキシ樹脂との反応性、硬化物の耐熱性がより優れる。
In the formula (1), the two Xs may be hydrogen atoms or allyl groups, respectively.
The carbonate resin may contain a compound in which at least one of the two Xs in the formula (1) is a hydrogen atom. In this case, the carbonate resin can also be used as an epoxy resin curing agent.
When the present carbonate resin is used as an epoxy resin curing agent, the ratio of X, which is a hydrogen atom, to all X in the present carbonate resin is preferably 50 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%. When the ratio of X, which is a hydrogen atom, is at least the above lower limit value, the reactivity with the epoxy resin and the heat resistance of the cured product are more excellent.

本カーボネート樹脂の軟化点は、70~130℃が好ましく、90~120℃がより好ましい。軟化点が前記下限値以上であれば、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。軟化点が前記上限値以下であれば、流動性がより優れる。
軟化点は、JIS K 6910に従って測定される。
The softening point of the carbonate resin is preferably 70 to 130 ° C, more preferably 90 to 120 ° C. When the softening point is at least the above lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. When the softening point is not more than the upper limit value, the fluidity is more excellent.
The softening point is measured according to JIS K 6910.

本カーボネート樹脂の150℃における溶融粘度は、10P~100Pが好ましく、30P~80Pがより好ましい。溶融粘度が前記下限値以上であると、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。溶融粘度が前記上限値以下であると、流動性に優れる。
溶融粘度は、後述する実施例に記載の測定方法により測定される。
The melt viscosity of the carbonate resin at 150 ° C. is preferably 10P to 100P, more preferably 30P to 80P. When the melt viscosity is at least the above lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. When the melt viscosity is not more than the upper limit value, the fluidity is excellent.
The melt viscosity is measured by the measuring method described in Examples described later.

本カーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、3000~12000が好ましく、5000~10000がより好ましい。Mwが前記下限値以上であると、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。Mwが前記上限値以下であると、流動性がより優れる。
カーボネート樹脂のMwおよびMnは、標準物質をポリスチレンとしたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the carbonate resin is preferably 3000 to 12000, more preferably 5000 to 10000. When Mw is at least the above lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. When Mw is not more than the upper limit value, the fluidity is more excellent.
Mw and Mn of the carbonate resin are values measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.

本カーボネート樹脂のアリル基当量は、500~3000g/eqが好ましく、800~2000g/eqがより好ましい。アリル基当量が前記下限値以上であると、誘電特性がより優れる。アリル基当量が前記上限値以下であると、マレイミド化合物との反応性がより優れる。
本カーボネート樹脂のアリル基当量は、本カーボネート樹脂の数平均分子量(Mn)をアリル基の数で割った値である。
The allyl group equivalent of this carbonate resin is preferably 500 to 3000 g / eq, more preferably 800 to 2000 g / eq. When the allyl group equivalent is at least the above lower limit value, the dielectric property is more excellent. When the allyl group equivalent is not more than the above upper limit value, the reactivity with the maleimide compound is more excellent.
The allyl group equivalent of the present carbonate resin is a value obtained by dividing the number average molecular weight (Mn) of the present carbonate resin by the number of allyl groups.

<本カーボネート樹脂の製造方法>
本カーボネート樹脂は、例えば、以下の工程1を有する製造方法により製造できる。工程1の後、必要に応じて、工程2を行ってもよい。
工程1:炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物および脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール化合物とを反応させる工程。
工程2:工程1で生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させ、前記水酸基をアリルエーテル化する工程。
<Manufacturing method of this carbonate resin>
The carbonate resin can be produced, for example, by a production method having the following step 1. After step 1, step 2 may be performed if necessary.
Step 1: A step of reacting a carbonic acid diester with at least one diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound, a biphenol compound and an alicyclic dimethanol compound.
Step 2: A step of reacting the allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the end, which was produced in step 1, with allyl halide to convert the hydroxyl group into an allyl ether.

(ジオール化合物)
ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物、脂環式ジメタノール化合物はそれぞれ前記と同様である。
工程1において用いるジオール化合物の少なくとも一部はアリル基を含有する。つまり、ジオール化合物の少なくとも一部は、アリル基含有ビスフェノール化合物、アリル基含有ビフェノール化合物およびアリル基含有脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む。
(Glycol compound)
The bisphenol compound, the biphenol compound, and the alicyclic dimethanol compound are the same as described above.
At least a part of the diol compound used in step 1 contains an allyl group. That is, at least a part of the diol compound contains at least one selected from the group consisting of an allyl group-containing bisphenol compound, an allyl group-containing biphenol compound and an allyl group-containing alicyclic dimethanol compound.

アリル基含有ビスフェノール化合物は、例えば、ビスフェノール化合物のフェノール性水酸基をアリルエーテル化した後、アリル基を転位させることにより製造できる。
アリルエーテル化は、ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとを反応させることにより実施できる。この反応では、ビスフェノール化合物のフェノール性水酸基(-OH)がアリルエーテル基(-O-CH-CH=CH)に変換される。
The allyl group-containing bisphenol compound can be produced, for example, by converting the phenolic hydroxyl group of the bisphenol compound into an allyl ether and then rearranging the allyl group.
Allyl etherification can be carried out by reacting a bisphenol compound with an allyl halide. In this reaction, the phenolic hydroxyl group (-OH) of the bisphenol compound is converted to an allyl ether group (-O-CH 2 -CH = CH 2 ).

ハロゲン化アリルとしては、例えば塩化アリル、臭化アリル、フッ化アリル、ヨウ化アリル等が挙げられる。安価な点から、塩化アリルが好ましい。
ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとの反応(アリルエーテル化)は、触媒の存在下で行うことが好ましい。触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン、トリエチルアミン等のアミン化合物、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、ケイ素-塩基性アミン、リチウムテトラメチルピペリジン等が挙げられる。
Examples of the allyl halide include allyl chloride, allyl bromide, allyl fluoride, allyl iodide and the like. Allyl chloride is preferable because of its low cost.
The reaction between the bisphenol compound and the allyl halide (allyl etherification) is preferably carried out in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, amine compounds such as diazabicyclononen, diazabicycloundecene and triethylamine, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide and lithium diisopropyl. Examples thereof include amide, silicon-basic amine, lithium tetramethylpiperidin and the like.

ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとの反応は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、ビスフェノール化合物およびハロゲン化アリルを溶解可能であればよく、例えば後述する樹脂ワニスにおける溶剤が挙げられる。 The reaction between the bisphenol compound and the allyl halide may be carried out in the presence of a solvent. The solvent may be any solvent as long as it can dissolve the bisphenol compound and the allyl halide, and examples thereof include a solvent in a resin varnish described later.

ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとの反応において、ビスフェノール化合物と反応させるハロゲン化アリルの量は、ビスフェノール化合物のフェノール性水酸基に対するハロゲン化アリルのモル比(ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基)が、0.3~2.0となる量が好ましい。ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基のモル比は、1.0~1.5がより好ましい。
触媒の使用量は、ハロゲン化アリルの使用モル量に対し、0.7~1.3倍モルが好ましい。
反応温度は、例えば10~150℃であってよい。反応時間は、例えば1~30時間であってよい。
反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
In the reaction between the bisphenol compound and the allyl halide, the amount of the allyl halide to react with the bisphenol compound is such that the molar ratio of the allyl halide to the phenolic hydroxyl group of the bisphenol compound (allyl halide / phenolic hydroxyl group) is 0.3. An amount of up to 2.0 is preferable. The molar ratio of allyl halide / phenolic hydroxyl groups is more preferably 1.0 to 1.5.
The amount of the catalyst used is preferably 0.7 to 1.3 times the molar amount of the allyl halide used.
The reaction temperature may be, for example, 10 to 150 ° C. The reaction time may be, for example, 1 to 30 hours.
After the reaction is completed, the reaction product may be washed with water, concentrated, or the like, if necessary.

アリルエーテル化されたビスフェノール化合物のアリル基が転位すると、ビスフェノール化合物のヒドロキシフェニル基のベンゼン環にアリル基が結合したアリル基含有ビスフェノール化合物が生成する。
アリル基の転位反応は、例えば、アリルエーテル化されたビスフェノール化合物を加熱することにより実施できる。アリルエーテル化されたビスフェノール化合物を加熱すると、ベンゼン環に結合したアリルエーテル基(-O-CH-CH=CH)のアリル基がこのベンゼン環のオルソまたはパラ位に転位する、いわゆるクライゼン転位反応が生じる。加熱条件は、例えば160~200℃で1~24時間とすることができる。
加熱は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、アリルエーテル化されたビスフェノール化合物を溶解可能であればよく、例えばメタノールが挙げられる。
反応後、必要に応じて、反応生成物に対し溶媒の除去、水洗等の処理を行ってもよい。
アリル基含有ビフェノール化合物も上記と同様にして製造できる。
When the allyl group of the allyl etherified bisphenol compound is rearranged, an allyl group-containing bisphenol compound in which the allyl group is bonded to the benzene ring of the hydroxyphenyl group of the bisphenol compound is produced.
The rearrangement reaction of the allyl group can be carried out, for example, by heating the allyl etherified bisphenol compound. When the allyl etherified bisphenol compound is heated, the allyl group of the allyl ether group (-O-CH 2 -CH = CH 2 ) bonded to the benzene ring is rearranged to the ortho or para position of this benzene ring, the so-called Claisen rearrangement. A reaction occurs. The heating conditions can be, for example, 160 to 200 ° C. for 1 to 24 hours.
The heating may be carried out in the presence of a solvent. The solvent may be any solvent as long as it can dissolve the allyl etherified bisphenol compound, and examples thereof include methanol.
After the reaction, if necessary, the reaction product may be treated with a solvent, washed with water, or the like.
The allyl group-containing biphenol compound can also be produced in the same manner as described above.

(炭酸ジエステル)
炭酸ジエステルとしては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等のジアルキルカーボネート(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基を有するもの)、炭素数1~4のアルキレンカーボネート(例えばエチレンカーボネート)、炭酸ジフェニル等が挙げられる。これらの炭酸ジエステルはいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。ジオール類(脂環式ジメタノール化合物、芳香族ジオール化合物)との反応性が良いこと、比較的安価で、取り扱いが容易であることから、炭酸ジフェニルが好ましい。
(Carbonate diester)
Examples of the carbonic acid diester include dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate (preferably those having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), alkylene carbonates having 1 to 4 carbon atoms (for example, ethylene carbonate), diphenyl carbonate and the like. Be done. Any one of these carbonic acid diesters may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Diphenyl carbonate is preferable because it has good reactivity with diols (alicyclic dimethanol compound, aromatic diol compound), is relatively inexpensive, and is easy to handle.

(工程1)
工程1の好ましい一態様は、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、必要に応じてビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応(一次反応)させて一次反応生成物を得て、得られた一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応(二次反応)させる工程(以下、「工程1A」ともいう。)である。
一次反応および二次反応はそれぞれエステル交換反応である。二次反応で芳香族ジオール化合物を反応させることにより、末端水酸基がフェノール性水酸基であるカーボネート樹脂が得られる。
(Step 1)
A preferred embodiment of step 1 is a reaction of a carbon dioxide diester, an alicyclic dimethanol compound, and, if necessary, at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound (primary reaction). A step of reacting (secondary reaction) the obtained primary reaction product with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound (hereinafter referred to as a secondary reaction). , Also referred to as "step 1A").
The primary reaction and the secondary reaction are transesterification reactions, respectively. By reacting the aromatic diol compound in the secondary reaction, a carbonate resin having a phenolic hydroxyl group at the terminal hydroxyl group can be obtained.

一次反応は、例えば、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、必要に応じて芳香族ジオール化合物とを溶融混合し、触媒を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
炭酸ジエステル、脂環式ジメタノール化合物、芳香族ジオール化合物はそれぞれ、1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
The primary reaction is carried out, for example, by melting and mixing a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, and an aromatic diol compound, if necessary, adding a catalyst, and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time. can.
The carbonic acid diester, the alicyclic dimethanol compound, and the aromatic diol compound may be used alone or in combination of two or more.

一次反応において、脂環式ジメタノール化合物と芳香族ジオール化合物との合計量(芳香族ジオール化合物を反応させない場合は脂環式ジメタノール化合物のみの量)に対する炭酸ジエステルのモル比(炭酸ジエステル/(脂環式ジメタノール化合物+芳香族ジオール化合物))は、1.05~3.00が好ましく、1.20~2.50がより好ましい。炭酸ジエステルの比率が低すぎると、一次反応生成物中に、脂環式ジメタノール化合物の水酸基が多く残留してしまい、二次反応の際に、末端水酸基がフェノール性水酸基ではない化合物が副生するおそれがある。炭酸ジエステルの比率が高すぎると、二次反応に使用する芳香族ジオール化合物の使用量が多くなり、脂環式ジメタノール化合物由来の構造による誘電正接の低減効果が不十分になるおそれがある。 In the primary reaction, the molar ratio of the carbonic acid diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound (the amount of the alicyclic dimethanol compound only when the aromatic diol compound is not reacted) (carbonic acid diester / (carbonic acid diester / (). The alicyclic dimethanol compound + aromatic diol compound)) is preferably 1.05 to 3.00, more preferably 1.20 to 2.50. If the ratio of the carbonic acid diester is too low, a large amount of hydroxyl groups of the alicyclic dimethanol compound will remain in the primary reaction product, and during the secondary reaction, compounds whose terminal hydroxyl groups are not phenolic hydroxyl groups will be produced as by-products. There is a risk of If the ratio of the carbonic acid diester is too high, the amount of the aromatic diol compound used in the secondary reaction increases, and the effect of reducing the dielectric loss tangent due to the structure derived from the alicyclic dimethanol compound may be insufficient.

一次反応において、脂環式ジメタノール化合物と芳香族ジオール化合物との合計量(100モル%)のうち、脂環式ジメタノール化合物の割合は、20~100モル%が好ましく、50~90モル%がより好ましい。 In the primary reaction, the ratio of the alicyclic dimethanol compound to the total amount (100 mol%) of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound is preferably 20 to 100 mol%, preferably 50 to 90 mol%. Is more preferable.

触媒としては、反応(エステル交換反応)が進行すれば特に制限はない。具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、マグネシウム金属、アルキル亜鉛化合物(例えばジ-n-ブチル亜鉛)、水酸化リチウム、酢酸リチウム、チタンエステル(例えばテトラ-n-ブチルチタネート)、酸化亜鉛、酸化鉛、二酸化マンガン、テトラアルキルオルソチタネート、酢酸亜鉛、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウム、種々のアルコキシド(例えばカリウム-t-ブトキシド、ナトリウムメトキシド)、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウム)、アルカリ金属の水素化物(例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム)、アルカリ金属水酸化物(例えば水酸化リチウムや水酸化ナトリウム)、金属ハロゲン化物等が挙げられる。 The catalyst is not particularly limited as long as the reaction (transesterification reaction) proceeds. Specific examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium metal, alkyl zinc compounds (eg di-n-butyl zinc), lithium hydroxide, lithium acetate, titanium esters (eg tetra-n-butyl titanate), zinc oxide. , Lead oxide, manganese dioxide, tetraalkyl orthotitanate, zinc acetate, antimony oxide, germanium oxide, various alkoxides (eg potassium-t-butoxide, sodium methoxydo), alkali metals (eg lithium, sodium), alkali metal hydrogen Examples thereof include compounds (eg, lithium hydride, sodium hydride), alkali metal hydroxides (eg, lithium hydroxide and sodium hydroxide), metal halides and the like.

触媒の使用量は、炭酸ジエステル類に対して、1.0~0.00001質量%が好ましく、0.1~0.0001質量%がより好ましい。触媒の使用量がこの範囲よりも多い場合には、生成した樹脂に濁りが生ずることがあり、この範囲内よりも少ない場合には、重合速度が遅くなり、高重合度の樹脂が得られないことがある。 The amount of the catalyst used is preferably 1.0 to 0.00001% by mass, more preferably 0.1 to 0.0001% by mass, based on the carbonic acid diesters. If the amount of the catalyst used is more than this range, turbidity may occur in the produced resin, and if it is less than this range, the polymerization rate becomes slow and a resin with a high degree of polymerization cannot be obtained. Sometimes.

一次反応の反応温度は、130~250℃が好ましく、150~200℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5~10時間であってよい。
一次反応は、常圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。
一次反応は、反応(エステル交換反応)で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行ってもよい。
The reaction temperature of the primary reaction is preferably 130 to 250 ° C, more preferably 150 to 200 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction will not proceed, and if it is too high, it will be difficult to control the reaction, and there is a risk that the resin cannot be obtained stably. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The primary reaction may be carried out under normal pressure or under reduced pressure.
The primary reaction may be carried out while removing alcohols and phenols by-produced in the reaction (transesterification reaction) under reduced pressure.

二次反応は、例えば、一次反応で生成した一次反応生成物に芳香族ジオール化合物を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
二次反応で用いる芳香族ジオール化合物は、一次反応で用いた芳香族ジオール化合物と同じであってもよく異なっていてもよい。芳香族ジオール化合物は、1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
二次反応において反応させる芳香族ジオール化合物の量は、一次反応で用いた炭酸ジエステル(100モル%)に対し、5~80モル%が好ましく、15~60モル%がより好ましい。
The secondary reaction can be carried out, for example, by adding an aromatic diol compound to the primary reaction product produced by the primary reaction and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time.
The aromatic diol compound used in the secondary reaction may be the same as or different from the aromatic diol compound used in the primary reaction. The aromatic diol compound may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the aromatic diol compound to be reacted in the secondary reaction is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 15 to 60 mol%, based on the carbonic acid diester (100 mol%) used in the primary reaction.

二次反応の反応温度は、130~250℃が好ましく、170~230℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5~10時間であってよい。
二次反応は、反応(エステル交換反応)で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行うことが好ましい。
二次反応における減圧度は、反応で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去できれば特に制限はない。例えば、80~5mmHgであってよく、20~5mmHgであってよい。
二次反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
The reaction temperature of the secondary reaction is preferably 130 to 250 ° C, more preferably 170 to 230 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction will not proceed, and if it is too high, it will be difficult to control the reaction, and there is a risk that the resin cannot be obtained stably. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The secondary reaction is preferably carried out while removing alcohols and phenols by-produced in the reaction (transesterification reaction) under reduced pressure.
The degree of decompression in the secondary reaction is not particularly limited as long as alcohols and phenols by-produced in the reaction can be removed under reduced pressure. For example, it may be 80 to 5 mmHg and may be 20 to 5 mmHg.
After the completion of the secondary reaction, the reaction product may be washed with water, concentrated, or the like, if necessary.

工程1の他の好ましい一態様は、炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程(以下、「工程1B」ともいう。)である。この反応はエステル交換反応である。 Another preferred embodiment of step 1 is a step of reacting a carbonic acid diester with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound (hereinafter, also referred to as "step 1B"). be. This reaction is a transesterification reaction.

芳香族ジオール化合物に対する炭酸ジエステルのモル比(炭酸ジエステル/芳香族ジオール化合物)は、0.40~0.99が好ましく、0.50~0.95がより好ましい。
炭酸ジエステルと芳香族ジオール化合物との反応は、触媒の存在下で行うことが好ましい。触媒としては、前記と同様のものが挙げられる。触媒の使用量の好ましい範囲も前記と同様である。
The molar ratio of the carbonic acid diester to the aromatic diol compound (carbonic acid diester / aromatic diol compound) is preferably 0.40 to 0.99, more preferably 0.50 to 0.95.
The reaction between the carbonic acid diester and the aromatic diol compound is preferably carried out in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include the same catalysts as described above. The preferable range of the amount of the catalyst used is the same as described above.

炭酸ジエステルと芳香族ジオール化合物との反応は、例えば、炭酸ジエステルと、芳香族ジオール化合物とを溶融混合し、触媒を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
反応温度は、130~250℃が好ましく、170~230℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5~10時間であってよい。
反応は、副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行うことが好ましい。反応開始時においては常圧下で反応を行い、一定時間経過後に減圧してもよい。
反応における減圧度は、反応で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去できれば特に制限はない。例えば、80~5mmHgであってよく、20~5mmHgであってよい。
反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
The reaction between the carbonic acid diester and the aromatic diol compound can be carried out, for example, by melt-mixing the carbonic acid diester and the aromatic diol compound, adding a catalyst, and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time.
The reaction temperature is preferably 130 to 250 ° C, more preferably 170 to 230 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction will not proceed, and if it is too high, it will be difficult to control the reaction, and there is a risk that the resin cannot be obtained stably. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The reaction is preferably carried out while removing by-produced alcohols and phenols under reduced pressure. At the start of the reaction, the reaction may be carried out under normal pressure, and the pressure may be reduced after a lapse of a certain period of time.
The degree of decompression in the reaction is not particularly limited as long as alcohols and phenols by-produced in the reaction can be removed under reduced pressure. For example, it may be 80 to 5 mmHg and may be 20 to 5 mmHg.
After the reaction is completed, the reaction product may be washed with water, concentrated, or the like, if necessary.

工程1では、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。このアリル基含有カーボネート樹脂は、前記式(1)中のXが水素原子である化合物、すなわち下記式(2)で表される化合物を主成分として含む。 In step 1, an allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the end is obtained. The allyl group-containing carbonate resin contains a compound in which X in the formula (1) is a hydrogen atom, that is, a compound represented by the following formula (2) as a main component.

Figure 0006998739000006
[式中、R、n、Rはそれぞれ前記と同義であり、好ましい態様も同様である。]
Figure 0006998739000006
[In the formula, R 1 , n, and R 2 have the same meanings as described above, and the preferred embodiments are also the same. ]

工程1が工程1Aである場合、式(2)中のRがアリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基であり、Rの少なくとも一部が脂環式ジメタノール化合物由来の残基である化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。
工程1が工程1Bである場合、式(2)中のRおよびRがそれぞれアリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基である化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。
これらのアリル基含有カーボネート樹脂を併用してもよい。
硬化物がより低誘電正接になる点では、工程1Aで得られたアリル基含有カーボネート樹脂を含むことが好ましい。
When step 1 is step 1A, R 1 in the formula (2) is a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound, and at least a part of R 2 is an alicyclic type. An allyl group-containing carbonate resin containing a compound which is a residue derived from a dimethanol compound as a main component can be obtained.
When step 1 is step 1B, allyl containing a compound in which R 1 and R 2 in the formula (2) are residues derived from an allyl group-containing bisphenol compound or residues derived from an allyl group-containing biphenol compound as a main component, respectively. A group-containing carbonate resin is obtained.
These allyl group-containing carbonate resins may be used in combination.
It is preferable to contain the allyl group-containing carbonate resin obtained in step 1A from the viewpoint that the cured product has a lower dielectric loss tangent.

(工程2)
工程2では、工程1で生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させる。これにより、末端の水酸基(-OH)がアリルエーテル基(-O-CH-CH=CH)に変換され、前記式(1)中のXがアリル基である化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。
ハロゲン化アリルとしては、前記と同様のものが挙げられる。
アリルエーテル化は、前記と同様にして実施できる。
(Step 2)
In step 2, the allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the end, which was produced in step 1, is reacted with the allyl halide. As a result, the terminal hydroxyl group (-OH) is converted to an allyl ether group (-O-CH 2 -CH = CH 2 ), and the allyl containing the compound in which X in the formula (1) is an allyl group as a main component. A group-containing carbonate resin is obtained.
Examples of the allyl halide include the same as described above.
Allyl etherification can be carried out in the same manner as described above.

末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂とハロゲン化アリルとの反応において、アリル基含有カーボネート樹脂と反応させるハロゲン化アリルの量は、アリル基含有カーボネート樹脂末端の水酸基に対するハロゲン化アリルのモル比(ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基)が、0.3~2.0となる量が好ましい。ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基のモル比は、1.0~1.5がより好ましい。 In the reaction between an allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the end and allyl halide, the amount of allyl halide to react with the allyl group-containing carbonate resin is the molar ratio of allyl halide to the hydroxyl group at the end of the allyl group-containing carbonate resin (the molar ratio of allyl halide to the hydroxyl group at the end of the allyl group-containing carbonate resin. The amount of allyl halide / phenolic hydroxyl group) is preferably 0.3 to 2.0. The molar ratio of allyl halide / phenolic hydroxyl groups is more preferably 1.0 to 1.5.

本カーボネート樹脂は、アリル基を有するため、マレイミド化合物を硬化させるための硬化剤(マレイミド硬化剤)として用いることができる。マレイミド化合物の硬化は、加熱により行うことができる。
また、本カーボネート樹脂を用いてマレイミド化合物を硬化させた硬化物は、マレイミド化合物を用いているために、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱線膨張率を示す。また、本カーボネート樹脂を用いているために、マレイミド化合物をアリルフェノール樹脂で硬化させた硬化物や、エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物に比べて、低誘電率、低誘電正接である。
Since this carbonate resin has an allyl group, it can be used as a curing agent (maleimide curing agent) for curing a maleimide compound. Curing of the maleimide compound can be performed by heating.
Further, the cured product obtained by curing the maleimide compound using the present carbonate resin exhibits a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low heat ray expansion rate because the maleimide compound is used. In addition, because this carbonate resin is used, it has a lower dielectric constant and lower dielectric tangent than a cured product obtained by curing a maleimide compound with an allylphenol resin or a cured product obtained by curing an epoxy resin with a phenol novolac resin. be.

本カーボネート樹脂を用いてマレイミド化合物を硬化させる際には、以下の(1)~(3)の反応が生じて硬化していると考えられる。
(1)マレイミド基とアリル基との反応。
(2)マレイミド基同士の反応。
(3)アリル基同士の反応。
When the maleimide compound is cured using this carbonate resin, it is considered that the following reactions (1) to (3) occur and the compound is cured.
(1) Reaction of maleimide group and allyl group.
(2) Reaction between maleimide groups.
(3) Reaction between allyl groups.

本カーボネート樹脂が水酸基を有する場合(Xが水素原子である場合)、本カーボネート樹脂は、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤(エポキシ樹脂硬化剤)として用いることができる。エポキシ樹脂の硬化は、加熱により行うことができる。
本カーボネート樹脂を用いてエポキシ樹脂を硬化させる際には、前述の(3)の反応および以下の(4)~(5)の反応が生じて硬化していると考えられる。
(4)エポキシ基と水酸基との反応。
(5)エポキシ基同士の反応。
When the carbonate resin has a hydroxyl group (when X is a hydrogen atom), the carbonate resin can be used as a curing agent (epoxy resin curing agent) for curing the epoxy resin. The epoxy resin can be cured by heating.
When the epoxy resin is cured using the present carbonate resin, it is considered that the above-mentioned reaction (3) and the following reactions (4) to (5) occur and the epoxy resin is cured.
(4) Reaction between epoxy group and hydroxyl group.
(5) Reaction between epoxy groups.

さらに、本カーボネート樹脂は、一般的にマレイミド化合物やエポキシ樹脂を溶解させるために用いられているような溶剤に対する溶解性に優れる。したがって、本カーボネート樹脂およびマレイミド化合物、ならびに必要に応じてエポキシ樹脂が共に溶剤に溶解した樹脂ワニスを得ることができる。
前記の溶剤としては、メチルエチルケトンのような極性のあるものが一般的である。
Further, the present carbonate resin has excellent solubility in a solvent generally used for dissolving a maleimide compound or an epoxy resin. Therefore, it is possible to obtain a resin varnish in which the present carbonate resin, the maleimide compound, and, if necessary, the epoxy resin are both dissolved in a solvent.
As the solvent, a polar solvent such as methyl ethyl ketone is generally used.

なお、本カーボネート樹脂は、マレイミド化合物やエポキシ樹脂と組み合わせなくても、前記(3)の反応により、単独で硬化させることができる。しかし、マレイミド化合物やエポキシ樹脂と組み合わせることで、単独で硬化させる場合に比べて、硬化温度を低くすることができ、ガラス転移温度等の熱的特性を高めることができる。そのため、マレイミド化合物やエポキシ樹脂と組み合わせて硬化反応に供することが好適である。 The carbonate resin can be cured independently by the reaction of (3) above without being combined with a maleimide compound or an epoxy resin. However, by combining with a maleimide compound or an epoxy resin, the curing temperature can be lowered and the thermal characteristics such as the glass transition temperature can be enhanced as compared with the case of curing by itself. Therefore, it is preferable to combine it with a maleimide compound or an epoxy resin and subject it to a curing reaction.

本カーボネート樹脂の用途としては、特に制限はない。例えば公知の熱硬化性成形材料の用途と同様であってよく、例えば封止材料、フィルム材料、積層材料等が挙げられる。より具体的な用途の例としては、半導体封止材料、電子部品の封止用樹脂材料、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂材料、ビルドアップ積層板材料、レジスト材料、液晶のカラーフィルター用樹脂材料、塗料、各種コーティング剤、接着剤、繊維強化プラスチック(FRP)材料等が挙げられる。 The use of this carbonate resin is not particularly limited. For example, it may have the same use as a known thermosetting molding material, and examples thereof include a sealing material, a film material, and a laminated material. More specific examples of applications include semiconductor encapsulation materials, resin materials for encapsulating electronic components, electrical insulation materials, resin materials for copper-clad laminates, build-up laminate materials, resist materials, and liquid crystal color filters. Examples thereof include resin materials, paints, various coating agents, adhesives, fiber reinforced plastic (FRP) materials and the like.

≪樹脂ワニス≫
本発明の樹脂ワニス(以下、「本樹脂ワニス」ともいう。)は、本カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、溶剤とを含む。
本カーボネート樹脂は、マレイミド硬化剤として機能する。「マレイミド硬化剤」とは、前記マレイミド化合物を硬化させるための硬化剤を意味する。
本樹脂ワニスにおいては、本カーボネート樹脂のアリル基の一部と、マレイミド化合物のマレイミド基の一部とが反応した状態になっていてもよい。
≪Resin varnish≫
The resin varnish of the present invention (hereinafter, also referred to as "the present resin varnish") contains the present carbonate resin, a maleimide compound having two or more maleimide groups, and a solvent.
This carbonate resin functions as a maleimide curing agent. The "maleimide curing agent" means a curing agent for curing the maleimide compound.
In the present resin varnish, a part of the allyl group of the present carbonate resin and a part of the maleimide group of the maleimide compound may be in a reacted state.

本カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含む場合、つまり本カーボネート樹脂が水酸基を含む場合、本カーボネート樹脂はエポキシ樹脂硬化剤としても機能する。「エポキシ樹脂硬化剤」とは、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤を意味する。
したがって、本樹脂ワニスの好ましい一態様は、本カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、エポキシ樹脂と、溶剤とを含み、本カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含む樹脂ワニスである。本態様の樹脂ワニスは、エポキシ樹脂を含まない場合に比べて、誘電特性がより優れる。
When the carbonate resin contains a compound in which at least one of the two Xs in the formula (1) is a hydrogen atom, that is, when the carbonate resin contains a hydroxyl group, the carbonate resin also functions as an epoxy resin curing agent. do. The "epoxy resin curing agent" means a curing agent for curing an epoxy resin.
Therefore, a preferred embodiment of the present resin varnish contains the present carbonate resin, a maleimide compound having two or more maleimide groups, an epoxy resin, and a solvent, and the present carbonate resin contains two of the above formula (1). A resin varnish containing a compound in which at least one of X is a hydrogen atom. The resin varnish of this embodiment has more excellent dielectric properties than the case where the epoxy resin is not contained.

本樹脂ワニスは、硬化反応触媒をさらに含むことができる。
本樹脂ワニスは、本カーボネート樹脂、マレイミド化合物、溶剤、エポキシ樹脂および硬化反応触媒以外の他の成分をさらに含むことができる。
The present resin varnish may further contain a curing reaction catalyst.
The resin varnish may further contain components other than the carbonate resin, maleimide compound, solvent, epoxy resin and curing reaction catalyst.

<マレイミド化合物>
マレイミド化合物としては、マレイミド基を2以上有する化合物であれば特に限定されず、例えばビスマレイミド化合物、ポリフェニルメタンマレイミド等が挙げられる。
ビスマレイミド化合物としては、例えば4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(例えば大和化成工業株式会社品のBMI-1100)、アルキルビスマレイミド、ジフェニルメタンビスマレイミド、フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド(例えば大和化成工業株式会社品のBMI-4000)、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(例えば大和化成工業株式会社品のBMI-5100)、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、1,6’-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン、4,4’-ジフェニルエーテルビスマレイミド、4,4’-ジフェニルスルフォンビスマレイミド、1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン等が挙げられる。
ポリフェニルメタンマレイミドは、マレイミド基が置換した3以上のベンゼン環がメチレン基を介して結合した重合体であり、例えば大和化成工業株式会社品のBMI-2300が挙げられる。
これらのマレイミド化合物は1種単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
<Maleimide compound>
The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having two or more maleimide groups, and examples thereof include a bismaleimide compound and polyphenylmethane maleimide.
Examples of the bismaleimide compound include 4,4'-diphenylmethane bismaleimide (for example, BMI-1100 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.), alkyl bismaleimide, diphenylmethane bismaleimide, phenylene bismaleimide, and bisphenol A diphenyl ether bismaleimide (for example, Yamato Kasei). BMI-4000) manufactured by Kogyo Co., Ltd., 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide (for example, BMI-5100 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.), 4-methyl- 1,3-Phenylene bismaleimide, 1,6'-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, 4,4'-diphenylether bismaleimide, 4,4'-diphenylsulphon bismaleimide, 1,3- Examples thereof include bis (3-maleimide phenoxy) benzene and 1,3-bis (4-maleimide phenoxy) benzene.
Polyphenylmethane maleimide is a polymer in which three or more benzene rings substituted with a maleimide group are bonded via a methylene group, and examples thereof include BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.
These maleimide compounds may be used alone or in combination of two or more.

本樹脂ワニス中のマレイミド化合物の含有量は、本カーボネート樹脂の100質量部に対し、10~300質量部が好ましく、15~200質量部がより好ましく、20~150質量部がさらに好ましい。マレイミド化合物の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、本樹脂ワニスのゲル化温度を低く、例えば200℃以下にすることができる。マレイミド化合物の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、本樹脂ワニスの硬化物が、より高ガラス転移温度、高熱分解温度、低線膨張係数、低誘電率、低誘電正接を示すものとなる。 The content of the maleimide compound in the resin varnish is preferably 10 to 300 parts by mass, more preferably 15 to 200 parts by mass, still more preferably 20 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carbonate resin. When the content of the maleimide compound is not less than the lower limit of the above range, the gelation temperature of the present resin varnish can be lowered, for example, 200 ° C. or less. When the content of the maleimide compound is equal to or higher than the lower limit of the above range, the cured product of this resin varnish exhibits a higher glass transition temperature, a higher thermal decomposition temperature, a low linear expansion coefficient, a low dielectric constant, and a low dielectric loss tangent. Become.

<溶剤>
溶剤としては、本樹脂ワニスに含まれる成分(本カーボネート樹脂、マレイミド化合物、必要に応じて硬化反応触媒等)を溶解するものであれば特に制限はない。
溶剤として典型的には、極性溶剤が用いられる。極性溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルアミルケトン、イソホロン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、メタノール、エタノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの溶剤はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。前記の中でも、ケトン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトンが特に好ましい。
<Solvent>
The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the components contained in the resin varnish (the carbonate resin, the maleimide compound, the curing reaction catalyst, etc., if necessary).
A polar solvent is typically used as the solvent. Examples of the polar solvent include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl amyl ketone, isophorone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, and cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, and N-. Examples thereof include methyl-2-pyrrolidone, methanol, ethanol, butanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and tetrahydrofuran. Any one of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among the above, a ketone solvent is preferable, and methyl ethyl ketone is particularly preferable.

本樹脂ワニス中の溶剤の含有量は本樹脂ワニスの固形分濃度に応じて適宜設定される。
本樹脂ワニスの固形分濃度は、用途によっても異なるが、20~80質量%が好ましく、50~70質量%がより好ましい。
本樹脂ワニスの固形分濃度は、本樹脂ワニスの全質量に対する、本樹脂ワニスから溶剤を除いた質量の割合である。
The content of the solvent in the resin varnish is appropriately set according to the solid content concentration of the resin varnish.
The solid content concentration of the present resin varnish varies depending on the application, but is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 50 to 70% by mass.
The solid content concentration of this resin varnish is the ratio of the mass of this resin varnish excluding the solvent to the total mass of this resin varnish.

<エポキシ樹脂>
エポキシ樹脂としては、特に限定されず、公知のエポキシ樹脂であってよく、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、リン原子含有エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
<Epoxy resin>
The epoxy resin is not particularly limited and may be a known epoxy resin, for example, a phenol novolac type epoxy resin, an orthocresol novolac type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a biphenol type epoxy resin, and the like. Naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, xylylene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, stilben type epoxy resin, sulfur atom-containing epoxy resin, Examples thereof include a phosphorus atom-containing epoxy resin. Any one of these epoxy resins may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

<硬化反応触媒>
硬化反応触媒(硬化促進剤)としては、アリル基とマレイミド基との反応を促進する作用を有する触媒(以下、「触媒(1)」ともいう。)を含むことが好ましい。触媒(1)としては、例えば、イミダゾール化合物、有機過酸化物等が挙げられる。イミダゾール化合物としては、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、1-ビニル-2-メチルイミダゾール、1-プロピル-2-メチルイミダゾール、2-イソプロピルイミダゾール、1-シアノメチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール等が挙げられる。有機過酸化物としては、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル等が挙げられる。ジアルキルパーオキサイドにおいて、アルキル基は、フェニル基等で置換されていてもよい。このようなジアルキルパーオキサイドとしては、例えばジクミルパーオキサイドが挙げられる。
<Curing reaction catalyst>
The curing reaction catalyst (curing accelerator) preferably contains a catalyst having an action of accelerating the reaction between the allyl group and the maleimide group (hereinafter, also referred to as "catalyst (1)"). Examples of the catalyst (1) include imidazole compounds and organic peroxides. Examples of the imidazole compound include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-. Phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 1-vinyl-2-methylimidazole , 1-propyl-2-methylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanomethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl -2-phenylimidazole and the like can be mentioned. Examples of the organic peroxide include ketone peroxides, peroxyketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyesters and the like. In the dialkyl peroxide, the alkyl group may be substituted with a phenyl group or the like. Examples of such dialkyl peroxide include dicumyl peroxide.

本カーボネート樹脂が水酸基を有し、本樹脂ワニスがエポキシ樹脂を含む場合、硬化反応触媒として、水酸基とエポキシ基との反応を促進する作用を有する触媒(以下、「触媒(2)」ともいう。)を含んでいてもよい。触媒(2)としては、例えば、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール化合物、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。リン系化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリス-2,6-ジメトキシフェニルホスフィン、トリ-p-トリルホスフィン、亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。第3級アミンとしては、2-ジメチルアミノメチルフェノール、ベンジルジメチルアミン、α-メチルベンジルジメチルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7等が挙げられる。イミダゾール化合物としては、前記と同様のものが挙げられる。 When the carbonate resin has a hydroxyl group and the resin varnish contains an epoxy resin, the curing reaction catalyst is also referred to as a catalyst having an action of promoting the reaction between the hydroxyl group and the epoxy group (hereinafter, also referred to as "catalyst (2)". ) May be included. Examples of the catalyst (2) include phosphorus compounds, tertiary amines, imidazole compounds, organic acid metal salts, Lewis acids, amine complex salts and the like. Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine, tris-2,6-dimethoxyphenylphosphine, tri-p-tolylphosphine, triphenyl phosphite and the like. Examples of the tertiary amine include 2-dimethylaminomethylphenol, benzyldimethylamine, α-methylbenzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and the like. Examples of the imidazole compound include the same compounds as described above.

これらの硬化反応触媒はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
本樹脂ワニス中の触媒(1)の含有量は、マレイミド化合物に対し、0.1~5.0質量%が好ましい。
本樹脂ワニス中の触媒(2)の含有量は、エポキシ樹脂に対し、0.1~5.0質量%が好ましい。
本樹脂ワニス中の触媒(1)および触媒(2)の合計の含有量は、マレイミド化合物およびエポキシ樹脂の合計量に対し、0.1~5.0質量%が好ましい。
Any one of these curing reaction catalysts may be used alone or in combination of two or more.
The content of the catalyst (1) in the resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the maleimide compound.
The content of the catalyst (2) in the resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the epoxy resin.
The total content of the catalyst (1) and the catalyst (2) in the present resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the total amount of the maleimide compound and the epoxy resin.

<他の成分>
他の成分としては、例えば、無機フィラー(例えばカーボンブラック、ガラスクロス、シリカ等)、ワックス、難燃剤、カップリング剤等、本カーボネート樹脂以外の硬化剤(以下、他の硬化剤ともいう。)、充填材(フィラー)、離型剤、表面処理剤、着色剤、可撓性付与剤等が挙げられる。他の硬化剤としては、マレイミド硬化剤、エポキシ樹脂硬化剤等が挙げられ、それぞれ従来公知のものを用いることができる。例えばマレイミド硬化剤としては、アリルノボラック型フェノール樹脂等のノボラック型樹脂等が挙げられる。
本樹脂ワニス中の他の硬化剤の含有量は、本発明の効果の点では、本樹脂ワニスの固形分(100質量%)に対し、10質量%以下が好ましく、0質量%が特に好ましい。
本樹脂ワニスの固形分は、本樹脂ワニスから溶剤を除いた部分である。
<Other ingredients>
Examples of other components include inorganic fillers (for example, carbon black, glass cloth, silica, etc.), waxes, flame retardant agents, coupling agents, and other curing agents other than this carbonate resin (hereinafter, also referred to as other curing agents). , Filler, mold release agent, surface treatment agent, colorant, flexibility-imparting agent and the like. Examples of other curing agents include maleimide curing agents, epoxy resin curing agents, and the like, and conventionally known curing agents can be used. For example, examples of the maleimide curing agent include novolak-type resins such as allyl-novolak-type phenolic resins.
The content of the other curing agent in the present resin varnish is preferably 10% by mass or less, particularly preferably 0% by mass, based on the solid content (100% by mass) of the present resin varnish in terms of the effect of the present invention.
The solid content of this resin varnish is the portion of this resin varnish from which the solvent has been removed.

充填材(フィラー)としては、カーボンブラック、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、タルク、ケイ酸カルシウム粉、ケイ酸ジルコニウム粉、アルミナ粉、炭酸カルシウム粉等が挙げられ、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉が好ましい。
離型剤としては、例えばカルナバワックス等の各種ワックス類等が挙げられる。
表面処理剤としては、公知のシランカップリング剤等が挙げられる。
着色剤としては、カーボンブラック等が挙げられる。
可撓性付与剤としては、シリコーン樹脂、ブタジエン-アクリロニトリルゴム等が挙げられる。
Examples of the filler include carbon black, crystalline silica powder, molten silica powder, quartz glass powder, talc, calcium silicate powder, zirconium silicate powder, alumina powder, calcium carbonate powder and the like, and are crystalline. Silica powder and meltable silica powder are preferable.
Examples of the mold release agent include various waxes such as carnauba wax.
Examples of the surface treatment agent include known silane coupling agents and the like.
Examples of the colorant include carbon black and the like.
Examples of the flexibility-imparting agent include silicone resin, butadiene-acrylonitrile rubber, and the like.

<樹脂ワニスの製造方法>
本樹脂ワニスは、例えば、本カーボネート樹脂とマレイミド化合物と溶剤とを混合することにより製造できる。本カーボネート樹脂とマレイミド化合物と溶剤とを混合する際に、または混合した後、必要に応じて、エポキシ樹脂や硬化反応触媒、他の成分をさらに混合してもよい。
本カーボネート樹脂は、上述の製造方法により製造できる。マレイミド化合物やエポキシ樹脂、硬化反応触媒、他の成分はそれぞれ市販品を用いることができる。各成分の混合は、常法により行うことができる。
<Manufacturing method of resin varnish>
The present resin varnish can be produced, for example, by mixing the present carbonate resin, a maleimide compound, and a solvent. When or after mixing the carbonate resin, the maleimide compound, and the solvent, an epoxy resin, a curing reaction catalyst, and other components may be further mixed, if necessary.
The carbonate resin can be produced by the above-mentioned production method. Commercially available products can be used for the maleimide compound, the epoxy resin, the curing reaction catalyst, and other components. Mixing of each component can be carried out by a conventional method.

本カーボネート樹脂とマレイミド化合物と溶剤との混合の後、本カーボネート樹脂とマレイミド化合物とを前反応させてもよい。前記の混合によって得られたワニス状態の混合物について前反応を行うことで、結晶性が高いマレイミド化合物が樹脂ワニスから析出するのを抑制することができる。
前反応を行う際の反応温度は50~150℃が好ましく、70~130℃がより好ましく、80~120℃がさらに好ましい。反応温度があまりに低いと反応は進まず、あまりに高すぎると反応をコントロールすることが難しくなり、目的の本樹脂ワニスを安定的に得ることが難しくなる。
After mixing the present carbonate resin, the maleimide compound and the solvent, the present carbonate resin and the maleimide compound may be pre-reacted. By performing a prereaction on the varnished mixture obtained by the above mixing, it is possible to suppress the precipitation of the highly crystalline maleimide compound from the resin varnish.
The reaction temperature at the time of carrying out the pre-reaction is preferably 50 to 150 ° C, more preferably 70 to 130 ° C, still more preferably 80 to 120 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction will not proceed, and if it is too high, it will be difficult to control the reaction, and it will be difficult to stably obtain the desired resin varnish.

本樹脂ワニスは、本カーボネート樹脂とマレイミド化合物とを含むため、加熱することによって硬化させ、硬化物とすることができる。
本樹脂ワニスを硬化させる際の加熱温度(硬化温度)は60~250℃が好ましい。
硬化操作の一例としては、前記の好適な温度で30秒間以上1時間以下の前硬化を行い、溶剤を除去し、その後さらに、前記の好適な温度で1~20時間の後硬化を行う方法が挙げられる。
Since the present resin varnish contains the present carbonate resin and the maleimide compound, it can be cured by heating to obtain a cured product.
The heating temperature (curing temperature) for curing the resin varnish is preferably 60 to 250 ° C.
As an example of the curing operation, a method of performing pre-curing at the above-mentioned suitable temperature for 30 seconds or more and 1 hour or less, removing the solvent, and then further performing post-curing at the above-mentioned suitable temperature for 1 to 20 hours is used. Can be mentioned.

本樹脂ワニスにあっては、マレイミド化合物を用いているために、本樹脂ワニスの硬化物が高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱線膨張率を示す。また、この硬化物は、マレイミド化合物の硬化剤として本カーボネート樹脂を用いているため、マレイミド化合物をアリルフェノール樹脂で硬化させた硬化物や、エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物に比べて、低誘電率、低誘電正接である。 Since the maleimide compound is used in this resin varnish, the cured product of this resin varnish exhibits a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low heat ray expansion rate. In addition, since this carbonate resin is used as a curing agent for the maleimide compound, this cured product is compared with a cured product obtained by curing a maleimide compound with an allylphenol resin or a cured product obtained by curing an epoxy resin with a phenol novolac resin. It has a low dielectric constant and a low dielectric tangent.

本樹脂ワニスの用途としては、特に制限はない。例えば公知の熱硬化性成形材料の用途と同様であってよく、例えば封止材料、フィルム材料、積層材料等が挙げられる。より具体的な用途の例としては、半導体封止材料、電子部品の封止用樹脂材料、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂材料、ビルドアップ積層板材料、レジスト材料、液晶のカラーフィルター用樹脂材料、塗料、各種コーティング剤、接着剤、繊維強化プラスチック(FRP)材料等が挙げられる。
本樹脂ワニスの硬化物は、低誘電率、低誘電正接であり、絶縁性に優れる。また、この硬化物は、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率あり、耐熱性にも優れる。そのため、本樹脂ワニスは、電子部品に用いられる積層板の製造用の材料として有用である。
The use of this resin varnish is not particularly limited. For example, it may have the same use as a known thermosetting molding material, and examples thereof include a sealing material, a film material, and a laminated material. More specific examples of applications include semiconductor encapsulation materials, resin materials for encapsulating electronic components, electrical insulation materials, resin materials for copper-clad laminates, build-up laminate materials, resist materials, and liquid crystal color filters. Examples thereof include resin materials, paints, various coating agents, adhesives, fiber reinforced plastic (FRP) materials and the like.
The cured product of this resin varnish has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and has excellent insulating properties. In addition, this cured product has a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, a low thermal expansion rate, and is excellent in heat resistance. Therefore, this resin varnish is useful as a material for manufacturing laminated boards used for electronic parts.

本樹脂ワニスの硬化物の比誘電率は、3.50以下が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の誘電正接は、0.008以下が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物のガラス転移温度は、150℃以上が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の5%熱分解温度は、300℃以上が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の常温線膨張係数は、100ppm以下が好ましい。
比誘電率、誘電正接、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数はそれぞれ、後述する実施例に記載の方法により測定される。
The relative permittivity of the cured product of this resin varnish is preferably 3.50 or less.
The dielectric loss tangent of the cured product of this resin varnish is preferably 0.008 or less.
The glass transition temperature of the cured product of this resin varnish is preferably 150 ° C. or higher.
The 5% thermal decomposition temperature of the cured product of the present resin varnish is preferably 300 ° C. or higher.
The room temperature linear expansion coefficient of the cured product of this resin varnish is preferably 100 ppm or less.
The relative permittivity, the dielectric loss tangent, the glass transition temperature, the 5% pyrolysis temperature, and the room temperature linear expansion coefficient are each measured by the methods described in Examples described later.

≪積層板の製造方法≫
本発明の積層板の製造方法では、本樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、本樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る。
≪Manufacturing method of laminated board≫
In the method for producing a laminated board of the present invention, the fibrous base material is impregnated with the present resin varnish, and the fibrous base material impregnated with the present resin varnish is heated and pressed to be cured to obtain a laminated board.

本発明の積層板の製造方法により製造される積層板は、繊維質基材と本樹脂ワニスの硬化物とを含む繊維強化樹脂層を備える。前記積層板が備える繊維強化樹脂層の数は1層でもよく2層以上でもよい。
前記積層板は、前記繊維強化樹脂層以外の他の層をさらに備えてもよい。他の層としては、例えば銅箔等の金属箔層が挙げられる。
The laminated board manufactured by the method for manufacturing a laminated board of the present invention includes a fiber-reinforced resin layer containing a fibrous base material and a cured product of the present resin varnish. The number of fiber-reinforced resin layers included in the laminated board may be one layer or two or more layers.
The laminated board may further include a layer other than the fiber reinforced resin layer. Examples of the other layer include a metal foil layer such as a copper foil.

繊維質基材としては、例えばガラス繊維、炭素繊維、セラミック繊維、ステンレス繊維等の無機繊維;綿、麻、紙等の天然繊維;ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等の合成有機繊維;等が挙げられる。これらはいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
繊維質基材の形状は特に限定されず、例えば短繊維、ヤーン、マット、シート等が挙げられる。
Examples of the fibrous base material include inorganic fibers such as glass fiber, carbon fiber, ceramic fiber and stainless fiber; natural fiber such as cotton, linen and paper; synthetic organic fiber such as polyester resin and polyamide resin; and the like. Any one of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
The shape of the fibrous base material is not particularly limited, and examples thereof include short fibers, yarns, mats, and sheets.

本発明の積層板の製造方法の一実施形態として、本樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、乾燥(溶剤を除去)してプリプレグを得て、必要に応じて前記プリプレグを複数枚積層し、必要に応じて前記プリプレグまたはその積層物の片面又は両面にさらに金属箔を積層し、加熱加圧して硬化させる方法が挙げられる。 As one embodiment of the method for manufacturing a laminated board of the present invention, the fibrous base material is impregnated with the present resin varnish and dried (solvent is removed) to obtain a prepreg, and a plurality of the prepregs are laminated as needed. If necessary, a method of further laminating a metal foil on one side or both sides of the prepreg or a laminate thereof and heating and pressurizing the metal leaf to cure the prepreg or its laminate can be mentioned.

繊維質基材に含浸させる本樹脂ワニスの量としては、特に限定されない。例えば、本樹脂ワニスの固形分量が、繊維質基材(100質量%)に対して30~50質量%程度とされる。
本樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧する際の加熱温度は、前述の硬化温度が好ましい。加圧条件としては、2~20kN/mが好ましい。
The amount of the present resin varnish impregnated in the fibrous base material is not particularly limited. For example, the solid content of the present resin varnish is about 30 to 50% by mass with respect to the fibrous base material (100% by mass).
The above-mentioned curing temperature is preferable as the heating temperature when the fibrous substrate impregnated with the present resin varnish is heated and pressed. The pressurizing condition is preferably 2 to 20 kN / m 2 .

本発明の積層板の製造方法により得られる積層板は、繊維質基材と本樹脂ワニスの硬化物とを含む繊維強化樹脂層を備えており、この繊維強化樹脂層は、前記硬化物が低誘電率、低誘電正接であることから、絶縁性に優れる。また、繊維強化樹脂層は、前記硬化物が高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率であることから、耐熱性にも優れる。 The laminated board obtained by the method for producing a laminated board of the present invention includes a fiber reinforced resin layer containing a fibrous base material and a cured product of the present resin varnish, and the fiber reinforced resin layer has a low cured product. Since it has a dielectric constant and a low dielectric loss tangent, it has excellent insulation. Further, the fiber-reinforced resin layer is also excellent in heat resistance because the cured product has a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low thermal expansion rate.

以下に、本発明を実施例によってさらに詳しく説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
以下の各例において「%」は、特に限定のない場合は「質量%」を示す。
以下の各例で用いた測定方法を以下に示す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the examples.
In each of the following examples, "%" indicates "mass%" unless otherwise specified.
The measurement method used in each of the following examples is shown below.

[樹脂の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、分散度(Mw/Mn)]
下記のGPC装置及びカラムを使用し、標準物質をポリスチレンとして重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定し、分散度(Mw/Mn)を求めた。
GPC装置:東ソー社製のHLC8120GPC。
カラム:東ソー社製のTSKgel(登録商標) G3000H+G2000H+G2000H。
[Weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), dispersity (Mw / Mn) of resin]
Using the following GPC apparatus and column, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) were measured using polystyrene as a standard substance, and the dispersity (Mw / Mn) was determined.
GPC device: HLC8120GPC manufactured by Tosoh Corporation.
Column: TSKgel (registered trademark) G3000H + G2000H + G2000H manufactured by Tosoh Corporation.

[樹脂の軟化点]
JIS K 6910に従って軟化点(℃)を測定した。
[Plastic softening point]
The softening point (° C.) was measured according to JIS K 6910.

[樹脂の溶融粘度]
150℃に設定した溶融粘度計(ブルックフィールド社製CAP2000 VISCOMETER)により、150℃における溶融粘度(P)を測定した。
[Melting viscosity of resin]
The melt viscosity (P) at 150 ° C. was measured with a melt viscometer (CAP2000 VISCOMETER manufactured by Brookfield) set at 150 ° C.

[ガラス転移温度]
得られた成形物を幅10.0mm×長さ5.5mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製DMA7100)を用い、2℃/分の昇温速度で30℃~400℃の範囲でtanδを測定し、ガラス転移温度(℃)を求めた。
[Glass-transition temperature]
The obtained molded product was processed into a size of 10.0 mm in width × 5.5 mm in length × 1.5 mm in thickness, and used as a measurement sample. For this measurement sample, measure tan δ in the range of 30 ° C to 400 ° C at a temperature rise rate of 2 ° C / min using a viscoelasticity measuring device (DMA7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) to determine the glass transition temperature (° C). rice field.

[5%熱分解温度]
得られた成形物を微粉砕し、測定試料とした。この測定試料について、示差熱熱重量同時測定装置(セイコーインスツルメンツ社製TG/DTA6300)により、エアー雰囲気下で10℃/分の昇温速度で30~800℃の範囲で熱重量減量を測定し、5%熱分解温度(℃)を求めた。
[5% pyrolysis temperature]
The obtained molded product was finely pulverized and used as a measurement sample. For this measurement sample, the thermal weight loss was measured in the range of 30 to 800 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min under an air atmosphere using a differential thermal thermal weight simultaneous measuring device (TG / DTA6300 manufactured by Seiko Instruments). The 5% thermal decomposition temperature (° C.) was determined.

[常温線膨張係数]
得られた成形物を幅5.0mm×長さ5.0mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、熱機械分析装置(日立ハイテクサイエンス社製TMA7100)を用いて2℃/分の昇温速度で30℃~400℃の範囲で硬化物の熱膨張を測定し、常温線膨張係数(ppm)を求めた。常温線膨張係数は、30℃での線膨張係数を示す。
[Room temperature line expansion coefficient]
The obtained molded product was processed into a size of width 5.0 mm × length 5.0 mm × thickness 1.5 mm and used as a measurement sample. For this measurement sample, the thermal expansion of the cured product was measured in the range of 30 ° C to 400 ° C at a heating rate of 2 ° C / min using a thermomechanical analyzer (TMA7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science), and the room temperature linear expansion coefficient. (Ppm) was calculated. The room temperature linear expansion coefficient indicates the linear expansion coefficient at 30 ° C.

[比誘電率、誘電正接]
得られた成形物を幅50.0mm×長さ50.0mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、空洞共振摂動法により周波数1GHzにおける比誘電率(εr)および誘電正接(tanδ)を求めた。
[Relative permittivity, dielectric loss tangent]
The obtained molded product was processed into a size of width 50.0 mm × length 50.0 mm × thickness 1.5 mm and used as a measurement sample. For this measurement sample, the relative permittivity (ε r ) and the dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 GHz were determined by the cavity resonance perturbation method.

<合成例1:ジアリルビスフェノールFの合成>
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量3Lの反応容器に、ビスフェノールF(群栄化学製BPF-SG)1000.0g、メタノール800.0gを仕込み、発熱に注意しながら水酸化ナトリウム480gを分割添加した。次いで、塩化アリル995.0gを35℃以下で発熱に注意しながら2時間かけて滴下し、同温度で2時間反応させた後、65℃まで昇温し、5時間反応させて、ビスフェノールFのアリルエーテル化を行った。次いで、得られた反応液から減圧下でメタノールを除去した後、多量の塩を水洗で除去した。水洗後の反応液を、窒素雰囲気下で190℃まで昇温し、5時間反応させることでアリル基を転移させ、目的とするジアリルビスフェノールFを得た。得られたジアリルビスフェノールFは常温で液体であり、25℃での粘度はE型粘度計で0.8Pa・sであった。
<Synthesis Example 1: Synthesis of diallyl bisphenol F>
Add 1000.0 g of bisphenol F (BPF-SG manufactured by Gun Ei Chemical Industry Co., Ltd.) and 800.0 g of methanol to a reaction vessel with a content of 3 L equipped with a thermometer, agitator, and a cooling tube, and add 480 g of sodium hydroxide while paying attention to heat generation. It was added in portions. Next, 995.0 g of allyl chloride was added dropwise at 35 ° C. or lower over 2 hours while paying attention to heat generation, and the mixture was reacted at the same temperature for 2 hours, then heated to 65 ° C. and reacted for 5 hours to obtain bisphenol F. Allyl etherification was performed. Then, after removing methanol from the obtained reaction solution under reduced pressure, a large amount of salt was removed by washing with water. The reaction solution after washing with water was heated to 190 ° C. in a nitrogen atmosphere and reacted for 5 hours to transfer the allyl group to obtain the desired diallyl bisphenol F. The obtained diallyl bisphenol F was a liquid at room temperature, and the viscosity at 25 ° C. was 0.8 Pa · s with an E-type viscometer.

<合成例2:ジアリルビスフェノールAの合成>
合成例1において、ビスフェノールFの1000.0gに代えてビスフェノールAの1140.0gを用い、メタノール量を912.0gに変更したこと以外は合成例1と同様の操作を行ってジアリルビスフェノールAを得た。得られたジアリルビスフェノールAは常温で液体であり、25℃での粘度はE型粘度計で21.2Pa・sであった。
<Synthesis Example 2: Synthesis of diallyl bisphenol A>
In Synthesis Example 1, 1140.0 g of bisphenol A was used instead of 1000.0 g of bisphenol F, and the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that the amount of methanol was changed to 912.0 g to obtain diallyl bisphenol A. rice field. The obtained diallyl bisphenol A was a liquid at room temperature, and the viscosity at 25 ° C. was 21.2 Pa · s with an E-type viscometer.

<合成例3:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ジアリルビスフェノールFを使用したカーボネート樹脂の合成>
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lの反応容器に炭酸ジフェニル214.2g(1.00モル)、トリシクロデカンジメタノール98.1g(0.50モル)を仕込み、100℃で溶融混合した。その後、48%KOH水溶液0.02gを添加し、発熱に注意しながら180℃まで昇温し1時間常圧下で反応させた。次いで、130℃まで冷却し、合成例1で得たジアリルビスフェノールFの183.0g(0.61モル)を添加し、180℃まで昇温し1時間常圧下で反応させた。その後、系内を180℃で維持しながら10mmHgまでゆっくり減圧した。次いで、減圧下のまま220℃まで昇温し2時間減圧下で反応させた。その後、反応生成物を水洗、濃縮し、アリル基含有カーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は93.5℃、150℃における溶融粘度は45.6Pであった。ゲル浸透クロマトグラフ分析(以下、GPCと略記することもある。)によるMwは9153、Mnは3139、Mw/Mnは2.916、式(1)で表される化合物の含有量は97.2%であった。
<Synthesis Example 3: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, and diallyl bisphenol F>
214.2 g (1.00 mol) of diphenyl carbonate and 98.1 g (0.50 mol) of tricyclodecanedimethanol were charged into a reaction vessel having a content of 1 L equipped with a thermometer, a stirrer and a cooling tube, and melted at 100 ° C. Mixed. Then, 0.02 g of a 48% KOH aqueous solution was added, the temperature was raised to 180 ° C. while paying attention to heat generation, and the reaction was carried out under normal pressure for 1 hour. Then, the mixture was cooled to 130 ° C., 183.0 g (0.61 mol) of diallyl bisphenol F obtained in Synthesis Example 1 was added, the temperature was raised to 180 ° C., and the reaction was carried out under normal pressure for 1 hour. Then, the pressure was slowly reduced to 10 mmHg while maintaining the inside of the system at 180 ° C. Then, the temperature was raised to 220 ° C. under reduced pressure, and the reaction was carried out under reduced pressure for 2 hours. Then, the reaction product was washed with water and concentrated to obtain an allyl group-containing carbonate resin. The softening point of this resin was 93.5 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 45.6 P. According to gel permeation chromatograph analysis (hereinafter, may be abbreviated as GPC), Mw is 9153, Mn is 3139, Mw / Mn is 2.916, and the content of the compound represented by the formula (1) is 97.2. %Met.

<合成例4:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ジアリルビスフェノールFを使用したカーボネート樹脂の合成>
合成例3において、トリシクロデカンジメタノールの98.1gを157.0g(0.80モル)に変更し、ジアリルビスフェノールFの183.0gを93.0g(0.31モル)に変更したこと以外は合成例3と同様の操作を行い、アリル基含有カーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は98.4℃、150℃における溶融粘度は69.6Pであった。GPCによるMwは6774、Mnは2506、Mw/Mnは2.703、式(1)で表される化合物の含有量は97.3%であった。
<Synthesis Example 4: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, and diallyl bisphenol F>
In Synthesis Example 3, 98.1 g of tricyclodecanedimethanol was changed to 157.0 g (0.80 mol), and 183.0 g of diallyl bisphenol F was changed to 93.0 g (0.31 mol). Performed the same operation as in Synthesis Example 3 to obtain an allyl group-containing carbonate resin. The softening point of this resin was 98.4 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 69.6P. According to GPC, Mw was 6774, Mn was 2506, Mw / Mn was 2.703, and the content of the compound represented by the formula (1) was 97.3%.

<合成例5:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ジアリルビスフェノールAを使用したカーボネート樹脂の合成>
合成例3において、ジアリルビスフェノールFの183.0gを、合成例2で得たジアリルビスフェノールAの208.6g(0.61モル)に変更したこと以外は合成例3と同様の操作を行い、アリル基含有カーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は108.4℃、200℃における溶融粘度は26.1Pであった。GPCによるMwは9711、Mnは3309、Mw/Mnは2.935、式(1)で表される化合物の含有量は96.5%であった。
<Synthesis Example 5: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, and diallyl bisphenol A>
In Synthesis Example 3, 183.0 g of diallyl bisphenol F was changed to 208.6 g (0.61 mol) of diallyl bisphenol A obtained in Synthesis Example 2, and the same operation as in Synthesis Example 3 was carried out. A group-containing carbonate resin was obtained. The softening point of this resin was 108.4 ° C., and the melt viscosity at 200 ° C. was 26.1P. The GPC Mw was 9711, Mn was 3309, Mw / Mn was 2.935, and the content of the compound represented by the formula (1) was 96.5%.

<実施例1>
合成例3で合成したアリル基含有カーボネート樹脂の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI-2300(ポリフェニルメタンマレイミド、マレイミド当量:186.0g/eq)の23.7gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの1.2g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。樹脂分とは、成形物の総質量に対する樹脂(硬化物)の割合を示す。
<Example 1>
Curing reaction with 100 g of the allyl group-containing carbonate resin synthesized in Synthesis Example 3 and 23.7 g of BMI-2300 (polyphenylmethane maleimide, maleimide equivalent: 186.0 g / eq) manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. as a maleimide compound. As a catalyst, 1.2 g of dicumyl peroxide (1% with respect to the total amount of resin) was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm. The resin content indicates the ratio of the resin (cured product) to the total mass of the molded product.

<実施例2>
実施例1においてBMI-2300の23.7gを47.4gに代えたこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 2>
A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that 23.7 g of BMI-2300 was replaced with 47.4 g in Example 1 to obtain a molded product.

<実施例3>
実施例1においてのBMI-2300の23.7gを大和化成工業社製のBMI-4000(ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、マレイミド当量:285.1g/eq)の72.7gに代えたこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 3>
Examples except that 23.7 g of BMI-2300 in Example 1 was replaced with 72.7 g of BMI-4000 (bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, maleimide equivalent: 285.1 g / eq) manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. A resin varnish was prepared in the same manner as in No. 1 to obtain a molded product.

<実施例4>
合成例4で合成したアリル基含有カーボネート樹脂の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI-4000の91.0gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの1.9g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
<Example 4>
100 g of the allyl group-containing carbonate resin synthesized in Synthesis Example 4, 91.0 g of BMI-4000 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. as a maleimide compound, and 1.9 g of dicumyl peroxide as a curing reaction catalyst (to the total amount of resin). 1%) was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<実施例5>
実施例4においてBMI-4000の91.0gを136.3gに代えたこと以外は実施例4と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 5>
A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 4 except that 91.0 g of BMI-4000 was replaced with 136.3 g in Example 4, and a molded product was obtained.

<実施例6>
合成例5で合成したアリル基含有カーボネート樹脂の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI-2300の22.5gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの1.2g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
<Example 6>
100 g of the allyl group-containing carbonate resin synthesized in Synthesis Example 5, 22.5 g of BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. as a maleimide compound, and 1.2 g of dicumyl peroxide as a curing reaction catalyst (to the total amount of resin). 1%) was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<実施例7>
実施例6においてBMI-2300の22.5gを45.0gに代えたこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 7>
A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that 22.5 g of BMI-2300 was replaced with 45.0 g in Example 6 to obtain a molded product.

<比較例1>
フェノールノボラック樹脂(群栄化学工業社製PSM-4261、軟化点:80℃、水酸基当量:106g/eq)の50.0gと、エポキシ樹脂としてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製:EOCN1020、エポキシ当量:199g/eq)の93.9gと、触媒としてトリフェニルホスフィンの1.9g(エポキシ樹脂に対して2%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃10分乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、180℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
<Comparative Example 1>
50.0 g of phenol novolac resin (PSM-4261 manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., softening point: 80 ° C., hydroxyl group equivalent: 106 g / eq) and orthocresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: EOCN1020) Epoxy equivalent: 93.9 g of 199 g / eq) and 1.9 g of triphenylphosphine as a catalyst (2% with respect to epoxy resin) were dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish. rice field.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 180 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<比較例2>
アリルフェノールノボラック樹脂(群栄化学工業社製XPL-4437E、アリル基当量:145g/eq、常温で液状、E型粘度計で測定した25℃での粘度:31Pa・s)の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI-4000の196.6gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの3.0g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃10分乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
<Comparative Example 2>
100 g of allylphenol novolak resin (XPL-4437E manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., allyl group equivalent: 145 g / eq, liquid at room temperature, viscosity at 25 ° C. measured with an E-type viscosity meter: 31 Pa · s) and a maleimide compound. 196.6 g of BMI-4000 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. and 3.0 g of dicumyl peroxide as a curing reaction catalyst (1% of the total amount of resin) are added to methyl ethyl ketone so that the solid content is 60%. To obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

実施例1~7、比較例1~2で得た成形物について、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接を測定した。結果を表1~2に示した。なお、測定されたガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接はそれぞれ、成形物に用いた樹脂ワニスの硬化物のガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接とみなすことができる。
各例で用いた硬化剤(アリル基含有カーボネート樹脂、フェノールノボラック樹脂またはアリルフェノールノボラック樹脂)、マレイミド化合物、エポキシ樹脂それぞれの種類を表1~2に併記した。
The glass transition temperature, 5% pyrolysis temperature, room temperature linear expansion coefficient, relative permittivity, and dielectric loss tangent were measured for the molded products obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. The results are shown in Tables 1 and 2. The measured glass transition temperature, 5% thermal decomposition temperature, room temperature linear expansion coefficient, relative permittivity, and dielectric loss tangent are the glass transition temperature and 5% thermal decomposition temperature of the cured resin varnish used for the molded product, respectively. It can be regarded as the room temperature line expansion coefficient, relative permittivity, and dielectric loss tangent.
The types of the curing agent (allyl group-containing carbonate resin, phenol novolac resin or allyl phenol novolac resin), maleimide compound, and epoxy resin used in each example are also shown in Tables 1 and 2.

Figure 0006998739000007
Figure 0006998739000007

Figure 0006998739000008
Figure 0006998739000008

実施例1~7の成形物は、低誘電率、低誘電正接であり、電気特性に優れていた。また、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数等の熱的特性も充分に優れていた。
エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた比較例1の成形物は、実施例1~7に比べて誘電率および誘電正接が高かった。また、常温線膨張係数が大きかった。
硬化剤としてアリルフェノールノボラック樹脂を用いた比較例2の成形物は、比較例1よりもさらに誘電率および誘電正接が高かった。
The molded products of Examples 1 to 7 had a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and were excellent in electrical characteristics. Further, the thermal characteristics such as the glass transition temperature, the 5% thermal decomposition temperature, and the room temperature linear expansion coefficient were sufficiently excellent.
The molded product of Comparative Example 1 in which the epoxy resin was cured with the phenol novolac resin had a higher dielectric constant and dielectric loss tangent than those of Examples 1 to 7. In addition, the room temperature line expansion coefficient was large.
The molded product of Comparative Example 2 using the allylphenol novolak resin as the curing agent had a higher dielectric constant and dielectric loss tangent than Comparative Example 1.

本樹脂ワニスによれば、低誘電率、低誘電正接である、電気特性に優れた硬化物が得られる。また、本樹脂ワニスによれば、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率である、熱的特性にも優れた硬化物が得られる。
したがって、本樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板は、高機能性高分子材料として極めて有用であり、電気的、熱的に優れた材料として、半導体封止材、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂、レジスト、電子部品の封止用樹脂、液晶のカラーフィルター用樹脂、塗料、各種コーティング剤、接着剤、ビルドアップ積層板材料、FRP等の幅広い用途に使用できる。
According to this resin varnish, a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and having excellent electrical characteristics can be obtained. Further, according to the present resin varnish, a cured product having a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, a low thermal expansion rate, and excellent thermal characteristics can be obtained.
Therefore, this resin varnish and the laminated board using it are extremely useful as a highly functional polymer material, and as electrically and thermally excellent materials, a semiconductor encapsulant, an electrically insulating material, and a copper-clad laminated board are used. It can be used in a wide range of applications such as resins for varnishes, resists, resins for encapsulating electronic parts, resins for liquid crystal color filters, paints, various coating agents, adhesives, build-up laminated board materials, and FRP.

Claims (10)

下記式(1)で表される化合物を主成分として含み、重量平均分子量が3000~12000であるアリル基含有カーボネート樹脂。
Figure 0006998739000009
[式中、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、2個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは0以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、n個のR の少なくとも一部が前記脂環式ジメタノール化合物由来の残基であり、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有し、Xは水素原子またはアリル基を示し、2個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
An allyl group-containing carbonate resin containing a compound represented by the following formula (1) as a main component and having a weight average molecular weight of 3000 to 12000 .
Figure 0006998739000009
[In the formula, R 1 indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and the two R 1s are different even if they are the same. Also, n represents an integer greater than or equal to 0, R 2 represents a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and at least n R 2s . When a part is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound and n is 2 or more, the n R 2s may be the same or different, respectively, and the two R 1s and n At least a portion of the R 2 contains an allyl group, where X represents a hydrogen atom or an allyl group, and the two Xs may be the same or different. ]
前記式(1)中のRが、アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基である、請求項1に記載のアリル基含有カーボネート樹脂。 The allyl group-containing carbonate resin according to claim 1, wherein R 1 in the formula (1) is a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound. 前記式(1)中のRが、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基である、請求項2に記載のアリル基含有カーボネート樹脂。
Figure 0006998739000010
[式中、pは1または2を示し、qは0~2の整数を示す。]
The allyl group-containing carbonate resin according to claim 2, wherein R1 in the formula ( 1 ) is a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula (r3).
Figure 0006998739000010
[In the formula, p indicates 1 or 2, and q indicates an integer of 0 to 2. ]
アリル基含有カーボネート樹脂の製造方法であって、
炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物および脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール化合物とを反応させる工程を有し、前記ジオール化合物の少なくとも一部が前記脂環式ジメタノール化合物であり、前記ジオール化合物の少なくとも一部がアリル基を含有し、前記アリル基含有カーボネート樹脂の重量平均分子量が3000~12000である、アリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
A method for producing an allyl group-containing carbonate resin.
It comprises a step of reacting a carbonic acid diester with at least one diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound, a biphenol compound and an alicyclic dimethanol compound, and at least a part of the diol compound is the alicyclic diethanol. A method for producing an allyl group-containing carbonate resin , which is a methanol compound, wherein at least a part of the diol compound contains an allyl group, and the weight average molecular weight of the allyl group-containing carbonate resin is 3000 to 12000 .
前記炭酸エステルと前記ジオール化合物とを反応させる工程が、
炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、一次反応生成物を得て、前記一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程である、請求項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
The step of reacting the carbonic acid diester with the diol compound is
The carbonic acid diester is reacted with the alicyclic dimethanol compound, or the carbonic acid diester is associated with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of the alicyclic dimethanol compound and the bisphenol compound and the biphenol compound. The step according to claim 4 , wherein the reaction is carried out to obtain a primary reaction product, and the primary reaction product is reacted with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound. The method for producing an allyl group-containing carbonate resin according to the above.
前記一次反応生成物を得る際の、前記脂環式ジメタノール化合物と前記芳香族ジオール化合物との合計量に対する前記炭酸ジエステルのモル比が、1.05~3.00である、請求項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。 The fifth aspect of the present invention, wherein the molar ratio of the carbonic acid diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound in obtaining the primary reaction product is 1.05 to 3.00. The method for producing an allyl group-containing carbonic acid resin according to the above method. 前記炭酸エステルと前記ジオール化合物との反応により生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させ、前記水酸基をアリルエーテル化する工程をさらに有する、請求項のいずれか一項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。 4. The fourth aspect of the present invention further comprises a step of reacting an allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the terminal, which is produced by the reaction of the carbonic acid diester with the diol compound, with allyl halide to convert the hydroxyl group into allyl ether. The method for producing an allyl group-containing carbonate resin according to any one of 6 to 6 . 請求項1~のいずれか一項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、溶剤とを含む樹脂ワニス。 A resin varnish containing the allyl group-containing carbonate resin according to any one of claims 1 to 3 , a maleimide compound having two or more maleimide groups, and a solvent. 前記アリル基含有カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含み、
エポキシ樹脂をさらに含む、請求項に記載の樹脂ワニス。
The allyl group-containing carbonate resin contains a compound in which at least one of the two Xs in the formula (1) is a hydrogen atom.
The resin varnish according to claim 8 , further comprising an epoxy resin.
請求項またはに記載の樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、前記樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る、積層板の製造方法。 A method for manufacturing a laminated board, wherein the fibrous base material is impregnated with the resin varnish according to claim 8 or 9 , and the fibrous base material impregnated with the resin varnish is heated and pressed to be cured to obtain a laminated board.
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