JP6947611B2 - Phenolic carbonate resin, epoxy resin curing agent, phenol carbonate resin manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method - Google Patents

Phenolic carbonate resin, epoxy resin curing agent, phenol carbonate resin manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、フェノールカーボネート樹脂、その製造方法、樹脂ワニス、および積層板の製造方法に関する。 The present invention relates to a phenol carbonate resin, a method for producing the same, a resin varnish, and a method for producing a laminated board.

従来、電子製品に用いられる部材、例えば絶縁性の積層板やその片面又は両面に銅箔が積層した積層板(銅張積層板)に、エポキシ樹脂が用いられている。積層板は、例えばエポキシ樹脂、硬化剤等が溶剤に溶解した樹脂ワニスをガラスクロス等の繊維質基材に含浸させ、乾燥してプリプレグとし、これを単独で又は複数枚を重ねて熱プレスすることで製造される。エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノールとホルムアルデヒドを用いたフェノールノボラック樹脂が広く使用されている。 Conventionally, epoxy resin has been used for members used in electronic products, for example, an insulating laminated board and a laminated board (copper-clad laminated board) in which copper foil is laminated on one side or both sides thereof. The laminated board is made by impregnating a fibrous base material such as glass cloth with a resin varnish in which an epoxy resin, a curing agent or the like is dissolved in a solvent, drying the prepreg, and heat-pressing the prepreg alone or in combination of two or more. Manufactured by As a curing agent for the epoxy resin, a phenol novolac resin using phenol and formaldehyde is widely used.

近年、電子製品の高性能化が図られる中、積層板を構成する樹脂にさらなる低誘電率、低誘電正接が求められている。エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物の電気特性(低誘電率、低誘電正接)は、汎用の電子製品に要求されるレベルを満たすことはできても、高性能電子製品(スマートフォン、タブレット等)に要求されるレベルを満たすことは困難である。 In recent years, as the performance of electronic products has been improved, the resin constituting the laminated board is required to have a lower dielectric constant and a lower dielectric loss tangent. Although the electrical characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) of the cured product obtained by curing the epoxy resin with phenol novolac resin can meet the levels required for general-purpose electronic products, high-performance electronic products (smartphones, smartphones, etc.) It is difficult to meet the level required for tablets, etc.).

2官能フェニレンエーテルオリゴマーをエポキシ樹脂硬化剤として用いることが提案されている(特許文献1)。かかるエポキシ樹脂硬化剤によれば、電気特性に優れたエポキシ樹脂硬化物が得られるとされている。
しかし、特許文献1のエポキシ樹脂硬化剤を用いた硬化物の誘電正接は未だ十分に低いとはいえない。
It has been proposed to use a bifunctional phenylene ether oligomer as an epoxy resin curing agent (Patent Document 1). According to such an epoxy resin curing agent, it is said that an epoxy resin cured product having excellent electrical characteristics can be obtained.
However, it cannot be said that the dielectric loss tangent of the cured product using the epoxy resin curing agent of Patent Document 1 is still sufficiently low.

特開2004−224860号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-224860

本発明は、エポキシ樹脂硬化剤として使用でき、低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られるフェノールカーボネート樹脂およびその製造方法、ならびに低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られる樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板の製造方法を提供することを目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides a phenol carbonate resin that can be used as an epoxy resin curing agent and can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and a method for producing the same, and a resin varnish and a resin varnish that can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a laminated board using this.

本発明は、以下の態様を有する。
〔1〕下記式(1)で表される化合物を主成分として含むフェノールカーボネート樹脂。

Figure 0006947611
[式中、Arは、ビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基を示し、2個のArはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよく、nは1以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、n個のRの少なくとも一部は前記脂環式ジメタノール化合物由来の残基であり、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。]
〔2〕前記式(1)中のArが、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基を示し、Rが、前記式(r1)、前記式(r2)、前記式(r3)または下記式(r4)で表される基を示し、n個のRの少なくとも一部は前記式(r4)で表される基である、〔1〕のフェノールカーボネート樹脂。
Figure 0006947611
[式中、Rは、脂環式基を示す。]
〔3〕炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、一次反応生成物を得て、
前記一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる、フェノールカーボネート樹脂の製造方法。
〔4〕前記一次反応生成物を得る際の、前記脂環式ジメタノール化合物と前記芳香族ジオール化合物との合計量に対する前記炭酸ジエステルのモル比が、1.05〜3.00である、〔3〕のフェノールカーボネート樹脂の製造方法。
〔5〕前記〔1〕または〔2〕のフェノールカーボネート樹脂と、エポキシ樹脂と、溶剤とを含む樹脂ワニス。
〔6〕前記〔5〕の樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、前記樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る、積層板の製造方法。 The present invention has the following aspects.
[1] A phenol carbonate resin containing a compound represented by the following formula (1) as a main component.
Figure 0006947611
[In the formula, Ar represents a residue derived from a bisphenol compound or a residue derived from a biphenol compound, the two Ars may be the same or different, and n represents an integer of 1 or more. R indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound, or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and at least a part of n R is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound. When n is 2 or more, the n Rs may be the same or different. ]
[2] Ar in the formula (1) represents a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula (r3), and R is the above formula (r1) and the above formula (r1). r2), the phenol carbonate of [1] showing the group represented by the above formula (r3) or the following formula (r4), and at least a part of n R is the group represented by the above formula (r4). resin.
Figure 0006947611
[In the formula, R 1 represents an alicyclic group. ]
[3] At least one aromatic diol selected from the group consisting of a carbon dioxide diester and an alicyclic dimethanol compound, or a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, a bisphenol compound and a biphenol compound. React with the compound to obtain the primary reaction product,
A method for producing a phenol carbonate resin, wherein the primary reaction product is reacted with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of bisphenol compounds and biphenol compounds.
[4] The molar ratio of the carbonic acid diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound when obtaining the primary reaction product is 1.05 to 3.00. 3] Method for producing phenol carbonate resin.
[5] A resin varnish containing the phenol carbonate resin of the above [1] or [2], an epoxy resin, and a solvent.
[6] A method for producing a laminated board, wherein the fibrous base material is impregnated with the resin varnish of the above [5], and the fibrous base material impregnated with the resin varnish is heated and pressed to be cured to obtain a laminated board.

本発明によれば、エポキシ樹脂硬化剤として使用でき、低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られるフェノールカーボネート樹脂およびその製造方法、ならびに低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られる樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板の製造方法を提供できる。 According to the present invention, a phenol carbonate resin that can be used as an epoxy resin curing agent and can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and a method for producing the same, and a resin that can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. A varnish and a method for producing a laminated board using the varnish can be provided.

≪フェノールカーボネート樹脂≫
本発明のフェノールカーボネート樹脂(以下、「本カーボネート樹脂」ともいう。)は、下記式(1)で表される化合物を主成分として含む。「主成分」とは、本カーボネート樹脂を構成する成分のうち最も含有量が多い成分を示す。
本カーボネート樹脂は、nの値が異なる複数の化合物の混合物であってよい。
本カーボネート樹脂は、式(1)で表される化合物以外の成分(例えば、後述する式(2)で表される化合物、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物、またはそれらのアリルエーテル化化合物等)を含んでいてもよい。これらの成分は、本カーボネート樹脂の製造に用いられた原料や、製造時に副生した副生物であってもよい。
本カーボネート樹脂中の式(1)で表される化合物の含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。この含有量の上限は特に限定されず、100質量%であってよい。式(1)で表される化合物の含有量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される。
≪Phenol carbonate resin≫
The phenolic carbonate resin of the present invention (hereinafter, also referred to as “the present carbonate resin”) contains a compound represented by the following formula (1) as a main component. The “main component” refers to the component having the highest content among the components constituting the carbonate resin.
The carbonate resin may be a mixture of a plurality of compounds having different values of n.
The carbonate resin contains components other than the compound represented by the formula (1) (for example, a compound represented by the formula (2) described later, a bisphenol compound, a biphenol compound, or an allyl etherified compound thereof, etc.). You may. These components may be a raw material used in the production of the present carbonate resin or a by-product produced as a by-product during the production.
The content of the compound represented by the formula (1) in the carbonate resin is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more. The upper limit of this content is not particularly limited and may be 100% by mass. The content of the compound represented by the formula (1) is measured by gel permeation chromatography (GPC).

Figure 0006947611
[式中、Arは、ビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基を示し、2個のArはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよく、nは1以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、n個のRの少なくとも一部は前記脂環式ジメタノール化合物由来の残基であり、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。]
Figure 0006947611
[In the formula, Ar represents a residue derived from a bisphenol compound or a residue derived from a biphenol compound, the two Ars may be the same or different, and n represents an integer of 1 or more. R indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound, or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and at least a part of n R is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound. When n is 2 or more, the n Rs may be the same or different. ]

nは、1〜50の整数が好ましく、1〜40の整数がより好ましく、1〜35の整数がさらに好ましい。
nの平均値は、本カーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)が、3000〜12000の範囲内となる値が好ましい。より好ましいMwは後述のとおりである。nの平均値が大きいほど、Mwが大きくなる傾向がある。
n is preferably an integer of 1 to 50, more preferably an integer of 1 to 40, and even more preferably an integer of 1 to 35.
The average value of n is preferably a value in which the weight average molecular weight (Mw) of the carbonate resin is in the range of 3000 to 12000. More preferable Mw is as described later. The larger the average value of n, the larger the Mw tends to be.

ビスフェノール化合物は、連結基を介して結合した2個のヒドロキシフェニル基を有する化合物である。ヒドロキシフェニル基は置換基を有していてもよい。
ビスフェノール化合物由来の残基とは、ビスフェノール化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた構造の基である。つまり、置換基を有していてもよい2個のフェニレン基が連結基を介して結合した構造の基である。
置換基としては、アリル基、アルキル基等が挙げられる。置換基の数は1つでもよく2つ以上でもよい。
ビスフェノール化合物の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールB、ビスフェノールAP、ビスフェノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールS、ビスフェノールZ、これらのビスフェノール化合物のヒドロキシフェニル基の少なくとも一方にアリル基が結合したアリル基含有ビスフェノール化合物等が挙げられる。
A bisphenol compound is a compound having two hydroxyphenyl groups bonded via a linking group. The hydroxyphenyl group may have a substituent.
A residue derived from a bisphenol compound is a group having a structure in which two phenolic hydroxyl groups are removed from the bisphenol compound. That is, it is a group having a structure in which two phenylene groups which may have a substituent are bonded via a linking group.
Examples of the substituent include an allyl group and an alkyl group. The number of substituents may be one or two or more.
Specific examples of the bisphenol compound include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol B, bisphenol AP, bisphenol C, bisphenol E, bisphenol S, bisphenol Z, and allele in which an allyl group is bonded to at least one of the hydroxyphenyl groups of these bisphenol compounds. Group-containing bisphenol compounds and the like can be mentioned.

ビフェノール化合物は、直接結合した2個のヒドロキシフェニル基を有する化合物である。ヒドロキシフェニル基は置換基を有していてもよい。
ビフェノール化合物由来の残基とは、ビフェノール化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた構造の基である。つまり、置換基を有していてもよいビフェニレン基である。
置換基としては、アリル基、ハロゲン原子、アルキル基等が挙げられる。置換基の数は1つでもよく2つ以上でもよい。
ビフェノール化合物の具体例としては、ビフェノール、ハロゲン化ビフェノール、アルキルビフェノール、これらのビフェノール化合物のヒドロキシフェニル基の少なくとも一方にアリル基が結合したアリル基含有ビフェノール化合物等が挙げられる。
A biphenol compound is a compound having two directly bonded hydroxyphenyl groups. The hydroxyphenyl group may have a substituent.
A residue derived from a biphenol compound is a group having a structure in which two phenolic hydroxyl groups are removed from the biphenol compound. That is, it is a biphenylene group which may have a substituent.
Examples of the substituent include an allyl group, a halogen atom, an alkyl group and the like. The number of substituents may be one or two or more.
Specific examples of the biphenol compound include biphenol, halogenated biphenol, alkyl biphenol, and an allyl group-containing biphenol compound in which an allyl group is bonded to at least one of the hydroxyphenyl groups of these biphenol compounds.

脂環式ジメタノール化合物は、脂環式基と、脂環式基に結合した2つのメタノール基(−CHOH)とを有する化合物である。
脂環式ジメタノール化合物由来の残基とは、脂環式ジメタノール化合物から2個の水酸基を除いた構造の基である。具体的には、下記式(r4)で表される基が挙げられる。
The alicyclic dimethanol compound is a compound having an alicyclic group and two methanol groups (-CH 2 OH) bonded to the alicyclic group.
The residue derived from the alicyclic dimethanol compound is a group having a structure in which two hydroxyl groups are removed from the alicyclic dimethanol compound. Specifically, a group represented by the following formula (r4) can be mentioned.

Figure 0006947611
[式中、Rは、脂環式基を示す。]
Figure 0006947611
[In the formula, R 1 represents an alicyclic group. ]

脂環式基は、単環構造でもよく多環構造でもよい。脂環式基は、不飽和結合を有しないことが好ましい。脂環式基の炭素数は、6〜20が好ましく、8〜15がより好ましい。脂環式基の具体例としては、シクロヘキシレン基、トリシクロデカンジイル基、ペルヒドロ−1,4;5,8−ナフチレン−2,3−ジイル基、ビシクロ [2.2.1] ヘプタン−2,3−ジイル基等が挙げられる。
脂環式基は、アリル基、アルキル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
脂環式ジメタノール化合物の具体例としては、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、トランス−2,3−ジ(ヒドロキシメチル)−ペルヒドロ−1,4;5,8−ジメタノナフタレン、トランス−2,3−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ [2.2.1] ヘプタン等が挙げられる。それぞれ異性体を混合していてもよい。
The alicyclic group may have a monocyclic structure or a polycyclic structure. The alicyclic group preferably does not have an unsaturated bond. The alicyclic group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 8 to 15 carbon atoms. Specific examples of the alicyclic group include cyclohexylene group, tricyclodecanediyl group, perhydro-1,4; 5,8-naphthylene-2,3-diyl group, bicyclo [2.2.1] heptane-2. , 3-Diyl group and the like.
The alicyclic group may have a substituent such as an allyl group, an alkyl group or a halogen atom.
Specific examples of the alicyclic dimethanol compound include cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, trans-2,3-di (hydroxymethyl) -perhydro-1,4; 5,8-dimethanonaphthalene, and trans-. Examples thereof include 2,3-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] methanol. The isomers may be mixed with each other.

式(1)中の2つのArは同一であってもよく異なっていてもよい。
Arとしては、安価であり容易に入手可能な点で、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基が好ましい。これらの基は、ビスフェノールA、ビスフェノールFまたはビフェノールに由来する残基である。
The two Ars in the formula (1) may be the same or different.
As Ar, a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2), or the following formula (r3) is preferable because it is inexpensive and easily available. These groups are residues derived from bisphenol A, bisphenol F or biphenol.

Figure 0006947611
Figure 0006947611

式(1)中のn個のRの少なくとも一部は脂環式ジメタノール化合物由来の残基である。つまり、nが1の場合、Rは脂環式ジメタノール化合物由来の残基であり、nが2以上の場合、n個のRの一部または全部は脂環式ジメタノール化合物由来の残基である。Rとして脂環式ジメタノール化合物由来の残基を含むことにより、硬化物がより低誘電正接になる。
式(1)中のnが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。例えばRの一部がビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基であってもよい。
At least a part of n R in the formula (1) is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound. That is, when n is 1, R is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and when n is 2 or more, part or all of n R are residues derived from an alicyclic dimethanol compound. Is. By including a residue derived from an alicyclic dimethanol compound as R, the cured product has a lower dielectric loss tangent.
When n in the formula (1) is 2 or more, the n Rs may be the same or different. For example, a part of R may be a residue derived from a bisphenol compound or a residue derived from a biphenol compound.

Rとしては、安価であり容易に入手可能な点で、前記式(r1)、前記式(r2)、前記式(r3)または前記式(r4)で表される基が好ましい。ただし、n個のRの少なくとも一部は式(r4)で表される基である。 As R, a group represented by the above formula (r1), the above formula (r2), the above formula (r3) or the above formula (r4) is preferable because it is inexpensive and easily available. However, at least a part of n R is a group represented by the formula (r4).

カーボネート樹脂(1)中の全てのRのうち、脂環式ジメタノール化合物由来の残基(例えば式(r4)で表される基)であるRの割合は、20〜100モル%が好ましく、50〜90モル%がより好ましい。脂環式ジメタノール化合物由来の残基であるRの割合が前記下限値以上であると、より低誘電正接の硬化物が得られる。 The proportion of R, which is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound (for example, a group represented by the formula (r4)), is preferably 20 to 100 mol% among all R in the carbonate resin (1). More preferably 50-90 mol%. When the proportion of R, which is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound, is at least the above lower limit value, a cured product having a lower dielectric loss tangent can be obtained.

本カーボネート樹脂の軟化点は、70〜130℃が好ましく、90〜120℃がより好ましい。軟化点が前記下限値以上であれば、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。軟化点が前記上限値以下であれば、流動性がより優れる。
軟化点は、JIS K 6910に従って測定される。
The softening point of the carbonate resin is preferably 70 to 130 ° C, more preferably 90 to 120 ° C. When the softening point is at least the above lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. When the softening point is equal to or less than the upper limit value, the fluidity is more excellent.
The softening point is measured according to JIS K 6910.

本カーボネート樹脂の150℃における溶融粘度は、10P〜100Pが好ましく、30P〜80Pがより好ましい。溶融粘度が前記下限値以上であると、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。溶融粘度が前記上限値以下であると、流動性に優れる。
溶融粘度は、後述する実施例に記載の測定方法により測定される。
The melt viscosity of the carbonate resin at 150 ° C. is preferably 10P to 100P, more preferably 30P to 80P. When the melt viscosity is at least the above lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. When the melt viscosity is not more than the upper limit value, the fluidity is excellent.
The melt viscosity is measured by the measuring method described in Examples described later.

本カーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、3000〜12000が好ましく、5000〜10000がより好ましい。Mwが前記下限値以上であると、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。Mwが前記上限値以下であると、流動性がより優れる。
カーボネート樹脂のMwおよびMnは、標準物質をポリスチレンとしたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the carbonate resin is preferably 3000 to 12000, more preferably 5000 to 10000. When Mw is at least the above lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. When Mw is not more than the upper limit value, the fluidity is more excellent.
Mw and Mn of the carbonate resin are values measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.

本カーボネート樹脂の水酸基当量は、500〜3000g/eqが好ましく、800〜2000g/eqがより好ましい。水酸基当量が前記下限値以上であると、誘電特性がより優れる。水酸基当量が前記上限値以下であると、エポキシ樹脂との反応性がより優れる。
本カーボネート樹脂の水酸基当量は、本カーボネート樹脂の数平均分子量(Mn)を水酸基の数で割った値である。
The hydroxyl group equivalent of this carbonate resin is preferably 500 to 3000 g / eq, more preferably 800 to 2000 g / eq. When the hydroxyl group equivalent is at least the above lower limit value, the dielectric property is more excellent. When the hydroxyl group equivalent is not more than the above upper limit value, the reactivity with the epoxy resin is more excellent.
The hydroxyl group equivalent of the carbonate resin is a value obtained by dividing the number average molecular weight (Mn) of the carbonate resin by the number of hydroxyl groups.

<本カーボネート樹脂の製造方法>
本カーボネート樹脂は、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応(一次反応)させて一次反応生成物を得て、得られた一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応(二次反応)させることにより製造できる。
一次反応および二次反応はそれぞれエステル交換反応である。二次反応で芳香族ジオール化合物を反応させることにより、末端水酸基がArに結合した水酸基(フェノール性水酸基)であるカーボネート樹脂が得られる。
<Manufacturing method of this carbonate resin>
This carbonate resin is obtained by reacting a carbon dioxide diester with an alicyclic dimethanol compound, or at least one fragrance selected from the group consisting of a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, a bisphenol compound and a biphenol compound. A primary reaction product is obtained by reacting with a group diol compound (primary reaction), and the obtained primary reaction product and at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound are combined. It can be produced by reacting (secondary reaction).
The primary reaction and the secondary reaction are transesterification reactions, respectively. By reacting the aromatic diol compound in the secondary reaction, a carbonate resin having a terminal hydroxyl group bonded to Ar (phenolic hydroxyl group) can be obtained.

脂環式ジメタノール化合物、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物はそれぞれ前記と同様である。
炭酸ジエステルとしては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等のジアルキルカーボネート(好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基を有するもの)、炭素数1〜4のアルキレンカーボネート(例えばエチレンカーボネート)、炭酸ジフェニル等が挙げられる。これらの炭酸ジエステルはいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。ジオール類(脂環式ジメタノール化合物、芳香族ジオール化合物)との反応性が良いこと、比較的安価で、取り扱いが容易であることから、炭酸ジフェニルが好ましい。
The alicyclic dimethanol compound, bisphenol compound, and biphenol compound are the same as described above.
Examples of the carbonic acid diester include dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate (preferably those having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), alkylene carbonates having 1 to 4 carbon atoms (for example, ethylene carbonate), diphenyl carbonate and the like. Be done. Any one of these carbonic acid diesters may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Diphenyl carbonate is preferable because it has good reactivity with diols (alicyclic dimethanol compound, aromatic diol compound), is relatively inexpensive, and is easy to handle.

一次反応は、例えば、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、必要に応じて芳香族ジオール化合物とを溶融混合し、触媒を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
炭酸ジエステル、脂環式ジメタノール化合物、芳香族ジオール化合物はそれぞれ、1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
The primary reaction is carried out, for example, by melting and mixing a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, and an aromatic diol compound, if necessary, adding a catalyst, and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time. can.
The carbonic acid diester, the alicyclic dimethanol compound, and the aromatic diol compound may be used alone or in combination of two or more.

一次反応において、脂環式ジメタノール化合物と芳香族ジオール化合物との合計量(芳香族ジオール化合物を反応させない場合は脂環式ジメタノール化合物のみの量)に対する炭酸ジエステルのモル比(炭酸ジエステル/(脂環式ジメタノール化合物+芳香族ジオール化合物))は、1.05〜3.00が好ましく、1.20〜2.50がより好ましい。炭酸ジエステルの比率が低すぎると、一次反応生成物中に、脂環式ジメタノール化合物の水酸基が多く残留してしまい、二次反応の際に、末端水酸基がフェノール性水酸基ではない化合物が副生するおそれがある。炭酸ジエステルの比率が高すぎると、二次反応に使用する芳香族ジオール化合物の使用量が多くなり、脂環式ジメタノール化合物由来の構造による誘電正接の低減効果が不十分になるおそれがある。 In the primary reaction, the molar ratio of carbon dioxide diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound (the amount of the alicyclic dimethanol compound only when the aromatic diol compound is not reacted) (carbonic acid diester / ( The alicyclic dimethanol compound + aromatic diol compound)) is preferably 1.05 to 3.00, more preferably 1.20 to 2.50. If the ratio of the carbonic acid diester is too low, a large amount of hydroxyl groups of the alicyclic dimethanol compound will remain in the primary reaction product, and during the secondary reaction, compounds whose terminal hydroxyl groups are not phenolic hydroxyl groups will be produced as by-products. There is a risk of If the ratio of the carbonic acid diester is too high, the amount of the aromatic diol compound used in the secondary reaction increases, and the effect of reducing the dielectric loss tangent due to the structure derived from the alicyclic dimethanol compound may be insufficient.

一次反応において、脂環式ジメタノール化合物と芳香族ジオール化合物との合計量(100モル%)のうち、脂環式ジメタノール化合物の割合は、20〜100モル%が好ましく、50〜90モル%がより好ましい。 In the primary reaction, the ratio of the alicyclic dimethanol compound to the total amount (100 mol%) of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound is preferably 20 to 100 mol%, preferably 50 to 90 mol%. Is more preferable.

触媒としては、反応(エステル交換反応)が進行すれば特に制限はない。具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、マグネシウム金属、アルキル亜鉛化合物(例えばジ−n−ブチル亜鉛)、水酸化リチウム、酢酸リチウム、チタンエステル(例えばテトラ−n−ブチルチタネート)、酸化亜鉛、酸化鉛、二酸化マンガン、テトラアルキルオルソチタネート、酢酸亜鉛、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウム、種々のアルコキシド(例えばカリウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキシド)、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウム)、アルカリ金属の水素化物(例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム)、アルカリ金属水酸化物(例えば水酸化リチウムや水酸化ナトリウム)、金属ハロゲン化物等が挙げられる。 The catalyst is not particularly limited as long as the reaction (transesterification reaction) proceeds. Specific examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium metal, alkyl zinc compounds (eg di-n-butyl zinc), lithium hydroxide, lithium acetate, titanium esters (eg tetra-n-butyl titanate), zinc oxide. , Lead oxide, manganese dioxide, tetraalkyl orthotitanate, zinc acetate, antimony oxide, germanium oxide, various alkoxides (eg potassium-t-butoxide, sodium methoxydo), alkali metals (eg lithium, sodium), hydrogen alkali metals Examples thereof include products (for example, lithium hydride and sodium hydride), alkali metal hydroxides (for example, lithium hydroxide and sodium hydroxide), and metal halides.

触媒の使用量は、炭酸ジエステル類に対して、1.0〜0.00001質量%が好ましく、0.1〜0.0001質量%がより好ましい。触媒の使用量がこの範囲よりも多い場合には、生成した樹脂に濁りが生ずることがあり、この範囲内よりも少ない場合には、重合速度が遅くなり、高重合度の樹脂が得られないことがある。 The amount of the catalyst used is preferably 1.0 to 0.00001% by mass, more preferably 0.1 to 0.0001% by mass, based on the carbonic acid diesters. If the amount of the catalyst used is more than this range, the produced resin may become turbid, and if it is less than this range, the polymerization rate becomes slow and a resin with a high degree of polymerization cannot be obtained. Sometimes.

一次反応の反応温度は、130〜250℃が好ましく、150〜200℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5〜10時間であってよい。
一次反応は、常圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。
一次反応は、反応(エステル交換反応)で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行ってもよい。
The reaction temperature of the primary reaction is preferably 130 to 250 ° C, more preferably 150 to 200 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction will not proceed, and if it is too high, it will be difficult to control the reaction, and there is a risk that the resin cannot be obtained stably. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The primary reaction may be carried out under normal pressure or under reduced pressure.
The primary reaction may be carried out while removing alcohols and phenols by-produced in the reaction (transesterification reaction) under reduced pressure.

二次反応は、例えば、一次反応で生成した一次反応生成物に芳香族ジオール化合物を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
二次反応で用いる芳香族ジオール化合物は、一次反応で用いた芳香族ジオール化合物と同じであってもよく異なっていてもよい。芳香族ジオール化合物は、1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
二次反応において反応させる芳香族ジオール化合物の量は、一次反応で用いた炭酸ジエステル(100モル%)に対し、5〜80モル%が好ましく、15〜60モル%がより好ましい。
The secondary reaction can be carried out, for example, by adding an aromatic diol compound to the primary reaction product produced in the primary reaction and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time.
The aromatic diol compound used in the secondary reaction may be the same as or different from the aromatic diol compound used in the primary reaction. One type of aromatic diol compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The amount of the aromatic diol compound to be reacted in the secondary reaction is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 15 to 60 mol%, based on the carbonic acid diester (100 mol%) used in the primary reaction.

二次反応の反応温度は、130〜250℃が好ましく、170〜230℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5〜10時間であってよい。
二次反応は、反応(エステル交換反応)で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行うことが好ましい。
二次反応における減圧度は、反応で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去できれば特に制限はない。例えば、80〜5mmHgであってよく、20〜5mmHgであってよい。
二次反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
The reaction temperature of the secondary reaction is preferably 130 to 250 ° C, more preferably 170 to 230 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction will not proceed, and if it is too high, it will be difficult to control the reaction, and there is a risk that the resin cannot be obtained stably. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The secondary reaction is preferably carried out while removing alcohols and phenols by-produced in the reaction (transesterification reaction) under reduced pressure.
The degree of decompression in the secondary reaction is not particularly limited as long as alcohols and phenols by-produced in the reaction can be removed under reduced pressure. For example, it may be 80 to 5 mmHg and may be 20 to 5 mmHg.
After completion of the secondary reaction, the reaction product may be washed with water, concentrated, or the like, if necessary.

本カーボネート樹脂は、末端水酸基がArに結合した水酸基(フェノール性水酸基)であるため、エポキシ基との反応性に優れ、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤(エポキシ樹脂硬化剤)として用いることができる。エポキシ樹脂の硬化は、加熱により行うことができる。
また、本カーボネート樹脂を用いてエポキシ樹脂を硬化させた硬化物は、エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物に比べて、低誘電率、低誘電正接である。また、ガラス転移温度、熱分解温度、熱線膨張率等の熱的特性も十分に良好である。
Since this carbonate resin is a hydroxyl group (phenolic hydroxyl group) in which the terminal hydroxyl group is bonded to Ar, it has excellent reactivity with an epoxy group and can be used as a curing agent (epoxy resin curing agent) for curing the epoxy resin. can. The epoxy resin can be cured by heating.
Further, the cured product obtained by curing the epoxy resin using the present carbonate resin has a lower dielectric constant and a lower dielectric loss tangent than the cured product obtained by curing the epoxy resin with a phenol novolac resin. Further, the thermal characteristics such as the glass transition temperature, the thermal decomposition temperature, and the coefficient of linear thermal expansion are also sufficiently good.

本カーボネート樹脂を用いてエポキシ樹脂を硬化させる際には、以下の(1)〜(2)の反応が生じて硬化していると考えられる。
(1)エポキシ基と水酸基との反応。
(2)エポキシ基同士の反応。
When the epoxy resin is cured using this carbonate resin, it is considered that the following reactions (1) and (2) occur and the epoxy resin is cured.
(1) Reaction of epoxy group and hydroxyl group.
(2) Reaction between epoxy groups.

さらに、本カーボネート樹脂は、一般的にエポキシ樹脂を溶解させるために用いられているような溶剤に対する溶解性に優れる。したがって、本カーボネート樹脂およびエポキシ樹脂が共に溶剤に溶解した樹脂ワニスを得ることができる。
前記の溶剤としては、メチルエチルケトンのような極性のあるものが一般的である。
Further, the present carbonate resin has excellent solubility in a solvent generally used for dissolving an epoxy resin. Therefore, a resin varnish in which both the carbonate resin and the epoxy resin are dissolved in a solvent can be obtained.
As the solvent, a polar solvent such as methyl ethyl ketone is generally used.

本カーボネート樹脂の用途としては、特に制限はない。例えば公知の熱硬化性成形材料の用途と同様であってよく、例えば封止材料、フィルム材料、積層材料等が挙げられる。より具体的な用途の例としては、半導体封止材料、電子部品の封止用樹脂材料、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂材料、ビルドアップ積層板材料、レジスト材料、液晶のカラーフィルター用樹脂材料、塗料、各種コーティング剤、接着剤、繊維強化プラスチック(FRP)材料等が挙げられる。 The use of this carbonate resin is not particularly limited. For example, it may be similar to the use of a known thermosetting molding material, and examples thereof include a sealing material, a film material, and a laminated material. More specific examples of applications include semiconductor encapsulation materials, resin materials for encapsulation of electronic parts, electrical insulation materials, resin materials for copper-clad laminates, build-up laminate materials, resist materials, and liquid crystal color filters. Examples include resin materials, paints, various coating agents, adhesives, fiber reinforced plastic (FRP) materials and the like.

≪樹脂ワニス≫
本発明の樹脂ワニス(以下、「本樹脂ワニス」ともいう。)は、本カーボネート樹脂と、エポキシ樹脂と、溶剤とを含む。
本カーボネート樹脂は、エポキシ樹脂硬化剤として機能する。「エポキシ樹脂硬化剤」とは、前記エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤を意味する。
本樹脂ワニスは、硬化反応触媒をさらに含むことができる。
本樹脂ワニスは、本カーボネート樹脂、エポキシ樹脂、溶剤および硬化反応触媒以外の他の成分をさらに含むことができる。
≪Resin varnish≫
The resin varnish of the present invention (hereinafter, also referred to as “the present resin varnish”) contains the present carbonate resin, an epoxy resin, and a solvent.
This carbonate resin functions as an epoxy resin curing agent. The "epoxy resin curing agent" means a curing agent for curing the epoxy resin.
The resin varnish may further contain a curing reaction catalyst.
The resin varnish may further contain components other than the carbonate resin, epoxy resin, solvent and curing reaction catalyst.

<エポキシ樹脂>
エポキシ樹脂としては、特に限定されず、公知のエポキシ樹脂であってよく、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、リン原子含有エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
<Epoxy resin>
The epoxy resin is not particularly limited and may be a known epoxy resin. For example, a phenol novolac type epoxy resin, an orthocresol novolac type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a biphenol type epoxy resin, etc. Naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, xylylene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, stilben type epoxy resin, sulfur atom-containing epoxy resin, Examples include a phosphorus atom-containing epoxy resin. Any one of these epoxy resins may be used alone, or two or more of these epoxy resins may be used in combination.

本樹脂ワニス中のエポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂のエポキシ基と本カーボネート樹脂の水酸基とのモル比(エポキシ基/水酸基)が、0.8〜1.2となる量が好ましい。エポキシ基/水酸基は、0.9〜1.1がより好ましく、0.95〜1.05がさらに好ましい。エポキシ基/水酸基が前記範囲の下限値以上であれば、本樹脂ワニスのゲル化温度を低く、例えば200℃以下にすることができる。エポキシ基/水酸基が前記範囲の下限値以上であれば、本樹脂ワニスの硬化物が、より高ガラス転移温度、高熱分解温度、低線膨張係数、低誘電率、低誘電正接を示すものとなる。 The content of the epoxy resin in the resin varnish is preferably such that the molar ratio (epoxy group / hydroxyl group) of the epoxy group of the epoxy resin to the hydroxyl group of the carbonate resin is 0.8 to 1.2. The epoxy group / hydroxyl group is more preferably 0.9 to 1.1, and even more preferably 0.95 to 1.05. When the epoxy group / hydroxyl group is at least the lower limit of the above range, the gelation temperature of the resin varnish can be lowered, for example, 200 ° C. or less. When the epoxy group / hydroxyl group is equal to or higher than the lower limit of the above range, the cured product of this resin varnish exhibits a higher glass transition temperature, a higher thermal decomposition temperature, a lower linear expansion coefficient, a lower dielectric constant, and a lower dielectric loss tangent. ..

<溶剤>
溶剤としては、本樹脂ワニスに含まれる成分(本カーボネート樹脂、エポキシ樹脂、必要に応じて硬化反応触媒等)を溶解するものであれば特に制限はない。
溶剤として典型的には、極性溶剤が用いられる。極性溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルアミルケトン、イソホロン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、メタノール、エタノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの溶剤はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。前記の中でも、ケトン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトンが特に好ましい。
<Solvent>
The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the components contained in the resin varnish (the carbonate resin, the epoxy resin, the curing reaction catalyst, etc., if necessary).
A polar solvent is typically used as the solvent. Examples of the polar solvent include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl amyl ketone, isophorone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, and cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, and N-. Examples thereof include methyl-2-pyrrolidone, methanol, ethanol, butanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, tetrahydrofuran and the like. Any one of these solvents may be used alone, or two or more of these solvents may be used in combination. Among the above, a ketone solvent is preferable, and methyl ethyl ketone is particularly preferable.

本樹脂ワニス中の溶剤の含有量は本樹脂ワニスの固形分濃度に応じて適宜設定される。
本樹脂ワニスの固形分濃度は、用途によっても異なるが、20〜80質量%が好ましく、50〜70質量%がより好ましい。
本樹脂ワニスの固形分濃度は、本樹脂ワニスの全質量に対する、本樹脂ワニスから溶剤を除いた質量の割合である。
The content of the solvent in the resin varnish is appropriately set according to the solid content concentration of the resin varnish.
The solid content concentration of the present resin varnish varies depending on the application, but is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 50 to 70% by mass.
The solid content concentration of the resin varnish is the ratio of the mass of the resin varnish excluding the solvent to the total mass of the resin varnish.

<硬化反応触媒>
硬化反応触媒としては、水酸基とエポキシ基との反応を促進する作用を有するものであればよく、例えば、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール化合物、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。リン系化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリス−2,6−ジメトキシフェニルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。第3級アミンとしては、2−ジメチルアミノメチルフェノール、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等が挙げられる。イミダゾール化合物としては、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、1−ビニル−2−メチルイミダゾール、1−プロピル−2−メチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、1−シアノメチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール等が挙げられる。
<Curing reaction catalyst>
The curing reaction catalyst may be any catalyst having an action of accelerating the reaction between the hydroxyl group and the epoxy group, and for example, a phosphorus compound, a tertiary amine, an imidazole compound, an organic acid metal salt, a Lewis acid, an amine complex salt and the like. Can be mentioned. Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine, tris-2,6-dimethoxyphenylphosphine, tri-p-tolylphosphine, triphenyl phosphite and the like. Examples of the tertiary amine include 2-dimethylaminomethylphenol, benzyldimethylamine, α-methylbenzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and the like. Examples of the imidazole compound include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-. Phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 1-vinyl-2-methylimidazole , 1-propyl-2-methylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanomethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl -2-phenylimidazole and the like can be mentioned.

これらの硬化反応触媒はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
本樹脂ワニス中の硬化反応触媒の含有量は、エポキシ樹脂に対し、0.1〜5.0質量%が好ましい。
Any one of these curing reaction catalysts may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
The content of the curing reaction catalyst in the present resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the epoxy resin.

<他の成分>
他の成分としては、例えば、無機フィラー(例えばカーボンブラック、ガラスクロス、シリカ等)、ワックス、難燃剤、カップリング剤等、本カーボネート樹脂以外のエポキシ樹脂硬化剤(以下、他の硬化剤ともいう。)、充填材(フィラー)、離型剤、表面処理剤、着色剤、可撓性付与剤等が挙げられる。
他の硬化剤としては、エポキシ樹脂硬化剤として従来公知のものを用いることができ、例えばフェノールノボラック樹脂等のノボラック型樹脂等が挙げられる。
本樹脂ワニス中の他の硬化剤の含有量は、本発明の効果の点では、本樹脂ワニスの固形分(100質量%)に対し、10質量%以下が好ましく、0質量%が特に好ましい。
本樹脂ワニスの固形分は、本樹脂ワニスから溶剤を除いた部分である。
<Other ingredients>
Examples of other components include inorganic fillers (for example, carbon black, glass cloth, silica, etc.), waxes, flame retardants, coupling agents, and other epoxy resin curing agents other than the present carbonate resin (hereinafter, also referred to as other curing agents). ), Filler, mold release agent, surface treatment agent, colorant, flexibility imparting agent and the like.
As the other curing agent, conventionally known epoxy resin curing agents can be used, and examples thereof include novolac type resins such as phenol novolac resin.
The content of the other curing agent in the resin varnish is preferably 10% by mass or less, particularly preferably 0% by mass, based on the solid content (100% by mass) of the present resin varnish in terms of the effect of the present invention.
The solid content of the resin varnish is the portion of the resin varnish from which the solvent has been removed.

充填材(フィラー)としては、カーボンブラック、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、タルク、ケイ酸カルシウム粉、ケイ酸ジルコニウム粉、アルミナ粉、炭酸カルシウム粉等が挙げられ、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉が好ましい。
離型剤としては、例えばカルナバワックス等の各種ワックス類等が挙げられる。
表面処理剤としては、公知のシランカップリング剤等が挙げられる。
着色剤としては、カーボンブラック等が挙げられる。
可撓性付与剤としては、シリコーン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリルゴム等が挙げられる。
Examples of the filler include carbon black, crystalline silica powder, molten silica powder, quartz glass powder, talc, calcium silicate powder, zirconium silicate powder, alumina powder, calcium carbonate powder and the like, and are crystalline. Silica powder and meltable silica powder are preferable.
Examples of the release agent include various waxes such as carnauba wax.
Examples of the surface treatment agent include known silane coupling agents and the like.
Examples of the colorant include carbon black and the like.
Examples of the flexibility-imparting agent include silicone resin, butadiene-acrylonitrile rubber, and the like.

<樹脂ワニスの製造方法>
本樹脂ワニスは、例えば、本カーボネート樹脂とエポキシ樹脂と溶剤とを混合することにより製造できる。本カーボネート樹脂とエポキシ樹脂と溶剤とを混合する際に、または混合した後、必要に応じて、硬化反応触媒や他の成分をさらに混合してもよい。
本カーボネート樹脂は、上述の製造方法により製造できる。エポキシ樹脂、硬化反応触媒、他の成分は、市販品を用いることができる。各成分の混合は、常法により行うことができる。
<Manufacturing method of resin varnish>
The present resin varnish can be produced, for example, by mixing the present carbonate resin, an epoxy resin, and a solvent. When or after mixing the carbonate resin, the epoxy resin, and the solvent, a curing reaction catalyst or other components may be further mixed, if necessary.
The carbonate resin can be produced by the above-mentioned production method. Commercially available products can be used as the epoxy resin, the curing reaction catalyst, and other components. Mixing of each component can be carried out by a conventional method.

本樹脂ワニスは、本カーボネート樹脂とエポキシ樹脂とを含むため、加熱することによって硬化させ、硬化物とすることができる。
本樹脂ワニスを硬化させる際の加熱温度(硬化温度)は60〜250℃が好ましい。
硬化操作の一例としては、前記の好適な温度で30秒間以上1時間以下の前硬化を行い、溶剤を除去し、その後さらに、前記の好適な温度で1〜20時間の後硬化を行う方法が挙げられる。
Since the resin varnish contains the carbonate resin and the epoxy resin, it can be cured by heating to obtain a cured product.
The heating temperature (curing temperature) when curing the resin varnish is preferably 60 to 250 ° C.
As an example of the curing operation, a method of pre-curing at the above-mentioned suitable temperature for 30 seconds or more and 1 hour or less, removing the solvent, and then further performing post-curing at the above-mentioned suitable temperature for 1 to 20 hours is performed. Can be mentioned.

本樹脂ワニスの用途としては、特に制限はない。例えば公知の熱硬化性成形材料の用途と同様であってよく、例えば封止材料、フィルム材料、積層材料等が挙げられる。より具体的な用途の例としては、半導体封止材料、電子部品の封止用樹脂材料、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂材料、ビルドアップ積層板材料、レジスト材料、液晶のカラーフィルター用樹脂材料、塗料、各種コーティング剤、接着剤、繊維強化プラスチック(FRP)材料等が挙げられる。 The use of this resin varnish is not particularly limited. For example, it may be similar to the use of a known thermosetting molding material, and examples thereof include a sealing material, a film material, and a laminated material. More specific examples of applications include semiconductor encapsulation materials, resin materials for encapsulation of electronic parts, electrical insulation materials, resin materials for copper-clad laminates, build-up laminate materials, resist materials, and liquid crystal color filters. Examples include resin materials, paints, various coating agents, adhesives, fiber reinforced plastic (FRP) materials and the like.

本樹脂ワニスの硬化物は、エポキシ樹脂硬化剤として本カーボネート樹脂を用いているため、低誘電率、低誘電正接であり、絶縁性に優れる。また、この硬化物は、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率あり、耐熱性にも優れる。そのため、本樹脂ワニスは、電子部品に用いられる積層板の製造用の材料として有用である。 Since the cured product of this resin varnish uses this carbonate resin as an epoxy resin curing agent, it has a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, and is excellent in insulating properties. In addition, this cured product has a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, a low coefficient of thermal expansion, and is excellent in heat resistance. Therefore, this resin varnish is useful as a material for manufacturing laminated boards used for electronic parts.

本樹脂ワニスの硬化物の比誘電率は、3.50以下が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の誘電正接は、0.008以下が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物のガラス転移温度は、150℃以上が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の5%熱分解温度は、300℃以上が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の常温線膨張係数は、100ppm以下が好ましい。
比誘電率、誘電正接、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数はそれぞれ、後述する実施例に記載の方法により測定される。
The relative permittivity of the cured product of this resin varnish is preferably 3.50 or less.
The dielectric loss tangent of the cured product of the present resin varnish is preferably 0.008 or less.
The glass transition temperature of the cured product of this resin varnish is preferably 150 ° C. or higher.
The 5% thermal decomposition temperature of the cured product of the present resin varnish is preferably 300 ° C. or higher.
The normal temperature linear expansion coefficient of the cured product of this resin varnish is preferably 100 ppm or less.
The relative permittivity, dielectric loss tangent, glass transition temperature, 5% thermal decomposition temperature, and room temperature linear expansion coefficient are each measured by the methods described in Examples described later.

≪積層板の製造方法≫
本発明の積層板の製造方法では、本樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、本樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る。
≪Manufacturing method of laminated board≫
In the method for producing a laminated board of the present invention, the fibrous base material is impregnated with the resin varnish, and the fibrous base material impregnated with the resin varnish is heated and pressed to be cured to obtain a laminated board.

本発明の積層板の製造方法により製造される積層板は、繊維質基材と本樹脂ワニスの硬化物とを含む繊維強化樹脂層を備える。前記積層板が備える繊維強化樹脂層の数は1層でもよく2層以上でもよい。
前記積層板は、前記繊維強化樹脂層以外の他の層をさらに備えてもよい。他の層としては、例えば銅箔等の金属箔層が挙げられる。
The laminated board produced by the method for producing a laminated board of the present invention includes a fiber-reinforced resin layer containing a fibrous base material and a cured product of the present resin varnish. The number of fiber-reinforced resin layers included in the laminated board may be one layer or two or more layers.
The laminated board may further include a layer other than the fiber reinforced resin layer. Examples of the other layer include a metal foil layer such as a copper foil.

繊維質基材としては、例えばガラス繊維、炭素繊維、セラミック繊維、ステンレス繊維等の無機繊維;綿、麻、紙等の天然繊維;ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等の合成有機繊維;等が挙げられる。これらはいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
繊維質基材の形状は特に限定されず、例えば短繊維、ヤーン、マット、シート等が挙げられる。
Examples of the fibrous base material include inorganic fibers such as glass fibers, carbon fibers, ceramic fibers and stainless fibers; natural fibers such as cotton, linen and paper; synthetic organic fibers such as polyester resin and polyamide resin; and the like. Any one of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
The shape of the fibrous base material is not particularly limited, and examples thereof include short fibers, yarns, mats, and sheets.

本発明の積層板の製造方法の一実施形態として、本樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、乾燥(溶剤を除去)してプリプレグを得て、必要に応じて前記プリプレグを複数枚積層し、必要に応じて前記プリプレグまたはその積層物の片面又は両面にさらに金属箔を積層し、加熱加圧して硬化させる方法が挙げられる。 As one embodiment of the method for producing a laminated board of the present invention, the fibrous base material is impregnated with the resin varnish and dried (removing the solvent) to obtain a prepreg, and a plurality of the prepregs are laminated as needed. If necessary, a method of further laminating a metal foil on one side or both sides of the prepreg or a laminate thereof and heating and pressurizing the prepreg or a laminate thereof to cure the prepreg.

繊維質基材に含浸させる本樹脂ワニスの量としては、特に限定されない。例えば、本樹脂ワニスの固形分量が、繊維質基材(100質量%)に対して30〜50質量%程度とされる。
本樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧する際の加熱温度は、前述の硬化温度が好ましい。加圧条件としては、2〜20kN/mが好ましい。
The amount of the resin varnish impregnated in the fibrous base material is not particularly limited. For example, the solid content of the present resin varnish is about 30 to 50% by mass with respect to the fibrous base material (100% by mass).
The heating temperature at the time of heating and pressurizing the fibrous base material impregnated with the resin varnish is preferably the above-mentioned curing temperature. The pressurizing condition is preferably 2 to 20 kN / m 2.

本発明の積層板の製造方法により得られる積層板は、繊維質基材と本樹脂ワニスの硬化物とを含む繊維強化樹脂層を備えており、この繊維強化樹脂層は、前記硬化物が低誘電率、低誘電正接であることから、絶縁性に優れる。また、繊維強化樹脂層は、前記硬化物が高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率であることから、耐熱性にも優れる。 The laminated board obtained by the method for producing a laminated board of the present invention includes a fiber-reinforced resin layer containing a fibrous base material and a cured product of the present resin varnish, and the fiber-reinforced resin layer has a low cured product. Since it has a dielectric constant and a low dielectric loss tangent, it has excellent insulating properties. Further, the fiber-reinforced resin layer is also excellent in heat resistance because the cured product has a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low coefficient of thermal expansion.

以下に、本発明を実施例によってさらに詳しく説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
以下の各例において「%」は、特に限定のない場合は「質量%」を示す。
以下の各例で用いた測定方法を以下に示す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the examples.
In each of the following examples, "%" indicates "mass%" unless otherwise specified.
The measurement methods used in each of the following examples are shown below.

[樹脂の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、分散度(Mw/Mn)]
下記のGPC装置及びカラムを使用し、標準物質をポリスチレンとして重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定し、分散度(Mw/Mn)を求めた。
GPC装置:東ソー社製のHLC8120GPC。
カラム:東ソー社製のTSKgel(登録商標) G3000H+G2000H+G2000H。
[Weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), dispersity (Mw / Mn) of resin]
Using the following GPC apparatus and column, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) were measured using polystyrene as a standard substance, and the dispersity (Mw / Mn) was determined.
GPC device: HLC8120 GPC manufactured by Tosoh Corporation.
Column: TSKgel (registered trademark) G3000H + G2000H + G2000H manufactured by Tosoh Corporation.

[樹脂の軟化点]
JIS K 6910に従って軟化点(℃)を測定した。
[Resin softening point]
The softening point (° C.) was measured according to JIS K 6910.

[樹脂の溶融粘度]
150℃に設定した溶融粘度計(ブルックフィールド社製CAP2000 VISCOMETER)により、150℃における溶融粘度(P)を測定した。
[Melting viscosity of resin]
The melt viscosity (P) at 150 ° C. was measured with a melt viscometer (CAP2000 VISCOMETER manufactured by Brookfield) set at 150 ° C.

[ガラス転移温度]
得られた成形物を幅10.0mm×長さ5.5mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製DMA7100)を用い、2℃/分の昇温速度で30℃〜400℃の範囲でtanδを測定し、ガラス転移温度(℃)を求めた。
[Glass-transition temperature]
The obtained molded product was processed into a size of 10.0 mm in width × 5.5 mm in length × 1.5 mm in thickness to prepare a measurement sample. For this measurement sample, tan δ was measured in the range of 30 ° C. to 400 ° C. at a heating rate of 2 ° C./min using a viscoelasticity measuring device (DMA7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) to determine the glass transition temperature (° C.). rice field.

[5%熱分解温度]
得られた成形物を微粉砕し、測定試料とした。この測定試料について、示差熱熱重量同時測定装置(セイコーインスツルメンツ社製TG/DTA6300)により、エアー雰囲気下で10℃/分の昇温速度で30〜800℃の範囲で熱重量減量を測定し、5%熱分解温度(℃)を求めた。
[5% pyrolysis temperature]
The obtained molded product was finely pulverized and used as a measurement sample. For this measurement sample, the thermogravimetric weight loss was measured in the range of 30 to 800 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in an air atmosphere using a differential thermogravimetric simultaneous measuring device (TG / DTA6300 manufactured by Seiko Instruments Inc.). The 5% thermal decomposition temperature (° C.) was determined.

[常温線膨張係数]
得られた成形物を幅5.0mm×長さ5.0mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、熱機械分析装置(日立ハイテクサイエンス社製TMA7100)を用いて2℃/分の昇温速度で30℃〜400℃の範囲で硬化物の熱膨張を測定し、常温線膨張係数(ppm)を求めた。常温線膨張係数は、30℃での線膨張係数を示す。
[Normal temperature linear expansion coefficient]
The obtained molded product was processed into a size of width 5.0 mm × length 5.0 mm × thickness 1.5 mm to prepare a measurement sample. For this measurement sample, the thermal expansion of the cured product was measured in the range of 30 ° C to 400 ° C at a heating rate of 2 ° C / min using a thermomechanical analyzer (TMA7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.), and the coefficient of linear thermal expansion was measured. (Ppm) was determined. The coefficient of linear expansion at room temperature indicates the coefficient of linear expansion at 30 ° C.

[比誘電率、誘電正接]
得られた成形物を幅50.0mm×長さ50.0mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、空洞共振摂動法により周波数1GHzにおける比誘電率(εr)および誘電正接(tanδ)を求めた。
[Relative permittivity, dielectric loss tangent]
The obtained molded product was processed into a size of width 50.0 mm × length 50.0 mm × thickness 1.5 mm to prepare a measurement sample. For this measurement sample, the relative permittivity (ε r ) and the dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 GHz were determined by the cavity resonance perturbation method.

<合成例1:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ビスフェノールFを使用したカーボネート樹脂の合成>
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lの反応容器に炭酸ジフェニル375.0g(1.75モル)、トリシクロデカンジメタノール171.8g(0.88モル)を仕込み、100℃で溶融混合した。次いで、48%KOH水溶液0.04gを添加し、発熱に注意しながら180℃まで昇温し、1時間常圧下で反応させた。次いで、130℃まで冷却し、ビスフェノールF(群栄化学工業社製BPF−SG)213.6g(1.07モル)を添加し、180℃まで昇温し、1時間常圧下で反応させた。その後、系内を180℃で維持しながら10mmHgまでゆっくり減圧した。次いで、減圧下のまま220℃まで昇温し、2時間減圧下で反応させた。その後、反応生成物を水洗、濃縮し、脂環骨格を含むカーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は101.9℃、150℃における溶融粘度は37.6Pであった。ゲル浸透クロマトグラフ分析(以下、GPCと略記することもある。)によるMwは4751、Mnは2419、Mw/Mnは1.964、式(1)で表される化合物の含有量は96.3%であった。この樹脂の水酸基当量(g/eq)は、Mnの半分である1209.5とした。
<Synthesis Example 1: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, and bisphenol F>
375.0 g (1.75 mol) of diphenyl carbonate and 171.8 g (0.88 mol) of tricyclodecanedimethanol were charged into a 1 L reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer and a cooling tube, and melted at 100 ° C. Mixed. Then, 0.04 g of a 48% KOH aqueous solution was added, the temperature was raised to 180 ° C. while paying attention to heat generation, and the reaction was carried out under normal pressure for 1 hour. Then, the mixture was cooled to 130 ° C., 213.6 g (1.07 mol) of bisphenol F (BPF-SG manufactured by Gun Ei Chemical Industry Co., Ltd.) was added, the temperature was raised to 180 ° C., and the reaction was carried out under normal pressure for 1 hour. Then, the pressure was slowly reduced to 10 mmHg while maintaining the inside of the system at 180 ° C. Then, the temperature was raised to 220 ° C. under reduced pressure, and the reaction was carried out under reduced pressure for 2 hours. Then, the reaction product was washed with water and concentrated to obtain a carbonate resin containing an alicyclic skeleton. The softening point of this resin was 101.9 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 37.6P. According to gel permeation chromatography analysis (hereinafter, may be abbreviated as GPC), Mw is 4751, Mn is 2419, Mw / Mn is 1.964, and the content of the compound represented by the formula (1) is 96.3. %Met. The hydroxyl group equivalent (g / eq) of this resin was 1209.5, which is half of Mn.

<合成例2:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ビスフェノールFを使用したカーボネート樹脂の合成>
合成例1においてビスフェノールFの213.6gに代えてビスフェノールAの243.8g(1.07モル)を使用したこと以外は合成例1と同様の方法でカーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は109.6℃、150℃における溶融粘度は63.2Pであった。GPCによるMwは5617、Mnは2973、Mw/Mnは1.890、式(1)で表される化合物の含有量は97.1%であった。この樹脂の水酸基当量は、Mnの半分である1486.5とした。
<Synthesis Example 2: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, and bisphenol F>
A carbonate resin was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 243.8 g (1.07 mol) of bisphenol A was used instead of 213.6 g of bisphenol F in Synthesis Example 1. The softening point of this resin was 109.6 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 63.2P. According to GPC, Mw was 5617, Mn was 2973, Mw / Mn was 1.890, and the content of the compound represented by the formula (1) was 97.1%. The hydroxyl group equivalent of this resin was 1486.5, which is half of Mn.

<実施例1>
合成例1で合成したカーボネート樹脂(水酸基当量:1209.5g/eq)の100gと、エポキシ樹脂としてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬社製のEOCN1020、エポキシ当量:199g/eq)の16.5gと、硬化反応触媒としてトリフェニルホスフィンの2.3g(全樹脂量に対して2%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、180℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。樹脂分とは、成形物の総質量に対する樹脂(硬化物)の割合を示す。
<Example 1>
16. 100 g of the carbonate resin (hydroxyl equivalent: 1209.5 g / eq) synthesized in Synthesis Example 1 and orthocresol novolac type epoxy resin (EOCN1020 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent: 199 g / eq) as the epoxy resin. 5 g and 2.3 g of triphenylphosphine as a curing reaction catalyst (2% with respect to the total amount of resin) were dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked and press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 180 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm. The resin content indicates the ratio of the resin (cured product) to the total mass of the molded product.

<実施例2>
実施例1においてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の16.5gに代えてフェノールビフェニレン型エポキシ樹脂(日本化薬社製のNC−3000H、エポキシ当量:290g/eq)の24.0gを使用したこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 2>
Except that 24.0 g of phenol biphenylene type epoxy resin (NC-3000H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent: 290 g / eq) was used instead of 16.5 g of orthocresol novolac type epoxy resin in Example 1. A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 1 to obtain a molded product.

<実施例3>
実施例1においてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の16.5gに代えて脂環型エポキシ樹脂(ダイセル社製のセロキサイド2021P(以下、CEL2021Pとも記す。)、エポキシ当量:201.7g/eq)の16.7gを使用したこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 3>
In Example 1, instead of 16.5 g of orthocresol novolac type epoxy resin, 16. A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that 7 g was used, and a molded product was obtained.

<実施例4>
合成例2で合成したカーボネート樹脂(水酸基当量:1486.5g/eq)の100gと、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬社製のEOCN1020、エポキシ当量:199g/eq)の13.4gと、硬化反応触媒としてトリフェニルホスフィンの2.3g(全樹脂量に対して2%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、180℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
<Example 4>
100 g of the carbonate resin (hydroxyl equivalent: 1486.5 g / eq) synthesized in Synthesis Example 2 and 13.4 g of the orthocresol novolac type epoxy resin (EOCN1020 manufactured by Nippon Kayakusha, epoxy equivalent: 199 g / eq). 2.3 g (2% with respect to the total amount of resin) of triphenylphosphine as a curing reaction catalyst was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked and press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 180 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<実施例5>
実施例4においてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の13.4gに代えてフェノールビフェニレン型エポキシ樹脂(日本化薬社製のNC−3000H、エポキシ当量:290g/eq)の19.5gを使用したこと以外は実施例4と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 5>
Except that 19.5 g of phenol biphenylene type epoxy resin (NC-3000H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent: 290 g / eq) was used instead of 13.4 g of orthocresol novolac type epoxy resin in Example 4. A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 4 to obtain a molded product.

<実施例6>
実施例4においてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂の16.5gに代えて脂環型エポキシ樹脂(ダイセル社製のCEL2021P、エポキシ当量:201.7g/eq)の13.6gを使用したこと以外は実施例4と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
<Example 6>
Example 4 except that 13.6 g of an alicyclic epoxy resin (CEL2021P manufactured by Daicel Co., Ltd., epoxy equivalent: 201.7 g / eq) was used instead of 16.5 g of the orthocresol novolac type epoxy resin. A resin varnish was prepared in the same manner as in No. 4 to obtain a molded product.

<比較例1>
フェノールノボラック樹脂(群栄化学工業社製PSM−4261、軟化点:80℃、水酸基当量:106g/eq)の50.0gと、エポキシ樹脂としてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製:EOCN1020、エポキシ当量:199g/eq)の93.9gと、触媒としてトリフェニルホスフィンの1.9g(エポキシ樹脂に対して2%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃10分乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、180℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
<Comparative example 1>
50.0 g of phenol novolac resin (PSM-4261 manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., softening point: 80 ° C., hydroxyl group equivalent: 106 g / eq) and orthocresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: EOCN1020, 93.9 g of epoxy equivalent (199 g / eq) and 1.9 g of triphenylphosphine as a catalyst (2% with respect to epoxy resin) were dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish. rice field.
The obtained resin varnish was impregnated into glass cloth (E glass) so as to have a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six of these prepregs were stacked and press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 180 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

実施例1〜6、比較例1で得た成形物について、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接を測定した。結果を表1〜2に示した。なお、測定されたガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接はそれぞれ、成形物に用いた樹脂ワニスの硬化物のガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接とみなすことができる。
各例で用いた硬化剤(カーボネート樹脂またはフェノールノボラック樹脂)、エポキシ樹脂それぞれの種類を表1〜2に併記した。
The glass transition temperature, 5% thermal decomposition temperature, room temperature linear expansion coefficient, relative permittivity, and dielectric loss tangent were measured for the molded products obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Example 1. The results are shown in Tables 1-2. The measured glass transition temperature, 5% thermal decomposition temperature, room temperature linear expansion coefficient, relative permittivity, and dielectric loss tangent are the glass transition temperature and 5% thermal decomposition temperature of the cured resin varnish used for the molded product, respectively. It can be regarded as the room temperature line expansion coefficient, relative permittivity, and dielectric loss tangent.
The types of the curing agent (carbonate resin or phenol novolac resin) and epoxy resin used in each example are also shown in Tables 1 and 2.

Figure 0006947611
Figure 0006947611

Figure 0006947611
Figure 0006947611

実施例1〜6の成形物は、低誘電率、低誘電正接であり、電気特性に優れていた。また、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数等の熱的特性も充分に優れていた。
エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた比較例1の成形物は、実施例1〜6に比べて誘電率および誘電正接が高かった。
The molded products of Examples 1 to 6 had a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and were excellent in electrical characteristics. Further, the thermal characteristics such as the glass transition temperature, the 5% thermal decomposition temperature, and the coefficient of linear expansion at room temperature were sufficiently excellent.
The molded product of Comparative Example 1 in which the epoxy resin was cured with the phenol novolac resin had a higher dielectric constant and dielectric loss tangent than those of Examples 1 to 6.

本樹脂ワニスによれば、低誘電率、低誘電正接である、電気特性に優れた硬化物が得られる。また、本樹脂ワニスによれば、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率である、熱的特性にも優れた硬化物が得られる。
したがって、本樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板は、高機能性高分子材料として極めて有用であり、電気的、熱的に優れた材料として、半導体封止材、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂、レジスト、電子部品の封止用樹脂、液晶のカラーフィルター用樹脂、塗料、各種コーティング剤、接着剤、ビルドアップ積層板材料、FRP等の幅広い用途に使用できる。
According to this resin varnish, a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and excellent electrical characteristics can be obtained. Further, according to the present resin varnish, a cured product having a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, a low thermal expansion rate, and excellent thermal characteristics can be obtained.
Therefore, this resin varnish and the laminated board using the same are extremely useful as a highly functional polymer material, and as electrically and thermally excellent materials, a semiconductor encapsulant, an electrically insulating material, and a copper-clad laminate. It can be used in a wide range of applications such as resin for resin, resist, resin for encapsulating electronic parts, resin for liquid crystal color filter, paint, various coating agents, adhesive, build-up laminated board material, FRP and the like.

Claims (7)

下記式(1)で表される化合物を主成分として含み、重量平均分子量が3000〜12000であるフェノールカーボネート樹脂。
Figure 0006947611
[式中、Arは、ビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基を示し、2個のArはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよく、nは1以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、n個のRの少なくとも一部は前記脂環式ジメタノール化合物由来の残基であり、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。]
Look-containing compound represented by the following formula (1) as a main component, a phenolic carbonate resin weight average molecular weight of from 3,000 to 12,000.
Figure 0006947611
[In the formula, Ar represents a residue derived from a bisphenol compound or a residue derived from a biphenol compound, the two Ars may be the same or different, and n represents an integer of 1 or more. R indicates a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound, or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and at least a part of n R is a residue derived from the alicyclic dimethanol compound. When n is 2 or more, the n Rs may be the same or different. ]
前記式(1)中のArが、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基を示し、Rが、前記式(r1)、前記式(r2)、前記式(r3)または下記式(r4)で表される基を示し、n個のRの少なくとも一部は前記式(r4)で表される基である、請求項1に記載のフェノールカーボネート樹脂。
Figure 0006947611
[式中、Rは、脂環式基を示す。]
Ar in the formula (1) represents a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula (r3), and R is the above formula (r1), the above formula (r2), and the like. The phenolic carbonate resin according to claim 1, which represents a group represented by the formula (r3) or the following formula (r4), and at least a part of n Rs is a group represented by the formula (r4). ..
Figure 0006947611
[In the formula, R 1 represents an alicyclic group. ]
請求項1または2に記載のフェノールカーボネート樹脂を含む、エポキシ樹脂硬化剤。An epoxy resin curing agent containing the phenolic carbonate resin according to claim 1 or 2. 炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、一次反応生成物を得て、
前記一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、重量平均分子量が3000〜12000であるフェノールカーボネート樹脂を得る、フェノールカーボネート樹脂の製造方法。
A carbonic acid diester is reacted with an alicyclic dimethanol compound, or at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, and a bisphenol compound and a biphenol compound. React to obtain the primary reaction product,
And said primary reaction product is reacted with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of bisphenol compounds and biphenol compounds, the weight average molecular weight of Ru to obtain a phenolic carbonate resin is from 3000 to 12000, phenolic carbonate resin Manufacturing method.
前記一次反応生成物を得る際の、前記脂環式ジメタノール化合物と前記芳香族ジオール化合物との合計量に対する前記炭酸ジエステルのモル比が、1.05〜3.00である、請求項に記載のフェノールカーボネート樹脂の製造方法。 According to claim 4 , the molar ratio of the carbonic acid diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound when obtaining the primary reaction product is 1.05 to 3.00. The method for producing a phenol carbonate resin according to the above. 請求項1または2に記載のフェノールカーボネート樹脂と、エポキシ樹脂と、溶剤とを含む樹脂ワニス。 A resin varnish containing the phenol carbonate resin according to claim 1 or 2, an epoxy resin, and a solvent. 請求項に記載の樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、前記樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る、積層板の製造方法。 A method for producing a laminated board, wherein the fibrous base material is impregnated with the resin varnish according to claim 6 , and the fibrous base material impregnated with the resin varnish is heated and pressed to be cured to obtain a laminated board.
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