KR101410919B1 - Polyhydric hydroxy resin, epoxy resin, production method therefor, epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 난연성, 내습성, 저탄성 등이 뛰어난 경화물을 부여하고, 전자 부품의 봉지, 회로 기판 재료 등의 용도에 적합한 에폭시 수지, 다가 하이드록시 수지 및 그 조성물을 제공한다.
다가 하이드록시 화합물로서의 페놀 노볼락류 1몰에 대하여 스티렌류 0.3~1.0몰을 산 촉매 존재하에 반응시켜서 얻어지며, 부생물인 단가 하이드록시 화합물이 겔 침투 크로마토그래피로 검출했을 때의 면적%로 3% 이하인 스티렌 변성 다가 하이드록시 수지이다. 또한 이 스티렌 변성 다가 하이드록시 수지와 에피클로로히드린을 반응시켜서 얻어지는 에폭시 수지이고, 나아가서는 이 스티렌 변성 다가 하이드록시 수지 또는 에폭시 수지를 필수 성분으로 포함하는 에폭시 수지 조성물이다.
The present invention provides an epoxy resin, a polyhydric hydroxy resin, and a composition thereof, which are excellent in flame retardance, moisture resistance, low elasticity, and the like, and are suitable for use in encapsulation of electronic components, circuit board materials and the like.
Is obtained by reacting 0.3 to 1.0 mol of styrene with 1 mol of phenol novolak as a polyhydric hydroxy compound in the presence of an acid catalyst, and the area% when the monohydric hydroxy compound is detected by gel permeation chromatography as a byproduct % Or less of styrene-modified polyhydric hydroxy resin. Further, it is an epoxy resin obtained by reacting styrene-modified polyhydric hydroxy resin with epichlorohydrin, and further an epoxy resin composition containing this styrene-modified polyhydric hydroxy resin or epoxy resin as an essential component.

Description

다가 하이드록시 수지, 에폭시 수지, 그들의 제조방법, 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물{POLYHYDRIC HYDROXY RESIN, EPOXY RESIN, PRODUCTION METHOD THEREFOR, EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a polyhydroxy resin, an epoxy resin, a process for producing the same, an epoxy resin composition, and a cured product thereof. BACKGROUND ART < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 경화성이 뛰어난 동시에 난연성, 내습성, 저탄성도 뛰어난 경화물을 부여하는 에폭시 수지, 그 중간체로서 적합한 다가 하이드록시 수지, 그들의 제조방법, 이들을 이용한 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물에 관한 것이며, 반도체 봉지재(封止材), 프린트 배선판 등의 전기전자 분야의 절연 재료 등으로 적합하게 사용된다. The present invention relates to an epoxy resin which is excellent in curability and at the same time gives a cured product excellent in flame retardancy, moisture resistance and low elasticity, a polyhydric hydroxy resin suitable as an intermediate thereof, a method for producing them, an epoxy resin composition using the epoxy resin composition and a cured product thereof, An insulating material for electrical and electronic fields such as a sealing material, a printed wiring board and the like.

에폭시 수지는 공업적으로 폭넓은 용도로 사용되고 있지만, 그 요구 성능은 최근 점점 고도화되고 있다. 예를 들어 에폭시 수지를 주제(主劑;main agent)로 하는 수지 조성물의 대표적 분야로 반도체 봉지 재료가 있는데, 반도체 소자의 집적도 향상에 따라 패키지 사이즈가 대면적화, 박형화되는 동시에, 실장 방식도 표면 실장화로 이행되고 있어, 솔더 내열성이 뛰어난 재료의 개발이 요망되고 있다. 따라서 봉지 재료에는 저(低)흡습화에 아울러, 리드 프레임, 칩 등의 이종(異種) 재료 계면에서의 접착성·밀착성 향상이 강하게 요구되고 있다. 회로 기판 재료에서도 마찬가지로 솔더 내열성 향상의 관점에서 저흡습성, 고내열성, 고밀착성의 향상과 아울러, 유전 손실 저감의 관점에서 저(低)유전성이 뛰어난 재료의 개발이 요망되고 있다. 이러한 요구들에 대응하기 위해 다양한 신규 구조의 에폭시 수지 및 경화제가 검토되고 있다. 또 최근에는 환경 부하 저감의 관점에서 할로겐계 난연제를 배제하려는 움직임이 있어, 보다 난연성이 뛰어난 에폭시 수지 및 경화제가 요구되고 있다. Epoxy resins have been widely used for industrial purposes, but their required performance has recently been advanced. For example, there is a semiconductor encapsulating material as a representative example of a resin composition having an epoxy resin as a main agent. As the degree of integration of semiconductor elements is improved, the package size becomes larger and thinner, And it is desired to develop a material having excellent solder heat resistance. Therefore, the encapsulating material is required to have a low moisture absorption and an improvement in adhesiveness and adhesion at an interface between different materials such as a lead frame and a chip. From the viewpoint of improving solder heat resistance, it is desired to develop a material having a low dielectric constant in view of the reduction of dielectric loss as well as the improvement of low hygroscopicity, high heat resistance and high adhesion in circuit board materials. In order to meet these demands, various novel epoxy resins and curing agents have been studied. In recent years, there has been a desire to exclude halogen-based flame retardants from the viewpoint of environmental load reduction, and epoxy resins and curing agents having better flame retardancy are required.

따라서 상기 배경으로 인해 다양한 에폭시 수지 및 에폭시 수지 경화제가 검토되고 있다. 에폭시 수지 경화제의 일례로서 나프탈렌계 수지가 알려져 있는데, 특허문헌 1에는 나프톨아랄킬 수지를 반도체 봉지재에 응용하는 것이 제시되어 있으며, 난연성, 저흡습성, 저열팽창성 등이 뛰어나다고 기재되어 있다. 또 특허문헌 2에는 비페닐 구조를 가지는 경화제가 제안되어 있으며 난연성 향상에 유효하다고 기재되어 있다. 그러나 나프톨아랄킬 수지, 비페닐아랄킬 수지 모두 경화성이 떨어진다는 결점이 있고, 또 난연성 향상 효과도 충분하지 않은 경우가 있었다. Therefore, various epoxy resins and epoxy resin curing agents have been studied due to the above background. As an example of an epoxy resin curing agent, a naphthalene-based resin is known. Patent Document 1 discloses application of a naphthol aralkyl resin to a semiconductor encapsulant, and it is described that it is excellent in flame retardance, low hygroscopicity, and low thermal expansion. In Patent Document 2, a curing agent having a biphenyl structure has been proposed and is said to be effective for improving flame retardancy. However, both the naphthol aralkyl resin and the biphenyl aralkyl resin have a drawback of poor curability, and the flame retardancy improving effect is not sufficient in some cases.

한편, 에폭시 수지에 대해서도 이러한 요구들을 만족하는 것은 아직 알려져 있지 않다. 예를 들면 주지(周知)의 비스페놀형 에폭시 수지는 상온에서 액상이며 작업성이 뛰어난 점이나 경화제, 첨가제 등과의 혼합이 용이하다는 점에서 널리 사용되고 있지만, 내열성, 내습성의 점에서 문제가 있다. 또한 내열성을 개량한 것으로서 o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지가 알려져 있지만 난연성이 불충분하다. On the other hand, it is not known yet to meet these requirements for epoxy resins. For example, a known bisphenol-type epoxy resin is widely used because it is in a liquid state at room temperature and has excellent workability and easy mixing with a curing agent, an additive, etc. However, it has a problem in heat resistance and moisture resistance. An o-cresol novolac epoxy resin is known as an improved heat resistance, but its flame retardancy is insufficient.

할로겐계 난연제를 사용하지 않고 난연성을 향상시키기 위한 방책으로서, 인산에스테르계 난연제를 첨가하는 방법이 개시되어 있다. 그러나 인산에스테르계 난연제를 사용하는 방법은 내습성이 충분하지 않다. 또한 고온, 다습한 환경하에서는 인산에스테르가 가수분해를 일으켜 절연 재료로서의 신뢰성을 저하시키는 문제가 있었다. As a countermeasure for improving the flame retardancy without using a halogen-based flame retardant, a method of adding a phosphate ester flame retardant is disclosed. However, the method using a phosphate ester flame retardant is not sufficient in moisture resistance. Further, under a high temperature and high humidity environment, the phosphoric acid ester is hydrolyzed to lower the reliability as an insulating material.

인 원자나 할로겐 원자를 포함하지 않고 난연성을 향상시키는 것으로서, 특허문헌 2 및 3에 비페닐 구조를 가지는 아랄킬형 에폭시 수지를 반도체 봉지재에 응용한 예가 개시되어 있다. 특허문헌 4에는 나프탈렌 구조를 가지는 아랄킬형 에폭시 수지를 사용하는 예가 개시되어 있다. 그러나 이 에폭시 수지들은 난연성, 내습성 또는 내열성 중 어느 하나에 있어서 성능이 충분하지 않다. Patent documents 2 and 3 disclose examples in which an aralkyl type epoxy resin having a biphenyl structure is applied to a semiconductor encapsulant to improve flame retardancy without containing a phosphorus atom or a halogen atom. Patent Document 4 discloses an example of using an aralkyl type epoxy resin having a naphthalene structure. However, these epoxy resins do not have sufficient performance in either flame retardance, moisture resistance or heat resistance.

한편 내열성, 내습성, 내(耐)크랙성 향상에 착안한 예로서 특허문헌 5에 벤질화 폴리페놀 및 그 에폭시 수지가 개시되어 있지만, 이들은 난연성에 착안한 것은 아니다. 또한 이들은 페놀 노볼락을 출발 원료로서 사용하고, 이어서 벤질클로라이드를 부가 반응시킴으로써 얻어지는 수지인데, 반응시에 생기는 염산을 촉매로서 활용하는 강산성 조건하에서의 반응이기 때문에, 페놀 노볼락의 메틸렌 가교 결합이 일부 개열되어 페놀을 부생(副生)시키는 문제가 있었다. 즉, 단관능의 페놀체를 부생물로서 함유함으로 인해 경화성 및 내열성을 저하시키는 문제가 있었다. On the other hand, Patent Reference 5 discloses benzylated polyphenols and epoxy resins as examples of improving heat resistance, moisture resistance, and resistance to cracking, but they are not focused on flame retardancy. They are resins obtained by using phenol novolak as a starting material and then addition reaction of benzyl chloride. Since the reaction is carried out under strongly acidic conditions in which hydrochloric acid generated in the reaction is utilized as a catalyst, methylene bridges of phenol novolak are partially cleaved Thereby causing phenol to be a by-product. That is, there is a problem that the curing property and the heat resistance are lowered by containing a monofunctional phenol compound as a by-product.

나아가서는 스티렌 변성 노볼락 제조방법의 예로서, 특허문헌 6에 페놀 노볼락과 스티렌을 산 촉매 존재하에 반응시키는 방법이 개시되어 있지만, 고온에서 강산성인 황산 촉매를 사용하고 있기 때문에, 본 제법에도 페놀 노볼락의 메틸렌 가교 결합이 일부 개열되어 페놀을 부생시키는 문제가 있었다. Patent Document 6 discloses a method of reacting phenol novolak and styrene in the presence of an acid catalyst as an example of a method for producing styrene-modified novolak. However, since sulfuric acid catalysts which are strongly acidic at high temperature are used, There is a problem that the methylene crosslinking of the novolac is partially cleaved and phenol is produced as a by-product.

한편 내습성, 저(低)응력성 향상에 착안한 에폭시 수지 조성물의 예로서, 특허문헌 7 및 8에 스티렌화 페놀 노볼락 수지 및 그 에폭시 수지를 사용하는 에폭시 수지 조성물이 개시되어 있지만, 이들도 난연성에 착안한 것은 아니다. 또한 이들은 스티렌화 페놀을 출발 원료로서 사용하고 그 후 노볼락화하는 제법이기 때문에, 고비점인 스티렌화 페놀이 수지 중에 잔존함으로 인해 경화성 및 내열성을 저하시키는 문제가 있었다. On the other hand, as an example of the epoxy resin composition focused on improvement in moisture resistance and low stress, an epoxy resin composition using a styrenated phenol novolac resin and an epoxy resin is disclosed in Patent Documents 7 and 8, It is not the flame retardancy. In addition, since they are produced by using styrenated phenol as a starting material and then converting them into novolac, there is a problem that the styrenated phenol remains in the resin to lower the hardenability and the heat resistance.

일본국 공개특허공보 2005-344081호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-344081 일본국 공개특허공보 평11-140166호Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-140166 일본국 공개특허공보 2000-129092호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-129092 일본국 공개특허공보 2004-59792호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-59792 일본국 공개특허공보 평8-120039호Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-120039 일본국 공개특허공보 소48-52895호Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-52895 일본국 공개특허공보 평5-132544호Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-132544 일본국 공개특허공보 평5-140265호Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-140265

본 발명의 목적은 적층, 성형, 주형, 접착 등의 용도에 있어서, 경화성이 뛰어난 동시에 난연성, 내습성, 저탄성 등도 뛰어난 성능을 가지는 에폭시 수지를 제공하는 것, 뛰어난 경화성을 가지는 동시에 난연성, 내습성, 저탄성 등도 뛰어난 경화물을 부여하는 전기·전자 부품류의 봉지, 회로 기판 재료 등에 유용한 에폭시 수지 조성물을 제공하는 것 및 그 경화물을 제공하는 것에 있다. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin which is excellent in curability and excellent in flame retardance, moisture resistance and low elasticity in applications such as lamination, molding, casting and adhesion, , An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition which is useful for encapsulation of electrical and electronic parts and circuit board materials which give excellent cured products such as low elasticity and the like and a cured product thereof.

즉, 본 발명은 하기 일반식(1)로 표시되는 다가 하이드록시 수지에 있어서, 하기 일반식(2)로 표시되는 단가 하이드록시 화합물이 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI)로 검출했을 때의 면적%로 3% 이하인 다가 하이드록시 수지에 관한 것이다. That is, the present invention relates to a polyhydric hydroxy resin represented by the following general formula (1), wherein the area when the monohydric hydroxy compound represented by the following general formula (2) is detected by gel permeation chromatography (GPC; RI) % ≪ / RTI > of the polyhydric hydroxy resin.

Figure 112013035993489-pct00001
Figure 112013035993489-pct00001

(R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, R2는 하기 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내고, n은 0~20의 수를 나타낸다. p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다. 또한 R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.) (Wherein R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the following formula (a), and n represents a number of 0 to 20. p represents a number of 0.1 to 2.5. And R 3 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.

Figure 112013035993489-pct00002
Figure 112013035993489-pct00002

(여기서, p는 0~3의 수를 나타내고, R1 및 R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.) (Wherein p represents a number of 0 to 3, and R 1 and R 3 represent hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.)

또한 본 발명은 하기 일반식(3)으로 표시되는 다가 하이드록시 화합물의 하이드록시기 1몰에 대하여 스티렌류 0.1~1.0몰을 10~400wtppm 이하의 산 촉매 존재하에 반응 온도 40~120℃로 반응시켜서, 상기 식(a)로 표시되는 치환기를 다가 하이드록시 화합물의 벤젠환에 치환시키는 것을 특징으로 하는 다가 하이드록시 수지의 제조방법에 관한 것이다. The present invention also provides a process for producing a polyhydroxy compound, which comprises reacting 0.1 to 1.0 mole of styrene with 1 mole of a hydroxyl group of the polyhydric hydroxy compound represented by the following general formula (3) at a reaction temperature of 40 to 120 占 폚 in the presence of 10 to 400 ppm by weight , And the substituent represented by the formula (a) is substituted with a benzene ring of a polyhydric hydroxy compound.

Figure 112013035993489-pct00003
Figure 112013035993489-pct00003

또한 본 발명은 하기 일반식(4)로 표시되는 에폭시 수지에 있어서, 하기 일반식(5)로 표시되는 단가 에폭시 수지가 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI)로 검출했을 때의 면적%로 3% 이하인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지이다. The present invention also relates to an epoxy resin represented by the following general formula (4), wherein the unit price epoxy resin represented by the following general formula (5) is detected by gel permeation chromatography (GPC; RI) Or less.

Figure 112013035993489-pct00004
Figure 112013035993489-pct00004

(여기서, G는 글리시딜기를 나타내고, R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, R2는 상기 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내고, R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, n은 1~20의 수를 나타낸다. 또한 p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다.) (Wherein G represents a glycidyl group, R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the above formula (a) and R 3 represents hydrogen or a group of 1 to 6 carbon atoms Hydrocarbon group, n represents a number of 1 to 20, and p represents a number of 0.1 to 2.5.

Figure 112013035993489-pct00005
Figure 112013035993489-pct00005

(여기서, G는 글리시딜기를 나타내고, R1 및 R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, p는 0~3의 수를 나타낸다.) (Wherein G represents a glycidyl group, R 1 and R 3 represent hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, and p represents a number of 0 to 3.)

또한 본 발명은 상기의 다가 하이드록시 수지와 에피클로로히드린(epichlorohydrin)을 반응시키는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법에 관한 것이다. The present invention also relates to a process for producing an epoxy resin, which comprises reacting the above polyhydric hydroxy resin with epichlorohydrin.

또, 본 발명은 에폭시 수지 및 경화제로 이루어지는 에폭시 수지 조성물에 있어서, 상기의 다가 하이드록시 수지 및 상기의 에폭시 수지 중 한쪽 또는 양쪽을 필수 성분으로서 배합해서 이루어지는 에폭시 수지 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명은 상기의 에폭시 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 에폭시 수지 경화물에 관한 것이다. The present invention also relates to an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the epoxy resin composition comprises one or both of the polyhydric hydroxy resin and the epoxy resin as essential components. The present invention also relates to an epoxy resin cured product obtained by curing the above epoxy resin composition.

본 발명에 의하면, 난연성, 내습성, 저탄성 등이 뛰어난 경화물을 부여하고, 전자 부품의 봉지, 회로 기판 재료 등의 용도에 적합한 에폭시 수지, 다가 하이드록시 수지 및 그 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an epoxy resin, a polyhydric hydroxy resin, and a composition thereof, which are excellent in flame retardancy, humidity resistance, low elasticity, and the like, and are suitable for sealing of electronic parts and materials for circuit boards.

도 1은 실시예에서 얻은 다가 하이드록시 수지의 GPC 차트이다.
도 2는 합성예에서 얻은 다가 하이드록시 수지의 GPC 차트이다.
도 3은 실시예에서 얻은 에폭시 수지의 GPC 차트이다.
도 4는 합성예에서 얻은 에폭시 수지의 GPC 차트이다.
1 is a GPC chart of the polyhydric hydroxy resin obtained in the examples.
2 is a GPC chart of the polyhydric hydroxy resin obtained in Synthesis Example.
3 is a GPC chart of the epoxy resin obtained in the examples.
4 is a GPC chart of the epoxy resin obtained in Synthesis Example.

먼저, 본 발명의 다가 하이드록시 수지(이하, STPN으로 약기함)에 대하여 설명한다. 본 발명의 StPN은 일반식(1)로 표시되며, 이것은 일반식(3)으로 표시되는 다가 하이드록시 화합물(다가 하이드록시 화합물(3)이라고도 함)과 스티렌류를 반응시킴으로써 얻을 수 있다. First, the polyhydric hydroxy resin (hereinafter abbreviated as STPN) of the present invention will be described. StPN of the present invention is represented by the general formula (1), which can be obtained by reacting a polyhydric hydroxy compound (also referred to as polyhydric hydroxy compound (3)) represented by the general formula (3) with styrene.

다가 하이드록시 화합물에 대하여 스티렌류를 부가시키는 방법으로서, 염산 등의 산 촉매 존재하에 120~170℃의 고온에서 반응을 실시하는 것이 일반적이다. 그러나 산 촉매하에서 고온으로 반응시킬 경우, 다가 하이드록시 화합물의 연결기 부분인 메틸렌 결합의 개열을 수반하여 단가 페놀을 부생시키는 문제가 있었다. 이러한 부반응을 억제하기 위해 40~120℃의 범위로 반응 온도를 저하시키는 동시에, 10~400ppm의 범위로 촉매량을 저감시킴으로써 단가 페놀체의 부생을 저감시킬 수 있다. 즉, 얻어진 다가 하이드록시 수지를 에폭시 수지의 경화제로서 사용했을 경우, 경화성, 내열성이 뛰어난 물성이 발현된다. As a method for adding the styrene to the polyhydric hydroxy compound, the reaction is generally carried out at a high temperature of 120 to 170 DEG C in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid. However, when the reaction is carried out at a high temperature in the presence of an acid catalyst, there is a problem in that a monohydric phenol is produced as a by-product accompanied by cleavage of a methylene bond as a linking moiety of the polyhydric hydroxy compound. To suppress such side reactions, the reaction temperature is lowered in the range of 40 to 120 占 폚, and the by-product of the unit phenol compound can be reduced by reducing the catalytic amount in the range of 10 to 400 ppm. That is, when the resultant polyhydric hydroxy resin is used as a curing agent for an epoxy resin, excellent physical properties such as curability and heat resistance are exhibited.

부반응에 의해 생성되는 상기 일반식(2)로 표시되는 단가 하이드록시 화합물(단가 하이드록시 화합물(2)이라고도 함)의 다가 하이드록시 수지 성분 중에서의 함유량은 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI)로 검출했을 때의 면적%로 3% 이하인 것이 바람직하다. 이보다 많을 경우에는 다가 하이드록시 수지를 에폭시 수지 경화제로서 사용했을 경우, 부생물로서 포함되는 단가 하이드록시 화합물이 경화성을 저하시키는 경향이 있다. 또한 에폭시 수지 경화물에서도 단가 하이드록시 화합물이 가교 밀도를 저하시키기 때문에 내열성도 떨어지는 경향이 있다. The content of the monohydric hydroxy compound (also referred to as the monohydric hydroxy compound (2)) represented by the above general formula (2) in the polyhydric hydroxy resin component produced by the side reaction is detected by gel permeation chromatography (GPC; RI) Is preferably not more than 3% in terms of area% when it is used. When the amount is larger than the above range, the monohydric hydroxy compound contained as a by-product tends to lower the curability when a polyhydric hydroxy resin is used as the epoxy resin curing agent. In addition, since the monohydric hydroxy compound lowers the crosslinking density even in the epoxy resin cured product, the heat resistance tends to deteriorate.

다가 하이드록시 수지 중에 포함되는 부생물로서, 단가 하이드록시 화합물 이외의 성분으로서 스티렌 올리고머를 들 수 있다. 이것은 스티렌 자체의 중합 반응에 의해 생성되는 부생물이며, 특히 저분자량 성분으로서 스티렌 다이머가 포함된다. 이 스티렌 다이머 성분도 단가 하이드록시 화합물과 마찬가지로 경화성 및 내열성을 저하시키는 경향이 있다. As a by-product contained in the polyhydric hydroxy resin, a styrene oligomer can be mentioned as a component other than the monohydric hydroxy compound. This is a by-product produced by the polymerization reaction of styrene itself, and in particular includes styrene dimer as a low molecular weight component. This styrene dimer component also tends to lower the curability and heat resistance as the monohydric hydroxy compound.

또한 에폭시 수지 경화물에서는 에폭시기와 수산기의 반응에 의해 생성되는 하이드록시프로필기가 연소되기 쉽다고 되어 있지만, 다가 하이드록시 화합물에 대하여 스티렌류를 부가시켜 수산기당량을 높임으로써, 에폭시기 유래의 연소 성분(inflammable component)의 지방족 탄소율이 낮아져 고도의 난연성을 발현시킬 수 있다. 또한 방향족성이 풍부한 스티렌류의 부가로 인해 다가 하이드록시 수지의 방향족성이 한층 더 향상되고, 난연성에 아울러 내습성 향상에도 효과적이다. In addition, in the epoxy resin cured product, the hydroxypropyl group produced by the reaction of the epoxy group and the hydroxyl group is liable to be burned. However, by adding the styrene group to the polyhydric hydroxy compound to increase the hydroxyl group equivalent, an inflammable component ) Is lowered, so that a high flame retardancy can be exhibited. Further, the aromaticity of the polyhydric hydroxy resin is further improved by the addition of the styrene which is rich in aromatics, and the flame retardancy and the moisture resistance are also effectively improved.

따라서 이들을 이용해서 고난연성 에폭시 수지 조성물, 특히 반도체 봉지용 에폭시 수지 조성물이 얻어진다. 즉, 그 조성물들의 뛰어난 경화성과 함께 고난연성, 내습성이나 저탄성이 뛰어난 물성이 발현되며, 이 재료를 이용해서 신뢰성이 높은 전기·전자 부품류의 봉지, 회로 기판 재료 등이 얻어진다. Therefore, a highly flame-retardant epoxy resin composition, particularly an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, can be obtained by using them. In other words, excellent curability of the compositions and excellent physical properties such as high flame retardance, moisture resistance, and low elasticity are exhibited, and thus it is possible to obtain highly reliable electronic / electronic parts encapsulation, circuit board materials and the like.

본 발명의 StPN은 일반식(3)으로 표시되는 다가 하이드록시 화합물(3)과 스티렌류를 부가 반응시킴으로써 얻어진다. 이 때, 다가 하이드록시 화합물(3)과 스티렌류의 비율은 얻어지는 경화물의 난연성과 경화성의 밸런스를 고려하면, 다가 하이드록시 화합물 1몰에 대한 스티렌류의 사용 비율이 0.1~2.5몰의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1~1.0몰, 더욱 바람직하게는 0.3~0.8몰의 범위이다. 이 범위보다 적을 경우에는 원료인 다가 하이드록시 화합물의 성질이 개량되지 않은 상태 그대로이고, 이 범위보다 많을 경우에는 관능기 밀도가 너무 낮아져서 경화성이 저하되는 경향이 있다. The StPN of the present invention is obtained by subjecting the styrene to an addition reaction with the polyhydric hydroxy compound (3) represented by the general formula (3). In consideration of the balance between the flame retardancy and curability of the resulting cured product, the ratio of the polyhydric hydroxy compound (3) to the styrene compound is preferably in the range of 0.1 to 2.5 moles in terms of the ratio of styrene to 1 mole of the polyhydric hydroxy compound More preferably 0.1 to 1.0 mole, and still more preferably 0.3 to 0.8 mole. When the amount is less than this range, the properties of the polyhydric hydroxy compound as the raw material remain unchanged. When the amount is larger than the above range, the functional group density becomes too low and the curability tends to be lowered.

이 반응에서는 스티렌류가 다가 하이드록시 화합물(3) 중의 OH기를 가지는 방향족환에 부가하여 상기 식(a)로 표시되는 스티레닐(styrenyl)기가 치환한다. 또한 스티렌류의 부가 위치는 다가 하이드록시 화합물의 빈 자리인 오르소(ortho) 및/또는 파라 위치인데, 주로 파라 위치이다. In this reaction, the styrenes are substituted with a styrenyl group represented by the formula (a) in addition to an aromatic ring having an OH group in the polyhydroxy compound (3). The position of addition of the styrenes is an ortho and / or para position which is a vacant position of the polyhydric hydroxy compound, and is mainly a para position.

또한 본 발명의 StPN의 150℃에서의 용융 점도는 0.01~10.0Pa·s의 범위인 것이 바람직하다. 작업성의 면에서 용융 점도는 상기 범위에서 낮을수록 바람직하다. The melt viscosity of the StPN of the present invention at 150 캜 is preferably in the range of 0.01 to 10.0 Pa · s. From the viewpoint of workability, the lower the melt viscosity in the above range, the more preferable.

나아가서는 연화점은 40~150℃인 것이 좋고, 바람직하게는 50~100℃의 범위이다. 여기서 연화점은 JIS-K-2207의 환구법(環球法)에 기초해서 측정되는 연화점을 가리킨다. 이보다 낮으면 이것을 에폭시 수지에 배합했을 때 경화물의 내열성이 저하되고, 이보다 높으면 성형시의 유동성이 저하된다. Further, the softening point is preferably 40 to 150 ° C, and more preferably 50 to 100 ° C. Here, the softening point refers to the softening point measured based on the ring method (JIS-K-2207) of JIS-K-2207. When it is lower than this, the heat resistance of the cured product is lowered when it is blended with the epoxy resin, and when it is higher than that, the fluidity at the time of molding is lowered.

R2는 상기 식(a)로 표시되는 스티레닐기를 나타낸다. p는 0.1~2.5의 수를 나타내는데, 이것은 1개의 페놀환에 치환하는 스티레닐기의 평균 수(수평균)를 의미한다. p는 0.1~2, 0.1~1.0몰, 0.3~1, 0.3~0.8몰의 순으로 바람직하다. 한편, 양쪽 말단의 페놀환에는 최대 4개의 스티레닐기가 치환 가능하고, 중간의 페놀환에는 최대 3개의 스티레닐기가 치환 가능하므로, n이 1인 경우에는 최대 8개의 스티레닐기가 치환 가능하다. R 2 represents a styrenyl group represented by the above formula (a). p represents a number of 0.1 to 2.5, which means the average number (number average) of styryl groups substituted in one phenolic ring. p is preferably 0.1 to 2, 0.1 to 1.0 mole, 0.3 to 1, and 0.3 to 0.8 mole in this order. On the other hand, up to four styrenyl groups can be substituted in the phenol ring at both ends, and up to three styrenyl groups can be substituted in the middle phenol ring, so that when n is 1, up to 8 styrenyl groups can be substituted.

다른 관점에서는, 본 발명의 StPN은 1분자당 스티레닐기의 치환수(수평균)가 1 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 이상, 더욱 바람직하게는 2.6~4이다. In another aspect, the StPN of the present invention preferably has a number of substitution (number average) of styryl groups per molecule of 1 or more, more preferably 2 or more, still more preferably 2.6 to 4.

식(a)에서 R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내는데, 바람직하게는 수소 또는 탄소수 1~3의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소이다. 이 R3은 반응 원료로서 사용하는 스티렌류에 의해 정해진다. In formula (a), R 3 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, preferably hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably hydrogen. This R 3 is determined by styrenes used as a reaction raw material.

일반식(1)에서 n은 1~20의 수를 나타내는데, 바람직하게는 평균으로서 1.5~5.0의 범위이다. In the general formula (1), n represents a number of 1 to 20, preferably an average of 1.5 to 5.0.

다음으로 본 발명의 StPN의 제조방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 StPN을 제조하는 방법에서 사용하는 다가 하이드록시 화합물(3)로서 페놀 노볼락류가 사용된다. Next, a method for producing StPN of the present invention will be described. As the polyhydric hydroxy compound (3) used in the method for producing StPN of the present invention, phenol novolak is used.

이 다가 하이드록시 화합물(3)을 얻기 위해 사용되는 페놀류는 페놀 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기 치환 페놀이며, 탄화수소기 치환 페놀로는 크레졸류, 에틸페놀류, 이소프로필페놀류, 터샤리부틸페놀류, 알릴페놀류, 페닐페놀류 등을 들 수 있다. 바람직하게는 페놀 또는 탄소수 1~3의 알킬 치환 페놀류이고, 보다 바람직하게는 페놀이다. The phenols used for obtaining the polyhydric hydroxy compound (3) are phenol or a hydrocarbon-substituted phenol having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon-substituted phenol include cresols, ethyl phenols, isopropyl phenols, tert- Phenols, phenyl phenols, and the like. Preferably phenol or an alkyl-substituted phenol having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably phenol.

이 페놀류는 소량의 다른 페놀 성분을 포함해도 된다. 예를 들어 페놀류로서 페놀을 사용할 경우, 다른 페놀 성분으로는 o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 에틸페놀류, 이소프로필페놀류, 터샤리부틸페놀류, 알릴페놀류, 페닐페놀류, 2,6-크실레놀, 2,6-디에틸페놀, 하이드로퀴논, 레조르신, 카테콜, 1-나프톨, 2-나프톨, 1,5-나프탈렌디올, 1,6-나프탈렌디올, 1,7-나프탈렌디올, 2,6-나프탈렌디올, 2,7-나프탈렌디올 등을 들 수 있다. 이들 페놀류 또는 나프톨류는 2종 이상을 포함해도 된다. These phenols may contain small amounts of other phenolic components. For example, when phenol is used as the phenol, other phenol components include o-cresol, m-cresol, p-cresol, ethyl phenol, isopropyl phenol, tertiary butyl phenol, allyl phenol, Naphthalene diol, 1,7-naphthalene diol, 2-naphthalene diol, 2-naphthalene diol, 2-naphthalene diol, , 6-naphthalene diol, 2,7-naphthalene diol, and the like. These phenols or naphthols may include two or more kinds.

다가 하이드록시 화합물과의 반응에 사용하는 스티렌류는 스티렌 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기가 치환한 스티렌이다. 이 스티렌류는 소량의 다른 반응 성분을 포함해도 된다. 다른 반응 성분으로서 α-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 인덴, 쿠마론, 벤조티오펜, 인돌, 비닐나프탈렌 등의 불포화 결합 함유 성분을 포함할 경우, 얻어지는 다가 하이드록시 수지에는 이들로부터 생기는 기가 방향환 상에 치환한 화합물이 포함되게 된다. 본 발명의 다가 하이드록시 수지의 제조방법에서 얻어지는 페놀 수지는 이러한 치환기를 가지는 다가 하이드록시 수지를 포함할 수 있다. 마찬가지로, 본 발명의 에폭시 수지의 제조방법에서 얻어지는 에폭시 수지는 이러한 치환기를 가지는 에폭시 수지를 포함할 수 있다. The styrene used for the reaction with the polyhydric hydroxy compound is styrene or styrene substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. These styrenes may contain small amounts of other reaction components. When an unsaturated bond-containing component such as? -Methylstyrene, divinylbenzene, indene, coumarone, benzothiophene, indole or vinylnaphthalene is contained as another reaction component, the resultant polyhydric hydroxy resin has a group And the like. The phenol resin obtained by the process for producing a polyhydric hydroxy resin of the present invention may contain a polyhydric hydroxy resin having such a substituent. Similarly, the epoxy resin obtained by the method for producing an epoxy resin of the present invention may include an epoxy resin having such a substituent.

이 반응은 산 촉매 존재하에 실시할 수 있고, 그 촉매량은 10~400ppm의 범위에서 사용되며, 바람직하게는 100~350ppm의 범위이다. 이보다 많으면 페놀 노볼락의 메틸렌 가교 결합이 개열하기 쉬워져, 개열 반응에 의해 부생된 단가 페놀 성분에 의해 경화성 및 내열성이 저하된다. 한편, 이보다 적으면 반응성이 저하되어 미반응 스티렌 모노머를 많이 잔존시킨다. 또한 여기서 말하는 촉매량이란 반응에 사용하는 다가 하이드록시 화합물 및 스티렌류의 합계 중량에 대한 촉매의 양을 의미한다. This reaction can be carried out in the presence of an acid catalyst, and the amount of the catalyst is used in the range of 10 to 400 ppm, preferably in the range of 100 to 350 ppm. If it is larger than the above range, the methylene crosslinking of the phenol novolac tends to be cleaved, and the curing property and the heat resistance are lowered by the monohydric phenol component produced as a by-product of the cleavage reaction. On the other hand, if it is less than this range, the reactivity is lowered, and a large amount of unreacted styrene monomer remains. The term "catalytic amount" as used herein means the amount of the catalyst relative to the total weight of the polyhydric hydroxy compound and styrene used in the reaction.

이 반응은 산 촉매 존재하에 실시할 수 있다. 이 산 촉매로는 주지의 무기산, 유기산에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면 염산, 황산, 인산 등의 광산이나, 포름산, 옥살산, 트리플루오로아세트산, p-톨루엔술폰산, 디메틸황산, 디에틸황산 등의 유기산이나, 염화아연, 염화알루미늄, 염화철, 3불화 붕소 등의 루이스산 혹은 이온 교환 수지, 활성 백토, 실리카-알루미나, 제올라이트 등의 고체산 등을 들 수 있다. This reaction can be carried out in the presence of an acid catalyst. The acid catalyst may be appropriately selected from well-known inorganic acids and organic acids. For example, a mineral acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or phosphoric acid or an organic acid such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, dimethylsulfuric acid or diethylsulfuric acid, or an organic acid such as zinc chloride, Lewis acid or ion exchange resin of activated carbon, solid clay such as activated clay, silica-alumina, zeolite and the like.

또한 이 반응에서 반응 온도는 40~120℃의 범위에서 이루어진다. 이보다 낮으면 반응성이 저하되어 반응 시간이 길어진다. 또한 이보다 높으면 페놀 노볼락의 메틸렌 가교 결합이 일부 개열되기 쉬워져, 개열 반응에 의해 부생된 단가 페놀 성분에 의해 경화성 및 내열성이 저하된다. The reaction temperature in this reaction is in the range of 40 to 120 ° C. If it is lower than the above range, the reactivity decreases and the reaction time becomes longer. In addition, when it is higher than the above range, the methylene crosslinking of phenol novolak tends to be partially cleaved, and curing property and heat resistance are lowered due to a monohydric phenol component produced as a by-product of the cleavage reaction.

또한 이 반응은 통상 1~20시간 이루어진다. 또, 반응시에는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 알코올류나, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 디메틸에테르, 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, 벤젠, 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 방향족 화합물 등을 용매로서 사용할 수 있다. This reaction is usually carried out for 1 to 20 hours. The reaction may be carried out in the presence of an alcohol such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve or ethyl cellosolve, a ketone such as acetone, methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone, , Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene and dichlorobenzene can be used as the solvent.

이 반응을 실시하는 구체적 방법으로는, 전체 원료를 일괄 장입하여 그대로 소정 온도로 반응시키거나, 또는 다가 하이드록시 화합물과 촉매를 장입하여 소정 온도로 유지하면서 스티렌류를 적하시키면서 반응시키는 방법이 일반적이다. 이 때, 적하 시간은 5시간 이하가 바람직하고, 통상 1~10시간이다. 반응 후, 용매를 사용했을 경우에는 필요에 따라 촉매 성분을 제거한 후 용매를 증류 제거시켜 본 발명의 수지를 얻을 수 있고, 용매를 사용하지 않을 경우에는 직접 열시(熱時) 배출함으로써 목적물을 얻을 수 있다. As a specific method for carrying out this reaction, a method is generally used in which all the raw materials are charged at a constant temperature and reacted at a predetermined temperature, or a styrenic compound is dropped while charging the polyhydric hydroxy compound and the catalyst at a predetermined temperature . In this case, the dropping time is preferably 5 hours or less, and usually 1 to 10 hours. After the reaction, if a solvent is used, the catalyst component is removed, if necessary, and the solvent is distilled off to obtain the resin of the present invention. When the solvent is not used, the desired product can be obtained by directly discharging have.

다음으로 본 발명의 에폭시 수지에 대하여 기술한다. Next, the epoxy resin of the present invention will be described.

본 발명의 에폭시 수지(StPNE으로 약기함)는 일반식(4)로 표시된다. 또한 다가 하이드록시 수지(StPN)는 일반식(1)로 표시된다. StPNE는 StPN을 에폭시화함으로써 얻을 수 있다. The epoxy resin (abbreviated as StPNE) of the present invention is represented by the general formula (4). The polyhydric hydroxy resin (StPN) is represented by the general formula (1). StPNE can be obtained by epoxidizing StPN.

일반식(4)에서 일반식(1)과 공통된 기호는 같은 의미를 가진다. G는 글리시딜기를 나타내는데, 일반식(1)의 수산기가 반응하여 생긴다. R1은 스티레닐기이다. In the general formula (4), the symbols common to the general formula (1) have the same meaning. G represents a glycidyl group, which is formed by the reaction of the hydroxyl group of the general formula (1). R 1 is a styryl group.

본 발명의 StPNE는 상기 일반식(1)로 표시되는 StPN과, 에피클로로히드린을 반응시킴으로써 제조하는 것이 유리하지만, 이 반응에 한정되지 않는다. 그러나 StPN은 상기 단가 하이드록시 화합물을 3% 넘게 포함하지 않는다. 이로 인해, 상기 일반식(5)로 표시되는 단가 에폭시 수지(단가 에폭시 수지(5)라고도 함)를 3% 이하로 할 수 있다. The StPNE of the present invention is advantageously produced by reacting StPN represented by the above general formula (1) with epichlorohydrin, but is not limited to this reaction. However, StPN does not contain more than 3% of the above monovalent hydroxy compound. Therefore, the unit price epoxy resin (also referred to as the unit epoxy resin (5)) represented by the above general formula (5) can be made to 3% or less.

StPN을 에피클로로히드린과 반응시키는 반응 외에, StPN과 할로겐화 알릴을 반응시켜 알릴에테르 화합물로 한 후 과산화물과 반응시키는 방법을 선택할 수도 있다. 상기 StPN을 에피클로로히드린과 반응시키는 반응은 통상적인 에폭시화 반응과 동일하게 실시할 수 있다. In addition to the reaction of StPN with epichlorohydrin, a method of reacting StPN with allyl halide to give an allyl ether compound followed by reaction with peroxide may be selected. The reaction of the StPN with epichlorohydrin can be carried out in the same manner as in the conventional epoxidation reaction.

예를 들면 상기 StPN을 과잉의 에피클로로히드린에 용해한 후 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물의 존재하에 20~150℃, 바람직하게는 30~80℃의 범위에서 1~10시간 반응시키는 방법을 들 수 있다. 이 때의 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 StPN의 수산기 1몰에 대하여 0.8~1.5몰, 바람직하게는 0.9~1.2몰의 범위이다. 또한 에피클로로히드린은 StPN 중의 수산기 1몰에 대하여 과잉으로 사용되는데, 통상 StPN 중의 수산기 1몰에 대하여 1.5~30몰, 바람직하게는 2~15몰의 범위이다. 반응 종료 후 과잉의 에피클로로히드린을 증류 제거하고, 잔류물을 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제에 용해하여 여과하고, 수세하여 무기염을 제거하고, 이어서 용제를 증류 제거함으로써 목적으로 하는 에폭시 수지를 얻을 수 있다. For example, by dissolving the above StPN in excess of epichlorohydrin and then reacting in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide at 20 to 150 ° C, preferably 30 to 80 ° C for 1 to 10 hours . The amount of the alkali metal hydroxide to be used at this time is in the range of 0.8 to 1.5 moles, preferably 0.9 to 1.2 moles per 1 mole of the hydroxyl group of StPN. Epichlorohydrin is used in excess of 1 mol of hydroxyl groups in StPN, and is usually in the range of 1.5 to 30 mol, preferably 2 to 15 mol, per mol of hydroxyl group in StPN. After completion of the reaction, the excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent is distilled off to obtain the desired epoxy A resin can be obtained.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 적어도 에폭시 수지 및 경화제를 포함하는 것인데, 다음의 3종류가 있다. The epoxy resin composition of the present invention comprises at least an epoxy resin and a curing agent.

1)에폭시 수지의 일부 또는 전부로서 상기 StPNE를 배합한 조성물. 1) A composition containing StPNE as a part or all of an epoxy resin.

2)경화제의 일부 또는 전부로서 상기 StPN을 배합한 조성물. 2) a composition containing StPN as a part or all of a curing agent.

3)에폭시 수지 및 경화제의 일부 또는 전부로서 상기 SPE와 StPN을 배합한 조성물. 3) A composition comprising SPE and StPN as a part or all of an epoxy resin and a curing agent.

상기 2) 및 3) 조성물의 경우, StPN을 필수 성분으로 포함한다. StPN의 배합량은 통상 에폭시 수지 100중량부에 대하여 2~200중량부, 바람직하게는 5~80중량부의 범위이다. 이보다 적으면 난연성 및 내습성 향상의 효과가 작고, 이보다 많으면 성형성 및 경화물의 강도가 저하되는 문제가 있다. In the case of the compositions 2) and 3), StPN is included as an essential ingredient. The blending amount of StPN is usually 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin. When the amount is less than the above range, the effect of improving the flame retardancy and moisture resistance is small, and if it is more than this range, the moldability and the strength of the cured product are deteriorated.

경화제의 전량으로서 StPN을 이용할 경우, 통상 StPN의 배합량은 StPN의 OH기와 에폭시 수지 중의 에폭시기의 당량 밸런스를 고려하여 배합한다. 에폭시 수지 및 경화제의 당량비는 통상 0.2~5.0의 범위이며, 바람직하게는 0.5~2.0의 범위이다. 이보다 크든 작든, 에폭시 수지 조성물의 경화성이 저하되는 동시에 경화물의 내열성, 역학 강도 등이 저하된다. When StPN is used as the total amount of the curing agent, the amount of StPN to be blended is generally calculated in consideration of the OH group of StPN and the equivalence balance of the epoxy groups in the epoxy resin. The equivalent ratio of the epoxy resin and the curing agent is usually in the range of 0.2 to 5.0, preferably in the range of 0.5 to 2.0. The hardening property of the epoxy resin composition is lowered, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product are lowered.

경화제로서 StPN 이외의 경화제를 병용할 수 있다. 기타 경화제의 배합량은 StPN의 배합량이 통상 에폭시 수지 100중량부에 대하여 2~200중량부, 바람직하게는 5~80중량부의 범위가 유지되는 범위 내에서 결정된다. StPN의 배합량이 이보다 적으면 저흡습성, 밀착성 및 난연성 향상의 효과가 작고, 이보다 많으면 성형성 및 경화물의 강도가 저하되는 문제가 있다. 이 경우에도 에폭시 수지와 경화제(합계)의 당량비는 상기의 범위가 된다. As the curing agent, a curing agent other than StPN can be used in combination. The blending amount of the other curing agent is determined within a range in which the blending amount of StPN is usually 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. When the blending amount of StPN is less than this range, the effect of improving the low hygroscopicity, adhesion and flame retardancy is small, and if it is more than this range, moldability and strength of the cured product are deteriorated. In this case, the equivalent ratio of the epoxy resin to the curing agent (total) is in the above range.

StPN 이외의 경화제로는 일반적으로 에폭시 수지의 경화제로서 알려져 있는 것은 무엇이든 사용할 수 있고, 디시안디아미드, 산무수물류, 다가 페놀류, 방향족 및 지방족 아민류 등이 있다. 이 중에서도 반도체 봉지재 등의 높은 전기 절연성이 요구되는 분야에서는 다가 페놀류를 경화제로서 사용하는 것이 바람직하다. 이하에 경화제의 구체예를 나타낸다. As the curing agent other than StPN, any known epoxy resin curing agent can be used, and examples thereof include dicyandiamide, acid anhydrides, polyhydric phenols, aromatic and aliphatic amines, and the like. Among these, in the field where high electrical insulation property such as a semiconductor encapsulant is required, it is preferable to use a polyhydric phenol as a curing agent. Specific examples of the curing agent are shown below.

산무수물 경화제로는 예를 들면 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수 프탈산, 메틸테트라하이드로 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 메틸헥사하이드로 무수 프탈산, 메틸 무수 하이믹산, 무수 도데실숙신산, 무수 나딕산, 무수 트리멜리트산 등이 있다. Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl anhydride, anhydrous dodecylsuccinic acid, anhydrous nadic acid, anhydrous trimellitic anhydride And so on.

다가 페놀류로는 예를 들면 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 하이드로퀴논, 레조르신, 나프탈렌디올 등의 2가의 페놀류, 혹은 트리스-(4-하이드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-하이드록시페닐)에탄, 페놀 노볼락, o-크레졸 노볼락, 나프톨 노볼락, 폴리비닐페놀 등으로 대표되는 3가 이상의 페놀류가 있다. 나아가서는 페놀류, 나프톨류, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 하이드로퀴논, 레조르신, 나프탈렌디올 등의 2가의 페놀류와, 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-하이드록시벤즈알데히드, p-크실릴렌디클로라이드, 비스클로로메틸비페닐, 비스클로로메틸나프탈렌 등의 축합제에 의해 합성되는 다가 페놀성 화합물 등이 있다. Examples of the polyhydric phenols include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin and naphthalenediol; (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolac, naphthol novolac, Representative trivalent or higher phenols are available. Further, it is preferable to use a divalent phenol such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'- biphenol, hydroquinone, resorcin, , Polyhydric phenolic compounds synthesized by condensation agents such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene dichloride, bischloromethylbiphenyl, and bischloromethylnaphthalene.

아민류로는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐술폰, m-페닐렌디아민, p-크실릴렌디아민 등의 방향족 아민류, 에틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민 등의 지방족 아민류가 있다. Examples of the amines include 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine and p-xylylenediamine. Aliphatic amines such as aromatic amines, ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine.

상기 조성물에는 이들 경화제의 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다. One or more of these curing agents may be used in the composition.

상기 조성물에 사용되는 에폭시 수지는 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상 가지는 것 중에서 선택된다. 예를 들면 비스페놀 A, 비스페놀 F, 3,3',5,5'-테트라메틸-비스페놀 F, 비스페놀 S, 플루오렌비스페놀, 2,2'-비페놀, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디하이드록시비페놀, 레조르신, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류의 에폭시화물, 트리스-(4-하이드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-하이드록시페닐)에탄, 페놀 노볼락, o-크레졸 노볼락 등의 3가 이상의 페놀류의 에폭시화물, 디시클로펜타디엔과 페놀류의 공축합 수지의 에폭시화물, 페놀류와 파라크실릴렌디클로라이드 등으로부터 합성되는 페놀아랄킬 수지류의 에폭시화물, 페놀류와 비스클로로메틸비페닐 등으로부터 합성되는 비페닐아랄킬형 페놀 수지의 에폭시화물, 나프톨류와 파라크실릴렌디클로라이드 등으로부터 합성되는 나프톨아랄킬 수지류의 에폭시화물 등을 들 수 있다. 이 에폭시 수지들은 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다. The epoxy resin used in the composition is selected from those having two or more epoxy groups in one molecule. For example, bisphenol A, bisphenol F, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 2,2'-biphenol, Tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenol, resorcin, naphthalene diols, and other divalent phenols such as tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, and o-cresol novolac, epoxides of cocondensation resins of dicyclopentadiene and phenols, phenols and paraxylylene dichloride , Epoxides of biphenyl aralkyl type phenol resins synthesized from phenols and bischloromethyl biphenyl, naphthol aralkyl resins synthesized from naphthols and para-xylylene di-chlorides, etc. And the like. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

상기 1) 및 3) 조성물의 경우, StPNE를 필수 성분으로 포함한다. 이 에폭시 수지 조성물 중에는 에폭시 수지 성분으로서 StPNE 이외에 별종의 에폭시 수지를 배합해도 된다. 이 경우의 에폭시 수지로는 분자 중에 에폭시기를 2개 이상 가지는 통상적인 에폭시 수지는 모두 사용할 수 있다. 예를 들면 비스페놀 A, 비스페놀 S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 하이드로퀴논, 레조르신 등의 2가의 페놀류, 혹은 트리스-(4-하이드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-하이드록시페닐)에탄, 페놀 노볼락, o-크레졸 노볼락 등의 3가 이상의 페놀류, 페놀계 아랄킬 수지류, 비페닐아랄킬 수지류, 나프톨계 아랄킬 수지류 또는 테트라브로모비스페놀 A 등의 할로겐화 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르화물 등이 있다. 이 에폭시 수지들은 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다. 그리고 본 발명의 StPNE를 필수 성분으로 하는 조성물의 경우, StPNE의 배합량은 에폭시 수지 전체 중 5~100%, 바람직하게는 60~100%의 범위인 것이 좋다. For the above 1) and 3) compositions, StPNE is included as an essential ingredient. In this epoxy resin composition, a different kind of epoxy resin may be blended in addition to StPNE as an epoxy resin component. As the epoxy resin in this case, any conventional epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule can be used. For example, divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone and resorcin, and tris- (4-hydroxyphenyl) Methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, and o-cresol novolak, phenolic aralkyl resins, biphenyl aralkyl resins , Naphthol-based aralkyl resins, or glycidyl ether compounds derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. In the case of a composition comprising StPNE as an essential component of the present invention, the blending amount of StPNE is preferably in the range of 5 to 100%, more preferably 60 to 100% of the total epoxy resin.

본 발명의 에폭시 수지 조성물 중에는 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르, 폴리우레탄, 석유 수지, 인덴 수지, 인덴·쿠마론 수지, 페녹시 수지 등의 올리고머 또는 고분자 화합물을 다른 개질제 등으로서 적절히 배합해도 된다. 첨가량은 통상 에폭시 수지 100중량부에 대하여 2~30중량부의 범위이다. To the epoxy resin composition of the present invention, an oligomer or polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene resin, indene · coumarone resin or phenoxy resin is suitably compounded You can. The addition amount is usually in the range of 2 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

또한 본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 무기 충전제, 안료, 난연제, 요변성(thixotropy) 부여제, 커플링제, 유동성 향상제 등의 첨가제를 배합할 수 있다. 무기 충전제로서는 예를 들면 구상(球狀) 혹은 파쇄상의 용융 실리카, 결정 실리카 등의 실리카 분말, 알루미나 분말, 유리 분말, 또는 마이카, 탈크, 탄산칼슘, 알루미나, 수화(水和) 알루미나 등을 들 수 있으며, 반도체 봉지재에 사용할 경우의 바람직한 배합량은 70중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 80중량% 이상이다. The epoxy resin composition of the present invention may further contain additives such as an inorganic filler, a pigment, a flame retardant, a thixotropy-imparting agent, a coupling agent, and a fluidity-improving agent. Examples of the inorganic filler include silica powder such as spherical or crushed fused silica and crystalline silica, alumina powder, glass powder, or mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina and the like . When it is used in a semiconductor encapsulant, a preferable amount is 70% by weight or more, and more preferably 80% by weight or more.

안료로는 유기계 또는 무기계의 체질 안료, 인편상(鱗片狀) 안료 등이 있다. 요변성 부여제로는 실리콘계, 피마자유계, 지방족 아마이드 왁스, 산화 폴리에틸렌 왁스, 유기 벤토나이트계 등을 들 수 있다. Examples of pigments include organic or inorganic extender pigments, scaly pigments, and the like. Examples of the thixotropic agent include a silicone type, a castor oil type, an aliphatic amide wax, an oxidized polyethylene wax, and an organic bentonite type.

또한 본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 예를 들면 아민류, 이미다졸류, 유기 포스핀류, 루이스산 등이 있으며, 구체적으로는 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 3급 아민, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-헵타데실이미다졸 등의 이미다졸류, 트리부틸포스핀, 메틸디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 디페닐포스핀, 페닐포스핀 등의 유기 포스핀류, 테트라페닐포스포늄·테트라페닐보레이트, 테트라페닐포스포늄·에틸트리페닐보레이트, 테트라부틸포스포늄·테트라부틸보레이트 등의 테트라 치환 포스포늄·테트라 치환 보레이트, 2-에틸-4-메틸이미다졸·테트라페닐보레이트, N-메틸모르폴린·테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등이 있다. 첨가량은 통상 에폭시 수지 100중량부에 대하여 0.2에서 5중량부의 범위이다. In the epoxy resin composition of the present invention, a curing accelerator may be used if necessary. Examples thereof include amines, imidazoles, organic phosphines and Lewis acids. Specific examples thereof include 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanol Amine, dimethylaminoethanol, and tris (dimethylaminomethyl) phenol; a tertiary amine such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, Imidazoles such as methylimidazole and 2-heptadecylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine, and organic phosphines such as tetraphenyl Tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borates such as tetrabutylphosphonium tetrabutylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium tetrabutylborate and the like, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate , Tetramhenylboron salts such as N-methylmorpholine-tetraphenylborate . The addition amount is usually in the range of 0.2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

또한 필요에 따라서 본 발명의 수지 조성물에는 카르나우바 왁스(carnauba wax), OP 왁스 등의 이형제, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 커플링제, 카본 블랙 등의 착색제, 3산화 안티몬 등의 난연제, 실리콘 오일 등의 저응력화제, 스테아르산칼슘 등의 윤활제 등을 사용할 수 있다. If necessary, the resin composition of the present invention may contain a releasing agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, a coloring agent such as carbon black, antimony trioxide Flame retardants such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, and the like can be used.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 유기 용제를 용해시킨 바니쉬(varnish) 상태로 한 후에 글래스 클로스(glass cloth), 아라미드 부직포, 액정 폴리머 등의 폴리에스테르 부직포 등의 섬유형상물에 함침시킨 후에 용제 제거를 하여 프리프레그(prepreg)로 할 수 있다. 또한 경우에 따라 동박, 스테인리스박, 폴리이미드 필름, 폴리에스테르 필름 등의 시트형상물 위에 도포함으로써 적층물로 할 수 있다. The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by impregnating a fibrous material such as glass cloth, aramid nonwoven fabric or liquid crystal polymer into a fibrous material such as varnish after dissolving an organic solvent, It can be a prepreg. Further, it may be coated on a sheet material such as a copper foil, a stainless steel foil, a polyimide film, or a polyester film, as the case may be.

본 발명의 에폭시 수지 조성물을 가열 경화시키면 에폭시 수지 경화물로 할 수 있으며, 이 경화물은 경화성, 난연성, 저흡습성, 저탄성 등의 점에서 뛰어나다. 이 경화물은 에폭시 수지 조성물을 주형, 압축 성형, 트랜스퍼 성형 등의 방법으로 성형 가공하여 얻을 수 있다. 이 때의 온도는 통상 120~220℃의 범위이다. When the epoxy resin composition of the present invention is cured by heating, it can be made into an epoxy resin cured product. The cured product is superior in terms of curability, flame retardancy, low hygroscopicity, and low elasticity. This cured product can be obtained by molding an epoxy resin composition by a method such as molding, compression molding, transfer molding or the like. The temperature at this time is usually in the range of 120 to 220 占 폚.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

(다가 하이드록시 수지의 합성) (Synthesis of polyhydric hydroxy resin)

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

1L의 4구 플라스크에 다가 하이드록시 화합물 성분으로서 페놀 노볼락(쇼와코분시 제품; BRG-555, 수산기당량 105g/eq., 연화점 67℃, 150℃에서의 용융 점도 0.08Pa·s)을 105g, 톨루엔 5.3g, 산 촉매로서 p-톨루엔술폰산 0.078g(300ppm)을 투입하여 100℃로 승온하였다. 다음으로 100℃에서 교반하면서 스티렌 156g(1.5몰)을 3시간에 걸쳐 적하하여 반응시켰다. 추가로 100℃에서 2시간 반응한 후, 30% Na2CO3 0.071g을 첨가하여 중화하였다. 다음으로 MIBK 485g에 용해시켜 80℃에서 5회 수세하였다. 이어서 MIBK를 감압 증류 제거한 후 다가 하이드록시 수지 250g을 얻었다. 그 수산기당량은 261g/eq., 연화점은 82℃, 150℃에서의 용융 점도는 0.21Pa·s였다. 이 수지를 StPN-A라고 한다. 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI) 측정에 있어서 단가 하이드록시 화합물(2)의 면적%는 1.2%였다. StPN-A의 GPC 차트를 도 1에 나타낸다. Phenol novolac (BRG-555, manufactured by Showa Kobo Co., Ltd., hydroxyl group equivalent: 105 g / eq., Softening point: 67 캜, melt viscosity at 150 캜: 0.08 Pa ·) as a polyhydroxy compound component was added to a 1 L four- , Toluene (5.3 g) and 0.078 g (300 ppm) of p-toluenesulfonic acid as an acid catalyst were charged and the temperature was raised to 100 占 폚. Next, 156 g (1.5 mol) of styrene was added dropwise over 3 hours while stirring at 100 캜 and reacted. After further reaction at 100 ° C for 2 hours, 0.071 g of 30% Na 2 CO 3 was added to neutralize. Then, the solution was dissolved in 485 g of MIBK and was washed five times at 80 ° C. Subsequently, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain 250 g of a polyhydric hydroxy resin. The hydroxyl group equivalent was 261 g / eq., The softening point was 82 ° C, and the melt viscosity at 150 ° C was 0.21 Pa · s. This resin is referred to as StPN-A. The area% of the monohydric hydroxy compound (2) in the gel permeation chromatography (GPC; RI) measurement was 1.2%. A GPC chart of StPN-A is shown in Fig.

<합성예 1>&Lt; Synthesis Example 1 &

1L의 4구 플라스크에 다가 하이드록시 화합물 성분으로서 페놀 노볼락(쇼와코분시 제품; BRG-555)을 105g, 톨루엔 5.3g, 산 촉매로서 p-톨루엔술폰산 0.131g(500ppm)을 투입하여 150℃로 승온하였다. 다음으로 150℃에서 교반하면서 스티렌 156g(1.5몰)을 3시간에 걸쳐 적하하여 반응시켰다. 또한 150℃에서 2시간 반응한 후 30% Na2CO3 0.118g을 첨가하여 중화하였다. 다음으로 MIBK 485g에 용해시켜 80℃에서 5회 수세하였다. 이어서 MIBK를 감압 증류 제거한 후 다가 하이드록시 수지 247g을 얻었다. 그 연화점은 80℃, 150℃에서의 용융 점도는 0.19Pa·s, 수산기당량은 261g/eq.였다. 이 수지를 StPN-B라고 한다. 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI) 측정에 있어서, 단가 하이드록시 화합물(2)의 면적%는 5.2%였다. 또한 스티렌 다이머의 면적%는 0.8%였다. StPN-B의 GPC 차트를 도 2에 나타낸다. 도 1~2에서 A는 단가 하이드록시 화합물(2)의 피크를 나타내고, B는 스티렌 다이머의 피크를 나타낸다. 105 g of phenol novolac (BRG-555, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) as a polyhydroxy compound component, 5.3 g of toluene and 0.131 g (500 ppm) of p-toluenesulfonic acid as an acid catalyst were added to a 1 L four- Lt; / RTI &gt; Then, 156 g (1.5 mol) of styrene was added dropwise over 3 hours while stirring at 150 캜, and the reaction was carried out. After reacting at 150 ° C for 2 hours, 0.118 g of 30% Na 2 CO 3 was added to neutralize. Then, the solution was dissolved in 485 g of MIBK and was washed five times at 80 ° C. Subsequently, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain 247 g of a polyhydric hydroxy resin. The softening point thereof was 80 ° C, the melt viscosity at 150 ° C was 0.19 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent was 261 g / eq. This resin is referred to as StPN-B. In the gel permeation chromatography (GPC; RI) measurement, the area% of the monohydric hydroxy compound (2) was 5.2%. The area% of the styrene dimer was 0.8%. A GPC chart of StPN-B is shown in Fig. In Figs. 1 to 2, A represents the peak of the monohydric hydroxy compound (2), and B represents the peak of the styrene dimer.

(에폭시 수지의 합성) (Synthesis of epoxy resin)

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

4구 세퍼러블 플라스크에 실시예 1에서 얻은 StPN-A 150g, 에피클로로히드린 319g, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 48g을 넣어 교반 용해시켰다. 균일하게 용해한 후 130mmHg의 감압하 65℃로 유지하고, 48% 수산화나트륨 수용액 47.9g을 4시간에 걸쳐 적하하고, 이 적하 중에 환류 유출(留出)된 물과 에피클로로히드린을 분리조(槽;tank)에서 분리하여 에피클로로히드린은 반응 용기에 돌려보내고, 물은 계 외로 제거하여 반응하였다. 반응 종료 후 여과에 의해 생성된 염을 제거하고, 수세한 뒤 에피클로로히드린을 증류 제거하여 에폭시 수지 172g을 얻었다(StPNE-A). 얻어진 수지의 에폭시당량은 325g/eq., 연화점은 60℃, 150℃에서의 용융 점도는 0.19Pa·s였다. 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI) 측정에 있어서 단가 에폭시 화합물(5)의 면적%는 1.1%였다. StPNE-A의 GPC 차트를 도 3에 나타낸다. 150 g of StPN-A obtained in Example 1, 319 g of epichlorohydrin, and 48 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a four-necked separable flask and dissolved by stirring. After uniformly dissolving, 47.9 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over a period of 4 hours while maintaining the temperature at 65 DEG C under a reduced pressure of 130 mmHg. Then, water and epichlorohydrin, which had been refluxed and distilled in this dropwise addition, ; and the epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and water was removed from the system and reacted. After completion of the reaction, the salt produced by the filtration was removed, and after washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 172 g of an epoxy resin (StPNE-A). The obtained resin had an epoxy equivalent of 325 g / eq., A softening point of 60 DEG C, and a melt viscosity of 0.19 Pa &amp;bull; at 150 DEG C. The area% of the unit price epoxy compound (5) in the gel permeation chromatography (GPC; RI) measurement was 1.1%. A GPC chart of StPNE-A is shown in Fig.

<합성예 2>&Lt; Synthesis Example 2 &

4구 세퍼러블 플라스크에 합성예 1에서 얻은 StPN-B 150g, 에피클로로히드린 319g, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 48g을 넣어 교반 용해시켰다. 균일하게 용해한 후 130mmHg의 감압하 65℃로 유지하고, 48% 수산화나트륨 수용액 47.9g을 4시간에걸쳐 적하하고, 이 적하 중에 환류 유출된 물과 에피클로로히드린을 분리조에서 분리하여 에피클로로히드린은 반응 용기에 돌려보내고, 물은 계 외로 제거하여 반응하였다. 반응 종료 후 여과에 의해 생성된 염을 제거하고, 수세한 뒤 에피클로로히드린을 증류 제거하여 에폭시 수지 170g을 얻었다(StPNE-B). 얻어진 수지의 에폭시당량은 330g/eq., 연화점은 57℃, 150℃에서의 용융 점도는 0.18Pa·s였다. 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI) 측정에 있어서 단가 에폭시 화합물(5)의 면적%는 5.0%였다. 또한 스티렌 다이머의 면적%는 0.6%였다. StPNE-B의 GPC 차트를 도 4에 나타낸다. 도 3~4에서 A는 단가 에폭시 화합물(5)의 피크를 나타내고, B는 스티렌 다이머의 피크를 나타낸다. 150 g of StPN-B obtained in Synthesis Example 1, 319 g of epichlorohydrin, and 48 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a four-necked separable flask and dissolved by stirring. After uniformly dissolving, 47.9 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over a period of 4 hours while maintaining the temperature at 65 ° C under a reduced pressure of 130 mmHg. The water and epichlorohydrin, which had been refluxed and discharged in the dropwise addition, The drain was returned to the reaction vessel, and the water was removed from the system and reacted. After completion of the reaction, the salt formed by filtration was removed, and after washing with water, the epichlorohydrin was distilled off to obtain 170 g of an epoxy resin (StPNE-B). The obtained resin had an epoxy equivalent of 330 g / eq., A softening point of 57 캜, and a melt viscosity at 150 캜 of 0.18 Pa · s. The area% of the unit price epoxy compound (5) in the gel permeation chromatography (GPC; RI) measurement was 5.0%. The area% of the styrene dimer was 0.6%. A GPC chart of StPNE-B is shown in Fig. 3 to 4, A represents the peak of the unit charge epoxy compound (5), and B represents the peak of the styrene dimer.

<실시예 3 및 비교예 1, 2>&Lt; Example 3 and Comparative Examples 1 and 2 >

에폭시 수지 성분으로서 o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지(OCNE; 에폭시당량 200, 연화점 65℃)를 사용하고, 경화제로서 실시예 1에서 얻은 STPN-A, 합성예 1에서 얻은 STPN-B 외에, 페놀 노볼락(PN;PSM-4261(군에이카가쿠 제품); OH당량 103, 연화점 82℃)을 사용하였다. 충전제로서 실리카(평균 입경 18㎛), 경화 촉진제로서 트리페닐포스핀 및 기타 첨가제를 표 1에 나타내는 배합으로 혼련하여 에폭시 수지 조성물을 얻었다. 이 에폭시 수지 조성물을 이용해서 175℃로 성형하고, 175℃에서 12시간 포스트 큐어하여 경화물 시험편을 얻은 후 각종 물성 측정에 제공하였다. 물성 측정의 상세를 이하에 나타내고, 결과를 표 2에 나타낸다. (OCNE; epoxy equivalent: 200, softening point: 65 占 폚) was used as an epoxy resin component, and STPN-A obtained in Example 1 and STPN-B obtained in Synthesis Example 1 were used as a curing agent, Volatile (PN; PSM-4261, manufactured by Kunigakagaku Corporation; OH equivalent: 103, softening point: 82 占 폚) was used. Silica (average particle size of 18 占 퐉) as a filler, triphenylphosphine as a curing accelerator and other additives were kneaded in the form shown in Table 1 to obtain an epoxy resin composition. This epoxy resin composition was molded at 175 DEG C and post cured at 175 DEG C for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. Details of the measurement of physical properties are shown below, and the results are shown in Table 2.

1)다가 하이드록시 수지, 에폭시 수지의 분자량 분포 1) Molecular weight distribution of polyhydric hydroxy resin and epoxy resin

GPC 측정장치(니혼 워터즈 제품, 515A형 GPC)를 이용하고, 칼럼으로 TSKgel SuperHZ2000(토소 제품) 3개, TSKgel SuperHZ4000(토소 제품) 1개를 사용하고, 검출기를 RI로 하고, 용매로 테트라하이드로후란, 유량 0.6ml/min, 칼럼 온도 40℃로 해서 측정하였다. Three TSKgel SuperHZ2000 (Toso products) and one TSKgel SuperHZ4000 (Toso products) were used as columns, a detector was set as RI, and tetrahydrofuran (THF) was used as a solvent. Flow rate of 0.6 ml / min, and a column temperature of 40 캜.

2)연화점 2) Softening point

자동 연화점 장치(메이호샤 제품, ASP-M4SP)를 이용해서 JIS-K-2207에 따라 환구법으로 측정하였다. And measured by a circular method according to JIS-K-2207 using an automatic softening point device (ASP-M4SP, manufactured by Meehosha Co., Ltd.).

3)용융 점도 3) Melt viscosity

BROOKFIELD제, CAP2000H형 회전 점도계를 이용해서 150℃에서 측정하였다. And measured at 150 캜 using a rotational viscometer of CAP 2000 H type manufactured by BROOKFIELD.

4)수산기당량의 측정 4) Measurement of hydroxyl equivalent

전위차 적정장치를 이용하고 1,4-디옥산을 용매로 사용해서 1.5mol/L 염화 아세틸로 아세틸화를 하고, 과잉 염화 아세틸을 물로 분해하여 0.5mol/L-수산화 칼륨을 사용해서 적정하였다. The acetalization with 1.5 mol / L acetyl chloride using 1,4-dioxane as a solvent was carried out using a potentiometric titration apparatus, and the excess acetyl chloride was digested with water and titrated with 0.5 mol / L-potassium hydroxide.

5)에폭시당량의 측정 5) Measurement of epoxy equivalence

전위차 적정장치를 이용하고, 용매로서 메틸에틸케톤을 사용하고, 브롬화 테트라에틸암모늄아세트산 용액을 첨가하여, 전위차 적정장치로 0.1mol/L 과염소산-아세트산 용액을 이용해서 측정하였다. A potentiometric titration apparatus was used, methyl ethyl ketone was used as a solvent, a tetraethylammonium acetic acid bromide solution was added, and the concentration was measured using a 0.1 mol / L perchloric acid-acetic acid solution with a potentiometric titration apparatus.

6)겔 타임 6) Gel time

175℃로 가열해 둔 겔화 시험기(닛신카가쿠(주) 제품)의 플레이트 상에 에폭시 수지 조성물을 첨가하고, 불소 수지봉을 이용해서 1초에 2회전의 속도로 교반하여, 에폭시 수지 조성물이 경화될 때까지 소요된 겔화 시간을 조사하였다. The epoxy resin composition was added to a plate of a gelation tester (manufactured by Nisshin Kakaku Co., Ltd.) heated to 175 ° C and stirred at a rate of two revolutions per second using a fluorine resin bar to obtain a cured epoxy resin composition The gelation time required until the gel was observed.

7)선팽창계수(CTE), 유리 전이점(Tg)7) Coefficient of linear expansion (CTE), glass transition point (Tg)

세이코인스트루제 TMA120C형 열기계 측정장치로 승온속도 10℃/분의 조건으로 Tg를 구해, α1(Tg 이하의 CTE)은 30~50℃ 범위의 평균값을, 또 α2(Tg 이상의 CTE)는 Tg 플러스 20℃~40℃ 범위의 평균값으로부터 구하였다. Tg was calculated with a Seiko Instruments TMA120C thermomechanical measuring apparatus under the condition of a temperature raising rate of 10 DEG C / min. The alpha 1 (CTE below Tg) is an average value in the range of 30 to 50 DEG C and alpha 2 (CTE above Tg) Plus 20 占 폚 to 40 占 폚.

8)굽힘 강도 및 굽힘 탄성 8) Bending strength and bending elasticity

JISK 6911에 따라 3점 굽힘 시험법으로 상온에서 측정하였다. According to JISK 6911, it was measured at room temperature by the three-point bending test.

9)접착 강도 9) Adhesive strength

동판 2장 사이에 25mm×12.5mm×0.5mm의 성형물을 압축 성형기로 175℃에서 성형하고, 180℃에서 12시간 포스토 큐어를 한 후 인장 전단 강도를 구함으로써 평가하였다. A molded article of 25 mm x 12.5 mm x 0.5 mm was molded between two copper plates at 175 DEG C by a compression molding machine and evaluated by determining the tensile shear strength after post curing at 180 DEG C for 12 hours.

10)흡수율(吸水率) 10) Absorption rate (water absorption rate)

25℃, 상대습도 50%의 조건을 표준 상태로 하고, 85℃, 상대습도 85%의 조건으로 100시간 흡습시킨 후의 중량 변화율로 하였다. 25 deg. C and 50% relative humidity was set to the standard state, and the weight change rate after moisture absorption at 85 deg. C and 85% relative humidity for 100 hours was determined.

11)난연성 11) Flammability

두께 1/16인치의 시험편을 성형하여 UL94V-0 규격에 의해 평가하고, 5개의 시험편에서의 합계 연소 시간으로 나타냈다. A 1/16 inch thick test piece was molded and evaluated according to UL94V-0 standard, and expressed as the total burning time in five test pieces.

Figure 112013035993489-pct00006
Figure 112013035993489-pct00006

Figure 112013035993489-pct00007
Figure 112013035993489-pct00007

<실시예 4, 5 및 비교예 3~5>&Lt; Examples 4 and 5 and Comparative Examples 3 and 5 >

에폭시 수지 성분으로서 실시예 2에서 얻은 StPNE-A, 합성예 2에서 얻은 StPNE-B 외에, o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지(OCNE; 에폭시당량 200, 연화점 65℃)를 사용하고, 경화제 성분으로서 페놀아랄킬 수지(PA; MEH-7800SS(메이와카세이 제품), OH당량 175, 연화점 67℃) 또는 페놀 노볼락(PN; PSM-4261(군에이카가쿠 제품) OH당량 103, 연화점 82℃)을 사용하였다. 또한 충전제로서 구상 실리카(평균 입경 18㎛), 경화 촉진제로서 트리페닐포스핀을 사용하였다. 표 3에 나타낸 배합으로 에폭시 수지 조성물을 얻었다. 표의 수치는 배합에 있어서의 중량부를 나타낸다.Cresol novolak type epoxy resin (OCNE; epoxy equivalent: 200, softening point: 65 占 폚) was used in place of StPNE-A obtained in Example 2 and StPNE-B obtained in Synthesis Example 2 as epoxy resin components, (OH: equivalent weight: 175, softening point: 67 ° C) or phenol novolac (PN: PSM-4261 (manufactured by Mitsui Eikagaku) OH equivalent: 103, softening point: 82 ° C) Respectively. Also, spherical silica (average particle size of 18 mu m) was used as a filler and triphenylphosphine was used as a curing accelerator. An epoxy resin composition was obtained from the compositions shown in Table 3. The numerical values in the table indicate the parts by weight in the blend.

이 에폭시 수지 조성물을 이용해서 175℃로 성형하고, 추가로 175℃에서 12시간 포스토 큐어를 하여 경화물 시험편을 얻은 후 각종 물성 측정에 제공하였다. 결과를 표 4에 나타낸다. This epoxy resin composition was molded at 175 캜, and further subjected to post cure at 175 캜 for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Table 4.

Figure 112013035993489-pct00008
Figure 112013035993489-pct00008

Figure 112013035993489-pct00009
Figure 112013035993489-pct00009

본 발명의 에폭시 수지 및 다가 하이드록시 수지는 에폭시 수지 조성물에 응용했을 경우, 경화성이 뛰어난 동시에 난연성, 내습성 및 저탄성도 뛰어난 경화물을 부여하고, 전기·전자 부품류의 봉지, 회로 기판 재료 등의 용도로 바람직하게 사용할 수 있다. 특히 경화성 및 난연성이 뛰어나고, 뛰어난 성형성을 확보하면서, 환경 부하가 있는 난연제의 사용을 불필요하게 하거나 또는 감소시킨다. The epoxy resin and the polyhydric hydroxy resin of the present invention are applied to an epoxy resin composition to give a cured product excellent in curability and excellent in flame retardance, moisture resistance, and low elasticity, and used for encapsulating electric and electronic parts, Can be preferably used. In particular, it is excellent in curability and flame retardancy, and while ensuring excellent moldability, the use of a flame retardant having an environmental load is dispensed with or reduced.

Claims (9)

하기 일반식(4)로 표시되는 에폭시 수지에 있어서, 하기 일반식(5)로 표시되는 단가(單價) 에폭시 수지가 겔 침투 크로마토그래피로 검출했을 때의 면적%로 3% 이하인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지.
Figure 112013036418707-pct00019

여기서, G는 글리시딜기를 나타내고, R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, R2는 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내고, n은 1~20의 수를 나타낸다. 또한 p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다. R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.
Figure 112013036418707-pct00020

여기서, G는 글리시딜기를 나타내고, p는 0~3의 수를 나타내고, R1 및 R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.
1. An epoxy resin represented by the following general formula (4), wherein the unit epoxy resin represented by the following general formula (5) is not more than 3% by area% when it is detected by gel permeation chromatography Suzy.
Figure 112013036418707-pct00019

R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; R 2 represents a substituent represented by the formula (a); and n represents a number of 1 to 20, wherein G represents a glycidyl group, R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, And p represents a number of 0.1 to 2.5. R 3 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
Figure 112013036418707-pct00020

Here, G represents a glycidyl group, p represents a number of 0 to 3, and R 1 and R 3 represent hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms.
하기 일반식(1)로 표시되고, 하기 일반식(2)로 표시되는 단가 하이드록시 화합물이 겔 침투 크로마토그래피(GPC;RI)로 검출했을 때의 면적%로 3% 이하인 다가 하이드록시 수지와 에피클로로히드린을 반응시켜, 다가 하이드록시 수지의 하이드록시기를 글리시딜에테르기로 하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
Figure 112013036418707-pct00021

여기서, R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, R2는 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내고, n은 1~20의 수를 나타낸다. 또한 p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다. R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.
Figure 112013036418707-pct00022

여기서, p는 0~3의 수를 나타내고, R1 및 R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.
A polyhydroxy resin having an epoxy equivalent of 3% or less as measured by gel permeation chromatography (GPC) (RI) and represented by the following general formula (1) and a monohydric hydroxy compound represented by the following general formula (2) Chlorohydrin is reacted with the hydroxyl group of the polyhydric hydroxy resin to obtain a glycidyl ether group.
Figure 112013036418707-pct00021

Here, R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the formula (a), and n represents a number of 1 to 20. And p represents a number of 0.1 to 2.5. R 3 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
Figure 112013036418707-pct00022

Here, p represents a number of 0 to 3, and R 1 and R 3 represent hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms.
에폭시 수지 및 경화제로 이루어지는 에폭시 수지 조성물에 있어서, 제1항에 기재된 에폭시 수지를 필수 성분으로 배합해서 이루어지는 에폭시 수지 조성물.An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, the epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to claim 1 as an essential component. 제3항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 경화물. An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 3. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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