JP2019089967A - Allyl group-containing carbonate resin, method for producing the same, resin varnish, and method for producing laminated plate - Google Patents

Allyl group-containing carbonate resin, method for producing the same, resin varnish, and method for producing laminated plate Download PDF

Info

Publication number
JP2019089967A
JP2019089967A JP2017220710A JP2017220710A JP2019089967A JP 2019089967 A JP2019089967 A JP 2019089967A JP 2017220710 A JP2017220710 A JP 2017220710A JP 2017220710 A JP2017220710 A JP 2017220710A JP 2019089967 A JP2019089967 A JP 2019089967A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
resin
allyl group
group
carbonate resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017220710A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6998739B2 (en
Inventor
達 天野
Tatsu Amano
達 天野
幸雄 阿部
Yukio Abe
幸雄 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gun Ei Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Gun Ei Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gun Ei Chemical Industry Co Ltd filed Critical Gun Ei Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2017220710A priority Critical patent/JP6998739B2/en
Priority to TW107138781A priority patent/TWI771517B/en
Priority to CN201811345927.3A priority patent/CN110003457B/en
Publication of JP2019089967A publication Critical patent/JP2019089967A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6998739B2 publication Critical patent/JP6998739B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/067Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of fibres or filaments
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/02Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by structural features of a fibrous or filamentary layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/22Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed
    • B32B5/24Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being a fibrous or filamentary layer
    • B32B5/26Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being a fibrous or filamentary layer another layer next to it also being fibrous or filamentary
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/16Aliphatic-aromatic or araliphatic polycarbonates
    • C08G64/1691Aliphatic-aromatic or araliphatic polycarbonates unsaturated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/20General preparatory processes
    • C08G64/30General preparatory processes using carbonates
    • C08G64/305General preparatory processes using carbonates and alcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/20General preparatory processes
    • C08G64/30General preparatory processes using carbonates
    • C08G64/307General preparatory processes using carbonates and phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2260/00Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/02Composition of the impregnated, bonded or embedded layer
    • B32B2260/021Fibrous or filamentary layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2260/00Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/04Impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/046Synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2262/00Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
    • B32B2262/10Inorganic fibres
    • B32B2262/101Glass fibres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/204Di-electric
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2369/00Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2463/00Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2479/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2461/00 - C08J2477/00
    • C08J2479/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2479/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

To provide an allyl group-containing carbonate resin which can be used as an epoxy resin curing agent and can provide a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, a method for producing the allyl group-containing carbonate resin, a resin varnish capable of providing a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and a method for producing a laminated plate using the resin varnish.SOLUTION: The allyl group-containing carbonate resin is provided that contains a compound represented by the following formula (1) as a main component. In formula (1), Rrepresents a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, n represents an integer of 0 or more, Rrepresents a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, at least a part of 2 pieces of Rand n pieces of Rcontain an allyl group, and X represents a hydrogen atom or an allyl group.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、アリル基含有カーボネート樹脂、その製造方法、樹脂ワニス、および積層板の製造方法に関する。   The present invention relates to an allyl group-containing carbonate resin, a method for producing the same, a resin varnish, and a method for producing a laminate.

従来、電子製品に用いられる部材、例えば絶縁性の積層板やその片面又は両面に銅箔が積層した積層板(銅張積層板)に、エポキシ樹脂が用いられている。積層板は、例えばエポキシ樹脂、硬化剤等が溶剤に溶解した樹脂ワニスをガラスクロス等の繊維質基材に含浸させ、乾燥してプリプレグとし、これを単独で又は複数枚を重ねて熱プレスすることで製造される。エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノールとホルムアルデヒドを用いたフェノールノボラック樹脂が広く使用されている。   BACKGROUND ART Epoxy resins are conventionally used for members used in electronic products, such as insulating laminates and laminates (copper-clad laminates) in which copper foil is laminated on one side or both sides thereof. For example, a resin varnish in which an epoxy resin, a curing agent, etc. is dissolved in a solvent is impregnated into a fibrous base material such as glass cloth and dried to form a prepreg, which is heat-pressed singly or in combination. Manufactured by As a curing agent for epoxy resin, phenol novolac resin using phenol and formaldehyde is widely used.

近年、電子製品の高性能化が図られる中、積層板を構成する樹脂にさらなる低誘電率、低誘電正接が求められている。エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物の電気特性(低誘電率、低誘電正接)は、汎用の電子製品に要求されるレベルを満たすことはできても、高性能電子製品(スマートフォン、タブレット等)に要求されるレベルを満たすことは困難である。   In recent years, while higher performance of electronic products has been achieved, lower dielectric constants and lower dielectric loss tangents are required of resins constituting laminates. The electrical properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) of the cured product of epoxy resin cured with phenol novolac resin can meet the level required for general purpose electronic products, but it is a high performance electronic product (smartphone, It is difficult to meet the level required for tablets etc.).

2官能フェニレンエーテルオリゴマーをエポキシ樹脂硬化剤として用いることが提案されている(特許文献1)。かかるエポキシ樹脂硬化剤によれば、電気特性に優れたエポキシ樹脂硬化物が得られるとされている。
しかし、特許文献1のエポキシ樹脂硬化剤を用いた硬化物の誘電正接は未だ十分に低いとはいえない。
It has been proposed to use a bifunctional phenylene ether oligomer as an epoxy resin curing agent (Patent Document 1). According to such an epoxy resin curing agent, it is said that an epoxy resin cured product having excellent electrical properties can be obtained.
However, the dielectric loss tangent of the cured product using the epoxy resin curing agent of Patent Document 1 is not yet sufficiently low.

特開2004−224860号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-224860

本発明は、マレイミド硬化剤として使用でき、低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られるアリル基含有カーボネート樹脂およびその製造方法、ならびに低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られる樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention is an allyl group-containing carbonate resin which can be used as a maleimide curing agent and provides a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, a method for producing the same, and a resin varnish capable of obtaining a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. And it aims at providing the manufacturing method of the laminated board using this.

本発明は、以下の態様を有する。
〔1〕下記式(1)で表される化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂。

Figure 2019089967
[式中、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、2個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは0以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有し、Xは水素原子またはアリル基を示し、2個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
〔2〕前記式(1)中のRが、アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基である、〔1〕のアリル基含有カーボネート樹脂。
〔3〕前記式(1)中のRが、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基である、〔2〕のアリル基含有カーボネート樹脂。
Figure 2019089967
[式中、pは1または2を示し、qは0〜2の整数を示す。]
〔4〕前記式(1)中のn個のRの少なくとも一部が、脂環式ジメタノール化合物由来の残基である、〔1〕〜〔3〕のいずれかのアリル基含有カーボネート樹脂。
〔5〕炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物および脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール化合物とを反応させる工程を有し、前記ジオール化合物の少なくとも一部がアリル基を含有する、アリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔6〕前記炭酸エステルと前記ジオール化合物とを反応させる工程が、
炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、一次反応生成物を得て、前記一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程、または
炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程である、〔5〕のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔7〕前記一次反応生成物を得る際の、前記脂環式ジメタノール化合物と前記芳香族ジオール化合物との合計量に対する前記炭酸ジエステルのモル比が、1.05〜3.00である、〔6〕のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔8〕前記炭酸エステルと前記ジオール化合物との反応により生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させ、前記水酸基をアリルエーテル化する工程をさらに有する、〔6〕または〔7〕のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
〔9〕前記〔1〕〜〔4〕のいずれかのアリル基含有カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、溶剤とを含む樹脂ワニス。
〔10〕前記アリル基含有カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含み、
エポキシ樹脂をさらに含む〔9〕の樹脂ワニス。
〔11〕前記〔9〕または〔10〕の樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、前記樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る、積層板の製造方法。 The present invention has the following aspects.
[1] An allyl group-containing carbonate resin containing a compound represented by the following formula (1) as a main component.
Figure 2019089967
[Wherein, R 1 represents a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and two R 1 s are identical to or different from each other] N is an integer of 0 or more, R 2 is a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and n is 2 or more And n R 2 s may be the same or different, and at least a portion of two R 1 s and n R 2 s contain an allyl group, and X represents a hydrogen atom or an allyl group And two X's may be the same or different. ]
[2] The allyl group-containing carbonate resin of [1], wherein R 1 in the formula (1) is a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound.
[3] The allyl group-containing carbonate resin of [2], wherein R 1 in the formula (1) is a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula (r3).
Figure 2019089967
[In formula, p shows 1 or 2 and q shows the integer of 0-2. ]
[4] The allyl group-containing carbonate resin according to any one of [1] to [3], wherein at least a part of n R 2 in the formula (1) is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound .
[5] A step of reacting carbonic acid diester with at least one diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound, a biphenol compound and an alicyclic dimethanol compound, wherein at least a part of the diol compound is an allyl group A method for producing an allyl group-containing carbonate resin, comprising
[6] The step of reacting the carbonic ester with the diol compound
A carbonic acid diester is reacted with an alicyclic dimethanol compound, or a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, and at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound Reacting to obtain a primary reaction product, and reacting the primary reaction product with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound, or a carbonic diester with a bisphenol compound And a process for producing the allyl group-containing carbonate resin of [5], which is a step of reacting with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of biphenol compounds.
[7] The molar ratio of the carbonic diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound when obtaining the primary reaction product is 1.05 to 3.00, [ 6] The manufacturing method of allyl group containing carbonate resin.
[8] The method further comprising the step of reacting the allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at a terminal with an allyl halide, which is produced by the reaction of the carbonic ester with the diol compound, and allyletherifying the hydroxyl group [ 6] Or the manufacturing method of allyl group containing carbonate resin of [7].
[9] A resin varnish comprising the allyl group-containing carbonate resin of any one of the above [1] to [4], a maleimide compound having two or more maleimide groups, and a solvent.
[10] The allyl group-containing carbonate resin contains a compound in which at least one of two X in the formula (1) is a hydrogen atom,
The resin varnish of [9] which further contains an epoxy resin.
[11] A laminate obtained by impregnating a fibrous base material with the resin varnish of the above [9] or [10] and heating and pressing the fibrous base material impregnated with the resin varnish to obtain a laminate. Method.

本発明によれば、マレイミド硬化剤として使用でき、低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られるアリル基含有カーボネート樹脂およびその製造方法、ならびに低誘電率、低誘電正接の硬化物が得られる樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板の製造方法を提供できる。   According to the present invention, an allyl group-containing carbonate resin which can be used as a maleimide curing agent and can obtain a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, a method for producing the same, and a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent The resin varnish and the manufacturing method of the laminated board using the same can be provided.

≪アリル基含有カーボネート樹脂≫
本発明のアリル基含有カーボネート樹脂(以下、「本カーボネート樹脂」ともいう。)は、下記式(1)で表される化合物を主成分として含む。「主成分」とは、本カーボネート樹脂を構成する成分のうち最も含有量が多い成分を示す。
本カーボネート樹脂は、nの値が異なる複数の化合物の混合物であってよい。
本カーボネート樹脂は、式(1)で表される化合物以外の成分(例えば、後述する式(2)で表される化合物、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物、またはそれらのアリルエーテル化化合物等)を含んでいてもよい。これらの成分は、本カーボネート樹脂の製造に用いられた原料や、製造時に副生した副生物であってもよい。
本カーボネート樹脂中の式(1)で表される化合物の含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。この含有量の上限は特に限定されず、100質量%であってよい。式(1)で表される化合物の含有量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される。
«Allyl group-containing carbonate resin»
The allyl group-containing carbonate resin of the present invention (hereinafter, also referred to as "the present carbonate resin") contains a compound represented by the following formula (1) as a main component. The "main component" refers to the component having the largest content among the components constituting the present carbonate resin.
The carbonate resin may be a mixture of a plurality of compounds having different values of n.
The present carbonate resin contains components other than the compound represented by the formula (1) (for example, a compound represented by the formula (2) described later, a bisphenol compound, a biphenol compound, or an allyletherified compound thereof) It may be These components may be the raw materials used for the production of the present carbonate resin or by-products by-produced during the production.
80 mass% or more is preferable, and, as for content of the compound represented by Formula (1) in this carbonate resin, 90 mass% or more is more preferable. The upper limit of the content is not particularly limited, and may be 100% by mass. The content of the compound represented by formula (1) is measured by gel permeation chromatography (GPC).

Figure 2019089967
[式中、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、2個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは0以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有し、Xは水素原子またはアリル基を示し、2個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 2019089967
[Wherein, R 1 represents a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and two R 1 s are identical to or different from each other] N is an integer of 0 or more, R 2 is a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and n is 2 or more And n R 2 s may be the same or different, and at least a portion of two R 1 s and n R 2 s contain an allyl group, and X represents a hydrogen atom or an allyl group And two X's may be the same or different. ]

nは、0〜50の整数が好ましく、0〜40の整数がより好ましく、0〜35の整数がさらに好ましい。
nの平均値は、本カーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)が、3000〜12000の範囲内となる値が好ましい。より好ましいMwは後述のとおりである。nの平均値が大きいほど、Mwが大きくなる傾向がある。
n is preferably an integer of 0 to 50, more preferably an integer of 0 to 40, and still more preferably an integer of 0 to 35.
The average value of n is preferably a value such that the weight average molecular weight (Mw) of the carbonate resin is in the range of 3000 to 12000. More preferable Mw is as described later. As the average value of n is larger, Mw tends to be larger.

ビスフェノール化合物は、連結基を介して結合した2個のヒドロキシフェニル基を有する化合物である。ヒドロキシフェニル基は置換基を有していてもよい。
ビスフェノール化合物由来の残基とは、ビスフェノール化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた構造の基である。つまり、置換基を有していてもよい2個のフェニレン基が連結基を介して結合した構造の基である。
置換基としては、アリル基、アルキル基等が挙げられる。置換基の数は1つでもよく2つ以上でもよい。
ビスフェノール化合物の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールB、ビスフェノールAP、ビスフェノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールS、ビスフェノールZ、これらのビスフェノール化合物のヒドロキシフェニル基の少なくとも一方にアリル基が結合したアリル基含有ビスフェノール化合物等が挙げられる。
The bisphenol compound is a compound having two hydroxyphenyl groups linked via a linking group. The hydroxyphenyl group may have a substituent.
The residue derived from the bisphenol compound is a group having a structure in which two phenolic hydroxyl groups are removed from the bisphenol compound. That is, it is a group having a structure in which two phenylene groups which may have a substituent are linked via a linking group.
Examples of the substituent include an allyl group and an alkyl group. The number of substituents may be one or two or more.
Specific examples of the bisphenol compound include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol B, bisphenol AP, bisphenol C, bisphenol C, bisphenol E, bisphenol S, bisphenol Z, and allyl having an allyl group bonded to at least one of the hydroxyphenyl groups of these bisphenol compounds. Group-containing bisphenol compounds and the like can be mentioned.

ビフェノール化合物は、直接結合した2個のヒドロキシフェニル基を有する化合物である。ヒドロキシフェニル基は置換基を有していてもよい。
ビフェノール化合物由来の残基とは、ビフェノール化合物から2個のフェノール性水酸基を除いた構造の基である。つまり、置換基を有していてもよいビフェニレン基である。
置換基としては、アリル基、ハロゲン原子、アルキル基等が挙げられる。置換基の数は1つでもよく2つ以上でもよい。
ビフェノール化合物の具体例としては、ビフェノール、ハロゲン化ビフェノール、アルキルビフェノール、これらのビフェノール化合物のヒドロキシフェニル基の少なくとも一方にアリル基が結合したアリル基含有ビフェノール化合物等が挙げられる。
A biphenol compound is a compound having two hydroxyphenyl groups directly bonded. The hydroxyphenyl group may have a substituent.
The residue derived from a biphenol compound is a group having a structure in which two phenolic hydroxyl groups are removed from a biphenol compound. That is, it is a biphenylene group which may have a substituent.
Examples of the substituent include an allyl group, a halogen atom and an alkyl group. The number of substituents may be one or two or more.
Specific examples of biphenol compounds include biphenols, halogenated biphenols, alkyl biphenols, and allyl group-containing biphenol compounds in which an allyl group is bonded to at least one of the hydroxyphenyl groups of these biphenol compounds.

脂環式ジメタノール化合物は、脂環式基と、脂環式基に結合した2つのメタノール基(−CHOH)とを有する化合物である。
脂環式ジメタノール化合物由来の残基とは、脂環式ジメタノール化合物から2個の水酸基を除いた構造の基である。具体的には、下記式(r4)で表される基が挙げられる。
An alicyclic dimethanol compound is a compound which has an alicyclic group and two methanol groups (-CH2OH) couple | bonded with the alicyclic group.
The residue derived from the alicyclic dimethanol compound is a group having a structure in which two hydroxyl groups are removed from the alicyclic dimethanol compound. Specifically, a group represented by the following formula (r4) can be mentioned.

Figure 2019089967
[式中、Rは、脂環式基を示す。]
Figure 2019089967
[Wherein, R 3 represents an alicyclic group. ]

脂環式基は、単環構造でもよく多環構造でもよい。脂環式基は、不飽和結合を有しないことが好ましい。脂環式基の炭素数は、6〜20が好ましく、8〜15がより好ましい。脂環式基の具体例としては、シクロヘキシレン基、トリシクロデカンジイル基、ペルヒドロ−1,4;5,8−ナフチレン−2,3−ジイル基、ビシクロ [2.2.1] ヘプタン−2,3−ジイル基等が挙げられる。
脂環式基は、アリル基、アルキル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
脂環式ジメタノール化合物の具体例としては、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、トランス−2,3−ジ(ヒドロキシメチル)−ペルヒドロ−1,4;5,8−ジメタノナフタレン、トランス−2,3−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ [2.2.1] ヘプタン等が挙げられる。それぞれ異性体を混合していてもよい。
The alicyclic group may have a single ring structure or a multiple ring structure. The alicyclic group preferably has no unsaturated bond. 6-20 are preferable and, as for carbon number of an alicyclic group, 8-15 are more preferable. Specific examples of the alicyclic group include cyclohexylene group, tricyclodecanediyl group, perhydro-1,4; 5,8-naphthylene-2,3-diyl group, bicyclo [2.2.1] heptane-2 And 3-diyl groups.
The alicyclic group may have a substituent such as an allyl group, an alkyl group or a halogen atom.
Specific examples of the alicyclic dimethanol compound include cyclohexane dimethanol, tricyclodecane dimethanol, trans-2,3-di (hydroxymethyl) -perhydro-1,4; 5,8-dimethanonaphthalene, trans- 2,3-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] heptane and the like can be mentioned. Each isomer may be mixed.

式(1)中、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有する。つまり、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部は、アリル基含有ビスフェノール化合物(例えば前述のアリルビスフェノール)由来の残基、アリル基含有ビフェノール化合物(例えば前述のアリルビフェノール)由来の残基またはアリル基含有脂環式ジメタノール化合物由来の残基である。これにより、本カーボネート樹脂をマレイミド硬化剤として使用できる。
2個のRおよびn個のRの一部は、アリル基を含有していなくてもよい。
本カーボネート樹脂中の全てのRおよびRのうち、アリル基を含有するRおよびアリル基を含有するRの合計の割合は、2〜80モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましい。
In the formula (1), at least a part of two R 1 and n R 2 contains an allyl group. That is, at least a part of two R 1 and n R 2 are derived from an allyl group-containing bisphenol compound (for example, the above-mentioned allyl bisphenol) -derived residue, an allyl group-containing biphenol compound (for example, the above-mentioned allylbiphenol) It is a residue or a residue derived from an allyl group-containing alicyclic dimethanol compound. Thereby, this carbonate resin can be used as a maleimide curing agent.
Some of two R 1 and n R 2 may not contain an allyl group.
Among all R 1 and R 2 in the present carbonate resin, the ratio of the sum of R 1 containing an allyl group and R 2 containing an allyl group is preferably 2 to 80 mol%, and 5 to 50 mol% More preferable.

式(1)中の2つのRは同一であってもよく異なっていてもよい。
としては、アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基が好ましい。この場合、式(1)中のXが水素原子であるときに、OXがフェノール性水酸基となる。フェノール性水酸基は、エポキシ樹脂との反応性に優れる。また、フェノール性水酸基は、アリルエーテル化する場合の反応性(ハロゲン化アリルとの反応性)にも優れる。
アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基としては、原料が安価であり容易に入手可能な点から、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基が好ましい。これらの基は、アリル基含有ビスフェノールA、アリル基含有ビスフェノールFまたはアリル基含有ビフェノールに由来する残基である。
Two R 1 in the formula (1) may be the same or different.
As R 1 , a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound is preferable. In this case, OX is a phenolic hydroxyl group when X in the formula (1) is a hydrogen atom. The phenolic hydroxyl group is excellent in the reactivity with the epoxy resin. Moreover, phenolic hydroxyl group is excellent also in the reactivity (reactivity with allyl halide) in the case of allyl etherification.
As the residue derived from the allyl group-containing bisphenol compound or the residue derived from the allyl group-containing biphenol compound, the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula The group represented by r3) is preferred. These groups are residues derived from allyl group-containing bisphenol A, allyl group-containing bisphenol F or allyl group-containing biphenol.

Figure 2019089967
Figure 2019089967

式中、pは1または2を示し、qは0〜2の整数を示す。
pとしては1が好ましい。qとしては1が好ましい。
In formula, p shows 1 or 2 and q shows the integer of 0-2.
1 is preferable as p. 1 is preferable as q.

式(1)中のnが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。
硬化物がより低誘電正接になる点では、式(1)中のn個のRの少なくとも一部は、脂環式ジメタノール化合物由来の残基、すなわち式(r4)で表される基であることが好ましい。nが1である場合は、Rが脂環式ジメタノール化合物由来の残基であることが好ましく、nが2以上である場合は、n個のRの少なくとも1個が脂環式ジメタノール化合物由来の残基であることが好ましい。
n個のRの一部はビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基であってもよい。ビスフェノール化合物由来の残基またはビフェノール化合物由来の残基は、アリル基を有していても有さなくてもよい。
When n in Formula (1) is 2 or more, n R 2 s may be the same or different.
At least a part of n R 2 in the formula (1) is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, that is, a group represented by the formula (r 4 ) in that the cured product has a lower dielectric loss tangent. Is preferred. When n is 1, R 2 is preferably a residue derived from a cycloaliphatic dimethanol compound, and when n is 2 or more, at least one of n R 2 s is a cycloaliphatic dimethanol compound. It is preferably a residue derived from a methanol compound.
A part of n R 2 may be a residue derived from a bisphenol compound or a residue derived from a biphenol compound. The residue derived from the bisphenol compound or the residue derived from the biphenol compound may or may not have an allyl group.

本カーボネート樹脂中の全てのRのうち、脂環式ジメタノール化合物由来の残基であるRの割合は、20〜100モル%が好ましく、50〜90モル%がより好ましい。脂環式ジメタノール化合物由来の残基であるRの割合が前記下限値以上であると、より低誘電正接の硬化物が得られる。 Of all the R 2 of the carbonate in the resin, the ratio of R 2 is a residue derived from a cycloaliphatic di-methanol compound is preferably 20 to 100 mol%, more preferably 50 to 90 mol%. When the ratio of R 2 which is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound is equal to or more than the lower limit, a cured product having a lower dielectric loss tangent can be obtained.

式(1)中、2個のXはそれぞれ水素原子であってもよくアリル基であってもよい。
本カーボネート樹脂は、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含んでもよい。この場合、本カーボネート樹脂をエポキシ樹脂硬化剤としても使用できる。
本カーボネート樹脂をエポキシ樹脂硬化剤として使用する場合、本カーボネート樹脂中の全てのXのうち、水素原子であるXの割合は、50〜100モル%が好ましく、80〜100モル%がより好ましい。水素原子であるXの割合が前記下限値以上であると、エポキシ樹脂との反応性、硬化物の耐熱性がより優れる。
In the formula (1), each of two X's may be a hydrogen atom or an allyl group.
The present carbonate resin may contain a compound in which at least one of two X's in the formula (1) is a hydrogen atom. In this case, the present carbonate resin can also be used as an epoxy resin curing agent.
When using this carbonate resin as an epoxy resin hardening | curing agent, 50-100 mol% is preferable and, as for the ratio of X which is a hydrogen atom among all X in this carbonate resin, 80-100 mol% is more preferable. The reactivity with an epoxy resin and heat resistance of hardened | cured material are more excellent in the ratio of X which is a hydrogen atom being more than the said lower limit.

本カーボネート樹脂の軟化点は、70〜130℃が好ましく、90〜120℃がより好ましい。軟化点が前記下限値以上であれば、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。軟化点が前記上限値以下であれば、流動性がより優れる。
軟化点は、JIS K 6910に従って測定される。
70-130 degreeC is preferable and, as for the softening point of this carbonate resin, 90-120 degreeC is more preferable. When the softening point is at least the lower limit value, the blocking resistance of the resin is more excellent. If a softening point is below the said upper limit, fluidity | liquidity is more excellent.
The softening point is measured in accordance with JIS K 6910.

本カーボネート樹脂の150℃における溶融粘度は、10P〜100Pが好ましく、30P〜80Pがより好ましい。溶融粘度が前記下限値以上であると、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。溶融粘度が前記上限値以下であると、流動性に優れる。
溶融粘度は、後述する実施例に記載の測定方法により測定される。
10P-100P are preferable and, as for melt viscosity at 150 degrees C of this carbonate resin, 30P-80P are more preferable. The blocking resistance of resin is more excellent in melt viscosity being more than the above-mentioned lower limit. It is excellent in fluidity | liquidity that melt viscosity is below the said upper limit.
Melt viscosity is measured by the measuring method as described in the Example mentioned later.

本カーボネート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、3000〜12000が好ましく、5000〜10000がより好ましい。Mwが前記下限値以上であると、樹脂の耐ブロッキング性がより優れる。Mwが前記上限値以下であると、流動性がより優れる。
カーボネート樹脂のMwおよびMnは、標準物質をポリスチレンとしたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定される値である。
3000-12000 are preferable and, as for the weight average molecular weight (Mw) of this carbonate resin, 5000-10000 are more preferable. The blocking resistance of resin is more excellent in Mw being more than the above-mentioned lower limit. Fluidity is more excellent in it being Mw below the above-mentioned upper limit.
Mw and Mn of the carbonate resin are values measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.

本カーボネート樹脂のアリル基当量は、500〜3000g/eqが好ましく、800〜2000g/eqがより好ましい。アリル基当量が前記下限値以上であると、誘電特性がより優れる。アリル基当量が前記上限値以下であると、マレイミド化合物との反応性がより優れる。
本カーボネート樹脂のアリル基当量は、本カーボネート樹脂の数平均分子量(Mn)をアリル基の数で割った値である。
500-3000 g / eq is preferable and, as for the allyl group equivalent of this carbonate resin, 800-2000 g / eq is more preferable. A dielectric characteristic is more excellent in the allyl group equivalent being more than the said lower limit. The reactivity with a maleimide compound is more excellent in an allyl group equivalent being below the above-mentioned upper limit.
The allyl group equivalent of the present carbonate resin is a value obtained by dividing the number average molecular weight (Mn) of the present carbonate resin by the number of allyl groups.

<本カーボネート樹脂の製造方法>
本カーボネート樹脂は、例えば、以下の工程1を有する製造方法により製造できる。工程1の後、必要に応じて、工程2を行ってもよい。
工程1:炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物および脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール化合物とを反応させる工程。
工程2:工程1で生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させ、前記水酸基をアリルエーテル化する工程。
<Method of producing the present carbonate resin>
The present carbonate resin can be produced, for example, by the production method having the following step 1. After step 1, step 2 may be performed as necessary.
Step 1: A step of reacting carbonic diester with at least one diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound, a biphenol compound and an alicyclic dimethanol compound.
Step 2: A step of reacting the allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at the terminal, which is produced in Step 1, with allyl halide to allyletherify the hydroxyl group.

(ジオール化合物)
ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物、脂環式ジメタノール化合物はそれぞれ前記と同様である。
工程1において用いるジオール化合物の少なくとも一部はアリル基を含有する。つまり、ジオール化合物の少なくとも一部は、アリル基含有ビスフェノール化合物、アリル基含有ビフェノール化合物およびアリル基含有脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む。
(Diol compound)
The bisphenol compound, the biphenol compound and the alicyclic dimethanol compound are the same as described above.
At least a portion of the diol compound used in step 1 contains an allyl group. That is, at least a part of the diol compound contains at least one selected from the group consisting of an allyl group-containing bisphenol compound, an allyl group-containing biphenol compound and an allyl group-containing alicyclic dimethanol compound.

アリル基含有ビスフェノール化合物は、例えば、ビスフェノール化合物のフェノール性水酸基をアリルエーテル化した後、アリル基を転位させることにより製造できる。
アリルエーテル化は、ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとを反応させることにより実施できる。この反応では、ビスフェノール化合物のフェノール性水酸基(−OH)がアリルエーテル基(−O−CH−CH=CH)に変換される。
The allyl group-containing bisphenol compound can be produced, for example, by allyletherifying the phenolic hydroxyl group of the bisphenol compound and then rearranging the allyl group.
Allyl etherification can be carried out by reacting a bisphenol compound with an allyl halide. In this reaction, the phenolic hydroxyl group of the bisphenol compound (-OH) is converted into an allyl ether group (-O-CH 2 -CH = CH 2).

ハロゲン化アリルとしては、例えば塩化アリル、臭化アリル、フッ化アリル、ヨウ化アリル等が挙げられる。安価な点から、塩化アリルが好ましい。
ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとの反応(アリルエーテル化)は、触媒の存在下で行うことが好ましい。触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン、トリエチルアミン等のアミン化合物、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、ケイ素−塩基性アミン、リチウムテトラメチルピペリジン等が挙げられる。
Examples of the allyl halide include allyl chloride, allyl bromide, allyl fluoride, allyl iodide and the like. Allyl chloride is preferred from the viewpoint of low cost.
The reaction of the bisphenol compound with the allyl halide (allyl etherification) is preferably carried out in the presence of a catalyst. As the catalyst, for example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, amine compounds such as diazabicyclononene, diazabicycloundecene and triethylamine, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, lithium diisopropyl Amides, silicon-basic amines, lithium tetramethylpiperidine and the like can be mentioned.

ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとの反応は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、ビスフェノール化合物およびハロゲン化アリルを溶解可能であればよく、例えば後述する樹脂ワニスにおける溶剤が挙げられる。   The reaction of the bisphenol compound with the allyl halide may be carried out in the presence of a solvent. The solvent is only required to be capable of dissolving the bisphenol compound and the allyl halide, and examples thereof include the solvents in the resin varnish described later.

ビスフェノール化合物とハロゲン化アリルとの反応において、ビスフェノール化合物と反応させるハロゲン化アリルの量は、ビスフェノール化合物のフェノール性水酸基に対するハロゲン化アリルのモル比(ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基)が、0.3〜2.0となる量が好ましい。ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基のモル比は、1.0〜1.5がより好ましい。
触媒の使用量は、ハロゲン化アリルの使用モル量に対し、0.7〜1.3倍モルが好ましい。
反応温度は、例えば10〜150℃であってよい。反応時間は、例えば1〜30時間であってよい。
反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
In the reaction of the bisphenol compound and the allyl halide, the amount of allyl halide to be reacted with the bisphenol compound is such that the molar ratio of allyl halide to phenolic hydroxyl group of the bisphenol compound (aryl halide / phenolic hydroxyl group) is 0.3 An amount of ̃2.0 is preferred. The molar ratio of halogenated allyl / phenolic hydroxyl group is more preferably 1.0 to 1.5.
The amount of the catalyst used is preferably 0.7 to 1.3 times the molar amount of the allyl halide used.
The reaction temperature may be, for example, 10 to 150 ° C. The reaction time may be, for example, 1 to 30 hours.
After completion of the reaction, the reaction product may be subjected to treatment such as washing with water, concentration, etc., if necessary.

アリルエーテル化されたビスフェノール化合物のアリル基が転位すると、ビスフェノール化合物のヒドロキシフェニル基のベンゼン環にアリル基が結合したアリル基含有ビスフェノール化合物が生成する。
アリル基の転位反応は、例えば、アリルエーテル化されたビスフェノール化合物を加熱することにより実施できる。アリルエーテル化されたビスフェノール化合物を加熱すると、ベンゼン環に結合したアリルエーテル基(−O−CH−CH=CH)のアリル基がこのベンゼン環のオルソまたはパラ位に転位する、いわゆるクライゼン転位反応が生じる。加熱条件は、例えば160〜200℃で1〜24時間とすることができる。
加熱は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、アリルエーテル化されたビスフェノール化合物を溶解可能であればよく、例えばメタノールが挙げられる。
反応後、必要に応じて、反応生成物に対し溶媒の除去、水洗等の処理を行ってもよい。
アリル基含有ビフェノール化合物も上記と同様にして製造できる。
Rearrangement of the allyl group of the allyl etherified bisphenol compound produces an allyl group-containing bisphenol compound in which an allyl group is bonded to the benzene ring of the hydroxyphenyl group of the bisphenol compound.
The rearrangement reaction of the allyl group can be carried out, for example, by heating the allyl etherified bisphenol compound. So-called Claisen rearrangement in which the allyl group of the allyl ether group (—O—CH 2 —CH = CH 2 ) bonded to the benzene ring is rearranged to the ortho or para position of the benzene ring when the allyl etherified bisphenol compound is heated. A reaction occurs. The heating conditions can be set, for example, at 160 to 200 ° C. for 1 to 24 hours.
Heating may be performed in the presence of a solvent. The solvent is only required to be capable of dissolving the allyletherified bisphenol compound, and includes, for example, methanol.
After the reaction, if necessary, the reaction product may be subjected to treatments such as removal of the solvent and washing with water.
The allyl group-containing biphenol compound can also be produced in the same manner as described above.

(炭酸ジエステル)
炭酸ジエステルとしては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等のジアルキルカーボネート(好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基を有するもの)、炭素数1〜4のアルキレンカーボネート(例えばエチレンカーボネート)、炭酸ジフェニル等が挙げられる。これらの炭酸ジエステルはいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。ジオール類(脂環式ジメタノール化合物、芳香族ジオール化合物)との反応性が良いこと、比較的安価で、取り扱いが容易であることから、炭酸ジフェニルが好ましい。
(Carbon diester)
Examples of carbonic diesters include dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate (preferably having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), alkylene carbonates having 1 to 4 carbon atoms (for example, ethylene carbonate), diphenyl carbonate and the like Be One of these carbonic acid diesters may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Diphenyl carbonate is preferred because it has good reactivity with diols (alicyclic dimethanol compounds and aromatic diol compounds), is relatively inexpensive, and is easy to handle.

(工程1)
工程1の好ましい一態様は、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、必要に応じてビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応(一次反応)させて一次反応生成物を得て、得られた一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応(二次反応)させる工程(以下、「工程1A」ともいう。)である。
一次反応および二次反応はそれぞれエステル交換反応である。二次反応で芳香族ジオール化合物を反応させることにより、末端水酸基がフェノール性水酸基であるカーボネート樹脂が得られる。
(Step 1)
A preferred embodiment of step 1 is a reaction (first reaction) of a carbonic diester, an alicyclic dimethanol compound, and at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound as required. A step of reacting (secondarily reacting) the obtained primary reaction product with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound to obtain a primary reaction product , “Step 1A”).
The primary and secondary reactions are each transesterification reactions. By reacting the aromatic diol compound in the secondary reaction, a carbonate resin in which the terminal hydroxyl group is a phenolic hydroxyl group is obtained.

一次反応は、例えば、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、必要に応じて芳香族ジオール化合物とを溶融混合し、触媒を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
炭酸ジエステル、脂環式ジメタノール化合物、芳香族ジオール化合物はそれぞれ、1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
The primary reaction is carried out, for example, by melt-mixing a diester of carbonic acid, an alicyclic dimethanol compound, and, if necessary, an aromatic diol compound, adding a catalyst, and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time. it can.
The carbonic diester, the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound may be used alone or in combination of two or more.

一次反応において、脂環式ジメタノール化合物と芳香族ジオール化合物との合計量(芳香族ジオール化合物を反応させない場合は脂環式ジメタノール化合物のみの量)に対する炭酸ジエステルのモル比(炭酸ジエステル/(脂環式ジメタノール化合物+芳香族ジオール化合物))は、1.05〜3.00が好ましく、1.20〜2.50がより好ましい。炭酸ジエステルの比率が低すぎると、一次反応生成物中に、脂環式ジメタノール化合物の水酸基が多く残留してしまい、二次反応の際に、末端水酸基がフェノール性水酸基ではない化合物が副生するおそれがある。炭酸ジエステルの比率が高すぎると、二次反応に使用する芳香族ジオール化合物の使用量が多くなり、脂環式ジメタノール化合物由来の構造による誘電正接の低減効果が不十分になるおそれがある。   In the primary reaction, the molar ratio of carbonic acid diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound (the amount of the alicyclic dimethanol compound alone when the aromatic diol compound is not reacted) (carbonic diester / ( 1.05 to 3.00 is preferable, and 1.20 to 2.50 is more preferable for the alicyclic dimethanol compound + aromatic diol compound). If the ratio of carbonic diester is too low, many hydroxyl groups of the alicyclic dimethanol compound remain in the primary reaction product, and in secondary reaction, a compound whose terminal hydroxyl group is not a phenolic hydroxyl group is by-produced. There is a risk of When the ratio of carbonic diester is too high, the amount of use of the aromatic diol compound used in the secondary reaction increases, and the effect of reducing the dielectric loss tangent due to the structure derived from the alicyclic dimethanol compound may be insufficient.

一次反応において、脂環式ジメタノール化合物と芳香族ジオール化合物との合計量(100モル%)のうち、脂環式ジメタノール化合物の割合は、20〜100モル%が好ましく、50〜90モル%がより好ましい。   In the primary reaction, the proportion of the alicyclic dimethanol compound is preferably 20 to 100 mol%, and 50 to 90 mol% of the total amount (100 mol%) of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound. Is more preferred.

触媒としては、反応(エステル交換反応)が進行すれば特に制限はない。具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、マグネシウム金属、アルキル亜鉛化合物(例えばジ−n−ブチル亜鉛)、水酸化リチウム、酢酸リチウム、チタンエステル(例えばテトラ−n−ブチルチタネート)、酸化亜鉛、酸化鉛、二酸化マンガン、テトラアルキルオルソチタネート、酢酸亜鉛、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウム、種々のアルコキシド(例えばカリウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキシド)、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウム)、アルカリ金属の水素化物(例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム)、アルカリ金属水酸化物(例えば水酸化リチウムや水酸化ナトリウム)、金属ハロゲン化物等が挙げられる。   The catalyst is not particularly limited as long as the reaction (transesterification) proceeds. Specific examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium metal, alkyl zinc compounds (eg, di-n-butyl zinc), lithium hydroxide, lithium acetate, titanium esters (eg, tetra-n-butyl titanate), zinc oxide , Lead oxide, manganese dioxide, tetraalkyl orthotitanate, zinc acetate, antimony oxide, germanium oxide, various alkoxides (eg, potassium-t-butoxide, sodium methoxide), alkali metals (eg, lithium, sodium), hydrogens of alkali metals Hydrides (eg, lithium hydride, sodium hydride), alkali metal hydroxides (eg, lithium hydroxide and sodium hydroxide), metal halides and the like.

触媒の使用量は、炭酸ジエステル類に対して、1.0〜0.00001質量%が好ましく、0.1〜0.0001質量%がより好ましい。触媒の使用量がこの範囲よりも多い場合には、生成した樹脂に濁りが生ずることがあり、この範囲内よりも少ない場合には、重合速度が遅くなり、高重合度の樹脂が得られないことがある。   The amount of the catalyst used is preferably 1.0 to 0.00001% by mass, and more preferably 0.1 to 0.0001% by mass, with respect to the diester carbonate. If the amount of the catalyst used is larger than this range, turbidity may occur in the formed resin, and if smaller than this range, the polymerization rate becomes slow and a resin having a high degree of polymerization can not be obtained. Sometimes.

一次反応の反応温度は、130〜250℃が好ましく、150〜200℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5〜10時間であってよい。
一次反応は、常圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。
一次反応は、反応(エステル交換反応)で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行ってもよい。
130-250 degreeC is preferable and, as for the reaction temperature of primary reaction, 150-200 degreeC is more preferable. If the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed, and if it is too high, it may be difficult to control the reaction, and the resin may not be stably obtained. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The primary reaction may be carried out under normal pressure or under reduced pressure.
The primary reaction may be performed while removing alcohols and phenols by-produced in the reaction (transesterification) under reduced pressure.

二次反応は、例えば、一次反応で生成した一次反応生成物に芳香族ジオール化合物を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
二次反応で用いる芳香族ジオール化合物は、一次反応で用いた芳香族ジオール化合物と同じであってもよく異なっていてもよい。芳香族ジオール化合物は、1種を単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
二次反応において反応させる芳香族ジオール化合物の量は、一次反応で用いた炭酸ジエステル(100モル%)に対し、5〜80モル%が好ましく、15〜60モル%がより好ましい。
The secondary reaction can be carried out, for example, by adding an aromatic diol compound to the primary reaction product generated in the primary reaction, and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time.
The aromatic diol compound used in the secondary reaction may be the same as or different from the aromatic diol compound used in the primary reaction. The aromatic diol compounds may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the aromatic diol compound to be reacted in the second reaction is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 15 to 60 mol%, with respect to the carbonic diester (100 mol%) used in the first reaction.

二次反応の反応温度は、130〜250℃が好ましく、170〜230℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5〜10時間であってよい。
二次反応は、反応(エステル交換反応)で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行うことが好ましい。
二次反応における減圧度は、反応で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去できれば特に制限はない。例えば、80〜5mmHgであってよく、20〜5mmHgであってよい。
二次反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
130-250 degreeC is preferable and, as for the reaction temperature of secondary reaction, 170-230 degreeC is more preferable. If the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed, and if it is too high, it may be difficult to control the reaction, and the resin may not be stably obtained. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The secondary reaction is preferably performed while removing alcohols and phenols by-produced in the reaction (transesterification) under reduced pressure.
The degree of reduced pressure in the secondary reaction is not particularly limited as long as alcohols and phenols by-produced in the reaction can be removed under reduced pressure. For example, it may be 80-5 mmHg and may be 20-5 mmHg.
After completion of the secondary reaction, the reaction product may be subjected to treatment such as washing with water, concentration, etc., if necessary.

工程1の他の好ましい一態様は、炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程(以下、「工程1B」ともいう。)である。この反応はエステル交換反応である。   Another preferable embodiment of step 1 is a step of reacting carbonic diester with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound (hereinafter, also referred to as "step 1B"). is there. This reaction is a transesterification reaction.

芳香族ジオール化合物に対する炭酸ジエステルのモル比(炭酸ジエステル/芳香族ジオール化合物)は、0.40〜0.99が好ましく、0.50〜0.95がより好ましい。
炭酸ジエステルと芳香族ジオール化合物との反応は、触媒の存在下で行うことが好ましい。触媒としては、前記と同様のものが挙げられる。触媒の使用量の好ましい範囲も前記と同様である。
0.40-0.99 are preferable, and, as for the molar ratio (carbonic diester / aromatic diol compound) of carbonic diester with respect to aromatic diol compound, 0.50-0.95 are more preferable.
The reaction of the carbonic diester with the aromatic diol compound is preferably carried out in the presence of a catalyst. As the catalyst, the same as those described above can be mentioned. The preferred range of the amount of catalyst used is the same as above.

炭酸ジエステルと芳香族ジオール化合物との反応は、例えば、炭酸ジエステルと、芳香族ジオール化合物とを溶融混合し、触媒を添加し、所定の反応温度を所定の時間保持することにより実施できる。
反応温度は、130〜250℃が好ましく、170〜230℃がより好ましい。反応温度があまりに低いと反応が進まず、あまりに高いと反応をコントロールすることが難しくなり、樹脂が安定的に得ることが出来ないおそれがある。反応時間は、例えば0.5〜10時間であってよい。
反応は、副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去しながら行うことが好ましい。反応開始時においては常圧下で反応を行い、一定時間経過後に減圧してもよい。
反応における減圧度は、反応で副生するアルコール類やフェノール類を減圧下で除去できれば特に制限はない。例えば、80〜5mmHgであってよく、20〜5mmHgであってよい。
反応の終了後、必要に応じて、反応生成物の水洗、濃縮等の処理を行ってもよい。
The reaction between the carbonic diester and the aromatic diol compound can be carried out, for example, by melt-mixing the carbonic diester and the aromatic diol compound, adding a catalyst, and maintaining a predetermined reaction temperature for a predetermined time.
130-250 degreeC is preferable and, as for reaction temperature, 170-230 degreeC is more preferable. If the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed, and if it is too high, it may be difficult to control the reaction, and the resin may not be stably obtained. The reaction time may be, for example, 0.5 to 10 hours.
The reaction is preferably carried out while removing by-produced alcohols and phenols under reduced pressure. At the start of the reaction, the reaction may be carried out under normal pressure, and the pressure may be reduced after a predetermined time has elapsed.
The degree of reduced pressure in the reaction is not particularly limited as long as alcohols and phenols by-produced in the reaction can be removed under reduced pressure. For example, it may be 80-5 mmHg and may be 20-5 mmHg.
After completion of the reaction, the reaction product may be subjected to treatment such as washing with water, concentration, etc., if necessary.

工程1では、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。このアリル基含有カーボネート樹脂は、前記式(1)中のXが水素原子である化合物、すなわち下記式(2)で表される化合物を主成分として含む。   In step 1, an allyl group-containing carbonate resin in which the terminal is a hydroxyl group is obtained. The allyl group-containing carbonate resin contains, as a main component, a compound in which X in the formula (1) is a hydrogen atom, that is, a compound represented by the following formula (2).

Figure 2019089967
[式中、R、n、Rはそれぞれ前記と同義であり、好ましい態様も同様である。]
Figure 2019089967
[In the Formula, R 1 , n and R 2 are as defined above, and preferred embodiments are also the same. ]

工程1が工程1Aである場合、式(2)中のRがアリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基であり、Rの少なくとも一部が脂環式ジメタノール化合物由来の残基である化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。
工程1が工程1Bである場合、式(2)中のRおよびRがそれぞれアリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基である化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。
これらのアリル基含有カーボネート樹脂を併用してもよい。
硬化物がより低誘電正接になる点では、工程1Aで得られたアリル基含有カーボネート樹脂を含むことが好ましい。
When step 1 is step 1A, R 1 in the formula (2) is a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound, and at least a part of R 2 is alicyclic An allyl group-containing carbonate resin containing as a main component a compound which is a residue derived from a dimethanol compound is obtained.
When step 1 is step 1B, an allyl containing, as a main component, a compound in which R 1 and R 2 in the formula (2) are each a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound A group-containing carbonate resin is obtained.
These allyl group-containing carbonate resins may be used in combination.
It is preferable to include the allyl group-containing carbonate resin obtained in step 1A in that the cured product has a lower dielectric loss tangent.

(工程2)
工程2では、工程1で生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させる。これにより、末端の水酸基(−OH)がアリルエーテル基(−O−CH−CH=CH)に変換され、前記式(1)中のXがアリル基である化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂が得られる。
ハロゲン化アリルとしては、前記と同様のものが挙げられる。
アリルエーテル化は、前記と同様にして実施できる。
(Step 2)
In step 2, the allyl group-containing carbonate resin produced in step 1 and having a hydroxyl group at the end is reacted with allyl halide. Allyl containing Thereby, terminal hydroxyl group (-OH) is converted into an allyl ether group (-O-CH 2 -CH = CH 2), the formula (1) compounds wherein X is an allyl group in a main component A group-containing carbonate resin is obtained.
Examples of the allyl halide include the same as described above.
The allylic etherification can be carried out as described above.

末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂とハロゲン化アリルとの反応において、アリル基含有カーボネート樹脂と反応させるハロゲン化アリルの量は、アリル基含有カーボネート樹脂末端の水酸基に対するハロゲン化アリルのモル比(ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基)が、0.3〜2.0となる量が好ましい。ハロゲン化アリル/フェノール性水酸基のモル比は、1.0〜1.5がより好ましい。   The amount of allyl halide to be reacted with the allyl group-containing carbonate resin in the reaction of the allyl group-containing carbonate resin whose end is a hydroxyl group with the allyl halide is the molar ratio of allyl halide to hydroxyl group of the allyl group-containing carbonate resin The amount of the halogenated allyl / phenolic hydroxyl group) is preferably 0.3 to 2.0. The molar ratio of halogenated allyl / phenolic hydroxyl group is more preferably 1.0 to 1.5.

本カーボネート樹脂は、アリル基を有するため、マレイミド化合物を硬化させるための硬化剤(マレイミド硬化剤)として用いることができる。マレイミド化合物の硬化は、加熱により行うことができる。
また、本カーボネート樹脂を用いてマレイミド化合物を硬化させた硬化物は、マレイミド化合物を用いているために、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱線膨張率を示す。また、本カーボネート樹脂を用いているために、マレイミド化合物をアリルフェノール樹脂で硬化させた硬化物や、エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物に比べて、低誘電率、低誘電正接である。
Since this carbonate resin has an allyl group, it can be used as a curing agent (maleimide curing agent) for curing a maleimide compound. Curing of the maleimide compound can be carried out by heating.
Moreover, since the hardened | cured material which hardened the maleimide compound using this carbonate resin is using a maleimide compound, it shows high glass transition temperature, high thermal decomposition temperature, and a low thermal expansion coefficient. In addition, since this carbonate resin is used, it has a lower dielectric constant and a lower dielectric loss tangent than a cured product obtained by curing a maleimide compound with an allylphenol resin or a cured product obtained by curing an epoxy resin with a phenol novolac resin. is there.

本カーボネート樹脂を用いてマレイミド化合物を硬化させる際には、以下の(1)〜(3)の反応が生じて硬化していると考えられる。
(1)マレイミド基とアリル基との反応。
(2)マレイミド基同士の反応。
(3)アリル基同士の反応。
When hardening a maleimide compound using this carbonate resin, it is thought that reaction of the following (1)-(3) arises and it hardens | cures.
(1) Reaction of maleimide group with allyl group.
(2) Reaction between maleimide groups.
(3) Reaction between allyl groups.

本カーボネート樹脂が水酸基を有する場合(Xが水素原子である場合)、本カーボネート樹脂は、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤(エポキシ樹脂硬化剤)として用いることができる。エポキシ樹脂の硬化は、加熱により行うことができる。
本カーボネート樹脂を用いてエポキシ樹脂を硬化させる際には、前述の(3)の反応および以下の(4)〜(5)の反応が生じて硬化していると考えられる。
(4)エポキシ基と水酸基との反応。
(5)エポキシ基同士の反応。
When the carbonate resin has a hydroxyl group (when X is a hydrogen atom), the carbonate resin can be used as a curing agent (epoxy resin curing agent) for curing the epoxy resin. Curing of the epoxy resin can be carried out by heating.
When the epoxy resin is cured using the present carbonate resin, it is considered that the reaction of (3) described above and the reactions of (4) to (5) below occur to cure.
(4) Reaction of epoxy group and hydroxyl group.
(5) Reaction between epoxy groups.

さらに、本カーボネート樹脂は、一般的にマレイミド化合物やエポキシ樹脂を溶解させるために用いられているような溶剤に対する溶解性に優れる。したがって、本カーボネート樹脂およびマレイミド化合物、ならびに必要に応じてエポキシ樹脂が共に溶剤に溶解した樹脂ワニスを得ることができる。
前記の溶剤としては、メチルエチルケトンのような極性のあるものが一般的である。
Furthermore, this carbonate resin is excellent in the solubility with respect to the solvent generally used in order to dissolve a maleimide compound and an epoxy resin. Therefore, it is possible to obtain a resin varnish in which both the present carbonate resin and maleimide compound and, if necessary, epoxy resin are dissolved in a solvent.
As the above-mentioned solvent, solvents having polarity such as methyl ethyl ketone are generally used.

なお、本カーボネート樹脂は、マレイミド化合物やエポキシ樹脂と組み合わせなくても、前記(3)の反応により、単独で硬化させることができる。しかし、マレイミド化合物やエポキシ樹脂と組み合わせることで、単独で硬化させる場合に比べて、硬化温度を低くすることができ、ガラス転移温度等の熱的特性を高めることができる。そのため、マレイミド化合物やエポキシ樹脂と組み合わせて硬化反応に供することが好適である。   In addition, even if this carbonate resin is not combined with a maleimide compound or an epoxy resin, it can be independently cured by reaction of said (3). However, by combining with a maleimide compound or an epoxy resin, the curing temperature can be lowered and the thermal characteristics such as the glass transition temperature can be enhanced as compared with the case of curing alone. Therefore, it is preferable to use in combination with a maleimide compound or an epoxy resin for a curing reaction.

本カーボネート樹脂の用途としては、特に制限はない。例えば公知の熱硬化性成形材料の用途と同様であってよく、例えば封止材料、フィルム材料、積層材料等が挙げられる。より具体的な用途の例としては、半導体封止材料、電子部品の封止用樹脂材料、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂材料、ビルドアップ積層板材料、レジスト材料、液晶のカラーフィルター用樹脂材料、塗料、各種コーティング剤、接着剤、繊維強化プラスチック(FRP)材料等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a use of this carbonate resin. For example, it may be the same as the application of a known thermosetting molding material, and examples thereof include a sealing material, a film material, a laminated material and the like. Examples of more specific applications include semiconductor encapsulation materials, resin materials for encapsulation of electronic components, electrical insulation materials, resin materials for copper-clad laminates, build-up laminate materials, resist materials, for liquid crystal color filters Resin materials, paints, various coating agents, adhesives, fiber reinforced plastic (FRP) materials, etc. may be mentioned.

≪樹脂ワニス≫
本発明の樹脂ワニス(以下、「本樹脂ワニス」ともいう。)は、本カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、溶剤とを含む。
本カーボネート樹脂は、マレイミド硬化剤として機能する。「マレイミド硬化剤」とは、前記マレイミド化合物を硬化させるための硬化剤を意味する。
本樹脂ワニスにおいては、本カーボネート樹脂のアリル基の一部と、マレイミド化合物のマレイミド基の一部とが反応した状態になっていてもよい。
«Resin varnish»
The resin varnish of the present invention (hereinafter, also referred to as "the present resin varnish") contains the present carbonate resin, a maleimide compound having two or more maleimide groups, and a solvent.
The carbonate resin functions as a maleimide curing agent. The "maleimide curing agent" means a curing agent for curing the maleimide compound.
In the resin varnish, a part of the allyl group of the carbonate resin and a part of the maleimide group of the maleimide compound may be in a reacted state.

本カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含む場合、つまり本カーボネート樹脂が水酸基を含む場合、本カーボネート樹脂はエポキシ樹脂硬化剤としても機能する。「エポキシ樹脂硬化剤」とは、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤を意味する。
したがって、本樹脂ワニスの好ましい一態様は、本カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、エポキシ樹脂と、溶剤とを含み、本カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含む樹脂ワニスである。本態様の樹脂ワニスは、エポキシ樹脂を含まない場合に比べて、誘電特性がより優れる。
When the present carbonate resin contains a compound in which at least one of two X in the formula (1) is a hydrogen atom, that is, when the present carbonate resin contains a hydroxyl group, the present carbonate resin also functions as an epoxy resin curing agent Do. "Epoxy resin curing agent" means a curing agent for curing an epoxy resin.
Therefore, a preferred embodiment of the present resin varnish comprises the present carbonate resin, a maleimide compound having two or more maleimide groups, an epoxy resin, and a solvent, and the present carbonate resin comprises two in the formula (1). It is a resin varnish containing a compound in which at least one of X is a hydrogen atom. The resin varnish of this aspect is more excellent in dielectric properties as compared to the case where it does not contain an epoxy resin.

本樹脂ワニスは、硬化反応触媒をさらに含むことができる。
本樹脂ワニスは、本カーボネート樹脂、マレイミド化合物、溶剤、エポキシ樹脂および硬化反応触媒以外の他の成分をさらに含むことができる。
The resin varnish can further include a curing reaction catalyst.
The resin varnish can further contain other components other than the present carbonate resin, maleimide compound, solvent, epoxy resin and curing reaction catalyst.

<マレイミド化合物>
マレイミド化合物としては、マレイミド基を2以上有する化合物であれば特に限定されず、例えばビスマレイミド化合物、ポリフェニルメタンマレイミド等が挙げられる。
ビスマレイミド化合物としては、例えば4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド(例えば大和化成工業株式会社品のBMI−1100)、アルキルビスマレイミド、ジフェニルメタンビスマレイミド、フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド(例えば大和化成工業株式会社品のBMI−4000)、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド(例えば大和化成工業株式会社品のBMI−5100)、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、1,6’−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン、4,4’−ジフェニルエーテルビスマレイミド、4,4’−ジフェニルスルフォンビスマレイミド、1,3−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−マレイミドフェノキシ)ベンゼン等が挙げられる。
ポリフェニルメタンマレイミドは、マレイミド基が置換した3以上のベンゼン環がメチレン基を介して結合した重合体であり、例えば大和化成工業株式会社品のBMI−2300が挙げられる。
これらのマレイミド化合物は1種単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
<Maleimide compound>
The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having two or more maleimide groups, and examples thereof include a bismaleimide compound and polyphenylmethane maleimide.
Examples of the bismaleimide compound include 4,4'-diphenylmethane bismaleimide (for example, BMI-1100 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.), alkyl bismaleimide, diphenylmethane bismaleimide, phenylene bismaleimide, bisphenol A diphenylether bismaleimide (for example, Daiwa Kasei Corp. BMI-4000), manufactured by Kogyo Co., Ltd., 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethane bismaleimide (eg, BMI-5100 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.), 4-methyl- 1,3-phenylenebismaleimide, 1,6'-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, 4,4'-diphenyletherbismaleimide, 4,4'-diphenylsulfone bismaleimide, 1,3- Bis (3-maleimidophenoki And c) benzene, 1,3-bis (4-maleimidophenoxy) benzene and the like.
Polyphenylmethane maleimide is a polymer in which three or more benzene rings substituted with a maleimide group are bonded via a methylene group, and examples thereof include BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.
These maleimide compounds may be used alone or in combination of two or more.

本樹脂ワニス中のマレイミド化合物の含有量は、本カーボネート樹脂の100質量部に対し、10〜300質量部が好ましく、15〜200質量部がより好ましく、20〜150質量部がさらに好ましい。マレイミド化合物の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、本樹脂ワニスのゲル化温度を低く、例えば200℃以下にすることができる。マレイミド化合物の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、本樹脂ワニスの硬化物が、より高ガラス転移温度、高熱分解温度、低線膨張係数、低誘電率、低誘電正接を示すものとなる。   10-300 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of this carbonate resin, as for content of the maleimide compound in this resin varnish, 15-200 mass parts is more preferable, and 20-150 mass parts is more preferable. If the content of the maleimide compound is at least the lower limit value of the above range, the gelling temperature of the resin varnish can be lowered, for example, to 200 ° C. or less. If the content of the maleimide compound is at least the lower limit of the above range, the cured product of the resin varnish exhibits a higher glass transition temperature, a higher thermal decomposition temperature, a lower linear expansion coefficient, a lower dielectric constant, and a lower dielectric loss tangent. Become.

<溶剤>
溶剤としては、本樹脂ワニスに含まれる成分(本カーボネート樹脂、マレイミド化合物、必要に応じて硬化反応触媒等)を溶解するものであれば特に制限はない。
溶剤として典型的には、極性溶剤が用いられる。極性溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルアミルケトン、イソホロン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、メタノール、エタノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの溶剤はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。前記の中でも、ケトン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトンが特に好ましい。
<Solvent>
The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the components (the present carbonate resin, maleimide compound, curing reaction catalyst, etc., if necessary) contained in the present resin varnish.
As a solvent, a polar solvent is typically used. Examples of polar solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl amyl ketone, isophorone, diisobutyl ketone, ketone solvents such as diacetone alcohol and cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N- Examples include methyl-2-pyrrolidone, methanol, ethanol, butanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, tetrahydrofuran and the like. One of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among the above, ketone solvents are preferable, and methyl ethyl ketone is particularly preferable.

本樹脂ワニス中の溶剤の含有量は本樹脂ワニスの固形分濃度に応じて適宜設定される。
本樹脂ワニスの固形分濃度は、用途によっても異なるが、20〜80質量%が好ましく、50〜70質量%がより好ましい。
本樹脂ワニスの固形分濃度は、本樹脂ワニスの全質量に対する、本樹脂ワニスから溶剤を除いた質量の割合である。
The content of the solvent in the present resin varnish is appropriately set according to the solid content concentration of the present resin varnish.
Although solid content concentration of this resin varnish changes also with uses, 20-80 mass% is preferable, and 50-70 mass% is more preferable.
The solid content concentration of the present resin varnish is the ratio of the mass of the present resin varnish excluding the solvent to the total mass of the present resin varnish.

<エポキシ樹脂>
エポキシ樹脂としては、特に限定されず、公知のエポキシ樹脂であってよく、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、リン原子含有エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
<Epoxy resin>
The epoxy resin is not particularly limited and may be a known epoxy resin, such as phenol novolac epoxy resin, ortho cresol novolac epoxy resin, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, biphenol epoxy resin, Naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, xylylene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, sulfur atom containing epoxy resin, A phosphorus atom containing epoxy resin etc. are mentioned. One of these epoxy resins may be used alone, or two or more of these epoxy resins may be used in combination.

<硬化反応触媒>
硬化反応触媒(硬化促進剤)としては、アリル基とマレイミド基との反応を促進する作用を有する触媒(以下、「触媒(1)」ともいう。)を含むことが好ましい。触媒(1)としては、例えば、イミダゾール化合物、有機過酸化物等が挙げられる。イミダゾール化合物としては、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、1−ビニル−2−メチルイミダゾール、1−プロピル−2−メチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、1−シアノメチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール等が挙げられる。有機過酸化物としては、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル等が挙げられる。ジアルキルパーオキサイドにおいて、アルキル基は、フェニル基等で置換されていてもよい。このようなジアルキルパーオキサイドとしては、例えばジクミルパーオキサイドが挙げられる。
<Curing reaction catalyst>
As the curing reaction catalyst (curing accelerator), it is preferable to include a catalyst (hereinafter, also referred to as “catalyst (1)”) having an action of promoting the reaction between an allyl group and a maleimide group. Examples of the catalyst (1) include imidazole compounds and organic peroxides. Examples of imidazole compounds include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2- Phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 1-vinyl-2-methylimidazole 1-propyl-2-methylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanomethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1- Anoechiru 2-phenyl imidazole, and the like. Examples of organic peroxides include ketone peroxides, peroxy ketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxy dicarbonates, and peroxy esters. In the dialkyl peroxide, the alkyl group may be substituted by a phenyl group or the like. Examples of such dialkyl peroxides include dicumyl peroxide.

本カーボネート樹脂が水酸基を有し、本樹脂ワニスがエポキシ樹脂を含む場合、硬化反応触媒として、水酸基とエポキシ基との反応を促進する作用を有する触媒(以下、「触媒(2)」ともいう。)を含んでいてもよい。触媒(2)としては、例えば、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール化合物、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。リン系化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリス−2,6−ジメトキシフェニルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。第3級アミンとしては、2−ジメチルアミノメチルフェノール、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等が挙げられる。イミダゾール化合物としては、前記と同様のものが挙げられる。   When the present carbonate resin has a hydroxyl group and the present resin varnish contains an epoxy resin, it is also referred to as a catalyst having a function of promoting the reaction between the hydroxyl group and the epoxy group as a curing reaction catalyst (hereinafter referred to as "catalyst (2)"). ) May be included. Examples of the catalyst (2) include phosphorus compounds, tertiary amines, imidazole compounds, organic acid metal salts, Lewis acids, amine complex salts and the like. Examples of phosphorus compounds include triphenylphosphine, tris-2, 6-dimethoxyphenyl phosphine, tri-p-tolyl phosphine, triphenyl phosphite and the like. Examples of tertiary amines include 2-dimethylaminomethylphenol, benzyldimethylamine, α-methylbenzyldimethylamine, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7. As an imidazole compound, the thing similar to the above is mentioned.

これらの硬化反応触媒はいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
本樹脂ワニス中の触媒(1)の含有量は、マレイミド化合物に対し、0.1〜5.0質量%が好ましい。
本樹脂ワニス中の触媒(2)の含有量は、エポキシ樹脂に対し、0.1〜5.0質量%が好ましい。
本樹脂ワニス中の触媒(1)および触媒(2)の合計の含有量は、マレイミド化合物およびエポキシ樹脂の合計量に対し、0.1〜5.0質量%が好ましい。
One of these curing reaction catalysts may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
The content of the catalyst (1) in the present resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the maleimide compound.
The content of the catalyst (2) in the present resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the epoxy resin.
The total content of the catalyst (1) and the catalyst (2) in the resin varnish is preferably 0.1 to 5.0% by mass with respect to the total amount of the maleimide compound and the epoxy resin.

<他の成分>
他の成分としては、例えば、無機フィラー(例えばカーボンブラック、ガラスクロス、シリカ等)、ワックス、難燃剤、カップリング剤等、本カーボネート樹脂以外の硬化剤(以下、他の硬化剤ともいう。)、充填材(フィラー)、離型剤、表面処理剤、着色剤、可撓性付与剤等が挙げられる。他の硬化剤としては、マレイミド硬化剤、エポキシ樹脂硬化剤等が挙げられ、それぞれ従来公知のものを用いることができる。例えばマレイミド硬化剤としては、アリルノボラック型フェノール樹脂等のノボラック型樹脂等が挙げられる。
本樹脂ワニス中の他の硬化剤の含有量は、本発明の効果の点では、本樹脂ワニスの固形分(100質量%)に対し、10質量%以下が好ましく、0質量%が特に好ましい。
本樹脂ワニスの固形分は、本樹脂ワニスから溶剤を除いた部分である。
<Other ingredients>
As other components, for example, inorganic fillers (for example, carbon black, glass cloth, silica, etc.), waxes, flame retardants, coupling agents, etc., curing agents other than the present carbonate resin (hereinafter, also referred to as other curing agents). And fillers, mold release agents, surface treatment agents, colorants, flexibility imparting agents and the like. Examples of other curing agents include maleimide curing agents, epoxy resin curing agents and the like, and conventionally known ones can be used. For example, as the maleimide curing agent, novolac resins such as allyl novolac phenol resins and the like can be mentioned.
From the viewpoint of the effect of the present invention, the content of the other curing agent in the present resin varnish is preferably 10% by mass or less, and particularly preferably 0% by mass, with respect to the solid content (100% by mass) of the present resin varnish.
The solid content of the present resin varnish is a portion obtained by removing the solvent from the present resin varnish.

充填材(フィラー)としては、カーボンブラック、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、タルク、ケイ酸カルシウム粉、ケイ酸ジルコニウム粉、アルミナ粉、炭酸カルシウム粉等が挙げられ、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉が好ましい。
離型剤としては、例えばカルナバワックス等の各種ワックス類等が挙げられる。
表面処理剤としては、公知のシランカップリング剤等が挙げられる。
着色剤としては、カーボンブラック等が挙げられる。
可撓性付与剤としては、シリコーン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリルゴム等が挙げられる。
Examples of fillers include carbon black, crystalline silica powder, fusible silica powder, quartz glass powder, talc, calcium silicate powder, zirconium silicate powder, alumina powder, calcium carbonate powder, etc. Silica powder and fusible silica powder are preferred.
As a mold release agent, various waxes, such as carnauba wax, etc. are mentioned, for example.
As a surface treating agent, a well-known silane coupling agent etc. are mentioned.
As a coloring agent, carbon black etc. are mentioned.
As the flexibility imparting agent, silicone resin, butadiene-acrylonitrile rubber and the like can be mentioned.

<樹脂ワニスの製造方法>
本樹脂ワニスは、例えば、本カーボネート樹脂とマレイミド化合物と溶剤とを混合することにより製造できる。本カーボネート樹脂とマレイミド化合物と溶剤とを混合する際に、または混合した後、必要に応じて、エポキシ樹脂や硬化反応触媒、他の成分をさらに混合してもよい。
本カーボネート樹脂は、上述の製造方法により製造できる。マレイミド化合物やエポキシ樹脂、硬化反応触媒、他の成分はそれぞれ市販品を用いることができる。各成分の混合は、常法により行うことができる。
<Method of producing resin varnish>
The present resin varnish can be produced, for example, by mixing the present carbonate resin, a maleimide compound and a solvent. When or after mixing the present carbonate resin, maleimide compound and solvent, if necessary, an epoxy resin, a curing reaction catalyst, and other components may be further mixed.
This carbonate resin can be manufactured by the above-mentioned manufacturing method. A maleimide compound, an epoxy resin, a curing reaction catalyst, and another component can use a commercial item, respectively. Mixing of each component can be performed by a conventional method.

本カーボネート樹脂とマレイミド化合物と溶剤との混合の後、本カーボネート樹脂とマレイミド化合物とを前反応させてもよい。前記の混合によって得られたワニス状態の混合物について前反応を行うことで、結晶性が高いマレイミド化合物が樹脂ワニスから析出するのを抑制することができる。
前反応を行う際の反応温度は50〜150℃が好ましく、70〜130℃がより好ましく、80〜120℃がさらに好ましい。反応温度があまりに低いと反応は進まず、あまりに高すぎると反応をコントロールすることが難しくなり、目的の本樹脂ワニスを安定的に得ることが難しくなる。
After mixing the present carbonate resin, the maleimide compound and the solvent, the present carbonate resin and the maleimide compound may be prereacted. By pre-reacting the mixture in the varnish state obtained by the above mixing, it is possible to suppress the precipitation of the maleimide compound having high crystallinity from the resin varnish.
50-150 degreeC is preferable, as for the reaction temperature at the time of pre-reacting, 70-130 degreeC is more preferable, and 80-120 degreeC is further more preferable. If the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed, and if it is too high, it becomes difficult to control the reaction and it becomes difficult to stably obtain the desired present resin varnish.

本樹脂ワニスは、本カーボネート樹脂とマレイミド化合物とを含むため、加熱することによって硬化させ、硬化物とすることができる。
本樹脂ワニスを硬化させる際の加熱温度(硬化温度)は60〜250℃が好ましい。
硬化操作の一例としては、前記の好適な温度で30秒間以上1時間以下の前硬化を行い、溶剤を除去し、その後さらに、前記の好適な温度で1〜20時間の後硬化を行う方法が挙げられる。
Since the present resin varnish contains the present carbonate resin and the maleimide compound, it can be cured by heating to form a cured product.
As for the heating temperature (hardening temperature) at the time of hardening this resin varnish, 60-250 degreeC is preferable.
As an example of the curing operation, there is a method of performing pre-curing for 30 seconds to 1 hour at the above-mentioned suitable temperature, removing the solvent, and then performing post-curing for 1 to 20 hours at the above-mentioned suitable temperature. It can be mentioned.

本樹脂ワニスにあっては、マレイミド化合物を用いているために、本樹脂ワニスの硬化物が高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱線膨張率を示す。また、この硬化物は、マレイミド化合物の硬化剤として本カーボネート樹脂を用いているため、マレイミド化合物をアリルフェノール樹脂で硬化させた硬化物や、エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた硬化物に比べて、低誘電率、低誘電正接である。   In the present resin varnish, since the maleimide compound is used, the cured product of the present resin varnish exhibits a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low thermal expansion coefficient. Moreover, since this hardened | cured material is using this carbonate resin as a hardening | curing agent of a maleimide compound, compared with the hardened | cured material which hardened the maleimide compound by allylphenol resin and the hardened | cured material which hardened epoxy resin by phenol novolak resin. Low dielectric constant and low dielectric loss tangent.

本樹脂ワニスの用途としては、特に制限はない。例えば公知の熱硬化性成形材料の用途と同様であってよく、例えば封止材料、フィルム材料、積層材料等が挙げられる。より具体的な用途の例としては、半導体封止材料、電子部品の封止用樹脂材料、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂材料、ビルドアップ積層板材料、レジスト材料、液晶のカラーフィルター用樹脂材料、塗料、各種コーティング剤、接着剤、繊維強化プラスチック(FRP)材料等が挙げられる。
本樹脂ワニスの硬化物は、低誘電率、低誘電正接であり、絶縁性に優れる。また、この硬化物は、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率あり、耐熱性にも優れる。そのため、本樹脂ワニスは、電子部品に用いられる積層板の製造用の材料として有用である。
There is no restriction | limiting in particular as a use of this resin varnish. For example, it may be the same as the application of a known thermosetting molding material, and examples thereof include a sealing material, a film material, a laminated material and the like. Examples of more specific applications include semiconductor encapsulation materials, resin materials for encapsulation of electronic components, electrical insulation materials, resin materials for copper-clad laminates, build-up laminate materials, resist materials, for liquid crystal color filters Resin materials, paints, various coating agents, adhesives, fiber reinforced plastic (FRP) materials, etc. may be mentioned.
The cured product of the resin varnish has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and is excellent in insulation. In addition, this cured product has a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, a low thermal expansion coefficient, and is also excellent in heat resistance. Therefore, this resin varnish is useful as a material for manufacture of the laminated board used for an electronic component.

本樹脂ワニスの硬化物の比誘電率は、3.50以下が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の誘電正接は、0.008以下が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物のガラス転移温度は、150℃以上が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の5%熱分解温度は、300℃以上が好ましい。
本樹脂ワニスの硬化物の常温線膨張係数は、100ppm以下が好ましい。
比誘電率、誘電正接、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数はそれぞれ、後述する実施例に記載の方法により測定される。
The relative dielectric constant of the cured product of the resin varnish is preferably 3.50 or less.
The dielectric loss tangent of the cured product of the resin varnish is preferably 0.008 or less.
As for the glass transition temperature of the hardened | cured material of this resin varnish, 150 degreeC or more is preferable.
The 5% thermal decomposition temperature of the cured product of the resin varnish is preferably 300 ° C. or higher.
The normal temperature linear expansion coefficient of the cured product of the resin varnish is preferably 100 ppm or less.
The relative dielectric constant, the dielectric loss tangent, the glass transition temperature, the 5% thermal decomposition temperature, and the room-temperature linear expansion coefficient are each measured by the method described in the examples described later.

≪積層板の製造方法≫
本発明の積層板の製造方法では、本樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、本樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る。
«Method of manufacturing laminates»
In the method for producing a laminate of the present invention, the present resin varnish is impregnated into a fibrous base material, the fibrous base material impregnated with the present resin varnish is heated and pressed, and cured to obtain a laminated board.

本発明の積層板の製造方法により製造される積層板は、繊維質基材と本樹脂ワニスの硬化物とを含む繊維強化樹脂層を備える。前記積層板が備える繊維強化樹脂層の数は1層でもよく2層以上でもよい。
前記積層板は、前記繊維強化樹脂層以外の他の層をさらに備えてもよい。他の層としては、例えば銅箔等の金属箔層が挙げられる。
The laminated board manufactured by the manufacturing method of the laminated board of this invention is equipped with the fiber reinforced resin layer containing a fibrous base material and the hardened | cured material of this resin varnish. The number of fiber reinforced resin layers included in the laminate may be one or two or more.
The laminate may further include another layer other than the fiber reinforced resin layer. As another layer, metal foil layers, such as copper foil, are mentioned, for example.

繊維質基材としては、例えばガラス繊維、炭素繊維、セラミック繊維、ステンレス繊維等の無機繊維;綿、麻、紙等の天然繊維;ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等の合成有機繊維;等が挙げられる。これらはいずれか1種を単独で用いてもよく2種以上を組合わせて用いてもよい。
繊維質基材の形状は特に限定されず、例えば短繊維、ヤーン、マット、シート等が挙げられる。
Examples of the fibrous base material include inorganic fibers such as glass fibers, carbon fibers, ceramic fibers and stainless steel fibers; natural fibers such as cotton, hemp and paper; and synthetic organic fibers such as polyester resin and polyamide resin. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.
The shape of the fibrous base material is not particularly limited, and examples thereof include staple fibers, yarns, mats, sheets and the like.

本発明の積層板の製造方法の一実施形態として、本樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、乾燥(溶剤を除去)してプリプレグを得て、必要に応じて前記プリプレグを複数枚積層し、必要に応じて前記プリプレグまたはその積層物の片面又は両面にさらに金属箔を積層し、加熱加圧して硬化させる方法が挙げられる。   As one embodiment of the method for producing a laminate of the present invention, the present resin varnish is impregnated into a fibrous base material, dried (solvent is removed) to obtain a prepreg, and a plurality of the prepregs are laminated as required. If necessary, a metal foil may be further laminated on one side or both sides of the above prepreg or a laminate thereof, and a method of heating and pressing may be used.

繊維質基材に含浸させる本樹脂ワニスの量としては、特に限定されない。例えば、本樹脂ワニスの固形分量が、繊維質基材(100質量%)に対して30〜50質量%程度とされる。
本樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧する際の加熱温度は、前述の硬化温度が好ましい。加圧条件としては、2〜20kN/mが好ましい。
It does not specifically limit as a quantity of this resin varnish with which a fibrous base material is impregnated. For example, the solid content of the present resin varnish is about 30 to 50% by mass with respect to the fibrous base material (100% by mass).
The heating temperature when heating and pressing the fibrous base material impregnated with the resin varnish is preferably the above-mentioned curing temperature. As pressurization conditions, 2-20 kN / m < 2 > is preferable.

本発明の積層板の製造方法により得られる積層板は、繊維質基材と本樹脂ワニスの硬化物とを含む繊維強化樹脂層を備えており、この繊維強化樹脂層は、前記硬化物が低誘電率、低誘電正接であることから、絶縁性に優れる。また、繊維強化樹脂層は、前記硬化物が高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率であることから、耐熱性にも優れる。   The laminate obtained by the method for producing a laminate of the present invention comprises a fiber-reinforced resin layer containing a fibrous base material and a cured product of the present resin varnish, and the fiber-reinforced resin layer is low in the cured product. Since the dielectric constant and the low dielectric loss tangent are excellent in insulation. Further, the fiber reinforced resin layer is excellent in heat resistance because the cured product has a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low thermal expansion coefficient.

以下に、本発明を実施例によってさらに詳しく説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
以下の各例において「%」は、特に限定のない場合は「質量%」を示す。
以下の各例で用いた測定方法を以下に示す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the examples.
In each of the following examples, "%" indicates "% by mass" unless otherwise specified.
The measuring method used in each of the following examples is shown below.

[樹脂の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、分散度(Mw/Mn)]
下記のGPC装置及びカラムを使用し、標準物質をポリスチレンとして重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定し、分散度(Mw/Mn)を求めた。
GPC装置:東ソー社製のHLC8120GPC。
カラム:東ソー社製のTSKgel(登録商標) G3000H+G2000H+G2000H。
[Weight average molecular weight of resin (Mw), number average molecular weight (Mn), dispersion degree (Mw / Mn)]
The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) were measured using polystyrene as the standard substance using the following GPC apparatus and column, and the degree of dispersion (Mw / Mn) was determined.
GPC apparatus: HLC 8120 GPC manufactured by Tosoh Corporation.
Column: TSKgel (registered trademark) G3000H + G2000H + G2000H manufactured by Tosoh Corporation.

[樹脂の軟化点]
JIS K 6910に従って軟化点(℃)を測定した。
[Softening point of resin]
The softening point (° C.) was measured according to JIS K 6910.

[樹脂の溶融粘度]
150℃に設定した溶融粘度計(ブルックフィールド社製CAP2000 VISCOMETER)により、150℃における溶融粘度(P)を測定した。
[Melt viscosity of resin]
The melt viscosity (P) at 150 ° C. was measured by a melt viscometer set at 150 ° C. (CAP2000 VISCOMETER manufactured by Brookfield).

[ガラス転移温度]
得られた成形物を幅10.0mm×長さ5.5mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製DMA7100)を用い、2℃/分の昇温速度で30℃〜400℃の範囲でtanδを測定し、ガラス転移温度(℃)を求めた。
[Glass-transition temperature]
The obtained molded product was processed into a size of width 10.0 mm × length 5.5 mm × thickness 1.5 mm as a measurement sample. About this measurement sample, tan δ is measured in the range of 30 ° C. to 400 ° C. at a temperature rising rate of 2 ° C./min using a viscoelasticity measuring apparatus (DMA7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) to determine the glass transition temperature (° C.) The

[5%熱分解温度]
得られた成形物を微粉砕し、測定試料とした。この測定試料について、示差熱熱重量同時測定装置(セイコーインスツルメンツ社製TG/DTA6300)により、エアー雰囲気下で10℃/分の昇温速度で30〜800℃の範囲で熱重量減量を測定し、5%熱分解温度(℃)を求めた。
[5% thermal decomposition temperature]
The obtained molded product was pulverized and used as a measurement sample. For this measurement sample, the thermal weight loss is measured in the range of 30 to 800 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in an air atmosphere using a differential thermal thermal gravimetric simultaneous measurement device (TG / DTA 6300 manufactured by Seiko Instruments Inc.), The 5% thermal decomposition temperature (° C.) was determined.

[常温線膨張係数]
得られた成形物を幅5.0mm×長さ5.0mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、熱機械分析装置(日立ハイテクサイエンス社製TMA7100)を用いて2℃/分の昇温速度で30℃〜400℃の範囲で硬化物の熱膨張を測定し、常温線膨張係数(ppm)を求めた。常温線膨張係数は、30℃での線膨張係数を示す。
[Room temperature linear expansion coefficient]
The obtained molded product was processed into a size of width 5.0 mm × length 5.0 mm × thickness 1.5 mm as a measurement sample. For this measurement sample, the thermal expansion of the cured product is measured in the range of 30 ° C. to 400 ° C. at a temperature rise rate of 2 ° C./min using a thermomechanical analyzer (TMA 7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) (Ppm) was determined. The normal temperature linear expansion coefficient indicates a linear expansion coefficient at 30 ° C.

[比誘電率、誘電正接]
得られた成形物を幅50.0mm×長さ50.0mm×厚さ1.5mmの大きさに加工し、測定試料とした。この測定試料について、空洞共振摂動法により周波数1GHzにおける比誘電率(εr)および誘電正接(tanδ)を求めた。
[Permittivity, dielectric loss tangent]
The obtained molded product was processed into a size of width 50.0 mm × length 50.0 mm × thickness 1.5 mm as a measurement sample. The dielectric constant (ε r ) and the dielectric loss tangent (tan δ) at a frequency of 1 GHz were determined for this measurement sample by the cavity resonance perturbation method.

<合成例1:ジアリルビスフェノールFの合成>
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量3Lの反応容器に、ビスフェノールF(群栄化学製BPF−SG)1000.0g、メタノール800.0gを仕込み、発熱に注意しながら水酸化ナトリウム480gを分割添加した。次いで、塩化アリル995.0gを35℃以下で発熱に注意しながら2時間かけて滴下し、同温度で2時間反応させた後、65℃まで昇温し、5時間反応させて、ビスフェノールFのアリルエーテル化を行った。次いで、得られた反応液から減圧下でメタノールを除去した後、多量の塩を水洗で除去した。水洗後の反応液を、窒素雰囲気下で190℃まで昇温し、5時間反応させることでアリル基を転移させ、目的とするジアリルビスフェノールFを得た。得られたジアリルビスフェノールFは常温で液体であり、25℃での粘度はE型粘度計で0.8Pa・sであった。
Synthesis Example 1: Synthesis of diallyl bisphenol F
In a 3-liter reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube, 1000.0 g of bisphenol F (BPF-SG manufactured by Gun-ei Chemical Co., Ltd.) and 800.0 g of methanol are charged, and 480 g of sodium hydroxide while paying attention to heat generation Separately added. Then, 995.0 g of allyl chloride is added dropwise over 2 hours while paying attention to heat generation at 35 ° C. or lower, reacted at the same temperature for 2 hours, heated to 65 ° C., reacted for 5 hours, Allyl etherification was performed. Next, after removing methanol from the obtained reaction solution under reduced pressure, a large amount of salt was removed by water washing. The reaction solution after washing with water was heated up to 190 ° C. under a nitrogen atmosphere, and reacted for 5 hours to transfer an allyl group to obtain the desired diallyl bisphenol F. The obtained diallyl bisphenol F was liquid at normal temperature, and the viscosity at 25 ° C. was 0.8 Pa · s by an E-type viscometer.

<合成例2:ジアリルビスフェノールAの合成>
合成例1において、ビスフェノールFの1000.0gに代えてビスフェノールAの1140.0gを用い、メタノール量を912.0gに変更したこと以外は合成例1と同様の操作を行ってジアリルビスフェノールAを得た。得られたジアリルビスフェノールAは常温で液体であり、25℃での粘度はE型粘度計で21.2Pa・sであった。
Synthesis Example 2 Synthesis of Diallyl Bisphenol A
In Synthetic Example 1, diallyl bisphenol A is obtained in the same manner as in Synthetic Example 1 except that 1140.0 g of bisphenol A is used instead of 1000.0 g of bisphenol F and the amount of methanol is changed to 912.0 g. The The obtained diallyl bisphenol A was liquid at normal temperature, and the viscosity at 25 ° C. was 21.2 Pa · s with an E-type viscometer.

<合成例3:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ジアリルビスフェノールFを使用したカーボネート樹脂の合成>
温度計、攪拌機、冷却管を備えた内容量1Lの反応容器に炭酸ジフェニル214.2g(1.00モル)、トリシクロデカンジメタノール98.1g(0.50モル)を仕込み、100℃で溶融混合した。その後、48%KOH水溶液0.02gを添加し、発熱に注意しながら180℃まで昇温し1時間常圧下で反応させた。次いで、130℃まで冷却し、合成例1で得たジアリルビスフェノールFの183.0g(0.61モル)を添加し、180℃まで昇温し1時間常圧下で反応させた。その後、系内を180℃で維持しながら10mmHgまでゆっくり減圧した。次いで、減圧下のまま220℃まで昇温し2時間減圧下で反応させた。その後、反応生成物を水洗、濃縮し、アリル基含有カーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は93.5℃、150℃における溶融粘度は45.6Pであった。ゲル浸透クロマトグラフ分析(以下、GPCと略記することもある。)によるMwは9153、Mnは3139、Mw/Mnは2.916、式(1)で表される化合物の含有量は97.2%であった。
Synthesis Example 3: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, diallyl bisphenol F
214.2 g (1.00 mol) of diphenyl carbonate and 98.1 g (0.50 mol) of tricyclodecanedimethanol are charged into a 1 L reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling pipe, and melted at 100 ° C. Mixed. Thereafter, 0.02 g of a 48% aqueous solution of KOH was added, and the temperature was raised to 180 ° C., taking care of heat generation, and the reaction was conducted under normal pressure for 1 hour. Then, the reaction solution was cooled to 130 ° C., 183.0 g (0.61 mol) of diallyl bisphenol F obtained in Synthesis Example 1 was added, the temperature was raised to 180 ° C., and reaction was conducted under normal pressure for 1 hour. Thereafter, the pressure was slowly reduced to 10 mmHg while maintaining the system at 180 ° C. Then, the temperature was raised to 220 ° C. while under reduced pressure, and reaction was performed under reduced pressure for 2 hours. Thereafter, the reaction product was washed with water and concentrated to obtain an allyl group-containing carbonate resin. The softening point of this resin was 93.5 ° C. and the melt viscosity at 150 ° C. was 45.6 P. The Mw is 9153, the Mn is 3139, the Mw / Mn is 2.916, and the content of the compound represented by the formula (1) is 97.2 according to gel permeation chromatography analysis (hereinafter sometimes abbreviated as GPC). %Met.

<合成例4:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ジアリルビスフェノールFを使用したカーボネート樹脂の合成>
合成例3において、トリシクロデカンジメタノールの98.1gを157.0g(0.80モル)に変更し、ジアリルビスフェノールFの183.0gを93.0g(0.31モル)に変更したこと以外は合成例3と同様の操作を行い、アリル基含有カーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は98.4℃、150℃における溶融粘度は69.6Pであった。GPCによるMwは6774、Mnは2506、Mw/Mnは2.703、式(1)で表される化合物の含有量は97.3%であった。
Synthesis Example 4: Synthesis of carbonate resin using diphenyl carbonate, tricyclodecanedimethanol, diallyl bisphenol F
In Synthesis Example 3 except that 98.1 g of tricyclodecanedimethanol was changed to 157.0 g (0.80 mol) and 183.0 g of diallyl bisphenol F was changed to 93.0 g (0.31 mol) Carried out the same operation as in Synthesis Example 3 to obtain an allyl group-containing carbonate resin. The softening point of this resin was 98.4 ° C. and the melt viscosity at 150 ° C. was 69.6 P. The Mw by GPC was 6774, the Mn was 2506, the Mw / Mn was 2.703, and the content of the compound represented by the formula (1) was 97.3%.

<合成例5:炭酸ジフェニル、トリシクロデカンジメタノール、ジアリルビスフェノールAを使用したカーボネート樹脂の合成>
合成例3において、ジアリルビスフェノールFの183.0gを、合成例2で得たジアリルビスフェノールAの208.6g(0.61モル)に変更したこと以外は合成例3と同様の操作を行い、アリル基含有カーボネート樹脂を得た。この樹脂の軟化点は108.4℃、200℃における溶融粘度は26.1Pであった。GPCによるMwは9711、Mnは3309、Mw/Mnは2.935、式(1)で表される化合物の含有量は96.5%であった。
Synthesis Example 5 Synthesis of Carbonate Resin Using Diphenyl Carbonate, Tricyclodecane Dimethanol, and Diallyl Bisphenol A>
The same procedure as in Synthesis Example 3 is performed except that 183.0 g of diallyl bisphenol F is changed to 208.6 g (0.61 mol) of diallyl bisphenol A obtained in Synthesis Example 2 in Synthesis Example 3. A group-containing carbonate resin was obtained. The softening point of this resin was 108.4 ° C. and the melt viscosity at 200 ° C. was 26.1 P. The Mw by GPC was 9711, the Mn was 3309, the Mw / Mn was 2.935, and the content of the compound represented by the formula (1) was 96.5%.

<実施例1>
合成例3で合成したアリル基含有カーボネート樹脂の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI−2300(ポリフェニルメタンマレイミド、マレイミド当量:186.0g/eq)の23.7gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの1.2g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。樹脂分とは、成形物の総質量に対する樹脂(硬化物)の割合を示す。
Example 1
100 g of the allyl group-containing carbonate resin synthesized in Synthesis Example 3 and 23.7 g of BMI-2300 (polyphenylmethane maleimide, maleimide equivalent: 186.0 g / eq) manufactured by Daiwa Chemical Industries, Ltd. as a maleimide compound, and a curing reaction As a catalyst, 1.2 g of dicumyl peroxide (1% relative to the total resin amount) was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into a glass cloth (E glass) to a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six pieces of this prepreg were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm. The resin content indicates the ratio of the resin (cured product) to the total mass of the molded product.

<実施例2>
実施例1においてBMI−2300の23.7gを47.4gに代えたこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
Example 2
A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that 23.7 g of BMI-2300 in Example 1 was replaced by 47.4 g, to obtain a molded product.

<実施例3>
実施例1においてのBMI−2300の23.7gを大和化成工業社製のBMI−4000(ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、マレイミド当量:285.1g/eq)の72.7gに代えたこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
Example 3
Example except replacing 23.7 g of BMI-2300 in Example 1 with 72.7 g of BMI-4000 (bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, maleimide equivalent: 285.1 g / eq) manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. A resin varnish was prepared in the same manner as 1 to obtain a molded product.

<実施例4>
合成例4で合成したアリル基含有カーボネート樹脂の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI−4000の91.0gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの1.9g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
Example 4
100 g of the allyl group-containing carbonate resin synthesized in Synthesis Example 4, 91.0 g of BMI-4000 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. as a maleimide compound, and 1.9 g of dicumyl peroxide as a curing reaction catalyst (total resin amount Then, 1% of the solution was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into a glass cloth (E glass) to a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six pieces of this prepreg were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<実施例5>
実施例4においてBMI−4000の91.0gを136.3gに代えたこと以外は実施例4と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
Example 5
A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 4 except that 91.0 g of BMI-4000 was changed to 136.3 g in Example 4, to obtain a molded product.

<実施例6>
合成例5で合成したアリル基含有カーボネート樹脂の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI−2300の22.5gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの1.2g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃で10分間乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
Example 6
100 g of the allyl group-containing carbonate resin synthesized in Synthesis Example 5, 22.5 g of BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. as a maleimide compound, and 1.2 g of dicumyl peroxide as a curing reaction catalyst (total resin amount Then, 1% of the solution was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60% to obtain a resin varnish.
The obtained resin varnish was impregnated into a glass cloth (E glass) to a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six pieces of this prepreg were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<実施例7>
実施例6においてBMI−2300の22.5gを45.0gに代えたこと以外は実施例1と同様の方法で樹脂ワニスを調製し、成形物を得た。
Example 7
A resin varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that 22.5 g of BMI-2300 in Example 6 was changed to 45.0 g, to obtain a molded product.

<比較例1>
フェノールノボラック樹脂(群栄化学工業社製PSM−4261、軟化点:80℃、水酸基当量:106g/eq)の50.0gと、エポキシ樹脂としてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製:EOCN1020、エポキシ当量:199g/eq)の93.9gと、触媒としてトリフェニルホスフィンの1.9g(エポキシ樹脂に対して2%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃10分乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、180℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
Comparative Example 1
50.0 g of phenol novolac resin (PSM-4261 manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., softening point: 80 ° C., hydroxyl group equivalent: 106 g / eq) and ortho cresol novolac epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd .: EOCN 1020, as epoxy resin) A resin varnish is obtained by dissolving 93.9 g of epoxy equivalent: 199 g / eq) and 1.9 g (2% with respect to epoxy resin) of triphenylphosphine as a catalyst in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 60%. The
The obtained resin varnish was impregnated into a glass cloth (E glass) to a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six pieces of this prepreg were stacked, press-molded at 180 ° C., and after-baked at 180 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

<比較例2>
アリルフェノールノボラック樹脂(群栄化学工業社製XPL−4437E、アリル基当量:145g/eq、常温で液状、E型粘度計で測定した25℃での粘度:31Pa・s)の100gと、マレイミド化合物として大和化成工業社製のBMI−4000の196.6gと、硬化反応触媒としてジクミルパーオキサイドの3.0g(全樹脂量に対して1%)とを、メチルエチルケトンに固形分60%になるように溶解し樹脂ワニスを得た。
得られた樹脂ワニスをガラスクロス(Eガラス)に、樹脂分40%になるように含浸し、100℃10分乾燥させ、溶剤を除去してプリプレグを得た。このプリプレグを6枚重ね、180℃でプレス成形し、その後、230℃で5時間アフターベークを行い、厚さ1.5mmの成形物(積層板)を得た。
Comparative Example 2
100 g of allylphenol novolac resin (XPL-4437E manufactured by Gunei Chemical Industry, allyl equivalent: 145 g / eq, liquid at normal temperature, viscosity at 25 ° C. measured with an E-type viscometer: 31 Pa · s), maleimide compound As 196.6 g of BMI-4000 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. and 3.0 g of dicumyl peroxide as a curing reaction catalyst (1% relative to the total amount of resin) to give a solid content of 60% in methyl ethyl ketone The resin varnish was obtained by
The obtained resin varnish was impregnated into a glass cloth (E glass) to a resin content of 40%, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a prepreg. Six pieces of this prepreg were stacked, press-molded at 180 ° C., and then after-baked at 230 ° C. for 5 hours to obtain a molded product (laminated plate) having a thickness of 1.5 mm.

実施例1〜7、比較例1〜2で得た成形物について、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接を測定した。結果を表1〜2に示した。なお、測定されたガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接はそれぞれ、成形物に用いた樹脂ワニスの硬化物のガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数、比誘電率、誘電正接とみなすことができる。
各例で用いた硬化剤(アリル基含有カーボネート樹脂、フェノールノボラック樹脂またはアリルフェノールノボラック樹脂)、マレイミド化合物、エポキシ樹脂それぞれの種類を表1〜2に併記した。
The glass transition temperature, the 5% thermal decomposition temperature, the room temperature linear expansion coefficient, the relative dielectric constant, and the dielectric loss tangent were measured for the molded products obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. The results are shown in Tables 1-2. The measured glass transition temperature, 5% thermal decomposition temperature, room temperature linear expansion coefficient, relative dielectric constant, and dielectric loss tangent are respectively the glass transition temperature of the cured product of the resin varnish used for the molded product, 5% thermal decomposition temperature, It can be regarded as a normal temperature linear expansion coefficient, a relative dielectric constant, and a dielectric loss tangent.
The types of the curing agent (allyl group-containing carbonate resin, phenol novolac resin or allyl phenol novolac resin), maleimide compound and epoxy resin used in each example are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2019089967
Figure 2019089967

Figure 2019089967
Figure 2019089967

実施例1〜7の成形物は、低誘電率、低誘電正接であり、電気特性に優れていた。また、ガラス転移温度、5%熱分解温度、常温線膨張係数等の熱的特性も充分に優れていた。
エポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させた比較例1の成形物は、実施例1〜7に比べて誘電率および誘電正接が高かった。また、常温線膨張係数が大きかった。
硬化剤としてアリルフェノールノボラック樹脂を用いた比較例2の成形物は、比較例1よりもさらに誘電率および誘電正接が高かった。
The moldings of Examples 1 to 7 had low dielectric constants, low dielectric loss tangents, and excellent electrical characteristics. In addition, thermal characteristics such as glass transition temperature, 5% thermal decomposition temperature and normal temperature linear expansion coefficient were also sufficiently excellent.
The molded product of Comparative Example 1 in which the epoxy resin was cured with a phenol novolac resin had higher dielectric constant and dielectric loss tangent as compared with Examples 1 to 7. In addition, the room temperature linear expansion coefficient was large.
The molded product of Comparative Example 2 using allylphenol novolac resin as a curing agent had a dielectric constant and a dielectric loss tangent higher than those of Comparative Example 1.

本樹脂ワニスによれば、低誘電率、低誘電正接である、電気特性に優れた硬化物が得られる。また、本樹脂ワニスによれば、高ガラス転移温度、高熱分解温度、低熱膨張率である、熱的特性にも優れた硬化物が得られる。
したがって、本樹脂ワニスおよびこれを用いた積層板は、高機能性高分子材料として極めて有用であり、電気的、熱的に優れた材料として、半導体封止材、電気絶縁材料、銅張り積層板用樹脂、レジスト、電子部品の封止用樹脂、液晶のカラーフィルター用樹脂、塗料、各種コーティング剤、接着剤、ビルドアップ積層板材料、FRP等の幅広い用途に使用できる。
According to the resin varnish, a cured product having excellent electrical characteristics, which has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, can be obtained. Moreover, according to this resin varnish, the hardened | cured material excellent also in the thermal characteristic which is a high glass transition temperature, a high thermal decomposition temperature, and a low thermal expansion coefficient is obtained.
Therefore, the present resin varnish and a laminate using the same are extremely useful as a high functional polymer material, and as an electrically and thermally excellent material, a semiconductor sealing material, an electric insulating material, a copper-clad laminate It can be used in a wide range of applications such as resins for resins, resists, resins for sealing electronic parts, resins for color filters for liquid crystals, paints, various coating agents, adhesives, build-up laminate materials, FRP and the like.

Claims (11)

下記式(1)で表される化合物を主成分として含むアリル基含有カーボネート樹脂。
Figure 2019089967
[式中、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、2個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、nは0以上の整数を示し、Rは、ビスフェノール化合物由来の残基、ビフェノール化合物由来の残基または脂環式ジメタノール化合物由来の残基を示し、nが2以上である場合、n個のRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、2個のRおよびn個のRの少なくとも一部はアリル基を含有し、Xは水素原子またはアリル基を示し、2個のXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
An allyl group-containing carbonate resin containing a compound represented by the following formula (1) as a main component.
Figure 2019089967
[Wherein, R 1 represents a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and two R 1 s are identical to or different from each other] N is an integer of 0 or more, R 2 is a residue derived from a bisphenol compound, a residue derived from a biphenol compound or a residue derived from an alicyclic dimethanol compound, and n is 2 or more And n R 2 s may be the same or different, and at least a portion of two R 1 s and n R 2 s contain an allyl group, and X represents a hydrogen atom or an allyl group And two X's may be the same or different. ]
前記式(1)中のRが、アリル基含有ビスフェノール化合物由来の残基またはアリル基含有ビフェノール化合物由来の残基である、請求項1に記載のアリル基含有カーボネート樹脂。 The allyl group-containing carbonate resin according to claim 1, wherein R 1 in the formula (1) is a residue derived from an allyl group-containing bisphenol compound or a residue derived from an allyl group-containing biphenol compound. 前記式(1)中のRが、下記式(r1)、下記式(r2)または下記式(r3)で表される基である、請求項2に記載のアリル基含有カーボネート樹脂。
Figure 2019089967
[式中、pは1または2を示し、qは0〜2の整数を示す。]
The allyl group-containing carbonate resin according to claim 2, wherein R 1 in the formula (1) is a group represented by the following formula (r1), the following formula (r2) or the following formula (r3).
Figure 2019089967
[In formula, p shows 1 or 2 and q shows the integer of 0-2. ]
前記式(1)中のn個のRの少なくとも一部が、脂環式ジメタノール化合物由来の残基である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂。 The allyl group-containing carbonate resin according to any one of claims 1 to 3, wherein at least a part of n R 2 in the formula (1) is a residue derived from an alicyclic dimethanol compound. 炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物、ビフェノール化合物および脂環式ジメタノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオール化合物とを反応させる工程を有し、前記ジオール化合物の少なくとも一部がアリル基を含有する、アリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。   A step of reacting carbonic diester with at least one diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound, a biphenol compound and an alicyclic dimethanol compound, wherein at least a part of the diol compound contains an allyl group And a method for producing an allyl group-containing carbonate resin. 前記炭酸エステルと前記ジオール化合物とを反応させる工程が、
炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物とを反応させ、または、炭酸ジエステルと、脂環式ジメタノール化合物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させ、一次反応生成物を得て、前記一次反応生成物と、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程、または
炭酸ジエステルと、ビスフェノール化合物およびビフェノール化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の芳香族ジオール化合物とを反応させる工程である、請求項5に記載のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。
Reacting the carbonic ester with the diol compound;
A carbonic acid diester is reacted with an alicyclic dimethanol compound, or a carbonic acid diester, an alicyclic dimethanol compound, and at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound Reacting to obtain a primary reaction product, and reacting the primary reaction product with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of a bisphenol compound and a biphenol compound, or a carbonic diester with a bisphenol compound The process for producing an allyl group-containing carbonate resin according to claim 5, which is a step of reacting with at least one aromatic diol compound selected from the group consisting of and biphenol compounds.
前記一次反応生成物を得る際の、前記脂環式ジメタノール化合物と前記芳香族ジオール化合物との合計量に対する前記炭酸ジエステルのモル比が、1.05〜3.00である、請求項6に記載のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。   The molar ratio of the carbonic diester to the total amount of the alicyclic dimethanol compound and the aromatic diol compound when obtaining the first reaction product is 1.05 to 3.00. The manufacturing method of the allyl group containing carbonate resin as described. 前記炭酸エステルと前記ジオール化合物との反応により生成した、末端が水酸基であるアリル基含有カーボネート樹脂と、ハロゲン化アリルとを反応させ、前記水酸基をアリルエーテル化する工程をさらに有する、請求項5〜7のいずれか一項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂の製造方法。   The method according to any one of claims 5 to 10, further comprising the step of reacting an allyl group-containing carbonate resin having a hydroxyl group at a terminal with an allyl halide, generated by the reaction of the carbonic ester and the diol compound. The manufacturing method of allyl group containing carbonate resin as described in any one of 7. 請求項1〜4のいずれか一項に記載のアリル基含有カーボネート樹脂と、マレイミド基を2以上有するマレイミド化合物と、溶剤とを含む樹脂ワニス。   The resin varnish containing the allyl group containing carbonate resin as described in any one of Claims 1-4, the maleimide compound which has 2 or more of maleimide groups, and a solvent. 前記アリル基含有カーボネート樹脂が、前記式(1)中の2個のXの少なくとも一方が水素原子である化合物を含み、
エポキシ樹脂をさらに含む、請求項9に記載の樹脂ワニス。
The allyl group-containing carbonate resin includes a compound in which at least one of two X in the formula (1) is a hydrogen atom,
The resin varnish according to claim 9, further comprising an epoxy resin.
請求項9または10に記載の樹脂ワニスを繊維質基材に含浸させ、前記樹脂ワニスが含浸した繊維質基材を加熱加圧し、硬化させて積層板を得る、積層板の製造方法。   A method for producing a laminate, comprising impregnating a fibrous base material with the resin varnish according to claim 9 or 10, heating and pressing the fibrous base material impregnated with the resin varnish, and curing to obtain a laminate.
JP2017220710A 2017-11-16 2017-11-16 Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method Active JP6998739B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017220710A JP6998739B2 (en) 2017-11-16 2017-11-16 Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method
TW107138781A TWI771517B (en) 2017-11-16 2018-11-01 Allyl group-containing carbonate resin, manufacturing method thereof, resin varnish, and manufacturing method of laminated sheet
CN201811345927.3A CN110003457B (en) 2017-11-16 2018-11-13 Allyl group-containing carbonate resin, method for producing same, resin varnish, and method for producing laminated plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017220710A JP6998739B2 (en) 2017-11-16 2017-11-16 Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019089967A true JP2019089967A (en) 2019-06-13
JP6998739B2 JP6998739B2 (en) 2022-02-10

Family

ID=66837148

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017220710A Active JP6998739B2 (en) 2017-11-16 2017-11-16 Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6998739B2 (en)
CN (1) CN110003457B (en)
TW (1) TWI771517B (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019089966A (en) * 2017-11-16 2019-06-13 群栄化学工業株式会社 Allyl ether group-containing carbonate resin, method for producing the same, resin varnish, and method for manufacturing laminate
WO2021106848A1 (en) * 2019-11-29 2021-06-03 東洋紡株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet, laminate, and printed wiring board
CN113980561A (en) * 2021-11-11 2022-01-28 合肥工业大学 UV (ultraviolet) curing hard coating and preparation method thereof
JP2022077847A (en) * 2020-11-12 2022-05-24 信越化学工業株式会社 Thermosetting maleimide resin composition, and uncured resin film and cured resin film comprising the resin composition
JP2022077849A (en) * 2020-11-12 2022-05-24 信越化学工業株式会社 Thermosetting maleimide resin composition, and uncured resin film and cured resin film comprising the resin composition

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04291348A (en) * 1991-03-20 1992-10-15 Teijin Chem Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH0543814A (en) * 1990-11-30 1993-02-23 Teijin Ltd Sulfur compound-coordinate organic dye, organic dye composition, and optical recording medium
JPH1077338A (en) * 1996-08-30 1998-03-24 Idemitsu Kosan Co Ltd Polycarbonate resin and its production
JP2000044668A (en) * 1998-07-30 2000-02-15 Idemitsu Kosan Co Ltd Crosslinked polycarbonate resin composition and absorbent and column packing material using the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173529A (en) * 2000-09-29 2002-06-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd Polycarbonate copolymer
JP5233710B2 (en) * 2008-02-12 2013-07-10 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg and metal foil-clad laminate
JP5043814B2 (en) 2008-12-18 2012-10-10 株式会社日立産機システム Circuit breaker
US8426532B2 (en) * 2010-09-17 2013-04-23 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate graft copolymers

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0543814A (en) * 1990-11-30 1993-02-23 Teijin Ltd Sulfur compound-coordinate organic dye, organic dye composition, and optical recording medium
JPH04291348A (en) * 1991-03-20 1992-10-15 Teijin Chem Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH1077338A (en) * 1996-08-30 1998-03-24 Idemitsu Kosan Co Ltd Polycarbonate resin and its production
JP2000044668A (en) * 1998-07-30 2000-02-15 Idemitsu Kosan Co Ltd Crosslinked polycarbonate resin composition and absorbent and column packing material using the same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019089966A (en) * 2017-11-16 2019-06-13 群栄化学工業株式会社 Allyl ether group-containing carbonate resin, method for producing the same, resin varnish, and method for manufacturing laminate
WO2021106848A1 (en) * 2019-11-29 2021-06-03 東洋紡株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet, laminate, and printed wiring board
JP6919777B1 (en) * 2019-11-29 2021-08-18 東洋紡株式会社 Adhesive compositions, adhesive sheets, laminates and printed wiring boards
JP2022077847A (en) * 2020-11-12 2022-05-24 信越化学工業株式会社 Thermosetting maleimide resin composition, and uncured resin film and cured resin film comprising the resin composition
JP2022077849A (en) * 2020-11-12 2022-05-24 信越化学工業株式会社 Thermosetting maleimide resin composition, and uncured resin film and cured resin film comprising the resin composition
JP7330648B2 (en) 2020-11-12 2023-08-22 信越化学工業株式会社 Thermosetting maleimide resin composition, and uncured resin film and cured resin film made of the resin composition
JP7387235B2 (en) 2020-11-12 2023-11-28 信越化学工業株式会社 Thermosetting maleimide resin composition, uncured resin film and cured resin film comprising the resin composition
CN113980561A (en) * 2021-11-11 2022-01-28 合肥工业大学 UV (ultraviolet) curing hard coating and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
TW201922841A (en) 2019-06-16
TWI771517B (en) 2022-07-21
JP6998739B2 (en) 2022-02-10
CN110003457B (en) 2023-06-06
CN110003457A (en) 2019-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6998739B2 (en) Allyl group-containing carbonate resin, its manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method
TWI739817B (en) Thermosetting resin composition, prepreg and its cured product
JP6947611B2 (en) Phenolic carbonate resin, epoxy resin curing agent, phenol carbonate resin manufacturing method, resin varnish, and laminated board manufacturing method
TW201026733A (en) Soluble imide-skeleton resin, soluble imide-skeleton resin solution composition, curable resin composition, and cured product of same
JP5457304B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
KR20190082982A (en) Curable resin composition, cured product thereof, and structure comprising the cured product
JP4591946B2 (en) Poly (vinylbenzyl) ether compound and process for producing the same
JP5734603B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP7082869B2 (en) A carbonate resin containing an allyl ether group, a method for producing the same, a resin varnish, and a method for producing a laminated board.
JP3895694B2 (en) Oligomer-modified epoxy resin, composition thereof, and printed wiring board using the composition
JP6837354B2 (en) Manufacturing method of allyl group-containing resin, resin varnish and laminated board
JP6783121B2 (en) Allyl group-containing resin, its manufacturing method, resin varnish and laminated board manufacturing method
JP6760815B2 (en) Resin varnish, its manufacturing method and laminated board manufacturing method
CN117836346A (en) Allyl ether compound, resin composition, and cured product thereof
JP6863830B2 (en) Resin composition, resin varnish, manufacturing method of laminated board, thermosetting molding material and sealing material
JP2013119608A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2013112738A (en) Phenol novolac resin and epoxy resin composition using the same
JP2011084697A (en) Polymerizable phosphorus-containing (poly)xylylene aryl ether compound, method for producing the same, flame-retardant thermocurable resin composition, cured product and laminated board
WO2020080292A1 (en) Curable resin composition, cured product, and sheet-form molded article
JP2024049670A (en) Carbonate resin, its manufacturing method, resin composition, thermosetting molding material, cured product, sealing material, laminate and its manufacturing method
JP2022155315A (en) Carbonate resin, method for producing the same, resin varnish, and method for manufacturing laminated sheet
JP4748625B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
KR101799365B1 (en) Epoxy resin, method for manufacturing the same, intermediate, epoxy resin composition and cured product
JP7158228B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2010229311A (en) Curable resin composition, cured product thereof, and resin material for electronic part

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200813

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210426

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210511

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210712

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211221

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6998739

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150