JP6996251B2 - 基板保持装置及びパターン形成装置 - Google Patents
基板保持装置及びパターン形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6996251B2 JP6996251B2 JP2017224259A JP2017224259A JP6996251B2 JP 6996251 B2 JP6996251 B2 JP 6996251B2 JP 2017224259 A JP2017224259 A JP 2017224259A JP 2017224259 A JP2017224259 A JP 2017224259A JP 6996251 B2 JP6996251 B2 JP 6996251B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding
- holding mechanism
- imprint mold
- control unit
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
2…モールド保持部(基板保持部)
200…保持機構
201…第1保持機構
202…第2保持機構
3…保持制御部
301…第1保持制御部
302…第2保持制御部
4…電源供給部
401…第1電源供給部
402…第2電源供給部
100…インプリント装置(パターン形成装置)
Claims (8)
- 凹凸パターンを有するインプリントモールドを保持するための基板保持装置であって、
前記インプリントモールドを保持するための保持機構を有する基板保持部と、
前記保持機構による前記インプリントモールドの保持を制御する保持制御部と
を備え、
前記保持機構は、互いに物理的に独立する第1保持機構と第2保持機構とを少なくとも有し、
前記保持制御部は、前記第1保持機構による前記インプリントモールドの保持を制御する第1保持制御部と前記第2保持機構による前記インプリントモールドの保持を制御する第2保持制御部とを少なくとも有し、
前記第1保持制御部と前記第2保持制御部とは、それぞれ、前記第1保持機構による前記インプリントモールドの保持と前記第2保持機構による前記インプリントモールドの保持とを互いに独立して制御し、
前記インプリントモールドは、前記凹凸パターンが形成されている凹凸パターン形成面の反対側の面に窪み部が形成されており、
前記基板保持部は、前記インプリントモールドの前記凹凸パターン形成面の反対側の面に当接する保持面を有し、
前記保持機構は、前記保持面に交差する方向に前記基板保持部を貫通する複数の貫通孔と、前記貫通孔に連続する真空吸引部とを有し、前記インプリントモールドを真空吸着する真空吸着機構であり、
前記窪み部内を加圧して前記凹凸パターン形成面を湾曲させた状態で前記インプリントモールドの前記凹凸パターンを被転写基板上のインプリント樹脂に接触させるときに、前記第1保持制御部及び前記第2保持制御部は、それぞれ、前記第1保持機構による前記インプリントモールドの真空吸着及び前記第2保持機構による前記インプリントモールドの真空吸着が行われるように前記第1保持機構及び前記第2保持機構を制御し、
前記インプリント樹脂に前記凹凸パターンを接触させてから前記インプリントモールドを前記インプリント樹脂から引き離すまでの間、前記第1保持制御部及び前記第2保持制御部のいずれか一方は、前記保持機構による前記インプリントモールドの真空吸着が行われるように前記保持機構を制御し、他方は、前記保持機構による前記インプリントモールドの真空吸着が行われないように前記保持機構を制御する
基板保持装置。 - 前記保持制御部に電源を供給する電源供給部をさらに備え、
前記電源供給部は、前記第1保持機構に電源を供給するための第1電源回路を含む第1電源供給部と、前記第2保持機構に電源を供給するための第2電源回路を含む第2電源供給部とを少なくとも有し、
前記第1電源供給部と前記第2電源供給部とは、互いに物理的に独立している
請求項1に記載の基板保持装置。 - 前記第1保持機構と前記第2保持機構とに生じた異常を検知する検知部をさらに備える
請求項1又は2に記載の基板保持装置。 - 前記保持制御部は、前記第1保持機構と前記第2保持機構とのいずれか一方に生じた異常が前記検知部により検知された場合に、他方の保持機構による前記インプリントモールドの保持力を増大させるように前記インプリントモールドの保持を制御する
請求項3に記載の基板保持装置。 - 前記第1保持機構と前記第2保持機構とに生じた異常が前記検知部による検知された場合に、アラートを行うアラート部をさらに備える
請求項3又は4に記載の基板保持装置。 - 前記基板保持部を移動可能な駆動機構をさらに備え、
前記駆動機構は、前記第1保持機構と前記第2保持機構とに生じた異常が前記検知部による検知された場合に、前記インプリントモールドを保持する前記基板保持部を移動させる
請求項3~5のいずれかに記載の基板保持装置。 - 前記第1保持機構の前記複数の貫通孔と、前記第2保持機構の前記複数の貫通孔とが、それぞれ、前記保持面の面内に実質的に一様に分布している
請求項1~6のいずれかに記載の基板保持装置。 - 請求項1~7のいずれかに記載の基板保持装置と、
前記基板保持装置に保持される前記インプリントモールドに対向させるように、前記被転写基板を載置可能なステージと
を備えるパターン形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017224259A JP6996251B2 (ja) | 2017-11-22 | 2017-11-22 | 基板保持装置及びパターン形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017224259A JP6996251B2 (ja) | 2017-11-22 | 2017-11-22 | 基板保持装置及びパターン形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019096712A JP2019096712A (ja) | 2019-06-20 |
JP6996251B2 true JP6996251B2 (ja) | 2022-01-17 |
Family
ID=66973150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017224259A Active JP6996251B2 (ja) | 2017-11-22 | 2017-11-22 | 基板保持装置及びパターン形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6996251B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006064851A1 (ja) | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Nikon Corporation | 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2008288300A (ja) | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Canon Inc | 静電吸着保持装置及びそれを有する露光装置 |
JP2009003365A (ja) | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Nsk Ltd | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 |
JP2010517300A (ja) | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法 |
JP2012059858A (ja) | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Ulvac Japan Ltd | 静電吸着装置 |
JP2015216307A (ja) | 2014-05-13 | 2015-12-03 | 住友電気工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2649556B2 (ja) * | 1988-09-02 | 1997-09-03 | キヤノン株式会社 | マスク保持装置 |
JPH04226012A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-08-14 | Toshiba Corp | 間隙設定方法 |
JPH04186818A (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-03 | Canon Inc | X線露光装置用の基板把持装置 |
-
2017
- 2017-11-22 JP JP2017224259A patent/JP6996251B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006064851A1 (ja) | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Nikon Corporation | 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2010517300A (ja) | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法 |
JP2008288300A (ja) | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Canon Inc | 静電吸着保持装置及びそれを有する露光装置 |
JP2009003365A (ja) | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Nsk Ltd | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 |
JP2012059858A (ja) | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Ulvac Japan Ltd | 静電吸着装置 |
JP2015216307A (ja) | 2014-05-13 | 2015-12-03 | 住友電気工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019096712A (ja) | 2019-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108604066B (zh) | 光刻设备、用于卸载衬底的方法和用于装载衬底的方法 | |
US9387607B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device | |
JP6400120B2 (ja) | 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 | |
TWI564936B (zh) | 壓印設備及製造物品的方法 | |
JP2012060074A (ja) | インプリント装置及び方法 | |
CN109314077B (zh) | 吸盘、基板保持设备、图案形成设备和制造物品的方法 | |
US11098759B2 (en) | Support table for a lithographic apparatus, method of loading a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP6315963B2 (ja) | インプリント装置、及び物品の製造方法 | |
JP2017092396A (ja) | インプリント装置、及び物品の製造方法 | |
TWI815329B (zh) | 夾持基板至夾持系統之方法、基板固持器及基板支撐器 | |
JP2023055817A (ja) | プラテン用基板貼り付き防止フィルム、基板取り扱い装置及び基板取り扱い方法 | |
JP5068107B2 (ja) | 露光装置用基板搬送機構及びその制御方法 | |
CN114270270A (zh) | 衬底保持器、光刻设备和方法 | |
JP2007103609A (ja) | 投影露光装置 | |
JP2017112230A (ja) | インプリント装置および物品製造方法 | |
JP6706983B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP6996251B2 (ja) | 基板保持装置及びパターン形成装置 | |
EP3990985B1 (en) | Substrate handling system of a lithography apparatus and method thereof | |
KR102239964B1 (ko) | 임프린트 장치, 및 물품의 제조 방법 | |
KR20170054455A (ko) | 임프린트 장치, 임프린트 방법, 및 물품 제조 방법 | |
JP2009003365A (ja) | 近接スキャン露光装置及びその制御方法 | |
KR20080071347A (ko) | 레티클 그립퍼 및 이를 구비한 레티클 이송장치 | |
JP2016224126A (ja) | 保持装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 | |
JP2023040497A (ja) | 保持装置、保持装置の吸着異常を判定する方法、リソグラフィー装置、及び、物品の製造方法 | |
JP6646556B2 (ja) | コンタクト露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200925 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210615 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210805 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6996251 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |