JP6992283B2 - Efem及びefemへの乾燥空気の導入方法 - Google Patents
Efem及びefemへの乾燥空気の導入方法 Download PDFInfo
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Description
乾燥空気を導入する乾燥空気導入口を備える第1室と、
前記第1室の下方に接続しており人が出入り可能な開放ドアを備える第2室と、
前記第1室と前記第2室との間で循環気流を形成する気流形成部と、
前記第2室から前記第2室の気体を排出する気体排出部と、を有しており、
前記第1室と前記第2室とは、フィルタが設けられており前記循環気流の形成時に前記第1室から前記第2室へ向かう気流が生じる第1連通部と、通気状態変更部によって通気状態を変更可能であって前記循環気流の形成時に前記第2室から前記第1室へ向かう気流が生じる第2連通部と、を介して接続されている。
前記通気状態変更部は、前記乾燥空気導入口より下方であって前記気体排出部より上方に位置する前記第2連通部に設けられていてもよい。
乾燥空気導入口から第1室に乾燥空気を導入する導入ステップと、
前記第1室と、前記第1室の下方に接続する第2室と、を接続する第1及び第2連通部のうち、フィルタが設けられる前記第1連通部における前記乾燥空気の通気量が、前記第2連通部における前記乾燥空気の通気量より多い状態である非循環状態になるように、前記第2連通部の通気状態を変更する変更ステップと、
前記第2室の気体を排出する排出ステップと、を有する。
図1は、本発明の一実施形態に係るEFEM50の概略図であり、EFEM50(イーフェム、Equipment Front End Module)は、半導体工場において、ウエハを搬送するウエハ搬送容器であるフープ(不図示)と、ウエハに対して処理を行う処理室(不図示)との間で、ウエハを受け渡すために用いられる装置である。
52…ガス導入口
53…乾燥空気導入口
54…第1室
54a…第1進行領域
54b…第1戻り領域
58…第1連通部
60…気流形成部
61…送風ファン
62…フィルタ
70…第2連通部
74…通気状態変更部
75…バルブ
64…第2室
64a…第2進行領域
64b…第2戻り領域
65…湿度計
66…酸素濃度計
67…下部連通部
68…気体排出部
69…中間壁
80…開放ドア
82…人
90、92…矢印
177…熱源
Claims (9)
- 乾燥空気を導入する乾燥空気導入口を備える第1室と、
前記第1室の下方に接続しており人が出入り可能な開放ドアを備える第2室と、
前記第1室と前記第2室との間で循環気流を形成する気流形成部と、
前記第2室から前記第2室の気体を排出する気体排出部と、を有しており、
前記第1室と前記第2室とは、フィルタが設けられており前記循環気流の形成時に前記第1室から前記第2室へ向かう気流が生じる第1連通部と、通気状態変更部によって通気状態を変更可能であって前記循環気流の形成時に前記第2室から前記第1室へ向かう気流が生じる第2連通部と、を介して接続されており、
前記第2室は、下降気流が生じる第2進行領域と、上昇気流が生じる第2戻り領域とを有し、
前記第2進行領域を流れる気体は、前記第2戻り領域を上昇したのち、前記気体排出部から排出されることを特徴とするEFEM。 - 前記気体排出部は、前記第2室における前記第1連通部より前記第2連通部に近い位置に接続しており、
前記通気状態変更部は、前記乾燥空気導入口より下方であって前記気体排出部より上方に位置する前記第2連通部に設けられる請求項1に記載のEFEM。 - 前記通気状態変更部は、前記第2連通部を介して前記第2室から前記第1室へ気体が移動可能な状態と、前記第2連通部を介して前記第2室から前記第1室へ気体が移動できない状態とで、前記第2連通部の通気状態を切り換え可能なバルブを有することを特徴とする請求項2に記載のEFEM。
- 乾燥空気導入口から第1室に乾燥空気を導入する導入ステップと、
前記第1室と、前記第1室の下方に接続する第2室と、を接続する第1及び第2連通部のうち、フィルタが設けられる前記第1連通部における前記乾燥空気の通気量が、前記第2連通部における前記乾燥空気の通気量より多い状態である非循環状態になるように、前記第2連通部の通気状態を変更する変更ステップと、
前記第2室から前記第2室の気体を気体排出部を介して排出する排出ステップと、
を有し、
前記第2室は、下降気流が生じる第2進行領域と、上昇気流が生じる第2戻り領域とを有し、
前記排出ステップでは、前記第2進行領域を流れる気体は、前記第2戻り領域を上昇したのち、前記気体排出部から排出されるEFEMへの乾燥空気の導入方法。 - 前記排出ステップにおいて、前記第2室の気体は、前記第2室における前記第1連通部より前記第2連通部に近い位置に接続する前記気体排出部より排出される請求項4に記載のEFEMへの乾燥空気の導入方法。
- 前記非循環状態であって前記導入ステップの継続中に、前記第2室に設けられ人が出入り可能な開放ドアのロックを解除する解除ステップを、さらに有する請求項4または請求項5に記載のEFEMへの乾燥空気の導入方法。
- 前記第1室と前記第2室との間で循環気流を形成する気流形成部の駆動を停止する停止ステップを、さらに有する請求項4から請求項6までのいずれかに記載のEFEMへの乾燥空気の導入方法。
- 乾燥空気導入口から第1室に乾燥空気を導入する導入ステップと、
前記第1室と、前記第1室の下方に接続する第2室と、を接続する第1及び第2連通部のうち、フィルタが設けられる前記第1連通部における前記乾燥空気の通気量が、前記第2連通部における前記乾燥空気の通気量より多い状態である非循環状態になるように、前記第2連通部の通気状態を変更する変更ステップと、
前記第2室の気体を排出する排出ステップと、
前記非循環状態であって前記導入ステップの継続中に、前記第2室に設けられ人が出入り可能な開放ドアのロックを解除する解除ステップと、を有するEFEMへの乾燥空気の導入方法。 - 乾燥空気導入口から第1室に乾燥空気を導入する導入ステップと、
前記第1室と、前記第1室の下方に接続する第2室と、を接続する第1及び第2連通部のうち、フィルタが設けられる前記第1連通部における前記乾燥空気の通気量が、前記第2連通部における前記乾燥空気の通気量より多い状態である非循環状態になるように、前記第2連通部の通気状態を変更する変更ステップと、
前記第2室の気体を排出する排出ステップと、を有し、
前記導入ステップは、前記第1室と前記第2室との間で循環気流を形成する気流形成部の駆動を停止した状態で行われるEFEMへの乾燥空気の導入方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017108658A JP6992283B2 (ja) | 2017-05-31 | 2017-05-31 | Efem及びefemへの乾燥空気の導入方法 |
US15/991,345 US11133208B2 (en) | 2017-05-31 | 2018-05-29 | EFEM and method of introducing dry air thereinto |
TW107118476A TWI719314B (zh) | 2017-05-31 | 2018-05-30 | 設備前端模組及向設備前端模組的乾燥空氣的導入方法 |
KR1020180062371A KR102106625B1 (ko) | 2017-05-31 | 2018-05-31 | Efem 및 efem으로의 건조 공기의 도입 방법 |
CN201810550821.0A CN108987308B (zh) | 2017-05-31 | 2018-05-31 | Efem及向efem导入干燥空气的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017108658A JP6992283B2 (ja) | 2017-05-31 | 2017-05-31 | Efem及びefemへの乾燥空気の導入方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018206874A JP2018206874A (ja) | 2018-12-27 |
JP6992283B2 true JP6992283B2 (ja) | 2022-01-13 |
Family
ID=64958210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017108658A Active JP6992283B2 (ja) | 2017-05-31 | 2017-05-31 | Efem及びefemへの乾燥空気の導入方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6992283B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023048293A (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-07 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法およびプログラム |
CN114522650B (zh) * | 2022-03-25 | 2023-05-12 | 成都飞机工业(集团)有限责任公司 | 一种气氛保护装置及其除水氧的方法 |
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JP2007095879A (ja) | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
JP2014038888A (ja) | 2012-08-10 | 2014-02-27 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | ミニエンバイロメント装置及びその内部雰囲気置換方法 |
JP2014116441A (ja) | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Hitachi High-Tech Manufacturing & Service Corp | 半導体ウェーハ処理装置及び除電システム |
JP2015023037A (ja) | 2013-07-16 | 2015-02-02 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem、ロードポート |
JP2016162818A (ja) | 2015-02-27 | 2016-09-05 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 搬送室 |
JP2017028110A (ja) | 2015-07-23 | 2017-02-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送室、基板処理システム、及び基板搬送室内のガス置換方法 |
-
2017
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JP2017028110A (ja) | 2015-07-23 | 2017-02-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送室、基板処理システム、及び基板搬送室内のガス置換方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2018206874A (ja) | 2018-12-27 |
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