JP6990958B2 - レーザー加工装置 - Google Patents
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Description
図3に、本発明の第1の実施形態にかかるレーザー加工の方法を示す。光源から出力された入射光2は、光強度分布はガウス分布であり(図3(a))、xy平面でのビーム形状は円形になっている(図3(b))。
図6に、本発明の第2の実施形態にかかるレーザー加工の方法を示す。第2の実施形態では、回折素子23に振動を与えずに、音響光学素子または電気光学素子を用いて入射光を偏向させ、回折素子23への入射角を変化させる。光源から出力された入射光22は、光強度分布はガウス分布であり(図6(a))、xy平面でのビーム形状は円形になっている(図6(b))。
図8に、本発明の第3の実施形態にかかるレーザー加工の方法を示す。第3の実施形態においても、回折素子43に振動を与えずに、ポリゴンミラー、ガルバノミラーなどの角度可変ミラー47を用いて入射光を偏向させ、回折素子への入射角を変化させる。光源から出力された入射光42は、光強度分布はガウス分布であり(図8(a))、xy平面でのビーム形状は円形になっている(図8(b))。
図9に、本発明の第4の実施形態にかかるレーザー加工の方法を示す。光源から出力された入射光52は、光強度分布はガウス分布であり(図9(a))、xy平面でのビーム形状は円形になっている(図9(b))。
図13に、本発明の第5の実施形態にかかるレーザー加工の方法を示す。光源から出力された入射光72は、光強度分布はガウス分布であり(図13(a))、xy平面でのビーム形状は円形になっている(図13(b))。
図15に、本発明の第6の実施形態にかかるレーザー加工の方法を示す。光源81から出力された入射光82は、波面が進行方向(z軸)に対して垂直な直線である平面波であり、その強度はガウス分布になっている。回折素子83により反射された入射光82は、回折光84となって、結像面85において所望の光強度分布を有する回折像86を形成し、対象物の加工を行う。図15(b)は、回折像86の任意のz軸方向の所望の光強度分布である。図15(c)は、結像面85におる回折像86の形状、すなわち回折光84のビーム形状である。
2,12,22,32,42,52,62,72,82 入射光
3,13,23,33,43,53,63,73,83 回折素子
4,14,24,34,44,54,64,74,84 回折光
5,15,25,35,45,55,65,75,85 結像面
6,16,26,36,46,56,66,76,86 回折像
27,37,77 光偏向器
47 角度可変ミラー
57,67,78 可変焦点レンズ
87 冷却機構
Claims (7)
- 光源からの入射光を入力し、結像面において所望の光強度分布を有する回折像を形成する回折光を出力する回折素子を有するレーザー加工装置において、
前記回折光の光強度を所望の時間内で平均化する第1の手段と、
前記回折光の前記結像面までの焦点距離を変化させる可変焦点レンズと
を備えたことを特徴とするレーザー加工装置。 - 前記第1の手段は、前記回折素子を、前記入射光の光軸に対して垂直な軸の少なくとも1つを中心に回転振動させることを特徴とする請求項1に記載のレーザー加工装置。
- 前記第1の手段は、前記回折素子を、前記回折光の光軸に対して垂直な軸の少なくとも1つの軸上において前後振動させることを特徴とする請求項1に記載のレーザー加工装置。
- 前記入射光が前記回折素子に入射する入射角を変化させる第2の手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1,2または3に記載のレーザー加工装置。
- 前記第2の手段は、光偏向器であることを特徴とする請求項4に記載のレーザー加工装置。
- 前記第2の手段は、角度可変ミラーであることを特徴とする請求項4に記載のレーザー加工装置。
- 前記回折素子は、冷却機構を含むことを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のレーザー加工装置。
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-
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Patent Citations (6)
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JP2019202326A (ja) | 2019-11-28 |
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