JP6975022B2 - 検出装置 - Google Patents

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本発明は、検出装置に関する。
近年、電子顕微鏡における像観察手法は、多岐にわたって発展し、様々な電子線検出器が提案されている。電子顕微鏡には、各像観察手法に最適な位置に電子線検出器が取り付けられる。特に、試料を透過した後の電子線を検出するために、像観察室には多種多様な電子線検出器が取り付けられる。
電子線検出器は、多くの場合、信号検出を行うときには電子顕微鏡の光軸近傍に配置され、他の検出器を使って信号検出を行うときには電子線を遮らないように光軸から離れた位置に配置される。そのため、電子線検出器は、モーター駆動や圧縮気体によるエアーシリンダー駆動などで位置が制御される。
例えば、特許文献1には、微分位相コントラスト法により像を得るための分割型検出器と、CCD(Charge Coupled Device)カメラと、を備えた電子顕微鏡において、CCDカメラで像を取得する際に分割型検出器が邪魔にならないように、分割型検出器を光軸から退避させる機構が記載されている。
電子線検出器は、像観察手法に応じて様々な形状や大きさを持つ。像観察手法によっては、複数の電子線検出器を同時に電子顕微鏡の光軸近傍に配置する場合もあるため、これらが接触しないように取付け位置と形状が工夫されている。
特開2016−162542号公報
上述したように、電子顕微鏡における像観察手法は、多岐にわたって発展し、様々な電子線検出器が提案されている。一方、電子顕微鏡には、限られたスペースしかないため、複数の電子線検出器を取り付けた場合、電子線検出器が互いに接触して、故障してしまうおそれがある。
図6は、従来の電子顕微鏡の電子線検出器を説明するための図である。図6では、電子線検出器1002aが光軸L上に位置し、試料Sを透過した電子線EBが電子線検出器1002aで検出されている状態を図示している。
電子線検出器1002aと電子線検出器1002bとが接触することを防ぐために、通常、一方の電子線検出器1002aが光軸L上に導入されるときには、その動作の前に、光軸L上に位置している他方の電子線検出器1002bを光軸L上から退避させる。これにより、電子線検出器1002aと電子線検出器1002bとが接触することを防ぐことができる。
検出器駆動装置1004aは、エアーシリンダー1006aを用いて電子線検出器1002aを移動させる。検出器駆動装置1004bは、エアーシリンダー1006bを用いて電子線検出器1002bを移動させる。
ここで、エアーシリンダー1006aに対する圧縮空気の供給が、停電などにより停止した場合、電子線検出器1002aは電子顕微鏡内(真空室)の圧力と大気圧との圧力差により、光軸L近傍に引き込まれる。同様に、エアーシリンダー1006bに対する圧縮空気の供給が停止した場合、電子線検出器1002bは電子顕微鏡内の圧力と大気圧との圧力差により、光軸L近傍に引き込まれる。したがって、電子線検出器1002aと電子線検出器1002bとが接触してしまう。
上記では、電子顕微鏡の電子線検出器を例に挙げて説明したが、検出器を備えたその他の検出装置にも同様の問題が生じる。
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、検出器を支持する支持部材が真空室の圧力と大気圧との差により引き込まれることを防ぐことができる検出装置を提供することにある。
本発明に係る検出装置の一態様は、
真空室に配置される検出器と、
前記検出器を移動させる駆動装置と、
試料に電子線を照射する照射系レンズと、
を含み、
前記駆動装置は、
前記検出器を支持する支持部材と、
圧縮気体を利用して、前記支持部材を介して前記検出器を移動させるエアーシリンダーと、
前記支持部材に、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える弾性部材と、
を有し
前記検出器は、前記試料を透過した電子線を検出する
本発明に係る検出装置の一態様は、
真空室に配置される複数の検出器と、
前記検出器を移動させる複数の駆動装置と、
を含み、
前記駆動装置は、
前記検出器を支持する支持部材と、
圧縮気体を利用して、前記支持部材を介して前記検出器を移動させるエアーシリンダーと、
前記支持部材に、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える弾性部材と、
を有し、
複数の前記検出器のうちの第1検出器が検出位置と退避位置との間を移動する経路と、複数の前記検出器のうちの第2検出器が検出位置と退避位置との間を移動する経路とは、重なる。
このような検出装置では、弾性部材が支持部材に真空室の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、真空室の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与えるため、支持部材が引き込まれることを防ぐことができる。
本実施形態に係る電子顕微鏡の構成を示す図。 第1電子線検出器駆動装置および第2電子線検出器駆動装置を説明するための図。 第1電子線検出器駆動装置および第2電子線検出器駆動装置を説明するための図。 エアーシリンダーを説明するための図。 圧縮空気供給ユニットからの圧縮空気の供給が停止した場合の、第1電子線検出器および第2電子線検出器の状態を模式的に示す図。 従来の電子顕微鏡の電子線検出器を説明するための図。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
また、以下では、本発明に係る検出装置として、電子顕微鏡を例に挙げて説明するが、本発明に係る検出装置は、電子顕微鏡に限定されない。
1. 電子顕微鏡
まず、本実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る電子顕微鏡100の構成を示す図である。
電子顕微鏡100は、走査透過電子顕微鏡(scanning transmission electron microscope、STEM)である。すなわち、電子顕微鏡100は、電子線で試料S上を走査し、電子線の照射位置ごとに試料Sを透過した電子線の強度情報を取得して走査透過電子顕微鏡像(STEM像)を生成する装置である。
電子顕微鏡100は、図1に示すように、電子源10と、照射系レンズ12と、走査コイル14と、対物レンズ16と、試料ステージ18と、試料ホルダー19と、中間レンズ20と、投影レンズ22と、第1電子線検出器30aと、第2電子線検出器30bと、第1電子線検出器駆動装置32aと、第2電子線検出器駆動装置32bと、撮像装置34と、を含む。
電子源10は、電子線を放出する。電子源10は、例えば、陰極から放出された電子を陽極で加速し電子線を放出する電子銃である。
照射系レンズ12は、電子源10から放出された電子線を試料Sに照射する。照射系レンズ12は、図示はしないが、複数のコンデンサーレンズで構成されていてもよい。
走査コイル14は、電子源10から放出された電子線を二次元的に偏向させる。走査コイル14は、電子線(電子プローブ)で試料S上を走査するためのコイルである。
対物レンズ16は、電子線を試料S上に収束させて、電子プローブを形成する。また、対物レンズ16は、試料Sを透過した電子線で結像する。
試料ステージ18は、試料Sを保持する。図示の例では、試料ステージ18は、試料ホルダー19を介して、試料Sを保持している。試料ステージ18は、試料Sを水平方向や鉛直方向に移動させることができる。また、試料ステージ18は、傾斜機構を有しており、試料Sを互いに直交する2つの軸まわりに傾斜(回転)させることができる。
中間レンズ20および投影レンズ22は、試料Sを透過した電子線を、第1電子線検出器30aや、第2電子線検出器30b、撮像装置34に導く。
第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30bは、試料Sを透過した電子線を検出する。第1電子線検出器30aは、例えば、明視野STEM像を取得するための明視野STEM検出器である。第2電子線検出器30bは、例えば、暗視野STEM像を取得するための暗視野STEM検出器である。第2電子線検出器30bは、第1電子線検出器30aとは異なる像観察手法による像を得るための検出器である。
なお、第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30bは、その他の電子線検出器であってもよい。例えば、第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30bは、環状明視野法(annular bright-field scanning transmission electron microscopy、ABF−STEM)による像を得るための検出器であってもよいし、低角度散乱暗射法(low-angle annular dark-field scanning transmission electron microscopy、LAADF−STEM)による像を得るための検出器であってもよいし、高角度散乱暗視野法(high-angle annular dark-field scanning transmission electron microscopy、HAADF−STEM)による像を得るための検出器であってもよい。
電子顕微鏡100では、第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30bを備えることにより、異なる像観察手法で得られた像を取得することができる。
第1電子線検出器駆動装置32aは、第1電子線検出器30aを、検出位置と、退避位置と、の間で移動させる。検出位置は、第1電子線検出器30aが試料Sを透過した電子線を検出する位置であり、電子顕微鏡100の光軸近傍または光軸上の位置である。退避位置は、第1電子線検出器30aが第2電子線検出器30bによる電子線の検出や、撮像装置34による撮影の邪魔にならない位置である。
第2電子線検出器駆動装置32bは、第2電子線検出器30bを、検出位置と、退避位置と、の間で移動させる。検出位置は、第2電子線検出器30bが試料Sを透過した電子線を検出する位置であり、電子顕微鏡100の光軸近傍または光軸上の位置である。退避位置は、第2電子線検出器30bが第1電子線検出器30aによる電子線の検出や、撮像装置34による撮影の邪魔にならない位置である。
撮像装置34は、対物レンズ16、中間レンズ20、投影レンズ22を含む結像系で結像された像を撮影する。撮像装置34は、例えば、CCD(Charge Coupled Device)カメラなどのデジタルカメラである。撮像装置34によって、TEM像を取得することができる。
図2および図3は、第1電子線検出器駆動装置32aおよび第2電子線検出器駆動装置32bを説明するための図である。図2では、第1電子線検出器30aが検出位置に配置され、第2電子線検出器30bが退避位置に配置されている状態を図示している。図3では、第1電子線検出器30aが退避位置に配置され、第2電子線検出器30bが検出位置に配置されている状態を図示している。
第1電子線検出器駆動装置32aは、支持部材34aと、エアーシリンダー36aと、バネ38a(弾性部材の一例)と、を含む。
支持部材34aは、第1電子線検出器30aを支持している。支持部材34aは、例えば、棒状の部材である。支持部材34aは、一方の端部が第1電子線検出器30aに接続され、他方の端部がエアーシリンダー36aに接続されている。
支持部材34aに支持された第1電子線検出器30aは、電子顕微鏡100の真空室2に配置される。真空室2は、真空排気装置により真空排気されており、真空状態、すなわち、大気圧よりも圧力が低い状態である。
エアーシリンダー36aは、圧縮気体(例えば、圧縮空気)を利用して、支持部材34aを介して第1電子線検出器30aを移動させる。エアーシリンダー36aは、真空室2の外に配置されている。
図4は、エアーシリンダー36aを説明するための図である。
エアーシリンダー36aは、シリンダーチューブ302と、ピストン303と、第1ポート304と、第2ポート306と、を含んで構成されている。
エアーシリンダー36aでは、支持部材34aの端部に接続されたピストン303がシリンダーチューブ302内を区画することによって、第1圧力室308aおよび第2圧力室308bが形成されている。第1圧力室308aでは、第1ポート304によって圧縮
空気の供給、排気が行われる。第2圧力室308bでは、第2ポート306によって圧縮空気の供給、排気が行われる。
エアーシリンダー36aでは、圧縮空気供給ユニット(図示せず)から送り込まれた圧縮空気を第1ポート304から第1圧力室308aに供給すると、第1圧力室308aが加圧され、支持部材34aが伸びる。この結果、図2に示すように、第1電子線検出器30aは、検出位置に配置される。
一方、圧縮空気供給ユニットから送り込まれた圧縮空気を第2ポート306から第2圧力室308bに供給すると、第2圧力室308bが加圧され、支持部材34aが縮退する。この結果、図3に示すように、第1電子線検出器30aは、退避位置に配置される。
このようにして支持部材34aを介して第1電子線検出器30aを検出位置と退避位置との間で移動させることができる。
バネ38aは、支持部材34aに取り付けられている。バネ38aは、第1電子線検出器30aが検出位置に位置している場合には伸びて、第1電子線検出器30aが退避位置に位置している場合には自由長となる。すなわち、バネ38aは、引張りばねである。
バネ38aは、支持部材34aに真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える。
第2電子線検出器駆動装置32bは、支持部材34bと、エアーシリンダー36bと、バネ38bと、を含む。支持部材34b、エアーシリンダー36b、およびバネ38bの構成は、支持部材34a、エアーシリンダー36a、およびバネ38aの構成と同様であり、その説明を省略する。
2. 動作
次に、電子顕微鏡100の動作について説明する。ここでは、第1電子線検出器駆動装置32aおよび第2電子線検出器駆動装置32bの動作について説明する。
電子顕微鏡100において、第1電子線検出器駆動装置32aを動作させることにより、第1電子線検出器30aを検出位置に配置したり(図2参照)、退避位置に配置したり(図3参照)することができる。
また、電子顕微鏡100において、第2電子線検出器駆動装置32bを動作させることにより、第2電子線検出器30bを検出位置に配置したり(図3参照)、退避位置に配置したり(図2参照)することができる。
第1電子線検出器30aが検出位置と退避位置との間を移動する経路と、第2電子線検出器30bが検出位置と退避位置との間を移動する経路とは、重なる。図示の例では、第1電子線検出器30aの検出位置と第2電子線検出器30bの検出位置とが、同じ位置にある。そのため、電子顕微鏡100では、第1電子線検出器30aが検出位置に位置しているときには、第2電子線検出器30bが退避位置に位置し、第1電子線検出器30aが退避位置に位置しているときには、第2電子線検出器30bが検出位置に位置するように動作する。これにより、第1電子線検出器30aと第2電子線検出器30bとが接触することを防ぐことができる。
ここで、停電などにより、圧縮空気供給ユニットからの圧縮空気の供給が停止した場合
について説明する。図5は、圧縮空気供給ユニットからの圧縮空気の供給が停止した場合の、第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30bの状態を模式的に示す図である。
圧縮空気供給ユニットからの圧縮空気の供給が停止した場合、第1電子線検出器駆動装置32aにおいて、エアーシリンダー36aの第1圧力室308aおよび第2圧力室308bの圧力は大気圧となる。そのため、支持部材34aには、真空室2の圧力と大気圧との圧力差により、引き込まれる方向の力が加わる。すなわち、支持部材34aには、第1電子線検出器30aが検出位置に向かう方向の力が加わる。
しかしながら、電子顕微鏡100では、バネ38aが支持部材34aに真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える。このバネ38aの力によって、支持部材34aが引き込まれることを防ぐことができ、支持部材34aが退避方向に移動する。
したがって、電子顕微鏡100では、圧縮空気供給ユニットからエアーシリンダー36aに対する圧縮空気の供給が停止した場合に、第1電子線検出器30aは退避位置に位置することとなる。
第2電子線検出器駆動装置32bについても、第1電子線検出器駆動装置32aと同様の動作を行う。そのため、電子顕微鏡100では、圧縮空気供給ユニットからエアーシリンダー36bに対する圧縮空気の供給が停止した場合に、第2電子線検出器30bは退避位置に位置することとなる。
よって、電子顕微鏡100では、図5に示すように、圧縮空気供給ユニットからの圧縮空気の供給が停止した場合に、第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30bはともに退避位置に位置することとなる。そのため、第1電子線検出器30aと第2電子線検出器30bとが接触することを防ぐことができる。
電子顕微鏡100は、例えば、以下の特徴を有する。
電子顕微鏡100は、真空室2に配置される第1電子線検出器30aと、第1電子線検出器30aを移動させる第1電子線検出器駆動装置32aと、を含み、第1電子線検出器駆動装置32aは、第1電子線検出器30aを支持する支持部材34aと、圧縮気体を利用して、支持部材34aを介して第1電子線検出器30aを移動させるエアーシリンダー36aと、支持部材34aに真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与えるバネ38aと、を有している。そのため、エアーシリンダー36aに対する圧縮気体の供給が停止した場合に、支持部材34aが引き込まれることを防ぐことができる。したがって、第1電子線検出器30aを退避位置に位置させることができる。これにより、圧縮気体の供給が停止した場合に、第1電子線検出器30aと第2電子線検出器30bとが接触することを防ぐことができる。また、第1電子線検出器30aが撮像装置34での撮影の邪魔になることを防ぐことができる。
電子顕微鏡100では、バネ38aは、支持部材34aに第1電子線検出器30aが退避位置に移動する方向の力を与える。そのため、エアーシリンダー36aに対する圧縮気体の供給が停止した場合に、第1電子線検出器30aを退避位置に位置させることができる。
電子顕微鏡100では、2つの電子線検出器(第1電子線検出器30aおよび第2電子
線検出器30b)と、2つの電子線検出器駆動装置(第1電子線検出器駆動装置32aおよび第2電子線検出器駆動装置32b)と、を含む。電子顕微鏡100では、エアーシリンダー36aに対する圧縮気体の供給が停止した場合に、2つの電子線検出器が接触することを防ぐことができる。
電子顕微鏡100では、第1電子線検出器30aが検出位置と退避位置との間を移動する経路と、第2電子線検出器30bが検出位置と退避位置との間を移動する経路とは、重なる。そのため、電子顕微鏡100では、第1電子線検出器30aと第2電子線検出器30bを狭いスペースに効率よく搭載することができる。
例えば、第1電子線検出器30aが検出位置と退避位置との間を移動する経路と、第2電子線検出器30bが検出位置と退避位置との間を移動する経路とが重ならないように第1電子線検出器30aと第2電子線検出器30bを搭載するためには、広いスペースが必要となり、第1電子線検出器30aと第2電子線検出器30bとを効率よく搭載することができない。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
上記では、電子顕微鏡100が、2つの電子線検出器(第1電子線検出器30aおよび第2電子線検出器30b)と、2つの電子線検出器駆動装置(第1電子線検出器駆動装置32aおよび第2電子線検出器駆動装置32b)と、を含む場合について説明したが、電子線検出器および電子線検出器駆動装置の数は特に限定されない。例えば、電子顕微鏡100が、1つの電子線検出器と1つの電子線検出器駆動装置を含んでいてもよいし、3つ以上の電子線検出器と3つ以上の電子線検出器駆動装置を含んでいてもよい。
また、上記では、バネ38aが支持部材34aに真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える場合について説明したが、支持部材34aに真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、真空室2の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与えることができれば、バネに限定されず、ゴムなどのバネ以外の弾性部材を用いることができる。
また、上記では、本発明の検出装置として、電子顕微鏡を例に挙げて説明したが、本願発明は、その他の検出装置であってもよい。本発明に係る検出装置は、検出器を分析位置と退避位置との間で移動させる駆動装置を備えていればよい。本発明に係る検出装置としては、透過電子顕微鏡(transmission electron microscope、TEM)や、走査透過電子顕微鏡、走査電子顕微鏡(scanning electron microscope、SEM)などの電子顕微鏡の他に、集束イオンビーム装置(Focused Ion Beam System)、電子プローブマイクロアナライザー(Electron Probe Microanalyzer、EPMA)、オージェマイクロプローブ(Auger Microprobe)、光電子分光装置(Photoelectron Spectrometer)、蛍光X線分析装置(X-ray Fluorescence Spectrometer、XRF)などが挙げられる。すなわち、本発明に係る検出装置は、電子線を検出する検出器ではなく、X線を検出する検出器を備えていてもよいし、試料から放出される二次電子やオージェ電子などの電子を検出する検出器を備えていてもよい。
なお、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実
施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
2…真空室、10…電子源、12…照射系レンズ、14…走査コイル、16…対物レンズ、18…試料ステージ、19…試料ホルダー、20…中間レンズ、22…投影レンズ、30a…第1電子線検出器、30b…第2電子線検出器、32a…第1電子線検出器駆動装置、32b…第2電子線検出器駆動装置、34…撮像装置、34a…支持部材、34b…支持部材、36a…エアーシリンダー、36b…エアーシリンダー、38a…バネ、38b…バネ、100…電子顕微鏡、302…シリンダーチューブ、303…ピストン、304…第1ポート、306…第2ポート、308a…第1圧力室、308b…第2圧力室、1002a…電子線検出器、1002b…電子線検出器、1004a…検出器駆動装置、1004b…検出器駆動装置、1006a…エアーシリンダー、1006b…エアーシリンダー

Claims (6)

  1. 真空室に配置される検出器と、
    前記検出器を移動させる駆動装置と、
    試料に電子線を照射する照射系レンズと、
    を含み、
    前記駆動装置は、
    前記検出器を支持する支持部材と、
    圧縮気体を利用して、前記支持部材を介して前記検出器を移動させるエアーシリンダーと、
    前記支持部材に、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える弾性部材と、
    を有し
    前記検出器は、前記試料を透過した電子線を検出する、検出装置。
  2. 請求項1において、
    前記駆動装置は、前記検出器を検出位置と退避位置との間で移動させ、
    前記弾性部材は、前記支持部材に前記検出器が退避位置に移動する方向の力を与える、検出装置。
  3. 請求項1または2において、
    前記エアーシリンダーは、前記真空室の外に配置されている、検出装置。
  4. 請求項1ないしのいずれか1項において、
    複数の前記検出器と、
    複数の前記駆動装置と、
    を含む、検出装置。
  5. 請求項において、
    複数の前記検出器のうちの第1検出器が検出位置と退避位置との間を移動する経路と、複数の前記検出器のうちの第2検出器が検出位置と退避位置との間を移動する経路とは、重なる、検出装置。
  6. 真空室に配置される複数の検出器と、
    前記検出器を移動させる複数の駆動装置と、
    を含み、
    前記駆動装置は、
    前記検出器を支持する支持部材と、
    圧縮気体を利用して、前記支持部材を介して前記検出器を移動させるエアーシリンダーと、
    前記支持部材に、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力とは反対方向の力であって、前記真空室の圧力と大気圧との差により生じる力よりも大きい力を与える弾性部材と、
    を有し、
    複数の前記検出器のうちの第1検出器が検出位置と退避位置との間を移動する経路と、複数の前記検出器のうちの第2検出器が検出位置と退避位置との間を移動する経路とは、重なる、検出装置。
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