JP6971870B2 - Thermal head and thermal printer - Google Patents

Thermal head and thermal printer Download PDF

Info

Publication number
JP6971870B2
JP6971870B2 JP2018012748A JP2018012748A JP6971870B2 JP 6971870 B2 JP6971870 B2 JP 6971870B2 JP 2018012748 A JP2018012748 A JP 2018012748A JP 2018012748 A JP2018012748 A JP 2018012748A JP 6971870 B2 JP6971870 B2 JP 6971870B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning direction
substrate
thermal head
heat generating
inclined surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018012748A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019130688A (en
Inventor
陽介 岩本
誠 渡邉
洋一 元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2018012748A priority Critical patent/JP6971870B2/en
Publication of JP2019130688A publication Critical patent/JP2019130688A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6971870B2 publication Critical patent/JP6971870B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、サーマルヘッドおよびサーマルプリンタに関する。 The present invention relates to a thermal head and a thermal printer.

従来、ファクシミリあるいはビデオプリンタ等の印画デバイスとして、種々のサーマルヘッドが提案されている。例えば、基板と、発熱部とを備え、発熱部近傍の基板のエッジ部に、面取り部が形成されたサーマルヘッドが知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, various thermal heads have been proposed as printing devices such as facsimiles and video printers. For example, a thermal head having a substrate and a heat generating portion and having a chamfered portion formed at an edge portion of the substrate in the vicinity of the heat generating portion is known (see, for example, Patent Document 1).

特開2005−7826号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-7286

本開示のサーマルヘッドは、基板と、蓄熱層と、発熱部と、電極と、保護層と、を備える。蓄熱層は、基板上に位置する。発熱部は、蓄熱層上に位置する。電極は、少なくとも一部が蓄熱層上に位置し、発熱部と繋がっている。保護層は、発熱部および蓄熱層上に位置し、少なくとも一部が基板上に位置する。基板は、主走査方向における少なくとも一方の端部に、傾斜面を有している。蓄熱層は、主走査方向において、傾斜面と電極との間に、基板から遠ざかる方向に突出した凸部を有する。 The thermal head of the present disclosure includes a substrate, a heat storage layer, a heat generating portion, an electrode, and a protective layer. The heat storage layer is located on the substrate. The heat generating portion is located on the heat storage layer. At least a part of the electrode is located on the heat storage layer and is connected to the heat generating portion. The protective layer is located on the heat generating portion and the heat storage layer, and at least a part thereof is located on the substrate. The substrate has an inclined surface at at least one end in the main scanning direction. The heat storage layer has a convex portion between the inclined surface and the electrode in the main scanning direction, which protrudes in a direction away from the substrate.

本開示のサーマルプリンタは、上記サーマルヘッドと、搬送機構と、プラテンローラとを備える。搬送機構は、発熱部上を通過するように記録媒体を搬送する。プラテンローラは、記録媒体を押圧する。 The thermal printer of the present disclosure includes the above thermal head, a transfer mechanism, and a platen roller. The transport mechanism transports the recording medium so as to pass over the heat generating portion. The platen roller presses the recording medium.

図1は、サーマルヘッドX1の概略を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an outline of the thermal head X1. 図2は、サーマルヘッドX1の概略を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an outline of the thermal head X1. 図3は、図1に示すIII−III線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III shown in FIG. 図4は、図1に示すサーマルヘッドX1の凸部近傍を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the vicinity of the convex portion of the thermal head X1 shown in FIG. 図5は、図4に示すV−V線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line VV shown in FIG. 図6は、サーマルプリンタZ1の構成を示す概略図である。FIG. 6 is a schematic view showing the configuration of the thermal printer Z1. 図7は、サーマルヘッドX2の凸部近傍を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing the vicinity of the convex portion of the thermal head X2. 図8は、サーマルヘッドX3の凹部近傍を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the vicinity of the recess of the thermal head X3. 図9は、図8に示すIX−IX線断面図である。FIG. 9 is a sectional view taken along line IX-IX shown in FIG.

従来のサーマルヘッドは、基板の主走査方向における端部に面取りを施し、傾斜面を形成したサーマルヘッドが知られている。このような構成を有することにより、印刷中に発生したインクリボンのしわを伸ばすことができた。 As a conventional thermal head, a thermal head in which an end portion of a substrate in the main scanning direction is chamfered to form an inclined surface is known. By having such a configuration, it was possible to smooth out the wrinkles of the ink ribbon generated during printing.

しかしながら、保護層の膜応力が低いと、基板に面取りを施した際に、保護層に剥離が生じる問題がある。そして、保護層に剥離が生じると、封止した電極あるいは発熱部に腐食が生じる可能性がある。 However, if the film stress of the protective layer is low, there is a problem that the protective layer is peeled off when the substrate is chamfered. If the protective layer is peeled off, the sealed electrode or the heat generating portion may be corroded.

本開示のサーマルヘッドは、保護層の剥離を低減させることにより、封止性の向上したサーマルヘッドを提供する。以下、本開示のサーマルヘッドおよびそれを用いたサーマル
プリンタについて、詳細に説明する。
The thermal head of the present disclosure provides a thermal head with improved sealing performance by reducing peeling of the protective layer. Hereinafter, the thermal head of the present disclosure and a thermal printer using the same will be described in detail.

<第1の実施形態>
以下、第1の実施形態に係るサーマルヘッドX1について、図面を参照しつつ説明する。図1では、FPC5、保護層25、および被覆層27の図示を省略し、FPC5、保護層25、および被覆層27が配置される領域を二点鎖線で示している。図4では、保護層25の図示を省略して示しており、図7,9についても同様である。
<First Embodiment>
Hereinafter, the thermal head X1 according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. In FIG. 1, the FPC 5, the protective layer 25, and the covering layer 27 are not shown, and the region where the FPC 5, the protective layer 25, and the covering layer 27 are arranged is shown by a two-dot chain line. In FIG. 4, the protective layer 25 is not shown, and the same applies to FIGS. 7 and 9.

図1〜5に示すように、サーマルヘッドX1は、放熱体1と、ヘッド基体3と、フレキシブルプリント配線板5(以下、FPC5という)と、コネクタ31とを備えている。ヘッド基体3は、放熱体1上に配置されている。FPC5は、ヘッド基体3に電気的に接続されている。コネクタ31は、FPC5に電気的に接続されている。 As shown in FIGS. 1 to 5, the thermal head X1 includes a heat radiating body 1, a head substrate 3, a flexible printed wiring board 5 (hereinafter referred to as FPC 5), and a connector 31. The head substrate 3 is arranged on the radiator body 1. The FPC 5 is electrically connected to the head substrate 3. The connector 31 is electrically connected to the FPC 5.

放熱体1は、台部1aと、突起部1bとを有している。台部1aは、平面視して矩形上であり、ヘッド基体3が載置される。突起部1bは、台部1aの上に配置され、台部1aの一方の長辺に沿って延びている。突起部1bは、ヘッド基体3に隣り合うように位置している。放熱体1は、例えば、銅、鉄、あるいはアルミニウム等の金属材料で形成されている。放熱体1は、後述するヘッド基体3の発熱部9で発生した熱のうち、印画に寄与しない熱の一部を放熱する機能を有している。 The heat radiating body 1 has a base portion 1a and a protrusion portion 1b. The base portion 1a is rectangular in a plan view, and the head substrate 3 is placed on the base portion 1a. The protrusion 1b is arranged on the pedestal 1a and extends along one long side of the pedestal 1a. The protrusion 1b is located adjacent to the head substrate 3. The radiator 1 is made of a metal material such as copper, iron, or aluminum. The heat radiating body 1 has a function of radiating a part of the heat generated in the heat generating portion 9 of the head substrate 3, which will be described later, that does not contribute to the printing.

ヘッド基体3は、台部1a上に配置されており、第2端面7bが、放熱体1の突起部1bに対向するように配置されている。また、ヘッド基体3と台部1aの上面とが、両面テープあるいは接着剤33等により接着されている。 The head substrate 3 is arranged on the base portion 1a, and the second end surface 7b is arranged so as to face the protrusion 1b of the radiator body 1. Further, the head substrate 3 and the upper surface of the base portion 1a are adhered to each other by a double-sided tape, an adhesive 33, or the like.

FPC5は、ヘッド基体3に外部から電流を供給する機能を有しており、絶縁性の樹脂層5aと、プリント配線5bとを備えている。図3に示すように、ヘッド基体3とFPC5とは導電性接合材23により電気的に接合されている。導電性接合材23としては、導電性接合材料、はんだ材料、または電気絶縁性の樹脂中に導電性粒子が混入された異方性導電フィルム(ACF)等を例示することができる。FPC5にはコネクタ31が接合されており、各プリント配線5bがコネクタ31を介して図示しない外部の電源装置、および制御装置に電気的に接続されている。 The FPC 5 has a function of supplying an electric current to the head substrate 3 from the outside, and includes an insulating resin layer 5a and a printed wiring 5b. As shown in FIG. 3, the head substrate 3 and the FPC 5 are electrically bonded by the conductive bonding material 23. Examples of the conductive bonding material 23 include an anisotropic conductive film (ACF) in which conductive particles are mixed in a conductive bonding material, a solder material, or an electrically insulating resin. A connector 31 is joined to the FPC 5, and each printed wiring 5b is electrically connected to an external power supply device and a control device (not shown) via the connector 31.

FPC5は、放熱体1の突起部1bの上面に、両面テープあるいは樹脂等の接着剤(不図示)によって接着されており、放熱体1に固定されている。なお、放熱体1には必ずしも固定しなくてもよい。 The FPC 5 is adhered to the upper surface of the protrusion 1b of the heat radiating body 1 with an adhesive (not shown) such as double-sided tape or resin, and is fixed to the heat radiating body 1. It is not always necessary to fix it to the heat radiating body 1.

次に、ヘッド基体3を構成する各部材について図1〜5を用いて説明する。 Next, each member constituting the head substrate 3 will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

基板7は、ヘッド基体3を構成する各部材を保持する機能を有しており、平面視して、略矩形状をなしている。基板7は、第1端面7a、第2端面7b、第1主面7c、第2主面7d、および傾斜面2を有している。 The substrate 7 has a function of holding each member constituting the head substrate 3, and has a substantially rectangular shape in a plan view. The substrate 7 has a first end surface 7a, a second end surface 7b, a first main surface 7c, a second main surface 7d, and an inclined surface 2.

第1端面7aは、第1主面7cおよび第2主面7dに隣接する面である。第2端面7bは、第1端面7aの反対側に位置する面であり、放熱体1の突起部1bと対向するように位置している。第1主面7cは、第1端面7aおよび第2端面7bに隣接する面である。第2主面7dは、第1主面7cの反対側に位置する面である。第1端面7aは、第2端面7bと反対側に向けて突出した曲面形状をなしている。 The first end surface 7a is a surface adjacent to the first main surface 7c and the second main surface 7d. The second end surface 7b is a surface located on the opposite side of the first end surface 7a, and is positioned so as to face the protrusion 1b of the radiator body 1. The first main surface 7c is a surface adjacent to the first end surface 7a and the second end surface 7b. The second main surface 7d is a surface located on the opposite side of the first main surface 7c. The first end surface 7a has a curved surface shape that protrudes toward the side opposite to the second end surface 7b.

第1端面7aの主走査方向における両端部に傾斜面2が設けられている。傾斜面2は、主走査方向に対して交差するように設けられている。 Inclined surfaces 2 are provided at both ends of the first end surface 7a in the main scanning direction. The inclined surface 2 is provided so as to intersect the main scanning direction.

基板7は、アルミナセラミックス等の電気絶縁性材料あるいは単結晶シリコン等の半導体材料等によって形成されている。 The substrate 7 is formed of an electrically insulating material such as alumina ceramics or a semiconductor material such as single crystal silicon.

蓄熱層13は、第1部位13aと、第2部位13bとを有する。第1部位13aは、第1端面7aの全体にわたって形成されている。基板7の第1端面7aは断面視して凸状の曲面形状である。そのため、第1部位13aの表面も曲面形状となっている。 The heat storage layer 13 has a first portion 13a and a second portion 13b. The first portion 13a is formed over the entire first end surface 7a. The first end surface 7a of the substrate 7 has a convex curved surface shape when viewed in cross section. Therefore, the surface of the first portion 13a also has a curved surface shape.

第2部位13bは、第1部位13aから上方に向けて突出している。第2部位13bは、第1端面7a側からみて、副走査方向における中央部に位置している。第2部位13bは、主走査方向に延びるように形成されている。 The second portion 13b projects upward from the first portion 13a. The second portion 13b is located at the central portion in the sub-scanning direction when viewed from the first end surface 7a side. The second portion 13b is formed so as to extend in the main scanning direction.

蓄熱層13は、第1部位13aと、第2部位13bとを有することから、発熱部9上に形成された後述する保護層25に、印画する記録媒体P(図5参照)を良好に押し当てるように機能する。 Since the heat storage layer 13 has the first portion 13a and the second portion 13b, the recording medium P (see FIG. 5) to be printed is satisfactorily pressed against the protective layer 25 to be described later formed on the heat generating portion 9. It works to hit.

蓄熱層13は、例えば、ガラスにより形成されており、発熱部9で発生する熱の一部を一時的に蓄積する。そのため、印画時において、発熱部9の温度を上昇させるのに要する時間を短くし、サーマルヘッドX1の熱応答特性を高めることができる。 The heat storage layer 13 is formed of, for example, glass, and temporarily stores a part of the heat generated in the heat generating portion 9. Therefore, at the time of printing, the time required to raise the temperature of the heat generating portion 9 can be shortened, and the thermal response characteristics of the thermal head X1 can be improved.

基板7の第1主面7c上、蓄熱層13上、および基板7の第2主面7d上には、電気抵抗層15が設けられている。電気抵抗層15は、基板7または蓄熱層13と、後述する各種電極との間に介在している。 An electric resistance layer 15 is provided on the first main surface 7c of the substrate 7, the heat storage layer 13, and the second main surface 7d of the substrate 7. The electric resistance layer 15 is interposed between the substrate 7 or the heat storage layer 13 and various electrodes described later.

基板7の第1主面7c上に位置する電気抵抗層15の領域は、図1に示すように平面視して、共通電極17、個別電極19および接続電極21と同形状に形成されている。また、第2主面7d上に位置する電気抵抗層15は、第2主面7dの略全体にわたって設けられている。 The region of the electric resistance layer 15 located on the first main surface 7c of the substrate 7 is formed in the same shape as the common electrode 17, the individual electrode 19, and the connection electrode 21 in a plan view as shown in FIG. .. Further, the electric resistance layer 15 located on the second main surface 7d is provided over substantially the entire second main surface 7d.

蓄熱層13上に位置する電気抵抗層15の領域は、図2に示すように、第1端面7aから見て、共通電極17および個別電極19と同形状に形成された領域と、共通電極17と個別電極19との間から露出した複数の露出領域とを有している。電気抵抗層15の各露出領域は、発熱部9を構成している。 As shown in FIG. 2, the region of the electric resistance layer 15 located on the heat storage layer 13 is a region formed in the same shape as the common electrode 17 and the individual electrode 19 and the common electrode 17 when viewed from the first end surface 7a. It has a plurality of exposed regions exposed from between the individual electrode 19 and the individual electrode 19. Each exposed region of the electric resistance layer 15 constitutes a heat generating portion 9.

複数の発熱部9は、図3に示すように、蓄熱層13の第2部位13b上に列状に配置されている。そのため、発熱部9は、第1端面7aの副走査方向における中央部に位置している。複数の発熱部9は、図2では簡略化して示しているが、例えば、180dpi〜2400dpi(dot per inch)等の密度で配置される。 As shown in FIG. 3, the plurality of heat generating portions 9 are arranged in a row on the second portion 13b of the heat storage layer 13. Therefore, the heat generating portion 9 is located at the central portion of the first end surface 7a in the sub-scanning direction. Although the plurality of heat generating portions 9 are shown in a simplified manner in FIG. 2, they are arranged at a density of, for example, 180 dpi to 2400 dpi (dot per inch).

電気抵抗層15は、例えば、TaN系、TaSiO系、TaSiNO系、TiSiO系、TiSiCO系またはNbSiO系等の電気抵抗の比較的高い材料によって形成されている。そのため、後述する共通電極17と個別電極19との間に電圧が印加され、発熱部9に電流が供給されたときに、ジュール発熱によって発熱部9が発熱することとなる。この発熱を利用して、サーマルヘッドX1は記録媒体Pに印画を行っている。 The electric resistance layer 15 is formed of, for example, a material having a relatively high electric resistance such as TaN-based, TaSiO-based, TaSiNO-based, TiSiO-based, TiSiCO-based, or NbSiO-based. Therefore, when a voltage is applied between the common electrode 17 and the individual electrode 19, which will be described later, and a current is supplied to the heat generating portion 9, the heat generating portion 9 generates heat due to Joule heat generation. Utilizing this heat generation, the thermal head X1 prints on the recording medium P.

電気抵抗層15上には、共通電極17、複数の個別電極19および複数の接続電極21が設けられている。 A common electrode 17, a plurality of individual electrodes 19, and a plurality of connection electrodes 21 are provided on the electric resistance layer 15.

共通電極17は、主配線部17aと、副配線部17bと、リード部17cとを備えている。共通電極17は、FPC5と発熱部9とを電気的に接続している。主配線部17aは
、基板7の第2主面7d上に設けられているため、共通電極17の電気容量を大きくすることができる。副配線部17bは、基板7の第1主面7c、第1端面7a、および第2主面7d上に設けられており、FPC5を介して外部と電気的に接続されている。リード部17cは、第1端面7aに設けられており、主配線部17aから各発熱部9に向けてそれぞれ延びている。
The common electrode 17 includes a main wiring portion 17a, a sub wiring portion 17b, and a lead portion 17c. The common electrode 17 electrically connects the FPC 5 and the heat generating portion 9. Since the main wiring portion 17a is provided on the second main surface 7d of the substrate 7, the electric capacity of the common electrode 17 can be increased. The sub-wiring portion 17b is provided on the first main surface 7c, the first end surface 7a, and the second main surface 7d of the substrate 7, and is electrically connected to the outside via the FPC 5. The lead portion 17c is provided on the first end surface 7a and extends from the main wiring portion 17a toward each heat generating portion 9.

そのため、外部から供給された電圧は、副配線部17bから主配線部17aに供給される。主配線部17aに供給された電圧は、リード部17cを介してそれぞれの発熱部9に供給される。このようにして、各発熱部9に電流が供給されている。 Therefore, the voltage supplied from the outside is supplied from the sub wiring portion 17b to the main wiring portion 17a. The voltage supplied to the main wiring unit 17a is supplied to each heat generating unit 9 via the lead unit 17c. In this way, a current is supplied to each heat generating portion 9.

複数の個別電極19は、各発熱部9と駆動IC11とを接続する。図1〜3に示すように、各個別電極19は、一端部が発熱部9に接続され、基板7の第1端面7a上から基板7の第1主面7c上にまで個別に帯状に延びている。 The plurality of individual electrodes 19 connect each heat generating portion 9 to the drive IC 11. As shown in FIGS. 1 to 3, each individual electrode 19 has one end connected to the heat generating portion 9 and individually extends in a band shape from the first end surface 7a of the substrate 7 to the first main surface 7c of the substrate 7. ing.

各個別電極19の他端部は、駆動IC11に電気的に接続されている。より詳細には、個別電極19は、複数の発熱部9を複数の群に分け、各群の発熱部9を、各群に対応して設けられた駆動IC11に電気的に接続している。 The other end of each individual electrode 19 is electrically connected to the drive IC 11. More specifically, the individual electrode 19 divides the plurality of heat generating portions 9 into a plurality of groups, and electrically connects the heat generating portions 9 of each group to the drive IC 11 provided corresponding to each group.

複数の接続電極21は、駆動IC11とFPC5とを接続する。各接続電極21は、基板7の第1主面7c上に帯状に延びており、一端部が駆動IC11に電気的に接続されるとともに、他端部がFPC5に電気的に接続されている。 The plurality of connection electrodes 21 connect the drive IC 11 and the FPC 5. Each connection electrode 21 extends in a band shape on the first main surface 7c of the substrate 7, one end of which is electrically connected to the drive IC 11 and the other end of which is electrically connected to the FPC 5.

駆動IC11は、図1に示すように、複数の発熱部9の各群に対応して配置されている。そして、駆動IC11は、個別電極19の他端部と接続電極21の一端部とに接続されている。駆動IC11は、各発熱部9の通電状態を制御するためのものであり、内部に有した複数のスイッチング素子(不図示)を切り替えることにより、各発熱部9の発熱駆動を制御している。 As shown in FIG. 1, the drive IC 11 is arranged corresponding to each group of the plurality of heat generating portions 9. The drive IC 11 is connected to the other end of the individual electrode 19 and one end of the connection electrode 21. The drive IC 11 is for controlling the energized state of each heat generating unit 9, and controls the heat generation drive of each heat generating unit 9 by switching a plurality of switching elements (not shown) contained therein.

駆動IC11は、個別電極19および接続電極21に接続された状態で、エポキシ樹脂あるいはシリコーン樹脂等の樹脂からなる被覆部材29によって被覆され、封止されている。これにより、駆動IC11、および駆動IC11とこれらの配線との接続部を保護することができる。 The drive IC 11 is covered and sealed with a coating member 29 made of a resin such as an epoxy resin or a silicone resin in a state of being connected to the individual electrode 19 and the connection electrode 21. Thereby, the drive IC 11 and the connection portion between the drive IC 11 and these wirings can be protected.

上記の電気抵抗層15、共通電極17、個別電極19および接続電極21の形成方法について例示する。各々を形成する材料層を、蓄熱層13が設けられた基板7上に、スパッタリング法等の従来周知の薄膜成形技術によって順次積層する。次に積層体を従来周知のフォトエッチング等を用いて所定のパターンに加工することにより形成することができる。 The method of forming the electric resistance layer 15, the common electrode 17, the individual electrode 19, and the connection electrode 21 will be illustrated. The material layers forming each of them are sequentially laminated on the substrate 7 provided with the heat storage layer 13 by a conventionally known thin film forming technique such as a sputtering method. Next, the laminate can be formed by processing it into a predetermined pattern using conventionally known photoetching or the like.

また、電気抵抗層15の厚さは、例えば0.01μm〜0.2μmとし、共通電極17、個別電極19および接続電極21の厚さは、例えば0.05μm〜2.5μmとすることができる。なお、共通電極17の主配線部17aの厚みと、共通電極17の副配線部b17b、およびリード部17cの厚みとが異なる構成としてもよく、電極の部位により厚みを異なるものとしてもよい。 The thickness of the electric resistance layer 15 can be, for example, 0.01 μm to 0.2 μm, and the thickness of the common electrode 17, the individual electrode 19, and the connection electrode 21 can be, for example, 0.05 μm to 2.5 μm. .. The thickness of the main wiring portion 17a of the common electrode 17 may be different from the thickness of the sub-wiring portion b17b and the lead portion 17c of the common electrode 17, and the thickness may be different depending on the electrode portion.

保護層25は、基板7の第1端面7a上、第1主面7c上の一部、および第2主面7d上の一部に設けられている。保護層25は、発熱部9、共通電極17の一部および個別電極19の一部を被覆するように設けられている。 The protective layer 25 is provided on the first end surface 7a of the substrate 7, a part on the first main surface 7c, and a part on the second main surface 7d. The protective layer 25 is provided so as to cover the heat generating portion 9, a part of the common electrode 17, and a part of the individual electrode 19.

また、保護層25は、基板7の第1主面7cの第1端面7a側の領域を覆うように設け
られている。保護層25は、基板7の第2主面7dにおいては基板7の第1主面7cと同様に第1端面7a側の領域を覆うように設けられている。
Further, the protective layer 25 is provided so as to cover the region on the first end surface 7a side of the first main surface 7c of the substrate 7. The protective layer 25 is provided on the second main surface 7d of the substrate 7 so as to cover the region on the first end surface 7a side, similarly to the first main surface 7c of the substrate 7.

保護層25は、発熱部9、共通電極17の一部および個別電極19の一部の被覆した領域を、大気中に含まれている水分等の付着による腐食、あるいは印画する記録媒体Pとの接触による摩耗から保護する機能を有している。保護層25は、例えば、SiC系、SiN系、SiO系およびSiON系等の材料で形成することができる。なお、AlあるいはTi等の他の元素を少量含有していてもよい。 The protective layer 25 is a recording medium P that corrodes or prints the heat-generating portion 9, a part of the common electrode 17, and a part of the individual electrode 19 covered by the adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere. It has a function to protect from wear due to contact. The protective layer 25 can be formed of, for example, a material such as SiC-based, SiC-based, SiO-based, and SiON-based. In addition, it may contain a small amount of other elements such as Al or Ti.

保護層25は、例えば、スパッタリング法、蒸着法等の従来周知の薄膜成形技術あるいはスクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。保護層25の厚さは、例えば3〜12μmとすることができる。また、保護層25は、複数の材料層を積層して形成してもよい。 The protective layer 25 can be formed by using, for example, a conventionally known thin film forming technique such as a sputtering method or a vapor deposition method, or a thick film forming technique such as a screen printing method. The thickness of the protective layer 25 can be, for example, 3 to 12 μm. Further, the protective layer 25 may be formed by laminating a plurality of material layers.

基板7の第1主面7c上には、個別電極19および接続電極21を部分的に被覆する被覆層27が設けられている。被覆層27は、図1に示すように基板7の第1主面7c上の保護層25に覆われていない領域に設けられている。また、共通電極17の副配線部17bを覆うように設けられている。被覆層27は、第2主面7dの保護層25に覆われていない領域にも設けられている。 A coating layer 27 that partially covers the individual electrodes 19 and the connection electrodes 21 is provided on the first main surface 7c of the substrate 7. As shown in FIG. 1, the covering layer 27 is provided in a region not covered by the protective layer 25 on the first main surface 7c of the substrate 7. Further, it is provided so as to cover the sub-wiring portion 17b of the common electrode 17. The covering layer 27 is also provided in a region not covered by the protective layer 25 on the second main surface 7d.

被覆層27は、個別電極19および接続電極21の被覆した領域を、大気との接触による酸化あるいは大気中に含まれている水分等の付着による腐食から保護する機能を有する。被覆層27は、例えば、エポキシ樹脂あるいはポリイミド樹脂等の樹脂材料で形成することができる。また、被覆層27は、例えば、スクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。被覆層27の厚さは、例えば20〜60μmとすることができる。 The covering layer 27 has a function of protecting the covered region of the individual electrode 19 and the connecting electrode 21 from oxidation due to contact with the atmosphere or corrosion due to adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere. The coating layer 27 can be formed of, for example, a resin material such as an epoxy resin or a polyimide resin. Further, the coating layer 27 can be formed by using, for example, a thick film forming technique such as a screen printing method. The thickness of the coating layer 27 can be, for example, 20 to 60 μm.

なお、接続電極21の端部、および副配線部17bの端部は、被覆層27から露出して設けられており、これらの露出した部分にてFPC5とヘッド基体3とが接続されている。 The end of the connection electrode 21 and the end of the sub-wiring portion 17b are exposed from the covering layer 27, and the FPC 5 and the head substrate 3 are connected to each other at these exposed portions.

被覆層27は、駆動IC11を接続する個別電極19および接続電極21の端部を露出させるための開口部が形成されている。個別電極19と接続電極21とは、開口部を介して駆動IC11に接続されている。 The coating layer 27 is formed with an opening for exposing the individual electrodes 19 connecting the drive IC 11 and the ends of the connection electrodes 21. The individual electrode 19 and the connection electrode 21 are connected to the drive IC 11 via an opening.

なお、共通電極17、個別電極19、および接続電極21のうち、駆動IC11またはFPC5と接続される領域にめっき層(不図示)を設けてもよい。めっき層は、金属または合金により形成することができ、例えば、周知の無電解めっき、あるいは電解めっきによって形成することができる。 A plating layer (not shown) may be provided in a region of the common electrode 17, the individual electrode 19, and the connection electrode 21 connected to the drive IC 11 or the FPC 5. The plating layer can be formed of a metal or alloy, for example, by well-known electroless plating or electrolytic plating.

また、めっき層として、例えば、共通電極17上にニッケルめっきからなる第1被覆層を形成し、第1被覆層上に金めっきからなる第2被覆層を形成してもよい。この場合、第1被覆層の厚さを例えば1.5μm〜4μmとし、第2被覆層の厚さを例えば0.02μm〜0.1μmとすることができる。 Further, as the plating layer, for example, a first coating layer made of nickel plating may be formed on the common electrode 17, and a second coating layer made of gold plating may be formed on the first coating layer. In this case, the thickness of the first coating layer can be set to, for example, 1.5 μm to 4 μm, and the thickness of the second coating layer can be set to, for example, 0.02 μm to 0.1 μm.

図4,5に示すように、傾斜面2は、基板7の第1端面7aに設けられている。傾斜面2は、第1端面7aの主走査方向における両端部に設けられており、第1端面7aに対して交差するように設けられている。 As shown in FIGS. 4 and 5, the inclined surface 2 is provided on the first end surface 7a of the substrate 7. The inclined surfaces 2 are provided at both ends of the first end surface 7a in the main scanning direction, and are provided so as to intersect the first end surface 7a.

第1端面7aと傾斜面2との交差角度は、5〜70°であることが好ましく、10〜4
5°であることがさらに好ましい。第1端面7a側との交差角度がこのような範囲にあることにより、記録媒体Pにキズが生じる可能性を低減することができる。
The crossing angle between the first end surface 7a and the inclined surface 2 is preferably 5 to 70 °, and is preferably 10 to 4.
It is more preferably 5 °. When the crossing angle with the first end surface 7a side is in such a range, the possibility of scratches on the recording medium P can be reduced.

傾斜面2は、第1端面7aからみて、副走査方向における中央部が、副走査方向における端部よりも主走査方向における長さが長くなっている。言い換えると、傾斜面2は、第1端面7a側からみて、副走査方向の中央部が発熱部9に向けて突出した形状をなしている。傾斜面2は、基板7の表面、蓄熱層13の第1部位13aの表面、および保護層25の表面により形成されている。 The central portion of the inclined surface 2 in the sub-scanning direction is longer in the main scanning direction than the end portion in the sub-scanning direction when viewed from the first end surface 7a. In other words, the inclined surface 2 has a shape in which the central portion in the sub-scanning direction protrudes toward the heat generating portion 9 when viewed from the first end surface 7a side. The inclined surface 2 is formed by the surface of the substrate 7, the surface of the first portion 13a of the heat storage layer 13, and the surface of the protective layer 25.

サーマルヘッドX1は、第1端面7aに傾斜面2を有することから、記録媒体PがサーマルヘッドX1に強く押し当てられた場合においても、サーマルヘッドX1により記録媒体Pにキズが生じる可能性を低減することができる。 Since the thermal head X1 has the inclined surface 2 on the first end surface 7a, the possibility that the recording medium P is scratched by the thermal head X1 is reduced even when the recording medium P is strongly pressed against the thermal head X1. can do.

傾斜面2は、サーマルヘッドX1のヘッド基体3を作成した後に、やすり、ダイヤモンドカッター、あるいはダイヤモンド砥石等によりサーマルヘッドX1を研磨することにより形成することができる。 The inclined surface 2 can be formed by forming the head substrate 3 of the thermal head X1 and then polishing the thermal head X1 with a file, a diamond cutter, a diamond grindstone, or the like.

蓄熱層13は、傾斜面2と、共通電極17の副配線部17bとの間に、凸部4を有している。凸部4は、第1部位13aから基板7から遠ざかる方向に突出しており、主走査方向に沿って延びている。 The heat storage layer 13 has a convex portion 4 between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b of the common electrode 17. The convex portion 4 projects from the first portion 13a in a direction away from the substrate 7, and extends along the main scanning direction.

凸部4の高さは、例えば、0.5〜3μmとすることができる。凸部4の幅は、例えば、50〜200μmとすることができる。 The height of the convex portion 4 can be, for example, 0.5 to 3 μm. The width of the convex portion 4 can be, for example, 50 to 200 μm.

蓄熱層13は、例えば、以下の方法により作製する。まず、ガラス粉末に適当な有機溶剤を混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって基板7の第1端面7a上に塗布し、焼成する。次に、第2部位13bおよび凸部4を形成する領域にレジストを塗布し、エッチングを行う。そして、レジストを除去することにより、蓄熱層13に第1部位13a、第2部位13b、および凸部4を形成することができる。 The heat storage layer 13 is produced, for example, by the following method. First, a predetermined glass paste obtained by mixing a glass powder with an appropriate organic solvent is applied onto the first end surface 7a of the substrate 7 by a conventionally known screen printing or the like, and fired. Next, a resist is applied to the region forming the second portion 13b and the convex portion 4, and etching is performed. Then, by removing the resist, the first portion 13a, the second portion 13b, and the convex portion 4 can be formed on the heat storage layer 13.

保護層25は、発熱部9を覆うように設けられており、蓄熱層13上に位置している。より詳細には、発熱部9を覆うように、第2部位13b上に設けられているとともに、第1部位13a上に設けられており、凸部4上にも設けられている。 The protective layer 25 is provided so as to cover the heat generating portion 9, and is located on the heat storage layer 13. More specifically, it is provided on the second portion 13b so as to cover the heat generating portion 9, and is also provided on the first portion 13a and also on the convex portion 4.

ここで、保護層25の膜応力が低い場合に、基板7に面取りを施して傾斜面2を形成した際に、保護層25に剥離が生じる問題がある。保護層25に剥離が生じると、封止した各種電極あるいは発熱部9に腐食が生じる可能性がある。 Here, when the film stress of the protective layer 25 is low, there is a problem that the protective layer 25 is peeled off when the substrate 7 is chamfered to form the inclined surface 2. If the protective layer 25 is peeled off, the various sealed electrodes or the heat generating portion 9 may be corroded.

これに対して、サーマルヘッドX1においては、蓄熱層13が、主走査方向において、傾斜面2と、共通電極17の副配線部17bとの間に、凸部4を有しているため、蓄熱層13上に保護層25を製膜すると、保護層25のうち凸部4上に位置する部位の膜応力が高くなる。それにより、保護層25は、傾斜面2上に位置する部位と、副配線部17b上に位置する部位との間に、膜応力の高い部位が形成されることとなる。 On the other hand, in the thermal head X1, the heat storage layer 13 has a convex portion 4 between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b of the common electrode 17 in the main scanning direction, so that the heat storage layer 13 has heat storage. When the protective layer 25 is formed on the layer 13, the film stress of the portion of the protective layer 25 located on the convex portion 4 becomes high. As a result, in the protective layer 25, a portion having a high film stress is formed between the portion located on the inclined surface 2 and the portion located on the sub-wiring portion 17b.

その結果、面取り時に生じた応力が、保護層25のうち凸部4上に位置する部位によって進行を妨げられることとなり、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位が剥離しにくくなる。それゆえ、保護層25の封止性を向上させることができる。 As a result, the stress generated during chamfering is hindered by the portion of the protective layer 25 located on the convex portion 4, and the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b is less likely to peel off. .. Therefore, the sealing property of the protective layer 25 can be improved.

さらに、凸部4が蓄熱層13により形成されているため、発熱部9にて発熱した熱が、凸部4に蓄熱されることとなり、傾斜面2に放熱されにくくなる。そのため、サーマルヘ
ッドX1の熱応答性を向上させることができる。
Further, since the convex portion 4 is formed by the heat storage layer 13, the heat generated in the heat generating portion 9 is stored in the convex portion 4, and it becomes difficult for the heat to be dissipated to the inclined surface 2. Therefore, the thermal responsiveness of the thermal head X1 can be improved.

また、本実施形態においては、傾斜面2は、副走査方向における中央部が、副走査方向における端部よりも主走査方向における長さが長くなっており、傾斜面2の副走査方向における中央部と凸部4との距離が、傾斜面2の副走査方向における端部と凸部4との距離よりも小さくてもよい。 Further, in the present embodiment, the central portion of the inclined surface 2 in the sub-scanning direction has a longer length in the main scanning direction than the end portion in the sub-scanning direction, and the inclined surface 2 is centered in the sub-scanning direction. The distance between the portion and the convex portion 4 may be smaller than the distance between the end portion and the convex portion 4 in the sub-scanning direction of the inclined surface 2.

このような構成を有する場合には、傾斜面2上に位置する保護層25と、保護層25のうち凸部4上に位置する部位との距離を小さくすることができ、面取り時に生じた応力が、保護層25のうち凸部4上に位置する部位によりすぐに進行を妨げられることとなり、応力が進行しにくくなる。その結果、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位が剥離しにくくなり、保護層25の封止性さらに向上させることができる。 With such a configuration, the distance between the protective layer 25 located on the inclined surface 2 and the portion of the protective layer 25 located on the convex portion 4 can be reduced, and the stress generated during chamfering can be reduced. However, the portion of the protective layer 25 located on the convex portion 4 immediately hinders the progress, and the stress becomes difficult to progress. As a result, the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b is less likely to be peeled off, and the sealing performance of the protective layer 25 can be further improved.

図5を用いて、記録媒体PとサーマルヘッドX1との関係について、記録媒体Pとして、インクリボンRおよびカードCを用いて説明する。なお、記録媒体Pは、例示するようにインクリボンRおよびカードCを含む概念であり、インクリボンRが不要な感熱紙をも含む概念である。 The relationship between the recording medium P and the thermal head X1 will be described with reference to FIG. 5 by using the ink ribbon R and the card C as the recording medium P. The recording medium P is a concept including the ink ribbon R and the card C as an example, and is a concept including a thermal paper that does not require the ink ribbon R.

サーマルヘッドX1は、インクリボンRを用いてカードCに印画を行う。カードCは、サーマルヘッドX1との間にインクリボンRを介した状態で、後述するプラテンローラ50によりサーマルヘッドX1に押圧されている。 The thermal head X1 prints on the card C using the ink ribbon R. The card C is pressed against the thermal head X1 by a platen roller 50, which will be described later, in a state where the ink ribbon R is interposed between the card C and the thermal head X1.

プラテンローラ50は、図5では下方に向けてカードCを押圧するため、上方に向けて凸形状に変形することとなる。プラテンローラ50は、カードCと接触するとともに、凸部4上に位置する保護層25に支持されながら、カードCおよびインクリボンRを搬送している。サーマルヘッドX1とプラテンローラ50との間には隙間10が生じている。 In FIG. 5, the platen roller 50 presses the card C downward, so that the platen roller 50 is deformed into a convex shape upward. The platen roller 50 conveys the card C and the ink ribbon R while being in contact with the card C and being supported by the protective layer 25 located on the convex portion 4. A gap 10 is formed between the thermal head X1 and the platen roller 50.

また、本実施形態においては、蓄熱層13が、基板7上に位置する第1部位13aと、第1部位13aから基板から遠ざかる方向に向けて突出する第2部位13bとを有しており、発熱部9は、第2部位13b上に設けられており、凸部4は、第2部位13bと離間した状態で、第1部位13aから突出しており、第2部位13bと凸部4との間に副配線部17bが配置されていてもよい。 Further, in the present embodiment, the heat storage layer 13 has a first portion 13a located on the substrate 7 and a second portion 13b protruding from the first portion 13a in a direction away from the substrate. The heat generating portion 9 is provided on the second portion 13b, and the convex portion 4 protrudes from the first portion 13a in a state of being separated from the second portion 13b, and the second portion 13b and the convex portion 4 A sub-wiring portion 17b may be arranged between them.

このような構成を有する場合には、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位と、カードCが接触しにくくなる。そのため、カードCからの押圧力が、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位に生じにくくなり、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位に剥離が生じにくくなる。その結果、保護層25の封止性を向上させることができる。 With such a configuration, the card C is less likely to come into contact with the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b. Therefore, the pressing force from the card C is less likely to occur in the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b, and the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b is less likely to be peeled off. As a result, the sealing property of the protective layer 25 can be improved.

また、本実施形態においては、プラテンローラ50とサーマルヘッドX1との間に隙間10が生じており、隙間10にインクリボンRが収容されていてもよい。 Further, in the present embodiment, a gap 10 is formed between the platen roller 50 and the thermal head X1, and the ink ribbon R may be accommodated in the gap 10.

このような構成を有する場合には、発熱部9の熱によりインクリボンRが熱膨張した場合においても、インクリボンRの熱膨張により膨張した部分を隙間10に収納することができる。その結果、インクリボンRにシワが生じる可能性を低減することができる。 With such a configuration, even when the ink ribbon R is thermally expanded due to the heat of the heat generating portion 9, the expanded portion due to the thermal expansion of the ink ribbon R can be stored in the gap 10. As a result, the possibility of wrinkles on the ink ribbon R can be reduced.

また、本実施形態においては、インクリボンRが、保護層25のうち凸部4上に位置する部位に接触しつつ搬送されていてもよい。言い換えると、プラテンローラ50が、インクリボンRを介して凸部4上に位置する保護層25に接触していてもよい。 Further, in the present embodiment, the ink ribbon R may be conveyed while being in contact with a portion of the protective layer 25 located on the convex portion 4. In other words, the platen roller 50 may be in contact with the protective layer 25 located on the convex portion 4 via the ink ribbon R.

このような構成を有する場合には、カードCの印画にかすれが生じにくくなる。すなわち、プラテンローラ50は、後述する軸体50aの両端をサーマルヘッドX1側に押圧することにより、発熱部9上の保護層25にカードCを押圧している。そのため、プラテンローラ50は、中央部が上方に突出した凸形状に変形し、発熱部9上のカードCの押圧力が小さくなり、印画にかすれが生じる可能性がある。 With such a configuration, the print on the card C is less likely to be blurred. That is, the platen roller 50 presses the card C against the protective layer 25 on the heat generating portion 9 by pressing both ends of the shaft body 50a, which will be described later, toward the thermal head X1. Therefore, the platen roller 50 is deformed into a convex shape in which the central portion protrudes upward, the pressing force of the card C on the heat generating portion 9 becomes small, and the printing may be blurred.

しかしながら、サーマルヘッドX1においては、プラテンローラ50が、保護層25のうち凸部4上に位置する部位によっても支持されることとなり、プラテンローラ50が凸形状に変形しにくくなる。その結果、印画にかすれが生じにくくなる。 However, in the thermal head X1, the platen roller 50 is also supported by a portion of the protective layer 25 located on the convex portion 4, and the platen roller 50 is less likely to be deformed into a convex shape. As a result, the print is less likely to be blurred.

なお、サーマルヘッドX1においては、凸部4を1つのみ設けた例を示したが、これに限定されるものではない。傾斜面2と副配線部17bとの間に複数設けてもよい。この場合においては、傾斜面2と副配線部17bとの間に、保護層25の膜応力の高い部位を複数設けることができ、さらに応力の進行を妨げることができる。 In the thermal head X1, an example in which only one convex portion 4 is provided is shown, but the present invention is not limited to this. A plurality of may be provided between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b. In this case, a plurality of portions of the protective layer 25 having high film stress can be provided between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b, and the progress of stress can be further hindered.

次に、本発明のサーマルプリンタの一実施形態について、図6を参照しつつ説明する。図6は、本実施形態のサーマルプリンタZの概略構成図である。 Next, an embodiment of the thermal printer of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the thermal printer Z of the present embodiment.

図6に示すように、本実施形態のサーマルプリンタZは、上述のサーマルヘッドX1、搬送機構40、プラテンローラ50、電源装置60および制御装置70を備えている。サーマルヘッドX1は、サーマルプリンタZの筐体に設けられた取付部材80の取付面80aに取り付けられている。なお、サーマルヘッドX1は、発熱部9の配列方向が、記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向である主走査方向に沿うように、取付部材80に取り付けられている。そのため、サーマルヘッドX1においては、基板7の第1主面7c側が記録媒体Pの搬送方向の上流側となり、基板7の第2主面7d側が記録媒体Pの搬送方向の下流側となる。 As shown in FIG. 6, the thermal printer Z of the present embodiment includes the above-mentioned thermal head X1, transfer mechanism 40, platen roller 50, power supply device 60, and control device 70. The thermal head X1 is attached to the attachment surface 80a of the attachment member 80 provided in the housing of the thermal printer Z. The thermal head X1 is attached to the mounting member 80 so that the arrangement direction of the heat generating portions 9 is along the main scanning direction which is the direction orthogonal to the transport direction S of the recording medium P. Therefore, in the thermal head X1, the first main surface 7c side of the substrate 7 is the upstream side in the transport direction of the recording medium P, and the second main surface 7d side of the substrate 7 is the downstream side in the transport direction of the recording medium P.

搬送機構40は、感熱紙、受像紙、カードC、インクリボンR等の記録媒体Pを図6の矢印S方向に搬送して、サーマルヘッドX1の複数の発熱部9上に搬送するためのものであり、搬送ローラ43,45,47,49を有している。搬送ローラ43,45,47,49は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体43a,45a,47a,49aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材43b,45b,47b,49bにより被覆して構成することができる。なお、図示しないが、記録媒体Pが受像紙あるいはカード等の場合は、記録媒体PとサーマルヘッドX1の発熱部9との間に、記録媒体Pとともにインクフィルムを搬送するようになっている。 The transport mechanism 40 is for transporting the recording medium P such as the thermal paper, the image receiving paper, the card C, and the ink ribbon R in the direction of the arrow S in FIG. 6 and transporting the recording medium P onto the plurality of heat generating portions 9 of the thermal head X1. It has transfer rollers 43, 45, 47, 49. In the transport rollers 43, 45, 47, 49, for example, a columnar shaft body 43a, 45a, 47a, 49a made of a metal such as stainless steel is covered with elastic members 43b, 45b, 47b, 49b made of butadiene rubber or the like. Can be configured. Although not shown, when the recording medium P is an image receiving paper or a card, the ink film is conveyed between the recording medium P and the heat generating portion 9 of the thermal head X1 together with the recording medium P.

プラテンローラ50は、記録媒体PをサーマルヘッドX1の発熱部9上に押圧する機能を有している。そして、プラテンローラ50は、記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向に沿って延びるように配置され、記録媒体Pを発熱部9上に押圧した状態で回転可能となるように両端部が支持されている。プラテンローラ50は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体50aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材50bにより被覆して構成することができる。 The platen roller 50 has a function of pressing the recording medium P onto the heat generating portion 9 of the thermal head X1. The platen roller 50 is arranged so as to extend along a direction orthogonal to the transport direction S of the recording medium P, and both ends thereof are supported so as to be rotatable while the recording medium P is pressed onto the heat generating portion 9. Has been done. The platen roller 50 can be configured by, for example, covering a columnar shaft body 50a made of a metal such as stainless steel with an elastic member 50b made of butadiene rubber or the like.

電源装置60は、上記のようにサーマルヘッドX1の発熱部9を発熱させるための電圧および駆動IC11を動作させるための電圧を供給する機能を有している。制御装置70は、上記のようにサーマルヘッドX1の発熱部9を選択的に発熱させるために、駆動IC11の動作を制御する制御信号を駆動IC11に供給する機能を有している。 As described above, the power supply device 60 has a function of supplying a voltage for heating the heat generating portion 9 of the thermal head X1 and a voltage for operating the drive IC 11. The control device 70 has a function of supplying a control signal for controlling the operation of the drive IC 11 to the drive IC 11 in order to selectively generate heat of the heat generation unit 9 of the thermal head X1 as described above.

本実施形態のサーマルプリンタZは、搬送機構40によって記録媒体PをサーマルヘッドX1の発熱部9上に搬送しつつ、電源装置60および制御装置70によって発熱部9を
選択的に発熱させる。それにより、記録媒体Pに所定の印画を行うことができる。
In the thermal printer Z of the present embodiment, the recording medium P is conveyed onto the heat generating portion 9 of the thermal head X1 by the conveying mechanism 40, and the heat generating portion 9 is selectively generated by the power supply device 60 and the control device 70. Thereby, a predetermined printing can be performed on the recording medium P.

<第2の実施形態>
図7を用いてサーマルヘッドX2について説明する。なお、サーマルヘッドX1と同一の部材については同一の番号を付し、以下同様とする。
<Second embodiment>
The thermal head X2 will be described with reference to FIG. 7. The same members as those of the thermal head X1 are assigned the same numbers, and the same applies hereinafter.

サーマルヘッドX2は、複数の凸部204を有する。凸部204は、傾斜面2と副配線部17bとの間に設けられている。凸部204は、第1端面7aからみて、傾斜面2に沿っている。より詳細には、凸部204は、第1端面7aからみて、傾斜面2と保護層25の上面とが交わる稜線25aに沿っている。 The thermal head X2 has a plurality of protrusions 204. The convex portion 204 is provided between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b. The convex portion 204 is along the inclined surface 2 when viewed from the first end surface 7a. More specifically, the convex portion 204 is along the ridge line 25a where the inclined surface 2 and the upper surface of the protective layer 25 intersect with each other when viewed from the first end surface 7a.

凸部204は、端部204aと中央部204bとを有している。端部204aは、凸部204のうち、副走査方向における端部に位置する。中央部204bは、凸部204のうち、副走査方向における中央部に位置する。凸部204は、第1端面7aからみて、中央部204bが、端部204aよりも発熱部9側に位置している。 The convex portion 204 has an end portion 204a and a central portion 204b. The end portion 204a is located at the end portion of the convex portion 204 in the sub-scanning direction. The central portion 204b is located in the central portion of the convex portion 204 in the sub-scanning direction. The central portion 204b of the convex portion 204 is located closer to the heat generating portion 9 than the end portion 204a when viewed from the first end surface 7a.

本実施形態のサーマルヘッドX1では、凸部204が、第1端面7aからみて、傾斜面2に沿って位置する。 In the thermal head X1 of the present embodiment, the convex portion 204 is located along the inclined surface 2 when viewed from the first end surface 7a.

このような構成の場合においては、凸部204と、傾斜面2との距離を一定に近づけることができる。そのため、基板7に面取りを施して傾斜面2を形成した際に生じた応力が、保護層25に対して均一に伝達しやすくなり、保護層25に応力が集中する部分を形成しにくくなる。その結果、保護層25に剥離が生じにくくなり、保護層25の封止性を向上させることができる。 In the case of such a configuration, the distance between the convex portion 204 and the inclined surface 2 can be made constant. Therefore, the stress generated when the substrate 7 is chamfered to form the inclined surface 2 is easily transmitted uniformly to the protective layer 25, and it is difficult to form a portion where the stress is concentrated on the protective layer 25. As a result, the protective layer 25 is less likely to be peeled off, and the sealing property of the protective layer 25 can be improved.

<第3の実施形態>
図8を用いてサーマルヘッドX3について説明する。サーマルヘッドX3は、サーマルヘッドX1の凸部4の代わりに凹部306を有している。
<Third embodiment>
The thermal head X3 will be described with reference to FIG. The thermal head X3 has a concave portion 306 instead of the convex portion 4 of the thermal head X1.

蓄熱層313は、第1部位313aと、第2部位313bと、凸部304と、凹部306とを有している。第1部位313aおよび第2部位313bは、サーマルヘッドX1の第1部位13aおよび第2部位13bと同一のため説明を省略する。 The heat storage layer 313 has a first portion 313a, a second portion 313b, a convex portion 304, and a concave portion 306. Since the first part 313a and the second part 313b are the same as the first part 13a and the second part 13b of the thermal head X1, the description thereof will be omitted.

凸部304は、傾斜面2と副配線部17bとの間に位置する。また、第2部位304bと離間して位置する。凸部304は、第2部位313bと同等の高さを有している。 The convex portion 304 is located between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b. Further, it is located away from the second portion 304b. The convex portion 304 has a height equivalent to that of the second portion 313b.

凹部306は、凸部304に形成されている。凹部306の深さは、凸部304の高さと略同等である。 The concave portion 306 is formed in the convex portion 304. The depth of the concave portion 306 is substantially the same as the height of the convex portion 304.

蓄熱層13は、例えば、以下の方法により作製する。まず、ガラス粉末に適当な有機溶剤を混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって基板7の第1端面7a上に塗布し、焼成する。次に、第2部位313bおよび凸部304を形成する領域にレジストを塗布し、エッチングを行う。この時、凹部306となる領域にはレジストは設けない。そして、レジストを除去することにより、蓄熱層13に第1部位313a、第2部位313b、凸部304および凹部306を形成することができる。 The heat storage layer 13 is produced, for example, by the following method. First, a predetermined glass paste obtained by mixing a glass powder with an appropriate organic solvent is applied onto the first end surface 7a of the substrate 7 by a conventionally known screen printing or the like, and fired. Next, a resist is applied to the region forming the second portion 313b and the convex portion 304, and etching is performed. At this time, no resist is provided in the region of the recess 306. Then, by removing the resist, the first portion 313a, the second portion 313b, the convex portion 304 and the concave portion 306 can be formed on the heat storage layer 13.

本実施形態のサーマルヘッドX3では、蓄熱層313が、傾斜面2と、主走査方向において、副配線部17bとの間に、凹部306を有しているため、蓄熱層13上に保護層25を製膜すると、保護層25のうち凹部306上に位置する部位の膜応力が高くなる。それにより、保護層25は、傾斜面2上に位置する部位と、副配線部17b上に位置する部
位との間に、膜応力の高い部位が形成されることとなる。
In the thermal head X3 of the present embodiment, since the heat storage layer 313 has a recess 306 between the inclined surface 2 and the sub-wiring portion 17b in the main scanning direction, the protective layer 25 is placed on the heat storage layer 13. When the film is formed, the film stress of the portion of the protective layer 25 located on the recess 306 increases. As a result, in the protective layer 25, a portion having a high film stress is formed between the portion located on the inclined surface 2 and the portion located on the sub-wiring portion 17b.

その結果、面取り時に生じた応力が、保護層25のうち凹部306上に位置する部位によって進行を妨げられることとなり、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位が剥離しにくくなる。それゆえ、保護層25の封止性を向上させることができる。 As a result, the stress generated during chamfering is hindered by the portion of the protective layer 25 located on the recess 306, and the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b is less likely to peel off. Therefore, the sealing property of the protective layer 25 can be improved.

また、本実施形態においては、傾斜面2が、副走査方向における中央部が、副走査方向における端部よりも主走査方向における長さが長くなっており、傾斜面2の副走査方向における中央部と凹部306との距離が、傾斜面2の副走査方向における端部と凹部306との距離よりも小さくてもよい。 Further, in the present embodiment, the central portion of the inclined surface 2 in the sub-scanning direction has a longer length in the main scanning direction than the end portion in the sub-scanning direction, and the central portion of the inclined surface 2 in the sub-scanning direction. The distance between the portion and the recess 306 may be smaller than the distance between the end portion of the inclined surface 2 in the sub-scanning direction and the recess 306.

このような構成を有する場合には、傾斜面2上に位置する保護層25と、副走査方向における凹部306上に位置する保護層25との距離を小さくすることができ、面取り時に生じた応力が、凹部306上に位置する保護層25によりすぐに進行を妨げられることとなり、応力が進行しにくくなる。その結果、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位が剥離しにくくなり、保護層25の封止性さらに向上させることができる。 With such a configuration, the distance between the protective layer 25 located on the inclined surface 2 and the protective layer 25 located on the recess 306 in the sub-scanning direction can be reduced, and the stress generated during chamfering can be reduced. However, the protective layer 25 located on the recess 306 immediately hinders the progress, and the stress is less likely to progress. As a result, the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b is less likely to be peeled off, and the sealing performance of the protective layer 25 can be further improved.

また、本実施形態においては、蓄熱層313が、基板7上に位置する第1部位313aと、第1部位313aから基板から遠ざかる方向に向けて突出する第2部位13bとを有しており、発熱部9は、第2部位13b上に設けられており、凸部304は、第2部位313bと離間した状態で、第1部位313aから突出しており、第2部位313bと凸部304との間に副配線部17bが配置されており、凸部304に凹部306が設けられていてもよい。 Further, in the present embodiment, the heat storage layer 313 has a first portion 313a located on the substrate 7 and a second portion 13b protruding from the first portion 313a in a direction away from the substrate. The heat generating portion 9 is provided on the second portion 13b, and the convex portion 304 protrudes from the first portion 313a in a state of being separated from the second portion 313b, and the second portion 313b and the convex portion 304 A sub-wiring portion 17b may be arranged between them, and a concave portion 306 may be provided in the convex portion 304.

このような構成を有する場合には、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位と、カードCが接触しにくくなる。そのため、カードCからの押圧力が、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位に生じにくくなり、保護層25のうち副配線部17b上に位置する部位に剥離が生じにくくなる。その結果、保護層25の封止性を向上させることができる。 With such a configuration, the card C is less likely to come into contact with the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b. Therefore, the pressing force from the card C is less likely to occur in the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b, and the portion of the protective layer 25 located on the sub-wiring portion 17b is less likely to be peeled off. As a result, the sealing property of the protective layer 25 can be improved.

また、本実施形態においては、インクリボンRが、凹部306の周囲に位置する凸部304上に位置する保護層25に接触しつつ搬送されていてもよい。言い換えると、プラテンローラ50が、インクリボンRを介して凸部304上に位置する保護層25に接触していてもよい。 Further, in the present embodiment, the ink ribbon R may be conveyed while being in contact with the protective layer 25 located on the convex portion 304 located around the concave portion 306. In other words, the platen roller 50 may be in contact with the protective layer 25 located on the convex portion 304 via the ink ribbon R.

このような構成を有する場合には、カードCの印画にかすれが生じにくくなる。すなわち、プラテンローラ50は、後述する軸体50aの両端をサーマルヘッドX1側に押圧することにより、発熱部9上の保護層25にカードCを押圧している。そのため、プラテンローラ50は、中央部が上方に突出した凸形状に変形し、発熱部9上のカードCの押圧力が小さくなり、印画にかすれが生じる可能性がある。 With such a configuration, the print on the card C is less likely to be blurred. That is, the platen roller 50 presses the card C against the protective layer 25 on the heat generating portion 9 by pressing both ends of the shaft body 50a, which will be described later, toward the thermal head X1. Therefore, the platen roller 50 is deformed into a convex shape in which the central portion protrudes upward, the pressing force of the card C on the heat generating portion 9 becomes small, and the printing may be blurred.

しかしながら、サーマルヘッドX3においては、プラテンローラ50が、313c上に位置する保護層25によっても支持されることとなり、プラテンローラ50が凸形状に変形しにくくなる。その結果、印画にかすれが生じにくくなる。 However, in the thermal head X3, the platen roller 50 is also supported by the protective layer 25 located on the 313c, and the platen roller 50 is less likely to be deformed into a convex shape. As a result, the print is less likely to be blurred.

なお、凸部304に凹部306を設けた例を示したが、これに限定されるものではない。例えば、第1部位313aに凹部306を形成してもよい。その場合においても、保護層25のうち凹部306上に位置する部位の膜応力が高くなり、保護層25の封止性を向上させることができる。 Although an example in which the concave portion 306 is provided in the convex portion 304 is shown, the present invention is not limited to this. For example, the recess 306 may be formed in the first portion 313a. Even in that case, the film stress of the portion of the protective layer 25 located on the recess 306 becomes high, and the sealing property of the protective layer 25 can be improved.

以上、複数の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。例えば、第1の実施形態であるサーマルヘッドX1を用いたサーマルプリンタZを示したが、これに限定されるものではなく、サーマルヘッドX2〜X3をサーマルプリンタZに用いてもよい。また、サーマルヘッドX1〜X3を適宜に組み合わせてもよい。 Although the plurality of embodiments have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the thermal printer Z using the thermal head X1 according to the first embodiment is shown, but the present invention is not limited to this, and the thermal heads X2 to X3 may be used for the thermal printer Z. Further, the thermal heads X1 to X3 may be appropriately combined.

例えば、サーマルヘッドX1にサーマルヘッドX3を組み合わせて、蓄熱層13が、凸部4および凹部306を有する構成としてもよい。このような場合においても、凸部4上に位置する保護層25および凹部306上に位置する保護層25の膜応力が大きくなるため、傾斜面2から応力が進行する可能性を低減することができる。 For example, the thermal head X1 may be combined with the thermal head X3 so that the heat storage layer 13 has the convex portion 4 and the concave portion 306. Even in such a case, since the film stress of the protective layer 25 located on the convex portion 4 and the protective layer 25 located on the concave portion 306 becomes large, the possibility of stress traveling from the inclined surface 2 can be reduced. can.

また、サーマルヘッドX1では、図3に示すように、基板7の第1端面7aが凸状の曲面形状を有した例を示したが、基板7の第1端面7aの表面形状および傾斜角度は特に限定されるものではなく、任意の形態をとることができる。 Further, in the thermal head X1, as shown in FIG. 3, an example in which the first end surface 7a of the substrate 7 has a convex curved surface shape is shown, but the surface shape and the inclination angle of the first end surface 7a of the substrate 7 are different. It is not particularly limited and can take any form.

さらにまた、発熱部9が基板7の第1端面7aに設けられた例を示したがこれに限定されるものではない。発熱部9が、第1主面7cに設けられた平面ヘッドにおいても、本発明を適用することができる。また、電気抵抗層15を印刷により形成した厚膜方式のサーマルヘッドにも適用することができる。 Furthermore, an example is shown in which the heat generating portion 9 is provided on the first end surface 7a of the substrate 7, but the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to a flat head in which the heat generating portion 9 is provided on the first main surface 7c. It can also be applied to a thick film type thermal head in which the electric resistance layer 15 is formed by printing.

X1〜X3 サーマルヘッド
Z1 サーマルプリンタ
1 放熱体
2 傾斜面
3 ヘッド基体
4,204,304 凸部
204a 端部
204b 中央部
5 フレキシブルプリント配線板(FPC)
306 凹部
7 基板
9 発熱部
11 駆動IC
13, 蓄熱層
13a,313a 第1部位
13b,313b 第2部位
17 共通電極
17a 主配線部
17b 副配線部
17c リード部
25 保護層
27 被覆層
29 被覆部材
31 コネクタ
50 プラテンローラ
70 制御装置
X1 to X3 Thermal head Z1 Thermal printer 1 Heat radiator 2 Inclined surface 3 Head substrate 4,204,304 Convex part 204a End part 204b Central part 5 Flexible printed wiring board (FPC)
306 Recessed 7 Board 9 Heat generating part 11 Drive IC
13, Heat storage layer 13a, 313a 1st part 13b, 313b 2nd part 17 Common electrode 17a Main wiring part 17b Sub wiring part 17c Lead part 25 Protective layer 27 Coating layer 29 Coating member 31 Connector 50 Platen roller 70 Control device

Claims (11)

基板と、
前記基板上に位置する蓄熱層と、
前記蓄熱層上に位置する発熱部と、
少なくとも一部が前記蓄熱層上に位置し、前記発熱部と繋がっている電極と、
前記発熱部および前記蓄熱層上に位置し、少なくとも一部が前記基板上に位置する保護層と、を備え、
前記基板は、主走査方向における少なくとも一方の端部に、傾斜面を有しており、
前記蓄熱層は、前記保護層の下に位置する部分であって、主走査方向において、前記傾斜面と前記電極との間に、前記基板から遠ざかる方向に突出した凸部を有する、サーマルヘッド。
With the board
The heat storage layer located on the substrate and
The heat generating part located on the heat storage layer and
An electrode that is at least partly located on the heat storage layer and is connected to the heat generating portion.
A protective layer located on the heat generating portion and the heat storage layer and at least a part thereof located on the substrate is provided.
The substrate has an inclined surface at at least one end in the main scanning direction.
The heat storage layer is a portion located below the protective layer, and has a convex portion protruding in a direction away from the substrate between the inclined surface and the electrode in the main scanning direction.
主走査方向および副走査方向を含む平面に垂直な方向からの平面視において、
前記傾斜面は、副走査方向における中央部が、副走査方向における端部よりも主走査方向における長さが長くなっており、
前記中央部と前記凸部との距離が、前記端部と前記凸部との距離よりも小さい、請求項1に記載のサーマルヘッド。
In a plan view from a direction perpendicular to the plane including the main scanning direction and the sub-scanning direction.
The inclined surface has a longer central portion in the sub-scanning direction than an end portion in the sub-scanning direction in the main scanning direction.
The thermal head according to claim 1, wherein the distance between the central portion and the convex portion is smaller than the distance between the end portion and the convex portion.
主走査方向および副走査方向を含む平面に垂直な方向からの平面視において、
前記凸部は、前記傾斜面に沿って位置する、請求項1に記載のサーマルヘッド。
In a plan view from a direction perpendicular to the plane including the main scanning direction and the sub-scanning direction.
The thermal head according to claim 1, wherein the convex portion is located along the inclined surface.
前記蓄熱層は、前記基板上に位置する第1部位と、前記第1部位から前記基板から遠ざかる方向に向けて突出する第2部位とを有しており、
前記発熱部は、前記第2部位上に位置しており、
前記凸部は、前記第2部位と離間した状態で、前記第1部位から突出しており、
前記第2部位と前記凸部との間に前記電極が配置されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載のサーマルヘッド。
The heat storage layer has a first portion located on the substrate and a second portion protruding from the first portion in a direction away from the substrate.
The heat generating portion is located on the second portion, and the heat generating portion is located on the second portion.
The convex portion protrudes from the first portion in a state of being separated from the second portion.
The thermal head according to any one of claims 1 to 3, wherein the electrode is arranged between the second portion and the convex portion.
前記凸部に、前記基板に近づく方向に凹んだ凹部が設けられている、請求項4に記載のサーマルヘッド。 The thermal head according to claim 4, wherein the convex portion is provided with a concave portion recessed in a direction approaching the substrate. 基板と、
前記基板上に位置する蓄熱層と、
前記蓄熱層上に位置する発熱部と、
少なくとも一部が前記蓄熱層上に位置し、前記発熱部と繋がっている電極と、
前記発熱部および前記蓄熱層上に位置し、少なくとも一部が前記基板上に位置する保護層と、を備え、
前記基板は、主走査方向における少なくとも一方の端部に、傾斜面を有しており、
前記電極は、前記傾斜面から離れて位置しており、
前記蓄熱層は、主走査方向において、前記傾斜面と、該傾斜面の最も近くに位置する前記電極との間に、前記基板に近づく方向に凹んだ凹部を有する、サーマルヘッド。
With the board
The heat storage layer located on the substrate and
The heat generating part located on the heat storage layer and
An electrode that is at least partly located on the heat storage layer and is connected to the heat generating portion.
A protective layer located on the heat generating portion and the heat storage layer and at least a part thereof located on the substrate is provided.
The substrate has an inclined surface at at least one end in the main scanning direction.
The electrode is located away from the inclined surface and is located away from the inclined surface.
The heat storage layer is a thermal head having a recess recessed in a direction approaching the substrate between the inclined surface and the electrode located closest to the inclined surface in the main scanning direction.
主走査方向および副走査方向を含む平面に垂直な方向からの平面視において、
前記傾斜面は、副走査方向における中央部が、副走査方向における端部よりも主走査方向における長さが長くなっており、
前記中央部と前記凹部との距離が、前記端部と前記凹部との距離よりも小さい、請求項6に記載のサーマルヘッド。
In a plan view from a direction perpendicular to the plane including the main scanning direction and the sub-scanning direction.
The inclined surface has a longer central portion in the sub-scanning direction than an end portion in the sub-scanning direction in the main scanning direction.
The thermal head according to claim 6, wherein the distance between the central portion and the concave portion is smaller than the distance between the end portion and the concave portion.
主走査方向および副走査方向を含む平面に垂直な方向からの平面視において、
前記凹部は、前記傾斜面に沿って位置する、請求項6に記載のサーマルヘッド。
In a plan view from a direction perpendicular to the plane including the main scanning direction and the sub-scanning direction.
The thermal head according to claim 6, wherein the recess is located along the inclined surface.
請求項の1〜5のいずれか一項に記載のサーマルヘッドと、
前記発熱部上を通過するように記録媒体を搬送する搬送機構と、
前記記録媒体を押圧するプラテンローラと、を備えることを特徴とするサーマルプリンタ。
The thermal head according to any one of claims 1 to 5.
A transport mechanism that transports the recording medium so that it passes over the heat generating portion.
A thermal printer comprising a platen roller for pressing the recording medium.
前記記録媒体が、前記凸部上に位置する保護層に接触しつつ搬送される、請求項9に記載のサーマルプリンタ。 The thermal printer according to claim 9, wherein the recording medium is conveyed while being in contact with a protective layer located on the convex portion. 請求項の6〜8のいずれか一項に記載のサーマルヘッドと、
前記発熱部上を通過するように記録媒体を搬送する搬送機構と、
前記記録媒体を押圧するプラテンローラと、を備え、
前記記録媒体が、前記凹部の周囲に位置する前記蓄熱層上に位置する保護層に接触しつつ搬送される、サーマルプリンタ。
The thermal head according to any one of claims 6 to 8 and the thermal head.
A transport mechanism that transports the recording medium so that it passes over the heat generating portion.
A platen roller for pressing the recording medium is provided.
A thermal printer in which the recording medium is conveyed while being in contact with a protective layer located on the heat storage layer located around the recess.
JP2018012748A 2018-01-29 2018-01-29 Thermal head and thermal printer Active JP6971870B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018012748A JP6971870B2 (en) 2018-01-29 2018-01-29 Thermal head and thermal printer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018012748A JP6971870B2 (en) 2018-01-29 2018-01-29 Thermal head and thermal printer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019130688A JP2019130688A (en) 2019-08-08
JP6971870B2 true JP6971870B2 (en) 2021-11-24

Family

ID=67545358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018012748A Active JP6971870B2 (en) 2018-01-29 2018-01-29 Thermal head and thermal printer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6971870B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019130688A (en) 2019-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5836825B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
WO2012176884A1 (en) Thermal head and thermal printer provided with same
JP6346108B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP7336588B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP6971870B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2012071467A (en) Thermal head and thermal printer including the same
JP6526198B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP6219409B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2012071522A (en) Thermal head and thermal printer including the same
JP5937309B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
JP6154339B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP6189715B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP6154338B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP7309040B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP7444972B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP7122460B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP6927767B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2012030380A (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
JP6189714B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
JP6075634B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
JP6199814B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP7036692B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP5783709B2 (en) Thermal head, thermal printer provided with the same, and method for manufacturing thermal head
JP2021107142A (en) Thermal head and thermal printer
JP6075767B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200710

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210513

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210518

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210715

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20210817

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211012

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211102

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6971870

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150