JP6954465B2 - 四重極マスフィルタおよび分析装置 - Google Patents

Description

本発明は、四重極マスフィルタおよび分析装置に関する。

四重極質量分析計において、イオン化された試料は四重極マスフィルタにより質量分離される。四重極マスフィルタは、イオンをｍ／ｚ（質量電荷比）の値に基づいて選択的に通過させることにより分離する。ここで、四重極マスフィルタを構成する絶縁性の構造体等にイオンが衝突すると、当該構造体の帯電等により四重極マスフィルタの内部の電場が変化する。これにより、四重極マスフィルタの分離性能が低下したり、四重極マスフィルタを通過して検出されるイオンの量が低下したりする等の問題が起きることが知られている（特許文献１参照）。

この問題に対し、四重極マスフィルタの所定の位置に導電体を配置し、当該導電体にイオンを衝突させることで、四重極マスフィルタの帯電を防ぐことが行われていた。

図１３（Ａ）、１３（Ｂ）、および１３（Ｃ）は、従来の四重極マスフィルタ９の構成を示す概念図であり、図１３（Ａ）は、正面図であり、図１３（Ｂ）および１３（Ｃ）は、それぞれ図１３（Ａ）における矢印Ａ１０およびＡ２０の方向から見た場合の側面図である。座標系の設定の仕方は後述する図１と同様である。

従来の四重極マスフィルタ９は、ロッド状の電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄからなる四重極と、ロッド状の導電体３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄとを備える。電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄと、導電体３ａ、３ｂ、３ｃおよび３ｄとは、四重極マスフィルタの中心軸Ａｘの周りに、中心軸Ａｘと略平行に配置されており、保持部２０により保持されている。

日本国特許第６００４０９８号公報

しかしながら、配置された導電体自体による電場への影響を防ぐため、当該導電体は四重極マスフィルタの中心軸から離れた位置に配置されることが望ましい等の条件を満たす必要があり、当該導電体の四重極マスフィルタへの取り付けは容易でなかった。

本発明の第１の態様によると、四重極マスフィルタは、中心軸を囲むように配置され四重極を構成する４つの電極と、前記中心軸から見て、前記４つの電極のうち隣り合う各組の電極の間へ向かう方向にそれぞれ少なくとも一つ配置される複数の導電部を取り付ける取り付け部と、中空部を有し、前記４つの電極および前記複数の導電部を保持する保持部と、を備え、前記導電部は、前記導電部を構成する材料の弾性を利用して前記取り付け部に取り付けられて前記保持部に保持される。
本発明の第２の態様によると、第１の態様の四重極マスフィルタにおいて、前記取り付け部は、前記保持部の前記中空部に面する内周面に、前記内周面が前記中心軸から離れる向きにくぼむ凹形状に形成されていることが好ましい。
本発明の第３の態様によると、第２の態様の四重極マスフィルタにおいて、前記取り付け部の前記凹形状は、前記中空部の内周面に前記中心軸に沿って形成されている溝であることが好ましい。
本発明の第４の態様によると、第１から第３までのいずれか一態様の四重極マスフィルタにおいて、前記複数の導電部の少なくとも一部は、支持体により連結されて一体的に構成されることが好ましい。
本発明の第５の態様によると、第１から第３までのいずれか一態様の四重極マスフィルタにおいて、前記複数の導電部のそれぞれはクリップ機構が一体的に設けられ、前記クリップ機構により前記取り付け部に挟圧されて前記保持部に保持されることが好ましい。
本発明の第６の態様によると、第１から第５までのいずれか一態様の四重極マスフィルタにおいて、前記導電部を接地するため、または前記導電部に電圧を印加するための配線を備えることが好ましい。
本発明の第７の態様によると、第１から第６までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、前記取り付け部は、前記隣り合う電極のそれぞれに同じ大きさで異なる極性の電圧を印加したときに、前記導電部がゼロ電位となる位置に配置されることが好ましい。
本発明の第８の態様によると、第１から第７までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、前記中心軸から前記４つの電極の最も近い点までの距離よりも、前記中心軸から、前記取り付け部に配置された前記複数の導電部の最も近い点までの距離の方が長いことが好ましい。
本発明の第９の態様によると、分析装置は、上述の四重極マスフィルタを備える。
本発明の第１０の態様によると、第９の態様の分析装置において、前記導電部は接地されることが好ましい。
本発明の第１１の態様によると、第９の態様の分析装置は、前記導電部に電圧を印加する電圧印加部を備えることが好ましい。
本発明の第１２の態様によると、第１１の態様の分析装置において、前記四重極マスフィルタを通過したイオンを検出する検出部を備え、前記電圧印加部は、前記検出部が第一の分析対象を検出する第一測定期間と、前記検出部が第二の分析対象を検出する第二測定期間との間の、測定を実施していない測定準備期間中に、前記イオンの極性とは同一のまたは異なる極性の電圧を前記導電部に印加することが好ましい。

本発明によれば、四重極マスフィルタの帯電を防止するために配置する導電部の取り付けを容易にすることができる。

図１（Ａ）、１（Ｂ）、および１（Ｃ）は、一実施形態の四重極マスフィルタの構成を示す概念図であり、図１（Ａ）は、正面図であり、図１（Ｂ）および１（Ｃ）は、側面図である。 図２（Ａ）は、一実施形態の四重極マスフィルタの構成を模式的に示す正面図であり、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。 図３（Ａ）および３（Ｂ）は、導電部の構成を示す概念図であり、図３（Ａ）は正面図であり、図３（Ｂ）はＱ−Ｑ断面図である。 図４（Ａ）は、四重極マスフィルタの四重極および保持部の構成を模式的に示す正面図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）のＣ−Ｃ断面図である。 図５は、変形例の四重極マスフィルタの構成を模式的に示す正面図である。 図６は、分析装置の構成を示す概念図である。 図７（Ａ）は、ドウェル時間とポーズ時間を説明するための概念図であり、図７（Ｂ）および７（Ｃ）は、導電部に印加する電圧の時間的変化を示す概念図である。 図８は、変形例に係る分析方法の流れを示すフローチャートである。 図９（Ａ）は、一実施形態の四重極マスフィルタの構成を模式的に示す正面図であり、図９（Ｂ）は、図９（Ａ）のＥ−Ｅ断面図である。 図１０（Ａ）、１０（Ｂ）および１０（Ｃ）は、一実施形態における導電部を説明するための概念図であり、図１０（Ａ）および１０（Ｂ）は側面図であり、図１０（Ｃ）は、斜視図である。 図１１は、四重極マスフィルタの四重極および保持部の構成を模式的に示す正面図である。 図１２は、一実施形態の四重極マスフィルタの構成を模式的に示す正面図である。 図１３（Ａ）、１３（Ｂ）、および１３（Ｃ）は、従来の四重極マスフィルタの構成を示す概念図であり、図１３（Ａ）は、正面図であり、図１３（Ｂ）および１３（Ｃ）は、側面図である。

以下、図を参照して本発明を実施するための形態について説明する。

（第１の実施形態）
図１（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）は、本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａの形状を示す概念図であり、図１（Ａ）は四重極マスフィルタ１０ａをその軸心方向から見た正面図であり、図１（Ｂ）および（Ｃ）はそれぞれ図１（Ａ）の矢印Ａ１およびＡ２の方向から見た側面図である。図２（Ａ）は、四重極マスフィルタ１０ａを模式的に示す図１（Ａ）の拡大図である。図２（Ｂ）は、図１（Ｂ）のＷで示す領域について図２（Ａ）のＢで示す領域をＡ−Ａ線方向から見た図である。

四重極マスフィルタ１０ａは、４つの電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄ（以下、各電極を区別せずに呼ぶ場合、電極１１と呼ぶ）と、４つの電極１１をその長手方向両端部で保持する保持部２０ａおよび２０ｚと、導電構造体３０ａおよび３０ｚとを備える（図１（Ａ）および１（Ｂ）参照）。保持部２０ａは、中空部６ａを備える。導電構造体３０ａは、４つの導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄ（図２（Ａ）参照。以下、各導電体を区別せずに呼ぶ場合、導電体３００と呼ぶ）を備える。保持部２０ｚおよび導電構造体３０ｚは、それぞれ保持部２０ａおよび導電構造体３０ａと同一の構造を有しており、ｚ軸方向について逆向きに配置されている。保持部２０ｚおよび導電構造体３０ｚの構造はそれぞれ保持部２ａｂおよび導電構造体３０ａと同一であるため説明を適宜省略する。

以下の実施形態では、座標軸８に示すように、中心軸Ａｘの方向にｚ軸をとり、ｚ軸にそれぞれ直交する２軸をｘ軸、ｙ軸とする。ｙ軸は、ｚ軸に垂直な面と、四重極マスフィルタを電極１１ａおよび１１ｂを含む部分と電極１１ｃおよび１１ｄを含む部分との面対称な２つの部分に分割する面との交線の方向に延在する軸である。

４つの電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄは、金属等の導電性材料を含み、中心軸Ａｘを取り囲むように配置され、四重極を構成する。４つの電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄは、中心軸Ａｘを回転軸として４回回転対称となる位置に配置されており、内接円の半径はｒ_ｏ（図２（Ａ）参照）である。ｒ_ｏは中心軸Ａｘから電極１１の最も近い位置までの距離に相当する。

電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄはｚ軸方向の幅がｘ軸方向およびｙ軸方向の幅よりも長いロッド形状をしており、電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄはこれらの長軸がｚ軸に略平行になるように配置されている（図１（Ｂ）参照）。図１（Ｂ）および１（Ｃ）では４つの電極１１のうち電極１１ａの長軸Ｌａのみ示した。

電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄは、それぞれ保持部２０ａの中空部６ａに面する内周面２１に接して配置されており、不図示のねじ等の連結金具を介しセラミック等の絶縁体からなる保持部２０ａに対して固定されている（図２（Ａ）参照）。電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄは長軸に垂直な断面が円形状をしている。この円形状に対応するように、保持部２０ａの内周面２１において電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄと対向する部分も円弧形状となっている。
なお、ｍ／ｚの値に基づいたイオンの分離ができれば電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄの断面の形状は特に限定されず、例えば双曲線状でもよい。

電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄは、それぞれ電圧印加部１５０と電気的に接続されている（図２（Ａ）参照）。電圧印加部１５０は、制御された所定の電圧を電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄにそれぞれ印加する。図２（Ａ）では、電圧印加部１５０と電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄとを接続する配線を折れ線ｗ１ａ、ｗ１ｂ、ｗ１ｃおよびｗ１ｄにより模式的に示した。

四重極マスフィルタ１０ａは、保持部２０ａの中空部６ａに入射するイオンを、当該イオンのｍ／ｚの値に基づいて選択的に通過させる。四重極マスフィルタ１０ａは、電圧印加部１５０が電極１１に印加する電圧により誘導される電磁気学的な作用により所望のｍ／ｚの値を有するイオンを通過させることができる。

電圧印加部１５０は直流電圧および交流電圧を印加可能な電源装置を備える。電圧印加部１５０は、直流電圧と交流電圧を重畳した電圧を電極１１に印加する。電圧印加部１５０が、向かい合う１組の電極１１ａおよび１１ｃに印加する電圧をＶａ、向かい合う他の１組の電極１１ｂおよび１１ｄに印加する電圧をＶｂとすると、時間ｔにおける印加電圧ＶａおよびＶｂは一例として以下の式（１）で表される。
Ｖａ＝Ｕ＋Ｖｃｏｓωｔ
Ｖｂ＝−（Ｕ＋Ｖｃｏｓωｔ）
…（１）
ここで、Ｕは直流電圧の電圧値、Ｖは交流電圧の振幅、ωは交流電圧の周波数である。電圧印加部１５０は、向かい合う１組の電極１１ａおよび１１ｃと、他の１組の電極１１ｂおよび１１ｄに大きさが等しく極性が異なる電圧を印加する。

このとき、電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄに囲まれる空間におけるイオンの運動は、以下の式（２）で示されたマシュー方程式に基づいて算出される。
ｍ_ｉ（ｄ^２ｘ／ｄｔ^２）＝−（２ｚｅｘ／ｒ_ｏ ^２）（Ｕ−Ｖｃｏｓωｔ）
ｍ_ｉ（ｄ^２ｙ／ｄｔ^２）＝−（２ｚｅｙ／ｒ_ｏ ^２）（Ｕ−Ｖｃｏｓωｔ）
…（２）
ここで、ｍ_ｉはイオンの質量、ｅは電荷量である。このマシュー方程式から、所望のｍ／ｚを有するイオンが電極１１に囲まれた空間を安定的に通過する電圧の条件や、所定の電圧を印加した場合に当該空間を安定的に通過するイオンのｍ／ｚの範囲等が求められる。分離したいイオンのｍ／ｚの値と、適宜ｍ／ｚについて求められる選択性の程度とに基づいて電極１１に印加される電圧が設定される。

電極１１に囲まれた空間を安定的に通過することができないイオンは、中心軸Ａｘからそれ、その一部は保持部２０ａや、電極１１の表面に付着した異物等の絶縁体に付着して帯電させ、電極１１に囲まれた空間における電場を乱す。このような電場の乱れを軽減または無くすために、保持部２０ａの内周面２１に導電部３００が配置されている。

４つの導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、金属等の導電性材料で製作され、中心軸Ａｘを取り囲むように配置されている（図２（Ａ）参照）。４つの導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、中心軸Ａｘを回転軸として４回回転対称となる位置に配置されており、内接円の半径はｒ_１である。ｒ_１は中心軸Ａｘから導電部３００の最も近い位置までの距離に相当する。中心軸Ａｘから導電部３００の最も近い位置までの距離ｒ_１は、中心軸Ａｘから電極１１の最も近い位置までの距離ｒ_ｏよりも長いことが好ましい。これにより、導電部３００自体による電極１１に囲まれた空間の電場への影響を軽減することができる。

導電部３００ａは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ｄおよび電極１１ａの間へ向かう方向にある位置に配置されている。導電部３００ｂは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ａおよび電極１１ｂの間へ向かう方向にある位置に配置されている。導電部３００ｃは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ｂおよび電極１１ｃの間へ向かう方向にある位置に配置されている。導電部３００ｄは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ｃおよび電極１１ｄの間へ向かう方向にある位置に配置されている。

このように、４つの導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、それぞれ中心軸Ａｘから見て、４つの電極１１のうち隣り合う各組の電極の間へ向かう方向に一つずつ配置されている。換言すれば、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、中心軸Ａｘを回転軸とした動径方向のうち、電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄが配置されていない方向にある位置にそれぞれ配置されている。

導電部３００ａは、保持部２０ａの内周面２１に沿って隣り合う電極１１ｄおよび電極１１ａの間に配置されている。導電部３００ｂは、内周面２１に沿って隣り合う電極１１ａおよび電極１１ｂの間に配置されている。導電部３００ｃは、内周面２１に沿って隣り合う電極１１ｂおよび電極１１ｃの間に配置されている。導電部３００ｄは、保持部２０ａの内周面２１に沿って隣り合う電極１１ｃおよび電極１１ｄの間に配置されている。このように、４つの導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、４つの電極１１のうち内周面２１に沿って隣り合う電極の間にそれぞれ配置されている。

導電部３００ｂは、図２（Ｂ）に示されるように、保持部２０ａの中空部６ａの側から見ると、導電性を有する板状の部分が、保持部２０ａの内周面２１に形成された溝状の凹部である取り付け部７に沿って配置される構成となっている。導電部３００ａ、３００ｃおよび３００ｄについても同様である。これにより、取り付け部７の凹形状や溝形状を利用でき、導電部３００を保持部２０ａに取り付ける際の位置決めが容易になる。

図３（Ａ）および３（Ｂ）は、導電構造体３０ａを構成する部品の形状を示す概念図であり、図３（Ａ）は正面図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）のＱ−Ｑ断面図である。導電構造体３０ａは、４つの導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄと、これら導電部３００を連結し一体的に支持する支持体である環状部分３２とを備える。環状部分３２は金属等の導電性材料を含み、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは電気的に接続されている。導電構造体３０ａが、保持部２０ａのイオンが入射する側の面に配置されると、導電性を有する環状部分３２にイオンが入射することにより、保持部２０ａの帯電を軽減できるため特に好ましい。
なお、導電部３００の支持体の形状は特に限定されず、適宜保持部２０ａの形状に対応した形状等にすることができる。

導電構造体３０ａにおいて、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、環状部分３２に沿う平面Ｓに垂直な方向からθだけ動径方向に傾いた方向に延伸して形成されている。導電構造体３０ａが保持部２０ａに配置されているときは、保持部２０ａの内周面２１における抗力により、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄと環状部分３２に沿う平面との角度は略９０度となる。この抗力と、導電部３００を構成する金属等の導電性材料が角度θだけ変形したことによる弾性力とがつり合い、このつり合いによって生じる静止摩擦力により導電部３００は保持部２０ａに対して固定される。すなわち、導電部３００は、は導電部３００を構成する材料の弾性を利用して取り付け部７に取り付けられて保持部２０ａに保持される。

図４（Ａ）および図４（Ｂ）は、導電構造体３０ａが配置されていない保持部２０ａと、電極１１とを示す概念図であり、図４（Ａ）は正面図であり、図４（Ｂ）は、図１（Ｂ）のＷで示す領域について図４（Ａ）のＤで示す領域をＣ−Ｃ線方向から見た図である。４つの取り付け部７ａ、７ｂ、７ｃおよび７ｄは、中心軸Ａｘを回転軸として４回回転対称となる位置に配置されている。取り付け部７ａ、７ｂ、７ｃおよび７ｄは、内周面２１に形成された溝状の凹部であり、それぞれ底部７０ａ、７０ｂ、７０ｃおよび７０ｄと、内側面７１ａ、７１ｂ、７１ｃおよび７１ｄとを備える。

図４（Ｂ）に示されたように、底部７０ｂは、中空部６ａの側を向いて形成されており、取り付け部７ｂは、底部７０ｂを底面として中心軸Ａｘに沿ってｚ軸方向に延伸する溝状の部分となっている。上述したように底部７０ｂに沿って３００ｂが配置される。取り付け部７ａ、７ｃおよび７ｄについても同様である。

四重極マスフィルタ１０ａは導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄを接地するための配線を備え、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄはこの配線により電気的に接地される。本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａでは、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは導電構造体３０ａとして互いに電気的に接続されている。図２（Ａ）では、導電構造体３０ａが電気的に接地されている点を折れ線ｗ３を用いて模式的に示した。

上述のように、電圧印加部１５０が、向かい合う１組の電極１１ａおよび１１ｃと、向かい合う他の１組の電極１１ｂおよび１１ｄとのそれぞれに大きさが等しく極性が異なる電圧を印加すると、隣り合う電極１１の間にゼロ電位となる面がｚ軸方向に略平行に形成される。図１（Ａ）では、電極１１ａおよび１１ｂの間と、電極１１ｃおよび１１ｄの間と形成されるゼロ電位面Ｓ１と、電極１１ｄおよび１１ａの間と、電極１１ｂおよび１１ｃの間とに形成されるゼロ電位面Ｓ２とを一点鎖線で模式的に示した。

電極１１により囲まれる空間の電場を乱さないようにする観点から、接地されて電位がゼロとなる導電部３００は、電圧印加部１５０が電極１１にイオンをｍ／ｚの値に応じて分離するための電圧を印加する際にゼロ電位となる位置に配置されることが好ましい。本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａでは、導電体３００ｂおよび３００ｄがゼロ電位面Ｓ１の一部を含み、導電体３００ａおよび３００ｃがゼロ電位面Ｓ２の一部を含むように配置されている。

四重極マスフィルタ１０ａは、イオンを分析する分析装置における質量分離部またはその一部として用いることができる。このような分析装置としては、シングル四重極質量分析計およびタンデム四重極質量分析計の他、ガスクロマトグラフおよび液体クロマトグラフ等のクロマトグラフまたはイオン移動度分析計等と、四重極マスフィルタとを組み合わせた装置等の、四重極マスフィルタが適用される任意の装置が含まれる。

上述の実施の形態によれば、次の作用効果が得られる。
（１）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａは、中心軸Ａｘを囲むように配置され四重極を構成する４つの電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄと、中心軸Ａｘから見て、４つの電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄのうち隣り合う各組の電極の間へ向かう方向にそれぞれ少なくとも一つ配置される複数の導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄを取り付ける取り付け部７と、中空部６ａを有し、４つの電極１１および複数の導電部３００を保持する保持部２０ａと、を備え、導電部３００は、導電部３００を構成する材料の弾性を利用して取り付け部７に取り付けられて保持部２０ａに保持される。これにより、導電部３００を取り付ける際にねじ止め等の作業を必ずしも必要とせず、四重極マスフィルタ１０ａの組立、保守を迅速に行うことができる。

（２）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａにおいて、取り付け部７は、保持部２０ａの中空部６ａに面する内周面２１に、内周面２１が中心軸Ａｘから離れる向きにくぼむ凹形状に形成されている。これにより、導電部３００を四重極マスフィルタ１０ａに取り付ける際、取り付け部７の凹形状を利用して導電部３００のおおよその位置決めを行うことができるため、四重極マスフィルタ１０ａの組立または保守を迅速に行うことができる。

（３）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａにおいて、取り付け部７の上記凹形状は、中空部６ａの内周面２１に中心軸に沿って形成されている溝である。これにより、導電部３００を四重極マスフィルタ１０ａに取り付ける際、取り付け部７の矩形の溝を利用して導電部３００のより正確な位置決めを行うことができるため、四重極マスフィルタ１０ａの組立または保守をさらに迅速に行うことができる。

（４）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａにおいて、複数の導電部３００の少なくとも一部は、支持体である環状部分３２により連結されて一体的に構成されている。これにより、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄの取り付けを一度に行えるため、四重極マスフィルタ１０ａの組立または保守をさらに迅速に行うことができる。

（５）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａは、導電部３００を接地するための配線を備える。これにより、四重極マスフィルタ１０ａをイオンが通過する際、導電部３００に入射したイオンによる電極１１に囲まれた空間の電場への影響を低減またはなくすことができる。

（６）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａにおいて、取り付け部７は、隣り合う電極１１のそれぞれに同じ大きさで異なる極性の電圧を印加したときに、導電部３００がゼロ電位となる位置に配置される。これにより、電極１１に囲まれた空間の電場が急激に変化することを防ぎ、導電部３００による当該空間の電場への影響を低減またはなくすことができる。

（７）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ａにおいて、中心軸Ａｘから４つの電極１１の最も近い点までの距離ｒ_ｏよりも、中心軸Ａｘから複数の導電部３００の最も近い点までの距離ｒ１の方が長い。これにより、導電部３００が電極１１に囲まれた空間から離れるため、導電部３００による当該空間の電場への影響を低減またはなくすことができる。

（８）本実施形態に係る分析装置は、四重極マスフィルタ１０ａを備える。これにより、分析装置は、所望のｍ／ｚを有するイオンをより正確に分離することができ、当該イオンの検出量も多くすることができ、さらに上述の効果を奏する。

（９）本実施形態に係る分析装置において、導電部３００は接地される。これにより、導電部３００に入射したイオンによる電極１１に囲まれた空間の電場への影響を低減またはなくすことができる。

次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。以下の変形例において、上述の実施形態と同様の構造、機能を示す部位に関しては、同一の符号で参照し、適宜説明を省略する。
（変形例１）
上述の実施形態では、導電部３００を接地したが、導電部３００の電圧を制御可能にする構成にしてもよい。

図５は、本変形例の四重極マスフィルタ１０ｂの形状を模式的に示す正面図である。四重極マスフィルタ１０ｂは、四重極マスフィルタ１０ａと略同一の構成を有している。しかし、四重極マスフィルタ１０ｂは、導電部３００に電圧を印加するための配線を備え、導電構造体３０ａ、すなわち導電部３００と電圧印加部１５１とが電気的に接続され、電圧印加部１５１が導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄに電圧を印加する点で四重極マスフィルタ１０ａと異なっている。導電構造体３０ａが電圧印加部１５１と電気的に接続されている点を折れ線ｗ３０で模式的に示した。

図６は、本変形例の四重極マスフィルタ１０ｂを備える分析装置１の構成を示す概念図である。分析装置１は、情報処理部４０と、測定部１０００とを備える。

情報処理部４０は、入力部４１と、通信部４２と、記憶部４３と、表示部４４と、制御部５０とを備える。制御部５０は、解析部５１と、装置制御部５２とを備える。装置制御部５２は、電圧設定部５３と、電圧制御部５４とを備える。

測定部１０００は、質量分離部１００と、電圧印加部１５１とを備える。質量分離部１００は、イオン化室１１０と、第１真空室１２０と、第２真空室１３０と、第３真空室１４０とを備える。イオン化室１１０は、試料Ｓが導入される試料導入部１１１を備える。第１真空室１２０は、イオンレンズ１２１を備える。第２真空室１３０はイオンガイド１３１を備える。第３真空室１４０は、プレ四重極マスフィルタ１４１と、四重極マスフィルタ１０ｂと、検出部１４２とを備える。イオン化室１１０の内部は略大気圧となっているが、第１真空室１２０、第２真空室１３０、第３真空室１４０の順に段階的に内部の圧力が低くなっており、第３真空室１４０は１０^−２Ｐａ以下等の高真空となっている。

試料導入部１１１は、試料Ｓをイオン化室１１０へと導入する（矢印Ａ３）。試料導入部１１１は、イオン化部として機能するエレクトロスプレー（ＥＳＩ）プローブを備え、ＥＳＩプローブは試料Ｓを含む液体に高電圧を印加して噴霧し、帯電された液滴を生成する。帯電された液滴は、イオン化室１１０と第１真空室１２０との間に配置され、イオンを引き寄せるための電圧が掛けられたキャピラリ１１２に向かって移動し、その間に脱溶媒され、試料由来のイオンが生成される。キャピラリ１１２を通過したこのイオンは、第１真空室１２０に導入される。

第１真空室１２０に導入されたイオンは、イオンレンズ１２１により集束され、スキマー１２２を通過して第２真空室１３０に導入される。第２真空室１３０に導入されたイオンは、イオンガイド１３１により集束され、アパーチャ電極１３２を通過して第３真空室１４０に導入される。

第３真空室に導入されたイオンは、四重極マスフィルタを備えるプレ四重極マスフィルタ１４１において集束され、四重極マスフィルタ１０ｂに導入される。四重極マスフィルタ１０ｂに導入されたイオンは、電圧印加部１５１が電極１１に印加する電圧により電磁気学的作用を受け、所定のｍ／ｚを有するイオンが選択的に通過する。後述するように、四重極マスフィルタ１０ｂでは電圧印加部１５１が導電部３００の電圧を制御することにより、精度の高い測定が可能になっている。四重極マスフィルタ１０ｂを通過したイオンは検出部１４２へ入射する。
なお、プレ四重極マスフィルタ１４１に導電部３００を配置してもよい。

検出部１４２は、二次電子増倍管等のイオン検出器を備え、四重極マスフィルタ１０ｂを通過したイオンを検出する。検出されたイオン強度を含む検出信号は、不図示のＡ／Ｄ変換器によりＡ／Ｄ変換されて制御部５０に測定データとして出力される（矢印Ａ４）。
なお、イオン化された試料Ｓを四重極マスフィルタ１０ｂを用いて分離することができれば、質量分離部１００の構成等は特に限定されない。

情報処理部４０は、電子計算機等の情報処理装置を備え、適宜ユーザーとのインターフェースとなる他、様々なデータに関する通信、記憶、演算等の処理を行う。
なお、情報処理部４０は、測定部１０００と物理的に離れた位置に配置されてもよい。また、情報処理部４０が用いるデータの一部は遠隔のサーバ等に保存してもよく、情報処理部４０が行う演算処理の一部は遠隔のサーバ等で行ってもよい。

情報処理部４０の入力部４１は、マウス、キーボード、各種ボタンおよび／またはタッチパネル等の入力装置を含んで構成される。入力部４１は、検出するイオンのｍ／ｚの値等の測定条件に関する情報、および制御部５０の行う処理に必要な情報等を、ユーザーから受け付ける。

情報処理部４０の通信部４２は、インターネット等のネットワークを介して無線や有線の接続により通信可能な通信装置を含んで構成される。通信部４２は、測定部１０００の測定に必要なデータを受信したり、制御部５０の解析結果等の制御部５０が処理したデータを送信したり、適宜必要なデータを送受信する。

情報処理部４０の記憶部４３は、不揮発性の記憶媒体を備える。電圧印加部１５１が印加する電圧の時間変化を示すデータ、測定部１０００から出力された測定データ、制御部５０における解析結果に関するデータ、処理部５０が処理を実行するためのプログラム等を記憶する。

情報処理部４０の表示部４４は、液晶モニタ等の表示装置を含んで構成され、分析条件や測定データ、分析結果等についての情報を表示装置に表示する。

情報処理部４０の制御部５０は、ＣＰＵ等のプロセッサを含んで構成される。制御部５０は、測定部１０００の各部の動作の制御や、測定部１０００から出力された測定データの解析等、記憶部４３等に記憶されたプログラムを実行することにより各種処理を行う。

解析部５１は、検出部１４２からの検出信号における検出強度と、当該検出強度が得られた際に質量分離部１００が選択的に分離したｍ／ｚの設定値とから、ｍ／ｚと検出強度とを対応させたマススペクトルのデータを生成する。

解析部５１は、試料由来のイオンの検出量を、当該マススペクトルにおける当該イオンのｍ／ｚに対応するピークの強度から算出する。解析部５１は、例えば、マススペクトルのデータに対しスムージング等の定量性を上げるための処理を行った後、試料由来のイオンに対応するピークの最大強度またはピークの面積を取得し、当該イオンの検出量とする。
なお、解析部５１は、マススペクトルに対応するデータの作成の他、様々な解析を行うことができる。

制御部５０の装置制御部５２は、入力部４１からの入力等に基づいて設定された測定条件に基づいて、測定部１０００の各部の動作を制御する。以下では、選択イオンモニタリング（Ｓｅｌｅｃｔｅｄ ｉｏｎ ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ；以下、ＳＩＭと呼ぶ）において、装置制御部５３が電圧印加部１５１を制御して四重極マスフィルタ１０ｂの導電部３００の電圧を制御する例を説明する。

電圧設定部５３は、分析装置１のユーザー（以下、単に「ユーザー」と呼ぶ）が入力した、質量分離して検出するイオンのｍ／ｚの値に基づいて、測定中のドウェル時間およびポーズ時間において電圧印加部１５１が電極１１および導電部３００に印加する電圧を設定する。

図７（Ａ）は、ドウェル時間およびポーズ時間を説明するための概念図である。ＳＩＭでは、所定の個数のイオンをｍ／ｚに基づいて選択的に検出する。図７（Ａ）では、３種類のイオンを検出する場合の例を示している。３種類のイオンのｍ／ｚの値は、それぞれＭ１、Ｍ２およびＭ３である。

ドウェル時間とは、各イオンを検出部１４２が検出し、測定データを取り込む時間であり、例えば、Ｍ１に対応するイオンのドウェル時間に検出部１４２において検出されたイオンはｍ／ｚがＭ１から誤差範囲内の値を有するものとして解析される。検出するイオンが３種類の場合、３回のドウェル時間と、対応するポーズ時間を合わせて一サイクルとなる。分析装置１がクロマトグラフからの試料Ｓを分析する場合等は、このサイクルが繰り返されることで、各サイクルに対応する保持時間のイオンの検出量を測定することもできる。

ポーズ時間とは、ドウェル時間とドウェル時間との間に、印加する電圧の切替等のために設けられた測定準備期間である。このポーズ時間内に検出部１４２が検出するイオン信号は、印加する電圧が過渡的な状態でのイオン信号となるため、有意な測定データとしては扱うことはなく、実質的に測定を行っていない時間帯となる。電圧印加部１５１は、この間に電極１１が切替後に設定される電圧になるように電圧を印加する。

電圧設定部５３は、ユーザーが入力したｍ／ｚの値に基づいて、電極１１に印加する電圧を設定し、さらにユーザーが入力した測定するイオンの数等に基づいて、ドウェル時間およびポーズ時間を設定する。各ｍ／ｚの値と、当該値に応じて印加する電圧を対応付けたデータが分析装置の記憶部４３に記憶されており、電圧設定部５３は当該データを参照してｍ／ｚに対応する電圧を設定することが好ましい。電圧設定部５３は、ドウェル時間およびポーズ時間として、記憶部４３に記憶されたデータから予め定められた値を設定してもよいし、測定するイオンの数が多い時にはポーズ時間やドウェル時間を測定精度の許容する範囲で短くする等して設定することができる。
なお、電圧設定部５３は、ユーザーが入力した値をドウェル時間およびポーズ時間として設定してもよい。

電圧設定部５３は、設定されたドウェル時間およびポーズ時間に基づいて、導電部３００に印加する電圧の時間変化を設定する。以下では、正イオンを検出する場合の例を示すが、負イオンを検出する場合は設定する電圧の極性を正イオンの場合と逆にすればよい。

図７（Ｂ）は、電圧設定部５３が設定する、導電部３００への印加電圧の時間変化の一例を示すグラフである。電圧設定部５３は、ドウェル時間中は、導電部３００の電圧が０と異なる値になると電極１１に囲まれる空間の電場が乱れ測定精度が低下するため、導電部３００の電圧はゼロに設定する。電圧設定部５３は、ポーズ時間中は、検出するイオンと異なる極性の電圧を導電部３００に印加する。図７（Ｂ）の例では、検出部１４２が正イオンを検出するため、負の電圧をポーズ時間中に導電部３００に印加する。これにより、イオンを導電部３００に引き寄せるため、ポーズ時間中に保持部２０ａ等にイオンが衝突して保持部２０ａが帯電することを防ぐことができる。

図７（Ｃ）は、電圧設定部５３が設定する、導電部３００への印加電圧の時間変化の他の一例を示すグラフである。この場合、電圧設定部５３は、ポーズ時間中は、検出するイオンと同一の極性の電圧を導電部３００に印加する。図７（Ｃ）の例では、検出部１４２が正イオンを検出するため、正の電圧をポーズ時間中に導電部３００に印加する。これにより、導電部３００に異物等が付着した後、当該異物にイオンが衝突して帯電したような場合に、このようなイオンを取り除き、導電部３００の帯電を軽減またはなくすことができる。

電圧制御部５４は、電圧設定部５３が設定した、電極１１に印加する電圧の時間変化および導電部３００に印加する電圧の時間変化に基づいて、電圧印加部１５１を制御し、電圧を印加させる（図６、矢印Ａ５）。電圧印加部１５１は、交流電圧および直流電圧を印加可能な電源装置を備え、交流電圧と直流電圧とを重畳した電圧を電極１１に印加するとともに、直流電圧を導電部３００に印加する（矢印Ａ６）。
なお、電極１１に電圧を印加する電源と導電部３００に電圧を印加する電源とを分け、導電部３００に電圧を印加する電源を直流電源として構成してもよい。

図８は、本実施形態に係る分析方法の流れを示すフローチャートである。ステップＳ１００１において、ユーザー等により分析対象となるイオンのｍ／ｚの値が入力される。ステップＳ１００１が終了したら、ステップＳ１００３に進む。ステップＳ１００３において、電圧設定部５３は、四重極マスフィルタ１０ｂの四重極に印加する電圧の時間変化、ならびにドウェル時間およびポーズ時間を設定する。ステップＳ１００３が終了したら、ステップＳ１００５に進む。

ステップＳ１００５において、電圧設定部５３は、ポーズ時間およびドウェル時間に、導電部３００に印加する電圧の時間変化を設定する。ステップＳ１００５が終了したら、ステップＳ１００７に進む。ステップＳ１００７において、質量分離部１００は、試料Ｓをイオン化する。ステップＳ１００７が終了したら、ステップＳ１００９に進む。

ステップＳ１００９において、質量分離部１００は、イオン化された試料Ｓを、ステップＳ１００３およびＳ１００５で設定された電圧が印加される四重極マスフィルタ１０ｂにより質量分離する。ステップＳ１００９が終了したら、ステップＳ１０１１に進む。ステップＳ１０１１において、検出部１４２は、質量分離された試料Ｓを検出する。ステップＳ１０１１が終了したら、ステップＳ１０１３に進む。

ステップＳ１０１３において、解析部５１は、検出された試料Ｓを解析する。ステップＳ１０１３が終了したら、ステップＳ１０１５に進む。ステップＳ１０１５において、表示部４４は、ステップＳ１０１３の解析で得られた情報を表示する。ステップＳ１０１５が終了したら、処理を終了する。
なお、本変形例ではＳＩＭにおいてポーズ時間に導電部３００の電圧を変化させる例を示したが、実質的に測定を行っていないときであれば、特に限定されずいつでも導電部３００の電圧を変化させることができる。例えば、タンデム四重極質量分析計において前段の四重極マスフィルタおよび／または後段の四重極マスフィルタを四重極マスフィルタ１０ｂとする。前段の四重極マスフィルタで選択的に通過させたイオンを解離させ、当該解離させたイオンのうち特定のイオンを後段の四重極マスフィルタで選択的に通過させて検出する多重反応モニタリング（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ；ＭＲＭ）におけるポーズ時間に、前段および／または後段の四重極マスフィルタ１０ｂの導電部３００に電圧を印加してもよい。このような場合でも好適に保持部２０ａの帯電を防止することができる。

上述の変形例によれば、第１の実施形態により得られる作用効果の他に、次の作用効果が得られる。
（１）本変形例の四重極マスフィルタ１０ｂは、導電部３００に電圧を印加するための配線を備える。これにより、導電部３００の電圧を変化させ、帯電の原因となるイオンを移動させて四重極マスフィルタ１０ｂにおける帯電を防ぐことができ、測定精度を上げることができる。

（２）本変形例の分析装置１は、四重極マスフィルタ１０ｂを通過するイオンを検出する検出部１４２を備え、電圧印加部１５１は、検出部１４２が第一の分析対象を検出する第一測定期間と、検出部１４２が第二の分析対象を検出する第二測定期間との間の、測定を実施していない測定準備期間中に、当該イオンの極性とは異なる極性の電圧を導電部３００に印加する。これにより、帯電の原因となるイオンを導電部３００に引き寄せて四重極マスフィルタ１０ｂにおける帯電を防ぐことができ、測定精度を上げることができる。

（３）本変形例の分析装置１において、電圧印加部１５１は、検出部１４２が上記測定準備期間中に、当該イオンの極性とは同一の極性の電圧を導電部３００に印加する。これにより、導電部３００における帯電を防ぐことができ、測定精度を上げることができる。

（４）本変形例の分析装置１は、導電部３００に電圧を印加する電圧印加部１５１を備える。これにより、導電部３００の電圧を変化させ、帯電の原因となるイオンを移動させて四重極マスフィルタ１０ｂにおける帯電を防ぐことができ、測定精度を上げることができる。

（変形例２）
上述の実施形態では、保持部２０ａは、導電部３００を構成する材料の弾性を利用して導電部３００を保持する構成としたが、ねじ止めと組み合わせて、または弾性を利用せずねじ止めのみにより固定してもよい。このような場合でも、取り付け部７が溝状等の位置決めをしやすい構造をしているため、迅速に導電部３００の取り付けを行うことができる。

（変形例３）
上述の実施形態では、導電部３００は保持部２０ａおよび保持部２０ｚのそれぞれに設けられたが、導電部３００が、保持部２０ａから保持部２０ｚまで延在し、中心軸Ａｘに沿った方向に一体的に構成されていてもよい。このような場合でも、取り付け部７が溝状等の位置決めをしやすい構造をしているため、迅速に導電部３００の取り付けを行うことができる。さらに、導電部３００が保持部２０ａと保持部２０ｚの間も延在するため、中心軸Ａｘからそれたイオンを効率よく取り込むことができる。
なお、この場合、導電部３００ａ、３００ｂ、３００ｃおよび３００ｄは、一体的に構成されていなくてもよい。

（第２の実施形態）
第２の実施形態に係る四重極マスフィルタ１０ｃは、第１の実施形態に係る四重極マスフィルタ１０ａと同様の構成を有しているが、導電部の構成が第１の実施形態とは異なっている。第１の実施形態との同一部分については第１の実施形態と同一の符号で参照し、場合に応じ説明を省略する。

図９（Ａ）および９（Ｂ）は、本実施形態の四重極マスフィルタ１０ｃを示す概念図であり、図９（Ａ）は、正面図であり、図９（Ｂ）は、図１（Ｂ）のＷおよび図９（Ａ）のＦで示される領域のＥ−Ｅ断面図である。

四重極マスフィルタ１０ｃは、保持部２０ｂと、保持部２０ｂに保持された電極１１および導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄを備える。４つの導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄは、中心軸Ａｘを回転軸として４回回転対称となる位置に配置されている。導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄは、上述の実施形態における導電部３００のように一体的に形成されておらず、それぞれ取り付け部７ａ、７ｂ、７ｃおよび７ｄに配置されている。導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄが接地されている点を、それぞれ折れ線ｗ３ａ、ｗ３ｂ、ｗ３ｃおよびｗ３ｄを用いて模式的に示した。

導電部３０１ｂは、図９（Ｂ）に示されるように、保持部２０ｂの中空部６ａの側から見ると、導電性を有する板状の部分が、保持部２０ｂの内周面２１に形成された溝状の凹部である取り付け部７ｂに沿って配置される構成となっている。導電部３０１ａ、３０１ｃおよび３０１ｄについても同様である。

図１０（Ａ）、１０（Ｂ）および１０（Ｃ）は、導電部３０１ａを構成する部品の形状を示す概念図である。図９（Ａ）に示された導電部３０１ａの面を正面とすると、図１０（Ａ）は側面図、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）の矢印Ａ７の方向から見た側面図、図１０（Ｃ）は、斜視図である。図１１は、四重極マスフィルタ１０ｃの四重極および保持部２０ｂの構成を模式的に示す正面図である。保持部２０ｂは、上述の実施形態の保持部２０ａと略同一の構成を有しているが、取り付け部７ａ、７ｂ、７ｃおよび７ｄの底面に略平行に取り付け孔７２ａ、７２ｂ、７２ｃおよび７２ｄが形成されている点で保持部２０ａと異なる。

導電部３０１ａは、金属等の弾性力を有する導電性部材により適宜一体的に構成され、平板状の板状部材３１１と、板状部材３１２と、板状部材３１１と板状部材３１２とを連結する連結部３１３とを備える。板状部材３１２は、連結部３１３に近い部分では板状部材３１１と略平行に形成されているが、連結部３１３から離れるに従い板状部材３１１との間隔が狭くなるように形成されている。板状部材３１１と板状部材３１２との間の最も狭い部分の間隔は、取り付け部７ａと取り付け孔７２ａ（図１１参照）との間隔よりも短くなっている。

導電部３０１ａは、板状部材３１２を取り付け孔７２ａに挿入し、板状部材３１１を取り付け部７ａの中空部６ａ側の面に沿って配置することで取り付けられる。このとき、上述のように板状部材３１１と板状部材３１２との間の最も狭い部分の間隔は、取り付け部７ａと取り付け孔７２ａとの間隔ｄ（図１１）よりも短い。従って、板状部材３１１と板状部材３１２との間隔が広げられていることによる弾性力である挟み込む力が取り付け部７と取り付け孔７２ａの間の隔壁に加わり、この弾性力に伴う静止摩擦力により、導電部３０１ａは保持部２０ｂの内周面２１に固定される。このように、板状部材３１１および３１２ならびに連結部３１３はクリップ機構を構成する。導電部３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄも同様のクリップ機構を備える。四重極マスフィルタ１０ｃでは、複数の導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１こよび３０１ｄのそれぞれはクリップ機構が一体的に設けられ、このクリップ機構により取り付け部７ａ、７ｂ、７ｃおよび７ｄにそれぞれ挟圧されて保持部２０ｂに保持されている。

上述の第２の実施形態によれば、第１の実施形態により得られる作用効果の他に、次の作用効果が得られる。
（１）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ｃにおいて、複数の導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄのそれぞれはクリップ機構が一体的に設けられ、このクリップ機構により取り付け部７２ａ、７２ｂ、７２ｃおよび７２ｄに挟圧されて保持部２０ｂに保持されている。これにより、導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄを、ねじ止め等の作業を必ずしも必要とせず、迅速に位置決めされた取り付けが可能であり、四重極マスフィルタ１０ａの組立、保守を迅速に行うことができる。また、導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄの構造も複雑でないため汎用性の高いものとしやすい。さらに、複数の導電部３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃおよび３０１ｄの電圧をそれぞれ独立して制御することができる。

（第３の実施形態）
第３の実施形態に係る四重極マスフィルタ１０ｄは、第２の実施形態に係る四重極マスフィルタ１０ｃと同様の構成を有しているが、配置される導電部の数が第２の実施形態とは異なっている。第２の実施形態との同一部分については第２の実施形態と同一の符号で参照し、場合に応じ説明を省略する。

図１２は、本実施形態の四重極マスフィルタ１０ｄを模式的に示す正面図である。四重極マスフィルタ１０ｄは、導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌを備える。４つの導電部３０１ｅ、３０１ｇ、３０１ｉおよび３０１ｋは、中心軸Ａｘを回転軸として４回回転対称となる位置に配置されている。４つの導電部３０１ｆ、３０１ｈ、３０１ｊおよび３０１ｌは、中心軸Ａｘを回転軸として４回回転対称となる位置に配置されている。導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌは、それぞれ取り付け部７ｅ、７ｆ、７ｇ、７ｈ、７ｉ、７ｊ、７ｋおよび７ｌに配置されている。導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌは不図示の配線によりそれぞれ接地されているが、上述の電圧印加部により電圧が印加されてもよい。

導電部３０１ｅおよび３０１ｆは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ｄおよび電極１１ａの間へ向かう方向にある位置に配置されている。導電部３０１ｇおよび３０１ｈは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ａおよび電極１１ｂの間へ向かう方向にある位置に配置されている。導電部３０１ｉおよび３０１ｊは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ｂおよび電極１１ｃの間へ向かう方向にある位置に配置されている。導電部３０１ｋおよび３０１ｌは、中心軸Ａｘから見て、隣り合う電極１１ｃおよび電極１１ｄの間へ向かう方向にある位置に配置されている。

このように、８つの導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌは、それぞれ中心軸Ａｘから見て、４つの電極１１のうち隣り合う各組の電極の間へ向かう方向に２つずつ、すなわち複数配置されている。換言すれば、導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌは、中心軸Ａｘを回転軸とした動径方向のうち、電極１１ａ、１１ｂ、１１ｃおよび１１ｄが配置されていない方向にある位置にそれぞれ配置されている。

導電部３０１ｅおよび３０１ｆは、保持部２０ｂの内周面２１に沿って隣り合う電極１１ｄおよび電極１１ａの間に配置されている。導電部３０１ｇおよび３０１ｈは、内周面２１に沿って隣り合う電極１１ａおよび電極１１ｂの間に配置されている。導電部３０１ｉおよび３０１ｊは、内周面２１に沿って隣り合う電極１１ｂおよび電極１１ｃの間に配置されている。導電部３０１ｋおよび３０１ｌは、内周面２１に沿って隣り合う電極１１ｃおよび電極１１ｄの間に配置されている。このように、８つの導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌは、それぞれ４つの電極１１のうち内周面２１に沿って隣り合う電極の間に２つずつ、すなわち複数配置されている。

上述の第３の実施形態によれば、第１および第２の実施形態により得られる作用効果の他に、次の作用効果が得られる。
（１）本実施形態の四重極マスフィルタ１０ｄは、中心軸Ａｘから見て、４つの電極１１のうち隣り合う各組の電極の間へ向かう方向にそれぞれ複数配置された複数の導電部３０１ｅ、３０１ｆ、３０１ｇ、３０１ｈ、３０１ｉ、３０１ｊ、３０１ｋおよび３０１ｌを備える。これにより、電極１１に囲まれる空間内に想定される電場に合わせ、柔軟に導電部を配置することができ、当該空間内の電場の乱れを軽減またはなくすことができる。

本発明は上記実施形態の内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。

１…分析装置、３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ…導電体、６…従来の保持部、６ａ…保持部、７，７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ，７ｅ，７ｆ，７ｇ，７ｈ，７ｉ，７ｊ，７ｋ，７ｌ…取り付け部、９…従来の四重極マスフィルタ、１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ…四重極マスフィルタ、１１，１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ…電極、２０…従来の保持部、２０ａ，２０ｂ，２０ｚ…保持部、３０ａ，３０ｚ…導電構造体、３２…環状部分、４０…情報処理部、５０…制御部、５１…解析部、５２…装置制御部、５３…電圧設定部、５４…電圧制御部、１００…質量分離部、１４２…検出部、１５０，１５１…電圧印加部、３００，３００ａ，３００ｂ，３００ｃ，３００ｄ，３０１ａ，３０１ｂ，３０１ｃ，３０１ｄ，３０１ｅ，３０１ｆ，３０１ｇ，３０１ｈ，３０１ｉ，３０１ｊ，３０１ｋ，３０１ｌ…導電部、３１１，３１２…板状部材、３１３…連結部、１０００…測定部、Ｓ…試料。

Claims (12)

1. 中心軸を囲むように配置され四重極を構成する４つの電極と、
   前記中心軸から見て、前記４つの電極のうち隣り合う各組の電極の間へ向かう方向にそれぞれ少なくとも一つ配置される複数の導電部を取り付ける取り付け部と、
   中空部を有し、前記４つの電極および前記複数の導電部を保持する保持部と、
   を備え、
   前記導電部は、前記導電部を構成する材料の弾性を利用して前記取り付け部に取り付けられて前記保持部に保持される四重極マスフィルタ。
2. 請求項１に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記取り付け部は、前記保持部の前記中空部に面する内周面に、前記内周面が前記中心軸から離れる向きにくぼむ凹形状に形成されている四重極マスフィルタ。
3. 請求項２に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記取り付け部の前記凹形状は、前記中空部の内周面に前記中心軸に沿って形成されている溝である四重極マスフィルタ。
4. 請求項１から３までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記複数の導電部の少なくとも一部は、支持体により連結されて一体的に構成される四重極マスフィルタ。
5. 請求項１から３までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記複数の導電部のそれぞれはクリップ機構が一体的に設けられ、前記クリップ機構により前記取り付け部に挟圧されて前記保持部に保持される四重極マスフィルタ。
6. 請求項１から５までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記導電部を接地するため、または前記導電部に電圧を印加するための配線を備える四重極マスフィルタ。
7. 請求項１から６までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記取り付け部は、前記隣り合う電極のそれぞれに同じ大きさで異なる極性の電圧を印加したときに、前記導電部がゼロ電位となる位置に配置される四重極マスフィルタ。
8. 請求項１から７までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタにおいて、
   前記中心軸から前記４つの電極の最も近い点までの距離よりも、前記中心軸から、前記取り付け部に配置された前記複数の導電部の最も近い点までの距離の方が長い四重極マスフィルタ。
9. 請求項１から８までのいずれか一項に記載の四重極マスフィルタを備える分析装置。
10. 請求項９に記載の分析装置において、
    前記導電部は接地される分析装置。
11. 請求項９に記載の分析装置において、
    前記導電部に電圧を印加する電圧印加部を備える分析装置。
12. 請求項１１に記載の分析装置において、
    前記四重極マスフィルタを通過したイオンを検出する検出部を備え、
    前記電圧印加部は、前記検出部が第一の分析対象を検出する第一測定期間と、前記検出部が第二の分析対象を検出する第二測定期間との間の、測定を実施していない測定準備期間中に、前記イオンの極性とは同一のまたは異なる極性の電圧を前記導電部に印加する分析装置。

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