JP6953229B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6953229B2 JP6953229B2 JP2017154880A JP2017154880A JP6953229B2 JP 6953229 B2 JP6953229 B2 JP 6953229B2 JP 2017154880 A JP2017154880 A JP 2017154880A JP 2017154880 A JP2017154880 A JP 2017154880A JP 6953229 B2 JP6953229 B2 JP 6953229B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- chip
- circuit
- transistor
- memory
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 59
- 238000013473 artificial intelligence Methods 0.000 claims description 21
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 12
- 230000006870 function Effects 0.000 description 33
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 238000003491 array Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 101100127285 Drosophila melanogaster unc-104 gene Proteins 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- 101000885321 Homo sapiens Serine/threonine-protein kinase DCLK1 Proteins 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100039758 Serine/threonine-protein kinase DCLK1 Human genes 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000000547 structure data Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007610 Zn—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000013527 convolutional neural network Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000013178 mathematical model Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011176 pooling Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003079 width control Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Description
本実施の形態では、人工知能のための演算機能を有する半導体装置、および当該半導体装置が搭載される電子機器などについて説明する。人工知能の演算処理とは、例えば、機械学習、ニューラルネットワークなどのAIに関する数理モデルに基づく演算処理である。
oxAIチップ120は、oxトランジスタが用いられたAIの演算処理が可能なICチップである。oxAIチップ120が使用するデータには、重み係数データ(学習可能なデータ)、画像データ、教師データなどがある。oxAIチップ120の演算結果は、例えば、推論データとして出力される。
例えば、半導体装置100は、評価ボードとして用いることができる。図4A、図4Bは、評価ボードの構成例の斜視模式図である。
ここでは、oxAIチップが組み込まれた電子機器について説明する。
本実施の形態では、oxAIチップの具体的な構成例を説明する。
ここでは、アナログ演算を利用した超並列コンピューティングが可能なoxAIチップ400について説明する。oxAIチップ400は、全結合型ニューラルネットワーク(FCNN)に非常に有利である。oxAIチップ400の構成例、動作方法例の理解を容易にするため、図5に示すFCNNが回路によって構成されているとする。図5に示すFCNNは、1個の隠れ層をもつ。入力層、隠れ層、出力層のユニット数はそれぞれ1024、128、32である。活性化関数にはReLU(Rectified Liner Unit)が用いられている。oxAIチップ400のFCNNは、例えば、手書き文字認識、汎用AIに適用される。
図7を参照して、MACアレイ405の回路構成例を説明する。MACアレイ405には、1024行144列の行列状に乗算回路40が設けられている。乗算回路40は、図2Bのoxメモリ回路12と同じ回路構成である。つまり、乗算回路40は、演算回路と、重み係数を記憶する不揮発性ローカルメモリ回路双方の機能を持つ。このことにより、oxAIチップ400は、GPUと比べて非常に少ないトランジスタ数によって、超並列演算を実現できる。トランジスタ数の低減は、oxAIチップ400の小型化、消費電力の低減につながる。
ADC408には、MACアレイ406から32のアナログデータが並列に入力される。ADC408は、シリアルパラレル変換を行うため、出力段にレジスタを備える。ADC408は、1チャネルの8ビットデジタルデータを出力する。
ここで示すoxAIチップ450は、プログラマブルNNを構成できる。oxAIチップ450が演算するデータの形式はデジタルである。oxAIチップ450の演算回路は、専用の不揮発性ローカルメモリ回路を有し、不揮発性ローカルメモリはoxメモリ回路で構成されている。oxAIチップ450のNNは、例えば、各種画像処理(例えば、ノイズ除去、高解像度化)、物体認識、汎用AIとして用いることができる。
図9〜図13を参照して、演算回路アレイ470について説明する。図9に示すように、演算回路アレイ470は、複数の演算回路21、複数のスイッチ回路22が行列状に設けられている。演算回路21、スイッチ回路22はプログラマブル回路である。演算回路アレイ470の処理内容に合わせて、演算回路21は回路構成される。演算回路アレイ470の処理内容に合わせて、スイッチ回路22の回路構成を変更することにより、演算回路21の接続関係が変更される。
図13A、図13Bを参照して、スイッチ回路22を説明する。図13Aに示すように、スイッチ回路22には、8個のスイッチ回路25が設けられている。データsoutの出力用配線26Sは、配線U、D、L、Rのうちの何れか1に電気的に接続される。データacoutの出力用配線26Aについても同様である。
100:半導体装置、 110:データバス、 112:I/O(入出力)インターフェース、 114:メモリ部、 115:FPGAチップ、120:oxAIチップ、
121A、121B、121C:回路部、 150:周辺機器、
200、202:評価ボード、 202:評価ボード、 210、212:ボード、
220、222:oxAIチップ、 225:GPUチップ、 231、232:メモリチップ、 235、236:FPGAチップ、 240:PCIeコネクタ、 242:USBコネクタ、 244:HDMI入力コネクタ、 244:HDMI入力コネクタ、 245:HDMI出力コネクタ、
250A、250B、252A、252B:コネクタ
Claims (1)
- 第1プロセッサチップと、
第2プロセッサチップと、
メモリ部と、
データバスと、を有し、
前記第1プロセッサチップ、前記第2プロセッサチップ、および前記メモリ部は、それぞれ、前記データバスと電気的に接続され、
前記第1プロセッサチップは、人工知能の演算を行う演算回路アレイを有し、
前記演算回路アレイは、複数の演算回路を有し、
前記演算回路は、複数のメモリ回路を有し、
前記複数のメモリ回路は、それぞれ、複数のメモリセルを有し、
前記複数のメモリセルは、それぞれ、保持ノードと、前記保持ノードへのデータの書き込みを制御するトランジスタを有し、
前記トランジスタのチャネル形成領域は金属酸化物を有し、
前記第2プロセッサチップは、CPUコアを有することを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017154880A JP6953229B2 (ja) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017154880A JP6953229B2 (ja) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019033234A JP2019033234A (ja) | 2019-02-28 |
JP6953229B2 true JP6953229B2 (ja) | 2021-10-27 |
Family
ID=65524442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017154880A Active JP6953229B2 (ja) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6953229B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06274661A (ja) * | 1993-03-18 | 1994-09-30 | Hitachi Ltd | シナプス回路およびそれを用いたニューラルネットワークシステム |
JP3737841B2 (ja) * | 1995-08-22 | 2006-01-25 | 株式会社ジャストシステム | ニューラルネットワーク |
US7533071B2 (en) * | 2005-06-28 | 2009-05-12 | Neurosciences Research Foundation, Inc. | Neural modeling and brain-based devices using special purpose processor |
CN106298794B (zh) * | 2010-08-27 | 2019-07-30 | 株式会社半导体能源研究所 | 存储器件及半导体器件 |
JP6714582B2 (ja) * | 2015-04-21 | 2020-06-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP6674838B2 (ja) * | 2015-05-21 | 2020-04-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 電子装置 |
KR20170025715A (ko) * | 2015-08-31 | 2017-03-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 시냅스 및 이를 포함하는 뉴로모픽 장치 |
KR102609997B1 (ko) * | 2015-10-23 | 2023-12-06 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 모듈 및 전자 기기 |
WO2017073000A1 (ja) * | 2015-10-29 | 2017-05-04 | 株式会社Preferred Networks | 情報処理装置及び情報処理方法 |
-
2017
- 2017-08-10 JP JP2017154880A patent/JP6953229B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019033234A (ja) | 2019-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7502503B2 (ja) | 演算装置 | |
JP7169856B2 (ja) | 半導体装置、及びダイナミックロジック回路 | |
JP6545541B2 (ja) | 撮像装置、監視装置、及び電子機器 | |
TWI672045B (zh) | 攝像裝置、監視裝置、以及電子裝置 | |
JP2019046199A (ja) | プロセッサ、および電子機器 | |
JP7179740B2 (ja) | 電子機器 | |
JP7337782B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2023062156A (ja) | 半導体装置 | |
US20220157384A1 (en) | Pulse-Width Modulated Multiplier | |
US20220392925A1 (en) | Semiconductor device | |
JP7110223B2 (ja) | 給電装置およびその動作方法 | |
CN113593622B (zh) | 存内计算装置及运算装置 | |
JP2019033233A (ja) | 半導体装置、および電子機器 | |
JP6953229B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20220072005A (ko) | 멀티플렉서 및 이를 포함하는 반도체 장치 | |
US11908947B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2019046337A (ja) | 半導体装置 | |
JP6360617B2 (ja) | メモリ・デバイスのためのバス回路 | |
US20220013155A1 (en) | Switched capacitor multiplier for compute in-memory applications | |
US20220276839A1 (en) | Semiconductor device | |
US20220384433A1 (en) | Semiconductor device | |
CN112836812A (zh) | 基于浮栅晶体管的神经元网络 | |
Suárez et al. | Offset-compensated comparator with full-input range in 150nm FDSOI CMOS-3D technology |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200702 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210615 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210617 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210929 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6953229 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |