JP6937364B2 - 真空蒸着のための装置および方法 - Google Patents
真空蒸着のための装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6937364B2 JP6937364B2 JP2019504124A JP2019504124A JP6937364B2 JP 6937364 B2 JP6937364 B2 JP 6937364B2 JP 2019504124 A JP2019504124 A JP 2019504124A JP 2019504124 A JP2019504124 A JP 2019504124A JP 6937364 B2 JP6937364 B2 JP 6937364B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal alloy
- additional element
- crucible
- vapor deposition
- deposition equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 13
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 79
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 27
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 16
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical group [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 229910009369 Zn Mg Inorganic materials 0.000 description 3
- PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N [Mg].[Zn] Chemical compound [Mg].[Zn] PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 238000001912 gas jet deposition Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007573 Zn-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/548—Controlling the composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
−蒸気ジェットコータと、
−主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む蒸気を蒸気ジェットコータに供給するのに適した蒸発るつぼと、
−溶融状態の主要素を蒸発るつぼに供給するのに適しており、蒸発るつぼ内の液体のレベルを一定に維持することが可能な再充填炉と、
−少なくとも1つの追加要素を固体状態で供給するのに適しており、蒸発るつぼに少なくとも1つの追加要素を、溶融状態、固体状態、または部分的に固体状態には無関係に、供給するのに適している供給ユニットと、を備える。
すなわち、
−供給ユニットは供給管を含む、
−供給管の下端は蒸発るつぼ内の液体の高さより低い、
−蒸発るつぼは、その上に供給管が接続されるカバーを含む、
−供給管は、一方では少なくとも1つの追加要素が加熱されている間それを保持し、他方では蒸発るつぼ内でそれを放出するのに適したインゴットホルダを備える、
−インゴットホルダは断面がU字形の弁である、
−供給管は、少なくとも供給管の下部に、蒸発るつぼ内の圧力より高い圧力を提供するのに適した不活性ガス入口を含む、
−供給ユニットは予熱炉を含む、
−供給ユニットは加熱装置を含む、
−蒸気ジェットコータは音速蒸気ジェットコータである、
−蒸気ジェットコータの蒸気の供給は、蒸気るつぼを蒸気ジェットコータに接続する蒸発管を通して行われる、
−再充電炉は蒸発るつぼの下に配置され、大気圧に維持されるように適合されている、
−蒸発るつぼの主要素の供給は、蒸発るつぼに再充電炉を接続する管を通して行われる、
−蒸発るつぼは誘導加熱器を含む、
−再充電炉は金属インゴット供給手段に接続されている、
ことである。
−(i)金属合金浴に溶融状態の主要素を供給するステップと、
−(ii)少なくとも1つの追加要素を金属合金浴の上方で固体状態で加熱し、溶融状態、固体状態、または部分的に固体状態には無関係に、少なくとも1つの追加要素を金属合金浴に供給するステップと、
−(iii)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金浴を蒸発させるステップと、
−(iv)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む蒸気を用いて基材に噴霧するステップと、
−(v)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金層を基材上に連続して堆積させるステップと、
を含む。
−(i)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金浴を蒸発させるステップと、
−(ii)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む蒸気を用いて基材に噴霧するステップと、
−(iii)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金層を基材上に連続して堆積させるステップと、を含む。
金属合金浴は、一方では主要素を溶融状態で供給され、他方では少なくとも1つの追加要素を少なくとも部分的に固体状態で供給される。
−蒸気が音速で基材に噴霧されることと、
−金属合金浴に、主要素が連続的して供給されることと、
−連続供給は気圧効果によって行われることと、
−少なくとも1つの追加要素を金属合金浴の上方で加熱する前に、少なくとも1つの追加要素の表面に存在する可能性がある酸化物が除去されることと、
−酸化物の除去は化学研磨によって行われることと、
−金属合金浴に少なくとも1つの追加要素を不連続に供給することと、
−少なくとも1つの追加要素はインゴットの形態であることと、
−インゴットのサイズおよび/または供給頻度を制御することによって、金属合金浴は経時的に一定の組成に維持されることと、
−金属合金浴に少なくとも1つの追加要素を連続して供給することと、
−少なくとも1つの追加要素がワイヤの形態であることと、
−金属合金浴は、ワイヤの直径および/または供給速度を制御することによって経時的に一定の組成に維持されることと、
−少なくとも1つの追加要素は、主要素よりも低い密度を有することと、
−主要素は亜鉛であることと、
−少なくとも1つの追加要素はマグネシウムであることと、
−方法は、8重量%から43重量%のマグネシウム含有量を有する亜鉛系金属合金の浴を蒸発させることにより、0.1重量%〜20重量%のマグネシウム含有量を有する亜鉛系金属合金の層を前記基材上に連続して堆積させること、
である。
−溶融状態で供給することにより、蒸発るつぼに主要素を連続して供給と、同時に、
−固体、あるいは部分的に溶融、または完全に溶融には無関係な状態で、維持することができるインゴットまたはワイヤに基づいた追加要素(複数可)の非常に適応性のある供給と、を利用する。
−追加要素(複数可)と、金属合金浴との温度差を制限することを選ぶことで、追加要素(複数可)が浴中に導入される際に浴は冷却されず、かつ堆積速度も低下されない場合、追加要素(複数可)は有利に溶融する、
−供給管の内面上での追加要素(複数可)の堆積を回避することを選んだ場合、追加要素(複数可)は、浴温度に近い温度まで有利に暖められるが、固体状態に維持されることになる、
−妥協点が必要な場合、追加要素(複数可)は部分的に溶融することが有利であろう。
−(i)主要素と、追加要素(複数可)とを含む金属合金浴を蒸発させる、
−(ii)主要素と、追加要素(複数可)とを含む蒸気を基材に噴霧する、
−(iii)主要素と、追加要素(複数可)とを含む金属合金層を基材上に連続して堆積させることが可能である。
−追加要素(複数可)におけるワイヤの直径および/または供給速度の適切な制御によって、経時的に浴の組成を一定に保つことを可能にする。
Claims (32)
- 主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金から形成されたコーティングを走行中の基材(S)上に連続して堆積させるための真空蒸着設備(1)であって、真空蒸着チャンバ(2)と、チャンバ内を通るように基材を走行させるための手段とを備え、真空蒸着設備は、
−蒸気ジェットコータ(3)と、
−主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む蒸気を蒸気ジェットコータに供給するのに適した蒸発るつぼ(4)と、
−溶融状態の主要素を蒸発るつぼに供給するのに適しており、蒸発るつぼ内の液体のレベルを一定に維持することが可能な再充填炉(9)と、
−少なくとも1つの追加要素が固体状態で供給されるのに適している供給ユニット(11)であって、蒸発るつぼに少なくとも1つの追加要素を、溶融状態、固体状態、または部分的に固体状態には無関係に、供給するのに適している供給ユニット(11)と、をさらに備え、
蒸気ジェットコータ(3)は、走行中の基材(S)上に蒸気を噴霧するように構成されており、
蒸気ジェットコータ(3)は、蒸発るつぼに取り付けられており、
蒸発るつぼ(4)は、ポット(5)、カバー(6)、およびカバーの一方の側と、蒸気ジェットコータ(3)の他方の側とに接続された蒸発管(7)で構成されており、
蒸発るつぼ(4)は加熱手段(8)を備えており、これにより蒸気を形成して蒸気ジェットコータ(3)に供給することを可能にし、
蒸着チャンバ(2)内の圧力は蒸発るつぼ内の圧力よりも低く保たれることにより、蒸気を発生させ、蒸発管(7)を介して蒸気ジェットコータ(3)に蒸気を送ることが可能である、真空蒸着設備(1)。 - 供給ユニット(11)が供給管(12)を含む、請求項1に記載の真空蒸着設備。
- 供給管(12)の下端が、蒸発るつぼ(4)内の液体のレベルよりも低い、請求項2に記載の真空蒸着設備。
- 蒸発るつぼ(4)がカバー(6)を含み、その上に供給管(12)が接続されている、請求項2または3のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 供給管(12)が、一方では少なくとも1つの追加要素が加熱されている間それを保持し、他方では蒸発るつぼ(4)内でそれを放出するのに適したインゴットホルダ(15)を備える、請求項2または4のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- インゴットホルダ(15)が、U字形の断面を有する弁である、請求項5に記載の真空蒸着設備。
- 供給管(12)が、少なくとも供給管の下部において、蒸発るつぼ(4)内の圧力より高い圧力を提供するのに適した不活性ガス入口(13)を備える、請求項2〜6のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 供給ユニット(11)が予熱炉を備える、請求項1から7のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 供給ユニット(11)が加熱装置(14)を備える、請求項1から8のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 蒸気ジェットコータ(3)が音速蒸気ジェットコータである、請求項1から9のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 蒸気ジェットコータ(3)の蒸気の供給が、蒸気るつぼ(4)を蒸気ジェットコータ(3)に接続する蒸発管(7)を介して行われる、請求項1から10のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 再充填炉(9)が蒸発るつぼ(4)の下に配置され、大気圧に維持されるように適合されている、請求項1〜11のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 蒸発るつぼ(4)の主要素の供給が、蒸発るつぼ(4)上に再充填炉(9)を接続する管(10)を通して行われる、請求項1〜12のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 蒸発るつぼ(4)が誘導加熱器(8)を含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 再充填炉(9)が、金属インゴット供給手段に接続されている、請求項1〜14のいずれか一項に記載の真空蒸着設備。
- 請求項1〜15のいずれか一項に記載の真空蒸着設備を用いて、基材をコーティングするための方法であって、
−(i)金属合金浴に溶融状態の主要素を供給するステップと,
−(ii)少なくとも1つの追加要素を金属合金浴の上方で固体状態で加熱し、溶融状態、固体状態、または部分的に固体状態には無関係に、少なくとも1つの追加要素を金属合金浴に供給するステップと、
−(iii)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金浴を蒸発させるステップと、
−(iv)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む蒸気を用いて基材に噴霧するステップと、
−(v)主要素と、少なくとも1つの追加要素と、を含む金属合金層を基材上に連続して堆積させるステップと、を含む、基材をコーティングするための方法。 - 請求項1〜15のいずれか一項に記載の真空蒸着設備を用いて、基材をコーティングするための方法であって、
−(i)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金浴を蒸発させるステップと、
−(ii)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む蒸気を用いて基材に噴霧するステップと、
−(iii)主要素と、少なくとも1つの追加要素とを含む金属合金層を基材上に連続して堆積するステップを含み、
金属合金浴が、一方では主要素を溶融状態で気圧効果によって連続して供給され、他方では少なくとも1つの追加要素を少なくとも部分的に固体状態で供給される、基材をコーティングするための方法。 - 蒸気が音速で基材上に噴霧される、請求項16または17に記載の方法。
- 金属合金浴に連続して主要素が供給される、請求項16に記載の方法。
- 連続供給が気圧効果によって行われる、請求項19に記載の方法。
- 少なくとも1つの追加要素を金属合金浴の上方で加熱する前に、少なくとも1つの追加要素の表面に存在する可能性がある酸化物が除去される、請求項16〜20のいずれか一項に記載の方法。
- 酸化物の除去が化学研磨によって行われる、請求項21に記載の方法。
- 金属合金浴に少なくとも1つの追加要素が不連続的に供給される、請求項16〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つの追加要素がインゴットの形態である、請求項23に記載の方法。
- インゴットのサイズおよび/または供給頻度を制御することによって、金属合金浴は経時的に一定の組成に維持される、請求項23に記載の方法。
- 金属合金浴に少なくとも1つの追加要素が連続的に供給される、請求項16〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つの追加要素がワイヤの形態である、請求項26に記載の方法。
- ワイヤの直径および/または供給速度を制御することによって、金属合金浴が経時的に一定の組成に維持される、請求項27に記載の方法。
- 少なくとも1つの追加要素が、主要素よりも低い密度を有する、請求項16〜28のいずれか一項に記載の方法。
- 主要素が亜鉛である、請求項16〜29のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも1つの追加要素がマグネシウムである、請求項30に記載の方法。
- 8重量%から43重量%のマグネシウム含有量を有する亜鉛系金属合金の浴を蒸発させることによって、0.1〜20重量%のマグネシウム含有量を有する亜鉛系金属合金の層を連続して前記基材に堆積させることを含む、請求項31に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IBPCT/IB2016/054477 | 2016-07-27 | ||
PCT/IB2016/054477 WO2018020296A1 (en) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | Apparatus and method for vacuum deposition |
PCT/IB2017/000876 WO2018020311A1 (en) | 2016-07-27 | 2017-07-27 | Apparatus and method for vacuum deposition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019523345A JP2019523345A (ja) | 2019-08-22 |
JP6937364B2 true JP6937364B2 (ja) | 2021-09-22 |
Family
ID=56609882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019504124A Active JP6937364B2 (ja) | 2016-07-27 | 2017-07-27 | 真空蒸着のための装置および方法 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11319626B2 (ja) |
EP (1) | EP3523456B1 (ja) |
JP (1) | JP6937364B2 (ja) |
KR (3) | KR102535908B1 (ja) |
CN (1) | CN109496240A (ja) |
AU (1) | AU2017303961B2 (ja) |
CA (1) | CA3027481C (ja) |
FI (1) | FI3523456T3 (ja) |
HU (1) | HUE066966T2 (ja) |
MA (1) | MA46443B1 (ja) |
MX (1) | MX2019000961A (ja) |
PL (1) | PL3523456T3 (ja) |
RU (1) | RU2706830C1 (ja) |
UA (1) | UA122540C2 (ja) |
WO (2) | WO2018020296A1 (ja) |
ZA (1) | ZA201808211B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019239192A1 (en) * | 2018-06-15 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
CN110004411B (zh) * | 2019-03-29 | 2021-05-11 | 北京钢研新冶工程设计有限公司 | 一种合金镀膜方法 |
CN112553577A (zh) | 2019-09-26 | 2021-03-26 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种提高真空镀膜收得率的真空镀膜装置 |
CN112553578B (zh) | 2019-09-26 | 2022-01-14 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有抑流式喷嘴的真空镀膜装置 |
CN112575308B (zh) | 2019-09-29 | 2023-03-24 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种能在真空下带钢高效镀膜的真空镀膜装置 |
CN113684479A (zh) * | 2020-05-19 | 2021-11-23 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种利用电磁搅拌器搅拌的涂镀方法及合金真空沉积装置 |
EP4162091A1 (en) * | 2020-06-04 | 2023-04-12 | Applied Materials, Inc. | Vapor deposition apparatus and method for coating a substrate in a vacuum chamber |
CN113957390B (zh) * | 2020-07-21 | 2024-03-08 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有气垫缓冲腔的真空镀膜装置 |
CN113957392B (zh) | 2020-07-21 | 2022-09-20 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
CN113957391B (zh) * | 2020-07-21 | 2023-09-12 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
CN113957388B (zh) | 2020-07-21 | 2022-08-16 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种采用导流板式结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
WO2023062410A1 (en) * | 2021-10-14 | 2023-04-20 | Arcelormittal | Vapour nozzle for pvd |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2665229A (en) * | 1951-11-05 | 1954-01-05 | Nat Res Corp | Method of coating by vapor deposition |
US5002837A (en) | 1988-07-06 | 1991-03-26 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Zn-Mg alloy vapor deposition plated metals of high corrosion resistance, as well as method of producing them |
JPH02138462A (ja) * | 1988-11-16 | 1990-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜製造装置 |
DE69012667T2 (de) * | 1989-06-19 | 1995-05-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zum Zuleiten von Vakuumverdampfungsgut und Vorrichtung zu dessen Durchführung. |
CA2036810A1 (en) | 1990-03-02 | 1991-09-03 | Thomas F. Sawyer | Method of forming article with variable alloy composition |
US5077090A (en) * | 1990-03-02 | 1991-12-31 | General Electric Company | Method of forming dual alloy disks |
US5195651A (en) | 1991-06-26 | 1993-03-23 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Ball feeder for replenishing evaporator feed |
ES2110094T3 (es) * | 1992-05-11 | 1998-02-01 | Sumitomo Electric Industries | Material de deposicion en forma de vapor y metodo para la produccion del mismo. |
JPH06306583A (ja) * | 1993-04-16 | 1994-11-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 蒸着用材料及びその製造方法 |
BE1010351A6 (fr) | 1996-06-13 | 1998-06-02 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'une vapeur metallique. |
US6251233B1 (en) | 1998-08-03 | 2001-06-26 | The Coca-Cola Company | Plasma-enhanced vacuum vapor deposition system including systems for evaporation of a solid, producing an electric arc discharge and measuring ionization and evaporation |
US7891315B2 (en) * | 2005-09-09 | 2011-02-22 | Sulzer Metco Ag | Powder supply system |
US20070098891A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Eastman Kodak Company | Vapor deposition apparatus and method |
US20070141233A1 (en) | 2005-12-21 | 2007-06-21 | United Technologies Corporation | EB-PVD system with automatic melt pool height control |
EP1972699A1 (fr) | 2007-03-20 | 2008-09-24 | ArcelorMittal France | Procede de revetement d'un substrat et installation de depot sous vide d'alliage metallique |
KR101182907B1 (ko) | 2007-10-09 | 2012-09-13 | 파나소닉 주식회사 | 성막 방법 및 성막 장치 |
EP2199425A1 (fr) * | 2008-12-18 | 2010-06-23 | ArcelorMittal France | Générateur de vapeur industriel pour le dépôt d'un revêtement d'alliage sur une bande métallique (II) |
KR101172275B1 (ko) | 2009-12-31 | 2012-08-08 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 기화 장치 및 이의 제어 방법 |
US8252117B2 (en) * | 2010-01-07 | 2012-08-28 | Primestar Solar, Inc. | Automatic feed system and related process for introducing source material to a thin film vapor deposition system |
PL2663665T3 (pl) | 2011-01-14 | 2015-08-31 | Arcelormittal Investig Y Desarrollo | Automatyczne urządzenie podające płynny metal dla przemysłowego generatora pary metalicznej |
CN104220627B (zh) | 2012-03-23 | 2016-08-03 | 亚历山大·亚历山大罗维奇·库拉科夫斯基 | 用于细长制品上涂覆涂层的装置 |
CN104395495B (zh) * | 2012-03-30 | 2016-08-24 | 塔塔钢铁荷兰科技有限责任公司 | 用于将液态金属供给到蒸发器装置的方法和设备 |
KR101461738B1 (ko) | 2012-12-21 | 2014-11-14 | 주식회사 포스코 | 가열장치 및 이를 포함하는 코팅 시스템 |
US10131983B2 (en) * | 2013-11-05 | 2018-11-20 | Tata Steel Nederland Technology B.V. | Method and apparatus for controlling the composition of liquid metal in an evaporator device |
KR102098452B1 (ko) * | 2017-09-11 | 2020-04-07 | 주식회사 포스코 | 건식 도금 장치 및 건식 도금 방법 |
CN112538604B (zh) * | 2019-09-23 | 2022-09-16 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种真空镀膜补液和稳定金属蒸汽供应量的装置及其方法 |
-
2016
- 2016-07-27 WO PCT/IB2016/054477 patent/WO2018020296A1/en active Application Filing
-
2017
- 2017-07-27 FI FIEP17752165.5T patent/FI3523456T3/fi active
- 2017-07-27 US US16/318,563 patent/US11319626B2/en active Active
- 2017-07-27 HU HUE17752165A patent/HUE066966T2/hu unknown
- 2017-07-27 UA UAA201901930A patent/UA122540C2/uk unknown
- 2017-07-27 KR KR1020217005918A patent/KR102535908B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-27 MX MX2019000961A patent/MX2019000961A/es unknown
- 2017-07-27 PL PL17752165.5T patent/PL3523456T3/pl unknown
- 2017-07-27 KR KR1020237016624A patent/KR102686074B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-27 MA MA46443A patent/MA46443B1/fr unknown
- 2017-07-27 KR KR1020197001836A patent/KR20190020103A/ko active Application Filing
- 2017-07-27 CN CN201780046572.5A patent/CN109496240A/zh active Pending
- 2017-07-27 CA CA3027481A patent/CA3027481C/en active Active
- 2017-07-27 EP EP17752165.5A patent/EP3523456B1/en active Active
- 2017-07-27 RU RU2019105474A patent/RU2706830C1/ru active
- 2017-07-27 WO PCT/IB2017/000876 patent/WO2018020311A1/en active Application Filing
- 2017-07-27 JP JP2019504124A patent/JP6937364B2/ja active Active
- 2017-07-27 AU AU2017303961A patent/AU2017303961B2/en active Active
-
2018
- 2018-12-05 ZA ZA2018/08211A patent/ZA201808211B/en unknown
-
2022
- 2022-04-01 US US17/711,260 patent/US11781213B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109496240A (zh) | 2019-03-19 |
UA122540C2 (uk) | 2020-11-25 |
US20220228252A1 (en) | 2022-07-21 |
KR20190020103A (ko) | 2019-02-27 |
AU2017303961B2 (en) | 2020-04-16 |
KR102535908B1 (ko) | 2023-05-26 |
KR20230075522A (ko) | 2023-05-31 |
MA46443A (fr) | 2019-08-14 |
KR102686074B1 (ko) | 2024-07-17 |
ZA201808211B (en) | 2019-07-31 |
WO2018020311A1 (en) | 2018-02-01 |
HUE066966T2 (hu) | 2024-09-28 |
US20190242006A1 (en) | 2019-08-08 |
KR20210024690A (ko) | 2021-03-05 |
PL3523456T3 (pl) | 2024-06-24 |
JP2019523345A (ja) | 2019-08-22 |
MX2019000961A (es) | 2019-08-01 |
BR112018076292A2 (pt) | 2019-03-26 |
AU2017303961A1 (en) | 2019-01-03 |
EP3523456A1 (en) | 2019-08-14 |
RU2706830C1 (ru) | 2019-11-21 |
WO2018020296A1 (en) | 2018-02-01 |
MA46443B1 (fr) | 2024-05-31 |
CA3027481C (en) | 2021-07-06 |
FI3523456T3 (fi) | 2024-05-15 |
EP3523456B1 (en) | 2024-04-17 |
US11319626B2 (en) | 2022-05-03 |
US11781213B2 (en) | 2023-10-10 |
CA3027481A1 (en) | 2018-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6937364B2 (ja) | 真空蒸着のための装置および方法 | |
JP5873621B2 (ja) | 基材をコーティングするためのプロセスおよび金属合金真空蒸着装置 | |
CA2702188C (en) | Industrial vapour generator for the deposition of an alloy coating onto a metal strip | |
JP2021526592A (ja) | 基板コーティング用真空蒸着設備及び方法 | |
KR101487631B1 (ko) | 용융 아연 도금 강판 제조 장치 및 용융 아연 도금 강판 제조 방법 | |
BR112018076292B1 (pt) | Instalação de deposição a vácuo e processo para revestir um substrato | |
US9051642B2 (en) | Process for coating a substrate, plant for implementing the process and feeder for feeding such a plant with metal | |
JP7128281B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
JPH0688214A (ja) | 蒸着めっき方法 | |
JPH09143734A (ja) | 連続真空蒸着装置における無効蒸着物付着防止装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190304 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200225 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210202 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210426 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210824 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210830 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6937364 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |