JP6930946B2 - 成形型クリーニング装置、成形型クリーニング方法、樹脂成形装置、及び樹脂成形品製造方法 - Google Patents
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Description
1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.1J/cm 2 、パルス幅が50〜120nsecであるパルスレーザビームを、隣接パルスレーザビームの重なり率が98%以上100%未満、1秒あたりの走査レーザパワー密度が5〜11W/cm 2 となるように前記成形型に対して移動させながら該成形型に照射することでプラズマを生成することにより、前記付着物が含有する樹脂を気化させる温度まで加熱するレーザビーム照射機構を備えることを特徴とする。
1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.1J/cm 2 、パルス幅が50〜120nsecであるパルスレーザビームを、隣接パルスレーザビームの重なり率が98%以上100%未満、1秒あたりの走査レーザパワー密度が5〜11W/cm2となるように前記成形型に対して移動させながら該成形型に照射することでプラズマを生成することにより、前記付着物が含有する樹脂を気化させる温度まで加熱することを特徴とする。
前記パルスレーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記パルスレーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該パルスレーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該パルスレーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものとすることができる。この場合において、前記レーザビーム照射機構と前記成形型の間に、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を設けることができる。この遮蔽部により、前記両端においてパルスレーザビームが第2方向に移動する際に、該両端以外の位置と対比して過剰に照射されるパルスレーザビームを遮蔽し、それにより、成形型の表面をより高い均一性でクリーニングすることができる。本発明に係る成形型クリーニング方法においても同様である。
図2に示すように、本実施形態の成形型クリーニング装置10は、本実施形態の樹脂成形装置1の構成要素の一部である。樹脂成形装置1は、成形型クリーニング装置10と共に樹脂成形部20を有する。
本実施形態の成形型クリーニング装置10及び樹脂成形装置1の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法を説明する。以下ではまず、樹脂成形装置1中の樹脂成形部20による(成形型のクリーニングの動作を除いた)樹脂成形時の動作を説明し、次に樹脂成形装置1中の成形型クリーニング装置10の動作を説明する。この成形型クリーニング装置10の動作が、本発明に係る成形型クリーニング方法の実施形態に該当する。また、樹脂成形部20の動作と成形型クリーニング装置10の動作とを組み合わせたものが、本発明に係る樹脂成形方法の実施形態に該当する。
図5を用いて、樹脂成形部20により樹脂成形品を製造する際の動作を説明する。樹脂成形品を製造する際には予め、成形型クリーニング装置移動機構により、レーザビーム移動部12を待機位置に移動させておく。待機位置は前述のように上型251と下型252との間の空間の外の位置であり、樹脂成形品を製造する際の樹脂成形部20の動作を成形型クリーニング装置10が妨げることはない。
まず、成形型25が型開きしている状態で、成形型クリーニング装置移動機構により、レーザビーム移動部12を使用位置、すなわち上型251と下型252との間の空間に配置されるように移動させる(図2参照)。このとき、レーザビーム移動部12の上下の向きはいずれの状態であってもよく、その状態によって上型251と下型252とのうちのいずれかを先にクリーニングすることになる。以下では、下型252をクリーニングする場合を例として説明する。
本発明は上述した各実施形態には限定されない。例えば、パルスレーザビームBのスポットBSが上型251の下面又は下型252の上面上を前述の図7に示した経路で移動する場合に、該経路のX方向(すなわちスポットBSが往復運動する方向。前記第1方向に相当。)の両端であってレーザビーム移動部12と上型251又は下型252の間に、スポットBSの1個分の幅だけパルスレーザビームBを遮蔽する遮蔽部15(図12中に太実線で示したもの)を設けることができる。なお、遮蔽部15は、レーザビーム移動部12と上型251の間、及びレーザビーム移動部12と下型252の間の双方に設けてもよい。
10…成形型クリーニング装置
11、11A…レーザビーム照射部(レーザビーム照射機構)
111…パルスレーザ光源
12、12A…レーザビーム移動部
121…ガルバノスキャンヘッド
122、122A…レンズ
13…光ファイバ
15…遮蔽部
161…X方向レール
162…X方向ベルト
163…ベルト取り付け部材
164…X方向モータ
165…X方向プーリ
166…モータブロック
167…プーリブロック
168…Y方向レール
20…樹脂成形部
211…基盤
212…タイバー
213…トグルリンク
221…可動プラテン
222…固定プラテン
25、25A…成形型
251、251A…上型
2511…カルブロック
2513…ランナ
252、252A…下型
2521…ポット
2522…プランジャ
2523…ランナ
30…樹脂成形ユニット
31…材料受入モジュール
311…リードフレーム受入部
312…タブレット供給部
32…成形モジュール
33…払出モジュール
331…樹脂成形品保持部
34…成形型クリーニング装置待機モジュール
34A…成形型クリーニング装置収容・移動モジュール
35…搬送装置
35A…成形型クリーニング装置移動部
A…付着物
AG…気化した付着物
B…パルスレーザビーム
BS、BS1、BS2…パルスレーザビームのスポット
BSW…スポットが重なっている部分
C…キャビティ
CT…コーティング
L…リードフレーム
P…樹脂材料
PL…プラズマ
Claims (10)
- 少なくとも一部にコーティングが施された成形型の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.1J/cm2、パルス幅が50〜120nsecであるパルスレーザビームを、隣接パルスレーザビームの重なり率が98%以上100%未満、1秒あたりの走査レーザパワー密度が5〜11W/cm2となるように前記成形型に対して移動させながら該成形型に照射することでプラズマを生成することにより、前記付着物が含有する樹脂を気化させる温度まで加熱するレーザビーム照射機構を備えることを特徴とする成形型クリーニング装置。 - 前記レーザビームの断面形状が矩形であり、前記レーザビーム照射機構が該矩形の辺に平行に該レーザビームを移動させるものであることを特徴とする請求項1に記載の成形型クリーニング装置。
- 前記レーザビームの断面形状が円形又は円環状であることを特徴とする請求項1に記載の成形型クリーニング装置。
- 前記レーザビーム照射機構が、
前記パルスレーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記パルスレーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該パルスレーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該パルスレーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものであって、
さらに、前記レーザビーム照射機構と前記成形型の間に、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。 - 少なくとも一部にコーティングが施された成形型に付着した付着物を除去する方法であって、
1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.1J/cm2、パルス幅が50〜120nsecであるパルスレーザビームを、隣接パルスレーザビームの重なり率が98%以上100%未満、1秒あたりの走査レーザパワー密度が5〜11W/cm2となるように前記成形型に対して移動させながら該成形型に照射することでプラズマを生成することにより、前記付着物が含有する樹脂を気化させる温度まで加熱することを特徴とする成形型クリーニング方法。 - 前記レーザビームの断面形状が矩形であり、該矩形の辺に平行に該レーザビームを移動させることを特徴とする請求項5に記載の成形型クリーニング方法。
- 前記レーザビームの断面形状が円形又は円環状であることを特徴とする請求項5に記載の成形型クリーニング方法。
- 前記パルスレーザビームを前記成形型に対して移動させる際に、
前記パルスレーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記パルスレーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該パルスレーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該パルスレーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させると共に、
前記レーザビームに対して、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する
ことを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。 - 少なくとも一部にコーティングが施された成形型と、請求項1〜4のいずれかに記載の成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする樹脂成形装置。
- 請求項5〜8のいずれかに記載の成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする樹脂成形品製造方法。
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SG78282A1 (en) * | 1997-12-18 | 2001-02-20 | Advanced Systems Automation | A method for removing surface contaminants on moulds used in semiconductor packaging tools |
JP4423465B2 (ja) * | 2004-02-12 | 2010-03-03 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
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