JP6930696B2 - Thermal print head - Google Patents

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Description

本発明は、サーマルプリントヘッドに関する。 The present invention relates to a thermal print head.

図15は、従来のサーマルプリントヘッドの一例を示す要部拡大断面図である(たとえば、特許文献1参照)。同図に示されたサーマルプリントヘッド110は、たとえばAl23からなる基板1上に電極層3および抵抗体層4が積層されている。電極層3は、共通電極31と個別電極35とを備えている。サーマルプリントヘッド110は、抵抗体層4のうち、個別電極35の帯状部36と共通電極31の帯状部(図示なし)との間に挟まれた部分に通電させることで、当該部分を発熱させる。共通電極31の各帯状部は、長手方向に延びる連結部33に接続している。連結部33は一部が補助電極層39によって覆われている。補助電極層39は、連結部33より抵抗率が小さい素材で形成される。一般的に、連結部33はレジネートAuからなり、補助電極層39はAgからなる。基板1上には、表面の凹凸をなくして電極層3を積層しやすくするために、非晶質ガラスなどのガラス層2が形成されている。また、抵抗体層4、電極層3および補助電極層39を保護するための保護層5が形成されている。 FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a conventional thermal print head (see, for example, Patent Document 1). In the thermal printhead 110 shown in the figure, an electrode layer 3 and a resistor layer 4 are laminated on a substrate 1 made of, for example, Al 2 O 3. The electrode layer 3 includes a common electrode 31 and an individual electrode 35. The thermal print head 110 generates heat by energizing a portion of the resistor layer 4 sandwiched between the strip-shaped portion 36 of the individual electrode 35 and the strip-shaped portion (not shown) of the common electrode 31. .. Each band-shaped portion of the common electrode 31 is connected to a connecting portion 33 extending in the longitudinal direction. The connecting portion 33 is partially covered with an auxiliary electrode layer 39. The auxiliary electrode layer 39 is made of a material having a resistivity smaller than that of the connecting portion 33. Generally, the connecting portion 33 is made of registered Au, and the auxiliary electrode layer 39 is made of Ag. A glass layer 2 such as amorphous glass is formed on the substrate 1 in order to eliminate surface irregularities and facilitate stacking of the electrode layers 3. Further, a protective layer 5 for protecting the resistor layer 4, the electrode layer 3, and the auxiliary electrode layer 39 is formed.

図15に示すように、共通電極31の連結部33は、ガラス層2の先端ガラス層26の端部を覆うように形成され、さらに、補助電極層39は、連結部33の端部を覆うように形成されている。この場合、製造工程において、補助電極層39の一部が盛り上がる場合がある。これは、基板1と先端ガラス層26と連結部33とが接する部分で密着不良が発生し、これにより補助電極層39の一部を押し上げるためである。補助電極層39の一部が盛り上がった場合、その上に積層された保護層5の表面が周囲より突出してしまう。この場合、保護層5の突出した部分を削るか、不良品として廃棄する必要がある。 As shown in FIG. 15, the connecting portion 33 of the common electrode 31 is formed so as to cover the end portion of the tip glass layer 26 of the glass layer 2, and the auxiliary electrode layer 39 further covers the end portion of the connecting portion 33. It is formed like this. In this case, a part of the auxiliary electrode layer 39 may rise in the manufacturing process. This is because a poor adhesion occurs at a portion where the substrate 1 is in contact with the tip glass layer 26 and the connecting portion 33, which pushes up a part of the auxiliary electrode layer 39. When a part of the auxiliary electrode layer 39 is raised, the surface of the protective layer 5 laminated on the auxiliary electrode layer 39 protrudes from the surroundings. In this case, it is necessary to scrape the protruding portion of the protective layer 5 or dispose of it as a defective product.

特開2012-12183号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-12183

本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、補助電極層の盛り上がりの発生を抑制できるサーマルプリントヘッドを提供することをその課題とする。 The present invention has been devised under the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a thermal print head capable of suppressing the occurrence of swelling of an auxiliary electrode layer.

本発明によって提供されるサーマルプリントヘッドは、一方の面である主面を有する基板と、前記基板の主面に形成されたガラス層と、前記ガラス層の前記基板とは反対側の面に形成された電極層と、前記電極層の前記基板とは反対側の面に形成された補助電極層と、前記基板の主面側に形成された抵抗体層とを備えており、前記基板の厚さ方向視において、前記補助電極層に重なる領域では、前記電極層と前記基板との間に前記ガラス層が介在していることを特徴とする。 The thermal printhead provided by the present invention is formed on a substrate having a main surface which is one surface, a glass layer formed on the main surface of the substrate, and a surface of the glass layer opposite to the substrate. The electrode layer is provided with an auxiliary electrode layer formed on a surface of the electrode layer opposite to the substrate, and a resistor layer formed on the main surface side of the substrate, and the thickness of the substrate is provided. In the longitudinal view, the region overlapping the auxiliary electrode layer is characterized in that the glass layer is interposed between the electrode layer and the substrate.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記ガラス層は、主走査方向に延びる帯状で断面が円弧状の部分グレーズを備えており、前記抵抗体層は、少なくとも前記部分グレーズ上に配置されている。 In a preferred embodiment of the present invention, the glass layer has a strip-shaped partial glaze extending in the main scanning direction and an arc-shaped cross section, and the resistor layer is arranged at least on the partial glaze. ..

本発明の好ましい実施の形態においては、前記ガラス層は、前記部分グレーズの副走査方向下流側に設けられた先端ガラス層をさらに備えている。 In a preferred embodiment of the present invention, the glass layer further includes a tip glass layer provided on the downstream side in the sub-scanning direction of the partial glaze.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記基板の厚さ方向視において、前記先端ガラス層は、前記電極層の端縁またはその外側まで延びている。 In a preferred embodiment of the present invention, the tip glass layer extends to the edge of the electrode layer or the outside thereof in the thickness direction of the substrate.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記基板の厚さ方向視において、前記電極層は前記先端ガラス層の端縁の外側まで延びており、かつ、前記先端ガラス層は前記補助電極層の端縁の外側まで延びている。 In a preferred embodiment of the present invention, in the thickness direction of the substrate, the electrode layer extends to the outside of the edge of the tip glass layer, and the tip glass layer is the end of the auxiliary electrode layer. It extends to the outside of the rim.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記ガラス層は、前記部分グレーズに対して、走査方向に離間した位置に設けられたダイボンディンググレーズをさらに備えており、前記ダイボンディンググレーズ上に設けられ、前記電極層に接続しており、前記抵抗体層を選択的に通電させる駆動ICをさらに備えている。 In a preferred embodiment of the present invention, the glass layer, with respect to the partial glaze further comprises a die bonding glaze provided at a position separated in the sub scanning direction, provided on the die bonding glaze It is further provided with a drive IC which is connected to the electrode layer and selectively energizes the resistor layer.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記ガラス層は、非晶質ガラスからなる。 In a preferred embodiment of the present invention, the glass layer is made of amorphous glass.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記基板は、Al23からなる。 In a preferred embodiment of the present invention, the substrate is made of Al 2 O 3 .

本発明の好ましい実施の形態においては、前記電極層は、Auを含んでいる。 In a preferred embodiment of the invention, the electrode layer comprises Au.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記補助電極層は、前記電極層より抵抗率の小さい材料からなる。 In a preferred embodiment of the present invention, the auxiliary electrode layer is made of a material having a resistivity lower than that of the electrode layer.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記補助電極層は、Agを含んでいる。 In a preferred embodiment of the present invention, the auxiliary electrode layer contains Ag.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記補助電極層の前記基板とは反対側の面に形成されており、かつ、抵抗率が前記補助電極層以下である第2補助電極層を、前記サーマルプリントヘッドは、さらに備えている。 In a preferred embodiment of the present invention, the thermal is formed on the second auxiliary electrode layer which is formed on the surface of the auxiliary electrode layer opposite to the substrate and whose resistivity is equal to or lower than the auxiliary electrode layer. The print head is further equipped.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記電極層は、副走査方向に延び、主走査方向に互いに離間して配置される複数の第1帯状部、および、複数の前記第1帯状部と接続し、主走査方向に延びる連結部を有する共通電極と、副走査方向に延びる第2帯状部をそれぞれ有し、前記基板の主走査方向に互いに離間して配置される複数の個別電極とを備えており、前記補助電極層は、前記連結部に形成されている。 In a preferred embodiment of the present invention, the electrode layer is connected to a plurality of first strips extending in the sub-scanning direction and spaced apart from each other in the main scanning direction, and a plurality of the first strips. A common electrode having a connecting portion extending in the main scanning direction and a plurality of individual electrodes each having a second band-shaped portion extending in the sub-scanning direction and arranged apart from each other in the main scanning direction of the substrate are provided. The auxiliary electrode layer is formed in the connecting portion.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記抵抗体層は、前記主走査方向に延びる帯状であり、前記第1帯状部および前記第2帯状部は、前記主走査方向において交互に、前記抵抗体層に交差するように配置されている。 In a preferred embodiment of the present invention, the resistor layer has a band shape extending in the main scanning direction, and the first band-shaped portion and the second band-shaped portion alternately alternate in the main scanning direction of the resistor. Arranged so as to intersect the layers.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記抵抗体層は、前記第1帯状部および前記第2帯状部に対して、前記基板とは反対側に配置されている。 In a preferred embodiment of the present invention, the resistor layer is arranged on the side opposite to the substrate with respect to the first band-shaped portion and the second band-shaped portion.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記サーマルプリントヘッドは、前記抵抗体層、前記電極層および前記補助電極層を覆う保護層をさらに備えている。 In a preferred embodiment of the invention, the thermal printhead further comprises a protective layer covering the resistor layer, the electrode layer and the auxiliary electrode layer.

本発明によれば、補助電極層に重なる領域では、電極層と基板との間にガラス層が介在している。したがって、当該領域で、基板とガラス層と電極層とが接することはない。これにより、密着不良が発生して補助電極層の一部を押し上げることを抑制し、補助電極層の盛り上がりの発生を抑制することができる。 According to the present invention, in the region overlapping the auxiliary electrode layer, a glass layer is interposed between the electrode layer and the substrate. Therefore, the substrate, the glass layer, and the electrode layer do not come into contact with each other in the region. As a result, it is possible to suppress the occurrence of poor adhesion and pushing up a part of the auxiliary electrode layer, and to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer.

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。 Other features and advantages of the present invention will become more apparent with the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

本発明の第1実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示す平面図である。It is a top view which shows the thermal print head which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head of FIG. 図2のIII−III線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the line III-III of FIG. 図1のサーマルプリントヘッドを示す要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing the thermal print head of FIG. 本発明の第2実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図5におけるVI−VI線に沿う断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI in FIG. 本発明の第3実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 図7におけるVIII−VIII線に沿う断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. 本発明の第4実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head which concerns on 4th Embodiment of this invention. 図9におけるX−X線に沿う断面図である。9 is a cross-sectional view taken along the line XX in FIG. 本発明の第5実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head which concerns on 5th Embodiment of this invention. 図11におけるXII−XII線に沿う断面図である。11 is a cross-sectional view taken along the line XII-XII in FIG. 本発明の第6実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head which concerns on 6th Embodiment of this invention. 図13におけるXIV−XIV線に沿う断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line XIV-XIV in FIG. 従来のサーマルプリントヘッドの一例を示す要部拡大断面図である。It is an enlarged sectional view of the main part which shows an example of the conventional thermal print head.

以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1〜図4は、本発明の第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド101を示している。図1は、サーマルプリントヘッド101を示す平面図である。図2は、サーマルプリントヘッド101を示す要部平面図である。図3は、図2のIII−III線に沿う断面図である。図4は、サーマルプリントヘッド101を示す要部拡大断面図である。これらの図において、サーマルプリントヘッド101の長手方向(主走査方向)をx方向とし、短手方向(副走査方向)をy方向とし、厚さ方向をz方向として説明する。以下の図においても同様である。なお、理解の便宜上、図1および図2においては、保護層5を省略している(図5、図7、図9、図11および図13についても同様)。 1 to 4 show the thermal print head 101 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view showing the thermal print head 101. FIG. 2 is a plan view of a main part showing the thermal print head 101. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing the thermal print head 101. In these figures, the longitudinal direction (main scanning direction) of the thermal print head 101 is defined as the x direction, the lateral direction (secondary scanning direction) is defined as the y direction, and the thickness direction is defined as the z direction. The same applies to the following figure. For convenience of understanding, the protective layer 5 is omitted in FIGS. 1 and 2 (the same applies to FIGS. 5, 7, 9, 11 and 13).

サーマルプリントヘッド101は、基板1、ガラス層2、電極層3、抵抗体層4、保護層5、および駆動IC71を備えている。サーマルプリントヘッド101は、たとえばバーコードシートやレシートを作成するために感熱紙に対する印刷を施すプリンタに組み込まれるものである。 The thermal print head 101 includes a substrate 1, a glass layer 2, an electrode layer 3, a resistor layer 4, a protective layer 5, and a drive IC 71. The thermal print head 101 is incorporated in a printer that prints on thermal paper to produce, for example, a barcode sheet or a receipt.

基板1は、たとえばAl23などのセラミックからなり、たとえばその厚さが0.6〜1.0mm程度とされている。図1に示すように、基板1は、x方向に長く延びる長矩形状とされている。基板1は、z方向において互いに反対側を向く主面11および裏面12を有している。主面11に、ガラス層2、電極層3、抵抗体層4、保護層5が形成される。基板1の裏面12には、たとえばAlなどの金属からなる放熱板を設けてもよい。 The substrate 1 is made of, for example, a ceramic such as Al 2 O 3, and has a thickness of, for example, about 0.6 to 1.0 mm. As shown in FIG. 1, the substrate 1 has an elongated rectangular shape extending in the x direction. The substrate 1 has a main surface 11 and a back surface 12 facing opposite sides in the z direction. A glass layer 2, an electrode layer 3, a resistor layer 4, and a protective layer 5 are formed on the main surface 11. A heat radiating plate made of a metal such as Al may be provided on the back surface 12 of the substrate 1.

ガラス層2は、基板1の主面11上に形成されており、たとえば非晶質ガラスなどのガラス材料からなる。ガラス層2は、部分グレーズ21、ダイボンディンググレーズ22、中間ガラス層25および先端ガラス層26を備えている。ガラス層2は、ガラスペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。 The glass layer 2 is formed on the main surface 11 of the substrate 1 and is made of a glass material such as amorphous glass. The glass layer 2 includes a partial glaze 21, a die bonding glaze 22, an intermediate glass layer 25, and a tip glass layer 26. The glass layer 2 is formed by printing a thick film of glass paste and then firing the glass paste.

部分グレーズ21は、図2に示すようにx方向に長く延びる帯状であり、図3および図4に示すようにy方向およびz方向を含むyz平面の断面形状が円弧状とされている。部分グレーズ21のサイズは、y方向における寸法がたとえば700μm程度、z方向における寸法がたとえば18〜50μm程度である。部分グレーズ21は、抵抗体層4のうちの発熱する部分である発熱部41を印刷対象である感熱紙などに押し当てるために設けられている。なお、部分グレーズ21を設けないようにしてもよい。 As shown in FIG. 2, the partial glaze 21 has a strip shape extending in the x direction, and as shown in FIGS. 3 and 4, the cross-sectional shape of the yz plane including the y direction and the z direction is arcuate. The size of the partial glaze 21 is, for example, about 700 μm in the y direction and about 18 to 50 μm in the z direction. The partial glaze 21 is provided to press the heat generating portion 41, which is a heat generating portion of the resistor layer 4, against the thermal paper or the like to be printed. The partial glaze 21 may not be provided.

ダイボンディンググレーズ22は、部分グレーズ21に対してy方向(副走査方向)の上流側(図1および図2においては図の下側であり、図3および図4においては図の右側である)に離間した位置で、部分グレーズ21と平行に設けられた帯状とされている。ダイボンディンググレーズ22は、電極層3の一部や駆動IC71を支持している。ダイボンディンググレーズ22の厚さは、たとえば30〜50μm程度である。部分グレーズ21およびダイボンディンググレーズ22のガラス材料の軟化点は、たとえば800〜850℃である。なお、ダイボンディンググレーズ22を設けないようにしてもよい。 The die bonding glaze 22 is on the upstream side in the y direction (sub-scanning direction) with respect to the partial glaze 21 (the lower side in the drawings in FIGS. 1 and 2 and the right side in the drawings in FIGS. 3 and 4). It has a strip shape provided in parallel with the partial glaze 21 at a position separated from the glaze 21. The die bonding glaze 22 supports a part of the electrode layer 3 and the driving IC 71. The thickness of the die bonding glaze 22 is, for example, about 30 to 50 μm. The softening points of the glass materials of the partial glaze 21 and the die bonding glaze 22 are, for example, 800 to 850 ° C. The die bonding glaze 22 may not be provided.

中間ガラス層25は、基板1の主面11のうち部分グレーズ21とダイボンディンググレーズ22とに挟まれた領域を覆っている。中間ガラス層25は、軟化点がたとえば680℃程度と、部分グレーズ21およびダイボンディンググレーズ22を形成するガラス材料よりも軟化点が低いガラス材料からなる。中間ガラス層25の厚さは、たとえば2.0μm程度である。先端ガラス層26は、図3および図4に示すように、基板1の主面11のうち部分グレーズ21に対してy方向下流側の領域の一部を覆っている。先端ガラス層26は、中間ガラス層25と同様の材質および厚さである。中間ガラス層25および先端ガラス層26は、基板1の主面11の凹凸をなくして電極層3を積層しやすくするために設けられている。 The intermediate glass layer 25 covers a region of the main surface 11 of the substrate 1 sandwiched between the partial glaze 21 and the die bonding glaze 22. The intermediate glass layer 25 is made of a glass material having a softening point of, for example, about 680 ° C., which is lower than the glass material forming the partial glaze 21 and the die bonding glaze 22. The thickness of the intermediate glass layer 25 is, for example, about 2.0 μm. As shown in FIGS. 3 and 4, the tip glass layer 26 covers a part of the main surface 11 of the substrate 1 on the downstream side in the y direction with respect to the partial glaze 21. The tip glass layer 26 has the same material and thickness as the intermediate glass layer 25. The intermediate glass layer 25 and the tip glass layer 26 are provided in order to eliminate the unevenness of the main surface 11 of the substrate 1 and facilitate the lamination of the electrode layer 3.

電極層3は、抵抗体層4に通電するための経路を構成するためのものであり、基板1の主面11のガラス層2上に形成されている。電極層3は、たとえば添加元素としてロジウム、バナジウム、ビスマス、シリコンなどが添加されたレジネートAuからなる。電極層3は、レジネートAuのペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。なお、電極層3は、スパッタリングなどの薄膜形成技術によって形成するようにしてもよい。電極層3は、複数のAu層を積層させることによって構成してもよい。電極層3の厚さは特に限定されないが、たとえば0.6〜1.2μm程度である。電極層3は、基板1の主面11以外の部分に形成された部位を有していてもよい。電極層3は、共通電極31および複数の個別電極35を備えている。 The electrode layer 3 is for forming a path for energizing the resistor layer 4, and is formed on the glass layer 2 of the main surface 11 of the substrate 1. The electrode layer 3 is made of registered Au to which, for example, rhodium, vanadium, bismuth, silicon or the like is added as an additive element. The electrode layer 3 is formed by printing a thick film of the resinate Au paste and then firing the paste. The electrode layer 3 may be formed by a thin film forming technique such as sputtering. The electrode layer 3 may be formed by laminating a plurality of Au layers. The thickness of the electrode layer 3 is not particularly limited, but is, for example, about 0.6 to 1.2 μm. The electrode layer 3 may have a portion formed on a portion other than the main surface 11 of the substrate 1. The electrode layer 3 includes a common electrode 31 and a plurality of individual electrodes 35.

共通電極31は、複数の帯状部32、連結部33、および迂回部34を備えている。図2および図3に示すように、連結部33は、基板1のy方向下流側の端部寄りに配置されており、x方向に延びる帯状である。連結部33は、部分グレーズ21の一部と先端ガラス層26の上に形成されており、y方向下流側の端部が先端ガラス層26からはみ出さないように形成されている。また、連結部33のy方向上流側の端部は、部分グレーズ21上にあり、x方向の両端部も先端ガラス層26からはみ出さないように形成されている。帯状部32は、連結部33から部分グレーズ21に向かってy方向に延びており、x方向に等ピッチで複数配列されている。当該「帯状部32」が、本発明の「第1帯状部」に相当する。迂回部34は、連結部33のx方向の一端からy方向に延びている。 The common electrode 31 includes a plurality of strips 32, a connecting portion 33, and a bypass portion 34. As shown in FIGS. 2 and 3, the connecting portion 33 is arranged near the end portion of the substrate 1 on the downstream side in the y direction, and has a strip shape extending in the x direction. The connecting portion 33 is formed on a part of the partial glaze 21 and the tip glass layer 26 so that the end portion on the downstream side in the y direction does not protrude from the tip glass layer 26. Further, the end portion of the connecting portion 33 on the upstream side in the y direction is on the partial glaze 21, and both ends in the x direction are also formed so as not to protrude from the tip glass layer 26. A plurality of strip-shaped portions 32 extend from the connecting portion 33 toward the partial glaze 21 in the y direction, and are arranged at equal pitches in the x direction. The "belt-shaped portion 32" corresponds to the "first strip-shaped portion" of the present invention. The detour portion 34 extends in the y direction from one end of the connecting portion 33 in the x direction.

個別電極35は、抵抗体層4に対して部分的に通電するためのものであり、共通電極31に対して逆極性となる部位である。個別電極35は、x方向に等ピッチで複数配列されており、各々が帯状部36およびボンディング部37を有している。帯状部36は、y方向に延びた帯状部分であり、部分グレーズ21上において隣り合う2つの帯状部32の間に位置している。つまり、帯状部36と帯状部32とは、x方向において交互に配置されている。当該「帯状部36」が、本発明の「第2帯状部」に相当する。ボンディング部37は、帯状部36のy方向上流側端部に設けられている。 The individual electrode 35 is for partially energizing the resistor layer 4, and is a portion having opposite polarity to the common electrode 31. A plurality of individual electrodes 35 are arranged at equal pitches in the x direction, and each has a band-shaped portion 36 and a bonding portion 37. The band-shaped portion 36 is a band-shaped portion extending in the y direction, and is located between two adjacent strip-shaped portions 32 on the partial glaze 21. That is, the strip-shaped portion 36 and the strip-shaped portion 32 are alternately arranged in the x direction. The "belt-shaped portion 36" corresponds to the "second strip-shaped portion" of the present invention. The bonding portion 37 is provided at the upstream end portion of the strip-shaped portion 36 in the y direction.

図2〜4に示すように、連結部33の基板1とは反対側の面には、x方向に延びる帯状の補助電極層39が形成されている。補助電極層39は、連結部33の抵抗による発熱を抑制するために設けられており、連結部33(電極層3)より抵抗率が小さい素材(たとえばAg)によって形成される。本実施形態においては、補助電極層39は、第1補助電極層391および第2補助電極層392を備えている。第1補助電極層391は、連結部33上に積層された時に合金化して抵抗率が大きくなる。したがって、第1補助電極層391上に、さらに第2補助電極層392を積層することで、電流経路全体としての抵抗値を小さくしている。なお、本実施形態においては、レジネートAuからなる連結部33上にAgを積層することで、第1補助電極層391がAuとAgとの合金となっている。したがって、Agによって形成される第2補助電極層392は、第1補助電極層391より抵抗率が小さい。なお、第1補助電極層391および第2補助電極層392は、同じ素材から形成されるものに限定されない。第2補助電極層392は、第1補助電極層391より抵抗率が小さければよい。第1補助電極層391および第2補助電極層392の厚さは特に限定されないが、それぞれ、たとえば10〜30μm程度である。第1補助電極層391は各端部が連結部33からはみ出さないように形成されており、第2補助電極層392は各端部が第1補助電極層391からはみ出さないように形成されている。「第1補助電極層391」および「第2補助電極層392」が、それぞれ、本発明の「補助電極層」および「第2補助電極層」に相当する。 As shown in FIGS. 2 to 4, a band-shaped auxiliary electrode layer 39 extending in the x direction is formed on the surface of the connecting portion 33 opposite to the substrate 1. The auxiliary electrode layer 39 is provided to suppress heat generation due to the resistance of the connecting portion 33, and is formed of a material (for example, Ag) having a resistivity smaller than that of the connecting portion 33 (electrode layer 3). In the present embodiment, the auxiliary electrode layer 39 includes a first auxiliary electrode layer 391 and a second auxiliary electrode layer 392. The first auxiliary electrode layer 391 is alloyed when laminated on the connecting portion 33 to increase the resistivity. Therefore, by further laminating the second auxiliary electrode layer 392 on the first auxiliary electrode layer 391, the resistance value of the entire current path is reduced. In the present embodiment, the first auxiliary electrode layer 391 is an alloy of Au and Ag by laminating Ag on the connecting portion 33 made of registered Au. Therefore, the resistivity of the second auxiliary electrode layer 392 formed by Ag is smaller than that of the first auxiliary electrode layer 391. The first auxiliary electrode layer 391 and the second auxiliary electrode layer 392 are not limited to those formed of the same material. The resistivity of the second auxiliary electrode layer 392 may be smaller than that of the first auxiliary electrode layer 391. The thickness of the first auxiliary electrode layer 391 and the second auxiliary electrode layer 392 is not particularly limited, but is, for example, about 10 to 30 μm, respectively. The first auxiliary electrode layer 391 is formed so that each end does not protrude from the connecting portion 33, and the second auxiliary electrode layer 392 is formed so that each end does not protrude from the first auxiliary electrode layer 391. ing. The "first auxiliary electrode layer 391" and the "second auxiliary electrode layer 392" correspond to the "auxiliary electrode layer" and the "second auxiliary electrode layer" of the present invention, respectively.

抵抗体層4は、電極層3を構成する材料よりも抵抗率が大きい、たとえば酸化ルテニウムなどからなり、基板1の主面11の部分グレーズ21上で、x方向に延びる帯状に形成されている。抵抗体層4は、酸化ルテニウムなどのペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。なお、抵抗体層4は、スパッタリングなどの薄膜形成技術によって形成するようにしてもよい。抵抗体層4の厚さは特に限定されないが、たとえば0.05μm〜0.2μm程度である。抵抗体層4は、部分グレーズ21の中央寄りの位置において、複数の帯状部32および複数の帯状部36の上側に、複数の帯状部32と複数の帯状部36とにそれぞれ交差するように形成されている。抵抗体層4のうち各帯状部32と各帯状部36とに挟まれた部位が、発熱部41となっている。発熱部41は、電極層3によって部分的に通電されることにより発熱する部位であり、この発熱によって印字ドットが形成される。 The resistor layer 4 is made of, for example, ruthenium oxide having a resistivity higher than that of the material constituting the electrode layer 3, and is formed in a band shape extending in the x direction on the partial glaze 21 of the main surface 11 of the substrate 1. .. The resistor layer 4 is formed by printing a thick film of a paste such as ruthenium oxide and then firing the paste. The resistor layer 4 may be formed by a thin film forming technique such as sputtering. The thickness of the resistor layer 4 is not particularly limited, but is, for example, about 0.05 μm to 0.2 μm. The resistor layer 4 is formed on the upper side of the plurality of strips 32 and the plurality of strips 36 at a position near the center of the partial glaze 21 so as to intersect the plurality of strips 32 and the plurality of strips 36, respectively. Has been done. A portion of the resistor layer 4 sandwiched between each band-shaped portion 32 and each band-shaped portion 36 is a heat generating portion 41. The heat generating portion 41 is a portion that generates heat when partially energized by the electrode layer 3, and print dots are formed by this heat generation.

保護層5は、抵抗体層4、電極層3および補助電極層39を保護するためのものであり、たとえば非晶質ガラスからなる。この非晶質ガラスの軟化点は、たとえば700℃程度である。図3に示すように、保護層5は、y方向において、基板1の下流側端縁手前(たとえば端縁より0.1〜0.5mm手前)からダイボンディンググレーズ22の中央付近にわたる領域に形成されており、少なくとも複数の発熱部41を覆っており、本実施形態においては、電極層3の大部分を覆っている。保護層5は、ガラスペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することによって形成される。保護層5の厚さは特に限定されないが、たとえば6〜8μm程度である。なお、保護層5は、y方向において、基板1の下流側端縁まで形成されていてもよい。また、保護層5のさらに外側に、保護層5を構成する非晶質ガラスよりも軟化点が高い(たとえば780℃程度)非晶質ガラスと複数のアルミナ粒子とからなる第2の保護層を設けるようにしてもよい。第2の保護層は、y方向において、基板1の下流側端部から中間ガラス層25の中央付近にわたる領域に形成すればよい。 The protective layer 5 is for protecting the resistor layer 4, the electrode layer 3, and the auxiliary electrode layer 39, and is made of, for example, amorphous glass. The softening point of this amorphous glass is, for example, about 700 ° C. As shown in FIG. 3, the protective layer 5 is formed in a region extending from the front of the downstream edge of the substrate 1 (for example, 0.1 to 0.5 mm before the edge) to the vicinity of the center of the die bonding glaze 22 in the y direction. It covers at least a plurality of heat generating portions 41, and in the present embodiment, covers most of the electrode layer 3. The protective layer 5 is formed by printing a thick film of the glass paste and then firing the glass paste. The thickness of the protective layer 5 is not particularly limited, but is, for example, about 6 to 8 μm. The protective layer 5 may be formed up to the downstream edge of the substrate 1 in the y direction. Further, on the outer side of the protective layer 5, a second protective layer composed of an amorphous glass having a softening point higher than that of the amorphous glass constituting the protective layer 5 (for example, about 780 ° C.) and a plurality of alumina particles is provided. It may be provided. The second protective layer may be formed in a region extending from the downstream end portion of the substrate 1 to the vicinity of the center of the intermediate glass layer 25 in the y direction.

駆動IC71は、複数の個別電極35を選択的に通電させることにより、複数の発熱部41のいずれかを任意に発熱させる機能を果たす。図1および図3に示すように、本実施形態においては、複数の駆動IC71が、ダイボンディンググレーズ22上に配置されている。本実施形態においては、駆動IC71とダイボンディンググレーズ22との間に、電極層3の一部および支持ガラス層27が介在している(図3参照)。図2に示すように、駆動IC71には、複数のパッド72が形成されている。複数のパッド72は、複数のワイヤ73を介して複数の個別電極35のボンディング部37、またはダイボンディンググレーズ22に形成された電極層3の一部であるパッドに接続されている。図1に示すように、駆動IC71は、封止樹脂82によっておおわれている。封止樹脂82は、たとえば黒色の絶縁性軟質樹脂からなる。なお、図2および図3においては、理解の便宜上封止樹脂82を省略している。 The drive IC 71 functions to arbitrarily generate heat in any of the plurality of heat generating units 41 by selectively energizing the plurality of individual electrodes 35. As shown in FIGS. 1 and 3, in this embodiment, a plurality of drive ICs 71 are arranged on the die bonding glaze 22. In the present embodiment, a part of the electrode layer 3 and the supporting glass layer 27 are interposed between the driving IC 71 and the die bonding glaze 22 (see FIG. 3). As shown in FIG. 2, a plurality of pads 72 are formed on the drive IC 71. The plurality of pads 72 are connected to the bonding portions 37 of the plurality of individual electrodes 35 or the pads which are a part of the electrode layer 3 formed on the die bonding glaze 22 via the plurality of wires 73. As shown in FIG. 1, the drive IC 71 is covered with a sealing resin 82. The sealing resin 82 is made of, for example, a black insulating soft resin. In addition, in FIG. 2 and FIG. 3, the sealing resin 82 is omitted for convenience of understanding.

また、図1に示すように、基板1には、コネクタ83が設けられている。コネクタ83は、サーマルプリントヘッド101をたとえばプリンタに組み込む際に、このプリンタ側のコネクタと接続される。 Further, as shown in FIG. 1, a connector 83 is provided on the substrate 1. The connector 83 is connected to the connector on the printer side when the thermal print head 101 is incorporated into a printer, for example.

次に、サーマルプリントヘッド101の作用について説明する。 Next, the operation of the thermal print head 101 will be described.

本実施形態によれば、連結部33は全体が部分グレーズ21または先端ガラス層26上にあり、各端部が部分グレーズ21および先端ガラス層26からはみ出さないように形成されている。よって、連結部33は、基板1に接することがない。したがって、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分がないので、当該部分での密着不良は発生しない。これにより、補助電極層の盛り上がりの発生を抑制することができる。 According to the present embodiment, the connecting portion 33 is entirely on the partial glaze 21 or the tip glass layer 26, and each end portion is formed so as not to protrude from the partial glaze 21 and the tip glass layer 26. Therefore, the connecting portion 33 does not come into contact with the substrate 1. Therefore, since there is no portion where the substrate 1 is in contact with the glass layer 2 and the connecting portion 33, poor adhesion does not occur at that portion. As a result, it is possible to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer.

また、本実施形態によれば、第1補助電極層391上に、同じ素材の第2補助電極層392がさらに積層されている。したがって、第1補助電極層391が連結部33上に積層されたことで合金化して抵抗率が大きくなっても、電流経路全体としての抵抗値を小さくすることができる。 Further, according to the present embodiment, the second auxiliary electrode layer 392 of the same material is further laminated on the first auxiliary electrode layer 391. Therefore, even if the first auxiliary electrode layer 391 is laminated on the connecting portion 33 and alloyed to increase the resistivity, the resistance value of the entire current path can be reduced.

図5〜図14は、本発明の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。 5 to 14 show other embodiments of the present invention. In these figures, the same or similar elements as those in the above embodiment are designated by the same reference numerals as those in the above embodiment.

図5および図6は、本発明の第2実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示している。図5は拡大平面図であり、図6は図5におけるVI−VI線に沿う断面図である。図5および図6に示すサーマルプリントヘッド102は、第2補助電極層392を備えていない点で、第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド101(図1〜4参照)と異なっている。 5 and 6 show a thermal printhead according to a second embodiment of the present invention. FIG. 5 is an enlarged plan view, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI in FIG. The thermal printhead 102 shown in FIGS. 5 and 6 is different from the thermal printhead 101 (see FIGS. 1 to 4) according to the first embodiment in that the second auxiliary electrode layer 392 is not provided.

第1補助電極層391は連結部33上に積層された時に合金化して抵抗率が大きくなるが、連結部33と第1補助電極層391とを合わせた電流経路全体としての抵抗値が小さければ、第2補助電極層392を設ける必要はない。 The first auxiliary electrode layer 391 is alloyed when laminated on the connecting portion 33 to increase the resistivity, but if the resistance value of the entire current path in which the connecting portion 33 and the first auxiliary electrode layer 391 are combined is small. , It is not necessary to provide the second auxiliary electrode layer 392.

本実施形態においても、連結部33は、基板1に接することがない。したがって、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分がないので、当該部分での密着不良は発生しない。これにより、補助電極層39の盛り上がりの発生を抑制することができる。また、第2補助電極層392を設けないので、構造をより簡略化できる。 Also in this embodiment, the connecting portion 33 does not come into contact with the substrate 1. Therefore, since there is no portion where the substrate 1 is in contact with the glass layer 2 and the connecting portion 33, poor adhesion does not occur at that portion. As a result, it is possible to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer 39. Further, since the second auxiliary electrode layer 392 is not provided, the structure can be further simplified.

図7および図8は、本発明の第3実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示している。図7は要部平面図であり、図8は図7におけるVIII−VIII線に沿う断面図である。図7および図8に示すサーマルプリントヘッド103は、第1補助電極層391のy方向下流側の端部が連結部33からはみ出して形成されている点で、第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド101(図1〜4参照)と異なっている。第1補助電極層391のy方向下流側の端部は、連結部33からはみ出して形成されているが、先端ガラス層26からははみ出していない。 7 and 8 show a thermal printhead according to a third embodiment of the present invention. FIG. 7 is a plan view of the main part, and FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. The thermal printhead 103 shown in FIGS. 7 and 8 is the thermal printhead according to the first embodiment in that the end portion of the first auxiliary electrode layer 391 on the downstream side in the y direction protrudes from the connecting portion 33. It is different from 101 (see FIGS. 1 to 4). The end portion of the first auxiliary electrode layer 391 on the downstream side in the y direction is formed so as to protrude from the connecting portion 33, but does not protrude from the tip glass layer 26.

本実施形態においても、連結部33は全体が部分グレーズ21または先端ガラス層26上にあり、各端部が部分グレーズ21および先端ガラス層26からはみ出さないように形成されている。よって、連結部33は、基板1に接することがない。したがって、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分がないので、当該部分での密着不良は発生しない。これにより、補助電極層39の盛り上がりの発生を抑制することができる。 Also in the present embodiment, the connecting portion 33 is entirely on the partial glaze 21 or the tip glass layer 26, and each end portion is formed so as not to protrude from the partial glaze 21 and the tip glass layer 26. Therefore, the connecting portion 33 does not come into contact with the substrate 1. Therefore, since there is no portion where the substrate 1 is in contact with the glass layer 2 and the connecting portion 33, poor adhesion does not occur at that portion. As a result, it is possible to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer 39.

図9および図10は、本発明の第4実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示している。図9は要部平面図であり、図10は図9におけるX−X線に沿う断面図である。図9および図10に示すサーマルプリントヘッド104は、連結部33のy方向下流側の端部が先端ガラス層26からはみ出して、先端ガラス層26の端部を覆うように形成されている点で、第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド101(図1〜4参照)と異なっている。連結部33のy方向下流側の端部は先端ガラス層26からはみ出して形成されているが、第1補助電極層391のy方向下流側の端部は、先端ガラス層26のy方向下流側の端部に達していない。 9 and 10 show a thermal printhead according to a fourth embodiment of the present invention. 9 is a plan view of a main part, and FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. The thermal print head 104 shown in FIGS. 9 and 10 is formed so that the end portion of the connecting portion 33 on the downstream side in the y direction protrudes from the tip glass layer 26 and covers the end portion of the tip glass layer 26. , It is different from the thermal print head 101 (see FIGS. 1 to 4) according to the first embodiment. The end of the connecting portion 33 on the downstream side in the y direction is formed so as to protrude from the tip glass layer 26, but the end of the first auxiliary electrode layer 391 on the downstream side in the y direction is on the downstream side of the tip glass layer 26 in the y direction. Has not reached the end of.

本実施形態においては、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分で密着不良が発生しうる。しかし、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分は第1補助電極層391で覆われていない(当該部分の上方まで第1補助電極層391が延びていない)ので、補助電極層39は押し上げられない。したがって、補助電極層39の盛り上がりの発生を抑制することができる。 In the present embodiment, poor adhesion may occur at a portion where the substrate 1, the glass layer 2, and the connecting portion 33 are in contact with each other. However, since the portion where the substrate 1 is in contact with the glass layer 2 and the connecting portion 33 is not covered with the first auxiliary electrode layer 391 (the first auxiliary electrode layer 391 does not extend above the portion), the auxiliary electrode layer is formed. 39 cannot be pushed up. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer 39.

図11および図12は、本発明の第5実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示している。図11は要部平面図であり、図12は図11におけるXII−XII線に沿う断面図である。図11および図12に示すサーマルプリントヘッド105は、第1補助電極層391のy方向下流側の端部が先端ガラス層26からはみ出して、先端ガラス層26の端部を覆うように形成されている点で、第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド101(図1〜4参照)と異なっている。 11 and 12 show a thermal printhead according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 11 is a plan view of a main part, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line XII-XII in FIG. The thermal print head 105 shown in FIGS. 11 and 12 is formed so that the end portion of the first auxiliary electrode layer 391 on the downstream side in the y direction protrudes from the tip glass layer 26 and covers the end portion of the tip glass layer 26. In that respect, it is different from the thermal print head 101 (see FIGS. 1 to 4) according to the first embodiment.

本実施形態においては、連結部33は全体が部分グレーズ21または先端ガラス層26上にあり、各端部が部分グレーズ21および先端ガラス層26からはみ出さないように形成されている。よって、連結部33は、基板1に接することがない。したがって、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分がないので、当該部分での密着不良は発生しない。これにより、補助電極層39の盛り上がりの発生を抑制することができる。 In the present embodiment, the connecting portion 33 is entirely on the partial glaze 21 or the tip glass layer 26, and each end portion is formed so as not to protrude from the partial glaze 21 and the tip glass layer 26. Therefore, the connecting portion 33 does not come into contact with the substrate 1. Therefore, since there is no portion where the substrate 1 is in contact with the glass layer 2 and the connecting portion 33, poor adhesion does not occur at that portion. As a result, it is possible to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer 39.

図13および図14は、本発明の第6実施形態に係るサーマルプリントヘッドを示している。図13は要部平面図であり、図14は図13におけるXIV−XIV線に沿う断面図である。図13および図14に示すサーマルプリントヘッド106は、y方向下流側において、第1補助電極層391、連結部33および先端ガラス層26の各端部が面一になっている点で、第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド101(図1〜4参照)と異なっている。 13 and 14 show a thermal printhead according to a sixth embodiment of the present invention. FIG. 13 is a plan view of a main part, and FIG. 14 is a cross-sectional view taken along the line XIV-XIV in FIG. The thermal print head 106 shown in FIGS. 13 and 14 has a first structure in that the ends of the first auxiliary electrode layer 391, the connecting portion 33, and the tip glass layer 26 are flush with each other on the downstream side in the y direction. It is different from the thermal print head 101 (see FIGS. 1 to 4) according to the embodiment.

本実施形態においても、連結部33は全体が部分グレーズ21または先端ガラス層26上にあり、各端部が部分グレーズ21および先端ガラス層26からはみ出さないように形成されている。よって、連結部33は、基板1に接することがない。したがって、基板1とガラス層2と連結部33とが接する部分がないので、当該部分での密着不良は発生しない。これにより、補助電極層39の盛り上がりの発生を抑制することができる。 Also in the present embodiment, the connecting portion 33 is entirely on the partial glaze 21 or the tip glass layer 26, and each end portion is formed so as not to protrude from the partial glaze 21 and the tip glass layer 26. Therefore, the connecting portion 33 does not come into contact with the substrate 1. Therefore, since there is no portion where the substrate 1 is in contact with the glass layer 2 and the connecting portion 33, poor adhesion does not occur at that portion. As a result, it is possible to suppress the occurrence of swelling of the auxiliary electrode layer 39.

本発明に係るサーマルプリントヘッドは、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係るサーマルプリントヘッドの各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。 The thermal print head according to the present invention is not limited to the above-described embodiment. The specific configuration of each part of the thermal print head according to the present invention can be freely redesigned.

101〜107:サーマルプリントヘッド
1 :基板
11 :主面
12 :裏面
2 :ガラス層
21 :部分グレーズ
22 :ダイボンディンググレーズ
25 :中間ガラス層
26 :先端ガラス層
27 :支持ガラス層
3 :電極層
31 :共通電極
32 :帯状部(第1帯状部)
33 :連結部
34 :迂回部
35 :個別電極
36 :帯状部(第1帯状部)
37 :ボンディング部
39 :補助電極層
391 :第1補助電極層
392 :第2補助電極層
4 :抵抗体層
41 :発熱部
5 :保護層
71 :駆動IC
72 :パッド
73 :ワイヤ
82 :封止樹脂
83 :コネクタ
101-107: Thermal print head 1: Substrate 11: Main surface 12: Back surface 2: Glass layer 21: Partial glaze 22: Die bonding glaze 25: Intermediate glass layer 26: Tip glass layer 27: Support glass layer 3: Electrode layer 31 : Common electrode 32: Band-shaped part (first band-shaped part)
33: Connecting part 34: Bypass part 35: Individual electrode 36: Band-shaped part (first band-shaped part)
37: Bonding part 39: Auxiliary electrode layer 391: First auxiliary electrode layer 392: Second auxiliary electrode layer 4: Resistor layer 41: Heat generating part 5: Protective layer 71: Drive IC
72: Pad 73: Wire 82: Encapsulating resin 83: Connector

Claims (14)

一方の面である主面を有する基板と、
前記基板の主面に形成されたガラス層と、
前記ガラス層の前記基板とは反対側の面に形成された電極層と、
前記電極層の前記基板とは反対側の面に形成された補助電極層と、
前記基板の主面側に形成された抵抗体層と、
を備えており、
前記基板の厚さ方向視において、前記補助電極層に重なる領域では、前記電極層と前記基板との間に前記ガラス層が介在しており、
前記ガラス層は、
主走査方向に延びる帯状で断面が円弧状の部分グレーズと、
前記部分グレーズの副走査方向下流側に設けられた先端ガラス層と、
をさらに備え、
前記基板の厚さ方向視において、前記電極層は前記先端ガラス層の端縁の外側まで延びており、かつ、前記先端ガラス層は前記補助電極層の端縁の外側まで延びている、
ことを特徴とするサーマルプリントヘッド。
A substrate having a main surface, which is one surface,
A glass layer formed on the main surface of the substrate and
An electrode layer formed on the surface of the glass layer opposite to the substrate,
An auxiliary electrode layer formed on the surface of the electrode layer opposite to the substrate,
The resistor layer formed on the main surface side of the substrate and
Is equipped with
In the area where the auxiliary electrode layer overlaps in the thickness direction of the substrate, the glass layer is interposed between the electrode layer and the substrate.
The glass layer is
Partial glaze with a strip-shaped and arc-shaped cross section extending in the main scanning direction,
The tip glass layer provided on the downstream side in the sub-scanning direction of the partial glaze,
With more
In the thickness direction of the substrate, the electrode layer extends to the outside of the edge of the tip glass layer, and the tip glass layer extends to the outside of the edge of the auxiliary electrode layer.
A thermal print head that features that.
前記先端ガラス層は、前記部分グレーズより軟化点が低い、 The tip glass layer has a lower softening point than the partial glaze.
請求項1に記載のサーマルプリントヘッド。The thermal print head according to claim 1.
前記抵抗体層は、少なくとも前記部分グレーズ上に配置されている、
請求項1または2に記載のサーマルプリントヘッド。
The resistor layer is arranged at least on the partial glaze.
The thermal printhead according to claim 1 or 2.
前記ガラス層は、前記部分グレーズに対して、副走査方向に離間した位置に設けられたダイボンディンググレーズをさらに備えており、
前記ダイボンディンググレーズ上に設けられ、前記電極層に接続しており、前記抵抗体層を選択的に通電させる駆動ICをさらに備えている、
請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The glass layer further includes die bonding glaze provided at a position separated from the partial glaze in the sub-scanning direction.
A drive IC provided on the die bonding glaze, connected to the electrode layer, and selectively energizing the resistor layer is further provided.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 3.
前記ガラス層は、非晶質ガラスからなる、
請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The glass layer is made of amorphous glass.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 4.
前記基板は、Al23からなる、
請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The substrate is made of Al 2 O 3 .
The thermal print head according to any one of claims 1 to 5.
前記電極層は、Auを含んでいる、
請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The electrode layer contains Au.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 6.
前記補助電極層は、前記電極層より抵抗率の小さい材料からなる、
請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The auxiliary electrode layer is made of a material having a resistivity lower than that of the electrode layer.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 7.
前記補助電極層は、Agを含んでいる、
請求項に記載のサーマルプリントヘッド。
The auxiliary electrode layer contains Ag.
The thermal print head according to claim 8.
前記補助電極層の前記基板とは反対側の面に形成されており、かつ、抵抗率が前記補助電極層以下である第2補助電極層をさらに備えている、
請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
A second auxiliary electrode layer formed on the surface of the auxiliary electrode layer opposite to the substrate and having a resistivity equal to or lower than that of the auxiliary electrode layer is further provided.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 9.
前記電極層は、
副走査方向に延び、主走査方向に互いに離間して配置される複数の第1帯状部、および、複数の前記第1帯状部と接続し、主走査方向に延びる連結部を有する共通電極と、
副走査方向に延びる第2帯状部をそれぞれ有し、前記基板の主走査方向に互いに離間して配置される複数の個別電極と、
を備えており、
前記補助電極層は、前記連結部に形成されている、
請求項1ないし10のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
The electrode layer is
A common electrode having a plurality of first band-shaped portions extending in the sub-scanning direction and arranged apart from each other in the main scanning direction, and a connecting portion connected to the plurality of the first strip-shaped portions and extending in the main scanning direction.
A plurality of individual electrodes each having a second strip extending in the sub-scanning direction and arranged apart from each other in the main scanning direction of the substrate.
Is equipped with
The auxiliary electrode layer is formed in the connecting portion.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 10.
前記抵抗体層は、前記主走査方向に延びる帯状であり、
前記第1帯状部および前記第2帯状部は、前記主走査方向において交互に、前記抵抗体層に交差するように配置されている、
請求項11に記載のサーマルプリントヘッド。
The resistor layer has a strip shape extending in the main scanning direction.
The first strip and the second strip are arranged alternately in the main scanning direction so as to intersect the resistor layer.
The thermal print head according to claim 11.
前記抵抗体層は、前記第1帯状部および前記第2帯状部に対して、前記基板とは反対側に配置されている、
請求項12に記載のサーマルプリントヘッド。
The resistor layer is arranged on the side opposite to the substrate with respect to the first strip-shaped portion and the second strip-shaped portion.
The thermal print head according to claim 12.
前記抵抗体層、前記電極層および前記補助電極層を覆う保護層をさらに備えている、
請求項1ないし13のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。
A protective layer that covers the resistor layer, the electrode layer, and the auxiliary electrode layer is further provided.
The thermal print head according to any one of claims 1 to 13.
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