JP6921482B2 - 素子、これを有する発振器及び情報取得装置 - Google Patents
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Description
第1実施形態は、マイクロストリップ構造(以下、「マイクロストリップ」と呼ぶ)を有する素子に係わる。マイクロストリップの伸長方向である第1の方向に垂直な面における素子100の断面は、図1に示す通りである。素子100は、上部導電体層(第1の導電体層)102と、下部導電体層(第2の導電体層)101と、半導体110と、を有するマイクロストリップを有する。半導体110は、活性層105と、活性層105を挟むキャリアドープされた第1の半導体層103及び第2の半導体層104とを有する。
1/Y=1/(GRTD+iωCRTD)+Rn+Rcont1/(1+iωRcont1Ccont1)+Rcont2/(1+iωRcont2Ccont2) (1)
Z=iωLMM+Zsk (2)
ここで、LMM=4π・dMM/c2(CGS単位系)はマイクロストリップのインダクタンスで、Zskは下部導電体層103の表皮効果を考慮したインピーダンス(ストライプの単位長さ及び単位長幅あたり)で、cは自由空間での光速である。RTD付き導波路の伝搬定数γ(“y”方向)は次の式で表される。
γ=√−YZ (3)
第2実施形態は、0.3THzと1.4THzの周波数で動作する素子700に関する。本実施形態では、上部導電体層102の形状が第1実施形態と異なる。その他の構成は、第1実施形態と同様である。なお、第1実施形態と同様の構成には、図7に同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。0.3THzの例に対しては、比較的大きいが容易に作製できる10Ωμm2の接触抵抗を有する構造を用いる。活性層105としては、比較的大きい障壁層厚さ(dbar=1.4nm)のRTDを採用する。RTD(活性層)105の他のパラメータは図5で規定され、そのバンド構造は図4に示す。半導体110の幅Wと厚さdMMは、それぞれ、W=1μmでdMM=0.5μmである。
第3実施形態の素子800は、バイアス線501を有する点が第1実施形態と異なる。バイアス線501は、素子800にバイアス電圧をかけるための配線である。ここでは、導波路の発振への影響を最小化するようなバイアス線501とマイクロストリップ構造との接続法を示す。図8(a)、図8(b)は、素子800の構成の一例を説明する図である。
本実施形態に係る発振器200について、図9を用いて説明する。図9(a)は本実施形態に係る発振器200の外観を示す斜視図であり、図9(b)はそのA−A’断面図、である。
Re[YRTD]+Re[YANT]≦0 (4)
Im[YRTD]+Im[YANT]=0 (5)
マイクロストリップライン208は、ストリップ導体206と接地導体204との間に0.1μmの窒化シリコンからなる誘電体205bを配置した構造である。マイクロストリップライン208の具体的な寸法は、アンテナ202との接続部から、幅6μm、長さ100μmの線路が伸びており、さらに幅20μm、全長600μmの線路が伸びている。幅20μm、全長600μmの線路は、MIM容量209と接続されている。
これまで説明してきた素子を用い、被検体の状態などの情報を取得する情報取得装置を提供することができる。図12に、情報取得装置の構成の一例を示す。例えば、上述の各実施形態の素子を発振器として用い、発振器の端部に被検体を配置する。被検体は導波路から射出される電磁波と相互作用するため、射出された電磁波は何らかの影響をうける。被検体に照射された電磁波は反射したり透過したりするため、それを検出器で検出する。その後、パソコン等の演算部で、検出した信号から被検体の情報(状態など)を取得する。具体的には、薬の状態などを検査する産業用検査装置などの応用が想定される。
101 第2の導電体層
102 第1の導電体層
103 第1の半導体層
104 第2の半導体層
105 2重障壁共鳴トンネルダイオード(活性層、RTD)
110 半導体
Claims (12)
- 電磁波を放射することができる活性層を有する素子であって、
第1の方向に延びる第1の導電体層と、前記第1の方向に延びる第2の導電体層と、前記第1の導電体層と前記第2の導電体層との間に配置されている半導体、とを有し、
前記半導体は、前記第1の導電体層と接触している第1の半導体層と、前記第2の導電体層と接触している第2の半導体層と、前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に配置されている前記活性層と、を有し、
前記第1の半導体層、前記活性層及び前記第2の半導体層が積層されている方向を第2の方向とすると、
前記半導体は、前記第1の方向及び前記第2の方向と交差する方向における幅が0.5μm以上5μm以下であり、且つ、前記第2の方向における厚さが0.1μm以上1.0μm以下であり、
前記活性層は、2つの障壁層を有する2重障壁共鳴トンネルダイオードであり、
前記2重障壁共鳴トンネルダイオードの前記2つの障壁層のそれぞれは、前記第2の方向における厚さが0.7nm以上2.0nm以下であり、
金属である前記第1の導電体層と前記半導体との間の接触抵抗、及び、金属である前記第2の導電体層と前記半導体との間の接触抵抗は、それぞれ、1Ωμm2以上10Ωμm2以下の範囲にあり、
前記第1の導電体層と前記半導体が同じ形状を有する場合と比べて、前記形状の異なりによる当該素子の伝搬定数の変化は、50%以下であることを特徴とする素子。 - 電磁波を放射することができる活性層を有する素子であって、
第1の方向に延びる第1の導電体層と、前記第1の方向に延びる第2の導電体層と、前記第1の導電体層と前記第2の導電体層との間に配置されている半導体、とを有し、
前記半導体は、前記第1の導電体層と接触している第1の半導体層と、前記第2の導電体層と接触している第2の半導体層と、前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に配置されている前記活性層と、を有し、
前記第1の半導体層、前記活性層及び前記第2の半導体層が積層されている方向を第2の方向とすると、
前記半導体は、前記第1の方向及び前記第2の方向と交差する方向における幅が0.5μm以上5μm以下であり、且つ、前記第2の方向における厚さが0.1μm以上1.0μm以下であり、
前記活性層は、2つの障壁層を有する2重障壁共鳴トンネルダイオードであり、
前記2重障壁共鳴トンネルダイオードの前記2つの障壁層のそれぞれは、前記第2の方向における厚さが0.7nm以上2.0nm以下であり、
前記第1の導電体層と前記半導体との間の接触面積は、前記2重障壁共鳴トンネルダイオードの前記面における面積の70%以上100%未満であり、
前記第1の導電体層と前記半導体が同じ形状を有する場合と比べて、前記形状の異なりによる当該素子の伝搬定数の変化は、50%以下であることを特徴とする素子。 - 前記第1の導電体層はMoであることを特徴とする請求項1に記載の素子。
- 前記半導体は、前記第2の方向における厚さが0.2μm以上1.0μm以下であることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の素子。
- 前記第1の導電体層と前記半導体との間の接触抵抗及び前記第2の導電体層と前記半導体との間の接触抵抗は、それぞれ、1Ωμm2以上10Ωμm2以下の範囲にあることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の素子。
- 0.1THz以上2.0THz以下の範囲の周波数において、前記2重障壁共鳴トンネルダイオードにより付与される利得が当該素子における損失より大きいことを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の素子。
- 前記第1の導電体層と前記第2の導電体層の少なくとも一方は、金属板、或いは金属膜が表面に形成された基板であることを特徴とする請求項2に記載の素子。
- 前記第1の導電体層と前記第2の導電体層のうちの少なくとも一方は、前記第1の方向と交差する面における断面がT字形状であり、
前記T字形状の断面は、前記半導体と接触している狭い底部と該底部の反対側の広い上部とを持つことを特徴とする請求項1から7の何れか1項に記載の素子。 - バイアス電圧をかけるための配線を更に有し、
前記配線と前記第1の導電体層とは、前記第1の導電体層と前記第2の導電体層と前記半導体とを有するマイクロストリップの共振定在波の節で接続されていることを特徴とする請求項1から8の何れか1項に記載の素子。 - 請求項1から9の何れか1項に記載の素子を含み、0.1THz以上2.0THz以下の周波数の電磁波を発振することを特徴とする発振器。
- 0.1THz以上2.0THz以下の周波数の電磁波を発振する発振器であって、
請求項1から9の何れか1項に記載の素子を含む利得部と、電磁波を共振するアンテナと、を含むことを特徴とする発振器。 - 被検体の情報を取得する情報取得装置であって、
前記被検体に電磁波を射出する発振器と、前記被検体からの電磁波を検出する検出器と、を有し、
前記発振器が、請求項10又は11に記載の発振器であることを特徴とする情報取得装置。
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