JP6914993B2 - モノクロメーターおよび荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
第1ウィーンフィルターと、
前記第1ウィーンフィルターの後段に配置された第2ウィーンフィルターと、
前記第2ウィーンフィルターの後段に配置された第3ウィーンフィルターと、
前記第3ウィーンフィルターの後段に配置された第4ウィーンフィルターと、
前記第1ウィーンフィルターと前記第2ウィーンフィルターとの間、および前記第3ウィーンフィルターと前記第4ウィーンフィルターとの間の少なくとも一方に配置されたエネルギー選択スリットと、
を含み、
前記第1ウィーンフィルターと前記第2ウィーンフィルターとは、第1対称面に関して対称に配置され、
前記第3ウィーンフィルターと前記第4ウィーンフィルターとは、第2対称面に関して
対称に配置され、
前記第1ウィーンフィルターおよび前記第2ウィーンフィルターの対と、前記第3ウィーンフィルターと前記第4ウィーンフィルターの対とは、第3対称面に関して対称に配置され、
前記第1ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さ、前記第2ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さ、前記第3ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さ、および前記第4ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さは、等しい。
上記のモノクロメーターを含む。
1.1. モノクロメーターの構成
まず、第1実施形態に係るモノクロメーターについて図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係るモノクロメーター100の構成を示す図である。なお、図1では、異なるエネルギーの電子線の軌道を、実線と破線で表している。
用いたフィルターであり、電子線の光路中に電磁場を発生させる。
次に、モノクロメーター100の動作を、図1に示す電子線の光線図を参照しながら説明する。
モノクロメーター100では、第1ウィーンフィルター10と、第2ウィーンフィルター20と、第3ウィーンフィルター30と、第4ウィーンフィルター40と、を含み、第1ウィーンフィルター10が発生させる電磁場の向きおよび強さ、第2ウィーンフィルター20が発生させる電磁場の向きおよび強さ、第3ウィーンフィルター30が発生させる電磁場の向きおよび強さ、および第4ウィーンフィルター40が発生させる電磁場の向きおよび強さは、等しい。そのため、モノクロメーター100では、上述したように、電子
線の位置分散および角度分散を低減できる。この結果、例えば、デフォーカスした電子線を照射するTEM観察において、試料に対して均一なエネルギーの電子線を照射できる。また、例えば、電子線を強く縮小しない条件でのSTEM観察において、均一なエネルギーの電子線による電子線散乱が可能となり、HAADF−STEMでの色収差の異方性を解消できる。
2.1. モノクロメーターの構成
次に、第2実施形態に係るモノクロメーターについて、図面を参照しながら説明する。図2は、第2実施形態に係るモノクロメーター200の構成を示す図である。以下、第2実施形態に係るモノクロメーター200において、第1実施形態に係るモノクロメーター100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
次に、モノクロメーター200の動作を、図2に示す電子線の光線図を参照しながら説明する。
束される。モノクロメーター200では、電子線の位置分散および角度分散がキャンセルされるため、モノクロメーター200を通過した後の電子線の収束面およびその前後において、エネルギー分散がキャンセルされ、仮想光源の形状は円となる。
モノクロメーター200では、第2ウィーンフィルター20と第3ウィーンフィルター30とが一体に構成されている。モノクロメーター200では、上述したモノクロメーター100と同様の作用効果を奏することができる。
次に、第3実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図3は、第3実施形態に係る電子顕微鏡300の構成を示す図である。
装置としては、例えば、走査透過電子顕微鏡(STEM)、走査電子顕微鏡(SEM)、収束イオンビーム装置(FIB装置)などが挙げられる。
Claims (4)
- 第1ウィーンフィルターと、
前記第1ウィーンフィルターの後段に配置された第2ウィーンフィルターと、
前記第2ウィーンフィルターの後段に配置された第3ウィーンフィルターと、
前記第3ウィーンフィルターの後段に配置された第4ウィーンフィルターと、
前記第1ウィーンフィルターと前記第2ウィーンフィルターとの間、および前記第3ウィーンフィルターと前記第4ウィーンフィルターとの間の少なくとも一方に配置されたエネルギー選択スリットと、
を含み、
前記第1ウィーンフィルターと前記第2ウィーンフィルターとは、第1対称面に関して対称に配置され、
前記第3ウィーンフィルターと前記第4ウィーンフィルターとは、第2対称面に関して対称に配置され、
前記第1ウィーンフィルターおよび前記第2ウィーンフィルターの対と、前記第3ウィーンフィルターと前記第4ウィーンフィルターの対とは、第3対称面に関して対称に配置され、
前記第1ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さ、前記第2ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さ、前記第3ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さ、および前記第4ウィーンフィルターが発生させる電磁場の向きおよび強さは、等しい、モノクロメーター。 - 請求項1において、
前記エネルギー選択スリットは、前記第1対称面および前記第2対称面に配置されている、モノクロメーター。 - 請求項1または2において、
前記第2ウィーンフィルターと前記第3ウィーンフィルターとは、一体に設けられている、モノクロメーター。 - 請求項1ないし3のいずれか1項に記載のモノクロメーターを含む、荷電粒子線装置。
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JP2019116967A JP6914993B2 (ja) | 2019-06-25 | 2019-06-25 | モノクロメーターおよび荷電粒子線装置 |
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