JP6912045B2 - 膜厚測定方法およびその装置 - Google Patents
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- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 52
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 43
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 38
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 32
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 10
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 5
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
なお、従来においては、薄膜が形成される基材のサンプルに光を照射し、このサンプルについてのトレンドを予め求めておき、かつこのトレンドを用いて薄膜の光強度スペクトルを補正することも検討されてきた。ただし、このような手段によれば、サンプルを別途準備する必要があるなど、煩雑である。
図3(d)には、従来用いられてきたフーリエ変換を利用した演算を施して得られるパワースペクトルが示されている。平坦でないトレンドに由来する0μm付近のパワースペクトル成分に、期待される物理膜厚(今回の例では0.5μm)の成分が埋もれており、パワースペクトルのピークは、0.5μmから位置ずれしている。このことから理解されるように、従来の膜厚演算手法は、平坦でないトレンドをもつ波形に対して余り有効ではない。
また、本実施形態によれば、基材4のサンプルを別途準備して、そのトレンドを事前に求めておくといった必要もない。さらに、サンプルを別途準備してそのトレンドを事前に求めておく手法によれば、基材4や薄膜3の表面形状などにより、光の反射率・透過率が相違したものとなり、トレンドを適切に除ききれない場合があるが、本実施形態によれば、そのような不具合もない。
光源は、所望の分光強度スペクトルを得るのに必要な波長範囲をもつ光源であればよく、白色光源以外の光源を用いることもできる。
1 光源
2 光検出器
3 薄膜
4 基材
5 データ処理手段
Claims (3)
- 所定の波長範囲の光を薄膜に照射し、前記光の前記薄膜による干渉光の分光強度を測定する分光強度測定ステップと、
この分光強度測定ステップにより得られた前記干渉光の分光強度に関するデータをフーリエ変換し、かつこの変換により得られたパワースペクトルに現れるピークの位置に基づいて前記薄膜の厚さを算出する厚さ算出ステップと、
を有する、膜厚測定方法であって、
前記干渉光の分光強度のトレンドを求め、かつ前記干渉光の分光強度から前記トレンドの影響を除外または減少させた分光強度補正データを作成するステップを、さらに有しており、
前記厚さ算出ステップにおいては、前記干渉光の分光強度に関するデータとして、前記分光強度補正データを用い、前記フーリエ変換の対象とし、
前記トレンドを求める手法として、測定された分光強度のデータに平滑化を施すことを特徴とする、膜厚測定方法。 - 請求項1に記載の膜厚測定方法であって、
前記分光強度補正データは、前記トレンドと測定された分光強度との比または差に基づいて求める、膜厚測定方法。 - 所定の波長範囲の光を薄膜に照射するための光源と、
前記光の前記薄膜による干渉光の分光強度を測定するための光検出器と、
この光検出器を用いて得られた前記干渉光の分光強度に関するデータをフーリエ変換し、かつこの変換により得られたパワースペクトルに現れるピークの位置に基づいて前記薄膜の厚さを算出可能なデータ処理手段と、
を備えている、膜厚測定装置であって、
前記データ処理手段は、測定された分光強度のデータに平滑化を施すことにより前記干渉光の分光強度のトレンドを求め、かつ前記干渉光の分光強度から前記トレンドの影響を除外または減少させた分光強度補正データを作成するとともに、前記干渉光の分光強度に関するデータとして、前記分光強度補正データを用い、前記フーリエ変換の対象とすることが可能な構成とされていることを特徴とする、膜厚測定装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018134217 | 2018-07-17 | ||
JP2018134217 | 2018-07-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020016650A JP2020016650A (ja) | 2020-01-30 |
JP6912045B2 true JP6912045B2 (ja) | 2021-07-28 |
Family
ID=69581579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019130910A Active JP6912045B2 (ja) | 2018-07-17 | 2019-07-16 | 膜厚測定方法およびその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6912045B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024105835A1 (ja) * | 2022-11-17 | 2024-05-23 | 三菱電機株式会社 | 光測定装置、取得方法、取得プログラム、及び記録媒体 |
CN116429257A (zh) * | 2023-03-11 | 2023-07-14 | 上海精测半导体技术有限公司 | 一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2937004B2 (ja) * | 1994-04-11 | 1999-08-23 | 東レ株式会社 | 薄膜の膜厚測定方法および測定装置ならびに光学フィルターの製造方法ならびに高分子フィルムの製造方法 |
JPH10311708A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-11-24 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 干渉式膜厚計 |
JP3711723B2 (ja) * | 1997-11-20 | 2005-11-02 | 株式会社デンソー | 半導体厚測定装置 |
JP2009053157A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Ricoh Co Ltd | 薄膜コート層膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
JP2011237355A (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-24 | Panasonic Corp | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
KR20150012509A (ko) * | 2013-07-25 | 2015-02-04 | 삼성전자주식회사 | 피측정물의 두께를 측정하는 방법 및 장치 |
JP6404172B2 (ja) * | 2015-04-08 | 2018-10-10 | 株式会社荏原製作所 | 膜厚測定方法、膜厚測定装置、研磨方法、および研磨装置 |
-
2019
- 2019-07-16 JP JP2019130910A patent/JP6912045B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020016650A (ja) | 2020-01-30 |
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