JP6904666B2 - Optical laminate - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate.

近年、スマートフォンに代表されるスマートデバイス、またデジタルサイネージやウィンドウディスプレイなどの表示装置が強い外光の下使用される機会が増加している。それに伴い、表示装置自体または表示装置に用いられるタッチパネル部やガラス基板、金属配線等の反射体による外光反射や背景の映り込み等の問題が生じている。特に、近年実用化されてきている有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置は、反射性の高い金属層を有するため、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、円偏光板を視認側に反射防止フィルムとして設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている(例えば、特許文献1)。 In recent years, there are increasing opportunities for smart devices such as smartphones and display devices such as digital signage and window displays to be used under strong external light. Along with this, problems such as external light reflection by the display device itself or a touch panel unit used for the display device, a glass substrate, a reflector such as a metal wiring, and reflection of the background have arisen. In particular, an organic electroluminescence (EL) display device that has been put into practical use in recent years tends to cause problems such as reflection of external light and reflection of a background because it has a highly reflective metal layer. Therefore, it is known that these problems can be prevented by providing a circularly polarizing plate as an antireflection film on the visual recognition side (for example, Patent Document 1).

近年、有機EL表示装置のフレキシブル化・屈曲可能化に対する要望が強まっている。円偏光板をフレキシブル性の高い有機EL表示装置に用いると、該表示装置を屈曲させた際に、円偏光板にクラックや破断が生じ、表示特性が著しく低下するという問題がある。特に、フォルダブルと呼ばれる折り畳み可能な表示装置においては本問題が顕著となる。 In recent years, there has been an increasing demand for flexible and flexible organic EL display devices. When a circularly polarizing plate is used in an organic EL display device having high flexibility, there is a problem that when the display device is bent, the circularly polarizing plate is cracked or broken, and the display characteristics are significantly deteriorated. In particular, this problem becomes remarkable in a foldable display device called foldable.

特開2006−171235号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-171235

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、耐折性に優れ、屈曲可能または折りたたみ可能な有機EL表示装置にも好適に適用され得る光学積層体を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is an optical lamination which is excellent in folding resistance and can be suitably applied to a bendable or foldable organic EL display device. To provide the body.

本発明の光学積層体は、基材と、基材の少なくとも片側に配置される偏光子とを備え、該基材と該偏光子との層間剥離力が、0.5N/15mm以上であり、曲率半径2mmで10万回屈曲させた後において、該基材/該偏光子間での層間剥離がなく、かつ、該偏光子の破断およびクラックがない。
1つの実施形態においては、本発明の光学積層体は、25℃における引っ張り弾性率が、1.5GPa以上である。
1つの実施形態においては、上記基材と上記偏光子とが、接着剤層を介して積層されている。
1つの実施形態においては、本発明の光学積層体は、有機EL表示装置の反射防止フィルムとして用いられる。
本発明の別の局面によれば、有機EL表示装置が提供される。この有機EL表示装置は、上記光学積層体を備える。
The optical laminate of the present invention includes a base material and a polarizer arranged on at least one side of the base material, and the delamination force between the base material and the polarizer is 0.5 N / 15 mm or more. After bending 100,000 times with a radius of curvature of 2 mm, there is no delamination between the base material / the polarizer, and there is no breakage or cracking of the polarizer.
In one embodiment, the optical laminate of the present invention has a tensile elastic modulus of 1.5 GPa or more at 25 ° C.
In one embodiment, the substrate and the polarizer are laminated via an adhesive layer.
In one embodiment, the optical laminate of the present invention is used as an antireflection film for an organic EL display device.
According to another aspect of the present invention, an organic EL display device is provided. This organic EL display device includes the above optical laminate.

本発明の実施形態によれば、基材と偏光子とを備え、基材と偏光子との層間剥離力を特定の範囲とすることにより、屈曲が繰り返されても、剥離および破断が生じ難い光学積層体を得ることができる。このように耐折性優れる光学積層体は、屈曲可能または折りたたみ可能な有機EL表示装置にも好適に適用され得る。 According to the embodiment of the present invention, by providing the base material and the polarizer and setting the delamination force between the base material and the polarizer within a specific range, peeling and breaking are unlikely to occur even if bending is repeated. An optical laminate can be obtained. As described above, the optical laminate having excellent fold resistance can be suitably applied to a bendable or foldable organic EL display device.

本発明の1つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the optical laminated body by one Embodiment of this invention. 本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the optical laminated body by another embodiment of this invention. 本発明の1つの実施形態による有機EL表示装置の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the organic EL display device by one Embodiment of this invention. 本発明の1つの実施形態による有機EL表示装置に用いられる有機EL素子の概略断面図である。It is schematic cross-sectional view of the organic EL element used in the organic EL display device by one Embodiment of this invention. 実施例および比較例の耐折性試験に用いられる耐折試験機を説明する図である。It is a figure explaining the folding resistance tester used for the folding resistance test of an Example and a comparative example.

以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 Hereinafter, typical embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定したフィルムの面内位相差である。例えば、「Re(450)」は、23℃における波長450nmの光で測定したフィルムの面内位相差である。Re(λ)は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Re=(nx−ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長550nmの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(450)」は、23℃における波長450nmの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Rth=(nx−nz)×dによって求められる。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(5)液晶化合物の配向固化層
「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。
(6)角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
(Definition of terms and symbols)
Definitions of terms and symbols herein are as follows.
(1) Refractive index (nx, ny, nz)
"Nx" is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximized (that is, the slow-phase axis direction), and "ny" is the in-plane direction orthogonal to the slow-phase axis (that is, the phase-advance axis direction). Is the refractive index of, and "nz" is the refractive index in the thickness direction.
(2) In-plane phase difference (Re)
“Re (λ)” is the in-plane phase difference of the film measured with light having a wavelength of λ nm at 23 ° C. For example, "Re (450)" is an in-plane phase difference of a film measured with light having a wavelength of 450 nm at 23 ° C. Re (λ) is obtained by the formula: Re = (nx−ny) × d, where d (nm) is the thickness of the film.
(3) Phase difference in the thickness direction (Rth)
“Rth (λ)” is the phase difference in the thickness direction of the film measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. For example, "Rth (450)" is a phase difference in the thickness direction of a film measured with light having a wavelength of 450 nm at 23 ° C. Rth (λ) is obtained by the formula: Rth = (nx−nz) × d, where d (nm) is the thickness of the film.
(4) Nz coefficient The Nz coefficient is obtained by Nz = Rth / Re.
(5) Oriented solidified layer of liquid crystal compound The "aligned solidified layer" means a layer in which a liquid crystal compound is oriented in a predetermined direction in the layer and the oriented state is fixed. The "oriented solidified layer" is a concept including an oriented cured layer obtained by curing a liquid crystal monomer.
(6) Angle When referring to an angle in the present specification, the angle includes an angle in both clockwise and counterclockwise directions unless otherwise specified.

A.光学積層体の全体構成
図1は、本発明の1つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。本実施形態の光学積層体100は、基材10と、基材10の少なくとも片側に配置される偏光子20とを備える。基材10は可撓性である。1つの実施形態において、基材10は、表面保護層として、有機EL表示装置のカバーガラスを代替する機能を有し、かつ、偏光子20の保護層として機能する。カバーガラスを代替する結果、光学積層体(結果として、有機EL表示装置)の薄型化が可能となる。好ましくは、基材10と偏光子20とは、接着剤層を介して積層される(図示せず)。
A. Overall Configuration of Optical Laminates FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention. The optical laminate 100 of the present embodiment includes a base material 10 and a polarizer 20 arranged on at least one side of the base material 10. The base material 10 is flexible. In one embodiment, the base material 10 has a function of substituting the cover glass of the organic EL display device as a surface protective layer, and also functions as a protective layer of the polarizer 20. As a result of substituting the cover glass, the optical laminate (as a result, the organic EL display device) can be made thinner. Preferably, the base material 10 and the polarizer 20 are laminated via an adhesive layer (not shown).

上記基材と偏光子との層間剥離力は、0.5N/15mm以上であり、好ましくは1N/15mm以上であり、より好ましくは2N/15mm以上であり、さらに好ましくは2.5N/15mm以上であり、より好ましくは3N/15mm以上である。基材と偏光子との層間剥離力の上限は、例えば、5N/15mmである。上記層間剥離力は、光学積層体をガラス板に固定した後、引っ張り試験機により、剥離角度:90°、剥離速度10m/minの条件で、基材と偏光子とを剥離させた際の剥離力を意味する。なお、基材と偏光子との層間剥離力は、例えば、基材と偏光子との間に配置される接着剤層の特性により調整され得る。 The delamination force between the base material and the polarizer is 0.5 N / 15 mm or more, preferably 1 N / 15 mm or more, more preferably 2 N / 15 mm or more, and further preferably 2.5 N / 15 mm or more. It is more preferably 3N / 15mm or more. The upper limit of the delamination force between the base material and the polarizer is, for example, 5N / 15 mm. The delamination force is the peeling force when the base material and the polarizer are peeled off under the conditions of a peeling angle of 90 ° and a peeling speed of 10 m / min by a tensile tester after fixing the optical laminate to a glass plate. Means power. The delamination force between the base material and the polarizer can be adjusted, for example, by the characteristics of the adhesive layer arranged between the base material and the polarizer.

本発明においては、上記のように基材と偏光子との層間剥離力を特定値以上とし、基材と偏光子とを十分に密着させることにより、光学積層体を屈曲させた際の偏光子の破断およびクラックを防止することができる。より詳細には、光学積層体を屈曲させた際に偏光子の剥離が生じることを防止することで、該剥離をきっかけとして生じる偏光子の破断およびクラックが防止される。本発明の光学積層体は、屈曲が繰り返されても、剥離および破断が生じ難く、屈曲可能または折りたたみ可能な有機EL表示装置に好適に適用され得る。1つの実施形態においては、基材と偏光子との層間剥離力は、2N/15mm以上である。このような範囲であれば、上記効果はより顕著となり、光学積層体を大きな屈曲率(例えば、屈曲部分の曲率半径が2mm未満)で複数回屈曲させた際にも、偏光子の破断およびクラックが防止される。 In the present invention, the delamination force between the base material and the polarizer is set to a specific value or more as described above, and the base material and the polarizer are sufficiently brought into close contact with each other so that the polarizing element is bent when the optical laminate is bent. Can prevent breakage and cracking. More specifically, by preventing peeling of the polarizer when the optical laminate is bent, breakage and cracking of the polarizer caused by the peeling are prevented. The optical laminate of the present invention is less likely to peel and break even when bent repeatedly, and can be suitably applied to a bendable or foldable organic EL display device. In one embodiment, the delamination force between the substrate and the polarizer is 2N / 15 mm or more. Within such a range, the above effect becomes more remarkable, and even when the optical laminate is bent a plurality of times with a large bending ratio (for example, the radius of curvature of the bent portion is less than 2 mm), the polarizer is broken and cracked. Is prevented.

本発明の光学積層体は、曲率半径2mmで10万回屈曲させた後において、基材/偏光子間での層間剥離がなく、かつ、偏光子の破断およびクラックがない。ここで、基材/偏光子間の層間剥離がないとは、偏光子が基材から剥離した部分の面積が、偏光子の基材側全面に対して、5%以下であることを意味する。なお、偏光子が基材から剥離した部分の面積は、偏光子の基材側全面に対して、好ましくは3%以下であり、より好ましくは1%以下である。最も好ましくは、偏光子は基材から全く剥離しない。上記屈曲は、基材側を内側として4mmφのマンドレルを挟み(すなわち、屈曲部の曲率半径を2mmとし)、屈曲角度175°で行われる(詳細は、後述)。 The optical laminate of the present invention has no delamination between the substrate and the polarizer after being bent 100,000 times with a radius of curvature of 2 mm, and there is no breakage or cracking of the polarizer. Here, the fact that there is no delamination between the substrate and the polarizer means that the area of the portion where the polarizer is detached from the substrate is 5% or less of the entire surface of the polarizer on the substrate side. .. The area of the portion where the polarizer is peeled off from the substrate is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, based on the entire surface of the polarizer on the substrate side. Most preferably, the polarizer does not detach from the substrate at all. The bending is performed at a bending angle of 175 ° with a mandrel of 4 mmφ sandwiched (that is, the radius of curvature of the bent portion is 2 mm) with the base material side inside (details will be described later).

好ましくは、本発明の光学積層体は、曲率半径1mmで10万回屈曲させた後において、基材/偏光子間での層間剥離がなく、かつ、偏光子の破断およびクラックがない。当該屈曲は、基材側を内側として2mmφのマンドレルを挟み、屈曲角度175°で行われる。 Preferably, the optical laminate of the present invention has no delamination between the substrate and the polarizer and no breakage or cracking of the polarizer after being bent 100,000 times with a radius of curvature of 1 mm. The bending is performed at a bending angle of 175 ° with a 2 mmφ mandrel sandwiched with the base material side inside.

図2は、本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。本実施形態の光学積層体101は、偏光子20の基材10とは反対側に、光学補償層30をさらに備える。1つの実施形態においては、光学補償層30と偏光子20との積層体が円偏光板として機能する。光学補償層30の偏光子20と反対側に導電層(図示せず)が設けられてもよい。このような導電層を設けることにより、光学積層体は、表示セル(有機ELセル)と偏光子との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。光学積層体の周縁部(より具体的には、有機EL表示装置のベゼルに対応する位置)に印刷層(図示せず)が形成されてもよい。印刷層は、基材10の偏光子20側(実質的には、樹脂フィルム12の偏光子20側)に形成されてもよく、光学補償層30の偏光子20と反対側に形成されてもよい。印刷層が光学補償層30の偏光子20と反対側に形成され、かつ、導電層および印刷層の両方が形成される場合には、代表的には、光学補償層と導電層との間に印刷層が形成され得る。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to another embodiment of the present invention. The optical laminate 101 of the present embodiment further includes an optical compensation layer 30 on the side of the polarizer 20 opposite to the base material 10. In one embodiment, the laminate of the optical compensation layer 30 and the polarizer 20 functions as a circularly polarizing plate. A conductive layer (not shown) may be provided on the side of the optical compensation layer 30 opposite to the polarizer 20. By providing such a conductive layer, the optical laminate can be applied to a so-called inner touch panel type input display device in which a touch sensor is incorporated between a display cell (organic EL cell) and a polarizer. A print layer (not shown) may be formed on the peripheral edge of the optical laminate (more specifically, a position corresponding to the bezel of the organic EL display device). The printing layer may be formed on the polarizer 20 side of the base material 10 (substantially, the polarizer 20 side of the resin film 12), or may be formed on the side opposite to the polarizer 20 of the optical compensation layer 30. good. When the print layer is formed on the side opposite to the polarizer 20 of the optical compensation layer 30 and both the conductive layer and the print layer are formed, typically, between the optical compensation layer and the conductive layer. A print layer can be formed.

1つの実施形態においては、上記光学補償層は、位相差フィルムで構成されている。この場合、当該位相差フィルムは、偏光子の保護層(内側保護層)としても機能し得る。その結果、光学積層体(結果として、有機EL表示装置)のさらなる薄型化に貢献し得る。なお、必要に応じて、偏光子と位相差フィルムとの間に内側保護層(内側保護フィルム)が配置されてもよい。 In one embodiment, the optical compensation layer is made of a retardation film. In this case, the retardation film can also function as a protective layer (inner protective layer) for the polarizer. As a result, it can contribute to further thinning of the optical laminate (as a result, the organic EL display device). If necessary, an inner protective layer (inner protective film) may be arranged between the polarizer and the retardation film.

別の実施形態においては、光学補償層は、液晶化合物の配向固化層(以下、単に液晶配向固化層と称する)の積層構造を有する。液晶化合物を用いることにより、得られる光学補償層のnxとnyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、光学積層体(結果として、有機EL表示装置)のさらなる薄型化を実現することができる。 In another embodiment, the optical compensation layer has a laminated structure of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound (hereinafter, simply referred to as a liquid crystal oriented solidified layer). By using the liquid crystal compound, the difference between nx and ny of the obtained optical compensation layer can be made much larger than that of the non-liquid crystal material, so that the thickness of the optical compensation layer for obtaining a desired in-plane phase difference can be obtained. Can be made much smaller. As a result, it is possible to further reduce the thickness of the optical laminate (as a result, the organic EL display device).

光学積層体が、偏光子および基材以外の層を有する場合、各層間における層間剥離力は、基材と偏光子との層間剥離力と同等であることが好ましい。具体的には、各層間(例えば、光学補償層/偏光子間、光学補償層/導電層間等)における層間剥離力は、好ましくは0.5N/15mm以上であり、より好ましくは1N/15mm以上であり、さらに好ましくは2N/15mm以上であり、さらに好ましくは2.5N/15mm以上であり、特に3N/15mm以上である。 When the optical laminate has a layer other than the polarizer and the base material, the delamination force between the layers is preferably equal to the delamination force between the base material and the polarizer. Specifically, the delamination force between each layer (for example, between the optical compensation layer / the polarizer, the optical compensation layer / the conductive layer, etc.) is preferably 0.5 N / 15 mm or more, and more preferably 1 N / 15 mm or more. It is more preferably 2N / 15mm or more, further preferably 2.5N / 15mm or more, and particularly 3N / 15mm or more.

図示していないが、本発明の光学積層体は、任意の適切なその他の層をさらに備え得る。その他の層としては、反射防止層、防汚層等が挙げられる。 Although not shown, the optical laminate of the present invention may further comprise any suitable other layer. Examples of other layers include an antireflection layer and an antifouling layer.

1つの実施形態においては、本発明の光学積層体は長尺状である。長尺状の光学積層体は、例えば、ロール状に巻回されて保管および/または運搬され得る。 In one embodiment, the optical laminate of the present invention is elongated. The elongated optical laminate can be, for example, rolled into a roll for storage and / or transportation.

本発明の光学積層体の総厚みは、代表的には30μm〜300μmであり、好ましくは40μm〜250μmである。 The total thickness of the optical laminate of the present invention is typically 30 μm to 300 μm, preferably 40 μm to 250 μm.

本発明の光学積層体の引っ張り弾性率は、25℃において、好ましくは1.5GPa以上であり、より好ましくは2.0GPa以上であり、さらに好ましくは2.0GPa〜10GPaである。このような範囲であれば、光学積層体全体として破断しがたい(すなわち、基材および偏光子ともに破断しがたい)光学積層体を得ることができる。光学積層体の引っ張り弾性率は、例えば、基材を構成する材料を適切に選択することにより、所望の値とすることができる。引っ張り弾性率は、JIS K 7127(試験片:ダンベル試験片)に準じて測定され得る。 The tensile elastic modulus of the optical laminate of the present invention is preferably 1.5 GPa or more, more preferably 2.0 GPa or more, and further preferably 2.0 GPa to 10 GPa at 25 ° C. Within such a range, it is possible to obtain an optical laminate that is hard to break as a whole (that is, both the base material and the polarizer are hard to break). The tensile elastic modulus of the optical laminate can be set to a desired value, for example, by appropriately selecting the material constituting the base material. The tensile modulus can be measured according to JIS K 7127 (test piece: dumbbell test piece).

上記の実施形態は適宜組み合わせてもよく、上記の実施形態における構成要素に当業界で自明の改変を加えてもよく、上記の実施形態における構成を光学的に等価な構成に置き換えてもよい。 The above embodiments may be combined as appropriate, the components of the above embodiments may be modified in the art, and the configurations of the above embodiments may be replaced with optically equivalent configurations.

本発明の実施形態による光学積層体は、画像表示装置(例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置)、好ましくは屈曲可能(ベンダブル)な画像表示装置、より好ましくは屈曲可能な有機EL表示装置、さらに好ましくは折りたたみ可能(フォルダブル)な有機EL表示装置に用いられる。以下、簡単のため、光学積層体が屈曲可能または折りたたみ可能な有機EL表示装置に適用される場合について説明するが、光学積層体が液晶表示装置にも同様に適用され得ることは当業者に自明である。 The optical laminate according to the embodiment of the present invention includes an image display device (for example, a liquid crystal display device, an organic EL display device), preferably a bendable image display device, and more preferably a bendable organic EL display device. More preferably, it is used for a foldable (foldable) organic EL display device. Hereinafter, for the sake of simplicity, a case where the optical laminate is applied to a bendable or foldable organic EL display device will be described, but it is obvious to those skilled in the art that the optical laminate can be similarly applied to a liquid crystal display device. Is.

以下、光学積層体の構成要素について説明する。 Hereinafter, the components of the optical laminate will be described.

B.基材
1つの実施形態においては、基材は、ハードコート層と樹脂フィルムとを含む。光学積層体において、ハードコート層は、樹脂フィルムの偏光子とは反対側の面に配置され得る。樹脂フィルムの構成に応じて、ハードコート層は省略されてもよく、樹脂フィルムの両側にハードコート層が形成されてもよい。基材は、偏光子に樹脂フィルムまたはハードコート層と樹脂フィルムの積層体を直接貼り合せて形成されてもよく、後述の樹脂を含む塗工液を偏光子に塗工して形成されてもよい。
B. Substrate In one embodiment, the substrate comprises a hard coat layer and a resin film. In the optical laminate, the hard coat layer can be arranged on the surface of the resin film opposite to the polarizer. Depending on the structure of the resin film, the hard coat layer may be omitted, or hard coat layers may be formed on both sides of the resin film. The base material may be formed by directly laminating a resin film or a laminate of a hard coat layer and a resin film on a polarizing element, or may be formed by applying a coating liquid containing a resin, which will be described later, to a polarizing element. good.

B−1.基材の特性
以下、基材の特性についての説明における「基材」は、樹脂フィルム単独の場合には樹脂フィルムを、ハードコート層と樹脂フィルムとを含む場合にはこれらの積層体を意味する。
B-1. Characteristics of Base Material The term "base material" in the description of the characteristics of the base material means a resin film when the resin film is used alone, and a laminate thereof when the hard coat layer and the resin film are included. ..

上記基材は、曲率半径3mm以下(例えば、3mm、2mm、1mm)で好ましくは20万回、より好ましくは30万回、さらに好ましくは50万回折り曲げ可能な屈曲性を有する。基材がこのような屈曲性を有することにより、光学積層体を有機EL表示装置に適用した場合に屈曲可能または折り畳み可能な有機EL表示装置を実現することができる。基材が樹脂フィルムの片側にハードコート層を有する場合、屈曲性の試験は、ハードコート層を内側にして折り曲げて行われる。基材の屈曲性は、マンドリルを挟んで片側のチャックが180°折り曲げを繰り返す耐折試験機にて測定され得る。 The substrate has a radius of curvature of 3 mm or less (for example, 3 mm, 2 mm, 1 mm) and has flexibility that allows it to bend preferably 200,000 times, more preferably 300,000 times, and even more preferably 500,000 times. When the base material has such flexibility, it is possible to realize an organic EL display device that can be bent or folded when the optical laminate is applied to the organic EL display device. When the substrate has a hard coat layer on one side of the resin film, the flexibility test is performed by bending with the hard coat layer inside. The flexibility of the base material can be measured by a folding resistance tester in which the chuck on one side repeatedly bends 180 ° across the mandrill.

基材は、好ましくは、折り曲げ後の復元性を有する。折り曲げ後の復元性とは、折り曲げた後に折れ痕が残ることなく元の状態に戻ることをいう。折り曲げ後の復元性は、例えば基材(樹脂フィルムまたは積層体)を曲率半径1mmで180°の折り曲げを繰り返した後に折れ痕がつくまでの繰り返し回数で評価され得る。基材は、好ましくは、当該条件で10000回以上という復元性を有する。 The substrate preferably has resilience after bending. Restorability after bending means returning to the original state without leaving any creases after bending. The resilience after bending can be evaluated, for example, by the number of repetitions until a crease is formed after the base material (resin film or laminate) is repeatedly bent at a radius of curvature of 1 mm at 180 °. The base material preferably has a resilience of 10,000 times or more under the conditions.

基材の視認側表面(ハードコート層表面または樹脂フィルム表面)は、好ましくは9H以上の鉛筆硬度を有する。さらに、当該視認側表面は、1000g荷重で好ましくは300回、より好ましくは500回、さらに好ましくは1000回往復摩擦しても傷を生じない耐擦傷性を有する。鉛筆硬度および耐擦傷性がこのような範囲であれば、基材がカバーガラスの代替として良好に機能し得る。鉛筆硬度は、JIS K 5400−5−4に準じて測定され得る。また、耐擦傷性は、スチールウール#0000で1000g荷重で表面を所定の回数往復した際の傷の状態にて評価され得る。 The visible side surface (hard coat layer surface or resin film surface) of the base material preferably has a pencil hardness of 9H or more. Further, the visible surface has scratch resistance that does not cause scratches even if it is rubbed back and forth preferably 300 times, more preferably 500 times, and even more preferably 1000 times under a load of 1000 g. If the pencil hardness and scratch resistance are in such a range, the substrate can function well as a substitute for the cover glass. Pencil hardness can be measured according to JIS K 5400-5-4. Further, the scratch resistance can be evaluated in the state of scratches when the surface is reciprocated a predetermined number of times with a load of 1000 g of steel wool # 0000.

基材の光線透過率は、好ましくは91%以上であり、より好ましくは93%以上であり、さらに好ましくは95%以上である。基材ヘイズは、好ましくは0.5%以下であり、より好ましくは0.4%以下であり、さらに好ましくは0.3%以下である。基材の光線透過率および/またはヘイズがこのような範囲であれば、光学積層体が有機EL表示装置に適用された場合に良好な視認性を実現することができる。 The light transmittance of the base material is preferably 91% or more, more preferably 93% or more, and further preferably 95% or more. The base material haze is preferably 0.5% or less, more preferably 0.4% or less, and further preferably 0.3% or less. When the light transmittance and / or haze of the base material is within such a range, good visibility can be realized when the optical laminate is applied to an organic EL display device.

B−2.ハードコート層
ハードコート層は、上記B−1項に記載の特性を満足し得る任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂(例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂)、二液混合型樹脂などが挙げられる。紫外線硬化型樹脂が好ましい。簡単な加工操作にて効率よくハードコート層を形成することができるからである。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種樹脂が挙げられる。これらは、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等を含む。好ましくは、アクリル系樹脂である。紫外線硬化型アクリル系樹脂は、紫外線重合官能基を好ましくは2個以上、より好ましくは3〜6個有するモノマー成分およびオリゴマー成分を含む。代表的には、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合されている。硬化方式は、ラジカル重合方式であってもよく、カチオン重合方式であってもよい。1つの実施形態においては、上記構成材料にシリカ粒子やかご状シルセスキオキサン化合物などを配合した有機無機ハイブリッド材料を用いてもよい。ハードコート層の構成材料および形成方法は、例えば特開2011−237789号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
B-2. Hard Coat Layer The hard coat layer may be made of any suitable material that can satisfy the properties described in item B-1 above. Specific examples of the constituent materials include a thermocurable resin, a thermoplastic resin, an active energy ray-curable resin (for example, an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin), and a two-component mixed resin. UV curable resin is preferable. This is because the hard coat layer can be efficiently formed by a simple processing operation. Examples of the ultraviolet curable resin include various resins such as polyester-based, acrylic-based, urethane-based, amide-based, silicone-based, and epoxy-based resins. These include UV curable monomers, oligomers, polymers and the like. An acrylic resin is preferable. The ultraviolet curable acrylic resin contains a monomer component and an oligomer component having preferably 2 or more, more preferably 3 to 6 ultraviolet polymerization functional groups. Typically, the ultraviolet curable resin contains a photopolymerization initiator. The curing method may be a radical polymerization method or a cationic polymerization method. In one embodiment, an organic-inorganic hybrid material in which silica particles, a cage-like silsesquioxane compound, or the like is blended with the constituent material may be used. A constituent material and a method for forming the hard coat layer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-237789. The description of this publication is incorporated herein by reference.

ハードコート層は、上記構成材料にスライドリング材料を配合して形成されてもよい。スライドリング材料を配合することにより、良好な可撓性が付与され得る。スライドリング材料の代表例としてはポリロタキサンが挙げられる。ポリロタキサンは、代表的には、直鎖状のポリエチレングリコール(PEG)主鎖をシクロデキストリン(CD)環状分子がスライドする構造を有する。PEG主鎖の両末端はアダマンタンアミンで修飾され、CD環状分子の脱落が防止される。本発明に用いられるポリロタキサンにおいては、CD環状分子は化学修飾されて活性エネルギー線重合性基が付与されている。スライドリング材料を用いる場合、上記ハードコート層構成材料としては、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性モノマーが好ましく用いられる。ラジカル重合性基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等が挙げられる。ポリロタキサンとの相溶性に優れ、かつ、多様な材料選択が可能となるからである。ポリロタキサン(実質的には、CD環状分子の重合性基)とハードコート層構成材料の活性エネルギー線硬化性成分とが反応して硬化すると、硬化後においても架橋点が可動であるハードコート層が得られる。その結果、折り曲げ時の応力を緩和することができ、折り曲げ耐久性が向上する。ポリロタキサンおよび硬化メカニズムは、例えば特開2015−155530号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 The hard coat layer may be formed by blending a slide ring material with the above-mentioned constituent materials. Good flexibility can be imparted by blending the slide ring material. Polyrotaxane is a typical example of the slide ring material. Polyrotaxane typically has a structure in which a cyclodextrin (CD) cyclic molecule slides on a linear polyethylene glycol (PEG) main chain. Both ends of the PEG backbone are modified with adamantaneamine to prevent shedding of the CD cyclic molecule. In the polyrotaxane used in the present invention, the CD cyclic molecule is chemically modified to impart an active energy ray-polymerizable group. When a slide ring material is used, a radically polymerizable monomer having a radically polymerizable group is preferably used as the hard coat layer constituent material. Examples of the radically polymerizable group include a (meth) acryloyl group and a (meth) acryloyloxy group. This is because it has excellent compatibility with polyrotaxane and various material selections are possible. When polyrotaxane (substantially the polymerizable group of the CD cyclic molecule) reacts with the active energy ray-curable component of the hard coat layer constituent material and cures, the hard coat layer whose cross-linking point is movable even after curing is formed. can get. As a result, the stress at the time of bending can be relaxed, and the bending durability is improved. Polyrotaxane and the curing mechanism are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-155530. The description of this publication is incorporated herein by reference.

ハードコート層は、上記構成材料にナノファイバーおよび/またはナノクリスタルを配合して形成されてもよい。ナノファイバーの代表例としては、セルロースナノファイバー、キチンナノファイバー、キトサンナノファイバーが挙げられる。これらを配合することにより、優れた透明性を維持しつつ、可撓性、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐摩耗性に優れたハードコート層が得られ得る。ナノファイバーおよび/またはナノクリスタル(組み合わせて用いる場合にはその合計)は、ハードコート層全体に対して好ましくは0.1重量%〜40重量%の割合で配合され得る。ナノファイバーは、平均繊維径が例えば1nm〜100nmであり、平均繊維長が例えば10nm〜1000nmである。ナノファイバーを含むハードコート層は、例えば特開2012−131201号公報、特開2012−171171号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 The hard coat layer may be formed by blending nanofibers and / or nanocrystals with the above-mentioned constituent materials. Typical examples of nanofibers include cellulose nanofibers, chitin nanofibers, and chitosan nanofibers. By blending these, a hard coat layer having excellent flexibility, pencil hardness, scratch resistance, and abrasion resistance can be obtained while maintaining excellent transparency. The nanofibers and / or nanocrystals (the total when used in combination) may be blended in a proportion of 0.1% to 40% by weight, preferably 0.1% by weight, based on the entire hardcoat layer. The nanofibers have an average fiber diameter of, for example, 1 nm to 100 nm, and an average fiber length of, for example, 10 nm to 1000 nm. The hard coat layer containing nanofibers is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-131201 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-171171. The description of this publication is incorporated herein by reference.

ハードコート層の厚みは、好ましくは1μm〜20μmであり、より好ましくは2μm〜15μmである。厚みが小さすぎると、硬度が不十分であったり、折り曲げ等に起因する寸法変化の抑制効果が不十分である場合がある。厚みが大きすぎると、屈曲性および/または折りたたみ性に悪影響を及ぼす場合がある。 The thickness of the hard coat layer is preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm to 15 μm. If the thickness is too small, the hardness may be insufficient, or the effect of suppressing dimensional change due to bending or the like may be insufficient. Too much thickness can adversely affect flexibility and / or foldability.

B−3.樹脂フィルム
樹脂フィルムは、上記B−1項に記載の特性を満足し得る任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。好ましくは、ポリアリレート系樹脂および/またはポリイミド系樹脂である。これらの樹脂を用いれば、適度な引っ張り弾性率(具体的には、A項に記載する引っ張り弾性率)を有する光学積層体を得ることができる。
B-3. Resin film The resin film can be made of any suitable material that can satisfy the properties described in item B-1 above. Specific examples of the constituent materials include polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, and polyolefin resin. Examples thereof include (meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, polyphenylene sulfide resins and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more. Preferred are polyarylate-based resins and / or polyimide-based resins. By using these resins, it is possible to obtain an optical laminate having an appropriate tensile elastic modulus (specifically, the tensile elastic modulus described in item A).

樹脂フィルムは、上記構成材料に微粒子を配合してもよい。より具体的には、樹脂フィルムは、上記構成材料のマトリックス中にナノメートルオーダーの微粒子が分散した、いわゆるナノコンポジットフィルムであってもよい。このような構成であれば、非常に優れた硬度および耐擦傷性が付与されるので、ハードコート層が省略され得る。微粒子の平均粒子径は、例えば1nm〜100nm程度である。微粒子は、代表的には無機酸化物で構成されている。好ましくは、微粒子は、所定の官能基で表面が修飾されている。微粒子を構成する無機酸化物としては、例えば、酸化ジルコニウム、イットリア添加酸化ジルコニウム、ジルコン酸鉛、チタン酸ストロンチウム、チタン酸スズ、酸化スズ、酸化ビスマス、酸化ニオブ、酸化タンタル、タンタル酸カリウム、酸化タングステン、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化ガリウム等、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウムが挙げられる。 The resin film may contain fine particles in the above-mentioned constituent materials. More specifically, the resin film may be a so-called nanocomposite film in which nanometer-order fine particles are dispersed in the matrix of the constituent materials. With such a configuration, very good hardness and scratch resistance are imparted, so that the hard coat layer can be omitted. The average particle size of the fine particles is, for example, about 1 nm to 100 nm. The fine particles are typically composed of inorganic oxides. Preferably, the surface of the fine particles is modified with a predetermined functional group. Examples of the inorganic oxides constituting the fine particles include zirconium oxide, itria-added zirconium oxide, lead zirconate, strontium titanate, tin titanate, tin oxide, bismuth oxide, niobium oxide, tantalum oxide, potassium tantalate, and tungsten oxide. , Cerium oxide, lanthanum oxide, gallium oxide and the like, silica, alumina, titanium oxide, zirconium oxide, barium titanate and the like.

樹脂フィルムの厚みは、好ましくは5μm〜100μmであり、より好ましくは10μm〜80μmである。このような厚みであれば、薄型化、ハンドリング性、機械的強度のバランスに優れる。 The thickness of the resin film is preferably 5 μm to 100 μm, more preferably 10 μm to 80 μm. With such a thickness, the balance between thinning, handleability, and mechanical strength is excellent.

C.偏光子
偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
C. Polarizer As the polarizer, any suitable polarizer can be adopted. For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminated body having two or more layers.

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、PVAの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、PVA系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。 Specific examples of the polarizer composed of a single-layer resin film include a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA) -based film, a partially formalized PVA-based film, and an ethylene / vinyl acetate copolymer system partially saponified film. Examples thereof include those which have been dyed and stretched with a bicolor substance such as iodine or a bicolor dye, and polyene-based oriented films such as a dehydrated product of PVA and a dehydrogenated product of polyvinyl chloride. Preferably, since the PVA-based film is excellent in optical characteristics, a polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching the film is used.

上記ヨウ素による染色は、例えば、PVA系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは3〜7倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、PVA系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にPVA系フィルムを水に浸漬して水洗することで、PVA系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、PVA系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。 The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing a PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment or while dyeing. Alternatively, it may be stretched and then dyed. If necessary, the PVA-based film is subjected to a swelling treatment, a cross-linking treatment, a washing treatment, a drying treatment and the like. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it with water before dyeing, it is possible not only to clean the dirt on the surface of the PVA-based film and the blocking inhibitor, but also to swell the PVA-based film to prevent uneven dyeing. Can be prevented.

積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開2012−73580号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the polarizer obtained by using the laminate include a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin base material, or a resin base material and the resin. Examples thereof include a polarizer obtained by using a laminate with a PVA-based resin layer coated and formed on a base material. The polarizer obtained by using the laminate of the resin base material and the PVA-based resin layer coated and formed on the resin base material is, for example, a resin base material obtained by applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying the resin base material. It is produced by forming a PVA-based resin layer on the PVA-based resin layer to obtain a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer; stretching and dyeing the laminate to make the PVA-based resin layer a polarizer. obtain. In the present embodiment, stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution for stretching. Further, stretching may further include, if necessary, stretching the laminate in the air at a high temperature (eg, 95 ° C. or higher) prior to stretching in boric acid aqueous solution. The obtained resin substrate / polarizer laminate may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), and the resin substrate is peeled off from the resin substrate / polarizer laminate. Then, an arbitrary appropriate protective layer according to the purpose may be laminated on the peeled surface. Details of the method for producing such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

偏光子の厚みは、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは1μm〜12μmであり、さらに好ましくは3μm〜10μmであり、特に好ましくは3μm〜8μmである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。さらに、偏光子の厚みがこのような範囲であれば、光学積層体(結果として、有機EL表示装置)の薄型化に貢献し得る。 The thickness of the polarizer is preferably 15 μm or less, more preferably 1 μm to 12 μm, further preferably 3 μm to 10 μm, and particularly preferably 3 μm to 8 μm. When the thickness of the polarizer is in such a range, curling during heating can be satisfactorily suppressed, and good appearance durability during heating can be obtained. Further, if the thickness of the polarizer is in such a range, it can contribute to the thinning of the optical laminate (as a result, the organic EL display device).

偏光子は、好ましくは、波長380nm〜780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは43.0%〜46.0%であり、より好ましくは44.5%〜46.0%である。偏光子の偏光度は、好ましくは97.0%以上であり、より好ましくは99.0%以上であり、さらに好ましくは99.9%以上である。 The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The simple substance transmittance of the polarizer is preferably 43.0% to 46.0%, more preferably 44.5% to 46.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and further preferably 99.9% or more.

D.光学補償層
D−1.位相差フィルムで構成される光学補償層
光学補償層が位相差フィルムで構成される場合、当該位相差フィルムは、いわゆるλ/4板として機能し得る。位相差フィルムの面内位相差Re(550)は、好ましくは100nm〜180nm、より好ましくは135nm〜155nmである。
D. Optical compensation layer D-1. Optical Compensation Layer Consists of Phase Difference Film When the optical compensation layer is composed of a retardation film, the retardation film can function as a so-called λ / 4 plate. The in-plane retardation Re (550) of the retardation film is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 135 nm to 155 nm.

位相差フィルムは、Re(450)<Re(550)<Re(650)の関係を満たすことが好ましい。すなわち、位相差フィルムは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散の波長依存性を示すことが好ましい。位相差フィルムのRe(450)/Re(550)は、好ましくは0.8以上1.0未満であり、より好ましくは0.8〜0.95である。Re(550)/Re(650)は、好ましくは0.8以上1.0未満であり、より好ましくは0.8〜0.97である。 The retardation film preferably satisfies the relationship of Re (450) <Re (550) <Re (650). That is, it is preferable that the retardation film exhibits a wavelength dependence of inverse dispersion in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light. The Re (450) / Re (550) of the retardation film is preferably 0.8 or more and less than 1.0, and more preferably 0.8 to 0.95. Re (550) / Re (650) is preferably 0.8 or more and less than 1.0, and more preferably 0.8 to 0.97.

位相差フィルムは、代表的には屈折率特性がnx>nyの関係を示し、遅相軸を有する。位相差フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは35°〜55°であり、より好ましくは38°〜52°であり、さらに好ましくは42°〜48°であり、特に好ましくは約45°である。当該角度がこのような範囲であれば、位相差フィルムをλ/4板とすることにより、非常に優れた円偏光特性(結果として、非常に優れた反射防止特性)を有する光学積層体が得られ得る。 The retardation film typically has a refractive index characteristic of nx> ny and has a slow phase axis. The angle formed by the slow axis of the retardation film and the absorption axis of the polarizer is preferably 35 ° to 55 °, more preferably 38 ° to 52 °, and even more preferably 42 ° to 48 °. , Particularly preferably about 45 °. If the angle is in such a range, by using a retardation film as a λ / 4 plate, an optical laminate having extremely excellent circularly polarized light characteristics (as a result, extremely excellent antireflection characteristics) can be obtained. Can be

位相差フィルムは、nx>nyの関係を有する限り、任意の適切な屈折率楕円体を示す。好ましくは、位相差フィルムの屈折率楕円体は、nx>ny≧nzの関係を示す。なお、ここで「ny=nz」はnyとnzが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ny<nzとなる場合があり得る。位相差フィルムのNz係数は、好ましくは0.9〜2であり、より好ましくは0.9〜1.5であり、さらに好ましくは0.9〜1.3である。このような関係を満たすことにより、光学積層体を有機EL表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。 The retardation film exhibits any suitable index of refraction ellipsoid as long as it has an nx> ny relationship. Preferably, the refractive index ellipsoid of the retardation film shows a relationship of nx> ny ≧ nz. Here, "ny = nz" includes not only the case where ny and nz are completely equal, but also the case where they are substantially equal. Therefore, ny <nz may be satisfied as long as the effect of the present invention is not impaired. The Nz coefficient of the retardation film is preferably 0.9 to 2, more preferably 0.9 to 1.5, and even more preferably 0.9 to 1.3. By satisfying such a relationship, a very excellent reflected hue can be achieved when the optical laminate is used in an organic EL display device.

位相差フィルムは、その光弾性係数の絶対値が、好ましくは2×10−12(m/N)以上であり、より好ましくは10×10−12(m/N)〜100×10−12(m/N)であり、さらに好ましくは20×10−12(m/N)〜40×10−12(m/N)である。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、小さい厚みでも十分な位相差を確保しつつ有機EL表示装置の屈曲性を維持することができ、さらに、屈曲時の応力による位相差変化(結果として、有機EL表示装置の色変化)をより抑制することができる。 The absolute value of the photoelastic coefficient of the retardation film is preferably 2 × 10 -12 (m 2 / N) or more, and more preferably 10 × 10 -12 (m 2 / N) to 100 × 10 −. It is 12 (m 2 / N), more preferably 20 × 10 -12 (m 2 / N) to 40 × 10 -12 (m 2 / N). If the absolute value of the photoelastic coefficient is within such a range, the flexibility of the organic EL display device can be maintained while ensuring a sufficient phase difference even with a small thickness, and the phase difference changes due to stress during bending. (As a result, the color change of the organic EL display device) can be further suppressed.

位相差フィルムの厚みは、好ましくは1μm〜70μmであり、より好ましくは1μm〜20μmであり、さらに好ましくは1μm〜10μmである。本発明の光学積層体は、所望の光学特性を維持しつつ従来のλ/4板よりも厚みが薄いフィルムを用いることができるので、光学積層体(結果として、有機EL表示装置)の薄型化に貢献することができる。 The thickness of the retardation film is preferably 1 μm to 70 μm, more preferably 1 μm to 20 μm, and further preferably 1 μm to 10 μm. Since the optical laminate of the present invention can use a film thinner than the conventional λ / 4 plate while maintaining the desired optical characteristics, the optical laminate (as a result, the organic EL display device) can be made thinner. Can contribute to.

位相差フィルムは、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂で形成される。位相差フィルムを形成する樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、シクロオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、セルロースエステル系樹脂等が挙げられる。好ましくは、ポリカーボネート樹脂である。 The retardation film is made of any suitable resin that can satisfy the above properties. Examples of the resin forming the retardation film include a polycarbonate resin, a polyvinyl acetal resin, a cycloolefin resin, an acrylic resin, and a cellulose ester resin. A polycarbonate resin is preferable.

上記ポリカーボネート樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切なポリカーボネート樹脂を用いることができる。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジオール、脂環式ジメタノール、ジ、トリまたはポリエチレングリコール、ならびに、アルキレングリコールまたはスピログリコールからなる群から選択される少なくとも1つのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、を含む。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジメタノールに由来する構造単位ならびに/あるいはジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含み;さらに好ましくは、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、ジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含む。ポリカーボネート樹脂は、必要に応じてその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。なお、本発明に好適に用いられ得るポリカーボネート樹脂の詳細は、例えば、特開2014−10291号公報、特開2014−26266号公報に記載されており、当該記載は本明細書に参考として援用される。 As the polycarbonate resin, any suitable polycarbonate resin can be used as long as the effects of the present invention can be obtained. Preferably, the polycarbonate resin comprises a structural unit derived from a fluorene dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide dihydroxy compound, an alicyclic diol, an alicyclic dimethanol, di, tri or polyethylene glycol, and an alkylene. Includes structural units derived from at least one dihydroxy compound selected from the group consisting of glycols or spiroglycols. Preferably, the polycarbonate resin is derived from a structural unit derived from a fluorene dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide dihydroxy compound, a structural unit derived from an alicyclic dimethanol and / or di, tri or polyethylene glycol. Includes structural units; more preferably structural units derived from fluorene dihydroxy compounds, structural units derived from isosorbide dihydroxy compounds, and structural units derived from di, tri or polyethylene glycol. The polycarbonate resin may contain structural units derived from other dihydroxy compounds, if desired. Details of the polycarbonate resin that can be suitably used in the present invention are described in, for example, JP-A-2014-10291 and JP-A-2014-26266, and the description is incorporated herein by reference. NS.

ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、110℃以上250℃以下であることが好ましく、より好ましくは120℃以上230℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性があり、又、得られる有機EL表示装置の画像品質を下げる場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、JIS K 7121(1987)に準じて求められる。 The glass transition temperature of the polycarbonate resin is preferably 110 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 230 ° C. or lower. If the glass transition temperature is excessively low, the heat resistance tends to deteriorate, dimensional changes may occur after film molding, and the image quality of the obtained organic EL display device may be deteriorated. If the glass transition temperature is excessively high, the molding stability during film molding may be deteriorated, and the transparency of the film may be impaired. The glass transition temperature is determined according to JIS K 7121 (1987).

前記ポリカーボネート樹脂の分子量は、還元粘度で表すことができる。還元粘度は、溶媒として塩化メチレンを用い、ポリカーボネート濃度を0.6g/dLに精密に調製し、温度20.0℃±0.1℃でウベローデ粘度管を用いて測定される。還元粘度の下限は、通常0.30dL/gが好ましく、より好ましくは0.35dL/g以上である。還元粘度の上限は、通常1.20dL/gが好ましく、より好ましくは1.00dL/g、更に好ましくは0.80dL/gである。還元粘度が前記下限値より小さいと成形品の機械的強度が小さくなるという問題が生じる場合がある。一方、還元粘度が前記上限値より大きいと、成形する際の流動性が低下し、生産性や成形性が低下するという問題が生じる場合がある。 The molecular weight of the polycarbonate resin can be expressed by the reducing viscosity. The reduced viscosity is measured by using methylene chloride as a solvent, precisely adjusting the polycarbonate concentration to 0.6 g / dL, and using an Ubbelohde viscous tube at a temperature of 20.0 ° C. ± 0.1 ° C. The lower limit of the reduction viscosity is usually preferably 0.30 dL / g, more preferably 0.35 dL / g or more. The upper limit of the reduction viscosity is usually preferably 1.20 dL / g, more preferably 1.00 dL / g, and further preferably 0.80 dL / g. If the reduced viscosity is smaller than the lower limit, there may be a problem that the mechanical strength of the molded product is reduced. On the other hand, if the reduced viscosity is larger than the upper limit value, the fluidity at the time of molding is lowered, and there may be a problem that the productivity and the moldability are lowered.

位相差フィルムは、例えば、上記ポリカーボネート系樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。ポリカーボネート系樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、FRP成形法、キャスト塗工法(例えば、流延法)、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、位相差フィルムに所望される特性等に応じて適宜設定され得る。 The retardation film can be obtained, for example, by stretching a film formed of the above-mentioned polycarbonate resin. As a method for forming a film from a polycarbonate-based resin, any suitable molding processing method can be adopted. Specific examples include a compression molding method, a transfer molding method, an injection molding method, an extrusion molding method, a blow molding method, a powder molding method, an FRP molding method, a cast coating method (for example, a casting method), a calendar molding method, and a hot press. Law etc. can be mentioned. Extrusion molding method or cast coating method is preferable. This is because the smoothness of the obtained film can be improved and good optical uniformity can be obtained. The molding conditions can be appropriately set according to the composition and type of the resin used, the characteristics desired for the retardation film, and the like.

樹脂フィルム(未延伸フィルム)の厚みは、得られる位相差フィルムの所望の厚み、所望の光学特性、後述の延伸条件などに応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは50μm〜300μmである。 The thickness of the resin film (unstretched film) can be set to an arbitrary appropriate value according to a desired thickness of the obtained retardation film, desired optical characteristics, stretching conditions described later, and the like. It is preferably 50 μm to 300 μm.

上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件(例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向)が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。 Any suitable stretching method and stretching conditions (for example, stretching temperature, stretching ratio, stretching direction) can be adopted for the stretching. Specifically, various stretching methods such as free-end stretching, fixed-end stretching, free-end contraction, and fixed-end contraction can be used alone or simultaneously or sequentially. As for the stretching direction, it can be performed in various directions and dimensions such as a length direction, a width direction, a thickness direction, and an oblique direction.

上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性(例えば、屈折率特性、面内位相差、Nz係数)を有する位相差フィルムを得ることができる。 By appropriately selecting the stretching method and stretching conditions, a retardation film having the desired optical characteristics (for example, refractive index characteristics, in-plane retardation, Nz coefficient) can be obtained.

1つの実施形態においては、位相差フィルムは、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向(横方向)に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは1.1倍〜3.5倍である。 In one embodiment, the retardation film is made by uniaxially stretching or fixed end uniaxially stretching the resin film. Specific examples of the fixed-end uniaxial stretching include a method of stretching the resin film in the width direction (lateral direction) while running the resin film in the longitudinal direction. The draw ratio is preferably 1.1 times to 3.5 times.

別の実施形態においては、位相差フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して所定の角度の方向に連続的に斜め延伸することにより作製され得る。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して所定の角度の配向角(所定の角度の方向に遅相軸)を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールトゥロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。なお、上記所定の角度は、光学積層体において偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とがなす角度であり得る。当該角度は、上記のとおり、好ましくは35°〜55°であり、より好ましくは38°〜52°であり、さらに好ましくは42°〜48°であり、特に好ましくは約45°である。 In another embodiment, the retardation film can be made by continuously obliquely stretching a long resin film in a direction of a predetermined angle with respect to the longitudinal direction. By adopting oblique stretching, a long stretched film having an orientation angle (slow phase axis in the direction of a predetermined angle) at a predetermined angle with respect to the longitudinal direction of the film can be obtained, for example, with a polarizer. Roll-to-roll is possible during lamination, and the manufacturing process can be simplified. The predetermined angle may be an angle formed by the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation layer in the optical laminate. As described above, the angle is preferably 35 ° to 55 °, more preferably 38 ° to 52 °, still more preferably 42 ° to 48 °, and particularly preferably about 45 °.

斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および/または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。 Examples of the stretching machine used for diagonal stretching include a tenter type stretching machine capable of applying a feeding force, a pulling force, or a pulling force at different speeds in the horizontal and / or vertical directions. The tenter type stretching machine includes a horizontal uniaxial stretching machine, a simultaneous biaxial stretching machine, and the like, but any suitable stretching machine can be used as long as the long resin film can be continuously and diagonally stretched.

上記延伸機において左右の速度をそれぞれ適切に制御することにより、上記所望の面内位相差を有し、かつ、上記所望の方向に遅相軸を有する位相差フィルム(実質的には、長尺状の位相差フィルム)が得られ得る。 By appropriately controlling the left and right velocities in the stretching machine, a retardation film having the desired in-plane retardation and having a slow phase axis in the desired direction (substantially long). (Phase difference film) can be obtained.

斜め延伸の方法としては、例えば、特開昭50−83482号公報、特開平2−113920号公報、特開平3−182701号公報、特開2000−9912号公報、特開2002−86554号公報、特開2002−22944号公報等に記載の方法が挙げられる。 Examples of the method of diagonal stretching include JP-A-50-83482, JP-A-2-113920, JP-A-3-182701, JP-A-2000-9912, and JP-A-2002-86554. Examples thereof include the methods described in JP-A-2002-22944.

上記フィルムの延伸温度は、位相差フィルムに所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくはTg−30℃〜Tg+30℃、さらに好ましくはTg−15℃〜Tg+15℃、最も好ましくはTg−10℃〜Tg+10℃である。このような温度で延伸することにより、本発明において適切な特性を有する位相差フィルムが得られ得る。なお、Tgは、フィルムの構成材料のガラス転移温度である。 The stretching temperature of the film can vary depending on the in-plane retardation value and thickness desired for the retardation film, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching ratio, and the like. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg-30 ° C to Tg + 30 ° C, more preferably Tg-15 ° C to Tg + 15 ° C, and most preferably Tg-10 ° C to Tg + 10 ° C. By stretching at such a temperature, a retardation film having appropriate characteristics in the present invention can be obtained. Tg is the glass transition temperature of the constituent material of the film.

ポリカーボネート系樹脂フィルムとして市販のフィルムを用いてもよい。市販品の具体例としては、帝人社製の商品名「ピュアエースWR−S」、「ピュアエースWR−W」、「ピュアエースWR−M」、日東電工社製の商品名「NRF」が挙げられる。市販のフィルムをそのまま用いてもよく、市販のフィルムを目的に応じて2次加工(例えば、延伸処理、表面処理)して用いてもよい。 A commercially available film may be used as the polycarbonate resin film. Specific examples of commercially available products include the product names "Pure Ace WR-S", "Pure Ace WR-W", "Pure Ace WR-M" manufactured by Teijin Limited, and the product name "NRF" manufactured by Nitto Denko. Be done. A commercially available film may be used as it is, or a commercially available film may be used after secondary processing (for example, stretching treatment or surface treatment) depending on the purpose.

D−2.液晶配向固化層の積層体で構成される光学補償層
1つの実施形態においては、液晶配向固化層の積層体で構成される光学補償層は、第1の液晶配向固化層と第2の液晶配向固化層とを有する。光学積層体において、光学補償層は、偏光子の側から順に、第1の液晶配向固化層と第2の液晶配向固化層とを有し得る。
D-2. Optical compensating layer composed of a laminated body of liquid crystal oriented solidified layers In one embodiment, the optical compensating layer composed of a laminated body of liquid crystal oriented solidified layers is a first liquid crystal oriented solidified layer and a second liquid crystal oriented solidified layer. It has a solidified layer. In the optical laminate, the optical compensation layer may have a first liquid crystal oriented solidified layer and a second liquid crystal oriented solidified layer in order from the side of the polarizer.

D−2−1.第1の液晶配向固化層
第1の液晶配向固化層は、いわゆるλ/2板として機能し得る。第1の液晶配向固化層をいわゆるλ/2板とし、後述の第2の液晶配向固化層をいわゆるλ/4板とし、これらの遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の方向に設定することにより、広帯域において優れた円偏光特性を有する光学積層体が得られ得る。第1の液晶配向固化層の面内位相差Re(550)は、好ましくは180nm〜320nmであり、より好ましくは200nm〜290nmであり、さらに好ましくは230nm〜280nmである。
D-2-1. First Liquid Crystal Oriented Solidification Layer The first liquid crystal oriented solidified layer can function as a so-called λ / 2 plate. The first liquid crystal oriented solidified layer is a so-called λ / 2 plate, the second liquid crystal oriented solidified layer described later is a so-called λ / 4 plate, and these slow axes are oriented in a predetermined direction with respect to the absorption axis of the polarizer. By setting, an optical laminate having excellent circularly polarized light characteristics in a wide band can be obtained. The in-plane retardation Re (550) of the first liquid crystal oriented solidified layer is preferably 180 nm to 320 nm, more preferably 200 nm to 290 nm, and further preferably 230 nm to 280 nm.

第1の液晶配向固化層の屈折率楕円体は、代表的にはnx>ny=nzの関係を示す。第1の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは10°〜20°であり、より好ましくは13°〜17°であり、さらに好ましくは約15°である。第1の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度がこのような範囲であれば、第1の液晶配向固化層および第2の液晶配向固化層の面内位相差をそれぞれ所定の範囲に設定し、第2の液晶配向固化層の遅相軸を偏光子の吸収軸に対して後述のような所定の角度で配置することにより、広帯域において非常に優れた円偏光特性(結果として、非常に優れた反射防止特性)を有する光学積層体が得られ得る。 The refractive index ellipsoid of the first liquid crystal oriented solidified layer typically shows a relationship of nx> ny = nz. The angle formed by the slow axis of the first liquid crystal oriented solidification layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 10 ° to 20 °, more preferably 13 ° to 17 °, and even more preferably about 15 °. Is. If the angle formed by the slow axis of the first liquid crystal oriented solidified layer and the absorption axis of the polarizer is within such a range, the in-plane phase difference between the first liquid crystal oriented solidified layer and the second liquid crystal oriented solidified layer. Is set to a predetermined range, and the slow axis of the second liquid crystal oriented solidified layer is arranged at a predetermined angle as described later with respect to the absorption axis of the polarizer, so that the circularly polarized light is extremely excellent in a wide band. An optical laminate having properties (as a result, very good antireflection properties) can be obtained.

第1の液晶配向固化層の厚みは、好ましくは1μm〜7μmであり、より好ましくは1.5μm〜2.5μmである。上記のとおり、液晶化合物を用いることにより、得られる光学補償層のnxとnyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための層厚みを格段に小さくすることができる。したがって、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。 The thickness of the first liquid crystal oriented solidified layer is preferably 1 μm to 7 μm, and more preferably 1.5 μm to 2.5 μm. As described above, by using the liquid crystal compound, the difference between nx and ny of the obtained optical compensation layer can be made much larger than that of the non-liquid crystal material, so that a layer for obtaining a desired in-plane phase difference can be obtained. The thickness can be significantly reduced. Therefore, it is possible to realize an in-plane phase difference equivalent to that of the resin film with a thickness much thinner than that of the resin film.

本実施形態においては、第1の液晶配向固化層は、代表的には、棒状の液晶化合物が所定の方向に並んだ状態で配向している(ホモジニアス配向)。液晶化合物の配向方向に遅相軸が発現し得る。液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物(ネマチック液晶)が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。 In the present embodiment, the first liquid crystal oriented solidified layer is typically oriented with rod-shaped liquid crystal compounds arranged in a predetermined direction (homogeneous orientation). A slow-phase axis can be expressed in the orientation direction of the liquid crystal compound. Examples of the liquid crystal compound include a liquid crystal compound (nematic liquid crystal) in which the liquid crystal phase is a nematic phase. As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. The liquid crystal expression mechanism of the liquid crystal compound may be either lyotropic or thermotropic. The liquid crystal polymer and the liquid crystal monomer may be used alone or in combination.

液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋(すなわち、硬化)させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により3次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第1の液晶配向固化層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第1の液晶配向固化層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた層となる。 When the liquid crystal compound is a liquid crystal monomer, the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer. This is because the orientation state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or cross-linking (that is, curing) the liquid crystal monomer. After the liquid crystal monomers are oriented, for example, if the liquid crystal monomers are polymerized or crosslinked with each other, the oriented state can be fixed. Here, the polymer is formed by polymerization, and the three-dimensional network structure is formed by cross-linking, but these are non-liquid crystal. Therefore, the formed first liquid crystal oriented solidified layer does not undergo a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a temperature change peculiar to a liquid crystal compound, for example. As a result, the first liquid crystal oriented solidified layer becomes an extremely stable layer that is not affected by temperature changes.

液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは40℃〜120℃であり、さらに好ましくは50℃〜100℃であり、最も好ましくは60℃〜90℃である。 The temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40 ° C. to 120 ° C., more preferably 50 ° C. to 100 ° C., and most preferably 60 ° C. to 90 ° C.

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表2002−533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、およびGB2280445等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、BASF社の商品名LC242、Merck社の商品名E7、Wacker−Chem社の商品名LC−Sillicon−CC3767が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。 As the liquid crystal monomer, any suitable liquid crystal monomer can be adopted. For example, the polymerizable mesogen compounds described in Special Tables 2002-533742 (WO00 / 37585), EP358208 (US5211877), EP66137 (US4388453), WO93 / 22397, EP02671712, DE19504224, DE4408171, GB2280445 and the like can be used. Specific examples of such a polymerizable mesogen compound include, for example, BASF's trade name LC242, Merck's trade name E7, and Wacker-Chem's trade name LC-Silicon-CC3767. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.

第1の液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。このような配向処理を用いることにより、長尺状の基材の長尺方向に対して所定の方向に液晶化合物を配向させることができ、結果として、形成される液晶配向固化層の所定方向に遅相軸を発現させることができる。例えば、長尺状の基材上に長尺方向に対して15°の方向に遅相軸を有する液晶配向固化層を形成することができる。このような液晶配向固化層は、斜め方向に遅相軸を有することが所望される場合であっても、ロールトゥロールを用いて積層することができるので、光学積層体の生産性が格段に向上し得る。1つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された配向固化層は、偏光子の表面に転写され得る。別の実施形態においては、基材は内側保護層(内側保護フィルム)であり得る。この場合には転写工程が省略され、配向固化層の形成から連続してロールトゥロールにより積層が行われ得る。 In the first liquid crystal alignment solidification layer, the surface of a predetermined base material is subjected to an orientation treatment, and a coating liquid containing a liquid crystal compound is applied to the surface to orient the liquid crystal compound in a direction corresponding to the orientation treatment. , Can be formed by fixing the orientation state. By using such an orientation treatment, the liquid crystal compound can be oriented in a predetermined direction with respect to the elongated direction of the elongated substrate, and as a result, the liquid crystal oriented solidified layer to be formed can be oriented in a predetermined direction. The slow axis can be expressed. For example, a liquid crystal oriented solidified layer having a slow phase axis in a direction of 15 ° with respect to the elongated direction can be formed on the elongated substrate. Even when it is desired that such a liquid crystal oriented solidified layer has a slow phase axis in an oblique direction, it can be laminated by using roll-to-roll, so that the productivity of the optical laminate is remarkably improved. Can improve. In one embodiment, the substrate is any suitable resin film and the oriented solidified layer formed on the substrate can be transferred to the surface of the polarizer. In another embodiment, the substrate can be an inner protective layer (inner protective film). In this case, the transfer step is omitted, and the lamination can be continuously performed by roll-to-roll from the formation of the oriented solidified layer.

上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。 As the orientation treatment, any appropriate orientation treatment can be adopted. Specific examples thereof include mechanical orientation treatment, physical orientation treatment, and chemical orientation treatment. Specific examples of the mechanical orientation treatment include a rubbing treatment and a stretching treatment. Specific examples of the physical orientation treatment include magnetic field orientation treatment and electric field orientation treatment. Specific examples of the chemical alignment treatment include an orthorhombic deposition method and a photoalignment treatment. As the treatment conditions for various orientation treatments, any appropriate conditions can be adopted depending on the purpose.

液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。 The orientation of the liquid crystal compound is performed by treating at a temperature indicating the liquid crystal phase according to the type of the liquid crystal compound. By performing such temperature treatment, the liquid crystal compound takes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is oriented according to the orientation treatment direction of the surface of the base material.

配向状態の固定は、1つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。 In one embodiment, the orientation state is fixed by cooling the liquid crystal compound oriented as described above. When the liquid crystal compound is a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, the orientation state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.

液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開2006−163343号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the liquid crystal compound and details of the method for forming the oriented solidified layer are described in JP-A-2006-163343. The description of this publication is incorporated herein by reference.

D−2−2.第2の液晶配向固化層
第2の液晶配向固化層は、いわゆるλ/4板として機能し得る。第2の液晶配向固化層をいわゆるλ/4板とし、第1の液晶配向固化層を上記のようにいわゆるλ/2板とし、これらの遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の方向に設定することにより、広帯域において優れた円偏光特性を有する光学積層体が得られ得る。第2の液晶配向固化層の面内位相差Re(550)は、上記のとおり好ましくは100nm〜180nmであり、より好ましくは110nm〜170nmであり、さらに好ましくは120nm〜160nmである。
D-2-2. Second liquid crystal oriented solidified layer The second liquid crystal oriented solidified layer can function as a so-called λ / 4 plate. The second liquid crystal oriented solidified layer is a so-called λ / 4 plate, the first liquid crystal oriented solidified layer is a so-called λ / 2 plate as described above, and these slow axes are predetermined with respect to the absorption axis of the polarizer. By setting the direction, an optical laminate having excellent circularly polarized light characteristics in a wide band can be obtained. The in-plane retardation Re (550) of the second liquid crystal oriented solidified layer is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, and further preferably 120 nm to 160 nm as described above.

第2の液晶配向固化層の屈折率楕円体は、代表的にはnx>ny=nzの関係を示す。第2の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、上記のとおり好ましくは65°〜85°であり、より好ましくは72°〜78°であり、さらに好ましくは約75°である。第2の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度がこのような範囲であれば、第1の液晶配向固化層および第2の液晶配向固化層の面内位相差をそれぞれ所定の範囲に設定し、第1の液晶配向固化層の遅相軸を偏光子の吸収軸に対して上記のような所定の角度で配置することにより、広帯域において非常に優れた円偏光特性(結果として、非常に優れた反射防止特性)を有する光学積層体が得られ得る。 The refractive index ellipsoid of the second liquid crystal oriented solidified layer typically shows a relationship of nx> ny = nz. The angle formed by the slow axis of the second liquid crystal oriented solidifying layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 65 ° to 85 °, more preferably 72 ° to 78 °, and even more preferably 72 ° to 78 ° as described above. It is about 75 °. If the angle formed by the slow axis of the second liquid crystal oriented solidified layer and the absorption axis of the polarizer is within such a range, the in-plane phase difference between the first liquid crystal oriented solidified layer and the second liquid crystal oriented solidified layer. Is set to a predetermined range, and the slow axis of the first liquid crystal oriented solidified layer is arranged at a predetermined angle as described above with respect to the absorption axis of the polarizer, so that the circularly polarized light is extremely excellent in a wide band. An optical laminate having properties (as a result, very good antireflection properties) can be obtained.

第2の液晶配向固化層の厚みは、好ましくは0.5μm〜2μmであり、より好ましくは1μm〜1.5μmである。 The thickness of the second liquid crystal oriented solidified layer is preferably 0.5 μm to 2 μm, and more preferably 1 μm to 1.5 μm.

第2の液晶配向固化層の構成材料、特性、製造方法等は、第1の液晶配向固化層に関して上記D−2−1項で説明したとおりである。 The constituent materials, properties, manufacturing method, etc. of the second liquid crystal oriented solidified layer are as described in Section D-2-1 above with respect to the first liquid crystal oriented solidified layer.

第1の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が約15°であり、第2の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が約75°である実施形態について説明したが、この軸角度の関係は逆であってもよい。具体的には、第1の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは65°〜85°、より好ましくは72°〜78°、さらに好ましくは約75°であってもよく、この場合、第2の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは10°〜20°、より好ましくは13°〜17°、さらに好ましくは約15°であり得る。 The angle formed by the slow axis of the first liquid crystal oriented solidified layer and the absorbing axis of the polarizer is about 15 °, and the angle formed by the slow axis of the second liquid crystal oriented solidified layer and the absorbing axis of the polarizer is about 15 °. Although the embodiment in which the temperature is about 75 ° has been described, the relationship between the axial angles may be reversed. Specifically, the angle formed by the slow axis of the first liquid crystal oriented solidified layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 65 ° to 85 °, more preferably 72 ° to 78 °, and even more preferably about 75 °. In this case, the angle formed by the slow axis of the second liquid crystal oriented solidified layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 10 ° to 20 °, more preferably 13 ° to 17 °. More preferably, it can be about 15 °.

E.導電層
導電層(図示せず)は、代表的には透明である(すなわち、導電層は透明導電層である)。光学補償層の偏光子と反対側に導電層を形成することにより、光学積層体は、表示セル(有機ELセル)と偏光子との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。
E. Conductive layer The conductive layer (not shown) is typically transparent (ie, the conductive layer is a transparent conductive layer). By forming a conductive layer on the side opposite to the polarizer of the optical compensation layer, the optical laminate has a so-called inner touch panel type input display in which a touch sensor is incorporated between the display cell (organic EL cell) and the polarizer. Can be applied to the device.

導電層は、単独で光学積層体の構成層とされてもよく、基材との積層体(基材付導電層)として光学補償層に積層されてもよい。導電層単独で構成される場合には、導電層は、当該導電層が形成された基材から光学補償層に転写され得る。 The conductive layer may be used alone as a constituent layer of the optical laminate, or may be laminated on the optical compensation layer as a laminate with the base material (conductive layer with a base material). When composed of the conductive layer alone, the conductive layer can be transferred from the base material on which the conductive layer is formed to the optical compensation layer.

導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターンの形状はタッチパネル(例えば、静電容量方式タッチパネル)として良好に動作するパターンが好ましい。具体例としては、特表2011−511357号公報、特開2010−164938号公報、特開2008−310550号公報、特表2003−511799号公報、特表2010−541109号公報に記載のパターンが挙げられる。 The conductive layer can be patterned if desired. By patterning, a conductive portion and an insulating portion can be formed. As a result, electrodes can be formed. The electrode can function as a touch sensor electrode that senses contact with the touch panel. The shape of the pattern is preferably a pattern that operates well as a touch panel (for example, a capacitive touch panel). Specific examples include the patterns described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-511357, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-164938, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-310550, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-511799, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-541109. Be done.

導電層の全光線透過率は、好ましくは80%以上であり、より好ましくは85%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。例えば、後述の導電性ナノワイヤを用いれば、開口部が形成された透明導電層を形成することができ、光透過率の高い透明導電層を得ることができる。 The total light transmittance of the conductive layer is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 90% or more. For example, by using the conductive nanowires described later, a transparent conductive layer having an opening can be formed, and a transparent conductive layer having high light transmittance can be obtained.

導電層の密度は、好ましくは1.0g/cm〜10.5g/cmであり、より好ましくは1.3g/cm〜3.0g/cmである。 The density of the conductive layer is preferably 1.0g / cm 3 ~10.5g / cm 3 , more preferably from 1.3g / cm 3 ~3.0g / cm 3 .

導電層の表面抵抗値は、好ましくは0.1Ω/□〜1000Ω/□であり、より好ましくは0.5Ω/□〜500Ω/□であり、さらに好ましくは1Ω/□〜250Ω/□である。 The surface resistance value of the conductive layer is preferably 0.1 Ω / □ to 1000 Ω / □, more preferably 0.5 Ω / □ to 500 Ω / □, and further preferably 1 Ω / □ to 250 Ω / □.

導電層の代表例としては、金属酸化物を含む導電層、導電性ナノワイヤを含む導電層、金属メッシュを含む導電層が挙げられる。好ましくは、導電性ナノワイヤを含む導電層または金属メッシュを含む導電層である。耐屈曲性に優れ、屈曲しても導電性が失われ難いので、良好に折り曲げ可能な導電層が形成され得るからである。 Typical examples of the conductive layer include a conductive layer containing a metal oxide, a conductive layer containing conductive nanowires, and a conductive layer containing a metal mesh. Preferably, it is a conductive layer containing conductive nanowires or a conductive layer containing a metal mesh. This is because the conductive layer is excellent in bending resistance and the conductivity is not easily lost even if it is bent, so that a conductive layer that can be bent well can be formed.

金属酸化物を含む導電層は、任意の適切な成膜方法(例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、スプレー法等)により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物(ITO)である。 The conductive layer containing the metal oxide is made of a metal on any suitable substrate by any suitable film forming method (for example, vacuum deposition method, sputtering method, CVD method, ion plating method, spray method, etc.). It can be formed by forming an oxide film. Examples of the metal oxide include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimon composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, and indium-zinc composite oxide. Of these, indium-tin composite oxide (ITO) is preferable.

導電性ナノワイヤを含む導電層は、導電性ナノワイヤを溶剤に分散させた分散液(導電性ナノワイヤ分散液)を、任意の適切な基材上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。導電性ナノワイヤとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な導電性ナノワイヤが用いられ得る。導電性ナノワイヤとは、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。導電性ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。導電性ナノワイヤを含む導電層は、上記のとおり耐屈曲性に優れる。また、導電性ナノワイヤを含む導電層は、導電性ナノワイヤ同士が隙間を形成して網の目状となることにより、少量の導電性ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電層を得ることができる。さらに、導電性ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い導電層を得ることができる。導電性ナノワイヤとしては、例えば、金属により構成される金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブを含む導電性ナノワイヤ等が挙げられる。 The conductive layer containing the conductive nanowires is formed by applying a dispersion liquid (conductive nanowire dispersion liquid) in which the conductive nanowires are dispersed in a solvent onto an arbitrary suitable base material, and then drying the coating layer. be able to. As the conductive nanowire, any suitable conductive nanowire can be used as long as the effect of the present invention can be obtained. The conductive nanowire is a conductive substance having a needle-like or thread-like shape and a diameter of nanometer size. The conductive nanowires may be linear or curved. The conductive layer containing the conductive nanowires has excellent bending resistance as described above. Further, in the conductive layer containing the conductive nanowires, the conductive nanowires form a gap between the conductive nanowires to form a mesh, so that a good electric conduction path can be formed even with a small amount of the conductive nanowires. , A conductive layer having a small electric resistance can be obtained. Further, since the conductive nanowires have a mesh shape, an opening can be formed in the gap between the meshes to obtain a conductive layer having high light transmittance. Examples of the conductive nanowires include metal nanowires made of metal, conductive nanowires containing carbon nanotubes, and the like.

導電性ナノワイヤの太さdと長さLとの比(アスペクト比:L/d)は、好ましくは10〜100,000であり、より好ましくは50〜100,000であり、さらに好ましくは100〜10,000である。このようにアスペクト比の大きい導電性ナノワイヤを用いれば、導電性ナノワイヤが良好に交差して、少量の導電性ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い導電層を得ることができる。なお、本明細書において、「導電性ナノワイヤの太さ」とは、導電性ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。導電性ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。 The ratio (aspect ratio: L / d) of the thickness d to the length L of the conductive nanowire is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, and further preferably 100 to 100,000. It is 10,000. When conductive nanowires having a large aspect ratio are used in this way, the conductive nanowires can intersect well, and a small amount of conductive nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a conductive layer having high light transmittance can be obtained. In the present specification, the "thickness of the conductive nanowire" means the diameter of the conductive nanowire when the cross section is circular, and the minor diameter when the cross section of the conductive nanowire is elliptical. When it is a polygon, it means the longest diagonal line. The thickness and length of the conductive nanowires can be confirmed by a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

導電性ナノワイヤの太さは、好ましくは500nm未満であり、より好ましくは200nm未満であり、さらに好ましくは1nm〜100nmであり、特に好ましくは1nm〜50nmである。このような範囲であれば、光透過率の高い導電層を形成することができる。導電性ナノワイヤの長さは、好ましくは2.5μm〜1000μmであり、より好ましくは10μm〜500μmであり、さらに好ましくは20μm〜100μmである。このような範囲であれば、導電性の高い導電層を得ることができる。 The thickness of the conductive nanowires is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, still more preferably 1 nm to 100 nm, and particularly preferably 1 nm to 50 nm. Within such a range, a conductive layer having high light transmittance can be formed. The length of the conductive nanowires is preferably 2.5 μm to 1000 μm, more preferably 10 μm to 500 μm, and even more preferably 20 μm to 100 μm. Within such a range, a highly conductive conductive layer can be obtained.

導電性ナノワイヤ(金属ナノワイヤ)を構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。金属ナノワイヤは、好ましくは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた1種以上の金属により構成される。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。また、上記金属にメッキ処理(例えば、金メッキ処理)を行った材料を用いてもよい。 As the metal constituting the conductive nanowire (metal nanowire), any suitable metal can be used as long as it is a highly conductive metal. Metal nanowires are preferably composed of one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver and copper. Of these, silver, copper or gold is preferable, and silver is more preferable, from the viewpoint of conductivity. Further, a material obtained by plating the metal (for example, gold plating) may be used.

カーボンナノチューブとしては、任意の適切なカーボンナノチューブが用いられ得る。例えば、いわゆる多層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、単層カーボンナノチューブ等が用いられる。なかでも、導電性が高い点から、単層カーボンナノチューブが好ましく用いられる。 As the carbon nanotube, any suitable carbon nanotube can be used. For example, so-called multi-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, single-walled carbon nanotubes and the like are used. Among them, single-walled carbon nanotubes are preferably used because of their high conductivity.

金属メッシュとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な金属メッシュが用いられ得る。例えば、フィルム基材上に設けられた金属配線層が網目状にパターン形成されたものを用いることができる。 As the metal mesh, any suitable metal mesh can be used as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, a metal wiring layer provided on a film base material in which a pattern is formed in a mesh pattern can be used.

導電性ナノワイヤおよび金属メッシュの詳細は、例えば、特開2014−113705号公報および特開2014−219667号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 Details of the conductive nanowires and the metal mesh are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-113705 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-219667. The description of this publication is incorporated herein by reference.

導電層の厚みは、好ましくは0.01μm〜10μmであり、より好ましくは0.05μm〜3μmであり、さらに好ましくは0.1μm〜1μmである。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電層を得ることができる。なお、導電層が金属酸化物を含む場合、導電層の厚みは、好ましくは0.01μm〜0.05μmである。 The thickness of the conductive layer is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.05 μm to 3 μm, and even more preferably 0.1 μm to 1 μm. Within such a range, a conductive layer having excellent conductivity and light transmission can be obtained. When the conductive layer contains a metal oxide, the thickness of the conductive layer is preferably 0.01 μm to 0.05 μm.

F.印刷層
印刷層は、上記のとおり、光学積層体の周縁部、より具体的には平面視で有機EL表示装置のベゼルに対応する位置に形成されている。これも上記のとおり、印刷層は、基材の偏光子側(実質的には、樹脂フィルムの偏光子側)に形成されてもよく、光学補償層の偏光子と反対側に形成されてもよい。印刷層は、所定のデザインが施された意匠層であってもよく、ベタの着色層であってもよい。印刷層は、好ましくはベタの着色層であり、より好ましくは黒色の着色層である。黒色の着色層をベゼルに対応する位置に形成することにより、非表示領域を隠蔽することができるので、本実施形態の光学積層体を用いれば、ベゼルを用いない有機EL表示装置を実現することができる。その結果、最表面に段差のない、きわめて優れた外観を有する有機EL表示装置を提供することができる。さらに、印刷層を光学補償層に形成する場合には以下の利点が得られる:すなわち、このような構成であれば、印刷層は必然的に偏光子の下側(有機EL表示装置側)に配置されることとなり、その結果、印刷層の界面の反射光が偏光子により軽減される。したがって、さらに優れた外観を有する有機EL表示装置を実現することができる。
F. Printing layer As described above, the printing layer is formed at a position corresponding to the peripheral portion of the optical laminate, more specifically, the bezel of the organic EL display device in a plan view. As described above, the printed layer may be formed on the polarizer side of the base material (substantially, the polarizer side of the resin film), or may be formed on the side opposite to the polarizer of the optical compensation layer. good. The printing layer may be a design layer having a predetermined design, or may be a solid colored layer. The printing layer is preferably a solid colored layer, and more preferably a black colored layer. Since the non-display area can be concealed by forming the black colored layer at the position corresponding to the bezel, the optical laminate of the present embodiment can be used to realize an organic EL display device that does not use the bezel. Can be done. As a result, it is possible to provide an organic EL display device having an extremely excellent appearance with no step on the outermost surface. Further, when the print layer is formed on the optical compensation layer, the following advantages are obtained: That is, in such a configuration, the print layer is inevitably on the lower side of the polarizer (on the side of the organic EL display device). As a result, the reflected light at the interface of the print layer is reduced by the polarizer. Therefore, it is possible to realize an organic EL display device having an even better appearance.

印刷層は、任意の適切なインキまたは塗料を用いた任意の適切な印刷法により形成することができる。印刷法の具体例としては、グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、転写シートからの転写印刷が挙げられる。 The print layer can be formed by any suitable printing method with any suitable ink or paint. Specific examples of the printing method include gravure printing, offset printing, silk screen printing, and transfer printing from a transfer sheet.

使用されるインキまたは塗料は、代表的には、バインダーと着色剤と溶媒と必要に応じて用いられ得る任意の適切な添加剤とを含む。バインダーとしては、塩素化ポリオレフィン(例えば、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン)、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂が挙げられる。バインダー樹脂は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。1つの実施形態においては、バインダー樹脂は熱重合性樹脂である。熱重合性樹脂は、光重合性樹脂に比べて使用量が少なくてすむので、着色剤の使用量(着色層における着色剤含有量)を増大させることができる。その結果、特に黒色の着色層を形成する場合に、全光線透過率が非常に小さく、優れた隠蔽性を有する着色層を形成することができる。1つの実施形態においては、バインダー樹脂はアクリル系樹脂であり、好ましくは多官能モノマー(例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート)を共重合成分として含むアクリル系樹脂である。多官能モノマーを共重合成分として含むアクリル系樹脂を用いることにより、適切な弾性率を有する着色層が形成され得るので、位相差フィルムをロール形状とする場合にブロッキングを良好に防止することができる。加えて、印刷層の厚みによる段差も形成され、当該段差がブロッキング防止に効果的に機能し得る。 The inks or paints used typically include binders, colorants, solvents and any suitable additives that may be used as needed. Examples of the binder include chlorinated polyolefins (for example, chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene), polyester resins, urethane resins, acrylic resins, vinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, and cellulose resins. .. The binder resin may be used alone or in combination of two or more. In one embodiment, the binder resin is a thermopolymerizable resin. Since the amount of the heat-polymerizable resin used is smaller than that of the photopolymerizable resin, the amount of the colorant used (colorant content in the colored layer) can be increased. As a result, especially when forming a black colored layer, it is possible to form a colored layer having a very small total light transmittance and excellent hiding power. In one embodiment, the binder resin is an acrylic resin, preferably an acrylic resin containing a polyfunctional monomer (for example, pentaerythritol triacrylate) as a copolymerization component. By using an acrylic resin containing a polyfunctional monomer as a copolymerization component, a colored layer having an appropriate elastic modulus can be formed, so that blocking can be satisfactorily prevented when the retardation film is formed into a roll shape. .. In addition, a step is also formed due to the thickness of the print layer, and the step can effectively function to prevent blocking.

着色剤としては、目的に応じて任意の適切な着色剤が用いられ得る。着色剤の具体例としては、チタン白、亜鉛華、カーボンブラック、鉄黒、弁柄、クロムバーミリオン、群青、コバルトブルー、黄鉛、チタンイエロー等の無機顔料;フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、イソインドリノンイエロー、ベンジジンイエロー、キナクリドンレッド、ポリアゾレッド、ペリレンレッド、アニリンブラック等の有機顔料または染料;アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料;二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢顔料(パール顔料)が挙げられる。黒色の着色層を形成する場合には、カーボンブラック、鉄黒、アニリンブラックが好適に用いられる。この場合、着色剤は併用することが好ましい。可視光を広範囲かつ均等に吸収し、色付きのない(すなわち、真っ黒な)着色層を形成し得るからである。例えば、上記の着色剤に加えて、アゾ化合物および/またはキノン化合物が用いられ得る。1つの実施形態においては、着色剤は、主成分としてのカーボンブラックとその他の着色剤(例えば、アゾ化合物および/またはキノン化合物)とを含む。このような構成によれば、色つきがなく、かつ、経時安定性に優れた着色層を形成し得る。黒色の着色層を形成する場合には、着色剤は、バインダー樹脂100重量部に対して、好ましくは50重量部〜200重量部の割合で用いられ得る。この場合、着色剤中のカーボンブラックの含有割合は、好ましくは80%〜100%である。このような割合で着色剤(特にカーボンブラック)を用いることにより、全光線透過率が非常に小さく、かつ、経時安定性に優れた着色層を形成することができる。 As the colorant, any suitable colorant can be used depending on the purpose. Specific examples of colorants include inorganic pigments such as titanium white, zinc flower, carbon black, iron black, petal handle, chrome vermilion, ultramarine blue, cobalt blue, chrome yellow, and titanium yellow; phthalocyanine blue, induslen blue, and iso. Organic pigments or dyes such as indolinone yellow, benzidine yellow, quinacridone red, polyazo red, perylene red, aniline black; metal pigments composed of scaly foil pieces such as aluminum and brass; scales such as titanium dioxide coated mica and basic lead carbonate. Examples thereof include pearl luster pigments (pearl pigments) composed of shaped foil pieces. When forming a black colored layer, carbon black, iron black, and aniline black are preferably used. In this case, it is preferable to use a colorant in combination. This is because it can absorb visible light over a wide range and evenly to form a non-colored (ie, black) colored layer. For example, in addition to the colorants described above, azo compounds and / or quinone compounds can be used. In one embodiment, the colorant comprises carbon black as a main component and other colorants (eg, azo compounds and / or quinone compounds). According to such a configuration, it is possible to form a colored layer that is not colored and has excellent stability over time. When forming a black colored layer, the colorant can be used in a ratio of preferably 50 parts by weight to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin. In this case, the content ratio of carbon black in the colorant is preferably 80% to 100%. By using a colorant (particularly carbon black) at such a ratio, it is possible to form a colored layer having a very small total light transmittance and excellent stability over time.

印刷層の厚みは、好ましくは3μm〜5μmである。さらに、印刷層は、厚み3μm〜5μmにおける全光線透過率が好ましくは0.01%以下であり、より好ましくは0.008%以下である。全光線透過率がこのような範囲であれば、ベゼルを用いることなく有機EL表示装置の非表示領域を良好に隠蔽することができる。 The thickness of the print layer is preferably 3 μm to 5 μm. Further, the printed layer has a total light transmittance of preferably 0.01% or less, more preferably 0.008% or less at a thickness of 3 μm to 5 μm. When the total light transmittance is in such a range, the non-display area of the organic EL display device can be well concealed without using a bezel.

G.内側保護層(内側保護フィルム)
上記内側保護層(内側保護フィルム)を設ける場合には、当該内側保護フィルムは、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Re(550)が0nm〜10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が−10nm〜+10nmであることをいう。
G. Inner protective layer (inner protective film)
When the inner protective layer (inner protective film) is provided, the inner protective film is preferably optically isotropic. As used herein, "optically isotropic" means that the in-plane retardation Re (550) is 0 nm to 10 nm and the thickness direction retardation Rth (550) is -10 nm to +10 nm. say.

内側保護フィルムの厚みは、好ましくは20μm〜200μm、より好ましくは30μm〜100μm、さらに好ましくは35μm〜95μmである。 The thickness of the inner protective film is preferably 20 μm to 200 μm, more preferably 30 μm to 100 μm, and further preferably 35 μm to 95 μm.

内側保護フィルムは、上記所望の特性が得られる限り任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。 The inner protective film is formed of any suitable film as long as the desired properties are obtained. Specific examples of the material that is the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, and polysulfone-based. , Polyester-based, polycarbonate-based, polyolefin-based, (meth) acrylic-based, acetate-based transparent resins and the like. Further, thermosetting resins such as (meth) acrylic, urethane, (meth) acrylic urethane, epoxy, and silicone, or ultraviolet curable resins can also be mentioned. In addition to this, for example, glassy polymers such as siloxane-based polymers can also be mentioned. Further, the polymer film described in JP-A-2001-343529 (WO01 / 37007) can also be used. As the material of this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in the side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in the side chain. Can be used, and examples thereof include a resin composition having an alternating copolymer composed of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile / styrene copolymer. The polymer film can be, for example, an extruded product of the above resin composition.

H.粘着剤層または接着剤層
本発明の光学積層体を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。
H. Adhesive layer or adhesive layer Any suitable adhesive layer or adhesive layer is used for laminating each layer constituting the optical laminate of the present invention.

好ましくは、基材と偏光子とは、接着剤層を介して積層される。接着剤層の種類、弾性率および/または厚さを適切に選択することにより、基材と偏光子との層間剥離力を所望の値とすることができる。 Preferably, the substrate and the polarizer are laminated via an adhesive layer. By appropriately selecting the type, elastic modulus and / or thickness of the adhesive layer, the delamination force between the base material and the polarizer can be set to a desired value.

接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な形態の接着剤が採用され得る。具体例としては、水性接着剤、溶剤型接着剤、エマルション系接着剤、無溶剤型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、電子線硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、可視光線硬化型接着剤が挙げられる。水性接着剤および活性エネルギー線硬化型接着剤が好適に用いられ得る。水性接着剤の具体例としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤(PVA系接着剤)、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステルが挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤の具体例としては、(メタ)アクリレート系接着剤が挙げられる。なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよび/またはメタクリレートを意味する。(メタ)アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合硬化型接着剤としてエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも2個のエポキシ基と少なくとも1個の芳香環を有する化合物(芳香族系エポキシ化合物)や、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも1個は脂環式環を構成する隣り合う2個の炭素原子との間で形成されている化合物(脂環式エポキシ化合物)等が例として挙げられる。 As the adhesive constituting the adhesive layer, any suitable form of adhesive can be adopted. Specific examples include water-based adhesives, solvent-based adhesives, emulsion-based adhesives, solvent-free adhesives, active energy ray-curable adhesives, and thermosetting adhesives. Examples of the active energy ray-curable adhesive include an electron beam-curable adhesive, an ultraviolet-curable adhesive, and a visible light-curable adhesive. A water-based adhesive and an active energy ray-curable adhesive can be preferably used. Specific examples of the water-based adhesive include isocyanate-based adhesives, polyvinyl alcohol-based adhesives (PVA-based adhesives), gelatin-based adhesives, vinyl-based latex-based adhesives, water-based polyurethanes, and water-based polyesters. Specific examples of the active energy ray-curable adhesive include (meth) acrylate-based adhesives. The (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate. Examples of the curable component in the (meth) acrylate-based adhesive include a compound having a (meth) acryloyl group and a compound having a vinyl group. Further, a compound having an epoxy group or an oxetanyl group can also be used as the cationic polymerization curable adhesive. The compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in the molecule, and various generally known curable epoxy compounds can be used. Preferred epoxy compounds include compounds having at least two epoxy groups and at least one aromatic ring in the molecule (aromatic epoxy compounds) and at least one of them having at least two epoxy groups in the molecule. Examples thereof include a compound (alicyclic epoxy compound) formed between two adjacent carbon atoms constituting an alicyclic ring.

1つの実施形態においては、上記接着剤層を構成する接着剤として、PVA系接着剤が用いられる。PVA系接着剤を用いることで、活性エネルギー線を透過しない材料を用いた場合でも、材料どうしを接着することが可能となる。別の実施形態においては、上記接着剤層を構成する接着剤として、活性エネルギー線硬化型接着剤が用いられる。活性エネルギー線硬化型接着剤を用いれば、材料表面が疎水性でありPVA接着剤では接着しないような材料でも十分な層間剥離力を得ることができる。 In one embodiment, a PVA-based adhesive is used as the adhesive constituting the adhesive layer. By using a PVA-based adhesive, it is possible to bond the materials together even when a material that does not transmit active energy rays is used. In another embodiment, an active energy ray-curable adhesive is used as the adhesive constituting the adhesive layer. If an active energy ray-curable adhesive is used, a sufficient delamination force can be obtained even for a material whose surface is hydrophobic and which cannot be adhered by a PVA adhesive.

接着剤層の貯蔵弾性率は、70℃以下の領域で好ましくは1.0×10Pa以上であり、より好ましくは1.0×10Pa以上である。接着剤層の貯蔵弾性率の上限は、例えば1.0×1010Paである。接着剤層の貯蔵弾性率は光学積層体にヒートサイクル(−40℃から80℃など)をかけた際の偏光子クラックに影響し、貯蔵弾性率が低い場合、偏光子クラックの不具合が発生しやすい。高い貯蔵弾性率を有する温度領域は、より好ましくは80℃以下であり、さらに好ましくは90℃以下である。 The storage elastic modulus of the adhesive layer is preferably 1.0 × 10 6 Pa or more, and more preferably 1.0 × 10 7 Pa or more in the region of 70 ° C. or lower. The upper limit of the storage elastic modulus of the adhesive layer is, for example, 1.0 × 10 10 Pa. The storage elastic modulus of the adhesive layer affects the polarizer cracks when the optical laminate is heat-cycled (-40 ° C to 80 ° C, etc.), and when the storage elastic modulus is low, the polarizer crack defect occurs. Cheap. The temperature range having a high storage elastic modulus is more preferably 80 ° C. or lower, still more preferably 90 ° C. or lower.

接着剤層の厚みは、代表的には0.01μm〜7μmであり、好ましくは0.01μm〜5μmである。 The thickness of the adhesive layer is typically 0.01 μm to 7 μm, preferably 0.01 μm to 5 μm.

基材と偏光子との積層以外の積層には、上記接着剤層または粘着剤層が用いられ得る。 The adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer may be used for the lamination other than the lamination of the base material and the polarizer.

粘着剤層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤は単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。透明性、加工性、耐久性などの点から、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。 Examples of the adhesive constituting the adhesive layer include acrylic adhesive, rubber adhesive, vinyl alkyl ether adhesive, silicone adhesive, polyester adhesive, polyamide adhesive, urethane adhesive, and the like. Fluorine-based pressure-sensitive adhesives, epoxy-based pressure-sensitive adhesives, and polyether-based pressure-sensitive adhesives can be mentioned. The pressure-sensitive adhesive may be used alone or in combination of two or more. An acrylic adhesive is preferably used from the viewpoint of transparency, processability, durability and the like.

粘着剤層の厚みは、代表的には10μm〜250μmであり、好ましくは10μm〜150μmである。粘着剤層は、単一層であってもよく、積層構造を有していてもよい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is typically 10 μm to 250 μm, preferably 10 μm to 150 μm. The pressure-sensitive adhesive layer may be a single layer or may have a laminated structure.

粘着剤層の貯蔵弾性率(G’)は、25℃において、好ましくは0.01MPa〜1.00MPaであり、より好ましくは0.05MPa〜0.50MPaである。粘着剤層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、非常に優れた屈曲性を有する光学積層体が得られ得る。結果として、屈曲可能または折りたたみ可能な有機EL表示装置を実現することができる。 The storage elastic modulus (G') of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.01 MPa to 1.00 MPa, more preferably 0.05 MPa to 0.50 MPa at 25 ° C. When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is within such a range, an optical laminate having extremely excellent flexibility can be obtained. As a result, a bendable or foldable organic EL display device can be realized.

I.有機EL表示装置
本発明の光学積層体が適用され得る画像表示装置の一例として、有機EL表示装置について説明する。なお、本発明の光学積層体は、上記のとおり液晶表示装置にも適用され得る。図3は、本発明の1つの実施形態による有機EL表示装置の概略断面図である。有機EL表示装置300は、有機EL素子(有機EL表示セル)200と、有機EL素子200の視認側に光学積層体100または101(好ましくは、光学積層体101)を備える。光学積層体は、上記A項〜H項に記載した本発明の光学積層体である。光学積層体は、光学補償層が有機EL素子側となるように(基材が視認側となるように)積層されている。なお、光学積層体は、上記の光学積層体100または101に限られず、図示していない本発明のさらに別の実施形態による光学積層体であってもよい。1つの実施形態においては、光学積層体101は、反射防止フィルムとして機能する。
I. Organic EL Display Device An organic EL display device will be described as an example of an image display device to which the optical laminate of the present invention can be applied. The optical laminate of the present invention can also be applied to a liquid crystal display device as described above. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display device according to one embodiment of the present invention. The organic EL display device 300 includes an organic EL element (organic EL display cell) 200 and an optical laminate 100 or 101 (preferably, an optical laminate 101) on the visual side of the organic EL element 200. The optical laminate is the optical laminate of the present invention described in the above items A to H. The optical laminate is laminated so that the optical compensation layer is on the organic EL element side (the base material is on the visual side). The optical laminate is not limited to the above-mentioned optical laminate 100 or 101, and may be an optical laminate according to yet another embodiment of the present invention (not shown). In one embodiment, the optical laminate 101 functions as an antireflection film.

有機EL表示装置は、好ましくは屈曲可能である。上記の本発明の光学積層体と後述の屈曲可能な有機EL素子とを組み合わせることにより、屈曲可能な有機EL表示装置が実現され得る。より詳細には、有機EL表示装置の少なくとも一部は、曲率半径が好ましくは10mm以下で、より好ましくは8mm以下で屈曲可能である。有機EL表示装置は、任意の適切な部分で屈曲可能である。例えば、有機EL表示装置は、折り畳み式の表示装置のように中央部で屈曲可能であってもよく、デザイン性と表示画面を最大限に確保するという観点から端部で屈曲可能であってもよい。さらに、有機EL表示装置は、その長手方向に沿って屈曲可能であってもよく、その短手方向に沿って屈曲可能であってもよい。用途に応じて有機EL表示装置の特定部分が屈曲可能(例えば、四隅の一部または全部が斜め方向に屈曲可能)であればよいことは言うまでもない。 The organic EL display device is preferably bendable. A bendable organic EL display device can be realized by combining the above-mentioned optical laminate of the present invention with a bendable organic EL element described later. More specifically, at least a part of the organic EL display device can be bent with a radius of curvature of preferably 10 mm or less, more preferably 8 mm or less. The organic EL display device can be bent at any suitable portion. For example, the organic EL display device may be bendable at the center like a foldable display device, or may be bendable at the edges from the viewpoint of maximizing the design and the display screen. good. Further, the organic EL display device may be bendable along the longitudinal direction thereof, or may be bendable along the lateral direction thereof. Needless to say, it is sufficient that a specific part of the organic EL display device can be bent (for example, a part or all of the four corners can be bent in an oblique direction) depending on the application.

光学補償層が位相差フィルムで構成される場合には、位相差フィルムの遅相軸方向が有機EL表示装置の屈曲方向に対して好ましくは20°〜70°、より好ましくは30°〜60°、さらに好ましくは40°〜50°、特に好ましくは45°近傍となるように、光学積層体が配置され得る。光学補償層が第1の液晶配向固化層と第2の液晶配向固化層との積層構造を有する場合には、第1の液晶配向固化層31の遅相軸方向が有機EL表示装置の屈曲方向に対して好ましくは10°〜20°、より好ましくは11°〜19°、さらに好ましくは12°〜18°、特に好ましくは15°近傍となるように、光学積層体が配置され得る。この場合、第2の液晶配向固化層の遅相軸方向は、有機EL表示装置の屈曲方向に対して好ましくは70°〜80°、より好ましくは71°〜79°、さらに好ましくは72°〜78°、特に好ましくは75°近傍となる。なお、第1の液晶配向固化層および第2の液晶配向固化層は非常に薄く屈曲の影響が少ないので、軸角度の調整は位相差フィルムの場合ほど厳密でなくてもよい。いずれの実施形態においても、光学補償層の遅相軸方向と有機EL表示装置の屈曲方向との関係を調整することにより、屈曲による色変化が抑制された屈曲可能な有機EL表示装置を得ることができる。1つの実施形態においては、有機EL表示装置(または有機EL素子)の屈曲方向は、長手方向または長手方向に直交する方向(短手方向)である。このような実施形態においては、光学積層体の偏光子の吸収軸を長手方向(または短手方向)に対して直交または平行に設定すれば、有機EL素子に積層される際、光学補償層の遅相軸を位置合わせする必要はなく、偏光子の吸収軸方向を位置合わせすればよい。このようにすれば、ロールトゥロールによる製造が可能となる。 When the optical compensation layer is composed of a retardation film, the slow axis direction of the retardation film is preferably 20 ° to 70 °, more preferably 30 ° to 60 ° with respect to the bending direction of the organic EL display device. The optical laminate can be arranged so as to be more preferably 40 ° to 50 °, particularly preferably in the vicinity of 45 °. When the optical compensation layer has a laminated structure of the first liquid crystal oriented solidified layer and the second liquid crystal oriented solidified layer, the slow axis direction of the first liquid crystal oriented solidified layer 31 is the bending direction of the organic EL display device. The optical laminate may be arranged so as to be preferably in the vicinity of 10 ° to 20 °, more preferably 11 ° to 19 °, further preferably 12 ° to 18 °, and particularly preferably in the vicinity of 15 °. In this case, the slow axis direction of the second liquid crystal oriented solidified layer is preferably 70 ° to 80 °, more preferably 71 ° to 79 °, still more preferably 72 ° to the bending direction of the organic EL display device. It is 78 °, particularly preferably around 75 °. Since the first liquid crystal oriented solidified layer and the second liquid crystal oriented solidified layer are very thin and are less affected by bending, the adjustment of the axial angle does not have to be as strict as in the case of the retardation film. In any of the embodiments, by adjusting the relationship between the slow axis direction of the optical compensation layer and the bending direction of the organic EL display device, a bendable organic EL display device in which color change due to bending is suppressed can be obtained. Can be done. In one embodiment, the bending direction of the organic EL display device (or organic EL element) is a longitudinal direction or a direction orthogonal to the longitudinal direction (short direction). In such an embodiment, if the absorption axis of the polarizer of the optical laminate is set orthogonally or parallel to the longitudinal direction (or the lateral direction), the optical compensation layer can be laminated when laminated on the organic EL element. It is not necessary to align the slow axis, but the absorption axis direction of the polarizer may be aligned. In this way, roll-to-roll manufacturing becomes possible.

J.有機EL素子
有機EL素子200としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な有機EL素子を採用することができる。図4は、本発明に用いられる有機EL素子の一形態を説明する概略断面図である。有機EL素子200は、代表的には、基板210と、第1電極220と、有機EL層230と、第2電極240と、これらを覆う封止層250とを有する。有機EL素子200は、必要に応じて、任意の適切な層をさらに有し得る。例えば、基板上に平坦化層(図示せず)を設けてもよく、第1電極と第2電極との間に短絡を防止するための絶縁層(図示せず)を設けてもよい。
J. Organic EL element As the organic EL element 200, any suitable organic EL element can be adopted as long as the effect of the present invention can be obtained. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating one form of the organic EL device used in the present invention. The organic EL element 200 typically includes a substrate 210, a first electrode 220, an organic EL layer 230, a second electrode 240, and a sealing layer 250 covering them. The organic EL element 200 may further have any suitable layer, if desired. For example, a flattening layer (not shown) may be provided on the substrate, or an insulating layer (not shown) for preventing a short circuit may be provided between the first electrode and the second electrode.

基板210は、上記所定の曲率半径で屈曲可能である限りにおいて任意の適切な材料で構成され得る。基板210は、代表的には、可撓性を有する材料で構成される。可撓性を有する基板を用いれば、上記の本発明の効果に加えて、長尺状の光学積層体を用いる場合には、有機EL表示装置をいわゆるロールトゥロールプロセスで製造できるので、低コストおよび大量生産を実現し得る。さらに、基板210は、好ましくはバリア性を有する材料で構成される。このような基板は、有機EL層230を酸素や水分から保護し得る。バリア性および可撓性を有する材料の具体例としては、可撓性を付与した薄ガラス、バリア性を付与した熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂フィルム、合金、金属が挙げられる。熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂が挙げられる。合金としては、例えば、ステンレス、36アロイ、42アロイが挙げられる。金属としては、例えば、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム、チタンが挙げられる。基板の厚みは、好ましくは5μm〜500μmであり、より好ましくは5μm〜300μmであり、さらに好ましくは10μm〜200μmである。このような厚みであれば、有機EL表示装置を上記所定の曲率半径で屈曲可能とすることができ、ならびに、可撓性、取り扱い性および機械的強度のバランスに優れる。また、有機EL素子をロールトゥロールプロセスに好適に用いることができる。 The substrate 210 may be made of any suitable material as long as it can be bent with the predetermined radius of curvature. The substrate 210 is typically made of a flexible material. If a flexible substrate is used, in addition to the above-mentioned effects of the present invention, when a long optical laminate is used, an organic EL display device can be manufactured by a so-called roll-to-roll process, so that the cost is low. And mass production can be achieved. Further, the substrate 210 is preferably made of a material having a barrier property. Such a substrate can protect the organic EL layer 230 from oxygen and moisture. Specific examples of the material having the barrier property and the flexibility include thin glass having the flexibility property, a thermoplastic resin or a thermosetting resin film having the barrier property, an alloy, and a metal. Examples of the thermoplastic resin or the thermosetting resin include polyester resin, polyimide resin, epoxy resin, polyurethane resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyamide resin, polycarbonate resin, silicone resin, and fluorine. Examples thereof include based resins and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resins. Examples of the alloy include stainless steel, 36 alloy, and 42 alloy. Examples of the metal include copper, nickel, iron, aluminum and titanium. The thickness of the substrate is preferably 5 μm to 500 μm, more preferably 5 μm to 300 μm, and even more preferably 10 μm to 200 μm. With such a thickness, the organic EL display device can be bent with the predetermined radius of curvature, and the balance between flexibility, handleability, and mechanical strength is excellent. Further, the organic EL element can be suitably used for the roll-to-roll process.

第1電極220は、代表的には陽極として機能し得る。この場合、第1電極を構成する材料としては、正孔注入性を容易にするという観点から、仕事関数の大きい材料が好ましい。このような材料の具体例としては、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物(ITSO)、酸化タングステンを含むインジウム酸化物(IWO)、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物(IWZO)、酸化チタンを含むインジウム酸化物(ITiO)、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物(ITTiO)、モリブテンを含む酸化インジウムスズ(ITMO)などの透明導電性材料;ならびに、金、銀、白金などの金属およびそれらの合金が挙げられる。 The first electrode 220 can typically function as an anode. In this case, as the material constituting the first electrode, a material having a large work function is preferable from the viewpoint of facilitating hole injection. Specific examples of such materials include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide with silicon oxide added (ITSO), indium oxide containing tungsten oxide (IWO), and the like. Transparent conductive materials such as indium zinc oxide containing tungsten oxide (IWZO), indium oxide containing titanium oxide (ITIO), indium tin oxide containing titanium oxide (ITTIO), and indium tin oxide containing molybdenum (ITMO). Also included are metals such as gold, silver, platinum and their alloys.

有機EL層230は、種々の有機薄膜を含む積層体である。図示例では、有機EL層230は、正孔注入性有機材料(例えば、トリフェニルアミン誘導体)からなり、陽極からの正孔注入効率を向上させるべく設けられた正孔注入層230aと、例えば銅フタロシアニンからなる正孔輸送層230bと、発光性有機物質(例えば、アントラセン、ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニル〕ベンジジン、N,N´−ジフェニル−N−N−ビス(1−ナフチル)−1,1´−(ビフェニル)−4,4´−ジアミン(NPB))からなる発光層230cと、例えば8−キノリノールアルミニウム錯体からなる電子輸送層230dと、電子注入性材料(例えば、ペリレン誘導体、フッ化リチウム)からなり、陰極からの電子注入効率を向上させるべく設けられた電子注入層230eと、を有する。有機EL層230は、図示例に限定されず、発光層230cにおいて電子と正孔とが再結合して発光を生じさせ得る任意の適切な組み合わせが採用され得る。有機EL層230の厚みは、できる限り薄いことが好ましい。発光した光を可能な限り透過させることが好ましいからである。有機EL層230は、例えば5nm〜200nm、好ましくは10nm程度のきわめて薄い積層体で構成され得る。 The organic EL layer 230 is a laminate containing various organic thin films. In the illustrated example, the organic EL layer 230 is made of a hole-injecting organic material (for example, a triphenylamine derivative), and is provided with a hole injection layer 230a for improving the hole injection efficiency from the anode, for example, copper. A hole transport layer 230b composed of phthalocyanine and a luminescent organic substance (eg, anthracene, bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl] benzidine, N, N'-diphenyl-N-N-bis (1-). A light emitting layer 230c made of naphthyl) -1,1'-(biphenyl) -4,4'-diamine (NPB)), an electron transport layer 230d made of, for example, an 8-quinolinol aluminum complex, and an electron injectable material (eg, an electron injectable material). It is composed of a perylene derivative (lithium fluoride) and has an electron injection layer 230e provided for improving the electron injection efficiency from the cathode. The organic EL layer 230 is not limited to the illustrated example, and any suitable combination in which electrons and holes can recombine in the light emitting layer 230c to generate light can be adopted. The thickness of the organic EL layer 230 is preferably as thin as possible. This is because it is preferable to transmit the emitted light as much as possible. The organic EL layer 230 may be composed of an extremely thin laminate having, for example, 5 nm to 200 nm, preferably about 10 nm.

第2電極240は、代表的には陰極として機能し得る。この場合、第2電極を構成する材料としては、電子注入を容易にして発光効率を上げるという観点から、仕事関数の小さい材料が好ましい。このような材料の具体例としては、アルミニウム、マグネシウムおよびこれらの合金が挙げられる。 The second electrode 240 can typically function as a cathode. In this case, as the material constituting the second electrode, a material having a small work function is preferable from the viewpoint of facilitating electron injection and increasing luminous efficiency. Specific examples of such materials include aluminum, magnesium and alloys thereof.

封止層250は、任意の適切な材料で構成される。封止層25は、好ましくは、バリア性および透明性に優れた材料で構成される。封止層を構成する材料の代表例としては、エポキシ樹脂、ポリ尿素が挙げられる。1つの実施形態においては、封止層250は、エポキシ樹脂(代表的には、エポキシ樹脂接着剤)を塗工し、その上にバリア性シートを貼り付けて形成してもよい。 The sealing layer 250 is made of any suitable material. The sealing layer 25 is preferably made of a material having excellent barrier properties and transparency. Typical examples of materials constituting the sealing layer include epoxy resin and polyurea. In one embodiment, the sealing layer 250 may be formed by applying an epoxy resin (typically, an epoxy resin adhesive) and attaching a barrier sheet on the epoxy resin.

有機EL素子200は、好ましくは、ロールトゥロールプロセスで連続的に製造され得る。有機EL素子200は、例えば2012−169236号公報に記載の手順に準じた手順で製造され得る。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。さらに、有機EL素子200は、長尺状の光学積層体100とロールトゥロールプロセスで連続的に積層されて、有機EL表示装置300が連続的に製造され得る。 The organic EL element 200 can preferably be continuously manufactured by a roll-to-roll process. The organic EL element 200 can be manufactured, for example, by a procedure according to the procedure described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-169236. The description of this publication is incorporated herein by reference. Further, the organic EL element 200 can be continuously laminated with the long optical laminate 100 by a roll-to-roll process to continuously manufacture the organic EL display device 300.

なお、屈曲可能な有機EL表示装置の詳細は、例えば、特許第4601463号または特許第4707996号に記載されている。これらの記載は、参考として本明細書に援用される。 Details of the bendable organic EL display device are described in, for example, Japanese Patent No. 4601463 or Japanese Patent No. 4707996. These statements are incorporated herein by reference.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。また、実施例において、特に明記しない限り、「部」および「%」は重量基準である。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Further, in the examples, unless otherwise specified, "parts" and "%" are based on weight.

[製造例1]接着剤(活性エネルギー線硬化型接着剤)A〜Cの調製
表1に記載の配合表に従い各成分を混合して、50℃で1時間撹拌し、接着剤A〜C(活性エネルギー線硬化型接着剤A〜C)を調製した。表中の数値は組成物全量を100重量%としたときの重量%を示す。使用した各成分は以下のとおりである。
HEAA:ヒドロキシエチルアクリルアミド、興人社製;
M−220:ARONIX M−220(M−220)(トリプロピレングリコールジアクリレート)、東亞合成社製
ACMO:アクリロイルモルホリン、興人社製
AAEM:(2−アセトアセトキシエチルメタクリレート)、日本合成化学社製
ライトアクリレート1,9ND−A:1,9−ナノンジオールジアクリレート、共栄社化学社製
UP−1190:ARUFON UP−1190、東亞合成社製
ニカラックMX−750LM:日本カーバイト工業社製
IRG907:IRGACURE907(2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)、BASF社製
DETX−S:KAYACURE DETX−S(ジエチルチオキサントン)、日本化薬社製
CPI−100P:トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートを主成分とする有効成分50%のプロピレンカーボネート溶液、サンアプロ社製
[Production Example 1] Preparation of Adhesives (Active Energy Ray Curable Adhesives) A to C Each component is mixed according to the formulation table shown in Table 1, stirred at 50 ° C. for 1 hour, and adhesives A to C (adhesives A to C). Active energy ray-curable adhesives A to C) were prepared. The numerical values in the table indicate the weight% when the total amount of the composition is 100% by weight. Each component used is as follows.
HEAA: Hydroxyethyl acrylamide, manufactured by Kojinsha;
M-220: ARONIX M-220 (M-220) (tripropylene glycol diacrylate), manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd. ACMO: acryloyl morpholin, manufactured by Kojin Co., Ltd. AAEM: (2-acetoacetoxyethyl methacrylate), manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Light Acrylate 1,9ND-A: 1,9-Nanonediol Diacrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. UP-1190: ARUFON UP-1190, Toa Synthetic Co., Ltd. Nikalac MX-750LM: Nippon Carbide Industry Co., Ltd. IRG907: IRGACURE907 (2) -Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one), BASF DETX-S: KAYACURE DETX-S (diethylthioxanthone), Nippon Kayaku Co., Ltd. CPI-100P: Triaryl Propylene carbonate solution containing sulfonium hexafluorophosphate as the main component and 50% active ingredient, manufactured by San Apro Co., Ltd.

Figure 0006904666
Figure 0006904666

なお、接着剤A〜Cを用いた実施例および比較例においては、該接着剤を介して基材と偏光子とを積層した後、紫外線を照射して該接着剤を硬化し、接着剤層を形成した。紫外線の照射には、ガリウム封入メタルハライドランプ(Fusion UV Systems,Inc社製、商品名「Light HAMMER10」、バルブ:Vバルブ、ピーク照度:1600mW/cm、積算照射量1000/mJ/cm(波長380〜440nm))を使用した。 In the examples and comparative examples using the adhesives A to C, the base material and the polarizer are laminated via the adhesive, and then the adhesive is cured by irradiating with ultraviolet rays to cure the adhesive layer. Was formed. For UV irradiation, gallium-filled metal halide lamp (Fusion UV Systems, Inc., trade name "Light HAMMER10", bulb: V bulb, peak illuminance: 1600 mW / cm 2 , cumulative irradiation dose 1000 / mJ / cm 2 (wavelength) 380 to 440 nm)) was used.

[製造例2]接着剤(PVA系接着剤)Dの調製
特開2008−15483号に記載された方法に従って、接着剤D(PVA系接着剤D)を調整した。
なお、接着剤Dを用いた実施例においては、該接着剤を介して基材と偏光子とを積層した後、該接着剤は60℃のオーブン内で5分間乾燥し、接着剤を形成した。
[Production Example 2] Preparation of Adhesive (PVA-based Adhesive) D Adhesive D (PVA-based adhesive D) was prepared according to the method described in JP-A-2008-15483.
In the example using the adhesive D, after laminating the base material and the polarizer via the adhesive, the adhesive was dried in an oven at 60 ° C. for 5 minutes to form an adhesive. ..

[実施例1]
基材として厚さ20μmのポリアリレート(PAR)樹脂フィルムを用いた。該基材と偏光子(特開2012−73580号に記載された方法に従って作製、厚さ5μm)とを、上記接着剤Aを介して接着して、光学積層体を得た。
[Example 1]
A polyarylate (PAR) resin film having a thickness of 20 μm was used as a base material. The base material and a polarizer (manufactured according to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580, having a thickness of 5 μm) were adhered to each other via the adhesive A to obtain an optical laminate.

[実施例2]
ポリアリレート(PAR)樹脂フィルムに代えて、厚さ20μmのポリイミド(PI)樹脂フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
[Example 2]
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyimide (PI) resin film having a thickness of 20 μm was used instead of the polyarylate (PAR) resin film.

[実施例3]
接着剤Aに代えて、接着剤Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
[Example 3]
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive D was used instead of the adhesive A.

[実施例4]
ポリアリレート(PAR)樹脂フィルムに代えて、厚さ20μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを用い、接着剤Aに代えて、接着剤Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
[Example 4]
Optical in the same manner as in Example 1 except that a 20 μm-thick triacetyl cellulose (TAC) film was used instead of the polyarylate (PAR) resin film and the adhesive D was used instead of the adhesive A. A laminate was obtained.

[比較例1]
接着剤Aに代えて、接着剤Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
[Comparative Example 1]
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive B was used instead of the adhesive A.

[比較例2]
接着剤Aに代えて、接着剤Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
[Comparative Example 2]
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive C was used instead of the adhesive A.

[評価]
実施例および比較例で得られた光学積層体を、下記評価(1)〜(3)に供した。結果を表2に示す。
[evaluation]
The optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples were subjected to the following evaluations (1) to (3). The results are shown in Table 2.

(1)層間剥離力
所定のサイズ(長さ:200mm、幅15mm;偏光子の延伸方向と平行な方向を長さ方向とする)に切り出した光学積層体を評価サンプルとした。
光学積層体の長さ方向端部において、基材と接着剤層との間にカッターナイフで切り込み(長さ:10mm)を入れた。次いで、光学積層体をガラス板に固定した後、引っ張り試験機により、剥離角度:90°、剥離速度10m/minの条件で、基材と偏光子とを剥離させた際の剥離力を測定した。
(1) Delamination force An optical laminate cut out to a predetermined size (length: 200 mm, width 15 mm; the direction parallel to the stretching direction of the polarizer is the length direction) was used as an evaluation sample.
At the end in the length direction of the optical laminate, a notch (length: 10 mm) was made between the base material and the adhesive layer with a cutter knife. Next, after fixing the optical laminate to the glass plate, the peeling force when the base material and the polarizer were peeled off was measured under the conditions of a peeling angle of 90 ° and a peeling speed of 10 m / min by a tensile tester. ..

(2)耐折性試験
図5に示す株式会社井元製作所製の耐折試験機を用いた。
光学積層体100の一方端を、折り曲げ可能な治具Aに固定し、他方端には所定荷重(100g/10mm)を掛けた。基材側を内側として4mmφのマンドレルBを挟み(すなわち、屈曲部の曲率半径を2mmとし)、治具Aを折り曲げることにより、光学積層体を、フラットな状態から屈曲角度Xが175°になるまで、屈曲させた。なお、マンドレルとしては、表面がフッ素含有アルマイト処理(TUFRAM(登録商標))されたものを用いた。また、マンドレルとの摩擦によるダメージの影響を低減するため、光学積層体の基材側表面に保護フィルム(30μm)を貼り付けた状態で、上記の試験を行った。
上記屈曲を10万回(治具を10万往復)行った後、目視および顕微鏡観察によって、偏光子および基材の破断およびクラックの有無を確認した。
表2中、基材および偏光子ともに、破断およびクラックが確認されなかった場合を〇、偏光子には破断およびクラックが確認されなかった場合(基材には破断またはクラックが確認された場合)を△、偏光子に破断およびクラックが確認された場合を×とする。
(2) Fold resistance test A fold resistance tester manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd. shown in Fig. 5 was used.
One end of the optical laminate 100 was fixed to a bendable jig A, and a predetermined load (100 g / 10 mm) was applied to the other end. By sandwiching a 4 mmφ mandrel B with the base material side inside (that is, the radius of curvature of the bent portion is 2 mm) and bending the jig A, the optical laminate is bent from a flat state to a bending angle X of 175 °. Was bent. As the mandrel, a mandrel whose surface was treated with fluorine-containing alumite (TUFRAM (registered trademark)) was used. Further, in order to reduce the influence of damage due to friction with the mandrel, the above test was carried out with a protective film (30 μm) attached to the surface of the optical laminate on the substrate side.
After performing the above bending 100,000 times (100,000 reciprocations of the jig), the presence or absence of breakage and cracks in the polarizer and the substrate was confirmed by visual inspection and microscopic observation.
In Table 2, when no breakage or crack was confirmed in both the base material and the polarizer, when no breakage or crack was confirmed in the polarizer (when breakage or crack was confirmed in the substrate). Is Δ, and the case where breakage or crack is confirmed in the polarizer is ×.

(3)引っ張り弾性率
光学積層体の引っ張り弾性率を、JIS K 7127に基づいて測定した。
(3) Tension elastic modulus The tensile elastic modulus of the optical laminate was measured based on JIS K 7127.

Figure 0006904666
Figure 0006904666

本発明の光学積層体は有機EL表示装置に好適に用いられ、屈曲可能または折り畳み可能な有機EL表示装置に特に好適に用いられ得る。 The optical laminate of the present invention is suitably used for an organic EL display device, and may be particularly preferably used for a bendable or foldable organic EL display device.

10 基材
20 偏光子
30 光学補償層(位相差フィルム)
100 光学積層体
101 光学積層体
200 有機EL素子
300 有機EL表示装置
10 Base material 20 Polarizer 30 Optical compensation layer (phase difference film)
100 Optical laminate 101 Optical laminate 200 Organic EL element 300 Organic EL display device

Claims (5)

基材と、基材の少なくとも片側に配置される偏光子とを備える、屈曲可能または折りたたみ可能な有機EL表示装置用の光学積層体であって、
該基材が、該有機EL表示装置の表面保護層であり、かつ、該偏光子の保護層であり、
該基材と該偏光子との層間剥離力が、2N/15mm〜5N/15mmであり、
4mmφのマンドレルを用い、基材側を内側として、曲率半径2mmで、屈曲角度が175°となるようにして10万回屈曲させた後において、該基材/該偏光子間での層間剥離がなく、かつ、該偏光子の破断およびクラックがなく、
該偏光子および該基材以外の層をさらに有し、
該光学積層体を構成する層すべてにおいて、隣接する層との層間剥離力が2N/15mm〜5N/15mmであり、
25℃における引っ張り弾性率が、2.8GPa以上である、
光学積層体。
An optical laminate for a bendable or foldable organic EL display device comprising a substrate and a polarizer arranged on at least one side of the substrate.
The base material is a surface protective layer of the organic EL display device and a protective layer of the polarizer.
The delamination force between the base material and the polarizer is 2N / 15mm to 5N / 15mm .
After bending 100,000 times using a 4 mmφ mandrel with the base material side inside, with a radius of curvature of 2 mm and a bending angle of 175 °, delamination between the base material and the polarizer occurs. without and, breaking and cracking of the polarizer is rather name
Further having a layer other than the polarizer and the substrate,
In all the layers constituting the optical laminate, the delamination force with the adjacent layer is 2N / 15mm to 5N / 15mm.
The tensile elastic modulus at 25 ° C. is 2.8 GPa or more.
Optical laminate.
前記基材と前記偏光子とが、接着剤層を介して積層されている、請求項1に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the base material and the polarizer are laminated via an adhesive layer. 前記接着剤層の貯蔵弾性率が、70℃以下の領域で1.0×10Pa以上である、請求項に記載の光学積層体。 The storage elastic modulus of the adhesive layer is 70 ° C. in the following areas 1.0 × 10 6 Pa or more, the optical laminate according to claim 2. 有機EL表示装置の反射防止フィルムとして用いられる、請求項1からのいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 3 , which is used as an antireflection film for an organic EL display device. 請求項1からのいずれかに記載の光学積層体を備える、有機EL表示装置。
An organic EL display device comprising the optical laminate according to any one of claims 1 to 4.
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