JP6971558B2 - Transparent conductive film and display device with touch function - Google Patents

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JP6971558B2 JP2016209800A JP2016209800A JP6971558B2 JP 6971558 B2 JP6971558 B2 JP 6971558B2 JP 2016209800 A JP2016209800 A JP 2016209800A JP 2016209800 A JP2016209800 A JP 2016209800A JP 6971558 B2 JP6971558 B2 JP 6971558B2
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本発明は、透明導電性フィルム及びタッチ機能付き表示装置に関する。 The present invention relates to a transparent conductive film and a display device with a touch function.

ディスプレイ表示特性の改善及びデバイスの薄型化などを目的として、近年、タッチモジュール機能とディスプレイ表示機能の統合が検討されている。例えば、ディスプレイモジュールの一部の部材の内部にタッチセンサーを組み込む手法や、円偏光板等の表示装置用光学機能フィルムの一部に透明導電膜を付与し、タッチセンサーとして活用する手法が検討されている。円偏光板の内部に透明導電センサーを組み込む場合には等方性材料を基材として用い、また円偏光板の一部に導電膜を付与する場合には、λ/4位相差板を基材として用いる手法が検討されている。 In recent years, integration of the touch module function and the display display function has been studied for the purpose of improving the display display characteristics and making the device thinner. For example, a method of incorporating a touch sensor inside a part of a member of a display module and a method of applying a transparent conductive film to a part of an optical functional film for a display device such as a circularly polarizing plate and using it as a touch sensor have been studied. ing. An isotropic material is used as the base material when the transparent conductive sensor is incorporated inside the circularly polarizing plate, and a λ / 4 retardation plate is used as the base material when the conductive film is applied to a part of the circularly polarizing plate. The method used as is being studied.

透明フィルムを加工するにあたっては、高い歩留りを確保するために十分なハンドリング性(フィルム同士の貼り付き防止性やフィルムのコシ(強度)等)が求められる。一般的にハンドリング性を高めるための一つの方法として、フィルム表面の粗度を高め、滑り性を高めることが考えられる。例えば、λ/4位相差フィルム上に透明導電層が設けられ、反対側に加工時の傷付きを防止する光散乱層を設ける技術が提案されている(特許文献1)。 When processing a transparent film, sufficient handleability (prevention of sticking between films, stiffness (strength) of the film, etc.) is required to ensure a high yield. Generally, as one method for improving the handleability, it is conceivable to increase the roughness of the film surface and improve the slipperiness. For example, a technique has been proposed in which a transparent conductive layer is provided on a λ / 4 retardation film, and a light scattering layer is provided on the opposite side to prevent scratches during processing (Patent Document 1).

特許第4059883号Patent No. 4059883

しかしながら、円偏光板の内側にタッチセンサーが組み込まれる構成や円偏光板の一部にタッチセンサー用透明導電膜が付与される構成においては、円偏光による反射防止機能に極力影響を与えないことが求められる。上記技術ではアンチブロッキング機能層としての光散乱層はあったものの、表面粗度を高めることで光の散乱を増大して偏光散乱要因となっており、反射防止機能が低下することが問題となっている。このようにアンチブロッキング機能の付与と反射防止機能の確保とは互いにトレードオフの関係にあり、両者を十分なレベルで達成する透明導電性フィルムが求められている。 However, in a configuration in which a touch sensor is incorporated inside a circularly polarizing plate or a configuration in which a transparent conductive film for a touch sensor is provided on a part of the circularly polarizing plate, the antireflection function due to circularly polarized light may not be affected as much as possible. Desired. In the above technology, there is a light scattering layer as an anti-blocking functional layer, but by increasing the surface roughness, light scattering is increased and it becomes a polarization scattering factor, which causes a problem that the antireflection function is deteriorated. ing. As described above, the provision of the anti-blocking function and the securing of the antireflection function are in a trade-off relationship with each other, and there is a demand for a transparent conductive film that achieves both at a sufficient level.

上記観点に鑑み、本発明は、十分なハンドリング性を有しつつ、ディスプレイモジュール内部に組み込まれた際も低反射特性を損なわない透明導電性フィルム及びこれを用いるタッチ機能付き表示装置を提供することを目的とする。 In view of the above viewpoint, the present invention provides a transparent conductive film having sufficient handleability and not impairing low reflection characteristics even when incorporated in a display module, and a display device with a touch function using the transparent conductive film. With the goal.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより上記目的を達成し得ることを見出し本発明にいたった。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by adopting the following configuration, and have arrived at the present invention.

本発明は、正面位相差が200nm以下の透明フィルム基材と、
前記透明フィルム基材の第1主面側及び第2主面側の少なくとも一方に設けられたアンチブロッキング層と、
前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対の面側及び前記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の面側の少なくとも一方に設けられた透明導電層と
を備え、
前記アンチブロッキング層は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、
前記アンチブロッキング層は、前記透明フィルム基材側とは反対側の表面に平坦部と前記粒子に起因する隆起部とを有し、
前記粒子の最頻粒子径は、前記アンチブロッキング層の平坦部の厚みより大きく、
前記粒子の屈折率npと前記バインダー樹脂の屈折率nbとが下記の関係を満たす透明導電性フィルムに関する。
|np−nb|<0.14
The present invention comprises a transparent film substrate having a front phase difference of 200 nm or less.
An anti-blocking layer provided on at least one of the first main surface side and the second main surface side of the transparent film base material,
A transparent conductive layer provided on at least one of the surface side of the anti-blocking layer opposite to the transparent film base material side and the surface side of the transparent film base material opposite to the anti-blocking layer side is provided.
The anti-blocking layer is a cured product layer of a resin composition containing a binder resin and particles.
The anti-blocking layer has a flat portion and a raised portion due to the particles on the surface opposite to the transparent film base material side.
The mode particle size of the particles is larger than the thickness of the flat portion of the anti-blocking layer.
The present invention relates to a transparent conductive film in which the refractive index np of the particles and the refractive index nb of the binder resin satisfy the following relationship.
| Np-nb | <0.14

当該透明導電性フィルムでは、アンチブロッキング層が粒子に起因する隆起部を有しており、この粒子の最頻粒子径をアンチブロッキング層の平坦部より大きくしているので、滑り性や耐ブロッキング性に優れ、良好なハンドリング性を発揮することができる。さらに、粒子の屈折率npとアンチブロッキング層を形成するバインダー樹脂の屈折率nbとの差の絶対値を小さくしているので、両者間での屈折率差による光散乱や偏光解消を防止し、これによりディスプレイモジュール内部に組み込まれた際にも当該表示装置に低反射特性を含む優れた光学特性を付与することができる。 In the transparent conductive film, the anti-blocking layer has a raised portion due to the particles, and the most frequent particle diameter of the particles is larger than the flat portion of the anti-blocking layer, so that slipperiness and blocking resistance are obtained. It is excellent in terms of handling and can exhibit good handling properties. Further, since the absolute value of the difference between the refractive index np of the particles and the refractive index nb of the binder resin forming the anti-blocking layer is made small, light scattering and polarization elimination due to the difference in the refractive index between the two are prevented. As a result, it is possible to impart excellent optical characteristics including low reflection characteristics to the display device even when it is incorporated inside the display module.

前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対側の表面の最大粗さRzが0.3μm以上2.5μm以下であることが好ましい。これによりハンドリング性と低反射特性とを高いレベルで発揮することができる。 It is preferable that the maximum roughness Rz of the surface of the anti-blocking layer on the side opposite to the transparent film substrate side is 0.3 μm or more and 2.5 μm or less. As a result, handleability and low reflection characteristics can be exhibited at a high level.

前記アンチブロッキング層の前記隆起部の分布密度が100個/mm以上1200個/mm以下であることが好ましい。これにより高いハンドリング性と優れた低反射特性とを発揮することができる。 It is preferable that the distribution density of the raised portion of the anti-blocking layer is 100 pieces / mm 2 or more and 1200 pieces / mm 2 or less. As a result, high handleability and excellent low reflection characteristics can be exhibited.

前記アンチブロッキング層のヘイズが0.7%以上3%以下であることが好ましい。当該構成により、透明導電性フィルム全体でのヘイズをも低減することができ、ディスプレイモジュールの光学特性を良好なものとすることができる。 The haze of the anti-blocking layer is preferably 0.7% or more and 3% or less. With this configuration, the haze of the entire transparent conductive film can be reduced, and the optical characteristics of the display module can be improved.

前記透明導電層は、前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対の面側に設けられており、前記透明導電層と前記アンチブロッキング層との間に少なくとも1層のコーティング層が形成されていてもよい。また、前記透明導電層は、前記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の面側に設けられており、前記透明導電層と前記透明フィルム基材との間に少なくとも1層のコーティング層が形成されていてもよい。いずれの構成であってもコーティング層に基づくさらなる機能を好適に付与することができる。 The transparent conductive layer is provided on the surface side of the anti-blocking layer opposite to the transparent film base material side, and at least one coating layer is formed between the transparent conductive layer and the anti-blocking layer. It may have been done. Further, the transparent conductive layer is provided on the surface side of the transparent film base material opposite to the anti-blocking layer side, and at least one layer is coated between the transparent conductive layer and the transparent film base material. Layers may be formed. Regardless of the configuration, further functions based on the coating layer can be suitably imparted.

一実施形態において、当該透明導電性フィルムは、偏光板と表示素子との間に配置される。当該透明導電性フィルムは、円偏光による反射防止機能への影響を低減しているので、高機能ディスプレイモジュールへの組み込みも容易に促進することができる。 In one embodiment, the transparent conductive film is arranged between the polarizing plate and the display element. Since the transparent conductive film reduces the influence of circularly polarized light on the antireflection function, it can be easily incorporated into a high-performance display module.

本発明はまた、偏光板と、
表示素子と、
前記偏光板と前記表示素子との間に配置された当該透明導電性フィルムと
を備えるタッチ機能付き表示装置に関する。
The present invention also includes a polarizing plate and
Display element and
The present invention relates to a display device with a touch function including the transparent conductive film arranged between the polarizing plate and the display element.

当該透明導電性フィルムを備えるタッチ機能付き表示装置は、加工時のハンドリング性とともに優れた低反射特性を発揮することができる。 The display device with a touch function provided with the transparent conductive film can exhibit excellent low reflection characteristics as well as handleability during processing.

前記透明導電性フィルムの前記アンチブロッキング層形成面側と前記偏光板又は前記表示素子との間に固定層が設けられており、前記固定層の屈折率na、前記粒子の屈折率np及び前記バインダー樹脂の屈折率nbのうちの最大値と最小値との差の絶対値が0.14以下であることが好ましい。このような構成により、ディスプレイモジュール全体での低反射特性を高めることができ、さらなる高機能化を図ることができる。 A fixed layer is provided between the anti-blocking layer forming surface side of the transparent conductive film and the polarizing plate or the display element, and the refractive index na of the fixed layer, the refractive index np of the particles, and the binder are provided. The absolute value of the difference between the maximum value and the minimum value of the refractive index nb of the resin is preferably 0.14 or less. With such a configuration, the low reflection characteristics of the entire display module can be enhanced, and further high functionality can be achieved.

当該タッチ機能付き表示装置において、前記固定層は、粘着剤層又は接着剤層であってもよい。これらの構成により光学設計が容易となる。 In the display device with a touch function, the fixed layer may be an adhesive layer or an adhesive layer. These configurations facilitate optical design.

本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。It is a schematic sectional view of the transparent conductive film which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るタッチ機能付き表示装置の模式的断面図である。It is a schematic sectional view of the display device with a touch function which concerns on one Embodiment of this invention. 実施例1で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Example 1. 実施例2で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Example 2. 実施例3で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Example 3. 実施例4で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Example 4. 比較例2で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 2. 比較例3で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 3. 比較例4で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 4. 比較例5で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 5. 比較例6で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 6. 比較例7で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 7. 比較例8で測定した反射スペクトルである。It is a reflection spectrum measured in Comparative Example 8.

本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルム及びこれを備えるタッチ機能付き表示装置について、図面を参照しながら以下に説明する。ただし、図の一部又は全部において、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にするために拡大または縮小等して図示した部分がある。上下等の位置関係を示す用語は、単に説明を容易にするために用いられており、特段の言及がない限り、本発明の構成を限定する意図は一切ない。 A transparent conductive film according to an embodiment of the present invention and a display device with a touch function provided with the transparent conductive film will be described below with reference to the drawings. However, in a part or all of the figure, a part unnecessary for explanation is omitted, and there is a part shown by enlargement or reduction for facilitation of explanation. The terms indicating the positional relationship such as top and bottom are used merely for the sake of facilitation of explanation, and unless otherwise specified, there is no intention of limiting the configuration of the present invention.

<透明導電性フィルム>
図1は、本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムを模式的断面図である。透明導電性フィルム10において、透明フィルム基材1の一方の主面である第1主面(図1中、透明フィルム基材1の上面)側には、透明導電層5が形成されており、透明フィルム基材1の他方の主面である第2主面(図1中、透明フィルム基材1の下面)側に、粒子Pを含むアンチブロッキング層2が形成されている。さらに透明フィルム基材1と透明導電層5との間には、透明フィルム基材1の側から順にハードコート層3及び屈折率調整層4が形成されている。
<Transparent conductive film>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention. In the transparent conductive film 10, the transparent conductive layer 5 is formed on the first main surface (upper surface of the transparent film base material 1 in FIG. 1), which is one main surface of the transparent film base material 1. An anti-blocking layer 2 containing particles P is formed on the second main surface (lower surface of the transparent film base material 1 in FIG. 1), which is the other main surface of the transparent film base material 1. Further, between the transparent film base material 1 and the transparent conductive layer 5, a hard coat layer 3 and a refractive index adjusting layer 4 are formed in this order from the side of the transparent film base material 1.

(透明フィルム基材)
透明フィルム基材1としては、正面位相差が200nm以下で透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。例えば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂などのポリシクロオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。
(Transparent film base material)
As the transparent film base material 1, various plastic films having a front phase difference of 200 nm or less and having transparency are used. For example, as the material thereof, a polycycloolefin resin such as a polyester resin, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, or a polynorbornen resin, (meth). ) Acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyallylate resin, polyphenylene sulfide resin and the like can be mentioned. Of these, polycycloolefin-based resins, polyester-based resins, polycarbonate-based resins, and polyolefin-based resins are particularly preferable.

ポリシクロオレフィン系樹脂により形成されるポリシクロオレフィン系樹脂フィルムは、高透明性、低位相差及び低吸水性等の特性を有する。ポリシクロオレフィン系樹脂フィルムの採用により透明導電性フィルム10の光学特性の制御が可能となる。 The polycycloolefin-based resin film formed of the polycycloolefin-based resin has properties such as high transparency, low phase difference, and low water absorption. By adopting the polycycloolefin resin film, it is possible to control the optical characteristics of the transparent conductive film 10.

ポリシクロオレフィン系樹脂フィルムを形成するポリシクロオレフィン系樹脂としては、環状オレフィン(シクロオレフィン)からなるモノマーのユニットを有する樹脂であれば特に限定されるものではない。ポリシクロオレフィン系樹脂フィルムに用いられるポリシクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー(COP)又はシクロオレフィンコポリマー(COC)のいずれであってもよい。シクロオレフィンコポリマーとは、環状オレフィンとエチレン等のオレフィンとの共重合体である非結晶性の環状オレフィン系樹脂のことをいう。 The polycycloolefin-based resin that forms the polycycloolefin-based resin film is not particularly limited as long as it is a resin having a monomer unit composed of a cyclic olefin (cycloolefin). The polycycloolefin resin used for the polycycloolefin resin film may be either a cycloolefin polymer (COP) or a cycloolefin copolymer (COC). The cycloolefin copolymer refers to a non-crystalline cyclic olefin resin which is a copolymer of a cyclic olefin and an olefin such as ethylene.

上記環状オレフィンとしては、多環式の環状オレフィンと単環式の環状オレフィンとが存在している。かかる多環式の環状オレフィンとしては、ノルボルネン、メチルノルボルネン、ジメチルノルボルネン、エチルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ブチルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、メチルジシクロペンタジエン、ジメチルジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、メチルテトラシクロドデセン、ジメチルシクロテトラドデセン、トリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエンなどが挙げられる。また、単環式の環状オレフィンとしては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロドデカトリエンなどが挙げられる。 As the cyclic olefin, a polycyclic cyclic olefin and a monocyclic cyclic olefin exist. Examples of such polycyclic olefins include norbornene, methylnorbornene, dimethylnorbornene, ethylnorbornene, etilidennorbornene, butylnorbornene, dicyclopentadiene, dihydrodicyclopentadiene, methyldicyclopentadiene, dimethyldicyclopentadiene, and tetracyclododecene. , Methyltetracyclododecene, dimethylcyclotetradodecene, tricyclopentadiene, tetracyclopentadiene and the like. Examples of the monocyclic olefin include cyclobutene, cyclopentene, cyclooctene, cyclooctadiene, cyclooctatriene, cyclododecatriene and the like.

上記ポリシクロオレフィン系樹脂からなる光学フィルムは市販品としても入手可能であり、例えば、Ticona社製のTopas、JSR社製のアートン、日本ゼオン社製のZEONOR、ZEONEX、三井化学社製のアペル等が挙げられる。 The optical film made of the above polycycloolefin resin is also available as a commercial product. For example, Topas manufactured by Ticonna, Arton manufactured by JSR, ZEONOR, ZEONEX manufactured by Zeon Corporation, Appel manufactured by Mitsui Chemicals, etc. Can be mentioned.

透明フィルム基材1の厚みは、2〜200μmの範囲内であることが好ましく、20〜180μmの範囲内であることがより好ましい。透明フィルム基材1の厚みが2μm未満であると、透明フィルム基材1の機械的強度が不足し、フィルム基材をロール状にして透明導電層5を連続的に形成する操作が困難になる場合がある。一方、厚みが200μmを超えると、透明導電層5の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性の向上が図れない場合がある。 The thickness of the transparent film substrate 1 is preferably in the range of 2 to 200 μm, more preferably in the range of 20 to 180 μm. If the thickness of the transparent film base material 1 is less than 2 μm, the mechanical strength of the transparent film base material 1 is insufficient, and it becomes difficult to roll the film base material into a roll to continuously form the transparent conductive layer 5. In some cases. On the other hand, if the thickness exceeds 200 μm, the scratch resistance of the transparent conductive layer 5 and the striking characteristics for a touch panel may not be improved.

透明フィルム基材1には、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、フィルム基材上に形成されるハードコート層や透明導電層等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、ハードコート層や透明導電層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、フィルム基材表面を除塵、清浄化してもよい。 The surface of the transparent film substrate 1 is preliminarily subjected to etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical formation, oxidation, and undercoating to form a hard coat layer on the film substrate. Or, the adhesion to the transparent conductive layer or the like may be improved. Further, before forming the hard coat layer or the transparent conductive layer, the surface of the film substrate may be dust-removed and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, or the like, if necessary.

透明フィルム基材1として、λ/4位相差板を用いることができる。このような構成により、透明導電性フィルム10とともに別途λ/4位相差板を設ける必要がなく、ディスプレイ表示特性の改善やデバイスの薄型化を図ることができる。 A λ / 4 retardation plate can be used as the transparent film substrate 1. With such a configuration, it is not necessary to separately provide a λ / 4 retardation plate together with the transparent conductive film 10, and it is possible to improve the display display characteristics and reduce the thickness of the device.

λ/4位相差板としては、円偏光と直線偏光とを相互に変換するものであれば特に限定されない。本願明細書及び特許請求の範囲において、「円偏光」とは、完全な円偏光のみならず、完全な円偏光に近い、すなわち楕円率が1に近い楕円偏光をも含み得る。このような楕円偏光としては、例えば、直線偏光が、その振動方向に対して遅相軸が45°の角度をなし、正面レターデーションが100〜180nmである位相差板を透過した場合に得られる楕円偏光を含むものである。なお、本願明細書及び特許請求の範囲においては、特に断りのない限り、偏光状態やレターデーション等はいずれも、画面を正面方向、すなわち、画面の法線方向から観察した場合の、波長550nmでの偏光状態、レターデーション等をさす。また、円偏光及び楕円偏光は、右回りであるか左回りであるかを問わない。さらに、偏光状態としては、必ずしも完全偏光であることを要さず、一部偏光していない状態を含む部分偏光であってもよい。 The λ / 4 retardation plate is not particularly limited as long as it mutually converts circularly polarized light and linearly polarized light. In the present specification and claims, "circularly polarized light" may include not only completely circularly polarized light but also elliptically polarized light which is close to perfect circularly polarized light, that is, the ellipticity is close to 1. Such elliptically polarized light is obtained, for example, when linearly polarized light passes through a retardation plate having a slow axis at an angle of 45 ° with respect to the vibration direction and a frontal retardation of 100 to 180 nm. It contains elliptically polarized light. In the specification of the present application and claims, unless otherwise specified, the polarization state, retardation, etc. are all at a wavelength of 550 nm when the screen is observed from the front direction, that is, from the normal direction of the screen. Refers to the polarization state, lettering, etc. Further, circularly polarized light and elliptically polarized light may be clockwise or counterclockwise. Further, the polarized state does not necessarily have to be completely polarized, and may be partially polarized including a partially unpolarized state.

λ/4位相差板の正面位相差は200nm以下であればよいものの、好ましくは100〜180nmであり、より好ましくは110〜170nmであり、特に好ましくは120〜160nmである。 The front phase difference of the λ / 4 retardation plate may be 200 nm or less, but is preferably 100 to 180 nm, more preferably 110 to 170 nm, and particularly preferably 120 to 160 nm.

λ/4位相差板を構成するポリマーとして、例えば特開2000−137116号公報等に開示されている所定の置換度を有するセルロース誘導体、WO00/26705号国際公開パンフレット等に開示されている共重合ポリカーボネート、特開2006−171235号公報、特開2006−89696号公報等に開示されているポリビニルアセタール系ポリマー等が好適に用いられる。また、特開2004−325523号公報に開示されているようなレターデーション調整剤を用いることもできる。 As the polymer constituting the λ / 4 retardation plate, for example, a cellulose derivative having a predetermined degree of substitution disclosed in JP-A-2000-137116, etc., and a copolymer disclosed in WO00 / 26705, International Publication Pamphlet, etc. Polycarbonate, polyvinyl acetal-based polymers disclosed in JP-A-2006-171235, JP-A-2006-89696, and the like are preferably used. Further, a retardation adjusting agent as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-325523 can also be used.

また、λ/4位相差板として、2枚以上のフィルムが積層された積層位相差板を用いてもよい。例えば、特開平5−27118号公報や、特開平5−27119号公報等に開示されているように、遅相軸のなす角が直交するように積層された積層位相差板や、特開平5−100114号公報、特開平10−68816号公報、特開平11−149015号公報、特開2006−171713号公報等に開示されているように、遅相軸が平行でも垂直でもない角をなすように積層した積層位相差板等を好適に用いることができる。 Further, as the λ / 4 retardation plate, a laminated retardation plate in which two or more films are laminated may be used. For example, as disclosed in JP-A-5-27118, JP-A-5-27119, etc., laminated retardation plates laminated so that the angles formed by the slow axes are orthogonal to each other, and JP-A-5. As disclosed in JP-A-100114, JP-A-10-68816, JP-A-11-149015, JP-A-2006-1717113, etc., the slow-phase axes should form an angle that is neither parallel nor vertical. A laminated retardation plate or the like laminated on the above can be preferably used.

本実施形態において、λ/4位相差板は、波長550nmでの円偏光と直線偏光との変換を行うのみならず、可視光の広い帯域、すなわち、波長400〜800nm、中でも特に450〜750nmの範囲において、円偏光と直線偏光とを互いに変換することが好ましい。 In the present embodiment, the λ / 4 retardation plate not only converts circularly polarized light and linearly polarized light at a wavelength of 550 nm, but also has a wide band of visible light, that is, a wavelength of 400 to 800 nm, particularly 450 to 750 nm. In the range, it is preferable to convert circularly polarized light and linearly polarized light to each other.

λ/4位相差板は、例えば流延法等のキャスティング法や押出法などの適宜な方式で形成することができる。得られたフィルムに延伸処理を施してもよい。λ/4位相差板の厚さは、一般には2〜200μm、好ましくは20〜180μm、さらに好ましくは40〜200μmである。 The λ / 4 retardation plate can be formed by an appropriate method such as a casting method such as a casting method or an extrusion method. The obtained film may be stretched. The thickness of the λ / 4 retardation plate is generally 2 to 200 μm, preferably 20 to 180 μm, and more preferably 40 to 200 μm.

(アンチブロッキング層)
アンチブロッキング層2は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、表面に平坦部2a及び隆起部2bを有する。隆起部2bは、アンチブロッキング層2に含まれる粒子Pに起因して形成されている。本実施形態の透明導電性フィルム10では、粒子Pの最頻粒子径をアンチブロッキング層2の平坦部2aより大きくしているので、滑り性や耐ブロッキング性に優れ、良好なハンドリング性を発揮することができる。また、平坦部2aを設けることで、アンチブロッキング層2のヘイズを低減させて透明性をより向上させることができる。
(Anti-blocking layer)
The anti-blocking layer 2 is a cured product layer of a resin composition containing a binder resin and particles, and has a flat portion 2a and a raised portion 2b on the surface. The raised portion 2b is formed due to the particles P contained in the anti-blocking layer 2. In the transparent conductive film 10 of the present embodiment, since the mode particle diameter of the particles P is larger than that of the flat portion 2a of the anti-blocking layer 2, it is excellent in slipperiness and blocking resistance, and exhibits good handling properties. be able to. Further, by providing the flat portion 2a, the haze of the anti-blocking layer 2 can be reduced and the transparency can be further improved.

本実施形態では、粒子Pの屈折率npとバインダー樹脂の屈折率nbとが下記の関係を満たす。
|np−nb|<0.14
In the present embodiment, the refractive index np of the particles P and the refractive index nb of the binder resin satisfy the following relationship.
| Np-nb | <0.14

光散乱や偏光解消を惹起しやすい隆起部2bを形成する粒子Pの屈折率npと、アンチブロッキング層2のマトリクスを形成するバインダー樹脂の屈折率nbとが上記関係を満たすので、透明導電性フィルムのディスプレイモジュールへの組み込みの際の光学特性への影響を好適に低減することができる。粒子Pの屈折率npとバインダー樹脂の屈折率nbとが下記の関係を満たすことがより好ましい。
|np−nb|<0.10
Since the refractive index np of the particles P forming the raised portion 2b that easily causes light scattering and depolarization and the refractive index nb of the binder resin forming the matrix of the anti-blocking layer 2 satisfy the above relationship, the transparent conductive film The influence on the optical characteristics at the time of incorporation into the display module can be suitably reduced. It is more preferable that the refractive index np of the particles P and the refractive index nb of the binder resin satisfy the following relationship.
| Np-nb | <0.10

アンチブロッキング層2の透明フィルム基材1側とは反対側の表面の最大粗さRzは、0.3μm以上2.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以上1.5μm以下であることがより好ましい。これによりハンドリング性と低反射特性とを高いレベルで発揮することができる。 The maximum roughness Rz of the surface of the anti-blocking layer 2 on the side opposite to the transparent film substrate 1 side is preferably 0.3 μm or more and 2.5 μm or less, and preferably 0.3 μm or more and 1.5 μm or less. More preferred. As a result, handleability and low reflection characteristics can be exhibited at a high level.

アンチブロッキング層2の隆起部2bの分布密度は100個/mm以上1200個/mm以下であることが好ましく、100個/mm以上1000個/mm以下であることがより好ましい。これにより高いハンドリング性と優れた低反射特性とを発揮することができる。 Preferably the distribution density of the raised portion 2b of the anti-blocking layer 2 is 100 / mm 2 or more 1200 / mm 2 or less, more preferably 100 pieces / mm 2 or more 1000 / mm 2 or less. As a result, high handleability and excellent low reflection characteristics can be exhibited.

アンチブロッキング層2のヘイズは0.7%以上3%以下であることが好ましく、0.7%以上2.5%以下であることがより好ましい。当該構成により、透明導電性フィルム全体でのヘイズをも低減することができ、ディスプレイモジュールの光学特性を良好なものとすることができる。 The haze of the anti-blocking layer 2 is preferably 0.7% or more and 3% or less, and more preferably 0.7% or more and 2.5% or less. With this configuration, the haze of the entire transparent conductive film can be reduced, and the optical characteristics of the display module can be improved.

アンチブロッキング層2の平坦部2aの厚みは、特に限定されないものの、200nm以上30μm以下であることが好ましく、500nm以上10μm以下であることがより好ましく、800nm以上5μm以下であることがさらに好ましい。アンチブロッキング層の平坦部の厚みが過度に小さいと、透明フィルム基材からのオリゴマー等の低分子量成分の析出を抑止することができず、透明導電性フィルムや、これを用いたタッチパネルの視認性が悪化する傾向がある。一方、アンチブロッキング層の平坦部の厚みが過度に大きいと、透明導電層の結晶化時やタッチパネルの組み立て時の加熱によって、アンチブロッキング層形成面を内側として透明導電性フィルムがカールする傾向がある。そのため、アンチブロッキング層の平坦部の厚みが大きい場合は、耐ブロッキング性や易滑性とは別の問題で、フィルムの取り扱い性に劣る傾向がある。なお、本明細書において、アンチブロッキング層の平坦部の厚みとは、アンチブロッキング層の平坦部における平均厚みを指す。 The thickness of the flat portion 2a of the anti-blocking layer 2 is not particularly limited, but is preferably 200 nm or more and 30 μm or less, more preferably 500 nm or more and 10 μm or less, and further preferably 800 nm or more and 5 μm or less. If the thickness of the flat portion of the anti-blocking layer is excessively small, the precipitation of low molecular weight components such as oligomers from the transparent film substrate cannot be suppressed, and the visibility of the transparent conductive film and the touch panel using the same cannot be suppressed. Tends to get worse. On the other hand, if the thickness of the flat portion of the anti-blocking layer is excessively large, the transparent conductive film tends to curl with the anti-blocking layer forming surface as the inside due to heating during crystallization of the transparent conductive layer or assembly of the touch panel. .. Therefore, when the thickness of the flat portion of the anti-blocking layer is large, it tends to be inferior in the handleability of the film due to problems other than blocking resistance and slipperiness. In the present specification, the thickness of the flat portion of the anti-blocking layer refers to the average thickness of the flat portion of the anti-blocking layer.

粒子の最頻粒子径は、最表面層の隆起部のサイズやアンチブロッキング層2の平坦部2aの厚みとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつ光散乱等を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は500nm以上30μm以下であることが好ましく、800nm以上20μm以下であることがより好ましく、1μm以上10μm以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置(Sysmex社製、製品名「FPIA−3000S」)を用いて、所定条件下(Sheath液:酢酸エチル、測定モード:HPF測定、測定方式:トータルカウント)で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで1.0重量%に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。 The most frequent particle diameter of the particles can be appropriately set in consideration of the relationship between the size of the raised portion of the outermost surface layer and the thickness of the flat portion 2a of the anti-blocking layer 2, and is not particularly limited. From the viewpoint of sufficiently imparting blocking resistance to the transparent conductive film and sufficiently suppressing light scattering, the mode particle diameter of the particles is preferably 500 nm or more and 30 μm or less, and 800 nm or more and 20 μm or less. It is more preferable that it is 1 μm or more and 10 μm or less. In the present specification, the "most frequent particle size" means a particle size indicating a maximum value of particle distribution, and a flow type particle image analyzer (manufactured by Sysmex, product name "FPIA-3000S") is used. , Obtained by measuring under predetermined conditions (Sheath solution: ethyl acetate, measurement mode: HPF measurement, measurement method: total count). As the measurement sample, the particles are diluted with ethyl acetate to 1.0% by weight and uniformly dispersed using an ultrasonic cleaner.

隆起部2bの高さは、要求される滑り性等を考慮して設定される。隆起部2b、すなわちアンチブロッキング層2の平坦部2aから上に突出する部分の高さは、アンチブロッキング層2の平坦部2aの厚みや粒子Pの最頻粒子径等によって制御することができる。隆起部2bの高さは、好ましくは100nm以上3μm以下であり、より好ましくは200nm以上2μm以下であり、さらに好ましくは300nm以上1.5μm以下である。隆起部2bの高さを上記範囲に設定することで、透明導電性フィルム10の耐ブロッキング性を満足すると同時に、光散乱や偏光解消を十分に抑えることができる。 The height of the raised portion 2b is set in consideration of the required slipperiness and the like. The height of the raised portion 2b, that is, the portion of the anti-blocking layer 2 protruding upward from the flat portion 2a can be controlled by the thickness of the flat portion 2a of the anti-blocking layer 2, the mode of the particles P, and the like. The height of the raised portion 2b is preferably 100 nm or more and 3 μm or less, more preferably 200 nm or more and 2 μm or less, and further preferably 300 nm or more and 1.5 μm or less. By setting the height of the raised portion 2b in the above range, the blocking resistance of the transparent conductive film 10 can be satisfied, and at the same time, light scattering and depolarization can be sufficiently suppressed.

粒子は多分散粒子及び単分散粒子のいずれでもよいが、隆起部の付与の容易性や光散乱防止性等を考慮すると単分散粒子が好ましい。単分散粒子の場合は、粒子の粒径と最頻粒子径とが実質的に同一と見なすことができる。 The particles may be either polydisperse particles or monodisperse particles, but monodisperse particles are preferable in consideration of the ease of providing raised portions and the light scattering prevention property. In the case of monodisperse particles, the particle size of the particles and the mode particle size can be regarded as substantially the same.

アンチブロッキング層中の粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分100重量部に対して0.01〜5重量部であることが好ましく、0.02〜1重量部であることがより好ましく、0.05〜0.5重量部であることがさらに好ましい。アンチブロッキング層中の粒子の含有量が小さいと、アンチブロッキング層の表面に耐ブロッキング性や易滑性を付与するのに十分な隆起部が形成され難くなる傾向がある。一方、粒子の含有量が大きすぎると、粒子による光散乱や偏光解消の度合いが高くなり、ディスプレイモジュールに組み込んだ際の低反射特性等の光学特性が低下する傾向がある。また、粒子の含有量が大きすぎると、アンチブロッキング層の形成時(溶液の塗布時)に、スジが発生し、視認性が損なわれたり、透明導電層の電気特性が不均一となったりする場合がある。 The content of the particles in the anti-blocking layer is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.02 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the resin composition. It is more preferably 0.05 to 0.5 parts by weight. When the content of particles in the anti-blocking layer is small, it tends to be difficult to form a ridge sufficient to impart blocking resistance and slipperiness to the surface of the anti-blocking layer. On the other hand, if the content of the particles is too large, the degree of light scattering and polarization elimination by the particles increases, and the optical characteristics such as low reflection characteristics when incorporated into the display module tend to deteriorate. Further, if the content of the particles is too large, streaks are generated when the anti-blocking layer is formed (when the solution is applied), the visibility is impaired, and the electrical characteristics of the transparent conductive layer become non-uniform. In some cases.

(樹脂組成物)
アンチブロッキング層2を形成する樹脂組成物におけるバインダー樹脂としては粒子の分散が可能で、アンチブロッキング層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。用いるバインダー樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく皮膜を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。
(Resin composition)
As the binder resin in the resin composition forming the anti-blocking layer 2, particles can be dispersed, and a transparent film having sufficient strength as a film after forming the anti-blocking layer can be used without particular limitation. Examples of the binder resin to be used include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and two-component mixed resins. Among these, the curing process by ultraviolet irradiation is easy. An ultraviolet curable resin that can efficiently form a film by various processing operations is suitable.

紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を2個以上、特に3〜6個有するアクリル系のモノマーやオリゴマー成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。 Examples of the ultraviolet curable resin include polyester type, acrylic type, urethane type, amide type, silicone type, epoxy type and the like, and include ultraviolet curable monomers, oligomers, polymers and the like. Examples of the ultraviolet curable resin preferably used include those having an ultraviolet polymerizable functional group, and among them, those containing an acrylic monomer or an oligomer component having two or more, particularly 3 to 6 of the functional groups. Further, the ultraviolet curable resin contains an ultraviolet polymerization initiator.

樹脂組成物には、前記材料に加えて、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、硬化触媒、及び紫外線吸収剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピー剤を用いると、微細凹凸形状表面における突出粒子の形成に有利である。チクソトロピー剤としては、0.1μm以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂100重量部に対して、15重量部以下程度、好ましくは0.01〜15重量部、とするのが好適である。 In addition to the above materials, additives such as leveling agents, thixotropic agents, antistatic agents, plasticizers, surfactants, antioxidants, curing catalysts, and ultraviolet absorbers can be used in the resin composition. The use of thixotropic agents is advantageous for the formation of protruding particles on the surface of fine irregularities. Examples of the thixotropic agent include silica and mica having a thickness of 0.1 μm or less. The content of these additives is usually preferably about 15 parts by weight or less, preferably 0.01 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the ultraviolet curable resin.

バインダー樹脂の屈折率nbは、粒子Pの屈折率やアンチブロッキング層2に要求される光学特性等を考慮して適宜設定される。屈折率nbは、1.40以上1.80以下が好ましく、1.45以上1.75以下がより好ましい。 The refractive index nb of the binder resin is appropriately set in consideration of the refractive index of the particles P, the optical characteristics required for the anti-blocking layer 2, and the like. The refractive index nb is preferably 1.40 or more and 1.80 or less, and more preferably 1.45 or more and 1.75 or less.

(粒子)
アンチブロッキング層2に含有される粒子Pとしては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、1種または2種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。
(particle)
As the particles P contained in the anti-blocking layer 2, transparent substances such as various metal oxides, glass, and plastic can be used without particular limitation. For example, crosslinked or uncrosslinked particles made of inorganic particles such as silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, polymethylmethacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic resin, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine, polycarbonate and the like. Examples thereof include crosslinked organic particles and silicone particles. As the particles, one kind or two or more kinds can be appropriately selected and used, but organic particles are preferable. As the organic particles, an acrylic resin is preferable from the viewpoint of refractive index.

粒子Pの屈折率npは、バインダー樹脂の屈折率やアンチブロッキング層2に要求される光学特性等を考慮して適宜設定される。屈折率npは、1.40以上1.80以下が好ましく、1.45以上1.75以下がより好ましい。 The refractive index np of the particles P is appropriately set in consideration of the refractive index of the binder resin, the optical characteristics required for the anti-blocking layer 2, and the like. The refractive index np is preferably 1.40 or more and 1.80 or less, and more preferably 1.45 or more and 1.75 or less.

(コーティング組成物)
アンチブロッキング層を形成するには、上記樹脂組成物と溶媒とを含むコーティング組成物を用いることが好ましい。
(Coating composition)
In order to form the anti-blocking layer, it is preferable to use a coating composition containing the above resin composition and a solvent.

コーティング組成物は、上記のバインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物と溶媒とを混合することにより調製される。コーティング組成物中の溶媒は、特に限定されるものではなく、用いる樹脂や塗装の下地となる部分の材質及び組成物の塗装方法などを考慮して適時選択される。溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒;などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また2種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒及びケトン系溶媒が好ましく使用される。 The coating composition is prepared by mixing a solvent with a resin composition containing the above-mentioned binder resin and particles. The solvent in the coating composition is not particularly limited, and is appropriately selected in consideration of the resin to be used, the material of the portion to be the base of coating, the coating method of the composition, and the like. Specific examples of the solvent include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether and ethylene glycol. Ether solvents such as diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, phenetol; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethylene glycol diacetate; dimethylformamide, diethylformamide, N -Amid-based solvents such as methylpyrrolidone; cellosolve-based solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol and propanol; halogen-based solvents such as dichloromethane and chloroform; and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, ester solvents, ether solvents, alcohol solvents and ketone solvents are preferably used.

コーティング組成物の固形分濃度は、1重量%〜70重量%が好ましく、2重量%〜50重量%がより好ましく、5重量%〜40重量%が最も好ましい。固形分濃度が低くなりすぎると、塗布後の乾燥工程でアンチブロッキング層表面の隆起部のばらつきが大きくなり、アンチブロッキング層表面の隆起部が大きくなった部分のヘイズが上昇する場合がある。一方、固形分濃度が大きくなりすぎると、含有成分が凝集しやすくなり、その結果、凝集部分が顕在化して透明導電性フィルムの外観を損ねる場合がある。 The solid content concentration of the coating composition is preferably 1% by weight to 70% by weight, more preferably 2% by weight to 50% by weight, and most preferably 5% by weight to 40% by weight. If the solid content concentration is too low, the variation in the raised portion on the surface of the anti-blocking layer becomes large in the drying step after coating, and the haze of the portion where the raised portion on the surface of the anti-blocking layer becomes large may increase. On the other hand, if the solid content concentration becomes too high, the contained components tend to aggregate, and as a result, the aggregated portion may become apparent and the appearance of the transparent conductive film may be impaired.

(塗布、乾燥及び硬化)
アンチブロッキング層は、透明フィルム基材1上に、上記のコーティング組成物を塗布し、得られる塗布液膜を乾燥し、乾燥後の塗膜を硬化することにより形成される。透明フィルム基材1上へのコーティング組成物の塗布は、図1のような本実施形態の場合には基材の片面に行う。なお、コーティング組成物は、透明フィルム基材1上に直接行ってもよく、透明フィルム基材1上に形成されたコーティング層等の上に行うこともできる。
(Applying, drying and curing)
The anti-blocking layer is formed by applying the above coating composition on the transparent film base material 1, drying the obtained coating liquid film, and curing the dried coating film. The coating composition is applied onto the transparent film base material 1 on one side of the base material in the case of the present embodiment as shown in FIG. The coating composition may be applied directly on the transparent film substrate 1, or may be applied on a coating layer or the like formed on the transparent film substrate 1.

コーティング組成物の塗布方法は、コーティング組成物及び塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法やエクストルージョンコート法などにより塗布することができる。 The coating method of the coating composition can be selected in a timely manner according to the situation of the coating composition and the coating process, for example, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, and a gravure. It can be applied by a coating method, a die coating method, an extrusion coating method, or the like.

塗布液膜の乾燥条件は、コーティング組成物の組成や厚み等に応じて適宜設定することができ、例えば公知の加熱乾燥機中、40〜180℃で5〜300秒間加熱することで乾燥を行うことができる。 The drying conditions of the coating liquid film can be appropriately set according to the composition, thickness and the like of the coating composition. For example, the coating liquid film is dried by heating at 40 to 180 ° C. for 5 to 300 seconds in a known heat dryer. be able to.

最後に、乾燥後の塗膜を硬化させることによって、アンチブロッキング層を形成することができる。樹脂組成物のバインダー樹脂が紫外線硬化性である場合は、必要に応じた波長の紫外線を発する光源を用いて紫外線を照射することによって、硬化させることができる。照射する紫外線として、例えば、露光量150mJ/cm以上の紫外線、好ましくは200mJ/cm〜1000mJ/cmの紫外線を用いることができる。またこの紫外線の波長は特に限定されるものではないが、例えば380nm以下の波長を有する紫外線などを用いることができる。なお、紫外線硬化処理の際に加熱を行ってもよい。 Finally, the anti-blocking layer can be formed by curing the dried coating film. When the binder resin of the resin composition is ultraviolet curable, it can be cured by irradiating the binder resin with ultraviolet rays using a light source that emits ultraviolet rays having a wavelength as required. As ultraviolet rays to be irradiated, for example, the exposure amount 150 mJ / cm 2 or more ultraviolet can be preferably used ultraviolet 200mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 . The wavelength of the ultraviolet rays is not particularly limited, but for example, ultraviolet rays having a wavelength of 380 nm or less can be used. It should be noted that heating may be performed during the ultraviolet curing treatment.

(透明導電層)
透明導電層5の構成材料は特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム(ITO)、アンチモンを含有する酸化スズ(ATO)などが好ましく用いられる。
(Transparent conductive layer)
The constituent material of the transparent conductive layer 5 is not particularly limited, and is selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, and tungsten at least. A metal oxide of one type of metal is preferably used. The metal oxide may further contain the metal atoms shown in the above group, if necessary. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide, tin oxide (ATO) containing antimony, and the like are preferably used.

透明導電層5の厚みは特に制限されないが、その表面抵抗を1×10Ω/□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚みを10nm以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、15〜50nmであることが好ましく、より好ましくは20〜45nmの範囲内である。透明導電層5の厚みが15nm未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電層5の厚みが50nmを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。 The thickness of the transparent conductive layer 5 is not particularly limited, but in order to form a continuous coating having a surface resistance of 1 × 10 3 Ω / □ or less and having good conductivity, the thickness is preferably 10 nm or more. If the film thickness becomes too thick, the transparency will decrease, so the film thickness is preferably 15 to 50 nm, more preferably 20 to 45 nm. If the thickness of the transparent conductive layer 5 is less than 15 nm, the electrical resistance of the film surface becomes high and it becomes difficult to form a continuous film. Further, if the thickness of the transparent conductive layer 5 exceeds 50 nm, the transparency may decrease.

透明導電層5の形成方法は特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、図1とは異なり、アンチブロッキング層2上に透明導電層5を形成する場合、透明導電層5がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、透明導電層5の表面は、その下地層であるアンチブロッキング層2表面の平坦部及び隆起部の形状をほぼ維持する。そのため、アンチブロッキング層2上に透明導電層5が形成されている場合においても、透明導電層5表面にも耐ブロッキング性及び易滑性を好適に付与することができる。 The method for forming the transparent conductive layer 5 is not particularly limited, and a conventionally known method can be adopted. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be exemplified. Further, an appropriate method can be adopted depending on the required film thickness. Unlike FIG. 1, when the transparent conductive layer 5 is formed on the anti-blocking layer 2, if the transparent conductive layer 5 is formed by a dry process such as a sputtering method, the surface of the transparent conductive layer 5 is below the transparent conductive layer 5. The shape of the flat portion and the raised portion on the surface of the anti-blocking layer 2 which is the stratum is almost maintained. Therefore, even when the transparent conductive layer 5 is formed on the anti-blocking layer 2, it is possible to suitably impart blocking resistance and slipperiness to the surface of the transparent conductive layer 5.

透明導電層5は、必要に応じて加熱アニール処理(例えば、大気雰囲気下、80〜150℃で30〜90分間程度)を施して結晶化することができる。透明導電層を結晶化することで、透明導電層が低抵抗化されることに加えて、透明性及び耐久性が向上する。透明導電性フィルム10においてアンチブロッキング層2aの厚みを上記範囲とすることにより、加熱アニール処理の際にもカールの発生が抑制され、ハンドリング性に優れる。 The transparent conductive layer 5 can be crystallized by subjecting it to a heat annealing treatment (for example, in an atmospheric atmosphere at 80 to 150 ° C. for about 30 to 90 minutes), if necessary. By crystallizing the transparent conductive layer, in addition to lowering the resistance of the transparent conductive layer, transparency and durability are improved. By setting the thickness of the anti-blocking layer 2a in the transparent conductive film 10 within the above range, the generation of curl is suppressed even during the heat annealing treatment, and the handling property is excellent.

また、透明導電層5は、エッチング等によりパターン化してもよい。例えば、静電容量方式のタッチパネルやマトリックス式の抵抗膜方式のタッチパネルに用いられる透明導電性フィルムにおいては、透明導電層5がストライプ状にパターン化されることが好ましい。なお、エッチングにより透明導電層5をパターン化する場合、先に透明導電層5の結晶化を行うと、エッチングによるパターン化が困難となる場合がある。そのため、透明導電層5のアニール処理は、透明導電層5をパターン化した後に行うことが好ましい。 Further, the transparent conductive layer 5 may be patterned by etching or the like. For example, in a transparent conductive film used for a capacitance type touch panel or a matrix type resistance film type touch panel, it is preferable that the transparent conductive layer 5 is patterned in a stripe shape. When the transparent conductive layer 5 is patterned by etching, if the transparent conductive layer 5 is crystallized first, it may be difficult to pattern the transparent conductive layer 5 by etching. Therefore, it is preferable that the annealing treatment of the transparent conductive layer 5 is performed after the transparent conductive layer 5 is patterned.

(コーティング層)
本実施形態の透明導電性フィルム10においては、透明フィルム基材1と透明導電層5との間に、透明フィルム基材1の側から順にコーティング層としてハードコート層3及び屈折率調整層4が形成されている。このようなコーティング層を設けることにより、透明導電性フィルムのさらなる高機能化を図ることができる。
(Coating layer)
In the transparent conductive film 10 of the present embodiment, the hard coat layer 3 and the refractive index adjusting layer 4 are sequentially coated layers between the transparent film base material 1 and the transparent conductive layer 5 from the side of the transparent film base material 1. It is formed. By providing such a coating layer, it is possible to further enhance the functionality of the transparent conductive film.

(ハードコート層)
ハードコート層3は、透明フィルム基材1に強度を付与して透明フィルム基材1の割れ防止やハンドリング性の向上を目的として形成される。ハードコート層3の詳細は、粒子を含まないことを除いてアンチブロッキング層2と同様であるので、ここではその説明を省略する。なおハードコート層3の厚みは、アンチブロッキング層2の平坦部2aの厚みと同様である。
(Hard coat layer)
The hard coat layer 3 is formed for the purpose of imparting strength to the transparent film base material 1 to prevent cracking of the transparent film base material 1 and to improve handleability. The details of the hard coat layer 3 are the same as those of the anti-blocking layer 2 except that they do not contain particles, and thus the description thereof will be omitted here. The thickness of the hard coat layer 3 is the same as the thickness of the flat portion 2a of the anti-blocking layer 2.

(屈折率調整層)
屈折率調整層4は、透明導電層5の密着性や反射特性の制御等を目的として設けられる。屈折率調整層は1層でもよく、2層あるいはそれ以上設けてもよい。屈折率調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。屈折率調整層を形成する材料としては、NaF、NaAlF、LiF、MgF、CaF2、SiO、LaF、CeF、Al、TiO、Ta、ZrO、ZnO、ZnS、SiO(xは1.5以上2未満)などの無機物や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。屈折率調整層は、上記の材料を用いて、グラビアコート法やバーコート法などの塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより形成できる。
(Refractive index adjustment layer)
The refractive index adjusting layer 4 is provided for the purpose of controlling the adhesion and reflection characteristics of the transparent conductive layer 5. The refractive index adjusting layer may be one layer or two or more layers. The refractive index adjusting layer is formed of an inorganic substance, an organic substance, or a mixture of an inorganic substance and an organic substance. Materials for forming the refractive index adjusting layer include NaF, Na 3 AlF 6 , LiF, MgF 2 , CaF 2, SiO 2 , LaF 3 , CeF 3 , Al 2 O 3 , TIO 2 , Ta 2 O 5 , and ZrO 2. , ZnO, ZnS, SiO x (x is 1.5 or more and less than 2), and organic substances such as acrylic resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, and siloxane polymer. In particular, as the organic substance, it is preferable to use a thermosetting resin composed of a mixture of a melamine resin, an alkyd resin and an organic silane condensate. The refractive index adjusting layer can be formed by a coating method such as a gravure coating method or a bar coating method, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like using the above materials.

屈折率調整層4の厚みは、10nm〜200nmであることが好ましく、20nm〜150nmであることがより好ましく、20nm〜130nmであることがさらに好ましい。屈折率調整層の厚みが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、屈折率調整層の厚みが過度に大きいと、透明導電性フィルムの透明性が低下したり、屈折率調整層にクラックが生じ易くなったりする傾向がある。また、アンチブロッキング層が透明フィルム基材1の第1主面(図1中、上面)側に形成される場合、屈折率調整層が上記のようなナノオーダーレベルの厚みで形成されれば、屈折率調整層の透明導電層5側の表面は、その下地層であるアンチブロッキング層2表面の隆起形状をほぼ維持する。そして、透明導電層5の表面においてもその隆起形状が維持されて隆起部32が形成されるために、耐ブロッキング性及び易滑性を有する透明導電性フィルムとすることができる。 The thickness of the refractive index adjusting layer 4 is preferably 10 nm to 200 nm, more preferably 20 nm to 150 nm, and even more preferably 20 nm to 130 nm. If the thickness of the refractive index adjusting layer is excessively small, it is difficult to form a continuous film. Further, if the thickness of the refractive index adjusting layer is excessively large, the transparency of the transparent conductive film tends to decrease, and the refractive index adjusting layer tends to be easily cracked. Further, when the anti-blocking layer is formed on the first main surface (upper surface in FIG. 1) side of the transparent film base material 1, if the refractive index adjusting layer is formed with the thickness of the nano-order level as described above, The surface of the refractive index adjusting layer on the transparent conductive layer 5 side substantially maintains the raised shape of the surface of the anti-blocking layer 2 which is the underlying layer. Since the raised shape is maintained on the surface of the transparent conductive layer 5 and the raised portion 32 is formed, the transparent conductive film having blocking resistance and slipperiness can be obtained.

屈折率調整層は、平均粒径が1nm〜500nmのナノ微粒子を有していてもよい。屈折率調整層中のナノ微粒子の含有量は0.1重量%〜90重量%であることが好ましい。屈折率調整層に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように1nm〜500nmの範囲であることが好ましく、5nm〜300nmであることがより好ましい。また、屈折率調整層中のナノ微粒子の含有量は10重量%〜80重量%であることがより好ましく、20重量%〜70重量%であることがさらに好ましい。屈折率調整層中にナノ微粒子を含有することによって、屈折率調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。 The refractive index adjusting layer may have nanoparticles having an average particle size of 1 nm to 500 nm. The content of the nanoparticles in the refractive index adjusting layer is preferably 0.1% by weight to 90% by weight. The average particle size of the nanoparticles used in the refractive index adjusting layer is preferably in the range of 1 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 300 nm, as described above. Further, the content of the nanoparticles in the refractive index adjusting layer is more preferably 10% by weight to 80% by weight, further preferably 20% by weight to 70% by weight. By containing the nanoparticles in the refractive index adjusting layer, the refractive index of the refractive index adjusting layer itself can be easily adjusted.

ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the inorganic oxide forming the nanoparticles include fine particles such as silicon oxide (silica), hollow nanosilica, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

透明導電性フィルムのヘイズは、要求される透明性を確保可能であれば特に限定されないものの、5%以下が好ましく、4%以下がより好ましく、3%以下がさらに好ましい。 The haze of the transparent conductive film is not particularly limited as long as the required transparency can be ensured, but is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% or less.

本実施形態の透明導電性フィルム10は、長尺シートがロール状に巻回された透明導電性フィルム巻回体とすることができる。透明導電性フィルムの長尺シートの巻回体は、透明フィルム基材として長尺シートのロール状巻回体を用い、前述のアンチブロッキング層や透明導電層に加え、ハードコート層、屈折率調整層等の付加的な層を、いずれもロール・トゥ・ロール法により形成することによって形成し得る。このような巻回体の形成にあたっては、透明導電性フィルムの表面に、弱粘着層を備える表面保護フィルム(離型フィルム)を貼り合わせた上で、ロール状に巻回してもよいが、本実施形態の透明導電性フィルムは、滑り性や耐ブロッキング性が改善されているために、表面保護フィルムを用いずとも透明導電性フィルムの長尺シートの巻回体を形成し得る。すなわち、滑り性や耐ブロッキング性が改善されていることによって、ハンドリング時のフィルム表面へのキズの発生が抑止されるとともにフィルムの巻取性に優れるため、表面に表面保護フィルムを貼り合わせずとも、長尺シートをロール状に巻回した巻回体を得られ易い。このように、本実施形態の透明導電性フィルムは、表面保護フィルムを用いることなく長尺シートの巻回体を形成し得るために、その後のタッチパネルの形成等に用いる際の作業性に優れる。また、工程部材である保護フィルムを不要とすることによって、コスト削減や廃棄物低減にも寄与し得る。 The transparent conductive film 10 of the present embodiment can be a transparent conductive film wound body in which a long sheet is wound in a roll shape. For the winding body of the long sheet of the transparent conductive film, a roll-shaped winding body of the long sheet is used as the transparent film base material, and in addition to the above-mentioned anti-blocking layer and transparent conductive layer, a hard coat layer and a refractive index adjustment are used. Any additional layer such as a layer can be formed by forming by a roll-to-roll method. In forming such a wound body, a surface protective film (release film) provided with a weak adhesive layer may be attached to the surface of the transparent conductive film and then wound in a roll shape. Since the transparent conductive film of the embodiment has improved slipperiness and blocking resistance, it is possible to form a wound body of a long sheet of the transparent conductive film without using a surface protective film. That is, since the slipperiness and blocking resistance are improved, the occurrence of scratches on the film surface during handling is suppressed and the film winding property is excellent, so that the surface protective film does not need to be attached to the surface. , It is easy to obtain a wound body made by winding a long sheet into a roll. As described above, since the transparent conductive film of the present embodiment can form a wound body of a long sheet without using a surface protective film, it is excellent in workability when used for subsequent formation of a touch panel or the like. Further, by eliminating the need for a protective film which is a process member, it can contribute to cost reduction and waste reduction.

透明導電性フィルム10は、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルに好適に適用できる。 The transparent conductive film 10 can be suitably applied to a touch panel such as a capacitance type or a resistance film type.

タッチパネルの形成に際しては、透明導電性フィルムの一方または両方の主面に透明な粘着剤層を介して、ガラスや高分子フィルム等の他の基材等を貼り合わせることができる。例えば、透明導電性フィルムの透明導電層5が形成されていない側の面に透明な粘着剤層を介して透明基体が貼り合わせられた積層体を形成してもよい。透明基体は、1枚の基体フィルムからなっていてもよく、2枚以上の基体フィルムの積層体(例えば透明な粘着剤層を介して積層したもの)であってもよい。また、透明導電性フィルムに貼り合わせる透明基体の外表面にハードコート層を設けることもできる。 When forming the touch panel, another base material such as glass or a polymer film can be attached to one or both main surfaces of the transparent conductive film via a transparent adhesive layer. For example, a laminate may be formed in which a transparent substrate is bonded to the surface of the transparent conductive film on the side where the transparent conductive layer 5 is not formed via a transparent adhesive layer. The transparent substrate may consist of one substrate film, or may be a laminate of two or more substrate films (for example, one laminated via a transparent pressure-sensitive adhesive layer). Further, a hard coat layer can be provided on the outer surface of the transparent substrate to be bonded to the transparent conductive film.

透明導電性フィルムと基材との貼り合わせに用いられる粘着剤層としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性及び接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。 The pressure-sensitive adhesive layer used for bonding the transparent conductive film and the base material can be used without particular limitation as long as it has transparency. Specifically, for example, acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate / vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy-based, fluoro-based, natural rubbers, synthetic rubbers and other rubber-based rubbers, etc. A polymer based on the above polymer can be appropriately selected and used. In particular, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferably used because they are excellent in optical transparency, exhibit adhesive properties such as appropriate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and are also excellent in weather resistance and heat resistance.

上記の本発明にかかる透明導電性フィルムを、タッチパネルの形成に用いた場合、タッチパネル形成時のハンドリング性に優れる。そのため、透明性及び視認性に優れたタッチパネルを生産性高く製造することが可能である。 When the transparent conductive film according to the present invention is used for forming a touch panel, the handling property at the time of forming the touch panel is excellent. Therefore, it is possible to manufacture a touch panel having excellent transparency and visibility with high productivity.

本実施形態の透明導電性フィルムは、例えば、液晶表示素子や固体撮像素子、有機EL素子といった各種表示素子の透明電極や透明部材の帯電防止、電磁波遮断、液晶調光ガラス、透明ヒーター等として好適に利用できる。 The transparent conductive film of the present embodiment is suitable as, for example, antistatic, electromagnetic wave blocking, liquid crystal dimming glass, transparent heater, etc. of transparent electrodes and transparent members of various display elements such as liquid crystal display elements, solid-state image pickup elements, and organic EL elements. Can be used for.

<タッチ機能付き表示装置>
図2は、本発明の一実施形態に係るタッチ機能付き表示装置の模式的断面図である。タッチ機能付き表示装置100は、偏光板20、表示素子30、及び偏光板20と表示素子30との間に配置された透明導電性フィルム10を備える。偏光板20と透明導電性フィルム10との間、及び透明導電性フィルム10と表示素子30との間には、それぞれ固定層13a、13bが設けられており、各要素同士を固定している。透明導電性フィルム10はすでに上記で説明しているので、以下、偏光板20及び表示素子30を説明する。
<Display device with touch function>
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a display device with a touch function according to an embodiment of the present invention. The display device 100 with a touch function includes a polarizing plate 20, a display element 30, and a transparent conductive film 10 arranged between the polarizing plate 20 and the display element 30. Fixed layers 13a and 13b are provided between the polarizing plate 20 and the transparent conductive film 10 and between the transparent conductive film 10 and the display element 30, respectively, and each element is fixed to each other. Since the transparent conductive film 10 has already been described above, the polarizing plate 20 and the display element 30 will be described below.

(偏光板)
本実施形態の偏光板20は、偏光子21の両面に接着剤層(図示せず)を介して保護フィルム22a、22bが貼り合わされた構造を有する。
(偏光子)
偏光子21としては、直交する直線偏光のうち、透過軸に平行な振動面を有する偏光をそのまま透過させ、吸収軸に平行な振動面を有する偏光を選択的に吸収するものを用いることができる。偏光子21としては、ポリマーフィルムにヨウ素が吸着配向されたものを用いることが好ましい。前記ポリマーフィルムとしては、例えば、特に限定されず各種のものを使用できる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリエチレンテレフタレート系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系フィルムや、これらの部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルムに、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ヨウ素による染色性に優れたポリビニルアルコール系フィルムを用いることが好ましい。
(Polarizer)
The polarizing plate 20 of the present embodiment has a structure in which protective films 22a and 22b are bonded to both sides of a polarizing element 21 via an adhesive layer (not shown).
(Polarizer)
As the polarizing element 21, among orthogonal linearly polarized light, one that transmits polarized light having a vibration plane parallel to the transmission axis as it is and selectively absorbs polarized light having a vibration plane parallel to the absorption axis can be used. .. As the polarizing element 21, it is preferable to use a polymer film in which iodine is adsorbed and oriented. As the polymer film, for example, various films can be used without particular limitation. For example, a polyvinyl alcohol-based film, a polyethylene terephthalate-based film, an ethylene / vinyl acetate copolymer-based film, a partially saponified film thereof, a hydrophilic polymer film such as a cellulose-based film, a dehydrated product of polyvinyl alcohol, or polyvinyl chloride is used. Examples thereof include a polyene-based oriented film such as a vinyl dehydrogenated product. Among these, it is preferable to use a polyvinyl alcohol-based film having excellent dyeability with iodine.

前記ポリマーフィルムとしてポリビニルアルコール系フィルムを用いる場合、ポリビニルアルコール系フィルムの製法としては、水又は有機溶媒に溶解した原液を流延成膜する流延法、キャスト法、押出法等任意の方法で成膜されたものを適宜使用することができる。前記ポリマーフィルム(未延伸フィルム)は、常法に従って、一軸延伸処理、ヨウ素染色処理が少なくとも施される。さらには、ホウ酸処理、洗浄処理を施すことができる。また前記処理の施されたポリマーフィルム(延伸フィルム)は、常法に従って乾燥されて偏光子となる。 When a polyvinyl alcohol-based film is used as the polymer film, the polyvinyl alcohol-based film can be produced by any method such as a casting method, a casting method, or an extrusion method in which a stock solution dissolved in water or an organic solvent is cast and formed. The filmed one can be used as appropriate. The polymer film (unstretched film) is subjected to at least uniaxial stretching treatment and iodine dyeing treatment according to a conventional method. Further, boric acid treatment and cleaning treatment can be performed. Further, the polymer film (stretched film) subjected to the above treatment is dried according to a conventional method to become a polarizing element.

偏光子21の厚みとしては特に限定されず、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは1μm〜12μm、さらに好ましくは3μm〜10μmであり、特に好ましくは3μm〜8μmである。 The thickness of the polarizing element 21 is not particularly limited, and is preferably 15 μm or less, more preferably 1 μm to 12 μm, still more preferably 3 μm to 10 μm, and particularly preferably 3 μm to 8 μm.

(偏光子保護フィルム)
偏光子保護フィルム22a、22bは光に対し透明性を有し、その構成材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂)、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及びこれらの混合物が挙げられる。
(Polarizer protective film)
The polarizing element protective films 22a and 22b have transparency to light, and as a constituent material thereof, for example, a thermoplastic resin having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropic property, etc. is used. Be done. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyether sulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth) acrylic resins, and cyclic resins. Examples thereof include a polyolefin resin (norbornen-based resin), a polyarylate resin, a polystyrene resin, a polyvinyl alcohol resin, and a mixture thereof.

偏光子保護フィルムに光学等方性、すなわち、面内レターデーションが10nm以下、好ましくは5nm以下、より好ましくは3nm以下の特性が要求される場合には、セルロース系樹脂が好適に用いられる。光学等方性を有する偏光子保護フィルムとして、環状ポリオレフィン系樹脂を用いることも好ましい。環状ポリオレフィン系樹脂の具体的としては、好ましくはノルボルネン系樹脂である。 When the polarizing element protective film is required to have optical isotropic properties, that is, an in-plane retardation of 10 nm or less, preferably 5 nm or less, more preferably 3 nm or less, a cellulosic resin is preferably used. It is also preferable to use a cyclic polyolefin resin as the polarizing element protective film having optical isotropic properties. Specific examples of the cyclic polyolefin-based resin are norbornene-based resins.

偏光子保護フィルム22a、22bの厚みは適宜に設定し得るが、一般には強度や取扱い等の作業性、薄層性等の点より1〜500μm程度である。特に1〜300μmが好ましく、5〜200μmがより好ましい。保護フィルムは、5〜150μmの場合に特に好適である。 The thicknesses of the polarizing element protective films 22a and 22b can be appropriately set, but are generally about 1 to 500 μm in terms of strength, workability such as handling, and thin layerability. In particular, 1 to 300 μm is preferable, and 5 to 200 μm is more preferable. The protective film is particularly suitable when the thickness is 5 to 150 μm.

なお、偏光子21の両側に偏光子保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる偏光子保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる偏光子保護フィルムを用いてもよい。 When the polarizing element protective films are provided on both sides of the polarizing element 21, the polarizing element protective films made of the same polymer material may be used on the front and back sides thereof, or the polarizing element protective films made of different polymer materials or the like may be used.

偏光子保護フィルムとして、正面位相差が40nm以上及び厚み方向位相差が80nm以上のうちの一方又は両方を満たす位相差を有する位相差板を用いることができる。正面位相差は、通常、40〜200nmの範囲に、厚み方向位相差は、通常、80〜300nmの範囲に制御される。偏光子保護フィルムとして位相差板を用いる場合には、当該位相差板が偏光子保護フィルムとしても機能するため、薄型化を図ることができる。 As the polarizing element protective film, a retardation plate having a retardation satisfying one or both of a frontal retardation of 40 nm or more and a thickness direction retardation of 80 nm or more can be used. The frontal phase difference is usually controlled in the range of 40 to 200 nm, and the thickness direction phase difference is usually controlled in the range of 80 to 300 nm. When a retarder protective film is used as the retarder protective film, the retarder protective film also functions as the retarder protective film, so that the thickness can be reduced.

位相差板としては、高分子素材を一軸又は二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したもの等が挙げられる。位相差板の厚さも特に制限されないが、20〜150μm程度が一般的である。 Examples of the retardation plate include a birefringent film obtained by uniaxially or biaxially stretching a polymer material, an alignment film of a liquid crystal polymer, and a film in which an alignment layer of a liquid crystal polymer is supported by a film. The thickness of the retardation plate is not particularly limited, but is generally about 20 to 150 μm.

高分子素材としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂)、又はこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物等が挙げられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物(延伸フィルム)となる。 Examples of the polymer material include polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polymethyl vinyl ether, polyhydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, polycarbonate, polyarylate, polysulfone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polyethersulfone. Polyphenylsulfone, polyphenylene oxide, polyallylsulfone, polyamide, polyimide, polyolefin, polyvinyl chloride, cellulose resin, cyclic polyolefin resin (norbornen-based resin), or their binary, ternary various copolymers, and grafts. Examples include polymers and blends. These polymer materials become oriented substances (stretched films) by stretching or the like.

位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたもの等の使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであって良く、2種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したもの等であってもよい。 The retardation plate may have an appropriate phase difference according to the purpose of use, for example, for the purpose of compensating for coloring and viewing angle due to birefringence of various wave plates and liquid crystal layers, and may have two or more types. A phase difference plate may be laminated to control optical characteristics such as a phase difference.

(接着剤層)
偏光子21と偏光子保護フィルム22a、22bの貼り合わせに用いる接着剤層は光学的に透明であれば、特に制限されず水系、溶剤系、ホットメルト系、ラジカル硬化型の各種形態のものが用いられるが、水系接着剤またはラジカル硬化型接着剤が好適である。
(Adhesive layer)
The adhesive layer used for bonding the polarizing element 21 and the polarizing element protective films 22a and 22b is not particularly limited as long as it is optically transparent, and various forms such as water-based, solvent-based, hot-melt-based, and radical-curing type can be used. Although used, water-based adhesives or radically curable adhesives are preferred.

接着剤層を形成する水系接着剤としては特に限定されるものではないが、例えば、ビニルポリマー系、ゼラチン系、ビニル系ラテックス系、ポリウレタン系、イソシアネート系、ポリエステル系、エポキシ系等を例示できる。 The water-based adhesive forming the adhesive layer is not particularly limited, and examples thereof include vinyl polymer-based, gelatin-based, vinyl-based latex-based, polyurethane-based, isocyanate-based, polyester-based, and epoxy-based adhesives.

また、接着剤層の形成は、これを乾燥した後の接着剤の厚さが0.01〜20μm、好ましくは0.02〜10μm、より好ましくは0.5〜5μmとなる様に行うのが好ましい。 The adhesive layer is formed so that the thickness of the adhesive after drying is 0.01 to 20 μm, preferably 0.02 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm. preferable.

(表示素子)
表示素子30としては、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置等の表示素子を採用することができる。偏光板20とともにλ/4位相差板を配置して円偏光と直線偏光との変換を行う構成とすることにより、外光の鏡面反射を生じ易い反射型液晶表示装置や、エレクトロルミネッセンスディスプレイの反射防止を目的とした光学素子として好適に用いられる。
(Display element)
As the display element 30, for example, a display element such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an organic electroluminescence display, or a cathode tube display device can be adopted. By arranging a λ / 4 retardation plate together with the polarizing plate 20 to convert between circularly polarized light and linearly polarized light, a reflective liquid crystal display device that easily causes specular reflection of external light and reflection of an electroluminescence display. It is suitably used as an optical element for the purpose of prevention.

表示素子30としての液晶表示装置は、セル基板31と、該セル基板31の視認側(図1中、セル基板31の上側)に配置された偏光板32bと、セル基板31の背面側(図1中、セル基板31の下側)に配置された偏光板32aを備える。偏光板32a、32bはそれぞれ粘着層(図示せず)を介してセル基板31に貼り合わされている。 The liquid crystal display device as the display element 30 includes a cell substrate 31, a polarizing plate 32b arranged on the visible side of the cell substrate 31 (upper side of the cell substrate 31 in FIG. 1), and a back side of the cell substrate 31 (FIG. 1). A polarizing plate 32a arranged on the lower side of the cell substrate 31) is provided. The polarizing plates 32a and 32b are attached to the cell substrate 31 via an adhesive layer (not shown), respectively.

液晶表示装置は一般に、セル基板と偏光板、さらには、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護フィルム、プリズムアレイ、レンズアレイシート、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等の光学層、及び必要に応じて照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成することができる。 Liquid crystal display devices generally include cell substrates and polarizing plates, as well as retardation films, viewing angle magnifying films, diffusers, antiglare layers, antireflection films, protective films, prism arrays, lens array sheets, reflectors, and semi-transmissive reflections. It can be formed by appropriately assembling a plate, an optical layer such as a brightness improving film, and, if necessary, components such as a lighting system, and incorporating a drive circuit.

セル基板31としては、例えばツイステッドネマチック(TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(STN)モードや、水平配向(ECB)モード、垂直配向(VA)モード、インプレーンスイッチング(IPS)モード、フリンジフイールドスイッチング(FFS)モード、ベンドネマチック(OCB)モード、ハイブリッド配向(HAN)モード、強誘電性液晶(SSFLC)モード、反強誘電液晶(AFLC)モードのセル基板など種々のセル基板が挙げられる。 Examples of the cell substrate 31 include twisted nematic (TN) mode, super twisted nematic (STN) mode, horizontal orientation (ECB) mode, vertical alignment (VA) mode, inplane switching (IPS) mode, and fringe field switching (FFS). ) Mode, bend nematic (OCB) mode, hybrid orientation (HAN) mode, ferroelectric liquid crystal display (SSFLC) mode, antiferroelectric liquid crystal display (AFLC) mode cell substrate and the like.

有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの場合、発光素子、電極、反射板、封止基材等を適宜に組み合わせて構成される表示装置が使用される。 In the case of an organic electroluminescence display, a display device configured by appropriately combining a light emitting element, an electrode, a reflector, a sealing base material, and the like is used.

(固定層)
固定層13a、13bは、偏光板20や透明導電性フィルム10、表示素子30、他の機能性フィルム等を互いに固定する部材である。固定層13a、13bとしては、粘着剤層又は接着剤層が好ましい。
(Fixed layer)
The fixing layers 13a and 13b are members for fixing the polarizing plate 20, the transparent conductive film 10, the display element 30, other functional films, and the like to each other. As the fixed layers 13a and 13b, an adhesive layer or an adhesive layer is preferable.

粘着剤層の形成材料としては、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとする粘着剤を適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。 As the material for forming the pressure-sensitive adhesive layer, for example, a pressure-sensitive adhesive having a polymer such as an acrylic polymer, a silicone-based polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyether, fluorine-based or rubber-based polymer as a base polymer is appropriately selected and used. be able to. In particular, those having excellent optical transparency, appropriate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and excellent weather resistance and heat resistance, such as acrylic pressure-sensitive adhesives, can be preferably used.

接着剤層の形成材料としては、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などのビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより、湿度や熱の影響で剥がれにくく、光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。 As the material for forming the adhesive layer, for example, an adhesive composed of an acrylic polymer or a vinyl alcohol polymer, or a water-soluble cross-linking agent for a vinyl alcohol polymer such as boric acid, borosand, glutaaldehyde, melamine, and oxalic acid. It can be done via at least an adhesive or the like. As a result, it is difficult to peel off due to the influence of humidity and heat, and the light transmittance and the degree of polarization can be made excellent.

アンチブロッキング層2と接する固定層13aの屈折率na、粒子Pの屈折率np及びバインダー樹脂の屈折率nbのうちの最大値と最小値との差の絶対値が0.14以下であることが好ましく、0.1以下であることがより好ましい。このような構成により、ディスプレイモジュール全体での低反射特性を高めることができ、さらなる高機能化を図ることができる。 The absolute value of the difference between the maximum and minimum values of the refractive index na of the fixed layer 13a in contact with the anti-blocking layer 2, the refractive index np of the particles P, and the refractive index nb of the binder resin is 0.14 or less. It is preferably 0.1 or less, and more preferably 0.1 or less. With such a configuration, the low reflection characteristics of the entire display module can be enhanced, and further high functionality can be achieved.

(λ/4位相差板)
本実施形態のタッチ機能付き表示装置100では、透明フィルム基材1としてλ/4位相差板を用いることもできるし、偏光板20と透明導電性フィルム10との間にλ/4位相差板を配置することもできる。偏光子21とλ/4位相差板との組み合わせにより円偏光板を構成することができる。表示素子の視認側に円偏光板が設けられることによって、表示素子の反射板や金属電極によって反射された外光が再び視認側に射出されること(鏡面反射)が抑止され、反射率の低減を図ることができる。この場合、λ/4位相差板の遅相軸方向と偏光子21の吸収軸方向とのなす角が45°±5°となるように配置されることが好ましく、45°±3°となるように配置されることがより好ましく、45°±1°となるように配置されることがさらに好ましい。
(Λ / 4 phase difference plate)
In the display device 100 with a touch function of the present embodiment, a λ / 4 retardation plate can be used as the transparent film base material 1, or a λ / 4 retardation plate is used between the polarizing plate 20 and the transparent conductive film 10. Can also be placed. A circular polarizing plate can be configured by combining the polarizing element 21 and the λ / 4 retardation plate. By providing a circularly polarizing plate on the visual side of the display element, it is possible to prevent external light reflected by the reflector or metal electrode of the display element from being emitted to the visual side again (specular reflection), and the reflectance is reduced. Can be planned. In this case, it is preferable that the angle formed by the slow axis direction of the λ / 4 retardation plate and the absorption axis direction of the polarizing element 21 is 45 ° ± 5 °, which is 45 ° ± 3 °. It is more preferable to arrange them so as to be 45 ° ± 1 °.

<他の実施形態>
図1に示した実施形態では、透明導電層5は透明フィルム基材1の一方の第1主面(上面)側にのみ設けられているが、これに限定されず、他方の第2主面(下面)側にも設けられていてもよい。この場合、図1に示すように下地層としてアンチブロッキング層2が形成されていると、そのアンチブロッキング層2の平坦部と隆起部とに起因して、第2主面側に設けられた透明導電層の表面にも平坦部と隆起部とが形成されることになる。同様に、アンチブロッキング層2は、透明フィルム基材1の一方の第2主面(下面)側にのみ設けられているが、これに限定されず、第2主面側のアンチブロッキング層とともに、又は第2主面側のアンチブロッキング層2に代えて、他方の第2主面(下面)側に設けられていてもよい。ハードコート層3や屈折率調整層4についても、透明フィルム基材1の第1主面側とともに、又は第1主面側に代えて、透明フィルム基材1の第2主面側に設けられていてもよい。
<Other embodiments>
In the embodiment shown in FIG. 1, the transparent conductive layer 5 is provided only on one first main surface (upper surface) side of the transparent film base material 1, but is not limited to this, and the other second main surface is not limited to this. It may also be provided on the (bottom surface) side. In this case, when the anti-blocking layer 2 is formed as the base layer as shown in FIG. 1, the transparent portion provided on the second main surface side is caused by the flat portion and the raised portion of the anti-blocking layer 2. A flat portion and a raised portion are also formed on the surface of the conductive layer. Similarly, the anti-blocking layer 2 is provided only on the second main surface (lower surface) side of one of the transparent film base materials 1, but is not limited to this, and together with the anti-blocking layer on the second main surface side, the anti-blocking layer 2 is provided. Alternatively, instead of the anti-blocking layer 2 on the second main surface side, it may be provided on the other second main surface (lower surface) side. The hard coat layer 3 and the refractive index adjusting layer 4 are also provided on the second main surface side of the transparent film base material 1 together with the first main surface side of the transparent film base material 1 or instead of the first main surface side. May be.

以下、本発明に関して実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。実施例中、特に示さない限り「部」とあるのは「重量部」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the present invention is not exceeded. In the examples, "parts" means "parts by weight" unless otherwise specified.

<実施例1>
(1.透明導電性フィルムの作製)
平均粒子径1.8μmの複数個の単分散粒子(綜研化学社製、商品名「MX180−TAN」、屈折率1.495)とバインダー樹脂(DIC社製、「UNIDIC」、屈折率1.51)とを含み、溶媒を酢酸エチルとするコーティング組成物を準備した。粒子の添加部数はバインダー樹脂100部に対して0.16部であった。次に、厚さ40μmからなる長尺フィルム基材(日本ゼオン社製、商品名「ZEONOR」)の片面に、コーティング組成物をグラビアコーターを用いて乾燥後の平坦部の厚みが1.0μmとなるように塗布し、80℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量250mJ/cmの紫外線を照射することで、アンチブロッキング層を形成した。
<Example 1>
(1. Preparation of transparent conductive film)
Multiple monodisperse particles with an average particle diameter of 1.8 μm (manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd., trade name “MX180-TAN”, refractive index 1.495) and binder resin (manufactured by DIC Co., Ltd., “UNIDIC”, refractive index 1.51). ), And a coating composition using ethyl acetate as a solvent was prepared. The number of particles added was 0.16 with respect to 100 with the binder resin. Next, the thickness of the flat portion after drying the coating composition on one side of a long film base material (manufactured by Nippon Zeon Corporation, trade name "ZEONOR") having a thickness of 40 μm using a gravure coater is 1.0 μm. The coating film was dried by heating at 80 ° C. Then, the anti-blocking layer was formed by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated light amount of 250 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp.

続いて、バインダー樹脂(DIC社製、「UNIDIC」、屈折率1.51)を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物を準備した。長尺フィルム基材のアンチブロッキング層とは反対側の面に、コーティング組成物をグラビアコーターを用いて乾燥後の平坦部の厚みが1.0μmとなるように塗布し、80℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量250mJ/cmの紫外線を照射することで、ハードコート層を形成した。 Subsequently, a coating composition prepared by diluting a binder resin (manufactured by DIC Corporation, “UNIDIC”, refractive index 1.51) with ethyl acetate was prepared. The coating composition is applied to the surface of the long film substrate opposite to the anti-blocking layer using a gravure coater so that the thickness of the flat portion after drying is 1.0 μm, and the mixture is heated at 80 ° C. The coating film was dried by. Then, a hard coat layer was formed by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated light intensity of 250 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp.

次に、ハードコート層の表面に、屈折率調整剤(JSR社製、商品名「オプスターZ7412」:無機成分としてメジアン径40nmの酸化ジルコニア粒子を含む屈折率が1.62の有機無機複合材料)をグラビアコーターを用いて塗布し、60℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量250mJ/cmの紫外線を照射して硬化処理を施すことで、厚さ115nm、屈折率1.62の屈折率調整層を形成した。 Next, on the surface of the hard coat layer, a refractive index adjuster (manufactured by JSR, trade name "Opstar Z7412": an organic-inorganic composite material having a refractive index of 1.62 containing zirconia oxide particles having a median diameter of 40 nm as an inorganic component). Was applied using a gravure coater, and the coating film was dried by heating at 60 ° C. Then, a high-pressure mercury lamp was used to irradiate ultraviolet rays with an integrated light intensity of 250 mJ / cm 2 to perform a curing treatment to form a refractive index adjusting layer having a thickness of 115 nm and a refractive index of 1.62.

次いで、上記の各層を形成した長尺フィルム基材を巻き取り式スパッタ装置に投入し、屈折率調整層の表面に、透明導電層として厚さ25nmのインジウム・スズ酸化物層(アルゴンガス98%と酸素2%とからなる0.4Paの雰囲気中、酸化インジウム97重量%−酸化スズ3重量%からなる焼結体を用いたスパッタリング製膜法による)を積層した。これにより図1に示す形態の透明導電性フィルムAを得た。 Next, the long film substrate on which each of the above layers was formed was put into a take-up sputtering apparatus, and an indium tin oxide oxide layer (argon gas 98%) having a thickness of 25 nm was placed on the surface of the refractive index adjusting layer as a transparent conductive layer. In an atmosphere of 0.4 Pa composed of 2% oxygen and 97% by weight of indium oxide-by a sputtering film forming method using a sintered body composed of 3% by weight of tin oxide) was laminated. As a result, the transparent conductive film A having the form shown in FIG. 1 was obtained.

(2.偏光板の作製)
厚み30μmのポリビニルアルコール(PVA)系樹脂フィルム(株式会社クラレ製、製品名「PE3000」)の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に5.9倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み12μmの偏光子を作製した。
(2. Preparation of polarizing plate)
A long roll of a polyvinyl alcohol (PVA) resin film (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name "PE3000") having a thickness of 30 μm is uniaxially stretched in the longitudinal direction so as to be 5.9 times in the longitudinal direction by a roll stretching machine. At the same time, swelling, dyeing, cross-linking, and washing treatment were performed, and finally, a drying treatment was performed to prepare a polarizing element having a thickness of 12 μm.

具体的には、膨潤処理は20℃の純水で処理しながら2.2倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が45.0%になるようにヨウ素濃度が調整された30℃の水溶液(ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が1:7)中において処理しながら1.4倍に延伸した。さらに、架橋処理は、2段階の架橋処理を採用し、1段階目の架橋処理は40℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら1.2倍に延伸した。1段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は5.0重量%で、ヨウ化カリウム含有量は3.0重量%とした。2段階目の架橋処理は65℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら1.6倍に延伸した。2段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は4.3重量%で、ヨウ化カリウム含有量は5.0重量%とした。また、洗浄処理は、20℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は2.6重量%とした。最後に、乾燥処理は70℃で5分間乾燥させて偏光子を得た。 Specifically, the swelling treatment was carried out by stretching 2.2 times while treating with pure water at 20 ° C. Next, the dyeing treatment was performed in an aqueous solution at 30 ° C. (weight ratio of iodine to potassium iodide 1: 7) in which the iodine concentration was adjusted so that the simple substance transmittance of the obtained polarizing element was 45.0%. However, it was stretched 1.4 times. Further, the cross-linking treatment adopted a two-step cross-linking treatment, and the first-step cross-linking treatment was carried out 1.2 times while being treated with an aqueous solution in which boric acid and potassium iodide were dissolved at 40 ° C. The boric acid content of the aqueous solution of the first-step crosslinking treatment was 5.0% by weight, and the potassium iodide content was 3.0% by weight. The second-step cross-linking treatment was carried out by stretching 1.6 times while treating with an aqueous solution in which boric acid and potassium iodide were dissolved at 65 ° C. The boric acid content of the aqueous solution of the second step cross-linking treatment was 4.3% by weight, and the potassium iodide content was 5.0% by weight. The washing treatment was carried out with an aqueous potassium iodide solution at 20 ° C. The potassium iodide content of the aqueous solution of the washing treatment was set to 2.6% by weight. Finally, the drying process was carried out at 70 ° C. for 5 minutes to obtain a stator.

上記偏光子の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、TACフィルムの片面にハードコート処理により形成されたハードコート(HC)層を有するHC−TACフィルム(厚み32μm)を、もう一方の側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、通常のTACフィルム(厚み25μm)をロール・トゥ・ロール法により貼り合わせ、偏光子保護フィルム/偏光子/偏光子保護フィルムの構成を有する長尺状の偏光板を得た。 An HC-TAC film (thickness 32 μm) having a hard coat (HC) layer formed by a hard coat treatment on one side of the TAC film via a polyvinyl alcohol-based adhesive is placed on one side of the polarizing element on the other side. A normal TAC film (thickness 25 μm) is bonded to the vinyl alcohol-based adhesive by a roll-to-roll method, and has a long-shaped structure having a stator protective film / a polarizing element / a polarizing element protective film. A polarizing plate was obtained.

(3.λ/4位相差板の作製)
イソソルビド(ロケットフレール社製、商品名:POLYSORB)を445.1重量部、9、9−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン(大阪瓦斯ケミカル(株)製)を906.2重量部、分子量1000のポリエチレングリコールを15.4重量部、ジフェニルカーボネート(三洋化成工業(株)製)を1120.4重量部、及び触媒として炭酸セシウム(0.2重量%水溶液)6.27重量部を、それぞれ反応器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第1段目の工程として、反応容器の熱媒温度を150℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた(約15分)。次いで、反応容器内の圧力を常圧から13.3kPaにし、反応容器の熱媒温度を190℃まで1時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。この工程を経てポリカーボネートを作製した。
(3. Fabrication of λ / 4 retardation plate)
445.1 parts by weight of isosorbide (manufactured by Rocket Frere, trade name: POLYSORB), 906.2 parts by weight of 9,9- (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) , 15.4 parts by weight of polyethylene glycol having a molecular weight of 1000, 1120.4 parts by weight of diphenyl carbonate (manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), and 6.27 parts by weight of cesium carbonate (0.2% by weight aqueous solution) as a catalyst. As the first step of the reaction, the heat medium temperature of the reaction vessel was set to 150 ° C., and the raw materials were dissolved while stirring as necessary (about). 15 minutes). Next, the pressure inside the reaction vessel was changed from normal pressure to 13.3 kPa, and the heat medium temperature of the reaction vessel was raised to 190 ° C. in 1 hour, and the generated phenol was extracted from the reaction vessel. Polycarbonate was produced through this step.

作製したポリカーボネートを80℃で5時間真空乾燥した後、単軸押出機(いすず化工機社製、スクリュー径25mm、シリンダー設定温度:220℃、Tダイ(幅200mm、設定温度:220℃)、チルロール(設定温度:120〜130℃))及び巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み100μmの原反フィルムを作製した。この試料を、バッチ式二軸延伸装置(東洋精機社製)で、延伸温度を127〜177℃で調節しながらR(550)が140±10nmとなるように、延伸速度720mm/分(ひずみ速度1200%/分)で、1×2.0倍の一軸延伸を行い、厚み50μmのλ/4位相差板を得た。 After vacuum drying the produced polycarbonate at 80 ° C for 5 hours, a single-screw extruder (manufactured by Isuzu Kakoki Co., Ltd., screw diameter 25 mm, cylinder set temperature: 220 ° C, T-die (width 200 mm, set temperature: 220 ° C), chill roll (Set temperature: 120 to 130 ° C.)) and a film forming apparatus equipped with a winder were used to prepare a raw film having a thickness of 100 μm. This sample was stretched at a stretching speed of 720 mm / min (strain) so that R 1 (550) was 140 ± 10 nm while adjusting the stretching temperature at 127 to 177 ° C. using a batch type biaxial stretching device (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.). A uniaxial stretching of 1 × 2.0 times was performed at a speed of 1200% / min) to obtain a λ / 4 retardation plate having a thickness of 50 μm.

(4.粘着剤の調製)
イソノニルアクリレート70重量部、ブチルアクリレート25重量部、アクリル酸5部、及び2、2−アゾビスイソブチロニトリル0.1重量部と酢酸エチル200重量部とを、窒素導入管、冷却管を備えた4つ口フラスコに投入し、充分に窒素置換した後、窒素気流下で撹拌しながら55℃で20時間重合反応を行い、重量平均分子量125万のアクリルポリマーを得た。ポリマー溶液の固形分100重量部に対して、ジベンゾイルパーオキシド0.4重量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.1重量部を配合した粘着剤組成物を、シリコーン剥離処理した38μmのPETフィルムに、粘着剤層の乾燥厚みが25μmになるように塗布し、130℃で3分間乾燥及び架橋を行い、上記で得られた偏光板のHC−TAC面に転写し、アクリル系粘着剤(95℃における弾性率:8×10−3GPa)を得た。
(4. Preparation of adhesive)
70 parts by weight of isononyl acrylate, 25 parts by weight of butyl acrylate, 5 parts by acrylic acid, 0.1 part by weight of 2,2-azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of ethyl acetate, nitrogen introduction tube and cooling tube. After being put into the provided four-necked flask and sufficiently replaced with nitrogen, the polymerization reaction was carried out at 55 ° C. for 20 hours while stirring under a nitrogen stream to obtain an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 1.25 million. A pressure-sensitive adhesive composition containing 0.4 parts by weight of dibenzoyl peroxide and 0.1 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane with respect to 100 parts by weight of the solid content of the polymer solution was subjected to silicone peeling treatment at 38 μm. Is applied to the PET film of No. 1 so that the dry thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 25 μm, dried and crosslinked at 130 ° C. for 3 minutes, transferred to the HC-TAC surface of the above-mentioned polarizing plate, and adhered to an acrylic type. An agent (elastic modulus at 95 ° C.: 8 × 10 -3 GPa) was obtained.

(5.光学特性評価用サンプルの作製)
上記手順1〜3で作製した偏光板、λ/4位相差板、透明導電性フィルムを、この順に上記手順4で作製した粘着剤を用いて積層した。透明導電性フィルムに関しては、導電層が偏光板側を向くように積層を実施した。さらに透明導電性フィルムのアンチブロッキング層側の面に、粘着剤を介して、無指向性反射フィルム(PETフィルム片面にアルミ膜を蒸着した基材、東レフィルム加工株式会社製、製品名「DMS(X42)」)を蒸着面が粘着層側となるように積層し、光学特性評価用サンプルとした。
(5. Preparation of sample for optical characteristic evaluation)
The polarizing plate, the λ / 4 retardation plate, and the transparent conductive film prepared in the above steps 1 to 3 were laminated in this order using the pressure-sensitive adhesive prepared in the above steps 4. The transparent conductive film was laminated so that the conductive layer faces the polarizing plate side. Furthermore, an omnidirectional reflective film (a base material in which an aluminum film is vapor-deposited on one side of a PET film, manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd., product name "DMS (DMS)" is used on the surface of the transparent conductive film on the anti-blocking layer side. X42) ”) was laminated so that the vapor-filmed surface was on the adhesive layer side, and used as a sample for evaluating optical characteristics.

<実施例2>
アンチブロッキング層の粒子材料に関して、平均粒子径3.0μm(積水化成品工業株式会社製、商品名「XX−104AA」、屈折率1.495)を用いたことを除いて、実施例1に記載と同様の手法にて透明導電性フィルムB、偏光板、λ/4位相差板及び光学特性評価用サンプルを作製した。
<Example 2>
Described in Example 1 with respect to the particle material of the anti-blocking layer, except that an average particle diameter of 3.0 μm (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name “XX-104AA”, refractive index 1.495) was used. A transparent conductive film B, a polarizing plate, a λ / 4 retardation plate, and a sample for evaluating optical characteristics were prepared by the same method as in the above.

<実施例3>
アンチブロッキング層の添加粒子に関して、平均粒子径1.8μm(綜研化学社製、商品名「MX180−TAN」、屈折率1.495)の材料、重量部数を0.32部としたことを除いて、実施例1に記載と同様の手法にて透明導電性フィルムC、偏光板、λ/4位相差板及び光学特性評価用サンプルを作製した。
<Example 3>
Regarding the added particles of the anti-blocking layer, except that the material has an average particle diameter of 1.8 μm (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name “MX180-TAN”, refractive index 1.495), and the number of copies is 0.32. , A transparent conductive film C, a polarizing plate, a λ / 4 retardation plate, and a sample for evaluating optical characteristics were prepared by the same method as described in Example 1.

<実施例4>
実施例1に記載のポリカーボネート製のλ/4位相差板を透明導電性フィルムの透明フィルム基材として用いたことを除いて、実施例1記載の手法にて透明導電性フィルムDを作製した。実施例1記載の偏光板、透明導電性フィルムD及び無指向反射フィルムを、実施例1記載の粘着剤を用いて積層し、光学特性評価用サンプルを作製した。
<Example 4>
A transparent conductive film D was produced by the method described in Example 1 except that the polycarbonate λ / 4 retardation plate described in Example 1 was used as the transparent film base material of the transparent conductive film. The polarizing plate, the transparent conductive film D, and the omnidirectional reflective film described in Example 1 were laminated using the pressure-sensitive adhesive described in Example 1 to prepare a sample for optical property evaluation.

<比較例1>
厚さ40μmからなる長尺フィルム基材(日本ゼオン社製、商品名「ZEONOR」)を巻き取り式スパッタ装置に投入し、その片面に、透明導電層として厚み25nmのインジウム・スズ酸化物層(アルゴンガス98%と酸素2%とからなる0.4Paの雰囲気中、酸化インジウム97重量%−酸化スズ3重量%からなる焼結体を用いたスパッタリング製膜法による)を積層した。これにより透明導電性フィルムEを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムEを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 1>
A long film substrate (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name "ZEONOR") having a thickness of 40 μm was put into a take-up sputtering apparatus, and an indium tin oxide layer having a thickness of 25 nm (25 nm thick) was placed on one side thereof as a transparent conductive layer. In an atmosphere of 0.4 Pa consisting of 98% argon gas and 2% oxygen, a sputtering film forming method using a sintered body composed of 97% by weight of indium oxide and 3% by weight of tin oxide was laminated. As a result, the transparent conductive film E was produced. A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film E.

<比較例2>
実施例1のアンチブロッキング層の代わりに、バインダー樹脂(DIC社製、「UNIDIC」、屈折率1.495)を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物を、乾燥後の平坦部の厚みが1.0μmとなるように長尺フィルム基材に塗工し、ハードコート層を形成した。続いて、このハードコート層とは反対側の面に、実施例1に記載の手法にて、ハードコート層、光学調整層、透明導電層を製膜し、透明導電性フィルムFを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムFを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 2>
Instead of the anti-blocking layer of Example 1, a coating composition obtained by diluting a binder resin (“UNIDIC” manufactured by DIC Corporation, refractive index 1.495) with ethyl acetate was used, and the thickness of the flat portion after drying was 1. A long film base material was coated so as to have a thickness of 0 μm to form a hard coat layer. Subsequently, a hard coat layer, an optical adjustment layer, and a transparent conductive layer were formed on the surface opposite to the hard coat layer by the method described in Example 1 to prepare a transparent conductive film F. A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film F.

<比較例3>
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターKZ6734」(JSR社製、屈折率1.74)としたことを除いて、実施例1に記載の方法で透明導電性フィルムGを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムGを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 3>
Regarding the anti-blocking layer, a transparent conductive film G was produced by the method described in Example 1 except that the binder resin was "Opster KZ6734" (manufactured by JSR Corporation, refractive index 1.74). A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film G.

<比較例4>
実施例1のアンチブロッキング層の代わりに、バインダー樹脂(JSR社製、「オプスターKZ6734」、屈折率1.74)を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物を、乾燥後の平坦部の厚みが1.0μmとなるように塗工し、ハードコート層を形成した。このハードコート層の反対側の面に、実施例1と同様の方法にて、ハードコート層、光学調整層及び透明導電層を製膜し、透明導電性フィルムHを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムHを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 4>
Instead of the anti-blocking layer of Example 1, a coating composition obtained by diluting a binder resin (JSR Corporation, “Opstar KZ6734”, refractive index 1.74) with ethyl acetate was used, and the thickness of the flat portion after drying was 1. It was coated to a thickness of 0.0 μm to form a hard coat layer. A hard coat layer, an optical adjustment layer, and a transparent conductive layer were formed on the opposite surface of the hard coat layer by the same method as in Example 1 to prepare a transparent conductive film H. A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film H.

<比較例5>
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターKZ6734」(JSR社製、屈折率1.74)としたこと、及び添加粒子を平均粒子径0.8μm(積水化成品工業株式会社製、商品名「XX−183AA」、屈折率1.495)としたことを除いて、実施例1に記載の方法にて、透明導電性フィルムIを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムIを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 5>
Regarding the anti-blocking layer, the binder resin was "Opstar KZ6734" (manufactured by JSR, refractive index 1.74), and the added particles had an average particle diameter of 0.8 μm (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name "XX". -183AA ”, refractive index 1.495), the transparent conductive film I was produced by the method described in Example 1. A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film I.

<比較例6>
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターKZ6734」(JSR社製、屈折率1.74)としたこと、及び添加粒子を平均粒子径3.0μm(積水化成品工業株式会社製、商品名「XX−104AA」、屈折率1.495)としたことを除いて、実施例1に記載の方法にて、透明導電性フィルムJを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムJを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 6>
Regarding the anti-blocking layer, the binder resin was "Opster KZ6734" (manufactured by JSR, refractive index 1.74), and the added particles had an average particle diameter of 3.0 μm (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name "XX". -104AA ”, refractive index 1.495), the transparent conductive film J was produced by the method described in Example 1. A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film J.

<比較例7>
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターKZ6734」(JSR社製、屈折率1.74)としたこと、及び添加粒子を平均粒子径1.5μm(積水化成品工業株式会社製、商品名「XX−95AA」)としたことを除いて、実施例1に記載の方法にて透明導電性フィルムKを作製した。実施例1に記載の手法にて偏光板及びλ/4位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムKを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 7>
Regarding the anti-blocking layer, the binder resin was "Opster KZ6734" (manufactured by JSR, refractive index 1.74), and the added particles had an average particle diameter of 1.5 μm (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name "XX". A transparent conductive film K was produced by the method described in Example 1 except that it was set to -95AA "). A polarizing plate and a λ / 4 retardation plate were produced by the method described in Example 1, and a sample for optical characteristic evaluation was produced using the transparent conductive film K.

<比較例8>
実施例1に記載のポリカーボネート製のλ/4位相差板を透明フィルム基材として用いたこと、アンチブロッキング層に関してバインダー樹脂を「オプスターKZ6734」(JSR社製、屈折率1.74)としたこと、及び添加粒子を平均粒子径3.0μm(積水化成品工業株式会社製、商品名「XX−104AA」、屈折率1.495)としたことを除いて、実施例1と同様の手法にて、透明導電性フィルムLを作製した。実施例1記載の偏光板、透明導電性フィルムL及び無指向反射フィルムを、実施例1記載の粘着剤を用いて積層し、光学特性評価用サンプルを作製した。
<Comparative Example 8>
The polycarbonate λ / 4 retardation plate described in Example 1 was used as a transparent film base material, and the binder resin for the antiblocking layer was "Opster KZ6734" (manufactured by JSR Corporation, refractive index 1.74). , And the added particles had an average particle diameter of 3.0 μm (manufactured by Sekisui Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “XX-104AA”, refractive index 1.495), and the same method as in Example 1 was used. , A transparent conductive film L was produced. The polarizing plate, the transparent conductive film L, and the omnidirectional reflective film described in Example 1 were laminated using the pressure-sensitive adhesive described in Example 1 to prepare a sample for optical property evaluation.

<評価>
実施例及び比較例で作製した透明導電性フィルム及び光学特性評価用サンプルについて、以下の項目を評価した。結果を表1に示す。
<Evaluation>
The following items were evaluated for the transparent conductive film and the sample for optical property evaluation produced in Examples and Comparative Examples. The results are shown in Table 1.

(表面形状測定)
アンチブロッキング層の最大粗さRz及び隆起部の分布密度に関しては、非接触型干渉顕微鏡Wyko(Veeco Instruments社製)にて測定した。
(Surface shape measurement)
The maximum roughness Rz of the anti-blocking layer and the distribution density of the raised portion were measured with a non-contact interference microscope (manufactured by Veeco Instruments).

(ヘイズ)
アンチブロッキング層のヘイズに関しては、JIS K7136(2000年)のヘイズ(濁度)に準じ、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所社製 型番「HM−150」)を用いて測定した。具体的には、透明フィルム基材単体の構成、及び透明フィルム基材にアンチブロッキング層を形成した構成の2種類のヘイズを評価し,前者と後者との差をアンチブロッキング層のヘイズとして算出した。
(Haze)
The haze of the anti-blocking layer was measured using a haze meter (model number "HM-150" manufactured by Murakami Color Technology Research Institute) according to the haze (turbidity) of JIS K7136 (2000). Specifically, we evaluated two types of haze, one with a transparent film substrate alone and the other with an anti-blocking layer formed on the transparent film substrate, and calculated the difference between the former and the latter as the haze of the anti-blocking layer. ..

(光学特性測定)
光学評価用積層体サンプルに関して、光学測色計(コニカミノルタ社製)を用いて、偏光板側より360〜760nmの波長の光を入射し、反射光に関してスペクトル評価を実施し、また以下の基準で見栄えを評価した。図3A〜図3Kに、実施例1〜4及び比較例2〜8の反射スペクトルをそれぞれ示す。比較例1ではアンチブロッキング処理等がなされていない基材が組み込まれており、偏光解消による光学特性への影響はなかった。そこで比較例1の反射スペクトルをリファレンスとして各グラフに表示し、比較対象として利用した。
=評価基準=
○:比較例1と比較し、400mn〜550nmの領域において反射スペクトルの増大がなかった。目視評価において、比較例1と同等の黒さが確認できた。
×:比較例1と比較して400mn〜550nmの領域において反射スペクトルが増加していた。目視評価において、比較例1よりも輝度が高く、黒味にかけていた。
(Measurement of optical characteristics)
For the laminated body sample for optical evaluation, light with a wavelength of 360 to 760 nm was incident from the polarizing plate side using an optical colorimeter (manufactured by Konica Minolta), and spectral evaluation was performed for the reflected light. I evaluated the appearance with. 3A to 3K show the reflection spectra of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 to 8, respectively. In Comparative Example 1, a base material that had not been subjected to anti-blocking treatment or the like was incorporated, and there was no effect on the optical characteristics due to depolarization. Therefore, the reflection spectrum of Comparative Example 1 was displayed in each graph as a reference and used as a comparison target.
= Evaluation criteria =
◯: Compared with Comparative Example 1, there was no increase in the reflection spectrum in the region of 400 mn to 550 nm. In the visual evaluation, the same blackness as in Comparative Example 1 was confirmed.
X: The reflection spectrum was increased in the region of 400 mn to 550 nm as compared with Comparative Example 1. In the visual evaluation, the brightness was higher than that of Comparative Example 1 and the color was blackish.

(滑り性)
作製した透明導電性フィルムについてアンチブロッキング層の表面に、表面が平滑なフィルム((株)日本ゼオン製、商品名「ZEONOR フィルム ZF−16」)をそれぞれ指圧にて圧着させ、その際のフィルム同士の貼り付き具合を以下の基準で目視にて確認した(検体数N=10)。
=評価基準=
○:貼りつきが起こらないか、又は一旦貼りつくが、時間が経過するとフィルムが離れて滑り性がでる。
×:貼りついたフィルムが、元に戻らずに滑り性がでない。
(Slippery)
About the produced transparent conductive film A film with a smooth surface (manufactured by Nippon Zeon Corporation, trade name "ZEONOR film ZF-16") is pressure-bonded to the surface of the anti-blocking layer by acupressure, and the films at that time are pressed against each other. The degree of sticking was visually confirmed according to the following criteria (number of samples N = 10).
= Evaluation criteria =
◯: Sticking does not occur, or sticks once, but the film separates and becomes slippery after a lapse of time.
X: The stuck film does not return to its original state and is not slippery.

Figure 0006971558
Figure 0006971558

実施例では、滑り性及び見栄えともに良好な結果であった。滑り性に関しては、最大粗さRz値が300nm(0.3μm)以上である場合に良好であることが確認された。 In the examples, both slipperiness and appearance were good. It was confirmed that the slipperiness was good when the maximum roughness Rz value was 300 nm (0.3 μm) or more.

光学特性評価においては、アンチブロッキング層がスペクトルに影響を及ぼすと考えたため、アンチブロッキング層を形成していない長尺フィルム基材を構成に取り入れた比較例1をリファレンスとして記載した。実施例1〜4では反射スペクトルに大きな差異がないことが確認され、見栄えも良好であった。 In the evaluation of optical characteristics, since it was considered that the anti-blocking layer affects the spectrum, Comparative Example 1 in which a long film substrate having no anti-blocking layer was incorporated into the composition was described as a reference. In Examples 1 to 4, it was confirmed that there was no significant difference in the reflection spectra, and the appearance was also good.

一方、比較例のうち、見栄えの悪かった比較例3、6〜8の反射スペクトルでは、特に400nm〜550nmの範囲における反射率が、アンチブロッキング層を形成していないサンプルと比較して上昇していることが確認された。この反射率の上昇により黒味が損なわれていると推察された。他の比較例に関しては実施例同じく、反射率に違いはなかった。 On the other hand, among the comparative examples, in the reflection spectra of Comparative Examples 3 and 6 to 8 which did not look good, the reflectance in the range of 400 nm to 550 nm increased as compared with the sample not forming the anti-blocking layer. It was confirmed that there was. It was speculated that the blackness was impaired by this increase in reflectance. As for the other comparative examples, there was no difference in reflectance as in the examples.

1 透明フィルム基材
2 アンチブロッキング層
2a (アンチブロッキング層の)平坦部
2b (アンチブロッキング層の)隆起部
3 ハードコート層
4 屈折率調整層
5 透明導電層
10 透明導電性フィルム
13a、13b 固定層
20 偏光板
21 偏光子
22a、22b 偏光子保護フィルム
30 表示素子
31 セル基板
32a、32b 偏光板
100 タッチ機能付き表示装置
P 粒子
1 Transparent film base material 2 Anti-blocking layer 2a (Anti-blocking layer) Flat part 2b (Anti-blocking layer) raised part 3 Hard coat layer 4 Refractive index adjustment layer 5 Transparent conductive layer 10 Transparent conductive film 13a, 13b Fixed layer 20 Polarizer 21 Polarizer 22a, 22b Polarizer protective film 30 Display element 31 Cell substrate 32a, 32b Polarizer 100 Display device with touch function P particles

Claims (9)

正面位相差が200nm以下の透明フィルム基材と、
前記透明フィルム基材の一方の主面側に設けられたアンチブロッキング層と、
記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の側に設けられた透明導電層と
を備え、
前記アンチブロッキング層は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、
前記アンチブロッキング層中の前記粒子の含有量は、前記樹脂組成物の固形分100重量部に対して0.16〜5重量部であり、
前記アンチブロッキング層は、前記透明フィルム基材側とは反対側の表面に平坦部と前記粒子に起因する隆起部とを有し、
前記粒子の最頻粒子径は、前記アンチブロッキング層の平坦部の厚みより大きく、
前記粒子の屈折率npと前記バインダー樹脂の屈折率nbとが下記の関係を満たす透明導電性フィルム。
|np−nb|<0.14
A transparent film substrate with a frontal phase difference of 200 nm or less,
An anti-blocking layer provided on one main surface side of the transparent film substrate,
And a transparent conductive layer provided on the main surface side opposite to said anti-blocking layer side of the front Symbol transparent film substrate,
The anti-blocking layer is a cured product layer of a resin composition containing a binder resin and particles.
The content of the particles in the anti-blocking layer is 0.16 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin composition.
The anti-blocking layer has a flat portion and a raised portion due to the particles on the surface opposite to the transparent film base material side.
The mode particle size of the particles is larger than the thickness of the flat portion of the anti-blocking layer.
A transparent conductive film in which the refractive index np of the particles and the refractive index nb of the binder resin satisfy the following relationship.
| Np-nb | <0.14
前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対側の表面の最大粗さRzが0.3μm以上2.5μm以下である請求項1に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 1, wherein the maximum roughness Rz of the surface of the anti-blocking layer on the side opposite to the transparent film substrate side is 0.3 μm or more and 2.5 μm or less. 前記アンチブロッキング層の前記隆起部の分布密度が100個/mm以上1200個/mm以下である請求項1又は2に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the distribution density of the raised portion of the anti-blocking layer is 100 pieces / mm 2 or more and 1200 pieces / mm 2 or less. 前記アンチブロッキング層のヘイズが0.7%以上3%以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the haze of the anti-blocking layer is 0.7% or more and 3% or less. 記透明導電層と前記透明フィルム基材との間に少なくとも1層のコーティング層が形成されている請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 1, wherein at least one layer coating layer is formed between the front Symbol transparent conductive layer wherein the transparent film substrate. 偏光板と表示素子との間に配置される請求項1〜のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 5 , which is arranged between the polarizing plate and the display element. 偏光板と、
表示素子と、
前記偏光板と前記表示素子との間に配置された請求項に記載の透明導電性フィルムと
を備えるタッチ機能付き表示装置。
With a polarizing plate
Display element and
A display device with a touch function, comprising the transparent conductive film according to claim 6 , which is arranged between the polarizing plate and the display element.
前記透明導電性フィルムの前記アンチブロッキング層形成面側と前記偏光板又は前記表示素子との間に固定層が設けられており、
前記固定層の屈折率na、前記粒子の屈折率np及び前記バインダー樹脂の屈折率nbのうちの最大値と最小値との差の絶対値が0.14以下である請求項7に記載のタッチ機能付き表示装置。
A fixed layer is provided between the transparent conductive film on the anti-blocking layer forming surface side and the polarizing plate or the display element.
The touch according to claim 7, wherein the absolute value of the difference between the maximum value and the minimum value of the refractive index na of the fixed layer, the refractive index np of the particles, and the refractive index nb of the binder resin is 0.14 or less. Display device with function.
前記固定層は、粘着剤層又は接着剤層である請求項又はに記載のタッチ機能付き表示装置。 The display device with a touch function according to claim 7 or 8 , wherein the fixed layer is an adhesive layer or an adhesive layer.
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