JP6977737B2 - Display device - Google Patents

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Description

本発明は、表示装置に関する。 The present invention relates to a display device.

モバイル機器から大型テレビまで、様々な電子機器に表示装置が設けられる。この表示装置としては、従来、液晶表示装置を用いることが一般的であった。しかし、近年では、ノートパソコン、携帯電話等のモバイル機器を中心に、表示装置として有機エレクトロルミネッセンス表示装置(以下、適宜「有機EL表示装置」ということがある。)を用いた電子機器が増加傾向にある。 Display devices are installed in various electronic devices, from mobile devices to large TVs. Conventionally, as this display device, it has been common to use a liquid crystal display device. However, in recent years, mainly mobile devices such as notebook computers and mobile phones, electronic devices using an organic electroluminescence display device (hereinafter, may be appropriately referred to as an "organic EL display device") as a display device are increasing. It is in.

モバイル機器のデザイン性及び携帯性を改善する観点から、モバイル機器のモジュール全体の薄型化及び軽量化が求められている。また、テレビにおいては大型化が求められている。さらに、表示装置においては、一般に、表示画面の高繊細化が求められる。そのため、これらの表示装置に用いられる光学フィルム及び偏光板も、薄膜化、広幅化及び高品質化が求められている。また、表示装置の表示窓には、タッチパネルが使用されることが多い。いくつかの方式のタッチパネルの中で、指先で画面を叩く、弾く、摘むという操作で画像を拡大又は縮小させるマルチタッチ機能や、視認性、耐久性に優れていることから、静電容量方式のタッチパネルの人気が高い。このような要求に応えるため、特許文献1〜14に示すように、様々な検討が行われている。 From the viewpoint of improving the design and portability of mobile devices, it is required to reduce the thickness and weight of the entire module of the mobile device. In addition, there is a demand for larger televisions. Further, in a display device, it is generally required to make the display screen highly delicate. Therefore, the optical films and polarizing plates used in these display devices are also required to be thinned, widened, and of high quality. Further, a touch panel is often used for the display window of the display device. Among several types of touch panels, the capacitive touch panel has excellent visibility and durability, as well as a multi-touch function that enlarges or reduces the image by tapping, flipping, and picking the screen with your fingertips. Touch panels are very popular. In order to meet such demands, various studies have been conducted as shown in Patent Documents 1 to 14.

国際公開第2016/31776号International Publication No. 2016/31776 特開2014−191006号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-191006 特開2010−76181号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-76181 特許第5821155号公報Japanese Patent No. 5821155 国際公開第2016/200956号International Publication No. 2016/20956 国際公開第2014/185000号International Publication No. 2014/185000 特開平10−10523号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-10523 特開平1−204092号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-204092 特開平3−174512号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-174512 特開2009−122454号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-12454 特開2005−181615号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-181615 特開2015−031753号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-031753 特開平05−100114号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 05-100114 特開平10−68816号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-68816

一般に、表示装置の製造プロセスにおいては、偏光板を表示素子のガラス基板に粘着剤又は接着剤を介して貼合する。偏光板は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向された偏光子の両面に、偏光子保護フィルムを積層した構成で製造されている。偏光子保護フィルムとしては、環状オレフィンフィルム及びトリアセチルセルロースフィルムが代表的である。また、偏光子保護フィルムは、通常、水又は有機溶媒を含む液状の粘着剤又は接着剤を介して、偏光子の両面に積層される。 Generally, in the manufacturing process of a display device, a polarizing plate is attached to a glass substrate of a display element via an adhesive or an adhesive. The polarizing plate is usually manufactured by laminating a polarizing element protective film on both sides of a polarizing element in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film. Cyclic olefin films and triacetyl cellulose films are typical examples of the polarizing element protective film. Further, the polarizing element protective film is usually laminated on both sides of the polarizing element via a liquid pressure-sensitive adhesive or an adhesive containing water or an organic solvent.

偏光板は、表示素子のガラス基板の周縁に至るように貼合されることが望ましい。しかし、偏光子保護フィルムは、外部環境の湿度及び温度、並びに使用する粘着剤又は接着剤等の影響により、寸法変化をおこすことがある。この寸法変化への対策として、予め、表示素子の周縁よりも大きいサイズの偏光板を貼合したのち、表示素子のガラス基板の端部からはみ出た偏光板を、ガラス基板を傷つけることなく切断することが行われている。 It is desirable that the polarizing plate is attached so as to reach the peripheral edge of the glass substrate of the display element. However, the polarizing element protective film may change in size due to the influence of the humidity and temperature of the external environment, the pressure-sensitive adhesive or the adhesive used, and the like. As a countermeasure against this dimensional change, a polarizing plate having a size larger than the peripheral edge of the display element is attached in advance, and then the polarizing plate protruding from the end of the glass substrate of the display element is cut without damaging the glass substrate. Is being done.

また、表示装置の画面サイズに合わせて、自由自在にガラス基板を傷つけることなく偏光板を所望の形状に切断することが求められる。 Further, it is required to freely cut the polarizing plate into a desired shape according to the screen size of the display device without damaging the glass substrate.

さらには、近年、特に、表示装置の製造工程において、ロール状の偏光板と表示素子を備えるパネルとを直接貼合する「ロールtoパネル製法」が採用されている。このようなロールtoパネル製法で製造されたロール状偏光板は、所望の寸法に切断される。 Further, in recent years, in particular, in the manufacturing process of a display device, a "roll-to-panel manufacturing method" in which a roll-shaped polarizing plate and a panel provided with a display element are directly bonded to each other has been adopted. The roll-shaped polarizing plate manufactured by such a roll-to-panel manufacturing method is cut to a desired size.

また、画面サイズの大型化に伴って、フィルムの幅を広くしたいという要求がある。この要求に対して、溶融流延法及び溶液流延法などにより製造されたロール状の原反フィルムの幅方向端部をクリップで固定して、横延伸することにより、広幅な延伸フィルムが製造されている。しかし、その延伸フィルムの両端部は、クリップ痕があるため、通常は、その不要な部分を切断することが求められる。 In addition, there is a demand for widening the width of the film as the screen size increases. In response to this requirement, a wide stretched film is manufactured by fixing the widthwise end portion of the roll-shaped raw film produced by the melt casting method, the solution casting method, etc. with a clip and laterally stretching the film. Has been done. However, since both ends of the stretched film have clip marks, it is usually required to cut the unnecessary portions.

一方、タッチパネルは、一般に、表示窓に配置され誘電体として機能する透光性を有したカバーパネルを備える。そして、このカバーパネルの裏面には、通常、静電容量方式のフィルムセンサーが、粘着層又は接着層を介して接着されている。このフィルムセンサーは、基材と、基材の一方の側(観察者側)の面上に設けられた第1電極部と、基材の他方の側(表示装置の側)の面上に設けられた第2電極部と、を有している。そして、このようなフィルムセンサーでは、基材の一方の側の面および他方の側の面の所望の部分を切断し、導電性を有した引き回し配線を形成することが行われている。 On the other hand, the touch panel generally includes a translucent cover panel that is arranged in the display window and functions as a dielectric. A capacitive film sensor is usually adhered to the back surface of the cover panel via an adhesive layer or an adhesive layer. This film sensor is provided on the base material, the first electrode portion provided on the surface of one side (observer side) of the base material, and the surface of the other side (display device side) of the base material. It has a second electrode portion and the like. Then, in such a film sensor, a desired portion of one side surface and the other side surface of the base material is cut to form a routing wiring having conductivity.

偏光子保護フィルム及び偏光板を所望の形状に切り出す方法としては、例えば、ナイフを用いた機械的切断方法、及び、レーザー光を用いたレーザー切断方法が挙げられる。しかし、機械的な切断加工を行った場合、目には見えない傷や残留応力の不均一化を招くことがある。このような事情から、近年では、レーザー切断方法の採用が求められる。 Examples of the method for cutting the polarizing element protective film and the polarizing plate into a desired shape include a mechanical cutting method using a knife and a laser cutting method using a laser beam. However, mechanical cutting may result in invisible scratches and non-uniform residual stress. Under these circumstances, in recent years, the adoption of a laser cutting method is required.

さらに、表示装置の薄膜化、軽量化、フレキシブル化、高品質化及び高精細化の要求に伴い、そこに使用される偏光板についても薄膜化、軽量化、フレキシブル化、高性能化が要求されている。しかし、これらの要求は、ただ単に偏光子、粘着層、接着層及び偏光子保護フィルム等の偏光板の構成要素を薄くしても、達成は難しい。具体的には、偏光板の構成要素を薄くすると、偏光子が延伸方向に裂け易くなったり、粘着剤又は接着剤の成分によって偏光子及び偏光子保護フィルムが劣化したり、偏光板を湾曲させる時及び偏光板をリワークする時の取扱い性が劣ったり、引き裂き強度が低くなって剥離性に乏しくなったりする傾向があった。このような事情から、薄く軽量でありながらも、現状よりも優れた耐久性を有する偏光板が求められている。 Furthermore, with the demand for thinner, lighter, more flexible, higher quality and higher definition display devices, the polarizing plates used there are also required to be thinner, lighter, more flexible and have higher performance. ing. However, these requirements are difficult to achieve by simply thinning the components of the polarizing plate such as the polarizing element, the adhesive layer, the adhesive layer, and the polarizing element protective film. Specifically, when the constituent elements of the polarizing plate are made thin, the polarizing element is easily torn in the stretching direction, the polarizing element and the polarizing element protective film are deteriorated by the components of the pressure-sensitive adhesive or the adhesive, and the polarizing plate is curved. There was a tendency that the handleability at the time and when the polarizing plate was reworked was poor, and the tear strength was low and the peelability was poor. Under these circumstances, there is a demand for a polarizing plate that is thin and lightweight but has better durability than the current state.

ところが、材料の種類によっては、使用環境(湿度、温度、紫外線など)及び使用形態(貼合に使用される接着剤や折り曲げ使用など)によって、十分な耐久性が得られないことがあった。例えば、使用環境又は使用形態が過酷であったり、使用環境又は使用形態が変動したりすると、その影響によって、偏光板の耐熱性、耐湿性、耐光性、耐溶媒性、耐回折性、耐引裂き性、寸法安定性などの性質が、必ずしも十分ではないことがあった。 However, depending on the type of material, sufficient durability may not be obtained depending on the usage environment (humidity, temperature, ultraviolet rays, etc.) and the usage mode (adhesive used for bonding, bending use, etc.). For example, if the usage environment or usage pattern is harsh, or if the usage environment or usage pattern fluctuates, the heat resistance, moisture resistance, light resistance, solvent resistance, diffraction resistance, and tear resistance of the polarizing plate may be affected. Properties such as properties and dimensional stability were not always sufficient.

また、偏光子保護フィルムをレーザー光で切断することが困難である場合がある。仮に強引にレーザー光で切断すると、偏光板に切断カスが混入することがあった。また、偏光子保護フィルムの切断面の盛り上がりが発生し、こうして製造された偏光板において偏光子保護フィルム層が浮き上がり、耐湿性が低下することがあった。そのため、偏光子保護フィルムの加工性には、課題があった。
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたものであって、レーザー光によって切断可能な偏光子保護フィルムを備え、且つ、使用環境及び使用形態に対する耐久性に優れた偏光板を備える表示装置を提供することを目的とする。
In addition, it may be difficult to cut the polarizing element protective film with a laser beam. If it was forcibly cut with a laser beam, cutting residue might be mixed in the polarizing plate. In addition, the cut surface of the polarizing element protective film may be raised, and the polarizing element protective film layer may be lifted in the polarizing plate manufactured in this manner, resulting in a decrease in moisture resistance. Therefore, there is a problem in the processability of the polarizing element protective film.
The present invention has been devised in view of the above problems, and is a display device including a polarizing element protective film that can be cut by a laser beam and a polarizing plate having excellent durability against a usage environment and a usage pattern. The purpose is to provide.

本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、偏光子保護フィルムにレーザー吸収剤を含む基材を設けることにより、偏光子保護フィルムのレーザー光による切断が可能となることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor has found that by providing a base material containing a laser absorber on the polarizing element protective film, the polarizing element protective film can be cut by laser light. , The present invention has been completed.
That is, the present invention includes the following.

〔1〕 偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子をこの順に備える表示装置であって、
前記偏光子保護フィルムが、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材を含み、
前記位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が、90nm〜150nmである、表示装置。
〔2〕 前記基材が、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が10nm以下である第一基材層と、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が90nm〜150nmである第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、
前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれる、〔1〕記載の表示装置。
〔3〕 前記基材が、λ/4板として機能できる第一基材層と、λ/2板として機能できる第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、且つ、広帯域λ/4板として機能でき、
前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれる、〔1〕記載の表示装置。
〔4〕 前記第二基材層が、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されている、〔3〕記載の表示装置。
〔5〕 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方が、
第一外側層と、
第二外側層と、
前記第一外側層及び前記第二外側層の間に設けられた中間層と、を含む、〔2〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔6〕 前記中間層が、紫外線吸収剤を含む、〔5〕記載の表示装置。
〔7〕 前記第一外側層が、ガラス転移温度TgO1を有する第一外側樹脂で形成され、
前記第二外側層が、ガラス転移温度TgO2を有する第二外側樹脂で形成され、
前記中間層が、ガラス転移温度Tgを有する中間樹脂で形成され、
前記第一外側樹脂のガラス転移温度TgO1が、前記中間樹脂のガラス転移温度Tgよりも低く、
前記第二外側樹脂のガラス転移温度TgO2が、前記中間樹脂のガラス転移温度Tgよりも低い、〔5〕又は〔6〕記載の表示装置。
〔8〕 前記第一外側樹脂のガラス転移温度TgO1と、前記中間樹脂のガラス転移温度Tgとの差Tg−TgO1が、30℃以上であり、
前記第二外側樹脂のガラス転移温度TgO2と、前記中間樹脂のガラス転移温度Tgとの差Tg−TgO2が、30℃以上である、〔7〕記載の表示装置。
〔9〕 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方の厚みが、10μm〜60μmである、〔2〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔10〕 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸とが交差している、〔1〕〜〔9〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔11〕 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸との交差角が、45°±5°である、〔10〕記載の表示装置。
〔12〕 前記基材が、結晶性を有する重合体を含む、〔1〕〜〔11〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔13〕 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、脂環式構造含有重合体を含む、請求項〔1〕〜〔12〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔14〕 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、延伸フィルムを含む、〔1〕〜〔13〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔15〕 前記位相差フィルムが、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されていて、
前記位相差フィルムの波長450nmにおける面内レターデーションRe(450)と、前記位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)とが、Re(450)/Re(550)<1.0を満たす、〔1〕〜〔12〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔16〕 前記表示素子が、液晶セルである、〔1〕〜〔15〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔17〕 前記表示素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である、〔1〕〜〔15〕のいずれか一項に記載の表示装置。
[1] A display device including a polarizing element protective film, a polarizing element, a retardation film, and a display element in this order.
The polarizing element protective film contains a base material containing a laser absorber and capable of functioning as a λ / 4 plate.
A display device in which the in-plane retardation Re (550) of the retardation film at a wavelength of 550 nm is 90 nm to 150 nm.
[2] The substrate has a first substrate layer having an in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm or less of 10 nm or less, and a second substrate having an in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of 90 nm to 150 nm. A base material layer and a conductive layer formed on at least one surface of the first base material layer are included.
The display device according to [1], wherein the laser absorber is contained in one or both of the first base material layer and the second base material layer.
[3] The base material is formed on at least one surface of the first base material layer that can function as a λ / 4 plate, the second base material layer that can function as a λ / 2 plate, and the first base material layer. It also contains a conductive layer and can function as a wideband λ / 4 plate.
The display device according to [1], wherein the laser absorber is contained in one or both of the first base material layer and the second base material layer.
[4] The display device according to [3], wherein the second base material layer is formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound.
[5] One or both of the first base material layer and the second base material layer
With the first outer layer,
With the second outer layer,
The display device according to any one of [2] to [4], comprising the first outer layer and the intermediate layer provided between the second outer layers.
[6] The display device according to [5], wherein the intermediate layer contains an ultraviolet absorber.
[7] The first outer layer is formed of a first outer resin having a glass transition temperature Tg O1.
The second outer layer is formed of a second outer resin having a glass transition temperature of Tg O2.
The intermediate layer is formed of an intermediate resin having a glass transition temperature Tg C.
The glass transition temperature Tg O1 of the first outer resin is lower than the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin.
The display device according to [5] or [6], wherein the glass transition temperature Tg O2 of the second outer resin is lower than the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin.
[8] The difference Tg C − Tg O1 between the glass transition temperature Tg O1 of the first outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is 30 ° C. or higher.
The display device according to [7], wherein the difference Tg C − Tg O2 between the glass transition temperature Tg O2 of the second outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is 30 ° C. or higher.
[9] The display device according to any one of [2] to [8], wherein the thickness of one or both of the first base material layer and the second base material layer is 10 μm to 60 μm.
[10] The display device according to any one of [1] to [9], wherein the slow axis of the base material and the transmission axis of the substituent intersect.
[11] The display device according to [10], wherein the crossing angle between the slow axis of the base material and the transmission axis of the polarizing element is 45 ° ± 5 °.
[12] The display device according to any one of [1] to [11], wherein the base material contains a polymer having crystallinity.
[13] The display device according to any one of claims [1] to [12], wherein the base material and the retardation film each contain an alicyclic structure-containing polymer.
[14] The display device according to any one of [1] to [13], wherein the base material and the retardation film each include a stretched film.
[15] The retardation film is formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound.
The in-plane retardation Re (450) of the retardation film at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re (550) of the retardation film at a wavelength of 550 nm are Re (450) / Re (550) <1.0. The display device according to any one of [1] to [12], which satisfies the above conditions.
[16] The display device according to any one of [1] to [15], wherein the display element is a liquid crystal cell.
[17] The display device according to any one of [1] to [15], wherein the display element is an organic electroluminescence element.

本発明によれば、レーザー光によって切断可能な偏光子保護フィルムを備え、且つ、使用環境及び使用形態に対する耐久性に優れた偏光板を備える表示装置を提供できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a display device provided with a polarizing element protective film that can be cut by a laser beam and provided with a polarizing plate having excellent durability against a usage environment and a usage mode.

図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、基材に含まれうる樹脂層の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a resin layer that can be contained in a base material. 図3は、一例としての基材を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a base material as an example. 図4は、一例としての基材を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a base material as an example. 図5は、本発明の一実施形態に係る表示装置としての液晶表示装置の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of a liquid crystal display device as a display device according to an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device as a display device according to another embodiment of the present invention. 図7は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device as a display device according to still another embodiment of the present invention. 図8は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device as a display device according to still another embodiment of the present invention. 図9は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device as a display device according to still another embodiment of the present invention.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and may be arbitrarily modified and carried out without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、「紫外線」とは、別に断らない限り、波長が10nm〜400nmの光を示す。 In the following description, "ultraviolet rays" refer to light having a wavelength of 10 nm to 400 nm unless otherwise specified.

以下の説明において、「長尺」の形状とは、幅に対して、5倍以上の長さを有する形状をいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムの形状をいう。長尺の形状の長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して10万倍以下としうる。 In the following description, the "long" shape means a shape having a length of 5 times or more, preferably 10 times or more, and specifically a roll. The shape of a film that has a length that allows it to be rolled up and stored or transported. The upper limit of the length of the long shape is not particularly limited, and may be, for example, 100,000 times or less with respect to the width.

以下の説明において、フィルム及び層の面内レターデーションReは、別に断らない限り、Re=(nx−ny)×dで表される値である。また、フィルム及び層の厚み方向のレターデーションRthは、別に断らない限り、Rth={(nx+ny)/2−nz}×dで表される値である。ここで、nxは、フィルム及び層の厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、フィルム及び層の前記面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。nzは、フィルム及び層の厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルム及び層の厚みを表す。測定波長は、別に断らない限り、550nmである。 In the following description, the in-plane retardation Re of the film and the layer is a value represented by Re = (nx-ny) × d unless otherwise specified. Further, the retardation Rth in the thickness direction of the film and the layer is a value represented by Rth = {(nx + ny) /2-nz} × d unless otherwise specified. Here, nx represents the refractive index in the direction perpendicular to the thickness direction of the film and the layer (in-plane direction) and in the direction giving the maximum refractive index. ny represents the refractive index of the film and the layer in the in-plane direction and orthogonal to the direction of nx. nz represents the refractive index of the film and the layer in the thickness direction. d represents the thickness of the film and the layer. The measurement wavelength is 550 nm unless otherwise specified.

以下の説明において、ある面の正面方向とは、別に断らない限り、当該面の法線方向を意味し、具体的には前記面の極角0°且つ方位角0°の方向を指す。 In the following description, the front direction of a certain surface means the normal direction of the surface, and specifically, the direction of the polar angle 0 ° and the azimuth angle 0 ° of the surface, unless otherwise specified.

以下の説明において、別に断らない限り、「順波長分散特性」とは、波長450nm及び550nmにおける面内レターデーションRe(450)及びRe(550)が、Re(450)>Re(550)の関係を満たすことをいう。 In the following description, unless otherwise specified, the "forward wavelength dispersion characteristic" means that the in-plane retardations Re (450) and Re (550) at wavelengths of 450 nm and 550 nm have a relationship of Re (450)> Re (550). Means to meet.

以下の説明において、別に断らない限り、「逆波長分散特性」とは、波長450nm及び550nmにおける面内レターデーションRe(450)及びRe(550)が、Re(450)<Re(550)の関係を満たすことをいう。 In the following description, unless otherwise specified, the "reverse wavelength dispersion characteristic" means that the in-plane retardations Re (450) and Re (550) at wavelengths of 450 nm and 550 nm have a relationship of Re (450) <Re (550). Means to meet.

以下の説明において、フィルム及び層の遅相軸とは、別に断らない限り、当該フィルム及び層の面内における遅相軸を表す。 In the following description, the slow axis of the film and the layer represents the slow axis in the plane of the film and the layer unless otherwise specified.

以下の説明において、複数のフィルム又は層を備える部材における各フィルム又は層の光学軸(偏光吸収軸、偏光透過軸、遅相軸等)がなす角度は、別に断らない限り、前記のフィルム又は層を厚み方向から見たときの角度を表す。 In the following description, the angle formed by the optical axes (polarization absorption axis, polarization transmission axis, slow phase axis, etc.) of each film or layer in a member having a plurality of films or layers is the above-mentioned film or layer unless otherwise specified. Represents the angle when viewed from the thickness direction.

以下の説明において、別に断らない限り、用語「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基、メタクリロイル基及びこれらの組み合わせを包含する。 In the following description, unless otherwise noted, the term "(meth) acryloyl group" includes acryloyl groups, methacryloyl groups and combinations thereof.

以下の説明において、正の固有複屈折値を有する樹脂とは、別に断らない限り、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも大きくなる樹脂を意味する。また、負の固有複屈折値を有する樹脂とは、別に断らない限り、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも小さくなる樹脂を意味する。固有複屈折値は、誘電率分布から計算しうる。 In the following description, the resin having a positive intrinsic birefringence value means a resin in which the refractive index in the stretching direction is larger than the refractive index in the direction orthogonal to the refractive index, unless otherwise specified. Further, the resin having a negative intrinsic birefringence value means a resin in which the refractive index in the stretching direction is smaller than the refractive index in the direction orthogonal to the refractive index unless otherwise specified. The intrinsic birefringence value can be calculated from the permittivity distribution.

以下の説明において、「偏光板」、「λ/2板」及び「λ/4板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。 In the following description, "polarizing plate", "λ / 2 plate" and "λ / 4 plate" are not only rigid members but also flexible like a resin film, unless otherwise specified. Also includes members to have.

[1.概要]
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置10を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る表示装置10は、偏光子保護フィルム110、偏光子120、位相差フィルム130及び表示素子140を、この順に備える。このうち、偏光子保護フィルム110及び偏光子120からなる部分が、偏光板として機能する。
[1. Overview]
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a display device 10 according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the display device 10 according to the embodiment of the present invention includes a polarizing element protective film 110, a polarizing element 120, a retardation film 130, and a display element 140 in this order. Of these, the portion composed of the polarizing element protective film 110 and the polarizing element 120 functions as a polarizing plate.

前記の偏光子保護フィルム110は、レーザー光を吸収できる基材111を含む。基材111は、レーザー光を照射された部分においてレーザー光を吸収し、その部分の基材111の材料を昇華されることができる。また、偏光子保護フィルム110が基材111以外の任意要素(図示せず。)を含む場合、レーザー光が照射されると、昇華した基材111の材料によって任意要素が加熱され、溶融又は昇華を生じることができる。よって、偏光子保護フィルム110は、レーザー光によって容易に切断されることができる。また、偏光子保護フィルム110を、偏光子120及び位相差フィルム130と貼り合わせた状態で切断を行う場合には、通常、基材111がレーザー光を吸収して生じる熱により、偏光子保護フィルム110だけでなく偏光子120及び位相差フィルム130も容易に切断することが可能である。 The polarizing element protective film 110 includes a base material 111 capable of absorbing laser light. The base material 111 can absorb the laser light at the portion irradiated with the laser light and sublimate the material of the base material 111 at that portion. Further, when the polarizing element protective film 110 contains an arbitrary element (not shown) other than the base material 111, when the laser beam is irradiated, the arbitrary element is heated by the material of the sublimated base material 111 and melted or sublimated. Can occur. Therefore, the polarizing element protective film 110 can be easily cut by the laser beam. Further, when the polarizing element protective film 110 is cut in a state of being bonded to the polarizing element 120 and the retardation film 130, the polarizing element protective film is usually generated by the heat generated by the base material 111 absorbing the laser beam. Not only the 110 but also the polarizing element 120 and the retardation film 130 can be easily cut.

このように、表示装置10は、レーザー光による偏光子保護フィルム110の切断工程を経て、製造することが可能である。レーザー光による偏光子保護フィルム110の切断によれば、切断カスの発生を抑制したり、切断面を滑らかにしたりできる。これにより、偏光子保護フィルム110を備えた表示装置10において、表示品位を高めることが可能である。 As described above, the display device 10 can be manufactured through a step of cutting the polarizing element protective film 110 by a laser beam. By cutting the polarizing element protective film 110 with a laser beam, it is possible to suppress the generation of cutting residue and smooth the cut surface. This makes it possible to improve the display quality in the display device 10 provided with the polarizing element protective film 110.

偏光子保護フィルム110のレーザー光による切断しやすさを評価するために、その切断面を観察するが、その切断面は、下記の評価方法で評価できる。
偏光子保護フィルム110及び偏光子120を、両者を分離せず一体の積層体として、表示装置から取り外す。この積層体を、ガラス板(例えば厚さ0.7mm)に、接着剤を介して貼合する。その後、偏光子保護フィルム側からレーザー光を照射する。このようにレーザー光を照射した状態で、偏光子保護フィルムの切断面を顕微鏡観察することで、前記切断面を評価できる。
In order to evaluate the ease of cutting of the polarizing element protective film 110 with laser light, the cut surface is observed, and the cut surface can be evaluated by the following evaluation method.
The polarizing element protective film 110 and the polarizing element 120 are removed from the display device as an integral laminate without separating them. This laminate is bonded to a glass plate (for example, 0.7 mm thick) via an adhesive. After that, the laser beam is irradiated from the polarizing element protective film side. The cut surface can be evaluated by observing the cut surface of the polarizing element protective film under a microscope while irradiating the laser beam in this way.

[2.偏光子保護フィルム]
レーザー光の吸収を可能にするために、偏光子保護フィルムに含まれる基材は、レーザー吸収剤を含む。また、偏光子保護フィルムは、基材に組み合わせて任意の層を含んでいてもよい。
[2. Polarizer protective film]
In order to enable absorption of laser light, the substrate contained in the polarizing element protective film contains a laser absorber. Further, the polarizing element protective film may contain any layer in combination with the base material.

[2.1.基材]
基材としては、レーザー光による切断が可能なフィルムを用いうる。レーザー光による切断が可能なフィルムとしては、例えば、1)レーザー光の平均吸光度が高い重合体を含むフィルム、及び、2)レーザー光の平均吸光度が低い重合体と、レーザー吸収剤とを含むフィルムが挙げられる。しかし、一般的に、レーザー光の平均吸光度が高い重合体は、極性を有し、吸湿性が高い傾向がある。そのため、基材としては、レーザー光の平均吸光度が低い重合体と、レーザー吸収剤とを含むフィルムが好ましい。
[2.1. Base material]
As the base material, a film that can be cut by laser light can be used. Examples of the film that can be cut by laser light include 1) a film containing a polymer having a high average absorbance of laser light, and 2) a film containing a polymer having a low average absorbance of laser light and a laser absorber. Can be mentioned. However, in general, a polymer having a high average absorbance of laser light tends to have polarity and high hygroscopicity. Therefore, as the base material, a film containing a polymer having a low average absorbance of laser light and a laser absorber is preferable.

レーザー光の吸光度は、「ATR法」を用いて測定することができる。「ATR法」とは、測定対象に対して任意の波長を有するレーザー光を照射し、測定対象の表面で全反射する光を測定することによって、測定対象の表面における吸収スペクトルを得る方法である。照射されるレーザー光の波長範囲内において、任意の波長を有する光の吸光度を、ATR法を用いて測定し、得られた吸光度の平均値を算出することによって平均吸光度として求めることができる。 The absorbance of the laser beam can be measured using the "ATR method". The "ATR method" is a method of obtaining an absorption spectrum on the surface of a measurement target by irradiating the measurement target with a laser beam having an arbitrary wavelength and measuring the light totally reflected by the surface of the measurement target. .. The absorbance of light having an arbitrary wavelength within the wavelength range of the irradiated laser light can be determined as the average absorbance by measuring the absorbance of the light having an arbitrary wavelength by using the ATR method and calculating the average value of the obtained absorbances.

[2.1.1.基材に含まれるレーザー吸収剤]
レーザー吸収剤としては、切断に用いるレーザー光を吸収できる化合物を用いることができる。一般に、工業的にはレーザー光として赤外線レーザー光を用いることが多い。ここで、赤外線レーザー光とは、760nm以上1mm未満の赤外線範囲の波長を有するレーザー光をいう。よって、レーザー吸収剤としては、赤外線レーザー光を吸収可能な化合物を用いることが好ましい。特に、赤外線レーザー光としては、切断面の割れ及び欠けが少なく、作業性が良好であるので、9μm〜11μmの範囲に波長を有するCOレーザー光が広く用いられている。COレーザー光には、波長が10.6μmのものと、波長が9.4μmのものがあり、偏光子保護フィルム及び偏光板の切断加工においては、波長が9.4μmのものを用いることが推奨される。例えば10.6μmのレーザー波長を用いて切断加工した場合に比べ、9.4μmのレーザー波長を用いて切断加工する場合には、偏光板の切断端面に溶融物が突起したり溶融変形したりすることを抑制できるので、切断端面が平滑になる。そのため、レーザー吸収剤としても、9μm〜11μmの範囲に波長を有するレーザー光を吸収可能な化合物を用いることが好ましい。特に9.4μmと10.6μmに吸収極大を有する化合物を用いるのが好ましい。
[2.1.1. Laser absorber contained in the base material]
As the laser absorber, a compound capable of absorbing the laser beam used for cutting can be used. In general, industrially, infrared laser light is often used as laser light. Here, the infrared laser light means a laser light having a wavelength in the infrared range of 760 nm or more and less than 1 mm. Therefore, as the laser absorber, it is preferable to use a compound capable of absorbing infrared laser light. In particular, as the infrared laser light, CO 2 laser light having a wavelength in the range of 9 μm to 11 μm is widely used because there are few cracks and chips on the cut surface and workability is good. There are two types of CO 2 laser light, one with a wavelength of 10.6 μm and the other with a wavelength of 9.4 μm. In the cutting process of the polarizing element protective film and the polarizing plate, the one with a wavelength of 9.4 μm may be used. Recommended. For example, when cutting using a laser wavelength of 9.4 μm as compared to cutting using a laser wavelength of 10.6 μm, melt may protrude or melt and deform on the cut end face of the polarizing plate. Since this can be suppressed, the cut end face becomes smooth. Therefore, as the laser absorber, it is preferable to use a compound capable of absorbing laser light having a wavelength in the range of 9 μm to 11 μm. In particular, it is preferable to use compounds having absorption maximums at 9.4 μm and 10.6 μm.

好ましいレーザー吸収剤としては、エステル化合物が挙げられる。エステル化合物は、通常、極性を有する化合物であり、9μm〜11μmの範囲に波長を有するレーザー光を効果的に吸収することができる。エステル化合物としては、例えば、リン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、アジピン酸エステル化合物などが挙げられる。中でも、COレーザー光を特に効率良く吸収できるようにする観点から、カルボン酸エステル化合物が好ましい。Preferred laser absorbers include ester compounds. Ester compounds are usually polar compounds and can effectively absorb laser light having a wavelength in the range of 9 μm to 11 μm. Examples of the ester compound include a phosphoric acid ester compound, a carboxylic acid ester compound, a phthalate ester compound, and an adipic acid ester compound. Of these, a carboxylic acid ester compound is preferable from the viewpoint of being able to absorb CO 2 laser light particularly efficiently.

上述したエステル化合物の中でも、分子中に芳香環を含むものが好ましく、この芳香環にエステル結合が結合しているものが特に好ましい。このようなエステル化合物は、レーザー光をより効率良く吸収できる。したがって、上述したエステル化合物の中でも、芳香族カルボン酸エステルが好ましく、中でもレーザー光の吸収効率に優れることからジエチレングリコールジベンゾエート及びペンタエリスリトールテトラベンゾエート等の安息香酸エステルが特に好ましい。
このようなエステル化合物としては、例えば、国際公開第2016/31776号に記載のものが挙げられる。
Among the above-mentioned ester compounds, those containing an aromatic ring in the molecule are preferable, and those in which an ester bond is bonded to the aromatic ring are particularly preferable. Such ester compounds can absorb laser light more efficiently. Therefore, among the above-mentioned ester compounds, aromatic carboxylic acid esters are preferable, and benzoic acid esters such as diethylene glycol dibenzoate and pentaerythritol tetrabenzoate are particularly preferable because they are excellent in absorption efficiency of laser light.
Examples of such ester compounds include those described in International Publication No. 2016/31776.

さらに、レーザー吸収剤は、可塑剤として機能できるものが好ましい。一般に、可塑剤は樹脂中において重合体分子の間に容易に入り込める。特に、極性を有するレーザー吸収剤を、極性を有する重合体を含む基材に混合する場合は、海島構造を作ること無く樹脂に良好に分散できる。そのため、樹脂によって基材に含まれる層を形成した場合に、レーザー光の吸収が局所的になることを抑制できるので、基材全体としての切断し易さを向上させることが可能である。一般的に、極性の物質と非極性の物質とを混合する場合、お互い混ざりにくいので、基材全体としてヘイズを生じることがある。 Further, the laser absorber is preferably one that can function as a plasticizer. In general, the plasticizer can easily penetrate between the polymer molecules in the resin. In particular, when a polar laser absorber is mixed with a substrate containing a polar polymer, it can be satisfactorily dispersed in a resin without forming a sea-island structure. Therefore, when the layer contained in the base material is formed of the resin, it is possible to suppress the local absorption of the laser light, so that it is possible to improve the ease of cutting the base material as a whole. Generally, when a polar substance and a non-polar substance are mixed, they are difficult to mix with each other, so that haze may occur as a whole base material.

エステル化合物等のレーザー吸収剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。 As the laser absorber such as an ester compound, one type may be used alone, or two or more types may be used in any combination.

レーザー吸収剤の分子量は、好ましくは300以上、より好ましくは400以上、特に好ましくは500以上であり、好ましくは2200以下、より好ましくは1800以下、特に好ましくは1400以下である。レーザー吸収剤の分子量を前記範囲の下限値以上にすることにより、レーザー吸収剤のブリードアウトを抑制することができる。また、上限値以下にすることにより、レーザー吸収剤を可塑剤として機能し易くさせることができ、更に熱がかかってからのレーザー吸収剤の分子の動き出しを早くできるので、偏光子保護フィルムの切断を容易にすることができる。 The molecular weight of the laser absorber is preferably 300 or more, more preferably 400 or more, particularly preferably 500 or more, preferably 2200 or less, more preferably 1800 or less, and particularly preferably 1400 or less. By setting the molecular weight of the laser absorber to be equal to or higher than the lower limit of the above range, bleed-out of the laser absorber can be suppressed. Further, by setting the value to the upper limit or less, the laser absorber can be made easier to function as a plasticizer, and the molecules of the laser absorber can be started to move faster after heat is applied, so that the polarizing element protective film can be cut. Can be facilitated.

レーザー吸収剤の融点は、好ましくは20℃以上、より好ましくは60℃以上、特に好ましくは100℃以上であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは150℃以下、特に好ましくは120℃以下である。レーザー吸収剤の融点を前記範囲の下限値以上にすることにより、レーザー吸収剤のブリードアウトを抑制することができる。また、上限値以下にすることにより、レーザー吸収剤を可塑剤として機能し易くさせることができ、更に熱がかかってからのレーザー吸収剤の分子の動き出しを早くできるので、偏光子保護フィルムの切断を容易にすることができる。 The melting point of the laser absorber is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, particularly preferably 100 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, and particularly preferably 120 ° C. or lower. .. By setting the melting point of the laser absorber to be equal to or higher than the lower limit of the above range, bleed-out of the laser absorber can be suppressed. Further, by setting the value to the upper limit or less, the laser absorber can be made easier to function as a plasticizer, and the molecules of the laser absorber can be started to move faster after heat is applied, so that the polarizing element protective film can be cut. Can be facilitated.

レーザー吸収剤は、基材の厚み方向において、均一に含まれていてもよい。例えば、基材が1層のみを含む単層構造のフィルムである場合、当該基材がレーザー吸収剤を均一に含んでいることが好ましい。また、基材が複数の層を含む複層構造のフィルムである場合、当該基材に含まれる全ての層がレーザー吸収剤を含んでいてもよい。
また、レーザー吸収剤は、基材の厚み方向において偏在化していてもよく、よって基材の一部のみに含まれていてもよい。例えば、基材が複層構造のフィルムである場合、当該基材に含まれる一部の層のみがレーザー吸収剤を含んでいてもよい。
The laser absorber may be uniformly contained in the thickness direction of the base material. For example, when the base material is a single-layer structure film containing only one layer, it is preferable that the base material uniformly contains the laser absorber. Further, when the base material is a film having a multi-layer structure including a plurality of layers, all the layers contained in the base material may contain a laser absorber.
Further, the laser absorber may be unevenly distributed in the thickness direction of the base material, and thus may be contained only in a part of the base material. For example, when the base material is a film having a multi-layer structure, only a part of the layers contained in the base material may contain a laser absorber.

基材におけるレーザー吸収剤の含有率は、偏光子保護フィルムのレーザー光による切断が可能な範囲で、任意に設定しうる。よって、基材に含まれる層のうち、レーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率は、偏光子保護フィルムのレーザー光による切断が可能な範囲で適切に設定することが好ましい。特に、基材におけるレーザー吸収剤の含有率は、基材が含む重合体が非極性であるか、極性であるかに応じて、設定することが好ましい。 The content of the laser absorber in the substrate can be arbitrarily set within a range in which the polarizing element protective film can be cut by the laser beam. Therefore, among the layers contained in the base material, the content of the laser absorber in the layer containing the laser absorber is preferably set appropriately within a range in which the polarizing element protective film can be cut by the laser beam. In particular, the content of the laser absorber in the base material is preferably set according to whether the polymer contained in the base material is non-polar or polar.

具体的には、基材が含む重合体が非極性の場合は、レーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率は、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは1重量%以上、特に好ましくは2重量%以上であり、好ましくは10重量%以下、より好ましくは9重量%以下、特に好ましくは8重量%以下である。レーザー吸収剤の含有率を前記範囲の下限値以上にすることにより、基材の本来の光学特性、機械的特性を損なうことなく、基材にレーザー光を効率良く吸収できる性質を付与できる。また、上限値以下にすることにより、基材のヘイズを低くできるので、偏光子保護フィルムの透明性を良好にできる。さらに、レーザー光によって偏光子保護フィルムを切断した時に、切断した偏光子保護フィルムの断面が局所的に高温になって熱溶けによる大きな変形が生じることを抑制できる。 Specifically, when the polymer contained in the substrate is non-polar, the content of the laser absorber in the layer containing the laser absorber is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 1% by weight or more. It is particularly preferably 2% by weight or more, preferably 10% by weight or less, more preferably 9% by weight or less, and particularly preferably 8% by weight or less. By setting the content of the laser absorber to the lower limit of the above range or more, it is possible to impart the property of being able to efficiently absorb the laser light to the base material without impairing the original optical characteristics and mechanical characteristics of the base material. Further, by setting the value to the upper limit or less, the haze of the base material can be lowered, so that the transparency of the polarizing element protective film can be improved. Further, when the polarizing element protective film is cut by laser light, it is possible to prevent the cross section of the cut polarizing element protective film from becoming locally hot and causing large deformation due to heat melting.

基材が含む重合体が極性の場合は、レーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率は、混合条件にもよるが、基材が含む重合体が非極性の場合よりも多く混合することができる。レーザー吸収剤により基材にレーザー光を効率良く吸収できる性質を付与できる。また、基材の本来の特性(例えば面内レターデーションや寸法安定性など)を損ない難くする観点から、レーザー吸収剤は多く入れ過ぎないことが望ましい。 When the polymer contained in the base material is polar, the content of the laser absorber in the layer containing the laser absorber is higher than that in the case where the polymer contained in the base material is non-polar, although it depends on the mixing conditions. be able to. The laser absorber can impart the property of efficiently absorbing laser light to the base material. In addition, it is desirable not to add too much laser absorber from the viewpoint of making it difficult to impair the original characteristics of the base material (for example, in-plane retardation and dimensional stability).

フィルムの寸法安定性は、下記の評価方法によって評価できる。
150mm×150mmに裁断したフィルムを試験片とし、長尺のフィルムのMD方向(流れ方向)とTD方向(幅方向)の寸法を計測する。その後、150℃に保持したギヤーオーブン中のタルクバス上にフィルムを水平に置き、30分加熱後のMD方向とTD方向の変形量を測定する。この変形量により、寸法安定性を評価できる。
The dimensional stability of the film can be evaluated by the following evaluation method.
A film cut into 150 mm × 150 mm is used as a test piece, and the dimensions of the long film in the MD direction (flow direction) and the TD direction (width direction) are measured. Then, the film is placed horizontally on a talc bath in a gear oven kept at 150 ° C., and the amount of deformation in the MD direction and the TD direction after heating for 30 minutes is measured. Dimensional stability can be evaluated by this amount of deformation.

[2.1.2.基材に含まれうる重合体]
基材は、上述したレーザー吸収剤に組み合わせて、通常、重合体を含む。具体的には、基材は、通常、重合体を含む一又は二以上の樹脂層を備えたフィルムであり、前記の樹脂層のうちの一部又は全てが、レーザー吸収剤を含む。この際、基材は、耐溶媒性、耐回折性及び引裂き強度を高める観点から、結晶性を有する重合体を含むことが好ましい。特に、結晶性を有する重合体のフィルム、及び、非晶性の重合体のフィルムを、同じ波長で同じ出力のレーザー光で切断した場合には、結晶性を有する重合体のフィルムの方がカールを生じ難い。よって、この観点からも、結晶性を有する重合体が好ましい。ここで、結晶性を有する重合体とは、融点Mpを有する重合体をいう。融点Mpを有する重合体とは、すなわち、示差走査熱量計(DSC)で融点Mpを観測することができる重合体をいう。
[2.1.2. Polymers that can be contained in the substrate]
The substrate usually contains a polymer in combination with the laser absorbers described above. Specifically, the substrate is usually a film with one or more resin layers containing a polymer, and some or all of the above resin layers contain a laser absorber. At this time, the substrate preferably contains a polymer having crystallinity from the viewpoint of enhancing solvent resistance, diffraction resistance and tear strength. In particular, when a crystalline polymer film and an amorphous polymer film are cut with laser light of the same wavelength and the same output, the crystalline polymer film curls. Is unlikely to occur. Therefore, from this viewpoint as well, a polymer having crystallinity is preferable. Here, the polymer having crystallinity means a polymer having a melting point Mp. The polymer having a melting point Mp means a polymer whose melting point Mp can be observed with a differential scanning calorimeter (DSC).

また、基材は、低吸湿性及び低水蒸気透過性などの観点から、重合体として非極性の脂環式構造含有重合体を含むことが好ましい。したがって、基材は、脂環式構造含有重合体を含む樹脂層を備えた単層構造又は複層構造のフィルムであることが好ましい。 Further, the substrate preferably contains a non-polar alicyclic structure-containing polymer as the polymer from the viewpoints of low hygroscopicity and low water vapor permeability. Therefore, the base material is preferably a film having a single-layer structure or a multi-layer structure including a resin layer containing an alicyclic structure-containing polymer.

脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体である。脂環式構造含有重合体は、機械的強度に優れるので、偏光子保護フィルムの衝撃強度を効果的に高めることができる。また、脂環式構造含有重合体は、吸湿性が低いので、偏光子保護フィルムの水蒸気透過率を効果的に小さくできる。さらに、脂環式構造含有重合体は、通常、透明性、寸法安定性及び軽量性に優れる。 The alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in a repeating unit. Since the alicyclic structure-containing polymer is excellent in mechanical strength, the impact strength of the polarizing element protective film can be effectively increased. Further, since the alicyclic structure-containing polymer has low hygroscopicity, the water vapor transmittance of the polarizing element protective film can be effectively reduced. Further, the alicyclic structure-containing polymer is usually excellent in transparency, dimensional stability and light weight.

脂環式構造含有重合体としては、例えば、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得ることができる重合体又はその水素添加物などが挙げられる。また、前記の脂環式構造含有重合体としては、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。 Examples of the alicyclic structure-containing polymer include a polymer obtained by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer or a hydrogenated product thereof. Further, as the alicyclic structure-containing polymer, either a polymer having an alicyclic structure in the main chain or a polymer having an alicyclic structure in the side chain can be used. Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, but the cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of thermal stability and the like.

1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上、より好ましくは6個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にあることで、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。 The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, more preferably 6 or more, preferably 30 or less, and more preferably 20 or less. Particularly preferably, the number is 15 or less. When the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is within the above range, mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced.

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以上、更に好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位の割合を前記のように多くすることにより、耐熱性を高めることができる。
また、脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。
The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, still more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight. That is all. The heat resistance can be improved by increasing the ratio of the repeating unit having an alicyclic structure as described above.
Further, in the alicyclic structure-containing polymer, the balance other than the structural unit having the alicyclic structure is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose of use.

脂環式構造含有重合体としては、結晶性を有するもの、及び、結晶性を有さないもののいずれを用いてもよく、両者を組み合わせて用いてもよい。結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることにより、偏光子保護フィルムの衝撃強度、耐溶媒性、耐回折性、引裂き強度を特に高めることができる。また、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を用いることにより、偏光子保護フィルムの製造コストを下げることができる。 As the alicyclic structure-containing polymer, either one having crystallinity or one having no crystallinity may be used, or both may be used in combination. By using a crystalline alicyclic structure-containing polymer, the impact strength, solvent resistance, diffraction resistance, and tear strength of the polarizing element protective film can be particularly enhanced. Further, by using the alicyclic structure-containing polymer having no crystallinity, the production cost of the polarizing element protective film can be reduced.

結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、例えば、下記の重合体(α)〜重合体(δ)が挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れる偏光子保護フィルムが得られ易いことから、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、重合体(β)が好ましい。
重合体(α):環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(β):重合体(α)の水素添加物であって、結晶性を有するもの。
重合体(γ):環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(δ):重合体(γ)の水素添加物等であって、結晶性を有するもの。
Examples of the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity include the following polymers (α) to polymers (δ). Among these, the polymer (β) is preferable as the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity because it is easy to obtain a polarizing element protective film having excellent heat resistance.
Polymer (α): A ring-opening polymer of a cyclic olefin monomer having crystallinity.
Polymer (β): A hydrogenated product of the polymer (α), which has crystallinity.
Polymer (γ): An addition polymer of a cyclic olefin monomer having crystallinity.
Polymer (δ): A hydrogenated product of the polymer (γ), which has crystallinity.

具体的には、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものがより好ましく、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上、さらに好ましくは100重量%の重合体をいう。 Specifically, as the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity, a ring-opening polymer of dicyclopentadiene having crystallinity and a hydrogenated product of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene. The crystallinity is more preferable, and the hydrogenated additive of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene, which has crystallinity, is particularly preferable. Here, in the open-ring polymer of dicyclopentadiene, the ratio of the structural unit derived from dicyclopentadiene to all the structural units is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more. More preferably, it refers to a polymer of 100% by weight.

結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、偏光子保護フィルムを製造するよりも前においては、結晶化していなくてもよい。しかし、偏光子保護フィルムが製造された後においては、基材に含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、通常、結晶化していることにより、高い結晶化度を有することができる。具体的な結晶化度の範囲は所望の性能に応じて適宜選択しうるが、好ましくは10%以上、より好ましくは15%以上である。基材に含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化度を前記範囲の下限値以上にすることにより、偏光子保護フィルムに高い耐熱性及び耐溶媒性を付与することができる。結晶化度は、X線回折法によって測定しうる。 The alicyclic structure-containing polymer having crystallinity does not have to be crystallized before the polarizing element protective film is produced. However, after the polarizing element protective film is produced, the crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in the substrate can usually have a high crystallinity by being crystallized. .. The specific range of crystallinity can be appropriately selected depending on the desired performance, but is preferably 10% or more, more preferably 15% or more. By setting the crystallinity of the alicyclic structure-containing polymer contained in the substrate to be equal to or higher than the lower limit of the above range, high heat resistance and solvent resistance can be imparted to the polarizing element protective film. The crystallinity can be measured by X-ray diffraction.

偏光子保護フィルムの耐熱性は、耐熱温度によって評価できる。偏光子保護フィルムの耐熱温度は、通常160℃以上、好ましくは180℃以上、より好ましくは200℃以上である。耐熱温度は高いほど好ましいため、耐熱温度の上限に制限は無いが、結晶性の重合体の場合は融点Tm以下である。 The heat resistance of the polarizing element protective film can be evaluated by the heat resistant temperature. The heat resistant temperature of the polarizing element protective film is usually 160 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher, and more preferably 200 ° C. or higher. Since the higher the heat resistant temperature is, the more preferable it is, there is no limit to the upper limit of the heat resistant temperature, but in the case of a crystalline polymer, the melting point is Tm or less.

フィルムの耐熱温度は、下記の評価方法によって評価できる。
試料としてのフィルムに張力を掛けない状態で、そのフィルムをある温度Txの雰囲気下で10分放置する。その後、目視でフィルムの面状を確認する。フィルムの表面の形状に凹凸が確認できなかった場合、そのフィルムの耐熱温度が前記の温度Tx以上であることが分かる。
The heat resistant temperature of the film can be evaluated by the following evaluation method.
The film as a sample is left to stand for 10 minutes in an atmosphere of a certain temperature Tx without applying tension. After that, the surface condition of the film is visually confirmed. When unevenness cannot be confirmed in the shape of the surface of the film, it can be seen that the heat resistant temperature of the film is equal to or higher than the above temperature Tx.

フィルムの耐溶媒性は、下記の評価方法によって評価できる。
試料としてのフィルム(50mm×10mmのサンプル)を切り出し、所定の溶媒を1ml塗布する。塗布から1分後に、フィルムの外観変化の有無を観察して、耐溶媒性を評価できる。
The solvent resistance of the film can be evaluated by the following evaluation method.
A film (50 mm × 10 mm sample) as a sample is cut out, and 1 ml of a predetermined solvent is applied. One minute after application, the presence or absence of a change in the appearance of the film can be observed to evaluate the solvent resistance.

偏光子保護フィルムが耐性を有する溶媒としては、粘着剤又は接着剤に使用される溶媒を用いることができる。この溶媒の具体例としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類;リモネン等の単環状類などが挙げられる。 As the solvent to which the polarizing element protective film has resistance, the solvent used for the pressure-sensitive adhesive or the adhesive can be used. Specific examples of this solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol and cyclohexanol; methyl ethyl ketone. , Methylisobutylketones, ketones such as cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butylacetate, isobutylacetate; monocyclics such as limonene.

一般に、偏光板を製造する場合、偏光子保護フィルムと偏光子とは、溶媒を含む粘着剤又は接着剤で貼合される。この際、仮に、偏光子保護フィルムが溶媒に対する耐性を有していないと、偏光板の品位が劣化し、その結果、表示装置の表示品位が低下することが考えられる。しかし、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いれば、耐溶媒性に優れる偏光子保護フィルムが得られるので、前記のような品位低下を抑制することができる。
偏光子保護フィルムと偏光子とを粘着剤又は接着剤を介して貼合して得られた偏光板が品位の劣化を生じているか否かは、2枚の偏光板を偏光顕微鏡上に配置し、一方の偏光板を回転させた時に白黒の明確性及び光抜けの有無で評価できる。
Generally, when a polarizing plate is manufactured, the polarizing element protective film and the polarizing element are bonded to each other with a pressure-sensitive adhesive or an adhesive containing a solvent. At this time, if the polarizing element protective film does not have resistance to the solvent, the quality of the polarizing plate may be deteriorated, and as a result, the display quality of the display device may be deteriorated. However, if a crystalline alicyclic structure-containing polymer is used, a polarizing element protective film having excellent solvent resistance can be obtained, so that the above-mentioned deterioration in quality can be suppressed.
Whether or not the polarizing plate obtained by bonding the polarizing element protective film and the polarizing element via an adhesive or an adhesive has deteriorated in quality is determined by arranging the two polarizing plates on a polarizing microscope. , It can be evaluated by the clarity of black and white and the presence or absence of light leakage when one of the polarizing plates is rotated.

結晶性を有する脂環式構造含有重合体の融点Mpは、好ましくは200℃以上、より好ましくは230℃以上であり、好ましくは290℃以下である。このような融点Mpを有する結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることによって、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた偏光子保護フィルムを得ることができる。 The melting point Mp of the crystalline alicyclic structure-containing polymer is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 230 ° C. or higher, and preferably 290 ° C. or lower. By using such a crystalline alicyclic structure-containing polymer having a melting point Mp, it is possible to obtain a polarizing element protective film having a better balance between moldability and heat resistance.

結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、耐折性に優れる。よって、偏光子保護フィルムは、好ましくは、耐折性に優れる。偏光子保護フィルムの耐折性は、具体的には、耐折度で表しうる。結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む基材を備えた偏光子保護フィルムの耐折度は、通常2000回以上、好ましくは2200回以上、より好ましくは2400回以上である。耐折度は高いほど好ましいため、耐折度の上限に制限は無いが、耐折度は通常は100000回以下である。 The crystalline alicyclic structure-containing polymer has excellent folding resistance. Therefore, the polarizing element protective film is preferably excellent in folding resistance. Specifically, the folding resistance of the polarizing element protective film can be expressed by the folding resistance. The folding resistance of the polarizing element protective film provided with the substrate containing the alicyclic structure-containing polymer having crystallinity is usually 2000 times or more, preferably 2200 times or more, and more preferably 2400 times or more. Since the higher the folding resistance is, the more preferable it is, there is no limit to the upper limit of the folding resistance, but the folding resistance is usually 100,000 times or less.

耐折度は、JISP8115「紙及び板紙−耐折強さ試験方法−MIT試験機法」に準拠したMIT耐折試験により、下記の方法で測定しうる。
試料としてのフィルムから、幅15mm±0.1mm、長さ約110mmの試験片を切り出す。この際、フィルムがより強く延伸された方向が試験片の約110mmの辺と平行になるように試験片を作製する。そして、MIT耐折度試験機(安田精機製作所製「No.307」)を用いて、荷重9.8N、屈曲部の曲率0.38±0.02mm、折り曲げ角度135°±2°、折り曲げ速度175回/分の条件で、試験片の幅方向に折れ目が現れるように前記の試験片を折り曲げる。この折り曲げを継続し、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を測定する。
The fold resistance can be measured by the following method by the MIT fold resistance test based on JIS P8115 "Paper and Paperboard-Fold Strength Test Method-MIT Test Machine Method".
A test piece having a width of 15 mm ± 0.1 mm and a length of about 110 mm is cut out from the film as a sample. At this time, the test piece is prepared so that the direction in which the film is stretched more strongly is parallel to the side of about 110 mm of the test piece. Then, using a MIT folding resistance tester (“No. 307” manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho), the load is 9.8 N, the curvature of the bent portion is 0.38 ± 0.02 mm, the bending angle is 135 ° ± 2 °, and the bending speed. Bend the test piece so that a crease appears in the width direction of the test piece under the condition of 175 times / minute. This bending is continued, and the number of reciprocating bendings until the test piece breaks is measured.

前記のような結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、例えば、国際公開第2016/067893号に記載の方法により、製造しうる。 The alicyclic structure-containing polymer having crystallinity as described above can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2016/067893.

他方、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体は、例えば、(1)ノルボルネン重合体、(2)単環の環状オレフィン重合体、(3)環状共役ジエン重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこの水素添加物がより好ましい。 On the other hand, the non-crystalline alicyclic structure-containing polymer is, for example, (1) norbornene polymer, (2) monocyclic cyclic olefin polymer, (3) cyclic conjugated diene polymer, (4) vinyl. Examples thereof include alicyclic hydrocarbon polymers and hydrogen additives thereof. Among these, the norbornene polymer and its hydrogenated product are more preferable from the viewpoint of transparency and moldability.

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物;ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が特に好ましい。
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開2002−321302号公報に開示されている重合体から選ばれる。
Examples of the norbornene polymer include a ring-opening polymer of a norbornene monomer, a ring-opening copolymer of a norbornene monomer and another monomer capable of ring-opening copolymerization, and hydrogenating agents thereof; an addition polymer of a norbornene monomer. Examples thereof include an addition copolymer of a norbornene monomer and another copolymerizable monomer. Among these, a ring-opening polymer hydrogenated additive of norbornene monomer is particularly preferable from the viewpoint of transparency.
The above alicyclic structure-containing polymer is selected from, for example, the polymers disclosed in JP-A-2002-321302.

結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂としては、様々な商品が市販されているので、それらのうち、所望の特性を有するものを適宜選択し、使用しうる。かかる市販品の例としては、商品名「ZEONOR」(日本ゼオン株式会社製)、「アートン」(JSR株式会社製)、「アペル」(三井化学株式会社製)、「TOPAS」(ポリプラスチック社製)の製品群が挙げられる。 As a resin containing an alicyclic structure-containing polymer having no crystallinity, various commercial products are commercially available, and among them, those having desired characteristics can be appropriately selected and used. Examples of such commercially available products are the product names "ZEONOR" (manufactured by Zeon Corporation), "Arton" (manufactured by JSR Corporation), "Apel" (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.), and "TOPAS" (manufactured by Polyplastics Co., Ltd.). ) Product group.

上述したものの中でも、重合体としては、低吸湿性及び低い水蒸気透過性の観点から、非極性で、当該重合体単独ではレーザー光の平均吸光度が低いものが好ましい。このようにレーザー光の平均吸光度が低い重合体を用いた場合に、低吸湿性による寸法安定性、及び、レーザー吸収剤を組み合わせたことによる効果を特に有効に活用できる。このようにレーザー光の平均吸光度が低い重合体としては、日本ゼオン社製「ZEONOR」が挙げられる。波長9.2μm〜10.8μmにおいて前記「ZEONOR」からなる環状オレフィンフィルムの平均吸光度を測定したところ、0.05であった。 Among the above-mentioned polymers, those having low polarity and having a low average absorbance of laser light by the polymer alone are preferable from the viewpoint of low hygroscopicity and low water vapor permeability. When a polymer having a low average absorbance of laser light is used as described above, the dimensional stability due to low hygroscopicity and the effect of combining the laser absorber can be particularly effectively utilized. Examples of the polymer having such a low average absorbance of laser light include "ZEONOR" manufactured by Zeon Corporation. The average absorbance of the cyclic olefin film made of "ZEONOR" was measured at a wavelength of 9.2 μm to 10.8 μm and found to be 0.05.

重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 As the polymer, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

重合体のガラス転移温度Tgは、好ましくは80℃以上、より好ましくは85℃以上、更に好ましくは100℃以上であり、好ましくは250℃以下、より好ましくは170℃以下である。ガラス転移温度がこのような範囲にある重合体は、高温下での使用における変形及び応力が生じ難く、耐久性に優れる。 The glass transition temperature Tg of the polymer is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 85 ° C. or higher, further preferably 100 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or lower, and more preferably 170 ° C. or lower. A polymer having a glass transition temperature in such a range is less likely to be deformed and stressed when used at a high temperature, and is excellent in durability.

重合体の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000以上、より好ましくは2,000以上、更に好ましくは10,000以上、特に好ましくは25,000以上であり、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下、更に好ましくは100,000以下、中でも好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。このような重量平均分子量を有する重合体は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。 The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, still more preferably 10,000 or more, particularly preferably 25,000 or more, and preferably 1,000, It is 000 or less, more preferably 500,000 or less, still more preferably 100,000 or less, particularly preferably 80,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less. A polymer having such a weight average molecular weight has an excellent balance between molding processability and heat resistance.

重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1.0以上、より好ましくは1.2以上、特に好ましくは1.5以上であり、好ましくは10以下、より好ましくは4.0以下、更に好ましくは3.5以下である。ここで、Mnは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する重合体は、成形加工性に優れる。 The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer is preferably 1.0 or more, more preferably 1.2 or more, particularly preferably 1.5 or more, preferably 10 or less, and more preferably 4.0 or less. More preferably, it is 3.5 or less. Here, Mn represents a number average molecular weight. A polymer having such a molecular weight distribution is excellent in molding processability.

前記の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより、ポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量として測定しうる。但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合には、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーの溶媒としてトルエンを用いてもよい。 The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be measured as polyisoprene or polystyrene-equivalent weight average molecular weight by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent. However, if the sample is insoluble in cyclohexane, toluene may be used as the solvent for gel permeation chromatography.

基材における重合体の含有率は、偏光子保護フィルムに求められる特性に応じて、任意に設定しうる。よって、基材に含まれる層のうち、重合体を含む層での当該重合体の含有率は、偏光子保護フィルムに求められる特性に応じて適切に設定することが好ましい。具体的には、重合体を含む層での当該重合体の含有率は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上、更に好ましは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。 The content of the polymer in the substrate can be arbitrarily set according to the characteristics required for the polarizing element protective film. Therefore, among the layers contained in the substrate, the content of the polymer in the layer containing the polymer is preferably set appropriately according to the characteristics required for the polarizing element protective film. Specifically, the content of the polymer in the layer containing the polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, still more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight. That is all.

[2.1.3.基材に含まれうる樹脂層]
図2は、基材に含まれうる樹脂層の一例を模式的に示す断面図である。図2に示すように、基材に含まれる樹脂層200は、好ましくは、第一外側層210と、第二外側層220と、前記の第一外側層210及び第二外側層220の間に設けられた中間層230と、を含む。この樹脂層200は、必要に応じて、第一外側層210、中間層230及び第二外側層220以外の任意の層を備えていてもよいが、厚みを薄くする観点から、任意の層を備えない3層構造の層であることが好ましい。このような樹脂層200では、通常、第一外側層210と中間層230とは、間に他の層を介することなく直接に接しており、中間層230と第二外側層220とは、間に他の層を介することなく直接に接している。
[2.1.3. Resin layer that can be contained in the base material]
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a resin layer that can be contained in a base material. As shown in FIG. 2, the resin layer 200 contained in the base material is preferably between the first outer layer 210, the second outer layer 220, and the first outer layer 210 and the second outer layer 220. Includes the provided intermediate layer 230. The resin layer 200 may include any layer other than the first outer layer 210, the intermediate layer 230, and the second outer layer 220, if necessary, but from the viewpoint of reducing the thickness, any layer may be provided. It is preferable that the layer has a three-layer structure. In such a resin layer 200, the first outer layer 210 and the intermediate layer 230 are usually in direct contact with each other without interposing another layer, and the intermediate layer 230 and the second outer layer 220 are in direct contact with each other. Is in direct contact with the plastic without going through other layers.

図2に示すように第一外側層210と第二外側層220と中間層230とを含む樹脂層200がレーザー吸収剤を含む場合、このレーザー吸収剤は、通常、中間層230に含まれる。中間層230に含まれるレーザー吸収剤は、第一外側層210及び第二外側層220によって移動を妨げられるので、前記の樹脂層200では、レーザー吸収剤のブリードアウトを抑制できる。 When the resin layer 200 including the first outer layer 210, the second outer layer 220, and the intermediate layer 230 contains a laser absorber as shown in FIG. 2, the laser absorber is usually contained in the intermediate layer 230. Since the laser absorber contained in the intermediate layer 230 is prevented from moving by the first outer layer 210 and the second outer layer 220, the resin layer 200 can suppress the bleed-out of the laser absorber.

中間層230は、通常、重合体を含む樹脂によって形成される。以下、中間層230を形成する樹脂を、適宜「中間樹脂」という。中間樹脂に含まれる重合体としては、樹脂層200の製造が容易であることから、熱可塑性の重合体を用いることが好ましい。このような重合体としては、機械特性、耐熱性、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れることから、脂環式構造含有重合体が好ましい。また、重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
中間層230における重合体の含有率は、好ましくは80.0重量%以上、より好ましくは82.0重量%以上、特に好ましくは85.0重量%以上であり、好ましくは97.0重量%以下、より好ましくは96.0重量%以下、特に好ましくは95.0重量%以下である。
The intermediate layer 230 is usually formed of a resin containing a polymer. Hereinafter, the resin forming the intermediate layer 230 is appropriately referred to as an "intermediate resin". As the polymer contained in the intermediate resin, it is preferable to use a thermoplastic polymer because the resin layer 200 can be easily produced. As such a polymer, an alicyclic structure-containing polymer is preferable because it is excellent in mechanical properties, heat resistance, transparency, low hygroscopicity, dimensional stability and light weight. In addition, one type of polymer may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.
The content of the polymer in the intermediate layer 230 is preferably 80.0% by weight or more, more preferably 82.0% by weight or more, particularly preferably 85.0% by weight or more, and preferably 97.0% by weight or less. , More preferably 96.0% by weight or less, and particularly preferably 95.0% by weight or less.

また、中間層230は、前記のように、レーザー吸収剤を含みうる。中間層230におけるレーザー吸収剤の量は、基材に含まれる層のうちレーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率の範囲として上述した範囲から、適切に設定しうる。具体的には、中間層230におけるレーザー吸収剤の量は、好ましくは0.1重量%以上、特に好ましくは1.0重量%以上、好ましくは10.0重量%以下、特に好ましくは8.0重量%以下である。 Further, the intermediate layer 230 may contain a laser absorber as described above. The amount of the laser absorber in the intermediate layer 230 can be appropriately set from the above-mentioned range as the range of the content of the laser absorber in the layer containing the laser absorber among the layers contained in the base material. Specifically, the amount of the laser absorber in the intermediate layer 230 is preferably 0.1% by weight or more, particularly preferably 1.0% by weight or more, preferably 10.0% by weight or less, and particularly preferably 8.0. It is less than% by weight.

中間層230は、重合体及びレーザー吸収剤に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤を含む中間層230は、紫外線の透過を妨げることができるので、表示装置に含まれる部材の紫外線による劣化を抑制することが可能である。したがって、外光に含まれる紫外線による偏光子の着色を抑制したり、バックライトからの紫外線を抑制して表示素子の長寿命化を達成したりすることができる。また、中間層230が紫外線吸収剤を含む場合には、紫外線吸収剤のブリードアウトの抑制が可能であるので、中間層230における紫外線吸収剤の濃度を高めたり、紫外線吸収剤の種類の選択の幅を広げたりできる。よって、樹脂層200の厚みが薄くても、紫外線の透過抑制能力を高めることが可能である。 The intermediate layer 230 may further contain any component in combination with the polymer and the laser absorber. Optional components include, for example, UV absorbers. Since the intermediate layer 230 containing the ultraviolet absorber can prevent the transmission of ultraviolet rays, it is possible to suppress the deterioration of the members included in the display device due to ultraviolet rays. Therefore, it is possible to suppress the coloring of the polarizing element by the ultraviolet rays contained in the external light, or to suppress the ultraviolet rays from the backlight to achieve a long life of the display element. Further, when the intermediate layer 230 contains an ultraviolet absorber, it is possible to suppress the bleed-out of the ultraviolet absorber, so that the concentration of the ultraviolet absorber in the intermediate layer 230 can be increased or the type of the ultraviolet absorber can be selected. You can widen the width. Therefore, even if the thickness of the resin layer 200 is thin, it is possible to enhance the ability to suppress the transmission of ultraviolet rays.

さらに、レーザー吸収剤と紫外線吸収剤とを組み合わせることで、樹脂の面内レターデーション及び切り出した寸法等の特性の変化を抑え、基材にレーザー光を効率良く吸収できる性質を付与できる。また、基材の物性(面内レターデーション、寸法変化、内部ヘイズ等)の変化を抑制することができる。さらに、製膜プロセスにおいて膜厚ムラを小さくすることができる。特に、結晶性を有する重合体を、レーザー吸収剤及び紫外線吸収剤と組み合わせた場合に、前記の物性変化の抑制等の作用を顕著に得ることができる。一般に、レーザー光の平均吸光度が低い非極性の重合体(例えば、脂環式構造含有重合体)を極性の化合物(例えば、エステル化合物)と混合しても、分散性が不十分となり、前記の物性変化が生じ易い傾向があるというのが、当業者の技術的認識であった。よって、前記の作用は、従来の技術常識からすれば意外なものである。レーザー吸収剤と紫外線吸収剤とを組み合わせて用いることによりこのような効果が得られる理由はよく分かっていないが、適度なレーザー吸収剤と紫外線吸収剤とが、中間層230において可塑剤のように働き、製膜プロセルに対して有利な効果をもたらしているものと考えられる。 Further, by combining the laser absorber and the ultraviolet absorber, it is possible to suppress changes in characteristics such as the in-plane retardation of the resin and the cut-out dimensions, and to impart the property of efficiently absorbing the laser light to the base material. In addition, changes in the physical properties of the base material (in-plane retardation, dimensional change, internal haze, etc.) can be suppressed. Further, the film thickness unevenness can be reduced in the film forming process. In particular, when a polymer having crystallinity is combined with a laser absorber and an ultraviolet absorber, the above-mentioned effects such as suppression of changes in physical properties can be remarkably obtained. In general, even if a non-polar polymer having a low average absorbance of laser light (for example, an alicyclic structure-containing polymer) is mixed with a polar compound (for example, an ester compound), the dispersibility becomes insufficient, and the above-mentioned It was the technical recognition of those skilled in the art that physical properties tended to change easily. Therefore, the above-mentioned action is unexpected from the conventional common general technical knowledge. The reason why such an effect can be obtained by using a laser absorber and an ultraviolet absorber in combination is not well understood, but an appropriate laser absorber and an ultraviolet absorber are used in the intermediate layer 230 like a plasticizer. It is considered that it works and has an advantageous effect on the film-forming protease.

中間層230におけるレーザー吸収剤と紫外線吸収剤の合計量は、好ましくは8.0重量%以上、特に好ましくは10.0重量%以上、好ましくは20.0重量%以下、特に好ましくは16.0重量%以下である。レーザー吸収剤と紫外線吸収剤の合計量が前記範囲に収まることにより、樹脂のレターデーション等の物性変化を抑え、コンパウンド製造時にダイスからの漏れも少なく、フィッシュアイの発生抑制や樹脂の焼けを抑制することができる。 The total amount of the laser absorber and the ultraviolet absorber in the intermediate layer 230 is preferably 8.0% by weight or more, particularly preferably 10.0% by weight or more, preferably 20.0% by weight or less, and particularly preferably 16.0. It is less than% by weight. By keeping the total amount of the laser absorber and the ultraviolet absorber within the above range, changes in physical properties such as resin retardation are suppressed, leakage from the die during compound production is small, fish eye generation is suppressed, and resin burning is suppressed. can do.

紫外線吸収剤としては、紫外線を吸収できる化合物を用いうる。通常、このような紫外線吸収剤として、有機化合物を用いる。以下、有機化合物としての紫外線吸収剤を「有機紫外線吸収剤」ということがある。有機紫外線吸収剤を用いることにより、通常は、基材の可視波長における光線透過率を高めたり、基材のヘイズを小さくしたりできる。そのため、表示装置の表示性能を良好にできる。 As the ultraviolet absorber, a compound capable of absorbing ultraviolet rays can be used. Usually, an organic compound is used as such an ultraviolet absorber. Hereinafter, the ultraviolet absorber as an organic compound may be referred to as an "organic ultraviolet absorber". By using an organic ultraviolet absorber, it is usually possible to increase the light transmittance of the substrate at a visible wavelength and reduce the haze of the substrate. Therefore, the display performance of the display device can be improved.

有機紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、アゾメチン系紫外線吸収剤、インドール系紫外線吸収剤、ナフタルイミド系紫外線吸収剤、フタロシアニン系紫外線吸収剤等が挙げられる。 Examples of the organic UV absorber include triazine-based UV absorbers, benzophenone-based UV absorbers, benzotriazole-based UV absorbers, acrylonitrile-based UV absorbers, salicylate-based UV absorbers, cyanoacrylate-based UV absorbers, and azomethine-based UV absorbers. Examples thereof include an absorbent, an indole-based ultraviolet absorber, a naphthalimide-based ultraviolet absorber, and a phthalocyanine-based ultraviolet absorber.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、1,3,5−トリアジン環を有する化合物が好ましい。トリアジン系紫外線吸収剤の具体例としては、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(へキシル)オキシ]−フェノール、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。このようなトリアジン系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、チバスペシャリティーケミカルズ社製「チヌビン1577」、ADEKA社製「LA−F70」、「LA−46」などが挙げられる。 As the triazine-based ultraviolet absorber, for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring is preferable. Specific examples of the triazine-based UV absorber include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazine-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, 2,4-bis. (2-Hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine and the like can be mentioned. Examples of commercially available products of such triazine-based ultraviolet absorbers include "Chinubin 1577" manufactured by Ciba Specialty Chemicals, "LA-F70" and "LA-46" manufactured by ADEKA.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−[5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−6−(tert−ブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミジルメチル)フェノール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖および側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール等が挙げられる。このようなトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ADEKA社製「アデカスタブLA−31」、チバスペシャリティーケミカルズ社製「TINUVIN326」などが挙げられる。 Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazole-2-yl) phenol], 2 -(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazole-2) -Il) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2-benzotriazole-2-yl-4,6-di-tert-butylphenol, 2- [5-chloro (2H)- Benzotriazole-2-yl] -4-methyl-6- (tert-butyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-di-tert-butylphenol, 2- (2H-benzo Triazole-2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4-methyl-6- (3,4,5,5) 6-Tetrahydrophthalimidylmethyl) phenol, methyl 3- (3- (2H-benzotriazole-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate / polyethylene glycol 300 reaction product, 2- Examples thereof include (2H-benzotriazole-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol. Examples of commercially available products of such triazole-based ultraviolet absorbers include "ADEKA STAB LA-31" manufactured by ADEKA and "TINUVIN 326" manufactured by Ciba Specialty Chemicals.

アゾメチン系紫外線吸収剤としては、例えば、特許第3366697号公報に記載の材料を例示することができ、市販品としては、例えば、オリエント化学社製「BONASORB UA−3701」などが挙げられる。 Examples of the azomethine-based ultraviolet absorber include the materials described in Japanese Patent No. 3366697, and examples of commercially available products include "BONASORB UA-3701" manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.

インドール系紫外線吸収剤としては、例えば、特許第2846091号公報に記載の材料を例示することができ、市販品としては、例えば、オリエント化学社製「BONASORB UA−3911」、「BONASORB UA−3912」などが挙げられる。 Examples of the indole-based ultraviolet absorber include the materials described in Japanese Patent No. 2846091, and examples of commercially available products include "BONASORB UA-3911" and "BONASORB UA-3912" manufactured by Orient Chemical Co., Ltd. And so on.

フタロシアニン系紫外線吸収剤としては、例えば、特許第4403257号公報、特許第3286905号公報に記載の材料を例示することができ、市販品としては、例えば、山田化学工業社製「FDB001」、「FDB002」などが挙げられる。 Examples of the phthalocyanine-based ultraviolet absorber include the materials described in Japanese Patent No. 4403257 and Japanese Patent No. 3286905, and examples of commercially available products include "FDB001" and "FDB002" manufactured by Yamada Chemical Industry Co., Ltd. "And so on.

特に好ましい紫外線吸収剤としては、トリアジン系紫外線吸収剤であるASDEKA社製「LA−F70」;アゾメチン系紫外線吸収剤であるオリエンタル化学工業「UA−3701」;並びに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であるBASF社製「Tinuvin326」及びADEKA社製「LA−31」が挙げられる。これらは、紫外線吸収能力に特に優れるので、量が少なくても高い紫外線遮断能力を有する樹脂層200を得ることができる。 Particularly preferable UV absorbers are "LA-F70" manufactured by ASDEKA, which is a triazine-based UV absorber; Oriental Chemical Industry "UA-3701", which is an azomethine-based UV absorber; and a benzotriazole-based UV absorber. Examples thereof include "Tinuvin 326" manufactured by BASF and "LA-31" manufactured by ADEKA. Since these are particularly excellent in ultraviolet absorbing ability, it is possible to obtain a resin layer 200 having high ultraviolet blocking ability even if the amount is small.

紫外線吸収剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 As the ultraviolet absorber, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

中間層230における紫外線吸収剤の量は、好ましくは3重量%以上、より好ましくは4重量%以上、特に好ましくは5重量%以上であり、好ましくは20重量%以下、より好ましくは18重量%以下、特に好ましくは16重量%以下である。紫外線吸収剤の量が、前記範囲の下限値以上であることにより、樹脂層200によって紫外線の透過を効果的に抑制できる。また、紫外線の量が、前記範囲の上限値以下であることによって、樹脂層200の可視波長における光線透過率を高くし易い。また、樹脂層200の製造時に、紫外線吸収剤による樹脂のゲル化を抑制できるので、樹脂層200でのフィッシュアイの発生を抑制し易い。ここで、フィッシュアイとは、層の内部に生じうる異物のことをいう。 The amount of the ultraviolet absorber in the intermediate layer 230 is preferably 3% by weight or more, more preferably 4% by weight or more, particularly preferably 5% by weight or more, preferably 20% by weight or less, and more preferably 18% by weight or less. Particularly preferably, it is 16% by weight or less. When the amount of the ultraviolet absorber is not less than the lower limit of the above range, the resin layer 200 can effectively suppress the transmission of ultraviolet rays. Further, when the amount of ultraviolet rays is not more than the upper limit of the above range, it is easy to increase the light transmittance of the resin layer 200 at the visible wavelength. Further, since the gelation of the resin due to the ultraviolet absorber can be suppressed during the production of the resin layer 200, it is easy to suppress the generation of fish eyes in the resin layer 200. Here, the fisheye refers to a foreign substance that may occur inside the layer.

さらに、任意の成分の別の例としては、例えば、顔料、染料等の着色剤;可塑剤;蛍光増白剤;分散剤;滑剤;熱安定剤;光安定剤;帯電防止剤;酸化防止剤;界面活性剤等の配合剤が挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Further, as another example of any component, for example, a colorant such as a pigment or a dye; a plasticizer; a fluorescent whitening agent; a dispersant; a lubricant; a heat stabilizer; a light stabilizer; an antistatic agent; an antioxidant; ; Examples include compounding agents such as surfactants. One of these may be used alone, or two or more of them may be used in combination at any ratio.

中間樹脂のガラス転移温度Tgは、好ましくは100℃以上、より好ましくは120℃以上、特に好ましくは140℃以上であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは170℃以下、特に好ましくは165℃以下である。中間樹脂のガラス転移温度Tgが、前記範囲に収まることにより、中間層230のレターデーションなどの物性変化を抑えたり、中間層230の製造時に膜厚を安定させて膜厚ムラの少ない製膜を可能にしたりできる。The glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, particularly preferably 140 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower, and particularly preferably 165 ° C. It is as follows. By keeping the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin within the above range, changes in physical properties such as retardation of the intermediate layer 230 can be suppressed, and the film thickness can be stabilized during the production of the intermediate layer 230 to form a film with less film thickness unevenness. Can be made possible.

中間層230の厚みT230は、樹脂層200の厚みT200に対する中間層230の厚みT230の比T230/T200が、所定の範囲に収まるように設定されることが好ましい。具体的には、前記の厚み比T230/T200は、好ましくは1/4以上、より好ましくは2/4以上であり、好ましくは80/82以下、より好ましくは79/82以下、特に好ましくは78/82以下である。厚み比が、前記下限値以上であることにより、樹脂層200によってレーザー光を効果的に吸収できる。また、中間層230が紫外線吸収剤を含む場合には、紫外線の透過を効果的に抑制できる。また、厚み比が、前記上限値以下であることにより、第一外側層210及び第二外側層220を厚くできるので、レーザー吸収剤及び紫外線吸収剤のブリードアウトを安定して抑制したり、樹脂層200の製造を容易に行ったりできる。The thickness T 230 of the intermediate layer 230, the ratio T 230 / T 200 thickness T 230 of the intermediate layer 230 to the thickness T 200 of the resin layer 200 is preferably set to fall in a predetermined range. Specifically, the thickness ratio T 230 / T 200 is preferably 1/4 or more, more preferably 2/4 or more, preferably 80/82 or less, more preferably 79/82 or less, and particularly preferably. Is 78/82 or less. When the thickness ratio is equal to or higher than the lower limit, the resin layer 200 can effectively absorb the laser beam. Further, when the intermediate layer 230 contains an ultraviolet absorber, the transmission of ultraviolet rays can be effectively suppressed. Further, when the thickness ratio is not more than the upper limit value, the first outer layer 210 and the second outer layer 220 can be made thicker, so that the bleed-out of the laser absorber and the ultraviolet absorber can be stably suppressed, or the resin can be suppressed. The layer 200 can be easily manufactured.

複数の層を含む樹脂層での各層の厚みは、次の方法で測定しうる。樹脂層をエポキシ樹脂で包埋して、試料片を用意する。この試料片を、ミクロトームを用いて厚み0.05μmにスライスする。その後、スライスにより現れた断面を顕微鏡を用いて観察することで、樹脂層に含まれる各層の厚みを測定しうる。 The thickness of each layer in the resin layer including a plurality of layers can be measured by the following method. A sample piece is prepared by embedding the resin layer with epoxy resin. This sample piece is sliced to a thickness of 0.05 μm using a microtome. Then, by observing the cross section appeared by the slice with a microscope, the thickness of each layer contained in the resin layer can be measured.

第一外側層210は、通常、重合体を含む樹脂で形成される。以下、第一外側層210を形成する樹脂を、適宜「第一外側樹脂」という。第一外側樹脂は、中間層230に含まれる中間樹脂よりもレーザー吸収剤の含有率が低いことが好ましく、レーザー吸収剤を含まないことがより好ましい。さらに、第一外側樹脂は、中間層230に含まれる中間樹脂よりも紫外線吸収剤の含有率が低いことが好ましく、紫外線吸収剤を含まないことがより好ましい。 The first outer layer 210 is usually formed of a resin containing a polymer. Hereinafter, the resin forming the first outer layer 210 is appropriately referred to as “first outer resin”. The first outer resin preferably has a lower content of the laser absorber than the intermediate resin contained in the intermediate layer 230, and more preferably does not contain the laser absorber. Further, the first outer resin preferably has a lower content of the ultraviolet absorber than the intermediate resin contained in the intermediate layer 230, and more preferably does not contain the ultraviolet absorber.

第一外側樹脂に含まれる重合体としては、中間樹脂に含まれる重合体と同一の重合体を用いることが好ましい。これにより、中間層230と第一外側層210との接着強度を高めたり、中間層230と第一外側層210との界面での光の反射を抑制したりし易い。
第一外側層210における重合体の量は、好ましくは90.0重量%〜100重量%、より好ましくは95.0重量%〜100重量%である。
As the polymer contained in the first outer resin, it is preferable to use the same polymer as the polymer contained in the intermediate resin. This makes it easy to increase the adhesive strength between the intermediate layer 230 and the first outer layer 210 and suppress the reflection of light at the interface between the intermediate layer 230 and the first outer layer 210.
The amount of the polymer in the first outer layer 210 is preferably 90.0% by weight to 100% by weight, more preferably 95.0% by weight to 100% by weight.

第一外側樹脂は、重合体に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、中間層230が含みうる任意の成分として挙げたのと同様の成分が挙げられる。 The first outer resin may further contain any component in combination with the polymer. As the optional component, for example, the same component as mentioned as an arbitrary component that can be contained in the intermediate layer 230 can be mentioned.

第一外側樹脂のガラス転移温度TgO1は、中間樹脂のガラス転移温度Tgよりも低いことが好ましい。さらに、第一外側樹脂のガラス転移温度TgO1と中間樹脂のガラス転移温度Tgとの差Tg−TgO1は、好ましくは30℃以上、より好ましくは33℃以上、特に好ましくは35℃以上である。ガラス転移温度の差Tg−TgO1が前記範囲に収まることにより、中間樹脂に含まれる添加剤の第一外側樹脂へのブリード量を抑制することができる。ガラス転移温度の差Tg−TgO1の上限は、好ましくは55℃以下、より好ましくは50℃以下、特に好ましくは45℃以下である。ガラス転移温度の差Tg−TgO1が前記の上限値以下であることにより、第一外側樹脂と中間樹脂の密着性を向上させることができる。The glass transition temperature Tg O1 of the first outer resin is preferably lower than the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin. Further, the difference Tg C − Tg O1 between the glass transition temperature Tg O1 of the first outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 33 ° C. or higher, and particularly preferably 35 ° C. or higher. Is. When the difference in glass transition temperature Tg C − Tg O1 is within the above range, the amount of bleeding of the additive contained in the intermediate resin to the first outer resin can be suppressed. The upper limit of the difference in glass transition temperature Tg C − Tg O1 is preferably 55 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower, and particularly preferably 45 ° C. or lower. When the difference Tg C − Tg O1 of the glass transition temperature is not more than the above upper limit value, the adhesion between the first outer resin and the intermediate resin can be improved.

ガラス転移温度の差Tg−TgO1を上述した条件で調整する方法は、特に制限は無い。例えば、中間樹脂が重合体以外の成分(例えば、レーザー吸収剤、任意の成分)を含む場合、その重合体以外の成分の種類及び量によって、中間樹脂のガラス転移温度Tgを調整できる。そこで、中間樹脂が含む重合体以外の成分の種類及び量の調整によって、前記のガラス転移温度の差Tg−TgO1を調整してもよい。The method for adjusting the difference in glass transition temperature Tg C − Tg O1 under the above-mentioned conditions is not particularly limited. For example, when the intermediate resin contains a component other than the polymer (for example, a laser absorber, an arbitrary component), the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin can be adjusted by the type and amount of the component other than the polymer. Therefore, the difference Tg C − Tg O1 in the glass transition temperature may be adjusted by adjusting the type and amount of the components other than the polymer contained in the intermediate resin.

第一外側層210の厚みは、好ましくは3μm以上、より好ましくは5μm以上、特に好ましくは7μm以上であり、好ましくは15μm以下、より好ましくは13μm以下、特に好ましくは10μm以下である。第一外側層210の厚みが、前記範囲の下限値以上であることにより、中間層230に含まれる成分のブリードアウトを効果的に抑制できる。また、第一外側層210の厚みが、前記範囲の上限値以下であることにより、樹脂層200を薄くできる。 The thickness of the first outer layer 210 is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, particularly preferably 7 μm or more, preferably 15 μm or less, more preferably 13 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less. When the thickness of the first outer layer 210 is equal to or greater than the lower limit of the above range, bleed-out of the components contained in the intermediate layer 230 can be effectively suppressed. Further, when the thickness of the first outer layer 210 is not more than the upper limit of the above range, the resin layer 200 can be thinned.

第二外側層220は、通常、重合体を含む樹脂で形成される。以下、第二外側層220を形成する樹脂を、適宜「第二外側樹脂」という。第二外側樹脂としては、第一外側樹脂として説明した樹脂の範囲から選択される任意の樹脂を用いうる。したがって、第二外側樹脂の含有成分は、第一外側樹脂の含有成分として説明した範囲から選択して適用しうる。これにより、第一外側層210の説明に記載したのと同様の利点を得ることができる。 The second outer layer 220 is usually formed of a resin containing a polymer. Hereinafter, the resin forming the second outer layer 220 is appropriately referred to as “second outer resin”. As the second outer resin, any resin selected from the range of resins described as the first outer resin can be used. Therefore, the component contained in the second outer resin can be selected and applied from the range described as the component contained in the first outer resin. Thereby, the same advantages as described in the description of the first outer layer 210 can be obtained.

第二外側樹脂のガラス転移温度TgO2は、中間樹脂のガラス転移温度Tgよりも低いことが好ましい。さらに、第二外側樹脂のガラス転移温度TgO2と中間樹脂のガラス転移温度Tgとの差Tg−TgO2は、好ましくは30℃以上、より好ましくは33℃以上、特に好ましくは35℃以上である。これにより、中間樹脂に含まれる添加剤の第二外側樹脂へのブリード量を抑制することができる。ガラス転移温度の差Tg−TgO2の上限は、好ましくは55℃以下、より好ましくは50℃以下、特に好ましくは45℃以下である。ガラス転移温度の差Tg−TgO2が前記の上限値以下であることにより、第二外側樹脂と中間樹脂の密着性を向上させることができる。
前記のガラス転移温度の差Tg−TgO2は、例えば、ガラス転移温度の差Tg−TgO1と同様の方法で調整できる。
The glass transition temperature Tg O2 of the second outer resin is preferably lower than the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin. Further, the difference Tg C − Tg O2 between the glass transition temperature Tg O2 of the second outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 33 ° C. or higher, and particularly preferably 35 ° C. or higher. Is. As a result, the amount of bleeding of the additive contained in the intermediate resin to the second outer resin can be suppressed. The upper limit of the difference in glass transition temperature Tg C − Tg O2 is preferably 55 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower, and particularly preferably 45 ° C. or lower. When the difference Tg C − Tg O2 of the glass transition temperature is not more than the above upper limit value, the adhesion between the second outer resin and the intermediate resin can be improved.
The above-mentioned difference in glass transition temperature Tg C- Tg O2 can be adjusted in the same manner as, for example, the difference in glass transition temperature Tg C- Tg O1.

第二外側樹脂は、第一外側樹脂と異なる樹脂であってもよく、第一外側樹脂と同一の樹脂であってもよい。中でも、第一外側樹脂及び第二外側樹脂として同一の樹脂を用いることが好ましい。第一外側樹脂及び第二外側樹脂として同一の樹脂を用いることにより、樹脂層200の製造コストを抑制したり、基材のカールを抑制したりできる。 The second outer resin may be a resin different from the first outer resin, or may be the same resin as the first outer resin. Above all, it is preferable to use the same resin as the first outer resin and the second outer resin. By using the same resin as the first outer resin and the second outer resin, it is possible to suppress the manufacturing cost of the resin layer 200 and suppress the curl of the base material.

第二外側層220の厚みは、第一外側層210の厚みの範囲として説明した範囲から選択される任意の厚みにしうる。これにより、第一外側層210の厚みの説明で記載したのと同様の利点を得ることができる。中でも、基材のカールを抑制するためには、第二外側層220の厚みは、第一外側層210と同一にすることが好ましい。 The thickness of the second outer layer 220 can be any thickness selected from the range described as the range of thickness of the first outer layer 210. Thereby, the same advantages as described in the description of the thickness of the first outer layer 210 can be obtained. Above all, in order to suppress the curl of the base material, it is preferable that the thickness of the second outer layer 220 is the same as that of the first outer layer 210.

また、基材に含まれる樹脂層は、図2に示した樹脂層200のように2層以上の層を含む複層構造の層に限られず、1層のみを含む単層構造の層であってもよい。例えば、樹脂層は、重合体及びレーザー吸収剤を含み、更に必要に応じて紫外線吸収剤等の任意の成分を含む樹脂によって形成された単層構造の層であってもよい。具体例を挙げると、上述した中間層自体を、単独で、樹脂層として用いてもよい。 Further, the resin layer contained in the base material is not limited to a multi-layer structure including two or more layers as in the resin layer 200 shown in FIG. 2, but is a single-layer structure including only one layer. You may. For example, the resin layer may be a single-layered layer containing a polymer and a laser absorber, and if necessary, a resin containing an arbitrary component such as an ultraviolet absorber. As a specific example, the above-mentioned intermediate layer itself may be used alone as a resin layer.

樹脂層が含む揮発性成分の量は、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下である。揮発性成分の量が前記範囲にあることにより、樹脂層の寸法安定性が向上し、レターデーション等の光学特性の経時変化を小さくすることができる。さらには、偏光子及び表示装置の劣化を抑制でき、長期的に表示装置の表示を安定で良好に保つことができる。ここで、揮発性成分は、分子量200以下の物質である。揮発性成分としては、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の量は、分子量200以下の物質の合計として、ガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量しうる。 The amount of the volatile component contained in the resin layer is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, still more preferably 0.02% by weight or less. When the amount of the volatile component is within the above range, the dimensional stability of the resin layer is improved, and the change over time of optical properties such as retardation can be reduced. Furthermore, deterioration of the polarizing element and the display device can be suppressed, and the display of the display device can be kept stable and good for a long period of time. Here, the volatile component is a substance having a molecular weight of 200 or less. Examples of the volatile component include residual monomers and solvents. The amount of volatile components can be quantified by analysis by gas chromatography as the total of substances having a molecular weight of 200 or less.

樹脂層の飽和吸水率は、好ましくは0.05%以下、より好ましくは0.03%以下、特に好ましくは0.01%以下であり、理想的にはゼロ%である。樹脂層の飽和吸水率がこのように低いことにより、樹脂層の光学特性の継時的な変化を抑制することができる。 The saturated water absorption rate of the resin layer is preferably 0.05% or less, more preferably 0.03% or less, particularly preferably 0.01% or less, and ideally 0%. With such a low saturated water absorption rate of the resin layer, it is possible to suppress changes in the optical properties of the resin layer over time.

樹脂層の飽和吸水率は、JIS K7209に従い、下記の手順で測定しうる。
樹脂層を50℃で24時間乾燥し、デシケータ中で放冷する。次いで、乾燥した樹脂層の重量(M1)を測定する。
この樹脂層を、温度23℃、相対湿度50%の室内で24時間水に浸漬し樹脂層を水で飽和させる。その後、水から樹脂層を取り出し、24時間浸漬後の樹脂層の重量(M2)を測定する。
これらの重量の測定値から、次式により、樹脂層の飽和吸水率を求めうる。
飽和吸水率(%)=[(M2−M1)/M1]×100(%)
The saturated water absorption rate of the resin layer can be measured by the following procedure according to JIS K7209.
The resin layer is dried at 50 ° C. for 24 hours and allowed to cool in a desiccator. Next, the weight (M1) of the dried resin layer is measured.
This resin layer is immersed in water for 24 hours in a room having a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and the resin layer is saturated with water. Then, the resin layer is taken out from water, and the weight (M2) of the resin layer after immersion for 24 hours is measured.
From these measured values of weight, the saturated water absorption rate of the resin layer can be obtained by the following equation.
Saturated water absorption rate (%) = [(M2-M1) / M1] x 100 (%)

樹脂層の厚みは、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上、特に好ましくは25μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは45μm以下、特に好ましくは40μm以下である。 The thickness of the resin layer is preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more, particularly preferably 25 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 45 μm or less, and particularly preferably 40 μm or less.

樹脂層の製造方法に制限は無い。例えば、図2に示したような第一外側層210、中間層230及び第二外側層220を備える樹脂層200は、各層を形成するための樹脂をフィルム状に成形する工程を含む製造方法により、製造しうる。樹脂の成形方法としては、例えば、共押出法及び共流延法などが挙げられる。これらの成形方法の中でも、共押出法は、製造効率に優れ、得られた樹脂層に揮発性成分を残留させ難いので、好ましい。 There are no restrictions on the method of manufacturing the resin layer. For example, the resin layer 200 including the first outer layer 210, the intermediate layer 230, and the second outer layer 220 as shown in FIG. 2 is manufactured by a manufacturing method including a step of forming a resin for forming each layer into a film. , Can be manufactured. Examples of the resin molding method include a coextrusion method and a cocurrent spreading method. Among these molding methods, the coextrusion method is preferable because it has excellent production efficiency and it is difficult for volatile components to remain in the obtained resin layer.

また、基材が含む樹脂層は、延伸フィルムであってもよい。よって、例えば、図2に示したような第一外側層210、中間層230及び第二外側層220を備える樹脂層200は、上述した方法によってフィルム状に成形した後で、延伸処理を施されたものであってもよい。延伸フィルムは、延伸処理を施されたフィルムであり、通常は、当該フィルム中の重合体が前記の延伸処理によって配向している。そのため、延伸フィルムは重合体の配向に応じた光学特性を有することができるので、レターデーション等の光学特性を容易に調整することができる。また、延伸フィルムは、通常、延伸によって厚みを薄くされたり、広幅なフィルムを得られたり、機械的強度を向上させられたりできる。よって、樹脂層として延伸フィルムを用いることにより、好適な属性を有する基材を容易に得ることができる。 Further, the resin layer contained in the base material may be a stretched film. Therefore, for example, the resin layer 200 provided with the first outer layer 210, the intermediate layer 230, and the second outer layer 220 as shown in FIG. 2 is formed into a film by the above-mentioned method and then subjected to a stretching treatment. It may be a plastic one. The stretched film is a film that has been stretched, and the polymer in the film is usually oriented by the stretching treatment. Therefore, since the stretched film can have optical properties according to the orientation of the polymer, the optical properties such as retardation can be easily adjusted. In addition, the stretched film can usually be thinned by stretching, a wide film can be obtained, and the mechanical strength can be improved. Therefore, by using a stretched film as the resin layer, a base material having suitable attributes can be easily obtained.

[2.1.4.基材に含まれうる光学異方性層]
基材は、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された光学異方性層を含んでいてもよい。ここで、用語「液晶組成物」は、2種類以上の成分を含む材料だけでなく、1種類の液晶化合物のみを含む材料を包含する。通常、液晶組成物の硬化物は、液晶性化合物に応じた光学異方性を有するので、前記の硬化物で形成された光学異方性層は、所定の面内レターデーションを有する。以下の説明では、位相差フィルムに含まれうる光学異方性層と区別するため、基材に含まれる光学異方性層を「第一光学異方性層」ということがある。
[2.1.4. Optically anisotropic layer that can be contained in the substrate]
The substrate may include an optically anisotropic layer formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound. Here, the term "liquid crystal composition" includes not only a material containing two or more kinds of components but also a material containing only one kind of liquid crystal compound. Usually, the cured product of the liquid crystal composition has optical anisotropy depending on the liquid crystal compound, so that the optically anisotropic layer formed of the cured product has a predetermined in-plane retardation. In the following description, the optically anisotropic layer contained in the substrate may be referred to as a "first optically anisotropic layer" in order to distinguish it from the optically anisotropic layer that may be contained in the retardation film.

液晶化合物は、液晶組成物に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。このような液晶化合物として、通常は、重合性の液晶化合物を用いる。ここで、重合性の液晶化合物とは、液晶相を呈した状態で液晶組成物中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。 The liquid crystal compound is a compound capable of exhibiting a liquid crystal phase when blended in a liquid crystal composition and oriented. As such a liquid crystal compound, a polymerizable liquid crystal compound is usually used. Here, the polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound that can be polymerized in a liquid crystal composition in a state of exhibiting a liquid crystal phase and can become a polymer while maintaining the orientation of molecules in the liquid crystal phase.

重合性の液晶化合物としては、重合性基を有する液晶化合物、側鎖型液晶ポリマーを形成しうる化合物、円盤状液晶化合物などの化合物が挙げられ、中でも、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光を照射することによって重合しうる光重合性の化合物が好ましい。重合性基を有する液晶化合物としては、例えば、特開平11−513360号公報、特開2002−030042号公報、特開2004−204190号公報、特開2005−263789号公報、特開2007−119415号公報、特開2007−186430号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開2003−177242号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、BASF社製「LC242」等が挙げられる。円盤状液晶化合物の具体例としては、特開平8−50206号公報、文献(C. Destrade et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ;日本化学会編、季刊化学総説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節(1994);J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994));J. Lehn et al., J.Chem.Soc.,Chem.Commun., page 1794 (1985)に記載されている。液晶化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the polymerizable liquid crystal compound include a liquid crystal compound having a polymerizable group, a compound capable of forming a side chain type liquid crystal polymer, and a disk-shaped liquid crystal compound. Among them, light such as visible light, ultraviolet rays, and infrared rays. A photopolymerizable compound that can be polymerized by irradiating with is preferable. Examples of the liquid crystal compound having a polymerizable group include JP-A-11-513360, JP-A-2002-030042, JP-A-2004-204190, JP-A-2005-263789, and JP-A-2007-119415. Examples thereof include rod-shaped liquid crystal compounds having a polymerizable group described in JP-A-2007-186430. Examples of the side-chain type liquid crystal polymer compound include the side-chain type liquid crystal polymer compound described in JP-A-2003-177242. Further, examples of preferable liquid crystal compounds by product name include "LC242" manufactured by BASF. Specific examples of the disk-shaped liquid crystal compound include JP-A-8-50206, Ref. (C. Destrade et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., Vol. 71, page 111 (1981); ed. , Quarterly Chemistry Review, No.22, Liquid Crystal Chemistry, Chapter 5, Chapter 10, Section 2 (1994); J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., Vol. 116, page 2655 ( 1994)); J. Lehn et al., J. Chem. Soc., Chem. Communi., Page 1794 (1985). As the liquid crystal compound, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

液晶化合物は、逆波長分散性液晶化合物であってもよい。ここで、逆波長分散性液晶化合物とは、ホモジニアス配向した場合に、逆波長分散特性を示す液晶化合物をいう。また、液晶化合物をホモジニアス配向させる、とは、当該液晶化合物を含む層を形成し、その層における液晶化合物の分子のメソゲンの長軸方向を、前記層の面に平行なある一の方向に配向させることをいう。液晶化合物が配向方向の異なる複数種類のメソゲンを含む場合は、それらのうち最も長い種類のメソゲンが配向する方向が、前記の配向方向となる。液晶化合物がホモジニアス配向しているか否か、及びその配向方向は、AxoScan(Axometrics社製)に代表されるような位相差計を用いた遅相軸方向の測定と、遅相軸方向における入射角毎のレターデーション分布の測定とにより確認しうる。液晶組成物が含む液晶化合物の一部又は全部として、逆波長分散性液晶化合物を用いることにより、逆波長分散特性を示す第一光学異方性層を容易に得ることができる。 The liquid crystal compound may be a reverse wavelength dispersible liquid crystal compound. Here, the reverse wavelength dispersible liquid crystal compound refers to a liquid crystal compound that exhibits reverse wavelength dispersion characteristics when homogenically oriented. Homogeneous alignment of a liquid crystal compound means that a layer containing the liquid crystal compound is formed, and the major axis direction of the mesogen of the molecule of the liquid crystal compound in the layer is oriented in one direction parallel to the plane of the layer. It means to let you. When the liquid crystal compound contains a plurality of types of mesogens having different orientation directions, the direction in which the longest type of mesogens is oriented is the orientation direction. Whether or not the liquid crystal compound is homogeneously oriented, and the orientation direction thereof are measured in the slow phase axial direction using a phase difference meter as represented by AxoScan (manufactured by Axometrics) and the incident angle in the slow phase axial direction. It can be confirmed by measuring the retardation distribution for each. By using the reverse wavelength dispersible liquid crystal compound as a part or all of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal composition, the first optically anisotropic layer exhibiting the reverse wavelength dispersion characteristic can be easily obtained.

例えば、当該化合物の分子中に、主鎖メソゲンと、前記主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを含む化合物を、液晶化合物として用いることが好ましく、逆波長分散性液晶化合物として用いることがより好ましい。主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを含む前記の逆波長分散性液晶化合物は、当該逆波長分散性液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲンが主鎖メソゲンと異なる方向に配向しうる。このような場合、複屈折は主鎖メソゲンに対応する屈折率と側鎖メソゲンに対応する屈折率との差として発現するので、結果として、逆波長分散性液晶化合物は、ホモジニアス配向した場合に、逆波長分散特性を示すことができる。 For example, a compound containing a main chain mesogen and a side chain mesogen bonded to the main chain mesogen in the molecule of the compound is preferably used as a liquid crystal compound, and more preferably used as a reverse wavelength dispersible liquid crystal compound. .. In the above-mentioned reverse wavelength dispersive liquid crystal compound containing the main chain mesogen and the side chain mesogen, the side chain mesogen may be oriented in a direction different from that of the main chain mesogen in the state where the reverse wavelength dispersive liquid crystal compound is oriented. In such a case, birefringence is expressed as the difference between the refractive index corresponding to the main chain mesogen and the refractive index corresponding to the side chain mesogen, and as a result, the inverse wavelength dispersible liquid crystal compound is homogenically oriented. It can show the reverse wavelength dispersion characteristic.

重合性を有する逆波長分散性液晶化合物としては、例えば、下記式(I)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the polymerizable reverse wavelength dispersible liquid crystal compound include a compound represented by the following formula (I).

Figure 0006977737
Figure 0006977737

前記式(I)において、Y〜Yは、それぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR−C(=O)−、−C(=O)−NR−、−O−C(=O)−NR−、−NR−C(=O)−O−、−NR−C(=O)−NR−、−O−NR−、又は、−NR−O−を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。In the above formula (I), Y 1 to Y 8 are independently chemically single bonds, −O−, −S−, −OC (= O) −, −C (= O) −. O-, -O-C (= O) -O-, -NR 1- C (= O)-, -C (= O) -NR 1- , -O-C (= O) -NR 1- , -NR 1- C (= O) -O-, -NR 1- C (= O) -NR 1- , -O-NR 1- , or -NR 1- O-. Here, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

前記式(I)において、G及びGは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数1〜20の二価の脂肪族基を表す。また、前記脂肪族基には、1つの脂肪族基当たり1以上の−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR−C(=O)−、−C(=O)−NR−、−NR−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。In the formula (I), G 1 and G 2 each represent a divalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, which may independently have a substituent. Further, the aliphatic group includes one or more -O-, -S-, -OC (= O)-, -C (= O) -O-, -O-C per aliphatic group. (= O) -O -, - NR 2 -C (= O) -, - C (= O) -NR 2 -, - NR 2 -, or, -C (= O) - is be interposed good. However, this excludes cases where two or more -O- or -S- are adjacent to each other. Here, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

前記式(I)において、Z及びZは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルケニル基を表す。In the formula (I), Z 1 and Z 2 each independently represent an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.

前記式(I)において、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。「芳香環」は、Huckel則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を(4n+2)個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。In the formula (I), A x has at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and aromatic heterocycle represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms. The "aromatic ring" is a cyclic structure having aromaticity in a broad sense according to Huckel's rule, that is, a cyclic conjugated structure having (4n + 2) π electrons, and sulfur, oxygen, represented by thiophene, furan, benzothiazole and the like. It means a cyclic structure in which an isolated electron pair of a heteroatom such as nitrogen participates in a π-electron system and exhibits aromaticity.

前記式(I)において、Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、−C(=O)−R、−SO−R、−C(=S)NH−R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、又は、炭素数5〜12の芳香族炭化水素環基を表す。Rは、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、フェニル基、又は、4−メチルフェニル基を表す。Rは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数5〜20の芳香族基を表す。前記A及びAが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記AとAは、一緒になって、環を形成していてもよい。In the formula (I), Ay is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent. A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -C (= O) -R 3 , -SO 2 -R 4 , -C (= S) NH-R 9 , or an organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle. show. Here, R 3 has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. It also represents a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon ring group having 5 to 12 carbon atoms. R 4 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a 4-methylphenyl group. R 9 has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a carbon which may have a substituent. It represents a cycloalkyl group having a number of 3 to 12, or an aromatic group having 5 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Aromatic ring wherein A x and A y has may have a substituent. Further, the A x and A y may be combined to form a ring.

前記式(I)において、Aは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
前記式(I)において、A及びAは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
前記式(I)において、A及びAは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数6〜30の二価の芳香族基を表す。
前記式(I)において、Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
前記式(I)において、mは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
In the formula (I), A 1 represents a trivalent aromatic group which may have a substituent.
In the formula (I), A 2 and A 3 each independently represent a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
In the formula (I), A 4 and A 5 are each independently, may have a substituent, a divalent aromatic group having 6 to 30 carbon atoms.
In the formula (I), Q 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
In the formula (I), m independently represents 0 or 1, respectively.

式(I)で表される液晶化合物としては、例えば、国際公開第2014/069515号、国際公開第2015/064581号などに記載された化合物が挙げられる。 Examples of the liquid crystal compound represented by the formula (I) include the compounds described in International Publication No. 2014/069515, International Publication No. 2015/064511 and the like.

また、液晶化合物は、順波長分散性液晶化合物であってもよい。ここで、順波長分散性液晶化合物とは、ホモジニアス配向した場合に、順波長分散特性を示す液晶化合物をいう。液晶組成物が含む液晶化合物の一部又は全部として、順波長分散性液晶化合物を用いることにより、順波長分散特性を有する第一光学異方性層を容易に得ることができる。 Further, the liquid crystal compound may be a forward wavelength dispersible liquid crystal compound. Here, the forward wavelength dispersible liquid crystal compound means a liquid crystal compound exhibiting forward wavelength dispersion characteristics when homogenically oriented. By using a forward wavelength dispersible liquid crystal compound as a part or all of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal composition, a first optically anisotropic layer having a forward wavelength dispersion characteristic can be easily obtained.

重合性を有する順波長分散性液晶化合物としては、例えば、下記式(II)で表される化合物が挙げられる。
3x−C3x−D3x−C5x−M−C6x−D4x−C4x−R4x 式(II)
Examples of the polymerizable forward wavelength dispersible liquid crystal compound include a compound represented by the following formula (II).
R 3x- C 3x- D 3x- C 5x- M x- C 6x- D 4x- C 4x- R 4x equation (II)

式(II)において、R3x及びR4xは、それぞれ独立して、反応性基を示す。R3x及びR4xは、例えば、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、フマレート基、シンナモイル基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、オキサゾリン基、メルカプト基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。In formula (II), R 3x and R 4x each independently represent a reactive group. R 3x and R 4x are, for example, (meth) acryloyl group, epoxy group, thioepoxy group, oxetane group, thietanyl group, aziridinyl group, pyrrole group, fumarate group, cinnamoyl group, isocyanate group, isothiocyanate group, amino group, hydroxyl group. Examples thereof include a group, a carboxyl group, an alkoxysilyl group, an oxazoline group, a mercapto group, a vinyl group, an allyl group and the like.

式(II)において、D3x及びD4xは、それぞれ独立して、単結合、炭素原子数1〜20個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、及び炭素原子数1〜20個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレンオキサイド基からなる群より選択される基を表す。In formula (II), D 3x and D 4x are independently single-bonded, linear or branched alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms, and direct chains having 1 to 20 carbon atoms. Represents a group selected from the group consisting of chain or branched alkylene oxide groups.

式(II)において、C3x〜C6xは、それぞれ独立して、単結合、−O−、−S−、−S−S−、−CO−、−CS−、−OCO−、−CH−、−OCH−、−CH=N−N=CH−、−NHCO−、−OCOO−、−CHCOO−、及び−CHOCO−からなる群より選択される基を表す。In formula (II), C 3x to C 6x are independently single-bonded, -O-, -S-, -S-S-, -CO-, -CS-, -OCO-, -CH 2. -, - OCH 2 -, - CH = N-N = CH -, - NHCO -, - OCOO -, - CH 2 COO-, and represents a group selected from the group consisting of -CH 2 OCO-.

式(II)においてMは、メソゲン基を表す。好適なメソゲン基Mは、非置換又は置換基を有していてもよい、アゾメチン類、アゾキシ類、フェニル類、ビフェニル類、ターフェニル類、ナフタレン類、アントラセン類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類からなる群より選択された2〜4個の骨格を、−O−、−S−、−S−S−、−CO−、−CS−、−OCO−、−CH−、−OCH−、−CH=N−N=CH−、−NHCO−、−OCOO−、−CHCOO−、及び−CHOCO−等の結合基によって結合されて形成される。In formula (II), M x represents a mesogen group. Preferred mesogenic groups M x may have a unsubstituted or substituted group, azomethines, azoxy compounds, phenyls, biphenyls, terphenyls, naphthalenes, anthracenes, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic Two to four skeletons selected from the group consisting of acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidins, alkoxy-substituted phenylpyrimidins, phenyldioxans, trans, and alkenylcyclohexylbenzonitriles- O-, -S-, -S-S-, -CO-, -CS-, -OCO-, -CH 2- , -OCH 2- , -CH = N-N = CH-, -NHCO-,- OCOO -, - CH 2 COO-, and is formed are joined by a linking group of -CH 2 OCO- or the like.

メソゲン基Mが有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−O−R5x、−O−C(=O)−R5x、−C(=O)−O−R5x、−O−C(=O)−O−R5x、−NR5x−C(=O)−R5x、−C(=O)−NR5x7x、または−O−C(=O)−NR5x7xが挙げられる。ここで、R5x及びR7xは、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表す。R5x及びR7xがアルキル基である場合、当該アルキル基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR6x−C(=O)−、−C(=O)−NR6x−、−NR6x−、または−C(=O)−が介在していてもよい(ただし、−O−および−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。)。ここで、R6xは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す。Examples of the substituent which the mesogenic group M x may have, for example, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, -O-R 5x, -O- C (= O) -R 5x , -C (= O) -O-R 5x , -OC (= O) -OR 5x , -NR 5x- C (= O) -R 5x , -C (= O) -NR 5x R 7x , or -OC (= O) -NR 5x R 7x can be mentioned. Here, R 5x and R 7x represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. When R 5x and R 7x are alkyl groups, the alkyl groups include -O-, -S-, -O-C (= O)-, -C (= O) -O-, -O-C. (= O) -O -, - NR 6x -C (= O) -, - C (= O) -NR 6x -, - NR 6x -, or -C (= O) - may be interposed (However, this does not apply when two or more -O- and -S- are adjacent to each other.) Here, R 6x represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

前記「置換基を有してもよい炭素数1〜10個のアルキル基」における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、炭素原子数2〜8個のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数3〜15個のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素原子数2〜7個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7個のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数2〜7個のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the substituent in the above-mentioned "alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent" include a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, an amino group and 1 to 6 carbon atoms. Alkoxy group, alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, alkoxyalkoxyalkoxy group having 3 to 15 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, alkyl having 2 to 7 carbon atoms. Examples thereof include a carbonyloxy group and an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms.

式(II)で表される液晶化合物としては、例えば、国際公開第2016/002765号などに記載された棒状液晶性化合物が挙げられる。 Examples of the liquid crystal compound represented by the formula (II) include rod-shaped liquid crystal compounds described in International Publication No. 2016/002765.

また、液晶化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 In addition, one type of liquid crystal compound may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

液晶組成物における液晶化合物の量は、所望の第一光学異方性層が得られる範囲で任意に設定でき、好ましくは1重量%以上、より好ましくは5重量%以上、特に好ましくは10重量%以上であり、また、好ましくは100重量%以下、より好ましくは80重量%以下、特に好ましくは60重量%以下である。 The amount of the liquid crystal compound in the liquid crystal composition can be arbitrarily set within a range in which the desired first optically anisotropic layer can be obtained, and is preferably 1% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, and particularly preferably 10% by weight. Further, it is preferably 100% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, and particularly preferably 60% by weight or less.

液晶組成物は、液晶化合物に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、重合開始剤、界面活性剤、溶媒、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等が挙げられる。任意の成分については、国際公開第2015/064581号を参照しうる。 The liquid crystal composition may contain any component in combination with the liquid crystal compound. Optional components include, for example, polymerization initiators, surfactants, solvents, metals, metal complexes, dyes, pigments, fluorescent materials, phosphorescent materials, leveling agents, thixo agents, gelling agents, polysaccharides, infrared absorbers, etc. Examples thereof include antioxidants, ion exchange resins, metal oxides such as titanium oxide, and the like. For any component, International Publication No. 2015/064511 may be referred to.

第一光学異方性層は、前記の液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された層であり、通常、液晶化合物から得られる硬化液晶分子を含む。ここで、「硬化液晶分子」とは、液晶相を呈しうる化合物を、液晶相を呈した状態のまま固体とした際の当該化合物の分子を意味する。第一光学異方性層が含む硬化液晶分子は、通常、液晶化合物を重合させてなる重合体である。よって、第一光学異方性層は、通常は、液晶化合物を重合させてなる重合体を含み、必要に応じて任意の成分を含みうる樹脂の層となっている。そして、このような第一光学異方性層は、前記の硬化液晶分子の配向状態に応じた光学異方性を有しうる。第一光学異方性層の光学異方性は、面内レターデーションによって表すことができる。第一光学異方性層の具体的な面内レターデーションは、第一光学異方性層が有するべき面内レターデーションに応じて設定できる。 The first optically anisotropic layer is a layer formed of a cured product of a liquid crystal composition containing the above liquid crystal compound, and usually contains a cured liquid crystal molecule obtained from the liquid crystal compound. Here, the "cured liquid crystal molecule" means a molecule of the compound when the compound capable of exhibiting a liquid crystal phase is made into a solid while exhibiting the liquid crystal phase. The cured liquid crystal molecule contained in the first optically anisotropic layer is usually a polymer obtained by polymerizing a liquid crystal compound. Therefore, the first optically anisotropic layer usually contains a polymer obtained by polymerizing a liquid crystal compound, and is a layer of a resin that can contain an arbitrary component if necessary. Then, such a first optically anisotropic layer may have optical anisotropy according to the orientation state of the cured liquid crystal molecule. The optical anisotropy of the first optically anisotropy layer can be represented by in-plane retardation. The specific in-plane retardation of the first optically anisotropic layer can be set according to the in-plane retardation that the first optically anisotropic layer should have.

第一光学異方性層の厚みは、レターデーション等の光学特性を所望の範囲にできるように適宜調整でき、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは7μm以下、特に好ましくは5μm以下である。 The thickness of the first optically anisotropic layer can be appropriately adjusted so that the optical properties such as retardation can be adjusted to a desired range, and is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, and preferably 10 μm or less. , More preferably 7 μm or less, and particularly preferably 5 μm or less.

第一光学異方性層は、通常、支持体上に液晶組成物の層を形成する工程と、液晶組成物の層を硬化させて第一光学異方性層を得る工程と、を含む製造方法によって、製造できる。 The first optically anisotropic layer is usually manufactured including a step of forming a layer of a liquid crystal composition on a support and a step of curing the layer of the liquid crystal composition to obtain a first optically anisotropic layer. It can be manufactured by the method.

この製造方法では、支持体を用意し、その支持体の面に、液晶組成物の層を形成する。支持体として、通常は、樹脂フィルムを用いる。樹脂としては、熱可塑性樹脂を用いることができる。中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、脂環式構造含有重合体を含む樹脂、及び、セルロースエステル樹脂が好ましい。 In this manufacturing method, a support is prepared, and a layer of the liquid crystal composition is formed on the surface of the support. A resin film is usually used as the support. As the resin, a thermoplastic resin can be used. Among them, a resin containing an alicyclic structure-containing polymer and a cellulose ester resin are preferable from the viewpoints of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability and light weight.

支持体の表面には、液晶組成物の層における液晶化合物の配向を促進するため、配向規制力を付与するための処理が施されていてもよい。ここで、ある面の配向規制力とは、液晶組成物中の液晶化合物を配向させうる、その面の性質をいう。 In order to promote the orientation of the liquid crystal compound in the layer of the liquid crystal composition, the surface of the support may be subjected to a treatment for imparting an orientation restricting force. Here, the orientation regulating force of a certain surface refers to the property of the surface that can orient the liquid crystal compound in the liquid crystal composition.

配向規制力を付与するための処理としては、例えば、ラビング処理、配向層形成処理、イオンビーム配向処理、延伸処理などが挙げられ、中でも、延伸処理が好ましい。支持体に適切な条件で延伸処理を施すことにより、支持体に含まれる重合体の分子を配向させることができる。これにより、支持体に含まれる重合体の分子の配向方向に液晶化合物を配向させる配向規制力を、支持体の表面に付与できる。 Examples of the treatment for imparting the orientation regulating force include a rubbing treatment, an alignment layer forming treatment, an ion beam alignment treatment, a stretching treatment, and the like, and among them, the stretching treatment is preferable. By applying the stretching treatment to the support under appropriate conditions, the molecules of the polymer contained in the support can be oriented. As a result, it is possible to impart an orientation restricting force for orienting the liquid crystal compound in the orientation direction of the polymer molecules contained in the support to the surface of the support.

支持体の延伸は、支持体に異方性を付与して、当該支持体に遅相軸を発現させられるように行うことが好ましい。これにより、通常は、支持体の遅相軸と平行又は垂直な方向に液晶化合物を配向させる配向規制力が、支持体の表面に付与される。例えば、支持体の材料として正の固有複屈折値を有する樹脂を用いた場合、通常は、支持体に含まれる重合体の分子が延伸方向に配向することにより延伸方向に平行な遅相軸が発現するので、支持体の遅相軸と平行な方向に液晶化合物を配向させる配向規制力が、支持体の表面に付与される。したがって、支持体の延伸方向は、液晶化合物を配向させようとする所望の配向方向に応じて設定しうる。 It is preferable to extend the support by imparting anisotropy to the support so that the support can develop a slow phase axis. As a result, an orientation restricting force that orients the liquid crystal compound in a direction parallel to or perpendicular to the slow axis of the support is usually applied to the surface of the support. For example, when a resin having a positive intrinsic birefringence value is used as the material of the support, the slow axis parallel to the stretching direction is usually formed by orienting the polymer molecules contained in the support in the stretching direction. Since it is expressed, an orientation restricting force for orienting the liquid crystal compound in a direction parallel to the slow phase axis of the support is imparted to the surface of the support. Therefore, the stretching direction of the support can be set according to the desired orientation direction in which the liquid crystal compound is to be oriented.

延伸倍率は、延伸後の支持体の複屈折Δnが所望の範囲となるように設定しうる。延伸後の支持体の複屈折Δnは、好ましくは0.000050以上、より好ましくは0.000070以上であり、好ましくは0.007500以下、より好ましくは0.007000以下である。延伸後の支持体の複屈折Δnが前記範囲の下限値以上であることにより、当該支持体の表面に良好な配向規制力を付与できる。前記の延伸は、テンター延伸機などの延伸機を用いて行いうる。 The stretching ratio can be set so that the birefringence Δn of the support after stretching is in a desired range. The birefringence Δn of the support after stretching is preferably 0.000050 or more, more preferably 0.000070 or more, preferably 0.007500 or less, and more preferably 0.007000 or less. When the birefringence Δn of the support after stretching is at least the lower limit of the above range, a good orientation restricting force can be imparted to the surface of the support. The stretching can be performed using a stretching machine such as a tenter stretching machine.

前記のような支持体としては、長尺のフィルムを用いることが好ましい。支持体として長尺のフィルムを用いることにより、第一光学異方性層の生産性を向上させることができる。この際、支持体の厚みは、生産性の向上、薄型化及び軽量化を容易にする観点から、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上、特に好ましくは30μm以上であり、好ましくは1000μm以下、より好ましくは300μm以下、特に好ましくは100μm以下である。 As the support as described above, it is preferable to use a long film. By using a long film as the support, the productivity of the first optically anisotropic layer can be improved. At this time, the thickness of the support is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, and preferably 1000 μm or less, from the viewpoint of facilitating productivity improvement, thinning and weight reduction. It is more preferably 300 μm or less, and particularly preferably 100 μm or less.

また、支持体としては、上述した樹脂層を用いてもよい。基材に含まれるべき樹脂層を支持体として用いることにより、基材の材料とは別に支持体を用意する必要が無くなるので、基材の製造コストを低くすることができる。 Further, as the support, the above-mentioned resin layer may be used. By using the resin layer to be contained in the base material as the support, it is not necessary to prepare the support separately from the material of the base material, so that the manufacturing cost of the base material can be reduced.

液晶組成物の層の形成は、通常、塗工法によって行う。具体的には、支持体の表面に、液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を形成する。塗工方法としては、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。塗工される液晶組成物の層の厚みは、第一光学異方性層に求められる所望の厚みに応じて適切に設定しうる。 The formation of the layer of the liquid crystal composition is usually carried out by a coating method. Specifically, the liquid crystal composition is applied to the surface of the support to form a layer of the liquid crystal composition. Examples of the coating method include curtain coating method, extrusion coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, slide coating method, print coating method, gravure coating method, and die coating. Methods, gap coating methods, and dipping methods can be mentioned. The thickness of the layer of the liquid crystal composition to be coated can be appropriately set according to the desired thickness required for the first optically anisotropic layer.

液晶組成物の層を形成した後で、必要に応じて、液晶組成物の層を乾燥させる工程を行ってもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。 After forming the layer of the liquid crystal composition, a step of drying the layer of the liquid crystal composition may be performed, if necessary. Such drying can be achieved by a drying method such as natural drying, heat drying, vacuum drying, and vacuum heating drying. By such drying, the solvent can be removed from the layer of the liquid crystal composition.

また、液晶組成物の層を形成した後で、必要に応じて、当該層に含まれる液晶化合物を配向させる工程を行ってもよい。この工程では、通常は、液晶組成物の層に配向処理を施すことにより、支持体の面の配向規制力に応じた方向に液晶化合物を配向させる。配向処理は、通常、液晶組成物の層を、所定の配向温度に加熱することによって、行う。この配向処理の条件は、使用する液晶組成物の性質に応じて適切に設定しうる。配向処理の条件の具体例を挙げると、50℃〜160℃の温度条件において、30秒間〜5分間処理する条件としうる。 Further, after forming the layer of the liquid crystal composition, a step of orienting the liquid crystal compound contained in the layer may be performed, if necessary. In this step, usually, the layer of the liquid crystal composition is subjected to an orientation treatment to orient the liquid crystal compound in a direction corresponding to the orientation restricting force of the surface of the support. The alignment treatment is usually performed by heating the layer of the liquid crystal composition to a predetermined alignment temperature. The conditions for this orientation treatment can be appropriately set according to the properties of the liquid crystal composition used. To give a specific example of the alignment treatment conditions, the treatment may be performed for 30 seconds to 5 minutes at a temperature condition of 50 ° C. to 160 ° C.

ただし、液晶化合物の配向は、液晶組成物の塗工により直ちに達成される場合がありえる。そのため、液晶化合物を配向させたい場合でも、配向処理は、必ずしも液晶組成物の層に施さなくてもよい。 However, the orientation of the liquid crystal compound may be achieved immediately by coating the liquid crystal composition. Therefore, even when it is desired to orient the liquid crystal compound, the orientation treatment does not necessarily have to be applied to the layer of the liquid crystal composition.

必要に応じて液晶組成物の層の乾燥、及び、液晶化合物の配向を行った後で、前記液晶組成物の層を硬化させて、第一光学異方性層を得る工程を行う。この工程では、通常、液晶化合物を重合させて、液晶組成物の層を硬化させる。液晶化合物の重合方法としては、液晶組成物に含まれる成分の性質に適合した方法を選択しうる。重合方法としては、例えば、活性エネルギー線を照射する方法、及び、熱重合法が挙げられる。中でも、加熱が不要であり、室温で重合反応を進行させられるので、活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光、並びに電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。 If necessary, after drying the layer of the liquid crystal composition and orienting the liquid crystal compound, the layer of the liquid crystal composition is cured to obtain a first optically anisotropic layer. In this step, the liquid crystal compound is usually polymerized to cure the layer of the liquid crystal composition. As the method for polymerizing the liquid crystal compound, a method suitable for the properties of the components contained in the liquid crystal composition can be selected. Examples of the polymerization method include a method of irradiating with active energy rays and a thermal polymerization method. Above all, the method of irradiating with active energy rays is preferable because heating is not required and the polymerization reaction can proceed at room temperature. Here, the activated energy rays to be irradiated may include light such as visible light, ultraviolet rays, and infrared rays, and arbitrary energy rays such as electron beams.

なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線照射時の温度は、支持体のガラス転移温度以下とすることが好ましく、好ましくは150℃以下、より好ましくは100℃以下、特に好ましくは80℃以下である。紫外線照射時の温度の下限は、15℃以上としうる。紫外線の照射強度は、好ましくは0.1mW/cm以上、より好ましくは0.5mW/cm以上であり、好ましくは1000mW/cm以下、より好ましくは600mW/cm以下である。Among them, a method of irradiating light such as ultraviolet rays is preferable because the operation is simple. The temperature at the time of irradiation with ultraviolet rays is preferably not more than the glass transition temperature of the support, preferably 150 ° C. or less, more preferably 100 ° C. or less, and particularly preferably 80 ° C. or less. The lower limit of the temperature at the time of irradiation with ultraviolet rays may be 15 ° C. or higher. The irradiation intensity of ultraviolet rays is preferably 0.1 mW / cm 2 or more, more preferably 0.5 mW / cm 2 or more, preferably 1000 mW / cm 2 or less, more preferably 600 mW / cm 2 or less.

こうして得られた第一光学異方性層は、必要に応じて、支持体から剥がして用いてもよい。 The first optically anisotropic layer thus obtained may be peeled off from the support and used if necessary.

[2.1.5.基材に含まれうる導電層]
基材は、樹脂層に組み合わせて、導電層を含んでいてもよい。導電層は、通常、基材に含まれる樹脂層の片面又は両面に設けられる。樹脂層は、一般に可撓性に優れるので、樹脂層上に導電層を備えた基材を用いることにより、指での入力が円滑なタッチパネルを実現できる。特に、脂環式構造含有重合体を含む基材では、その脂環式構造含有重合体の優れた耐熱性及び低吸湿性を活用できるので、高温又は高湿度の環境においてカール等の変形を生じ難い。
[2.1.5. Conductive layer that can be contained in the base material]
The base material may include a conductive layer in combination with the resin layer. The conductive layer is usually provided on one side or both sides of the resin layer contained in the base material. Since the resin layer is generally excellent in flexibility, it is possible to realize a touch panel in which input with a finger is smooth by using a base material having a conductive layer on the resin layer. In particular, in a substrate containing an alicyclic structure-containing polymer, the excellent heat resistance and low hygroscopicity of the alicyclic structure-containing polymer can be utilized, so that deformation such as curl occurs in a high temperature or high humidity environment. hard.

導電層としては、例えば、導電性金属酸化物、導電性ナノワイヤ、金属メッシュ及び導電性ポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種の導電材料を含む層を用いうる。 As the conductive layer, for example, a layer containing at least one conductive material selected from the group consisting of conductive metal oxides, conductive nanowires, metal meshes and conductive polymers can be used.

導電性金属酸化物としては、例えば、ITO(インジウム錫オキサイド)、IZO(インジウム亜鉛オキサイド)、ZnO(酸化亜鉛)、IWO(インジウムタングステンオキサイド)、ITiO(インジウムチタニウムオキサイド)、AZO(アルミニウム亜鉛オキサイド)、GZO(ガリウム亜鉛オキサイド)、XZO(亜鉛系特殊酸化物)、IGZO(インジウムガリウム亜鉛オキサイド)等が挙げられる。これらの中でも、光線透過性及び耐久性の観点より、ITOが特に好ましい。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the conductive metal oxide include ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO (zinc oxide), IWO (indium tungsten oxide), ITOO (indium titanium oxide), and AZO (aluminum zinc oxide). , GZO (gallium zinc oxide), XZO (zinc-based special oxide), IGZO (indium gallium zinc oxide) and the like. Among these, ITO is particularly preferable from the viewpoint of light transmission and durability. One of these may be used alone, or two or more of them may be used in combination at any ratio.

導電性金属酸化物を含む導電層は、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト蒸着法、アーク放電プラズマ蒸着法、熱CVD法、プラズマCVD法、鍍金法、及びこれらの組み合わせ等の成膜方法によって、形成しうる。これらの中でも、蒸着法及びスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法が特に好ましい。スパッタリング法では、厚みが均一な導電層を形成できるので、導電層に局所的に薄い部分が発生することを抑制できる。 The conductive layer containing a conductive metal oxide includes a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, an ion beam assist vapor deposition method, an arc discharge plasma vapor deposition method, a thermal CVD method, a plasma CVD method, a plating method, and a combination thereof. It can be formed by the film forming method of. Among these, the vapor deposition method and the sputtering method are preferable, and the sputtering method is particularly preferable. In the sputtering method, since the conductive layer having a uniform thickness can be formed, it is possible to suppress the generation of locally thin portions in the conductive layer.

導電性ナノワイヤとは、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。導電性ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。このような導電性ナノワイヤは、導電性ナノワイヤ同士が隙間を形成して網の目状となることにより、少量の導電性ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電層を実現できる。また、導電性ワイヤは、網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成するので、光透過率の高い導電層を得ることができる。さらに、導電性ナノワイヤを含む導電層を用いることにより、通常は、耐屈曲性に優れる基材を得ることができる。 The conductive nanowire is a conductive substance having a needle-like or thread-like shape and a diameter of nanometer size. The conductive nanowires may be linear or curved. In such conductive nanowires, the conductive nanowires form gaps to form a mesh, so that even a small amount of conductive nanowires can form a good electric conduction path, and electric resistance can be obtained. A small conductive layer can be realized. Further, since the conductive wire has a mesh shape to form an opening in the gap between the meshes, a conductive layer having high light transmittance can be obtained. Furthermore, by using a conductive layer containing conductive nanowires, it is usually possible to obtain a base material having excellent bending resistance.

導電性ナノワイヤの太さdと長さLとの比(アスペクト比:L/d)は、好ましくは10〜100,000であり、より好ましくは50〜100,000であり、特に好ましくは100〜10,000である。このようにアスペクト比の大きい導電性ナノワイヤを用いれば、導電性ナノワイヤが良好に交差して、少量の導電性ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、透明性に優れる基材を得ることができる。ここで、「導電性ナノワイヤの太さ」とは、導電性ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。導電性ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって測定しうる。 The ratio (aspect ratio: L / d) of the thickness d to the length L of the conductive nanowire is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, and particularly preferably 100 to 100. It is 10,000. When conductive nanowires having a large aspect ratio are used in this way, the conductive nanowires can cross each other well, and a small amount of conductive nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a base material having excellent transparency can be obtained. Here, the "thickness of the conductive nanowire" means the diameter of the conductive nanowire when the cross section is circular, the minor diameter of the conductive nanowire when it is elliptical, and when it is polygonal. Means the longest diagonal. The thickness and length of the conductive nanowires can be measured by a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

導電性ナノワイヤの太さは、好ましくは500nm未満であり、より好ましくは200nm未満であり、更に好ましくは10nm〜100nmであり、特に好ましくは10nm〜50nmである。これにより、導電層の透明性を高めることができる。 The thickness of the conductive nanowires is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, still more preferably 10 nm to 100 nm, and particularly preferably 10 nm to 50 nm. This makes it possible to increase the transparency of the conductive layer.

導電性ナノワイヤの長さは、好ましくは2.5μm〜1000μmであり、より好ましくは10μm〜500μmであり、特に好ましくは20μm〜100μmである。これにより、導電層の導電性を高めることができる。 The length of the conductive nanowires is preferably 2.5 μm to 1000 μm, more preferably 10 μm to 500 μm, and particularly preferably 20 μm to 100 μm. This makes it possible to increase the conductivity of the conductive layer.

導電性ナノワイヤとしては、例えば、金属により構成される金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブを含む導電性ナノワイヤ等が挙げられる。 Examples of the conductive nanowires include metal nanowires made of metal, conductive nanowires containing carbon nanotubes, and the like.

導電層における導電性ナノワイヤの含有率は、導電層の全重量に対して、好ましくは80重量%〜100重量%であり、より好ましくは85重量%〜99重量%である。これにより、導電性および光透過性に優れる導電層を得ることができる。 The content of the conductive nanowires in the conductive layer is preferably 80% by weight to 100% by weight, more preferably 85% by weight to 99% by weight, based on the total weight of the conductive layer. This makes it possible to obtain a conductive layer having excellent conductivity and light transmission.

導電性ナノワイヤを含む導電層は、導電性ナノワイヤを溶媒に分散させて得られた導電性ナノワイヤ分散液を塗工及び乾燥させることにより、製造しうる。 The conductive layer containing the conductive nanowires can be produced by applying and drying a conductive nanowire dispersion liquid obtained by dispersing the conductive nanowires in a solvent.

金属メッシュとは、格子状に形成された金属細線である。金属メッシュに含まれる金属としては、導電性の高い金属が好ましい。好適な金属の例としては、金、白金、銀及び銅が挙げられ、なかでも好ましくは銀、銅及び金であり、より好ましくは銀である。これらの金属は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The metal mesh is a thin metal wire formed in a grid pattern. As the metal contained in the metal mesh, a metal having high conductivity is preferable. Examples of suitable metals include gold, platinum, silver and copper, with silver, copper and gold being preferred, and silver being more preferred. One of these metals may be used alone, or two or more of these metals may be used in combination at any ratio.

金属メッシュを含む導電層は、例えば、銀塩を含む導電層形成用組成物を塗工し、露光処理及び現像処理によって金属細線を所定の格子パターンに形成することにより、形成できる。また、金属メッシュを含む導電層は、金属微粒子を含む導電層形成用組成物を所定のパターンに印刷することによっても、形成できる。このような導電層及びその形成方法の詳細については、特開2012−18634号公報、特開2003−331654号公報を参照しうる。 The conductive layer containing the metal mesh can be formed, for example, by applying a composition for forming a conductive layer containing a silver salt and forming fine metal lines in a predetermined lattice pattern by exposure treatment and development treatment. Further, the conductive layer containing the metal mesh can also be formed by printing a composition for forming a conductive layer containing metal fine particles on a predetermined pattern. For details of such a conductive layer and a method for forming the same, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-18634 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-331654 can be referred to.

導電性ポリマーとしては、例えば、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマー、ポリピロール系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー、アクリル系ポリマーで変性されたポリエステル系ポリマー等が挙げられる。中でも、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマーおよびポリピロール系ポリマーが好ましい。その中でも、特に、ポリチオフェン系ポリマーが好ましい。ポリチオフェン系ポリマーを用いることにより、透明性及び化学的安定性に優れる導電層を得ることができる。ポリチオフェン系ポリマーの具体例としては、ポリチオフェン;ポリ(3−ヘキシルチオフェン)等のポリ(3−C1−8アルキル−チオフェン);ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ[3,4−(1,2−シクロヘキシレン)ジオキシチオフェン]等のポリ(3,4−(シクロ)アルキレンジオキシチオフェン);ポリチエニレンビニレン等が挙げられる。
また、前記の導電性ポリマーは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
Examples of the conductive polymer include polythiophene-based polymers, polyacetylene-based polymers, polyparaphenylene-based polymers, polyaniline-based polymers, polyparaphenylene vinylene-based polymers, polypyrrole-based polymers, polyphenylene-based polymers, and polyester-based polymers modified with acrylic polymers. Examples include polymers. Of these, polythiophene-based polymers, polyacetylene-based polymers, polyparaphenylene-based polymers, polyaniline-based polymers, polyparaphenylene vinylene-based polymers, and polypyrrole-based polymers are preferable. Among them, a polythiophene-based polymer is particularly preferable. By using a polythiophene-based polymer, a conductive layer having excellent transparency and chemical stability can be obtained. Specific examples of the polythiophene-based polymer include polythiophene; poly (3-C 1-8 alkyl-thiophene) such as poly (3-hexylthiophene); poly (3,4-ethylenedioxythiophene), and poly (3,4). -Polypropylene dioxythiophene), poly [3,4- (1,2-cyclohexylene) dioxythiophene] and other polys (3,4- (cyclo) alkylenedioxythiophene); polythienylene binylene and the like. ..
In addition, one type of the above-mentioned conductive polymer may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

導電性ポリマーを含む導電層は、例えば、導電性ポリマーを含む導電性組成物を塗工し、乾燥することにより形成しうる。導電性ポリマーを含む導電層については、特開2011−175601号公報を参照しうる。 The conductive layer containing the conductive polymer can be formed, for example, by applying a conductive composition containing the conductive polymer and drying it. For the conductive layer containing the conductive polymer, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-175601 can be referred to.

導電層は、基材の面内方向の全体に形成されていてもよいが、所定のパターンにパターン化されていてもよい。導電層のパターンの形状は、タッチパネル(例えば、静電容量方式タッチパネル)として良好に動作するパターンが好ましく、例えば、特表2011−511357号公報、特開2010−164938号公報、特開2008−310550号公報、特表2003−511799号公報、特表2010−541109号公報に記載のパターンが挙げられる。 The conductive layer may be formed on the entire surface of the base material in the in-plane direction, or may be patterned in a predetermined pattern. The shape of the pattern of the conductive layer is preferably a pattern that operates well as a touch panel (for example, a capacitive touch panel). Examples thereof include the patterns described in Japanese Patent Publication No. 2003-511799, and Japanese Patent Publication No. 2010-541109.

導電層の表面抵抗値は、好ましくは2000Ω/□以下、より好ましくは1500Ω/□以下、特に好ましくは1000Ω/□以下である。導電層の表面抵抗値がこのように低いことにより、基材を用いて高性能のタッチパネルを実現できる。導電層の表面抵抗値の下限に特段の制限は無いが、製造が容易であることから、好ましくは100Ω/□以上、より好ましくは200Ω/□以上、特に好ましくは300Ω/□以上である。 The surface resistance value of the conductive layer is preferably 2000 Ω / □ or less, more preferably 1500 Ω / □ or less, and particularly preferably 1000 Ω / □ or less. With such a low surface resistance value of the conductive layer, a high-performance touch panel can be realized by using a base material. There is no particular limitation on the lower limit of the surface resistance value of the conductive layer, but it is preferably 100 Ω / □ or more, more preferably 200 Ω / □ or more, and particularly preferably 300 Ω / □ or more because it is easy to manufacture.

導電層の波長400nm〜700nmの範囲における光線透過率は、好ましくは85%以上であり、より好ましくは90%以上であり、さらに好ましくは95%以上である。 The light transmittance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm of the conductive layer is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more.

導電層の厚みは、好ましくは0.01μm〜10μm、より好ましくは0.05μm〜3μm、特に好ましくは0.1μm〜1μmである。 The thickness of the conductive layer is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.05 μm to 3 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.

[2.1.6.基材の光学特性及び厚み]
上述した基材は、通常、λ/4板として機能できる。ここで、λ/4板とは、波長550nmにおいて所定の範囲の面内レターデーションを有する部材をいう。具体的には、λ/4板の波長550nmにおける面内レターデーションは、通常110nm以上、好ましくは120nm以上、より好ましくは125nm以上であり、通常165nm以下、好ましくは155nm以下、より好ましくは150nm以下である。したがって、λ/4板として機能できる基材とは、波長550nmにおいて前記範囲の面内レターデーションを有する基材をいう。λ/4板として機能できる基材を偏光子と組み合わせることにより、円偏光板を得ることができる。
[2.1.6. Optical properties and thickness of substrate]
The substrate described above can usually function as a λ / 4 plate. Here, the λ / 4 plate refers to a member having an in-plane retardation in a predetermined range at a wavelength of 550 nm. Specifically, the in-plane retardation of the λ / 4 plate at a wavelength of 550 nm is usually 110 nm or more, preferably 120 nm or more, more preferably 125 nm or more, and usually 165 nm or less, preferably 155 nm or less, more preferably 150 nm or less. Is. Therefore, the base material that can function as a λ / 4 plate is a base material having an in-plane retardation in the above range at a wavelength of 550 nm. A circular polarizing plate can be obtained by combining a base material that can function as a λ / 4 plate with a polarizing element.

基材は、表示装置の表示品位を高くする観点から、可視波長における光線透過率が高いことが好ましい。例えば、波長400nm〜700nmの範囲における基材の光線透過率は、好ましくは85%〜100%、より好ましくは87%〜100%、特に好ましくは90%〜100%である。 The base material preferably has a high light transmittance at a visible wavelength from the viewpoint of improving the display quality of the display device. For example, the light transmittance of the substrate in the wavelength range of 400 nm to 700 nm is preferably 85% to 100%, more preferably 87% to 100%, and particularly preferably 90% to 100%.

基材は、表示装置の画像鮮明性を高める観点から、ヘイズが小さいことが好ましい。基材の具体的なヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.8%以下、特に好ましくは0.5%以下である。ヘイズは、JIS K7361−1997に準拠して、濁度計を用いて測定しうる。 The base material preferably has a small haze from the viewpoint of enhancing the image sharpness of the display device. The specific haze of the base material is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, and particularly preferably 0.5% or less. Haze can be measured using a turbidity meter according to JIS K7361-1997.

基材が単層の場合、その基材の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、特に好ましくは20μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、特に好ましくは60μm以下である。基材が複層の場合、各層の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、特に好ましくは20μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、特に好ましくは60μm以下である。 When the base material is a single layer, the thickness of the base material is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, particularly preferably 20 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and particularly preferably 60 μm or less. Is. When the base material is a plurality of layers, the thickness of each layer is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, particularly preferably 20 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and particularly preferably 60 μm or less. ..

[2.1.7.基材の第一の構成例]
以下、基材の具体的な構成例を、図面を示して説明する。
図3は、一例としての基材300を模式的に示す断面図である。図3に示すように、この例に係る基材300は、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が小さい第一基材層310と、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が大きい第二基材層320と、第一基材層310の少なくとも一方の面310Uに形成された導電層330とを含む。そして、レーザー吸収剤は、第一基材層310及び第二基材層320の一方又は両方に含まれている。図3には、第一基材層310の一方の面310Uに導電層330が形成された例を示したが、導電層330は、第一基材層310の他方の面310Dに形成されていてもよく、第一基材層310の両方の面310U及び310Dに形成されていてもよい。
[2.1.7. First configuration example of the base material]
Hereinafter, a specific configuration example of the base material will be described with reference to the drawings.
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the base material 300 as an example. As shown in FIG. 3, the base material 300 according to this example has a first base material layer 310 having a small in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm and a large in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm. It includes a second base material layer 320 and a conductive layer 330 formed on at least one surface 310U of the first base material layer 310. The laser absorber is contained in one or both of the first base material layer 310 and the second base material layer 320. FIG. 3 shows an example in which the conductive layer 330 is formed on one surface 310U of the first base material layer 310, but the conductive layer 330 is formed on the other surface 310D of the first base material layer 310. It may be formed on both surfaces 310U and 310D of the first base material layer 310.

第一基材層310は光学等方性の層であることが好ましい。よって、第一基材層の波長550nmにおける第一基材層310の面内レターデーションRe(550)及び厚み方向のレターデーションRth(550)は小さいことが好ましい。具体的には、第一基材層310の波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)は、好ましくは10nm以下、より好ましくは5nm以下、特に好ましくは4nm以下であり、理想的には0nmである。また、第一基材層310の波長550nmにおける厚み方向のレターデーションRth(550)は、好ましくは15nm以下、より好ましくは13nm以下、特に好ましくは10nm以下である。下限は、特段の制限は無く、理想的には0nmであるが、通常5nm以上である。このように第一基材層310が光学等方性であることにより、表示装置に用いた場合に表示画面の着色を抑制したり、視野角特性を改善したりすることができる。第一基材層310は単層構造であっても、複層構造であってもよい。第一基材層310としては、脂環式構造含有重合体フィルム(例えば、ゼオノアフィルム(日本ゼオン社製))やトリアセチルセルロース(TAC)フィルムなどが挙げられる。 The first substrate layer 310 is preferably an optically isotropic layer. Therefore, it is preferable that the in-plane retardation Re (550) and the thickness direction retardation Rth (550) of the first base material layer 310 at a wavelength of 550 nm of the first base material layer are small. Specifically, the in-plane retardation Re (550) of the first substrate layer 310 at a wavelength of 550 nm is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, particularly preferably 4 nm or less, and ideally 0 nm. be. The thickness direction retardation Rth (550) of the first substrate layer 310 at a wavelength of 550 nm is preferably 15 nm or less, more preferably 13 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The lower limit is not particularly limited and is ideally 0 nm, but is usually 5 nm or more. Since the first base material layer 310 is optically isotropic in this way, it is possible to suppress coloring of the display screen and improve the viewing angle characteristics when used in a display device. The first base material layer 310 may have a single-layer structure or a multi-layer structure. Examples of the first base material layer 310 include an alicyclic structure-containing polymer film (for example, Zeonoa film (manufactured by Zeon Corporation)) and a triacetyl cellulose (TAC) film.

また、波長550nmにおける第二基材層320の面内レターデーションRe(550)は、好ましくは90nm以上、より好ましくは100nm以上、特に好ましくは110nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは145nm以下、特に好ましくは140nm以下である。第二基材層としては、例えば、斜め延伸フィルム(ゼオノアフィルムZDシリーズ、日本ゼオン社製)などが挙げられる。
このようなレターデーションを有する第一基材層310及び第二基材層320を組み合わせることにより、λ/4板として機能できる基材300を実現することができる。
The in-plane retardation Re (550) of the second substrate layer 320 at a wavelength of 550 nm is preferably 90 nm or more, more preferably 100 nm or more, particularly preferably 110 nm or more, preferably 150 nm or less, and more preferably 145 nm. Below, it is particularly preferably 140 nm or less. Examples of the second base material layer include diagonally stretched films (Zeonoa film ZD series, manufactured by Zeon Corporation).
By combining the first base material layer 310 and the second base material layer 320 having such a retardation, the base material 300 that can function as a λ / 4 plate can be realized.

前記の基材300の好ましい実施形態として、第一基材層310及び第二基材層320の一方又は両方が、第一外側層と、第二外側層と、前記の第一外側層及び第二外側層の間に設けられた中間層とを含む複層構造の樹脂層である(図2参照)。このような樹脂層では、中間層に含まれる成分は、ブリードアウトを生じ難い。よって、中間層がブリードアウトを生じ易い成分を含む場合に、前記ブリードアウトによる製造設備の汚れを抑制しながら基材300の製造が可能となる。よって、レーザー吸収剤及び任意の成分としての紫外線吸収剤は、中間層に含まれることが好ましい。 As a preferred embodiment of the base material 300, one or both of the first base material layer 310 and the second base material layer 320 are the first outer layer, the second outer layer, and the first outer layer and the first outer layer. It is a resin layer having a multi-layer structure including an intermediate layer provided between the two outer layers (see FIG. 2). In such a resin layer, the components contained in the intermediate layer are unlikely to cause bleed-out. Therefore, when the intermediate layer contains a component that easily causes bleed-out, the base material 300 can be manufactured while suppressing the contamination of the manufacturing equipment due to the bleed-out. Therefore, it is preferable that the laser absorber and the ultraviolet absorber as an arbitrary component are contained in the intermediate layer.

上述した基材300において、第一基材層310及び第二基材層320の一方又は両方の厚みは、好ましくは10μm〜60μm、より好ましくは15μm〜55μm、特に好ましくは20μm〜50μmである。第一基材層310及び第二基材層320の一方又は両方の厚みが前記の範囲に収まることにより、偏光子保護フィルム自体の自己支持性を保持することができ、偏光子保護フィルムの剛性を維持することができる。 In the above-mentioned base material 300, the thickness of one or both of the first base material layer 310 and the second base material layer 320 is preferably 10 μm to 60 μm, more preferably 15 μm to 55 μm, and particularly preferably 20 μm to 50 μm. When the thickness of one or both of the first base material layer 310 and the second base material layer 320 falls within the above range, the self-supporting property of the polarizing element protective film itself can be maintained, and the rigidity of the polarizing element protective film can be maintained. Can be maintained.

[2.1.8.第二の構成例]
以下、基材の別の具体的な構成例を、図面を示して説明する。
図4は、一例としての基材400を模式的に示す断面図である。図4に示すように、この例に係る基材400は、λ/4板として機能できる第一基材層410と、λ/2板として機能できる第二基材層420と、第一基材層410の少なくとも一方の面410Uに形成された導電層430とを含む。そして、レーザー吸収剤は、第一基材層410及び第二基材層420の一方又は両方に含まれている。図4には、第一基材層410の一方の面410Uに導電層430が形成された例を示したが、導電層430は、第一基材層410の他方の面410Dに形成されていてもよく、第一基材層410の両方の面410U及び410Dに形成されていてもよい。
[2.1.8. Second configuration example]
Hereinafter, another specific configuration example of the base material will be described with reference to the drawings.
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the base material 400 as an example. As shown in FIG. 4, the base material 400 according to this example includes a first base material layer 410 that can function as a λ / 4 plate, a second base material layer 420 that can function as a λ / 2 plate, and a first base material. It includes a conductive layer 430 formed on at least one surface 410U of the layer 410. The laser absorber is contained in one or both of the first base material layer 410 and the second base material layer 420. FIG. 4 shows an example in which the conductive layer 430 is formed on one surface 410U of the first base material layer 410, but the conductive layer 430 is formed on the other surface 410D of the first base material layer 410. It may be formed on both surfaces 410U and 410D of the first substrate layer 410.

第一基材層410は、λ/4板として機能できる層である。よって、第一基材層410は、波長550nmにおいて所定の範囲の面内レターデーションを有する。具体的には、第一基材層410の波長550nmにおける面内レターデーションは、通常110nm以上、好ましくは120nm以上、より好ましくは125nm以上であり、通常165nm以下、好ましくは155nm以下、より好ましくは150nm以下である。 The first base material layer 410 is a layer that can function as a λ / 4 plate. Therefore, the first substrate layer 410 has an in-plane retardation in a predetermined range at a wavelength of 550 nm. Specifically, the in-plane retardation of the first substrate layer 410 at a wavelength of 550 nm is usually 110 nm or more, preferably 120 nm or more, more preferably 125 nm or more, usually 165 nm or less, preferably 155 nm or less, more preferably. It is 150 nm or less.

第二基材層420は、λ/2板として機能できる層である。ここで、λ/2板とは、波長550nmにおいて所定の範囲の面内レターデーションを有する層をいう。具体的には、λ/2板の波長550nmにおける面内レターデーションは、通常240nm以上、好ましくは250nm以上であり、通常300nm以下、好ましくは280nm以下、特に好ましくは265nm以下である。したがって、λ/2板として機能できる第二基材層420とは、波長550nmにおいて前記範囲の面内レターデーションを有する層をいう。 The second base material layer 420 is a layer that can function as a λ / 2 plate. Here, the λ / 2 plate refers to a layer having an in-plane retardation in a predetermined range at a wavelength of 550 nm. Specifically, the in-plane retardation of the λ / 2 plate at a wavelength of 550 nm is usually 240 nm or more, preferably 250 nm or more, usually 300 nm or less, preferably 280 nm or less, and particularly preferably 265 nm or less. Therefore, the second base material layer 420 that can function as a λ / 2 plate is a layer having an in-plane retardation in the above range at a wavelength of 550 nm.

λ/4板として機能できる第一基材層410と、λ/2板として機能できる第二基材層420とを組み合わせて含むことにより、基材400は、広帯域λ/4板として機能できる。ここで、広帯域λ/4板とは、逆波長分散特性を示すλ/4板をいう。広帯域λ/4板は、広範な波長範囲においてλ/4板としての機能を発揮できるので、広帯域λ/4板として機能できる基材400を含む表示装置は、特に正面方向から観察した画像の意図しない色付きを抑制できる。また、広帯域λ/4板として機能できる基材400を含む偏光子保護フィルムを偏光子と組み合わせることによって、広い波長範囲において機能できる円偏光板を実現することができる。 By including the first base material layer 410 that can function as a λ / 4 plate and the second base material layer 420 that can function as a λ / 2 plate in combination, the base material 400 can function as a wideband λ / 4 plate. Here, the wideband λ / 4 plate means a λ / 4 plate exhibiting reverse wavelength dispersion characteristics. Since the wideband λ / 4 board can function as a λ / 4 board in a wide wavelength range, a display device including a base material 400 that can function as a wideband λ / 4 board is particularly intended for an image observed from the front direction. It is possible to suppress coloring that does not occur. Further, by combining a polarizing element protective film containing a base material 400 that can function as a wideband λ / 4 plate with a polarizing element, a circular polarizing plate that can function in a wide wavelength range can be realized.

ただし、基材400が広帯域λ/4板として機能できるようにするために、第一基材層410の遅相軸と第二基材層420の遅相軸とがなす交差角は、適切な範囲に調整することが好ましい。
一般に、ある基準方向に対して角度θ(λ/4)をなす遅相軸を有するλ/4板と、前記基準方向に対して角度θ(λ/2)をなす遅相軸を有するλ/2板とを組み合わせた複層フィルムが、式(X):「θ(λ/4)=2θ(λ/2)+45°」を満たす場合、この複層フィルムは、広い波長範囲において当該複層フィルムを通過する正面方向の光にその光の波長の略1/4波長の面内レターデーションを与えうる広帯域λ/4板となる(特開2007−004120号公報参照)。よって、λ/4板として機能できる第一基材層410と、λ/2板として機能できる第二基材層420との組み合わせによって広帯域λ/4板として機能できる基材400を得る観点から、λ/4板として機能できる第一基材層410の遅相軸と、λ/2板として機能できる第二基材層420の遅相軸との間に、前記式(X)で表されるのに近い関係を満たすことが好ましい。このような観点から、λ/4板として機能できる第一基材層410の遅相軸と、λ/2板として機能できる第二基材層420の遅相軸とがなす交差角は、好ましくは55°以上、より好ましくは57°以上、特に好ましくは59°以上であり、好ましくは65°以下、より好ましくは63°以下、特に好ましくは61°以下である。
However, in order to enable the base material 400 to function as a broadband λ / 4 plate, the crossing angle formed by the slow phase axis of the first base material layer 410 and the slow phase axis of the second base material layer 420 is appropriate. It is preferable to adjust to the range.
Generally, a λ / 4 plate having a slow axis having an angle θ (λ / 4) with respect to a certain reference direction and a λ / having a slow axis having an angle θ (λ / 2) with respect to the reference direction. When the multi-layer film in which the two plates are combined satisfies the formula (X): "θ (λ / 4) = 2θ (λ / 2) + 45 °", the multi-layer film is the multi-layer film in a wide wavelength range. It is a wideband λ / 4 plate capable of imparting an in-plane retardation of approximately 1/4 wavelength of the wavelength of the light passing through the film in the front direction (see JP-A-2007-004120). Therefore, from the viewpoint of obtaining a base material 400 that can function as a wideband λ / 4 plate by combining the first base material layer 410 that can function as a λ / 4 plate and the second base material layer 420 that can function as a λ / 2 plate. It is represented by the above formula (X) between the slow axis of the first base material layer 410 that can function as a λ / 4 plate and the slow axis of the second base material layer 420 that can function as a λ / 2 plate. It is preferable to satisfy the relationship close to. From this point of view, the crossing angle formed by the slow axis of the first base material layer 410 that can function as a λ / 4 plate and the slow axis of the second base material layer 420 that can function as a λ / 2 plate is preferable. Is 55 ° or more, more preferably 57 ° or more, particularly preferably 59 ° or more, preferably 65 ° or less, more preferably 63 ° or less, and particularly preferably 61 ° or less.

前記の基材400の好ましい実施形態として、第二基材層420は、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された第一光学異方性層であることが好ましい。通常、液晶組成物の硬化物によれば、耐久性を上げることができ、更には薄くても大きなレターデーションを得やすい。よって、第二基材層420として第一光学異方性層を用いることにより、特に耐熱性の優れた薄い基材層400を得ることができる。
第二基材層420として第一光学異方性層を用いる場合、第一基材層410としては、通常、レーザー吸収剤を含む樹脂層を用いる。
As a preferred embodiment of the base material 400, the second base material layer 420 is preferably a first optically anisotropic layer formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound. Usually, a cured product of a liquid crystal composition can increase durability, and even if it is thin, it is easy to obtain a large retardation. Therefore, by using the first optically anisotropic layer as the second base material layer 420, a thin base material layer 400 having particularly excellent heat resistance can be obtained.
When the first optically anisotropic layer is used as the second base material layer 420, a resin layer containing a laser absorber is usually used as the first base material layer 410.

また、前記の基材400の別の好ましい実施形態として、第一基材層410及び第二基材層420の一方又は両方が、第一外側層と、第二外側層と、前記の第一外側層及び第二外側層の間に設けられた中間層とを含む複層構造の樹脂層であることが好ましい(図2参照)。このような樹脂層では、ブリードアウトを抑制する観点から、レーザー吸収剤及び任意の成分としての紫外線吸収剤は、中間層に含まれることが好ましい。 Further, as another preferred embodiment of the base material 400, one or both of the first base material layer 410 and the second base material layer 420 may be the first outer layer, the second outer layer, and the first one. A resin layer having a multi-layer structure including an intermediate layer provided between the outer layer and the second outer layer is preferable (see FIG. 2). In such a resin layer, from the viewpoint of suppressing bleed-out, it is preferable that the laser absorber and the ultraviolet absorber as an arbitrary component are contained in the intermediate layer.

上述した基材400において、第一基材層410及び第二基材層420の一方又は両方の厚みは、基材の第一の構成例と同様に、好ましくは10μm〜60μmである。 In the above-mentioned base material 400, the thickness of one or both of the first base material layer 410 and the second base material layer 420 is preferably 10 μm to 60 μm, as in the first configuration example of the base material.

[2.2.任意の層]
偏光子保護フィルムは、基材に組み合わせて、更に任意の層を含んでいてもよい。任意の層としては、例えば、粘着層、接着層、ハードコート層、インデックスマッチング層、易接着層、防眩層、反射防止層などが挙げられる。
[2.2. Any layer]
The polarizing element protective film may further contain any layer in combination with the substrate. Examples of the optional layer include an adhesive layer, an adhesive layer, a hard coat layer, an index matching layer, an easy adhesive layer, an antiglare layer, an antireflection layer and the like.

[2.3.偏光子保護フィルムの特性及び厚み]
偏光子保護フィルムは、表示装置の表示品位を高くする観点から、可視波長における光線透過率が高いことが好ましい。例えば、波長400nm〜700nmの範囲における偏光子保護フィルムの光線透過率は、好ましくは85%〜100%、より好ましくは87%〜100%、特に好ましくは90%〜100%である。
[2.3. Characteristics and thickness of polarizing element protective film]
The polarizing element protective film preferably has a high light transmittance at a visible wavelength from the viewpoint of improving the display quality of the display device. For example, the light transmittance of the polarizing element protective film in the wavelength range of 400 nm to 700 nm is preferably 85% to 100%, more preferably 87% to 100%, and particularly preferably 90% to 100%.

また、偏光子の外光およびバックライトからの紫外線による劣化を抑制するために、波長380nmにおける光線透過率は、好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下、特に好ましくは0.05%以下である。光線透過率は紫外線吸収剤により制御できる。 Further, in order to suppress deterioration of the polarizing element due to external light and ultraviolet rays from the backlight, the light transmittance at a wavelength of 380 nm is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.05. % Or less. The light transmittance can be controlled by an ultraviolet absorber.

偏光子保護フィルムは、表示装置の画像鮮明性を高める観点から、ヘイズが小さいことが好ましい。偏光子保護フィルムのヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.8%以下、特に好ましくは0.5%以下である。 The polarizing element protective film preferably has a small haze from the viewpoint of enhancing the image sharpness of the display device. The haze of the polarizing element protective film is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, and particularly preferably 0.5% or less.

偏光子保護フィルムの厚みは、特段の制限は無いが、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、特に好ましくは20μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、特に好ましくは60μm以下である。 The thickness of the polarizing element protective film is not particularly limited, but is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, particularly preferably 20 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and particularly preferably 60 μm or less. Is.

[3.偏光子]
偏光子は、偏光透過軸及び偏光吸収軸を有する光学部材である。この偏光子は、偏光吸収軸と平行な振動方向を有する直線偏光を吸収し、偏光透過軸と平行な振動方向を有する直線偏光を通過させることができる。ここで、直線偏光の振動方向とは、直線偏光の電場の振動方向を意味する。
[3. Polarizer]
The polarizing element is an optical member having a polarization transmitting axis and a polarization absorbing axis. This polarizing element can absorb linearly polarized light having a vibration direction parallel to the polarization absorption axis and pass linearly polarized light having a vibration direction parallel to the polarization transmission axis. Here, the vibration direction of linearly polarized light means the vibration direction of an electric field of linearly polarized light.

偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等の適切なビニルアルコール系重合体のフィルムに、ヨウ素及び二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適切な処理を適切な順序及び方式で施したフィルムを用いうる。この直線偏光子は、偏光度に優れるものが好ましい。直線偏光子の厚みは、5μm〜80μmが一般的であるが、これに限定されない。 Examples of the polarizing element include dyeing, stretching, and cross-linking a film of an appropriate vinyl alcohol-based polymer such as polyvinyl alcohol and partially formalized polyvinyl alcohol with a dichroic substance such as iodine and a dichroic dye. Films that have been subjected to the appropriate treatments in the appropriate order and method can be used. The linear polarizing element is preferably one having an excellent degree of polarization. The thickness of the linear polarizing element is generally, but is not limited to, 5 μm to 80 μm.

λ/4板として機能できる基材を含む偏光子保護フィルムと偏光子との組み合わせによって円偏光板を得る観点から、偏光子保護フィルムの基材の遅相軸と偏光子の透過軸とは、交差していることが好ましい。この際、基材の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は、所定の範囲に収まることが好ましい。前記の交差角の具体的範囲は、好ましくは45°±5°、より好ましくは45°±3°、特に好ましくは45°±1°である。交差角を前記の範囲に調整されていると、偏光子を透過して偏光子保護フィルムに進入した直線偏光を、λ/4板として機能できる基材によって、円偏光に変換することができる。偏光子を透過して偏光子保護フィルムに進入した直線偏光を円偏光に変換することで、偏光子保護フィルムを視認側に配置した表示装置では、偏光サングラスを通してみた場合でも、表示品位を落とすことなく表示装置を見ることができる。 From the viewpoint of obtaining a circular polarizing plate by combining a polarizing element protective film containing a base material that can function as a λ / 4 plate and a polarizing element, the slow axis of the base material of the polarizing element protective film and the transmission axis of the polarizing element are It is preferable that they intersect. At this time, it is preferable that the crossing angle between the slow axis of the base material and the transmission axis of the substituent is within a predetermined range. The specific range of the intersection angle is preferably 45 ° ± 5 °, more preferably 45 ° ± 3 °, and particularly preferably 45 ° ± 1 °. When the crossing angle is adjusted to the above range, the linearly polarized light that has passed through the polarizing element and entered the polarizing element protective film can be converted into circularly polarized light by a base material that can function as a λ / 4 plate. By converting the linearly polarized light that has passed through the polarizing element and entered the polarizing element protective film into circularly polarized light, the display device with the polarizing element protective film placed on the visual side deteriorates the display quality even when viewed through polarized sunglasses. You can see the display device without.

[4.位相差フィルム]
位相差フィルムは、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が90nm〜150nmのフィルムである。より詳細には、位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)は、好ましくは90nm以上、より好ましくは95nm以上、特に好ましくは100nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは145nm以下、特に好ましくは140nm以下である。このような範囲の面内レターデーションRe(550)を有する位相差フィルムは、λ/4板として機能できる。よって、位相差フィルムと偏光子との組み合わせにより、円偏光板を得ることができる。
[4. Phase difference film]
The retardation film is a film having an in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of 90 nm to 150 nm. More specifically, the in-plane retardation Re (550) of the retardation film at a wavelength of 550 nm is preferably 90 nm or more, more preferably 95 nm or more, particularly preferably 100 nm or more, preferably 150 nm or less, and more preferably 145 nm. Below, it is particularly preferably 140 nm or less. A retardation film having an in-plane retardation Re (550) in such a range can function as a λ / 4 plate. Therefore, a circularly polarizing plate can be obtained by combining a retardation film and a polarizing element.

位相差フィルムと偏光子との組み合わせによって円偏光板を得る観点から、位相差フィルムの遅相軸と偏光子の透過軸とは、交差していることが好ましい。この際、位相差フィルムの遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は、所定の範囲に収まることが好ましい。前記の交差角の具体的範囲は、好ましくは45°±5°、より好ましくは45°±3°、特に好ましくは45°±1°である。交差角を前記の範囲に調整されていると、偏光子を透過して位相差フィルムに進入した直線偏光を、その位相差フィルムによって、円偏光に変換することができる。 From the viewpoint of obtaining a circularly polarizing plate by combining a retardation film and a polarizing element, it is preferable that the slow axis of the retardation film and the transmission axis of the polarizing element intersect with each other. At this time, it is preferable that the crossing angle between the slow axis of the retardation film and the transmission axis of the polarizing element is within a predetermined range. The specific range of the intersection angle is preferably 45 ° ± 5 °, more preferably 45 ° ± 3 °, and particularly preferably 45 ° ± 1 °. When the crossing angle is adjusted to the above range, the linearly polarized light that has passed through the polarizing element and entered the retardation film can be converted into circularly polarized light by the retardation film.

前記の位相差フィルムとしては、例えば、樹脂によって形成されたフィルムを用いうる。位相差フィルムを形成する樹脂としては、重合体と、必要に応じて重合体以外の任意の成分を含む樹脂を用いることができる。よって、位相差フィルムとしては、重合体及び必要に応じて任意の成分を含むフィルムを用いることができる。このフィルムとしては、単層構造のフィルムを用いてもよく、複層構造のフィルムを用いてもよい。 As the retardation film, for example, a film formed of a resin can be used. As the resin for forming the retardation film, a polymer and, if necessary, a resin containing an arbitrary component other than the polymer can be used. Therefore, as the retardation film, a film containing a polymer and, if necessary, an arbitrary component can be used. As this film, a single-layer structure film may be used, or a multi-layer structure film may be used.

重合体としては、例えば、基材に含まれうる重合体として説明した範囲から選択される任意の重合体を用いることができ、中でも、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体を含む位相差フィルムを用いることにより、脂環式構造含有重合体の優れた性質を活用して、耐久性に優れた表示装置を得ることができる。
位相差フィルムにおける重合体の量は、好ましくは90.0重量%〜100重量%、より好ましくは95.0重量%〜100重量%である。重合体の量を前記範囲にすることにより、位相差フィルムの耐湿熱性及び機械的強度を効果的に高めることができる。
また、任意の成分としては、例えば、基材に含まれうる任意の成分として挙げたのと同様の成分が挙げられる。
As the polymer, for example, any polymer selected from the range described as the polymer that can be contained in the substrate can be used, and among them, the alicyclic structure-containing polymer is preferable. By using the retardation film containing the alicyclic structure-containing polymer, it is possible to obtain a display device having excellent durability by utilizing the excellent properties of the alicyclic structure-containing polymer.
The amount of the polymer in the retardation film is preferably 90.0% by weight to 100% by weight, more preferably 95.0% by weight to 100% by weight. By setting the amount of the polymer in the above range, the moisture resistance and mechanical strength of the retardation film can be effectively increased.
Moreover, as an arbitrary component, for example, the same component as mentioned as an arbitrary component which can be contained in a substrate can be mentioned.

位相差フィルムは、好ましくは延伸フィルムを含む。この延伸フィルムは、樹脂フィルムに延伸処理を施して得られたフィルムであり、通常は、延伸フィルム自体を位相差フィルムとして用いることができる。延伸フィルムを用いることにより、位相差フィルムを容易に得ることができる。 The retardation film preferably includes a stretched film. This stretched film is a film obtained by subjecting a resin film to a stretching treatment, and the stretched film itself can usually be used as a retardation film. By using the stretched film, a retardation film can be easily obtained.

また、位相差フィルムとしては、例えば、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された光学異方性層を用いてもよい。以下の説明では、基材に含まれうる第一光学異方性層と区別するため、位相差フィルムとしての光学異方性層を「第二光学異方性層」ということがある。第二光学異方性層としては、第一光学異方性層として説明した範囲に含まれる層を任意に用いうる。通常、液晶組成物の硬化物によれば、耐久性を上げることができ、薄くても大きなレターデーションを得やすいので、位相差フィルムとして第二光学異方性層を用いることにより、表示装置の薄型化を達成できる。 Further, as the retardation film, for example, an optically anisotropic layer formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound may be used. In the following description, the optically anisotropic layer as the retardation film may be referred to as a "second optically anisotropic layer" in order to distinguish it from the first optically anisotropic layer that may be contained in the substrate. As the second optically anisotropic layer, a layer included in the range described as the first optically anisotropic layer can be arbitrarily used. Usually, according to a cured product of a liquid crystal composition, durability can be improved and a large retardation can be easily obtained even if it is thin. Therefore, by using a second optically anisotropic layer as a retardation film, a display device can be used. Achieves thinning.

位相差フィルムが第二光学異方性層である場合、位相差フィルムの波長450nmにおける面内レターデーションRe(450)と、位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)とが、Re(450)/Re(550)<1.0を満たすことが好ましい。Re(450)/Re(550)<1.0を満たすレターデーションを有する位相差フィルムは、広帯域λ/4板として機能できる。そのため、位相差フィルムと偏光子との組み合わせにより、広い波長範囲において機能できる円偏光板を得ることが可能である。Re(450)/Re(550)<1.0を満たすレターデーションを有する位相差フィルムは、例えば、第二光学異方性層の材料として、逆波長分散液晶を含む液晶組成物を用いることにより得ることができる。 When the retardation film is the second optically anisotropic layer, the in-plane retardation Re (450) of the retardation film at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re (550) of the retardation film at a wavelength of 550 nm are It is preferable to satisfy Re (450) / Re (550) <1.0. A retardation film having a retardation satisfying Re (450) / Re (550) <1.0 can function as a wideband λ / 4 plate. Therefore, it is possible to obtain a circularly polarizing plate that can function in a wide wavelength range by combining a retardation film and a polarizing element. For the retardation film having a retardation satisfying Re (450) / Re (550) <1.0, for example, by using a liquid crystal composition containing a reverse wavelength dispersion liquid crystal as the material of the second optically anisotropic layer. Obtainable.

位相差フィルムの厚みは、レターデーション等の光学特性を所望の範囲にできるように適宜調整でき、好ましくは1.0μm以上、より好ましくは3.0μm以上、特に好ましくは5.0μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、特に好ましくは55μm以下である。 The thickness of the retardation film can be appropriately adjusted so that the optical properties such as retardation can be adjusted to a desired range, and is preferably 1.0 μm or more, more preferably 3.0 μm or more, and particularly preferably 5.0 μm or more. It is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and particularly preferably 55 μm or less.

[5.表示素子]
表示素子としては、表示装置の種類に応じて様々なものがある。代表的な表示素子の例としては、液晶セル及び有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、適宜「有機EL素子」ということがある。)が挙げられる。
[5. Display element]
There are various display elements depending on the type of display device. Examples of typical display elements include liquid crystal cells and organic electroluminescence devices (hereinafter, may be appropriately referred to as "organic EL devices").

液晶セルは、例えば、インプレーンスイッチング(IPS)モード、バーチカルアラインメント(VA)モード、マルチドメインバーチカルアラインメント(MVA)モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント(CPA)モード、ハイブリッドアラインメントネマチック(HAN)モード、ツイステッドネマチック(TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(STN)モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド(OCB)モードなど、任意のモードの液晶セルを用いうる。このような液晶セルは、通常、液晶表示装置に表示素子として設けられる。 The liquid crystal cell has, for example, in-plane switching (IPS) mode, vertical alignment (VA) mode, multi-domain vertical alignment (MVA) mode, continuous spin wheel alignment (CPA) mode, hybrid alignment nematic (HAN) mode, twisted nematic. The liquid crystal cell of any mode such as (TN) mode, super twisted nematic (STN) mode, optical compensated bend (OCB) mode can be used. Such a liquid crystal cell is usually provided as a display element in a liquid crystal display device.

有機EL素子は、通常、透明電極層、発光層及び電極層をこの順に備え、透明電極層及び電極層から電圧を印加されることにより発光層が光を生じうる。有機発光層を構成する材料の例としては、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリフルオレン系、およびポリビニルカルバゾール系の材料を挙げることができる。また、発光層は、複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層を有していてもよい。さらに、有機EL素子は、バリア層、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、等電位面形成層、電荷発生層等の機能層を備えていてもよい。このような有機EL素子は、通常、有機EL表示装置に表示素子として設けられる。 The organic EL element usually includes a transparent electrode layer, a light emitting layer, and an electrode layer in this order, and the light emitting layer can generate light by applying a voltage from the transparent electrode layer and the electrode layer. Examples of the materials constituting the organic light emitting layer include polyparaphenylene vinylene-based materials, polyfluorene-based materials, and polyvinylcarbazole-based materials. Further, the light emitting layer may have a laminate of a plurality of layers having different emission colors, or a mixed layer in which a layer of a certain dye is doped with different dyes. Further, the organic EL element may include functional layers such as a barrier layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, an equipotential surface forming layer, and a charge generation layer. Such an organic EL element is usually provided as a display element in an organic EL display device.

[6.任意の部材]
表示装置は、必要に応じて、上述した偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子以外に任意の部材を備えていてもよい。
任意の部材としては、例えば、保護フィルム;液晶セル用の光学補償フィルム;表示装置が含む部材同士を接着する接着剤層及び粘着剤層;などが挙げられる。
[6. Any member]
If necessary, the display device may include any member other than the above-mentioned polarizing element protective film, polarizing element, retardation film, and display element.
Examples of the optional member include a protective film; an optical compensation film for a liquid crystal cell; an adhesive layer and an adhesive layer for adhering members to each other included in a display device.

[7.製造方法]
上述した表示装置は、通常、偏光子保護フィルムを用意する工程;偏光子保護フィルムと偏光子とを、直接又は任意の層を介して貼り合わせる工程;偏光子と位相差フィルムとを、直接又は任意の層を介して貼り合わせる工程;位相差フィルムと表示素子とを、直接又は任意の層を介して貼り合わせる工程;偏光子保護フィルムを、レーザー光によって切断する工程;を含む製造方法によって、製造できる。
[7. Production method]
The above-mentioned display device is usually a step of preparing a polarizing element protective film; a step of bonding a polarizing element protective film and a polarizing element directly or via an arbitrary layer; a polarizing element and a retardation film directly or By a manufacturing method including a step of bonding the retardation film and the display element directly or via an arbitrary layer; a step of cutting the polarizing element protective film with a laser beam; Can be manufactured.

前記の製造方法において、各工程の順番は任意である。例えば、偏光子保護フィルムを単独で切断する工程の後で、偏光子保護フィルムと偏光子とを貼り合わせる工程を行ってもよい。また、例えば、偏光子保護フィルムと偏光子とを貼り合わせる工程、及び、偏光子と位相差フィルムとを貼り合わせる工程の後で、偏光子及び位相差フィルムと同時に偏光子保護フィルムを切断する工程を行ってもよい。 In the above-mentioned manufacturing method, the order of each step is arbitrary. For example, after the step of cutting the polarizing element protective film alone, a step of bonding the polarizing element protective film and the polarizing element may be performed. Further, for example, after the step of bonding the polarizing element protective film and the polarizing element and the step of bonding the polarizing element and the retardation film, a step of cutting the polarizing element protective film at the same time as the decoder and the retardation film. May be done.

前記のように、通常、表示装置は、レーザー光によって偏光子保護フィルムを切断する工程を含む製造方法で製造できる。従来の偏光子保護フィルムには切断されるのに充分なレーザー光の吸収を有さないフィルムがあったが、レーザー吸収剤を含む基材を有する偏光子保護フィルムは、単独の状態で、又は、偏光子及び位相差フィルム等の他の部材と貼り合わせた状態で、レーザー光による切断が可能である。よって、切断カスの発生を抑制したり、切断面を滑らかにしたりできるので、表示品位に優れた表示装置を得ることができる。また、耐熱性の有る偏光子保護フィルムであるので、レーザー光による切断においても寸法変化が小さく、表示品位に優れた表示装置を得ることができる。また、耐溶媒性の有る偏光子保護フィルムであるので、接着剤を介して貼合した場合でも偏光子保護フィルムの劣化は小さく、表示品位に優れた表示装置を得ることができる。 As described above, the display device can usually be manufactured by a manufacturing method including a step of cutting the polarizing element protective film by a laser beam. While some conventional polarizing element protective films do not absorb enough laser light to be cut, a polarizing element protective film having a substrate containing a laser absorber can be used alone or in a single state. It can be cut by laser light in a state of being bonded to other members such as a polarizing element and a retardation film. Therefore, it is possible to suppress the generation of cutting residue and smooth the cut surface, so that it is possible to obtain a display device having excellent display quality. Further, since the polarizing element protective film has heat resistance, the dimensional change is small even when the film is cut by a laser beam, and a display device having excellent display quality can be obtained. Further, since the polarizing element protective film has solvent resistance, deterioration of the polarizing element protective film is small even when the film is bonded via an adhesive, and a display device having excellent display quality can be obtained.

レーザー光としては、レーザー吸収剤が吸収可能な波長のレーザー光を用いることができる。中でも、工業設備として広く普及していることから、赤外領域の波長を有するレーザー光が好ましい。その中でも、偏光子保護フィルムの切断に適した出力が効率的に得られ、且つ、比較的安価に導入可能であることから、9μm〜12μmの範囲内の波長のレーザー光が好ましい。特に、9μm〜11μmの波長のレーザー光がより好ましく、9μm以上9.5μm以下の波長のレーザー光が特に好ましい。このような波長のレーザー光は、レーザー装置として炭酸ガスレーザー装置を用いる場合に安定して出力することができる。 As the laser light, a laser light having a wavelength that can be absorbed by the laser absorber can be used. Among them, laser light having a wavelength in the infrared region is preferable because it is widely used as industrial equipment. Among them, laser light having a wavelength in the range of 9 μm to 12 μm is preferable because an output suitable for cutting the polarizing element protective film can be efficiently obtained and can be introduced at a relatively low cost. In particular, laser light having a wavelength of 9 μm to 11 μm is more preferable, and laser light having a wavelength of 9 μm or more and 9.5 μm or less is particularly preferable. Laser light having such a wavelength can be stably output when a carbon dioxide laser device is used as the laser device.

レーザー光としては、ガウシアンモードのレーザー光を用いてもよく、トップハット状のエネルギー分布を有するレーザー光を用いてもよい。中でも、レーザー光としては、少なくとも一の方位において、トップハット状のエネルギー分布を示すレーザー光を用いることが好ましい。トップハット状のエネルギー分布を有するレーザー光を用いることにより、通常は、偏光子保護フィルムの切断面を、当該偏光子保護フィルムの主面に対して垂直に近い急峻な面にできる。また、トップハット状のエネルギー分布を示すレーザー光を用いると、通常は、切断面の近傍におけるフィルムの樹脂の盛り上がりを抑制できる。 As the laser light, a Gaussian mode laser light may be used, or a laser light having a top hat-like energy distribution may be used. Above all, as the laser light, it is preferable to use a laser light showing a top hat-like energy distribution in at least one direction. By using a laser beam having a top hat-like energy distribution, the cut surface of the polarizing element protective film can usually be a steep surface close to perpendicular to the main surface of the polarizing element protective film. Further, when a laser beam showing a top hat-shaped energy distribution is used, it is usually possible to suppress the swelling of the resin of the film in the vicinity of the cut surface.

レーザー光は、連続レーザー光でもよく、パルスレーザー光でもよいが、熱の発生を抑えて切断加工を行う観点では、パルスレーザー光が好ましい。 The laser light may be continuous laser light or pulsed laser light, but pulsed laser light is preferable from the viewpoint of suppressing heat generation and performing cutting processing.

切断の際には、通常、レーザー光の照射点が偏光子保護フィルムの表面を所望の線に沿って走査するように、レーザー光を照射する。これにより、切断したい形状に偏光子保護フィルムを切断できる。この際、レーザー光の照射点に偏光子保護フィルムの表面を移動させるために、レーザー光の照射装置を移動させてもよく、偏光子保護フィルムを移動させてもよく、照射装置及び偏光子保護フィルムの両方を移動させてもよい。 At the time of cutting, the laser beam is usually irradiated so that the irradiation point of the laser beam scans the surface of the polarizing element protective film along a desired line. This makes it possible to cut the polarizing element protective film into the shape to be cut. At this time, in order to move the surface of the polarizing element protective film to the irradiation point of the laser light, the laser light irradiation device may be moved, the polarizing element protection film may be moved, and the irradiation device and the polarizing element protection may be moved. Both of the films may be moved.

[8.表示装置の具体的な実施形態]
以下、表示装置の更に具体的な実施形態を説明するが、表示装置の構造は、下記の実施形態に限定されるものでは無い。
[8. Specific Embodiment of the display device]
Hereinafter, a more specific embodiment of the display device will be described, but the structure of the display device is not limited to the following embodiments.

図5は、本発明の一実施形態に係る表示装置としての液晶表示装置50の一例を模式的に示す断面図である。
図5に示すように、液晶表示装置50は、光源510;光源側偏光子520;表示素子としての液晶セル530;位相差フィルム540;視認側偏光子550;及び、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材560を含む偏光子保護フィルム570;をこの順に備える。また、図5では、基材560が、液晶組成物の硬化物で形成された第一光学異方性層としての第二基材層561;第一外側層562、レーザー吸収剤を含む中間層563、及び、第二外側層564をこの順に備えた第一基材層565;並びに、導電層566;を視認側偏光子550側からこの順に備えている例を示すが、基材層560の構造は、この例に限定されない。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of a liquid crystal display device 50 as a display device according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 5, the liquid crystal display device 50 includes a light source 510; a light source side polarizing element 520; a liquid crystal cell 530 as a display element; a retardation film 540; a visible side polarizing element 550; and a laser absorber and λ. A polarizing element protective film 570; including a base material 560 that can function as a / 4 plate is provided in this order. Further, in FIG. 5, the base material 560 is a second base material layer 561 as a first optically anisotropic layer formed of a cured product of the liquid crystal composition; a first outer layer 562, and an intermediate layer containing a laser absorber. An example is shown in which the first base material layer 565 having the 563 and the second outer layer 564 in this order; and the conductive layer 566; are provided in this order from the viewing side polarizing element 550 side, but the base material layer 560. The structure is not limited to this example.

液晶表示装置50においては、光源510から発せられ、光源側偏光子520、液晶セル530、位相差フィルム540、視認側偏光子550、並びに、λ/4板として機能できる基材560を含む偏光子保護フィルム570を通過した光によって、画像が表示される。位相差フィルム540によって光学補償が行われるので、前記の液晶表示装置50では、十分に広い視野角が得られる。また、画像を表示する光は、視認側偏光子550を通過した時点では直線偏光であるが、偏光子保護フィルム570の基材560を通過することによって円偏光に変換される。したがって、前記の液晶表示装置50では、円偏光によって画像が表示されるので、偏光サングラスを通して見た場合に、画像を視認することが可能である。 In the liquid crystal display device 50, a polarizing element including a light source side polarizing element 520, a liquid crystal cell 530, a retardation film 540, a viewing side polarizing element 550, and a base material 560 that can function as a λ / 4 plate, which is emitted from a light source 510. The image is displayed by the light that has passed through the protective film 570. Since optical compensation is performed by the retardation film 540, a sufficiently wide viewing angle can be obtained with the liquid crystal display device 50. Further, the light for displaying an image is linearly polarized light when it passes through the viewing side polarizing element 550, but is converted into circularly polarized light by passing through the base material 560 of the polarizing element protective film 570. Therefore, in the liquid crystal display device 50, since the image is displayed by circularly polarized light, it is possible to visually recognize the image when viewed through polarized sunglasses.

また、この液晶表示装置50において、導電層566が、タッチパネル用の電極、配線等の回路部材として機能できる。よって、タッチパネルを備えた液晶表示装置50を実現することが可能である。ここでは、タッチパネルとは、表示装置に設けられ、必要に応じて表示装置の表示面に表示された画像を参照しながら、所定の箇所に使用者が触れることで情報の入力を行えるように設けられた入力装置である。タッチパネルの操作検出方式の例としては、抵抗膜方式、電磁誘導様式及び静電容量方式等の方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルが好ましい。図5に示す例においては、導電層566が液晶表示装置50の視認側偏光子550よりも外側(視認側)の位置に設けられるので、アウトセル型のタッチパネルを得ることができる。 Further, in the liquid crystal display device 50, the conductive layer 566 can function as a circuit member such as electrodes and wiring for a touch panel. Therefore, it is possible to realize a liquid crystal display device 50 provided with a touch panel. Here, the touch panel is provided on the display device so that the user can input information by touching a predetermined place while referring to the image displayed on the display surface of the display device as needed. It is an input device. Examples of the operation detection method of the touch panel include a resistance film method, an electromagnetic induction method, a capacitance method, and the like, and a capacitance type touch panel is particularly preferable. In the example shown in FIG. 5, since the conductive layer 566 is provided at a position outside (visual recognition side) of the viewing side polarizing element 550 of the liquid crystal display device 50, an out-cell type touch panel can be obtained.

上述した液晶表示装置50においては、偏光子保護フィルム570が、レーザー吸収剤を含む基材560を有している。そのため、前記の液晶表示装置50の製造は、偏光子保護フィルム570をレーザー光によって切断する工程を含む製造方法によって行うことが可能である。したがって、偏光子保護フィルム570の切断の際、切断カスの発生を抑制したり、切断面を滑らかにしたりできるので、優れた表示品位を実現することが可能である。 In the liquid crystal display device 50 described above, the polarizing element protective film 570 has a base material 560 containing a laser absorber. Therefore, the liquid crystal display device 50 can be manufactured by a manufacturing method including a step of cutting the polarizing element protective film 570 with a laser beam. Therefore, when the polarizing element protective film 570 is cut, the generation of cutting residue can be suppressed and the cut surface can be smoothed, so that excellent display quality can be realized.

図6は、本発明の別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置60の一例を模式的に示す断面図である。
図6に示すように、有機EL表示装置60は、表示素子としての有機EL素子610;所定の面内レターデーションを有してλ/4板として機能できる位相差フィルム620;偏光子630;及び、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材640を含む偏光子保護フィルム650;をこの順に備える。また、図6では、基材640が、第一外側層641、レーザー吸収剤を含む中間層642、第二外側層643をこの順に備える第二基材層644;第一外側層645、レーザー吸収剤を含む中間層646、及び、第二外側層647をこの順に備えた第一基材層648;並びに、導電層649;を偏光子630側からこの順に備えている例を示すが、基材層640の構造は、この例に限定されない。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device 60 as a display device according to another embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 6, the organic EL display device 60 is an organic EL element 610 as a display element; a retardation film 620 having a predetermined in-plane retardation and capable of functioning as a λ / 4 plate; , A polarizing element protective film 650 containing a base material 640 containing a laser absorber and capable of functioning as a λ / 4 plate; in this order. Further, in FIG. 6, the base material 640 includes a first outer layer 641, an intermediate layer 642 containing a laser absorber, and a second outer layer 643 in this order; a second base material layer 644; a first outer layer 645, laser absorption. An example is shown in which an intermediate layer 646 containing an agent, a first base material layer 648 having a second outer layer 647 in this order; and a conductive layer 649; are provided in this order from the polarizing element 630 side. The structure of layer 640 is not limited to this example.

有機EL表示装置60においては、装置外部から入射した光は、その一部の直線偏光のみが偏光子630を通過し、それが位相差フィルム620を通過することにより円偏光となる。円偏光は、表示装置内の光を反射する構成要素(有機EL素子610中の反射電極(図示せず)等)により反射され、再び位相差フィルム620を通過することにより、入射した直線偏光の振動方向と直交する振動方向を有する直線偏光となり、偏光子630を通過しなくなる。これにより、反射防止の機能が達成される(有機EL表示装置における反射防止の原理は、特開平9-127885号公報参照)。 In the organic EL display device 60, the light incident from the outside of the device is circularly polarized light when only a part of the linearly polarized light passes through the polarizing element 630 and passes through the retardation film 620. Circularly polarized light is reflected by a component that reflects light in the display device (a reflective electrode (not shown) in the organic EL element 610, etc.) and passes through the retardation film 620 again to obtain the incident linearly polarized light. It becomes linearly polarized light having a vibration direction orthogonal to the vibration direction and does not pass through the modulator 630. Thereby, the antireflection function is achieved (for the principle of antireflection in the organic EL display device, refer to Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-127885).

また、この有機EL表示装置60においては、有機EL素子610から発せられ、位相差フィルム620、偏光子630、並びに、λ/4板として機能できる基材640を含む偏光子保護フィルム650を通過した光によって、画像が表示される。画像を表示する光は、偏光子630を通過した時点では直線偏光であるが、偏光子保護フィルム650の基材640を通過することによって円偏光に変換される。したがって、前記の有機EL表示装置60では、円偏光によって画像が表示されるので、偏光サングラスを通して見た場合に、画像を視認することが可能である。 Further, in the organic EL display device 60, the light emitting from the organic EL element 610 has passed through a polarizing element protective film 650 including a retardation film 620, a polarizing element 630, and a base material 640 that can function as a λ / 4 plate. The light displays the image. The light displaying the image is linearly polarized light when it passes through the polarizing element 630, but is converted into circularly polarized light by passing through the base material 640 of the polarizing element protective film 650. Therefore, in the organic EL display device 60, since the image is displayed by circularly polarized light, it is possible to visually recognize the image when viewed through polarized sunglasses.

また、この有機EL表示装置60において、導電層649が、タッチパネル用の電極、配線等の回路部材として機能できる。よって、タッチパネルを備えた有機EL表示装置60を実現することが可能である。 Further, in the organic EL display device 60, the conductive layer 649 can function as a circuit member such as electrodes and wiring for a touch panel. Therefore, it is possible to realize an organic EL display device 60 provided with a touch panel.

上述した有機EL表示装置60においては、偏光子保護フィルム650が、レーザー吸収剤を含む基材640を有している。そのため、前記の有機EL表示装置60の製造は、偏光子保護フィルム650をレーザー光によって切断する工程を含む製造方法によって行うことが可能であるので、液晶表示装置50と同様に、優れた表示品位を実現することが可能である。 In the above-mentioned organic EL display device 60, the polarizing element protective film 650 has a base material 640 containing a laser absorber. Therefore, the organic EL display device 60 can be manufactured by a manufacturing method including a step of cutting the polarizing element protective film 650 with a laser beam, and thus has excellent display quality as in the liquid crystal display device 50. It is possible to realize.

図7は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置70の一例を模式的に示す断面図である。
図7に示すように、有機EL表示装置70は、偏光子保護フィルム650の代わりに偏光子保護フィルム700を備えること以外は、図6に示した有機EL表示装置60と同様に設けられている。具体的には、図7に示す有機EL表示装置70は、表示素子としての有機EL素子610;所定の面内レターデーションを有してλ/4板として機能できる位相差フィルム620;偏光子630;及び、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材710を含む偏光子保護フィルム700;をこの順に備える。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device 70 as a display device according to still another embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 7, the organic EL display device 70 is provided in the same manner as the organic EL display device 60 shown in FIG. 6, except that the polarizing element protective film 700 is provided instead of the polarizing element protective film 650. .. Specifically, the organic EL display device 70 shown in FIG. 7 is an organic EL element 610 as a display element; a retardation film 620 having a predetermined in-plane retardation and capable of functioning as a λ / 4 plate; a polarizing element 630. And a polarizing element protective film 700 containing a base material 710 containing a laser absorber and capable of functioning as a λ / 4 plate; in this order.

また、基材710は、第一外側層721、レーザー吸収剤を含む中間層722、第二外側層723をこの順に備える第二基材層720;レーザー吸収剤を含む第一基材層730;並びに、導電層740;を偏光子630側からこの順に備える。第二基材層720は、基材の第一の構成例で説明したように大きい面内レターデーションRe(550)を有することが好ましく、中でも、当該第二基材層720がλ/4板として機能できる面内レターデーションRe(550)を有することが特に好ましい。また、第一基材層730は、基材の第一の構成例で説明したように小さい面内レターデーションRe(550)を有することが好ましく、中でも、当該第一基材層730が光学等方性の層として機能できるように、10nm以下の面内レターデーションRe(550)を有することが好ましい。このような有機EL表示装置70は、図6に示した有機EL表示装置60と同様の利点を得ることができる。 Further, the base material 710 includes a first outer layer 721, an intermediate layer 722 containing a laser absorber, and a second outer layer 723 in this order; a second base material layer 720; a first base material layer 730 containing a laser absorber; Further, the conductive layer 740; is provided in this order from the polarizing element 630 side. The second base material layer 720 preferably has a large in-plane retardation Re (550) as described in the first configuration example of the base material, and among them, the second base material layer 720 is a λ / 4 plate. It is particularly preferable to have an in-plane retardation Re (550) capable of functioning as. Further, the first base material layer 730 preferably has a small in-plane retardation Re (550) as described in the first configuration example of the base material, and among them, the first base material layer 730 is optically or the like. It is preferable to have an in-plane retardation Re (550) of 10 nm or less so that it can function as an anisotropic layer. Such an organic EL display device 70 can obtain the same advantages as the organic EL display device 60 shown in FIG.

図8は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置80の一例を模式的に示す断面図である。
図8に示すように、有機EL表示装置80は、偏光子保護フィルム650の代わりに偏光子保護フィルム800を備えること以外は、図6に示した有機EL表示装置60と同様に設けられている。具体的には、有機EL表示装置80は、表示素子としての有機EL素子610;所定の面内レターデーションを有してλ/4板として機能できる位相差フィルム620;偏光子630;及び、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材810を含む偏光子保護フィルム800;をこの順に備える。
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device 80 as a display device according to still another embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 8, the organic EL display device 80 is provided in the same manner as the organic EL display device 60 shown in FIG. 6, except that the polarizing element protective film 800 is provided instead of the polarizing element protective film 650. .. Specifically, the organic EL display device 80 is an organic EL element 610 as a display element; a retardation film 620 having a predetermined in-plane retardation and capable of functioning as a λ / 4 plate; a polarizing element 630; and a laser. A polarizing element protective film 800; which contains an absorbent and contains a substrate 810 which can function as a λ / 4 plate; is provided in this order.

また、基材810は、第一基材層730と第二基材層720との間に、レーザー吸収剤を含む第三基材層850を備えること以外は、図7に示した有機EL表示装置70の基材710と同様に設けられている。具体的には、基材810は、第一外側層721、レーザー吸収剤を含む中間層722、第二外側層723をこの順に備える第二基材層720;レーザー吸収剤を含む第三基材層850;レーザー吸収剤を含む第一基材層730;並びに、導電層740;を偏光子630側からこの順に備える。第三基材層850は、当該第三基材層850が光学等方性の層として機能できるようにするため、基材の第一の構成例で説明した第一基材層と同様に、10nm以下の面内レターデーションRe(550)を有することが好ましい。このような有機EL表示装置80は、図6に示した有機EL表示装置60と同様の利点を得ることができる。 Further, the base material 810 has an organic EL display shown in FIG. 7, except that a third base material layer 850 containing a laser absorber is provided between the first base material layer 730 and the second base material layer 720. It is provided in the same manner as the base material 710 of the device 70. Specifically, the base material 810 is a second base material layer 720 including a first outer layer 721, an intermediate layer 722 containing a laser absorber, and a second outer layer 723 in this order; a third base material containing a laser absorber. The layer 850; the first base material layer 730 containing the laser absorber; and the conductive layer 740; are provided in this order from the polarizing element 630 side. The third base material layer 850 is similar to the first base material layer described in the first configuration example of the base material so that the third base material layer 850 can function as an optically isotropic layer. It is preferable to have an in-plane retardation Re (550) of 10 nm or less. Such an organic EL display device 80 can obtain the same advantages as the organic EL display device 60 shown in FIG.

図9は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機EL表示装置90の一例を模式的に示す断面図である。
図9に示すように、有機EL表示装置90は、偏光子保護フィルム650の代わりに偏光子保護フィルム900を備えること以外は、図6に示した有機EL表示装置60と同様に設けられている。具体的には、有機EL表示装置90は、表示素子としての有機EL素子610;所定の面内レターデーションを有してλ/4板として機能できる位相差フィルム620;偏光子630;及び、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材910を含む偏光子保護フィルム900;をこの順に備える。
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing an example of an organic EL display device 90 as a display device according to still another embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 9, the organic EL display device 90 is provided in the same manner as the organic EL display device 60 shown in FIG. 6, except that the polarizing element protective film 900 is provided instead of the polarizing element protective film 650. .. Specifically, the organic EL display device 90 is an organic EL element 610 as a display element; a retardation film 620 having a predetermined in-plane retardation and capable of functioning as a λ / 4 plate; a polarizing element 630; and a laser. A polarizing element protective film 900; which contains an absorbent and contains a substrate 910 which can function as a λ / 4 plate; is provided in this order.

また、基材910は、第二基材層720の第一基材層730とは反対側に、レーザー吸収剤を含む第四基材層960を備えること以外は、図7に示した有機EL表示装置70の基材710と同様に設けられている。具体的には、基材910は、第一外側層961、レーザー吸収剤を含んでいてもよい中間層962、第二外側層963をこの順に備える第四基材層960;第一外側層721、レーザー吸収剤を含む中間層722、第二外側層723をこの順に備える第二基材層720;レーザー吸収剤を含む第一基材層730;並びに、導電層740;を偏光子630側からこの順に備える。このような有機EL表示装置90は、図6に示した有機EL表示装置60と同様の利点を得ることができる。特に、この有機EL表示装置90では、第二基材層720と第四基材層960との組み合わせによって広帯域λ/4板としての機能を発揮できるようにするために、第二基材層720がλ/4板として機能でき、且つ、第四基材層960がλ/2板として機能できることが好ましい。この際、第二基材層720及び第四基材層960の面内レターデーション及び遅相軸のなす交差角は、基材の第二の構成例における第一基材層410及び第二基材層420と同様にしうる(図4参照)。 Further, the base material 910 is provided with a fourth base material layer 960 containing a laser absorber on the side opposite to the first base material layer 730 of the second base material layer 720, except that the organic EL shown in FIG. 7 is provided. It is provided in the same manner as the base material 710 of the display device 70. Specifically, the base material 910 includes a first outer layer 961, an intermediate layer 962 which may contain a laser absorber, and a second outer layer 963 in this order; a fourth base material layer 960; a first outer layer 721. , An intermediate layer 722 containing a laser absorber, a second base material layer 720 including a second outer layer 723 in this order; a first base material layer 730 containing a laser absorber; and a conductive layer 740; Prepare in this order. Such an organic EL display device 90 can obtain the same advantages as the organic EL display device 60 shown in FIG. In particular, in this organic EL display device 90, in order to enable the combination of the second base material layer 720 and the fourth base material layer 960 to exhibit the function as a broadband λ / 4 plate, the second base material layer 720 Can function as a λ / 4 plate, and the fourth base material layer 960 can function as a λ / 2 plate. At this time, the crossing angle formed by the in-plane retardation and the slow axis of the second base material layer 720 and the fourth base material layer 960 is the first base material layer 410 and the second base in the second configuration example of the base material. It can be similar to the material layer 420 (see FIG. 4).

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and may be arbitrarily modified and carried out without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。 In the following description, "%" and "part" representing quantities are based on weight unless otherwise specified. Further, the operations described below were performed in the air at normal temperature and pressure unless otherwise specified.

[レターデーションの測定方法]
面内レターデーションの測定は、位相差計(Axometrics社製「AxoScan」)を用いて行った。
[Measurement method of letteration]
The in-plane retardation was measured using a phase difference meter (“AxoScan” manufactured by Axometrics).

[レーザー光による加工性の評価方法]
実施例又は比較例で製造した円偏光板又は偏光板を、評価サンプルとして、スライダー上に置いた。評価サンプルの偏光子保護フィルム側の面に、波長9.4μmのCOレーザー光を当てた。レーザー光の出力は、評価サンプルのガラス板以外の部分が切断できるよう調整した。具体的には、レーザー光の出力は、最初は低出力に設定し、次第に上げていき、評価サンプルのガラス板以外の部分が切断できた時点又はガラス板が割れた時点でレーザー光の照射を停止した。前記のようにレーザー光を照射した後で評価サンプルを観察し、下記の基準で評価した。
「A」:ガラス板を傷つけずに、評価サンプルのガラス板以外の部分を切断でき、切断面が平坦で良好な切断状態であった。
「B」:ガラス板を傷つけずに評価サンプルのガラス板以外の部分を切断できた。しかし、評価サンプルに含まれる偏光子の切断面に、熱溶けによる凹凸又は樹脂の盛り上がりがあった。
「C」:評価サンプルが切断できないか、もしくは、ガラス板が割れた。
[Evaluation method of processability by laser light]
The circularly polarizing plate or the polarizing plate produced in the examples or comparative examples was placed on a slider as an evaluation sample. A CO 2 laser beam having a wavelength of 9.4 μm was applied to the surface of the evaluation sample on the side of the protector protective film. The output of the laser beam was adjusted so that the part other than the glass plate of the evaluation sample could be cut. Specifically, the output of the laser light is initially set to a low output and then gradually increased, and the laser light is irradiated when the part other than the glass plate of the evaluation sample can be cut or when the glass plate is broken. It stopped. After irradiating the laser beam as described above, the evaluation sample was observed and evaluated according to the following criteria.
"A": The portion other than the glass plate of the evaluation sample could be cut without damaging the glass plate, and the cut surface was flat and in a good cutting state.
"B": The part other than the glass plate of the evaluation sample could be cut without damaging the glass plate. However, the cut surface of the polarizing element included in the evaluation sample had irregularities due to heat melting or swelling of the resin.
"C": The evaluation sample could not be cut, or the glass plate was broken.

[円偏光板、偏光板のヒートサイクル試験による耐久性の評価方法]
実施例又は比較例で製造した円偏光板又は偏光板を評価サンプルとして、冷熱衝撃装置(エスペック社製「TSA−71L−A」)を用いてヒートサイクル試験を行った。このヒートサイクル試験では、温度−45℃で30分冷却し、次いで温度85℃で30分加熱する連続動作を1サイクルとし、50サイクルの冷却及び加熱を行った。このヒートサイクル試験の後、評価サンプルである円偏光板又は偏光板の全長にわたるワレ発生状況を目視により観察し、下記の基準で評価した。
「A」:偏光板を形成する偏光子に全く亀裂及び割れはなかった。
「B」:偏光板を形成する偏光子に20本以下の割れがあった。
「C」:偏光板を形成する偏光子に20本以上の割れがあった。
[Durability evaluation method by heat cycle test of circularly polarizing plate and polarizing plate]
A heat cycle test was performed using a circular polarizing plate or a polarizing plate manufactured in Examples or Comparative Examples as an evaluation sample using a thermal shock device (“TSA-71L-A” manufactured by ESPEC CORPORATION). In this heat cycle test, a continuous operation of cooling at a temperature of −45 ° C. for 30 minutes and then heating at a temperature of 85 ° C. for 30 minutes was defined as one cycle, and 50 cycles of cooling and heating were performed. After this heat cycle test, the crack generation state over the entire length of the circular polarizing plate or the polarizing plate as the evaluation sample was visually observed and evaluated according to the following criteria.
"A": There were no cracks or cracks in the polarizing element forming the polarizing plate.
"B": There were 20 or less cracks in the polarizing element forming the polarizing plate.
"C": There were 20 or more cracks in the polarizing element forming the polarizing plate.

[製造例1.熱可塑性樹脂(J1)の製造]
ノルボルネン重合体(日本ゼオン社製、ガラス転移温度Tg=126℃)としての熱可塑性樹脂(J0)のペレットを、100℃で5時間乾燥させた。乾燥させたペレット100部と、レーザー吸収剤(ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、分子量552、融点102.0℃〜106.0℃)5.0部とを、二軸押出機により混合した。得られた混合物を、単軸押出機に接続されたホッパーへ投入し、単軸押出機から溶融押し出して、熱可塑性樹脂(J1)を得た。この熱可塑性樹脂(J1)のガラス転移温度Tgは、105℃であった。
[Manufacturing example 1. Manufacture of thermoplastic resin (J1)]
Pellets of a thermoplastic resin (J0) as a norbornene polymer (manufactured by Zeon Corporation, glass transition temperature Tg = 126 ° C.) were dried at 100 ° C. for 5 hours. 100 parts of the dried pellets and 5.0 parts of a laser absorber (pentaerythritol tetrabenzoate, molecular weight 552, melting point 102.0 ° C to 106.0 ° C) were mixed by a twin-screw extruder. The obtained mixture was put into a hopper connected to a single-screw extruder and extruded by melting from the single-screw extruder to obtain a thermoplastic resin (J1). The glass transition temperature Tg of this thermoplastic resin (J1) was 105 ° C.

[製造例2.熱可塑性樹脂(J3)の製造]
製造例1で用いた熱可塑性樹脂(J0)の代わりに、ノルボルネン重合体(日本ゼオン社製、ガラス転移温度Tg=163℃)としての熱可塑性樹脂(J2)を用いた。また、レーザー吸収剤に加えて、更にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(ADEKA社製「LA−31」)12.0部を添加した。以上の事項以外は、製造例1と同様にして、熱可塑性樹脂(J3)を得た。この熱可塑性樹脂(J3)のガラス転移温度Tgは、126℃であった。
[Manufacturing example 2. Manufacture of thermoplastic resin (J3)]
Instead of the thermoplastic resin (J0) used in Production Example 1, a thermoplastic resin (J2) as a norbornene polymer (manufactured by Zeon Corporation, glass transition temperature Tg = 163 ° C.) was used. Further, in addition to the laser absorber, 12.0 parts of a benzotriazole-based ultraviolet absorber (“LA-31” manufactured by ADEKA Corporation) was further added. Except for the above items, a thermoplastic resin (J3) was obtained in the same manner as in Production Example 1. The glass transition temperature Tg of this thermoplastic resin (J3) was 126 ° C.

[製造例3.λ/4板(Q1)の製造]
製造例2で製造した熱可塑性樹脂(J3)を、100℃で5時間乾燥させた。乾燥させた熱可塑性樹脂(J3)を、押出機に供給し、押出機内で溶融させた。溶融した熱可塑性樹脂(J3)を、ポリマーパイプおよびポリマーフィルターを通し、Tダイからキャスティングドラム上にシート状に押し出した。押し出された熱可塑性樹脂(J3)を冷却して、厚み145μm、面内レターデーションRe(550)が8nmの延伸前基材(Q0)を得た。得られた延伸前基材(Q0)を巻き取り、ロールを得た。
[Manufacturing example 3. Manufacture of λ / 4 plate (Q1)]
The thermoplastic resin (J3) produced in Production Example 2 was dried at 100 ° C. for 5 hours. The dried thermoplastic resin (J3) was supplied to the extruder and melted in the extruder. The molten thermoplastic resin (J3) was extruded from the T-die onto the casting drum in the form of a sheet through a polymer pipe and a polymer filter. The extruded thermoplastic resin (J3) was cooled to obtain a pre-stretched substrate (Q0) having a thickness of 145 μm and an in-plane retardation Re (550) of 8 nm. The obtained pre-stretched substrate (Q0) was wound up to obtain a roll.

次いで、延伸前基材(Q0)のロールから、延伸前基材(Q0)を引き出した。引き出された延伸前基材(Q0)を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、延伸フィルムを得た。斜め延伸処理とは、フィルムの幅方向に平行でも垂直でもない斜め方向への延伸処理をいう。この斜め延伸処理における延伸倍率は4.0倍、延伸温度は155℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が45°であった。また、延伸フィルムの面内レターデーションRe(550)は125nm、厚みは36μmであった。得られた延伸フィルムをλ/4板(Q1)として巻き取り、回収した。 Next, the pre-stretched base material (Q0) was pulled out from the roll of the pre-stretched base material (Q0). The drawn out pre-stretching base material (Q0) was supplied to a tenter stretching machine and subjected to diagonal stretching treatment to obtain a stretched film. The diagonal stretching process refers to a stretching process in an oblique direction that is neither parallel nor perpendicular to the width direction of the film. The stretching ratio in this diagonal stretching treatment was 4.0 times, and the stretching temperature was 155 ° C. The angle of the slow axis of the obtained stretched film with respect to the width direction of the stretched film was 45 °. The in-plane retardation Re (550) of the stretched film was 125 nm and the thickness was 36 μm. The obtained stretched film was wound up as a λ / 4 plate (Q1) and recovered.

[製造例4.λ/4板(Q3)の製造]
目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える、ダブルフライト型単軸押出機(スクリューの直径D=50mm、スクリューの有効長さLとスクリューの直径Dとの比L/D=28)を用意した。この単軸押出機に、中間層形成用の樹脂として、製造例2で製造した熱可塑性樹脂(J3)を導入し、溶融させた。溶融させた熱可塑性樹脂(J3)を、押出機出口温度260℃、押出機のギヤポンプの回転数10rpmの条件で、フィードブロックを介して、単層ダイに供給した。この単層ダイのダイスリップの算術平均粗さRaは、0.1μmであった。
[Manufacturing example 4. Manufacture of λ / 4 plate (Q3)]
A double-flight single-screw extruder (screw diameter D = 50 mm, effective screw length L to screw diameter D ratio L / D = 28) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with a mesh opening of 3 μm is available. did. The thermoplastic resin (J3) produced in Production Example 2 was introduced into this single-screw extruder as a resin for forming an intermediate layer and melted. The molten thermoplastic resin (J3) was supplied to the single-layer die via the feed block under the conditions of an extruder outlet temperature of 260 ° C. and an extruder gear pump rotation speed of 10 rpm. The arithmetic mean roughness Ra of the die slip of this single-layer die was 0.1 μm.

他方、目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える、単軸押出機(スクリューの直径D=50mm、スクリューの有効長さLとスクリューの直径Dとの比L/D=28)を用意した。この単軸押出機に、第一外側層及び第二外側層形成用の熱可塑性樹脂として、熱可塑性樹脂(J0)を導入し、溶融させた。溶融させた熱可塑性樹脂(J0)を、押出機出口温度285℃、押出機のギヤポンプの回転数4rpmの条件で、フィードブロックを介して、前記の単層ダイに供給した。 On the other hand, a single-screw extruder (screw diameter D = 50 mm, effective screw length L to screw diameter D ratio L / D = 28) equipped with a leaf disk-shaped polymer filter having an opening of 3 μm was prepared. .. A thermoplastic resin (J0) was introduced into this single-screw extruder as a thermoplastic resin for forming the first outer layer and the second outer layer, and melted. The molten thermoplastic resin (J0) was supplied to the single-layer die via a feed block under the conditions of an extruder outlet temperature of 285 ° C. and an extruder gear pump rotation speed of 4 rpm.

次いで、第一外側層形成用の樹脂の層、中間層形成用の樹脂の層、及び、第二外側層形成用の樹脂の層の3層を含むフィルム状に吐出されるように、前記の熱可塑性樹脂(J0)及び(J3)を、前記の単層ダイから280℃で共押し出しした。そして、単層ダイから吐出された熱可塑性樹脂(J0)及び(J3)を、150℃に温度調整された冷却ロールにキャストして、厚さ70μmの延伸前基材(Q2)を得た。この延伸前基材(Q2)は、熱可塑性樹脂(J0)からなる第一外側層(厚み17.5μm)/熱可塑性樹脂(J3)からなる中間層(厚み35μm)/熱可塑性樹脂(J0)からなる第二外側層(厚み17.5μm)の2種3層からなるフィルムであった。ここで、2種3層とは、2種類の樹脂からなる3層構造のフィルムの構造を表す。得られた延伸前基材(Q2)を巻き取り、ロールを得た。 Next, the above-mentioned film is discharged so as to include three layers of a resin layer for forming a first outer layer, a resin layer for forming an intermediate layer, and a resin layer for forming a second outer layer. The thermoplastic resins (J0) and (J3) were co-extruded from the single layer die at 280 ° C. Then, the thermoplastic resins (J0) and (J3) discharged from the single-layer die were cast on a cooling roll whose temperature was adjusted to 150 ° C. to obtain a pre-stretched substrate (Q2) having a thickness of 70 μm. The pre-stretched substrate (Q2) is a first outer layer (thickness 17.5 μm) made of a thermoplastic resin (J0) / an intermediate layer (thickness 35 μm) made of a thermoplastic resin (J3) / a thermoplastic resin (J0). It was a film composed of two types and three layers of a second outer layer (thickness 17.5 μm). Here, the two-kind three-layer represents the structure of a three-layer film made of two kinds of resins. The obtained pre-stretched substrate (Q2) was wound up to obtain a roll.

次いで、延伸前基材(Q2)のロールから、延伸前基材(Q2)を引き出した。引き出した延伸前基材(Q2)を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、延伸フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は1.47倍、延伸温度は140℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が45°であった。また、斜め延伸フィルムの面内レターデーションRe(550)は104nm、厚みは48μmであった。得られた延伸フィルムをλ/4板(Q3)として巻き取り、回収した。 Next, the pre-stretched base material (Q2) was pulled out from the roll of the pre-stretched base material (Q2). The pulled-out pre-stretching base material (Q2) was supplied to a tenter stretching machine and subjected to diagonal stretching treatment to obtain a stretched film. The stretching ratio in this diagonal stretching treatment was 1.47 times, and the stretching temperature was 140 ° C. The angle of the slow axis of the obtained stretched film with respect to the width direction of the stretched film was 45 °. The in-plane retardation Re (550) of the diagonally stretched film was 104 nm and the thickness was 48 μm. The obtained stretched film was wound up as a λ / 4 plate (Q3) and recovered.

[製造例5.λ/2板(H1)の製造]
製造例1で使用した熱可塑性樹脂(J0)を、100℃で5時間乾燥させた。乾燥させた熱可塑性樹脂(J0)を、押出機に供給し、押出機内で溶融させた。溶融した熱可塑性樹脂(J0)を、ポリマーパイプおよびポリマーフィルターを通し、Tダイからキャスティングドラム上にシート状に押し出した。押し出された熱可塑性樹脂(J0)を冷却して、厚み70μmの延伸前基材(H0)を得た。得られた延伸前基材(H0)を巻き取り、ロールを得た。
[Manufacturing example 5. Manufacture of λ / 2 plate (H1)]
The thermoplastic resin (J0) used in Production Example 1 was dried at 100 ° C. for 5 hours. The dried thermoplastic resin (J0) was supplied to the extruder and melted in the extruder. The molten thermoplastic resin (J0) was extruded from the T-die onto the casting drum in the form of a sheet through a polymer pipe and a polymer filter. The extruded thermoplastic resin (J0) was cooled to obtain a pre-stretched substrate (H0) having a thickness of 70 μm. The obtained pre-stretched substrate (H0) was wound up to obtain a roll.

次いで、延伸前基材(H0)のロールから、延伸前基材(H0)を引き出した。引き出された延伸前基材(H0)を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、中間フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は1.65倍、延伸温度は140℃とした。得られた中間フィルムを、長手方向に連続的に搬送しながら、縦延伸処理を行って、延伸フィルムを得た。縦延伸処理とは、フィルムの長手方向への延伸処理をいう。この縦延伸処理における延伸倍率は1.45倍、延伸温度は135℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が75°であった。また、延伸フィルムの面内レターデーションRe(550)は245nm、厚みは30μmであった。得られた延伸フィルムをλ/2板(H1)として巻き取り、回収した。 Next, the pre-stretched base material (H0) was pulled out from the roll of the pre-stretched base material (H0). The drawn out pre-stretching base material (H0) was supplied to a tenter stretching machine and subjected to diagonal stretching treatment to obtain an intermediate film. The stretching ratio in this diagonal stretching treatment was 1.65 times, and the stretching temperature was 140 ° C. The obtained intermediate film was subjected to a longitudinal stretching treatment while being continuously conveyed in the longitudinal direction to obtain a stretched film. The longitudinal stretching process means a stretching process in the longitudinal direction of the film. The stretching ratio in this longitudinal stretching treatment was 1.45 times, and the stretching temperature was 135 ° C. The angle between the slow axis of the obtained stretched film with respect to the width direction of the stretched film was 75 °. The in-plane retardation Re (550) of the stretched film was 245 nm and the thickness was 30 μm. The obtained stretched film was wound as a λ / 2 plate (H1) and recovered.

[製造例6.λ/2板(H2)の製造]
製造例4で得られた延伸前基材(Q2)のロールから、延伸前基材(Q2)を引き出した。引き出した延伸前基材(Q2)を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、中間フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は1.7倍、延伸温度は131℃とした。得られた中間フィルムを、長手方向に連続的に搬送しながら、縦延伸処理を行って、延伸フィルムを得た。この縦延伸処理における延伸倍率は1.5倍、延伸温度は125℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が75°であった。また、延伸フィルムの面内レターデーションRe(550)は245nm、厚みは27μmであった。得られた延伸フィルムをλ/2板(H2)として巻き取り、回収した。
[Manufacturing example 6. Manufacture of λ / 2 plate (H2)]
The pre-stretched base material (Q2) was pulled out from the roll of the pre-stretched base material (Q2) obtained in Production Example 4. The pulled-out pre-stretching base material (Q2) was supplied to a tenter stretching machine and subjected to diagonal stretching treatment to obtain an intermediate film. The stretching ratio in this diagonal stretching treatment was 1.7 times, and the stretching temperature was 131 ° C. The obtained intermediate film was subjected to a longitudinal stretching treatment while being continuously conveyed in the longitudinal direction to obtain a stretched film. The stretching ratio in this longitudinal stretching treatment was 1.5 times, and the stretching temperature was 125 ° C. The angle between the slow axis of the obtained stretched film with respect to the width direction of the stretched film was 75 °. The in-plane retardation Re (550) of the stretched film was 245 nm and the thickness was 27 μm. The obtained stretched film was wound up as a λ / 2 plate (H2) and recovered.

[製造例7.λ/2板(H3)の製造]
下記式(A1)で表される重合性の液晶化合物を用意した。この液晶化合物は、逆波長分散性液晶化合物である。この式(A1)で表される液晶化合物21.25部、界面活性剤(AGCセイミケミカル社製「サーフロンS420」)0.11部、重合開始剤(BASF社製「IRGACURE379」)0.64部、及び、溶媒(シクロペンタノン、日本ゼオン社製)78.00部を混合し、液晶組成物Aを調製した。
[Manufacturing example 7. Manufacture of λ / 2 plate (H3)]
A polymerizable liquid crystal compound represented by the following formula (A1) was prepared. This liquid crystal compound is a reverse wavelength dispersible liquid crystal compound. 21.25 parts of the liquid crystal compound represented by this formula (A1), 0.11 parts of the surfactant (“Surflon S420” manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), 0.64 parts of the polymerization initiator (“IRGACURE379” manufactured by BASF). , And 78.00 parts of a solvent (cyclopentanone, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) were mixed to prepare a liquid crystal composition A.

Figure 0006977737
Figure 0006977737

支持体として、製造例5で得られた延伸フィルムとしてのλ/2板(H1)を用意した。前記支持体をロールから繰り出し、室温25℃において、その長手方向に搬送した。搬送される支持体上に、液晶組成物Aを、ダイコーターを用いて直接に塗布し、液晶組成物Aの層を形成した。液晶組成物Aの層に、110℃、2.5分間の条件で、配向処理を施した。その後、窒素雰囲気下(酸素濃度0.1%以下)で、積算光量1000mJ/cmの紫外線を、支持体の液晶組成物Aの層とは反対側に照射することによって、液晶組成物Aの層に照射した。紫外線の照射により液晶組成物Aの層が硬化されて、乾燥膜厚4.4μmの光学異方性層が形成された。これにより、支持体と、当該支持体上に形成された光学異方性層とを備える複層フィルムを得た。前記の光学異方性層は、液晶組成物Aの硬化物で形成された層であり、ホモジニアス配向した硬化液晶分子を含んでいた。光学異方性層の遅相軸がフィルムの幅方向に対してなす角度は75°であった。また、光学異方性層は、240nmの面内レターデーションRe(550)を有し、λ/2板として機能するものであった。そこで、この光学異方性層を、λ/2板(H3)とした。As a support, a λ / 2 plate (H1) as a stretched film obtained in Production Example 5 was prepared. The support was unwound from the roll and conveyed in its longitudinal direction at room temperature of 25 ° C. The liquid crystal composition A was directly applied onto the conveyed support using a die coater to form a layer of the liquid crystal composition A. The layer of the liquid crystal composition A was subjected to an orientation treatment at 110 ° C. for 2.5 minutes. Then, under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 0.1% or less), the liquid crystal composition A is subjected to ultraviolet rays having an integrated light intensity of 1000 mJ / cm 2 on the side opposite to the layer of the liquid crystal composition A of the support. The layer was irradiated. The layer of the liquid crystal composition A was cured by irradiation with ultraviolet rays to form an optically anisotropic layer having a dry film thickness of 4.4 μm. As a result, a multi-layer film including the support and the optically anisotropic layer formed on the support was obtained. The optically anisotropic layer was a layer formed of a cured product of the liquid crystal composition A, and contained homogenically oriented cured liquid crystal molecules. The angle formed by the slow axis of the optically anisotropic layer with respect to the width direction of the film was 75 °. Further, the optically anisotropic layer had an in-plane retardation Re (550) having a wavelength of 240 nm and functioned as a λ / 2 plate. Therefore, this optically anisotropic layer was designated as a λ / 2 plate (H3).

[製造例8.λ/4板(Q4)の製造]
脂環式構造含有重合体製の市販の斜め延伸フィルム(遅相軸が幅方向に対してなす角度が45°、厚み60μm、面内レターデーションRe(550)は141nm)を用意した。この市販の斜め延伸フィルムを、製造例7で用いたλ/2板(H1)の代わりに、支持体として用いた。また、支持体上に形成する液晶組成物Aの層の厚みを、乾燥膜厚2.2μmの光学異方性層が得られるように変更した。以上の事項以外は、製造例7と同様にして、支持体と、当該支持体上に形成された光学異方性層とを備える複層フィルムを得た。前記の光学異方性層は、液晶組成物Aの硬化物で形成された層であり、ホモジニアス配向した硬化液晶分子を含んでいた。光学異方性層の遅相軸がフィルムの幅方向に対してなす角度は45°であった。また、光学異方性層は、139nmの面内レターデーションRe(550)を有し、λ/4板として機能するものであった。また、この光学異方性層のRe(450)/Re(550)は、0.83であった。そこで、この光学異方性層を、λ/4板(Q4)とした。
[Manufacturing example 8. Manufacture of λ / 4 plate (Q4)]
A commercially available diagonally stretched film made of an alicyclic structure-containing polymer (the angle formed by the slow axis with respect to the width direction is 45 °, the thickness is 60 μm, and the in-plane retardation Re (550) is 141 nm) was prepared. This commercially available diagonally stretched film was used as a support instead of the λ / 2 plate (H1) used in Production Example 7. Further, the thickness of the layer of the liquid crystal composition A formed on the support was changed so that an optically anisotropic layer having a dry film thickness of 2.2 μm could be obtained. Except for the above items, a multilayer film including a support and an optically anisotropic layer formed on the support was obtained in the same manner as in Production Example 7. The optically anisotropic layer was a layer formed of a cured product of the liquid crystal composition A, and contained homogenically oriented cured liquid crystal molecules. The angle formed by the slow axis of the optically anisotropic layer with respect to the width direction of the film was 45 °. Further, the optically anisotropic layer had an in-plane retardation Re (550) of 139 nm and functioned as a λ / 4 plate. The Re (450) / Re (550) of this optically anisotropic layer was 0.83. Therefore, this optically anisotropic layer was designated as a λ / 4 plate (Q4).

[製造例9.λ/4板(Q6)の製造]
第一外側層及び第二外側層形成用の熱可塑性樹脂として、熱可塑性樹脂(J0)の代わりに、熱可塑性樹脂(J2)を用いた。以上の事項以外は製造例4における延伸前基材(Q2)の製造方法と同様にして、厚み70μmの延伸前基材(Q5)を得た。この延伸前基材(Q5)は、熱可塑性樹脂(J2)からなる第一外側層(厚み17.5μm)/熱可塑性樹脂(J3)からなる中間層(厚み35μm)/熱可塑性樹脂(J2)からなる第二外側層(厚み17.5μm)の2種3層からなるフィルムであった。得られた延伸前基材(Q5)を巻き取り、ロールを得た。
[Manufacturing example 9. Manufacture of λ / 4 plate (Q6)]
As the thermoplastic resin for forming the first outer layer and the second outer layer, a thermoplastic resin (J2) was used instead of the thermoplastic resin (J0). Except for the above items, a pre-stretched base material (Q5) having a thickness of 70 μm was obtained in the same manner as in the method for producing the pre-stretched base material (Q2) in Production Example 4. The pre-stretched substrate (Q5) is a first outer layer (thickness 17.5 μm) made of a thermoplastic resin (J2) / an intermediate layer (thickness 35 μm) made of a thermoplastic resin (J3) / a thermoplastic resin (J2). It was a film composed of two types and three layers of a second outer layer (thickness 17.5 μm). The obtained pre-stretched substrate (Q5) was wound up to obtain a roll.

次いで、延伸前基材(Q5)のロールから、延伸前基材(Q5)を引き出した。引き出した延伸前基材(Q5)を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、延伸フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は2.0倍、延伸温度は180℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が45°であった。また、斜め延伸フィルムの面内レターデーションRe(550)は130nm、厚みは35μmであった。得られた延伸フィルムをλ/4板(Q6)として巻き取り、回収した。 Next, the pre-stretched base material (Q5) was pulled out from the roll of the pre-stretched base material (Q5). The pulled-out pre-stretching base material (Q5) was supplied to a tenter stretching machine and subjected to diagonal stretching treatment to obtain a stretched film. The stretching ratio in this diagonal stretching treatment was 2.0 times, and the stretching temperature was 180 ° C. The angle of the slow axis of the obtained stretched film with respect to the width direction of the stretched film was 45 °. The in-plane retardation Re (550) of the diagonally stretched film was 130 nm and the thickness was 35 μm. The obtained stretched film was wound up as a λ / 4 plate (Q6) and recovered.

[実施例1]
偏光子保護フィルムとして、製造例3で製造したλ/4板(Q1)を用意した。この偏光子保護フィルム、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)、偏光子(サンリッツ社製「HLC2−5618S」、厚さ180μm、幅方向に対して0°の方向に透過軸を有する)、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)、及びガラス板(厚さ0.7mm)を、この順に積層して、円偏光板(P1)を製造した。得られた円偏光板(P1)において、λ/4板(Q1)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は45°であった。この円偏光板(P1)のレーザー光による加工性を評価した結果、「A」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「A」基準であった。
[Example 1]
As the polarizing element protective film, the λ / 4 plate (Q1) manufactured in Production Example 3 was prepared. This polarizing element protective film, adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko Corporation), polarizing element (“HLC2-5618S” manufactured by Sanritz Co., Ltd., thickness 180 μm, having a transmission axis in the direction of 0 ° with respect to the width direction), A pressure-sensitive adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko Corporation) and a glass plate (thickness 0.7 mm) were laminated in this order to produce a circularly polarizing plate (P1). In the obtained circularly polarizing plate (P1), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q1) and the transmission axis of the polarizing element was 45 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P1) by laser light, it was based on "A". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "A" standard.

[実施例2]
偏光子保護フィルムとして、実施例1で用いたλ/4板(Q1)の代わりに、製造例4で製造したλ/4板(Q3)を用いた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P2)を製造した。得られた円偏光板(P2)において、λ/4板(Q3)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は45°であった。この円偏光板(P2)のレーザー光による加工性を評価した結果、「B」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「B」基準であった。
[Example 2]
As the polarizing element protective film, the λ / 4 plate (Q3) manufactured in Production Example 4 was used instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1. A circularly polarizing plate (P2) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. In the obtained circularly polarizing plate (P2), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q3) and the transmission axis of the polarizing element was 45 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P2) by laser light, it was based on "B". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "B" standard.

[実施例3]
製造例3で得た光学等方性を有する延伸前基材(Q0)と、製造例3で得たλ/4板(Q1)とを、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して貼合して、積層体を得た。この積層体を、実施例1で用いたλ/4板(Q1)の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P3)を製造した。得られた円偏光板(P3)において、積層体のλ/4板(Q1)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は45°であった。この円偏光板(P3)のレーザー光による加工性を評価した結果、「A」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「A」基準であった。
[Example 3]
The pre-stretched substrate (Q0) having optical isotropic properties obtained in Production Example 3 and the λ / 4 plate (Q1) obtained in Production Example 3 are bonded via an adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko KK). And pasted together to obtain a laminated body. This laminated body was used as a polarizing element protective film instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1. A circularly polarizing plate (P3) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. In the obtained circularly polarizing plate (P3), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q1) of the laminated body and the transmission axis of the polarizing element was 45 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P3) by laser light, it was based on "A". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "A" standard.

[実施例4]
製造例3で得たλ/4板(Q1)と製造例5で得たλ/2板(H1)とを、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して貼合して、広帯域λ/4板を得た。この広帯域λ/4板を、実施例1で用いたλ/4板(Q1)の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P4)を製造した。得られた円偏光板(P4)において、広帯域λ/4板のλ/4板(Q1)の遅相軸とλ/2板(H1)の遅相軸との交差角は60°であった。また、λ/2板(H1)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は15°であった。この円偏光板(P4)のレーザー光による加工性を評価した結果、「A」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「A」基準であった。
[Example 4]
The λ / 4 plate (Q1) obtained in Production Example 3 and the λ / 2 plate (H1) obtained in Production Example 5 are bonded together via an adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko Corporation) to form a wide band. A λ / 4 plate was obtained. This wideband λ / 4 plate was used as a polarizing element protection film instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1. A circularly polarizing plate (P4) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. In the obtained circularly polarizing plate (P4), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q1) of the broadband λ / 4 plate and the slow axis of the λ / 2 plate (H1) was 60 °. .. The crossing angle between the slow axis of the λ / 2 plate (H1) and the transmission axis of the polarizing element was 15 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P4) by laser light, it was based on "A". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "A" standard.

[実施例5]
製造例3で得たλ/4板(Q1)と製造例6で得たλ/2板(H2)とを、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して貼合して、広帯域λ/4板を得た。この広帯域λ/4板を、実施例1で用いたλ/4板(Q1)の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P5)を製造した。得られた円偏光板(P5)において、広帯域λ/4板のλ/4板(Q1)の遅相軸とλ/2板(H2)の遅相軸との交差角は60°であった。また、λ/2板(H2)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は15°であった。この円偏光板(P5)のレーザー光による加工性を評価した結果、「A」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「A」基準であった。
[Example 5]
The λ / 4 plate (Q1) obtained in Production Example 3 and the λ / 2 plate (H2) obtained in Production Example 6 are bonded together via an adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko Corporation) to form a wide band. A λ / 4 plate was obtained. This wideband λ / 4 plate was used as a polarizing element protection film instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1. A circularly polarizing plate (P5) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. In the obtained circularly polarizing plate (P5), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q1) of the wideband λ / 4 plate and the slow axis of the λ / 2 plate (H2) was 60 °. .. The crossing angle between the slow axis of the λ / 2 plate (H2) and the transmission axis of the polarizing element was 15 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P5) by laser light, it was based on "A". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "A" standard.

[実施例6]
製造例3で得たλ/4板(Q1)と、製造例7で得た複層フィルムの光学異方性層としてのλ/2板(H3)とを、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して貼合した。その後、複層フィルムの支持体を剥離して、λ/4板(Q1)、粘着剤及びλ/2板(H3)をこの順で備える広帯域λ/4板を得た。この広帯域λ/4板を、実施例1で用いたλ/4板(Q1)の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P6)を製造した。得られた円偏光板(P6)において、広帯域λ/4板のλ/4板(Q1)の遅相軸とλ/2板(H3)の遅相軸の交差角は60°であった。また、λ/2板(H3)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は15°であった。この円偏光板(P6)のレーザー光による加工性を評価した結果、「A」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「A」基準であった。
[Example 6]
The λ / 4 plate (Q1) obtained in Production Example 3 and the λ / 2 plate (H3) as the optically anisotropic layer of the multi-layer film obtained in Production Example 7 were used as an adhesive (Nitto Denko Corporation). It was pasted together via "CS9621T"). Then, the support of the multilayer film was peeled off to obtain a wide-wavelength λ / 4 plate provided with a λ / 4 plate (Q1), an adhesive and a λ / 2 plate (H3) in this order. This wideband λ / 4 plate was used as a polarizing element protection film instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1. A circularly polarizing plate (P6) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. In the obtained circularly polarizing plate (P6), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q1) of the wideband λ / 4 plate and the slow axis of the λ / 2 plate (H3) was 60 °. The crossing angle between the slow axis of the λ / 2 plate (H3) and the transmission axis of the polarizing element was 15 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P6) by laser light, it was based on "A". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "A" standard.

[実施例7]
偏光子保護フィルムとして、実施例1で用いたλ/4板(Q1)の代わりに、製造例9で製造したλ/4板(Q6)を用いた。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P7)を製造した。得られた円偏光板(P7)において、λ/4板(Q6)の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は45°であった。この円偏光板(P7)のレーザー光による加工性を評価した結果、「B」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「A」基準であった。
[Example 7]
As the polarizing element protective film, the λ / 4 plate (Q6) manufactured in Production Example 9 was used instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1. A circularly polarizing plate (P7) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. In the obtained circularly polarizing plate (P7), the crossing angle between the slow axis of the λ / 4 plate (Q6) and the transmission axis of the polarizing element was 45 °. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P7) by laser light, it was based on "B". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was the "A" standard.

[比較例1]
偏光子保護フィルムとして、実施例1に用いたλ/4板(Q1)の代わりに、レーザー吸収剤を含まない延伸前フィルム(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルムZF14−100」、厚み100μm、樹脂のガラス転移温度136℃)を用いた。この延伸前フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる光学等方性のフィルムであった。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、偏光板(P7)を製造した。この偏光板(P7)のレーザー光による加工性を評価した結果、「C」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「C」基準であった。
[Comparative Example 1]
As the polarizing element protective film, instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1, a pre-stretched film containing no laser absorber (Zeon Corporation "Zeonoa Film ZF14-100", thickness 100 μm, resin). Glass transition temperature 136 ° C.) was used. This pre-stretched film was an optically isotropic film made of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer. Except for the above items, a polarizing plate (P7) was manufactured in the same manner as in Example 1. As a result of evaluating the processability of this polarizing plate (P7) by laser light, it was based on "C". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was a "C" standard.

[比較例2]
偏光子保護フィルムとして、実施例1に用いたλ/4板(Q1)の代わりに、レーザー吸収剤を含まない斜め延伸フィルム(日本ゼオン社製「斜め延伸位相差フィルム」、厚み47μm、面内レターデーションRe(550)は125nm、遅相軸がフィルムの幅方向に対してなす角度は45°)を用いた。この斜め延伸フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる市販のフィルムであった。以上の事項以外は、実施例1と同様にして、円偏光板(P8)を製造した。この円偏光板(P8)のレーザー光による加工性を評価した結果、「C」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「C」基準であった。
[Comparative Example 2]
As a polarizing element protective film, instead of the λ / 4 plate (Q1) used in Example 1, a diagonally stretched film containing no laser absorber (Zeon Corporation "diagonally stretched retardation film", thickness 47 μm, in-plane Lettering Re (550) was 125 nm, and the angle formed by the slow axis with respect to the width direction of the film was 45 °). This diagonally stretched film was a commercially available film made of a resin containing an alicyclic structure-containing polymer. A circularly polarizing plate (P8) was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above items. As a result of evaluating the processability of this circularly polarizing plate (P8) by laser light, it was based on "C". Moreover, as a result of evaluating the durability by the heat cycle test, it was a "C" standard.

[実施例8]
実施例1で製造した円偏光板(P1)のλ/4板(Q1)とは反対側の面に、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して、製造例4で製造したλ/4板(Q3)を位相差フィルムとして貼り合わせた。これにより、偏光子保護フィルム、粘着剤、偏光子、粘着剤、ガラス板、粘着剤及び位相差フィルムをこの順で備える視認側部材(T1)を製造した。得られた視認側部材(T1)において、偏光子の透過軸と位相差フィルムの遅相軸との交差角は、45°であった。
[Example 8]
Λ manufactured in Production Example 4 via an adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko Corporation) on the surface of the circularly polarizing plate (P1) manufactured in Example 1 opposite to the λ / 4 plate (Q1). A / 4 plate (Q3) was bonded as a retardation film. As a result, a visible side member (T1) including a polarizing element protective film, a pressure-sensitive adhesive, a polarizing element, a pressure-sensitive adhesive, a glass plate, a pressure-sensitive adhesive, and a retardation film was manufactured in this order. In the obtained visual recognition side member (T1), the crossing angle between the transmission axis of the polarizing element and the slow axis of the retardation film was 45 °.

(画像表示装置の製造)
視認側偏光板、液晶セル、光源側偏光板、及び光源をこの順に備える市販の液晶表示装置(Apple社製「iPad」(登録商標))を2つ用意した。
一方の液晶表示装置の表示面部分を分解し、液晶表示装置の視認側偏光板を剥離し、代わりに、視認側部材(T1)を取り付けた。視認側部材(T1)は、偏光子保護フィルムが視認側に向くように取り付けた。これにより、視認側から、視認側部材(T1)、画像表示素子としての液晶セル、光源側偏光板、及び光源をこの順に備える液晶表示装置を得た。
(Manufacturing of image display device)
Two commercially available liquid crystal display devices (“iPad” (registered trademark) manufactured by Apple Inc.) equipped with a viewing side polarizing plate, a liquid crystal cell, a light source side polarizing plate, and a light source in this order were prepared.
The display surface portion of one of the liquid crystal display devices was disassembled, the viewing side polarizing plate of the liquid crystal display device was peeled off, and a viewing side member (T1) was attached instead. The viewing side member (T1) was attached so that the polarizing element protective film faced the viewing side. As a result, a liquid crystal display device including a visual recognition side member (T1), a liquid crystal cell as an image display element, a light source side polarizing plate, and a light source in this order was obtained from the visual recognition side.

(裸眼観察)
視認側部材(T1)を取り付けた一方の液晶表示装置について、表示画面の色味および輝度を、裸眼で目視観察した。また、視認側部材(T1)を取り付けていない他方の液晶表示装置について、表示画面の色味および輝度を、裸眼で目視観察した。前記の観察は、表示画面の正面方向において行った。その結果、2つの液晶表示装置の間で、差はほとんど識別できなかった。
(Naked eye observation)
The color and brightness of the display screen of one of the liquid crystal display devices to which the visual recognition side member (T1) was attached were visually observed with the naked eye. Further, with respect to the other liquid crystal display device to which the visual recognition side member (T1) was not attached, the color and brightness of the display screen were visually observed with the naked eye. The above observation was performed in the front direction of the display screen. As a result, the difference between the two liquid crystal displays could hardly be discerned.

(偏光サングラス観察)
視認側部材(T1)を取り付けた一方の液晶表示装置について、偏光サングラスを装着して、表示画面を観察した。また、視認側部材(T1)を取り付けていない他方の液晶表示装置について、偏光サングラスを装着して、表示画面を観察した。前記の観察は、表示画面の傾斜方向において行った。面の傾斜方向とは、その面に平行でも垂直でもない方向を表す。その結果、視認側部材(T1)を取り付けた一方の液晶表示装置では、表示画面の正面方向に比べ、傾斜方向でもその明るさはほとんど変化しなかった。他方、視認側部材(T1)を取り付けていない他方の液晶表示装置では、表示画面の正面方向に比べ、傾斜方向では明るさが変化して暗くなった。
(Observation of polarized sunglasses)
For one of the liquid crystal display devices to which the visual recognition side member (T1) was attached, polarized sunglasses were worn and the display screen was observed. Further, regarding the other liquid crystal display device to which the visual recognition side member (T1) was not attached, polarized sunglasses were worn and the display screen was observed. The above observation was performed in the tilting direction of the display screen. The tilting direction of a surface represents a direction that is neither parallel nor perpendicular to the surface. As a result, the brightness of one of the liquid crystal display devices to which the visual recognition side member (T1) was attached hardly changed even in the tilting direction as compared with the front direction of the display screen. On the other hand, in the other liquid crystal display device to which the visual recognition side member (T1) is not attached, the brightness changes and becomes darker in the tilting direction as compared with the front direction of the display screen.

[実施例9]
実施例1で製造した円偏光板(P1)のλ/4板(Q1)とは反対側の面に、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して、製造例8で製造したλ/4板(Q4)を位相差フィルムとして貼り合わせた。これにより、偏光子保護フィルム、粘着剤、偏光子、粘着剤、ガラス板、粘着剤及び位相差フィルムをこの順で備える視認側部材(T2)を製造した。得られた視認側部材(T2)において、偏光子の透過軸と位相差フィルムの遅相軸との交差角は、45°であった。
[Example 9]
Λ manufactured in Production Example 8 via an adhesive (“CS9621T” manufactured by Nitto Denko Corporation) on the surface of the circularly polarizing plate (P1) manufactured in Example 1 opposite to the λ / 4 plate (Q1). A / 4 plate (Q4) was bonded as a retardation film. As a result, a visible side member (T2) including a polarizing element protective film, an adhesive, a polarizing element, an adhesive, a glass plate, an adhesive, and a retardation film was manufactured in this order. In the obtained visual recognition side member (T2), the crossing angle between the transmission axis of the polarizing element and the slow axis of the retardation film was 45 °.

(画像表示装置の製造)
視認側偏光板及び有機EL表示素子をこの順に備える市販のOLEDスマートフォン(LGエレクトロニクス社製「G FlexLGL23」)を用意した。
このスマートフォンの視認側偏光板を剥離し、代わりに、視認側部材(T2)を取り付けた。視認側部材(T2)は、偏光子保護フィルムが視認側に向くように取り付けた。これにより、円偏光板を含む有機EL表示装置を得た。この有機EL表示装置の黒表示時及び白表示時の輝度は、それぞれ、6.2cd/m及び305cd/mであった。
(Manufacturing of image display device)
A commercially available OLED smartphone (“G FlexLGL23” manufactured by LG Electronics) equipped with a polarizing plate on the viewing side and an organic EL display element in this order was prepared.
The viewing side polarizing plate of this smartphone was peeled off, and a viewing side member (T2) was attached instead. The viewing side member (T2) was attached so that the polarizing element protective film was facing the viewing side. As a result, an organic EL display device including a circularly polarizing plate was obtained. The luminance of this organic EL display device at the time of black display and white display was 6.2 cd / m 2 and 305 cd / m 2 , respectively.

晴れた日の外光下において、この有機EL表示装置を黒表示した状態で、表示画面を正面方向から目視した。その結果、表示画面での外光の反射は無く、表示画面は黒色であった。さらに、表示画面を斜め方向(極角45°、全方位)から目視したところ、方位角による反射率及び色味の変化は見られなかった。 The display screen was visually observed from the front with the organic EL display device displayed in black under outside light on a sunny day. As a result, there was no reflection of external light on the display screen, and the display screen was black. Further, when the display screen was visually observed from an oblique direction (extreme angle 45 °, omnidirectional), no change in reflectance and color due to the azimuth was observed.

10 表示装置
50 液晶表示装置
60 有機EL表示装置
110 偏光子保護フィルム
111 基材
120 偏光子
130 位相差フィルム
140 表示素子
200 樹脂層
210 第一外側層
220 第二外側層
230 中間層
300 基材
310 第一基材層
320 第二基材層
330 導電層
400 基材
410 第一基材層
420 第二基材層
430 導電層
510 光源
520 光源側偏光子
530 液晶セル
540 位相差フィルム
550 視認側偏光子
560 基材
561 第二基材層
562 第一外側層
563 中間層
564 第二外側層
565 第一基材層
566 導電層
570 偏光子保護フィルム
610 有機EL素子
620 位相差フィルム
630 偏光子
640 基材
641 第一外側層
642 中間層
643 第二外側層
644 第二基材層
645 第一外側層
646 中間層
647 第二外側層
648 第一基材層
649 導電層
650 偏光子保護フィルム
10 Display device 50 Liquid crystal display device 60 Organic EL display device 110 Polarizer protective film 111 Base material 120 Polarizer 130 Phase difference film 140 Display element 200 Resin layer 210 First outer layer 220 Second outer layer 230 Intermediate layer 300 Base material 310 First base material layer 320 Second base material layer 330 Conductive layer 400 Base material 410 First base material layer 420 Second base material layer 430 Conductive layer 510 Light source 520 Light source side polarizing element 530 Liquid crystal cell 540 Phase difference film 550 Visually visible side polarized light Child 560 Base material 561 Second base material layer 562 First outer layer 563 Intermediate layer 564 Second outer layer 565 First base material layer 566 Conductive layer 570 Polarizer protective film 610 Organic EL element 620 Phase difference film 630 Polarizer 640 units Material 641 First outer layer 642 Intermediate layer 643 Second outer layer 644 Second base material layer 645 First outer layer 646 Intermediate layer 647 Second outer layer 648 First base material layer 649 Conductive layer 650 Polarizer protective film

Claims (13)

偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子をこの順に備える表示装置であって、
前記偏光子保護フィルムが、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材を含み、
前記位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が、90nm〜150nmであ
前記基材が、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が10nm以下である第一基材層と、波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が90nm〜150nmである第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、
前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれ、
前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方が、第一外側層と、第二外側層と、前記第一外側層及び前記第二外側層の間に設けられた中間層と、を含み、
前記第一外側層が、ガラス転移温度Tg O1 を有する第一外側樹脂で形成され、
前記第二外側層が、ガラス転移温度Tg O2 を有する第二外側樹脂で形成され、
前記中間層が、ガラス転移温度Tg を有する中間樹脂で形成され、
前記第一外側樹脂のガラス転移温度Tg O1 と、前記中間樹脂のガラス転移温度Tg との差Tg −Tg O1 が、30℃以上であり、
前記第二外側樹脂のガラス転移温度Tg O2 と、前記中間樹脂のガラス転移温度Tg との差Tg −Tg O2 が、30℃以上である、表示装置。
A display device including a polarizing element protective film, a polarizing element, a retardation film, and a display element in this order.
The polarizing element protective film contains a base material containing a laser absorber and capable of functioning as a λ / 4 plate.
The phase difference in-plane retardation Re at a wavelength of 550nm of the film (550), Ri 90nm~150nm der,
The substrate is a first substrate layer having an in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of 10 nm or less, and a second substrate layer having an in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of 90 nm to 150 nm. And a conductive layer formed on at least one surface of the first base material layer.
The laser absorber is contained in one or both of the first base material layer and the second base material layer.
One or both of the first base material layer and the second base material layer are provided between the first outer layer, the second outer layer, and the first outer layer and the second outer layer. And, including
The first outer layer is formed of a first outer resin having a glass transition temperature of Tg O1.
The second outer layer is formed of a second outer resin having a glass transition temperature of Tg O2.
The intermediate layer is formed of an intermediate resin having a glass transition temperature Tg C.
The difference Tg C − Tg O1 between the glass transition temperature Tg O1 of the first outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is 30 ° C. or higher.
A display device in which the difference Tg C − Tg O2 between the glass transition temperature Tg O2 of the second outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is 30 ° C. or higher.
偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子をこの順に備える表示装置であって、
前記偏光子保護フィルムが、レーザー吸収剤を含み且つλ/4板として機能できる基材を含み、
前記位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)が、90nm〜150nmであり
前記基材が、λ/4板として機能できる第一基材層と、λ/2板として機能できる第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、且つ、広帯域λ/4板として機能でき、
前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれ
前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方が、第一外側層と、第二外側層と、前記第一外側層及び前記第二外側層の間に設けられた中間層と、を含み、
前記第一外側層が、ガラス転移温度Tg O1 を有する第一外側樹脂で形成され、
前記第二外側層が、ガラス転移温度Tg O2 を有する第二外側樹脂で形成され、
前記中間層が、ガラス転移温度Tg を有する中間樹脂で形成され、
前記第一外側樹脂のガラス転移温度Tg O1 と、前記中間樹脂のガラス転移温度Tg との差Tg −Tg O1 が、30℃以上であり、
前記第二外側樹脂のガラス転移温度Tg O2 と、前記中間樹脂のガラス転移温度Tg との差Tg −Tg O2 が、30℃以上である、表示装置。
A display device including a polarizing element protective film, a polarizing element, a retardation film, and a display element in this order.
The polarizing element protective film contains a base material containing a laser absorber and capable of functioning as a λ / 4 plate.
The in-plane retardation Re (550) of the retardation film at a wavelength of 550 nm is 90 nm to 150 nm, and the base material can function as a λ / 4 plate and a first base material layer that can function as a λ / 2 plate. It includes a two-base material layer and a conductive layer formed on at least one surface of the first base material layer, and can function as a broadband λ / 4 plate.
The laser absorber is contained in one or both of the first base material layer and the second base material layer .
One or both of the first base material layer and the second base material layer are provided between the first outer layer, the second outer layer, and the first outer layer and the second outer layer. And, including
The first outer layer is formed of a first outer resin having a glass transition temperature of Tg O1.
The second outer layer is formed of a second outer resin having a glass transition temperature of Tg O2.
The intermediate layer is formed of an intermediate resin having a glass transition temperature Tg C.
The difference Tg C − Tg O1 between the glass transition temperature Tg O1 of the first outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is 30 ° C. or higher.
A display device in which the difference Tg C − Tg O2 between the glass transition temperature Tg O2 of the second outer resin and the glass transition temperature Tg C of the intermediate resin is 30 ° C. or higher.
前記第二基材層が、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されている、請求項記載の表示装置。 The display device according to claim 2 , wherein the second base material layer is formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound. 前記中間層が、紫外線吸収剤を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the intermediate layer contains an ultraviolet absorber. 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方の厚みが、10μm〜60μmである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 4 , wherein the thickness of one or both of the first base material layer and the second base material layer is 10 μm to 60 μm. 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸とが交差している、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 5 , wherein the slow axis of the base material and the transmission axis of the substituent intersect. 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸との交差角が、45°±5°である、請求項記載の表示装置。 The display device according to claim 6 , wherein the crossing angle between the slow axis of the base material and the transmission axis of the polarizing element is 45 ° ± 5 °. 前記基材が、結晶性を有する重合体を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 7 , wherein the base material contains a polymer having crystallinity. 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、脂環式構造含有重合体を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 8 , wherein the base material and the retardation film each contain an alicyclic structure-containing polymer. 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、延伸フィルムを含む、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 9 , wherein the base material and the retardation film each include a stretched film. 前記位相差フィルムが、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されていて、
前記位相差フィルムの波長450nmにおける面内レターデーションRe(450)と、前記位相差フィルムの波長550nmにおける面内レターデーションRe(550)とが、Re(450)/Re(550)<1.0を満たす、請求項1〜のいずれか一項に記載の表示装置。
The retardation film is formed of a cured product of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound.
The in-plane retardation Re (450) of the retardation film at a wavelength of 450 nm and the in-plane retardation Re (550) of the retardation film at a wavelength of 550 nm are Re (450) / Re (550) <1.0. The display device according to any one of claims 1 to 8 , which satisfies the above conditions.
前記表示素子が、液晶セルである、請求項1〜11のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 11 , wherein the display element is a liquid crystal cell. 前記表示素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 11 , wherein the display element is an organic electroluminescence element.
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