JP6898610B2

JP6898610B2 - 重合体及び光学レンズ

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Publication number: JP6898610B2
Application number: JP2017031554A
Authority: JP
Inventors: 遼祐一二三; 宮木　伸行; 伸行宮木; 育義冨田
Original assignee: JSR Corp; Tokyo Institute of Technology NUC
Current assignee: JSR Corp; Tokyo Institute of Technology NUC
Priority date: 2017-02-22
Filing date: 2017-02-22
Publication date: 2021-07-07
Anticipated expiration: 2037-02-22
Also published as: JP2018135470A

Description

本発明は、重合体及び光学レンズに関する。

光学レンズ、光学フィルム等の光学部品は、液晶表示装置等の表示装置、デジタルカメラや携帯電話用カメラ等のカメラモジュールレンズ、イメージセンサ等の光センサなどに用いられている。近年、光学部品は、薄膜化、高付加価値化等の観点から、樹脂成分として屈折率の高い重合体を用いて形成されるようになっている。

かかる光学部品は、例えば上記重合体のガラス転移温度以上で、この重合体を含有する樹脂材料を用いた射出成形や押出成形等により形成される。そのため、重合体には、成形の容易化、成形時の重合体の劣化防止、製造コスト低減等の観点から、ガラス転移温度が適度に低いことが求められる。また、光学レンズ等の光学部品がカメラモジュール等の撮像系デバイスに使用される場合、画像の高精細化等のために低複屈折性も求められる。

低複屈折性の重合体の代表例として、ビスフェノールフルオレン誘導体等のビスフェノール化合物に由来する構造を有するポリエーテル、ポリカーボネート、ポリエステル等が知られている（特開２０１２−２２４７６３号公報及び特開２０１０−１３２７８２号公報参照）。これらの重合体は、フルオレン骨格のカルド構造により、主鎖方向と主鎖に直交する方向の屈折率が互いに打ち消し合うため、低複屈折性を示す。その一方で、フルオレン骨格のような剛直で嵩高い骨格を有する重合体は、ガラス転移温度を十分に下げることが困難である。この場合、ガラス転移温度を低下させるためには、柔軟な構造を有するアルキレン基を導入することも考えられる。しかし、アルキレン基の導入は、屈折率が低下するという不都合がある。

一方、リン系官能基を有する重合体は種々知られており、ホスホン酸エステルを主鎖に含む重合体は、難燃性材料等として検討されている（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２８，１１１９，１９８３、特開昭６１−２３８８２６号公報及び特開昭６１−２６１３２１号公報参照）。このようなホスホン酸エステル系重合体を光学材料として利用するものとして、ビスフェノールＡ、４，４’−ビフェノールを骨格として有するホスホネート系重合体が検討されている（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．ＰａｒｔＡ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，２００１，３９（１７），２９０１−２９１０参照）。しかし、これらの重合体の複屈折性は低くないものと考えられる。また、ポリホスホネート系重合体、（チオ）ホスホネート／カーボネート系重合体等についても検討されているものの、低複屈折性、低アッベ数及び適度な範囲のガラス転移温度を全て満たすと考えられるものは知られていない（特許文献５〜１７並びに非特許文献２及び３参照）。

このように、高屈折率及び低アッベ数であり、低複屈折性に優れ、かつ溶融成形容易なガラス転移温度を有するリン系官能基を有する重合体は未だ知られていない。

特開２０１２−２２４７６３号公報特開２０１０−１３２７８２号公報特開昭６１−２３８８２６号公報特開昭６１−２６１３２１号公報米国特許第３７１９７２７号明細書特許第４７４６２３７号公報特開２００８−２２２７７８号公報特許第３９３２９３７号公報特開２００７−１２２０３１号公報特許第３９７５７９３号公報特許第４１５５０６８号公報特許第５０６６７７７号公報特開２００８−５６７１７号公報特開２００８−５６７１８号公報特許第４１６１７６０号公報特許第４２１４７０５号公報特開２００４−２６９８４４号公報

Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２８，１１１９，１９８３Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．ＰａｒｔＡ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，２００１，３９（１７），２９０１−２９１０Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．ＲａｐｉｄＣｏｍｍｕｎ．，１，４１９，１９８０

本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、高屈折率及び低アッベ数であり、低複屈折性に優れ、かつ溶融成形容易なガラス転移温度を有する重合体を提供することにある。

上記課題を解決するためになされた発明は、下記式（１）で表される第１構造単位と、下記式（２−１）又は（２−２）で表される第２構造単位とを有し、ゴム状態での応力光学係数の絶対値が１．０×１０^−９Ｐａ^−１以下である重合体である。

（式（１）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はセレン原子である。Ｒ^１は、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基である。）

（式（２−１）中、Ｚは、それぞれ独立して、−Ｏ−又は−Ｓ−である。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、メチレン基又は炭素数２〜４のアルキレン基である。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ａが２の場合、２つのＲ^２は同一でも異なっていてもよい。ｂが２の場合、２つのＲ^３は、同一でも異なっていてもよい。ｃは、０〜２の整数である。Ｒ^４は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基、ニトロ基又はシアノ基である。ｄは、０〜８の整数である。ｄが２以上の場合、複数のＲ^４は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。）

（式（２−２）中、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基、ニトロ基又はシアノ基である。ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０〜８の整数である。ｅが２以上の場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。ｆが２以上の場合、複数のＲ^６は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。ｇ及びｈは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。Ｌは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−又は炭素数１〜２０の２価の有機基である。ｙは、０〜２の整数である。ｙが２の場合、２つのｇは同一でも異なっていてもよく、２つのＬは同一でも異なっていてもよい。Ｒ^５が複数の場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよい。Ｚは、それぞれ独立して、−Ｏ−又は−Ｓ−である。Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、メチレン基又は炭素数２〜１０のアルキレン基である。ｉ及びｊは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ｉが２の場合、２つのＲ^７は同一でも異なっていてもよい。ｊが２の場合、２つのＲ^８は同一でも異なっていてもよい。）

上記課題を解決するためになされた別の発明は、当該重合体の成形体からなる光学レンズである。

本発明の重合体は、高屈折率及び低アッベ数であり、低複屈折性に優れ、かつ溶融成形容易なガラス転移温度を有する。従って、本発明の重合体によれば、高屈折率及び低アッベ数であり、低複屈折性に優れる成形体を簡便かつコスト的に有利に得ることができる。また、本発明の光学レンズは高屈折率、低アッベ数及び優れた低複屈折性の特性を有している。

本発明の実施例１で得られた重合体１の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示すチャートである。

以下、本発明の重合体、この重合体の成形体及び光学レンズについて詳細に説明する。

＜重合体＞
本発明の重合体（以下、「（Ａ）重合体」ともいう）は、式（１）で表される第１構造単位（以下、「構造単位（Ｉ）」ともいう）と、式（２−１）又は（２−２）で表される第２構造単位（以下、「構造単位（ＩＩ）」ともいう）とを有し、ゴム状態での応力光学係数の絶対値が１．０×１０^−９Ｐａ^−１以下である。（Ａ）重合体は、構造単位（Ｉ）及び（ＩＩ）以外の他の構造単位を有していてもよい。以下、各構造単位について説明する。

［構造単位（Ｉ）］
構造単位（Ｉ）は、下記式（１）で表される。

上記式（１）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はセレン原子である。Ｒ^１は、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基である。

Ｘとしては、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、硫黄原子がより好ましい。

Ｒ^１で表される炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、例えば炭素数１〜２０の１価の鎖状炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。

炭素数１〜２０の１価の鎖状炭化水素基としては、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基；
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基；
エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。

炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の１価の単環の脂環式飽和炭化水素基；
シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の２価の単環の脂環式不飽和炭化水素基；
ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等の１価の多環の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルネニル基、トリシクロデセニル基、テトラシクロドデセニル基等の１価の多環の脂環式不飽和炭化水素基などが挙げられる。

炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基としては、例えば
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基；
ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、アントリルメチル基等のアラルキル基などが挙げられる。

Ｒ^１としては、芳香族炭化水素基が好ましく、アリール基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。

構造単位（Ｉ）としては、例えば下記式（１−１）〜（１−８）で表される構造単位（以下、「構造単位（Ｉ−１）〜（Ｉ−８）」ともいう）等が挙げられる。

これらの中で、構造単位（Ｉ−１）及び（Ｉ−４）が好ましい。

構造単位（Ｉ）を与える単量体としては、例えば
二塩化フェニルホスホン酸、二臭化フェニルホスホン酸、二ヨウ化フェニルホスホン酸、二塩化ナフチルホスホン酸、二塩化アントリルホスホン酸、二塩化シクロヘキシルホスホン酸、二塩化メチルホスホン酸、二塩化フェニルチオホスホン酸、二塩化ナフチルチオホスホン酸、二塩化フェニルセレノホスホン酸等のホスホン酸、チオホスホン酸、セレノホスホン酸のジハロゲン化物；
フェニルホスホン酸ジメチル、フェニルホスホン酸ジエチル、フェニルホスホン酸ジフェニル、ナフチルホスホン酸ジメチル、アントリルホスホン酸ジメチル、シクロヘキシルホスホン酸ジメチル、メチルホスホン酸ジメチル、フェニルチオホスホン酸ジメチル、ナフチルチオホスホン酸ジメチル、フェニルセレノホスホン酸ジメチル等のホスホン酸、チオホスホン酸、セレノホスホン酸のジエステルなどが挙げられる。これらの中で、ホスホン酸、チオホスホン酸又はセレノホスホン酸のジハロゲン化物が好ましく、ホスホン酸又はチオホスホン酸の二塩化物がより好ましい。

構造単位（Ｉ）の含有割合の下限としては、１０モル％が好ましく、３０モル％がより好ましく、４０モル％がさらに好ましく、４５モル％が特に好ましい。上記含有割合の上限としては、９０モル％が好ましく、７０モル％がより好ましく、６０モル％がさらに好ましく、５５モル％が特に好ましい。構造単位（Ｉ）の含有割合を上記範囲とすることで、高屈折率、低アッベ数及び低複屈折性の特性により優れ、かつより溶融成形容易なガラス転移温度を有する重合体とすることができる。（Ａ）重合体は、構造単位（Ｉ）を１種又は２種以上有していてもよい。

［構造単位（ＩＩ）］
構造単位（ＩＩ）は、下記式（２−１）又は（２−２）で表される。

上記式（２−１）中、Ｚは、それぞれ独立して、−Ｏ−又は−Ｓ−である。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、メチレン基又は炭素数２〜４のアルキレン基である。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ａが２の場合、２つのＲ^２は同一でも異なっていてもよい。ｂが２の場合、２つのＲ^３は、同一でも異なっていてもよい。ｃは、０〜２の整数である。Ｒ^４は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基、ニトロ基又はシアノ基である。ｄは、０〜８の整数である。ｄが２以上の場合、複数のＲ^４は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。

上記式（２−２）中、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基、ニトロ基又はシアノ基である。ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０〜８の整数である。ｅが２以上の場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。ｆが２以上の場合、複数のＲ^６は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。ｇ及びｈは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。Ｌは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−又は炭素数１〜２０の２価の有機基である。ｙは、０〜２の整数である。ｙが２の場合、２つのｇは同一でも異なっていてもよく、２つのＬは同一でも異なっていてもよい。Ｒ^５が複数の場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよい。Ｚは、それぞれ独立して、−Ｏ−又は−Ｓ−である。Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、メチレン基又は炭素数２〜１０のアルキレン基である。ｉ及びｊは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ｉが２の場合、２つのＲ^７は同一でも異なっていてもよい。ｊが２の場合、２つのＲ^８は同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８で表される炭素数２〜１０のアルキレン基としては、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。

Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８としては、メチレン基が好ましい。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中で、フッ素原子が好ましい。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表される炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、例えば上記式（１）のＲ^１の炭素数１〜２０の１価の炭化水素基として例示したものと同様の基等が挙げられる。これらの中で、鎖状炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表される炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基としては、例えば上記炭素数１〜２０の１価の炭化水素基の少なくとも１個の水素原子をフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等で置換した基等が挙げられる。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６としては、フッ素原子、鎖状炭化水素基、フッ素化鎖状炭化水素基、ニトロ基及びシアノ基が好ましく、フッ素原子、アルキル基、フッ素化アルキル基、ニトロ基及びシアノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。

複数のＲ^４、複数のＲ^５又は複数のＲ^６の基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に形成する環員数４〜２０の環構造としては、例えば
シクロブテン構造、シクロペンテン構造、シクロヘキセン構造、ノルボルネン構造、ビシクロ［２．２．２］オクテン構造、ジベンゾビシクロ［２．２．２］オクテン構造等の脂環構造；
ベンゼン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造等の芳香環構造などの炭素環構造、
オキサシクロヘキセン構造、アザシクロヘキセン構造、チアシクロヘキセン構造等の脂肪族複素環構造；
フラン構造、ピロール構造、ピリジン構造、チオフェン構造等の芳香族複素環構造などが挙げられる。

ａ、ｂ、ｉ及びｊとしては、０及び１が好ましく、０がより好ましい。

ｃとしては、０及び１が好ましく、０がより好ましい。

ｄとしては、０〜２が好ましく、０及び１がより好ましく、０が特に好ましい。

ｅ及びｆとしては、０〜２が好ましく、０及び１がより好ましく、０が特に好ましい。

ｇ及びｈとしては、０及び１が好ましく、０がより好ましい。

Ｌで表される炭素数１〜２０の２価の有機基としては、例えば炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、この２価の炭化水素基の炭素−炭素間に２価のヘテロ原子含有基を含む基（α）、上記２価の炭化水素基及び基（α）が有する水素原子の一部又は全部を１価のヘテロ原子含有基で置換した基等が挙げられる。

１価及び２価のヘテロ原子含有基を構成するヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、ケイ素原子、ハロゲン原子等が挙げられる。

２価のヘテロ原子含有基としては、例えば−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＣＳ−、−ＮＲ’−、これらのうちの２つ以上を組み合わせた基等が挙げられる。Ｒ’は、水素原子又は１価の炭化水素基である。これらの中で、−Ｏ−が好ましい。

１価のヘテロ原子含有基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、スルファニル基等が挙げられる。

Ｌの炭素数１〜２０の２価の有機基としては、例えば下記式（Ｌ−１）〜（Ｌ−３）で表される基（以下、「基（Ｌ−１）〜（Ｌ−３）」ともいう）等が挙げられる。

上記式（Ｌ−１）〜（Ｌ−３）中、＊は、上記式（２−２）における芳香環に結合する部位を示す。

Ｌの２価の有機基の炭素数の下限としては、２が好ましく、３がより好ましい。上記炭素数の上限としては、１５が好ましく、１２がより好ましく、９がさらに好ましく、６が特に好ましい。

Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−及び２価の有機基が好ましく、単結合及び２価の有機基がより好ましく、単結合及び基（Ｌ−１）〜（Ｌ−３）がさらに好ましく、単結合、基（Ｌ−１）及び基（Ｌ−３）が特に好ましい。
ｙとしては、０及び１が好ましく、１がより好ましい。

Ｚとしては、−Ｏ−が好ましい。

構造単位（ＩＩ）としては、例えば下記式（２−Ａ）〜（２−Ｇ）で表される構造単位（以下、「構造単位（ＩＩ−Ａ）〜（ＩＩ−Ｇ）」ともいう）等が挙げられる。

これらの中で、構造単位（ＩＩ−Ａ）〜（ＩＩ−Ｅ）及び（ＩＩ−Ｇ）が好ましい。

構造単位（ＩＩ）を与える単量体としては、例えば
ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、フェニルヒドロキノン等のジヒドロキシフェニル化合物；
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，４−ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１，３−ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン等のビスフェノール化合物などが挙げられる。

構造単位（ＩＩ）の含有割合の下限としては、１０モル％が好ましく、３０モル％がより好ましく、４０モル％がさらに好ましく、４５モル％が特に好ましい。上記含有割合の上限としては、９０モル％が好ましく、７０モル％がより好ましく、６０モル％がさらに好ましく、５５モル％が特に好ましい。構造単位（ＩＩ）の含有割合を上記範囲とすることで、高屈折率、低アッベ数及び低複屈折性の特性により優れ、かつより溶融成形容易なガラス転移温度を有する重合体とすることができる。（Ａ）重合体は、構造単位（ＩＩ）を１種又は２種以上有していてもよい。

［他の構造単位］
他の構造単位としては、本発明の効果を損なわないものであれば特に限定されない。

他の構造単位を与える単量体としては、例えば
ジフェニルカーボネート、ジフェニルチオカーボネート、ジフェニルセレノカーボネート、ホスゲン、チオホスゲン、セレノホスゲン等のカーボネート残基、チオカーボネート残基又はセレノカーボネート残基を含む構造単位を与える化合物；
ベンゼンジメタノール、シクロヘキサンジメタノール等のジヒドロキシ化合物；
フタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジクロリド、テレフタル酸ジクロリド等のジカルボン酸のジハロゲン化物などが挙げられる。

（Ａ）重合体が他の構造単位を有する場合、他の構造単位の含有割合の上限としては、５０モル％が好ましく、３０モル％がより好ましく、２０モル％がさらに好ましく、１０モル％が特に好ましい。上記含有割合の下限としては、例えば１モル％である。（Ａ）重合体は、他の構造単位を１種又は２種以上有していてもよい。

（Ａ）重合体のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）の下限としては、２，０００が好ましく、１０，０００がより好ましく、３０，０００がさらに好ましく、４０，０００が特に好ましい。上記Ｍｗの上限としては、３００，０００が好ましく、２００，０００がより好ましく、１６０，０００がさらに好ましく、１００，０００が特に好ましい。

本明細書における重合体のＭｗは、例えば以下の条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定される値である。
ＧＰＣ装置：東ソー社の「ＨＬＣ−８３２０型」
カラム：東ソー社の「ＴＳＫｇｅｌ α―Ｍ」と、東ソー社の「ＴＳＫｇｅｌｇｕａ
ｒｄｃоｌｕｍｎ α」とを連結したもの
展開溶媒：Ｎ−メチル−２−ピロリドンにＬｉＢｒを１０ｍＭの濃度になるよう添加したもの
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
試料濃度：０．３３質量％
試料注入量：５０μＬ
検出器：紫外可視吸光光度計
標準物質：単分散ポリスチレン

［ゴム状態での応力光学係数］
（Ａ）重合体は、ゴム状態での応力光学係数（以下、「ＣＲ」ともいう）の絶対値が、１．０×１０^−９Ｐａ^−１以下である。ＣＲの正負について、重合体の主鎖に平行な方向の屈折率と主鎖に直交する方向の屈折率とを比較したとき、主鎖に平行な方向の屈折率の方が大きい場合、ＣＲは正であり、主鎖に直交する方向の屈折率の方が大きい場合、ＣＲは負である。「ゴム状態」とは、重合体分子が動き易く、力をかけることにより分子が流れて伸び縮みできる軟らかい固体状態をいう。これに対し、「ガラス状態」とは、分子がランダムな構造を有し、結晶化していない非晶質の状態で、力をかけても分子があまり流れない硬い固体状態をいう。ゴム状態とガラス状態との境界点の温度がガラス転移温度（Ｔｇ）である。（Ａ）重合体は、ＣＲの絶対値を上記範囲とすることで、低複屈折性に優れるものとなる。

（Ａ）重合体のＣＲの下限としては、−１．０×１０^−９Ｐａ^−１であり、−０．９×１０^−９Ｐａ^−１が好ましく、−０．８×１０^−９Ｐａ^−１がさらに好ましく、−０．７×１０^−９Ｐａ^−１が特に好ましい。上記ＣＲの上限としては、１．０×１０^−９Ｐａ^−１であり、０．９×１０^−９Ｐａ^−１が好ましく、０．８×１０^−９Ｐａ^−１がさらに好ましく、０．７×１０^−９Ｐａ^−１が特に好ましい。（Ａ）重合体のＣＲを上記範囲とすることで低複屈折性により優れる重合体とすることができる。

（Ａ）重合体のＣＲの値は、例えば（Ａ）重合体の構造から予測することも可能である。すなわち、（Ａ）重合体が有する各部分構造についての（Ａ）重合体のＣＲへ寄与する値（以下、「ＣＲｉ値」ともいう）に、各部分構造の体積分率を乗じて総和をとることにより、（Ａ）重合体のＣＲの概略値を算出することができると考えられる。

（Ａ）重合体の各部分構造のうち、構造単位（Ｉ）以外の構造単位（ＩＩ）等についてのＣＲｉ値は、例えば対応するビスフェノール化合物から得られるポリカーボネート重合体のＣＲから類推することができる。この場合、ポリカーボネート重合体のカーボネート残基（−（Ｃ＝Ｏ）−）は、ポリカーボネート重合体のＣＲに寄与する割合は小さいため、ポリカーボネート重合体のＣＲをビスフェノール残基のＣＲｉ値とみなすことができる。ポリカーボネート重合体のＣＲは、例えばＪ．Ｓｏｃ．Ｍａｔ．Ｓｃｉ．，Ｊｐｎ．Ｖｏｌ．５２，Ｎｏ．３，３１４−３１８．Ｍａｒ．２００３等の文献を参照することができる。部分構造の体積分率は、各部分構造のファンデルワールス体積を、例えば高分子論文集，Ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．４，２５１−２５７．Ａｐｒ．１９９４等の文献に記載の方法を用いて求め、これらの値から算出することができる。

（Ａ）重合体の構造単位（Ｉ）の部分構造のＣＲｉ値について、本発明における検討により、ビスフェノールＡ残基（部分構造のファンデルワールス体積：２１０×１０^−３０ｍ^３）のＣＲｉ値が５．６×１０^−９Ｐａ^−１の場合、フェニルホスホン酸残基（−（ＰｈＰ＝Ｏ）−）（部分構造のファンデルワールス体積：１０２×１０^−３０ｍ^３）のＣＲｉ値は−６．８×１０^−９Ｐａ^−１、フェニルチオホスホン酸残基（−（ＰｈＰ＝Ｓ）−）（部分構造のファンデルワールス体積：１１２×１０^−３０ｍ^３）のＣＲｉは−６．９×１０^−９Ｐａ^−１となることがわかった。これらの各部分構造のＣＲｉ値を用いることにより、（Ａ）重合体のＣＲの概略値を算出することが可能になった。

＜重合体の合成方法＞
（Ａ）重合体は、公知の方法、例えば二ハロゲン化ホスホン酸化合物等の構造単位（Ｉ）を与える単量体、ビスフェノール化合物等の構造単位（ＩＩ）を与える単量体及び他の構造単位を与える単量体を、アルカリ金属化合物等の存在下、有機溶媒中で縮合重合等を行うことにより合成することができる。縮合重合の際、例えば２−フェニルフェノール等のモノフェノール化合物などの末端封止剤を存在させて反応を行ってもよい。

（アルカリ金属化合物）
アルカリ金属化合物は、（Ａ）重合体の合成の過程で、芳香族ジオール化合物等と反応してアルカリ金属塩を形成する。このようなアルカリ金属化合物としては、例えば
リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；
水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属；
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；
炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；
炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩などが挙げられる。これらの中で、水素化アルカリ金属が好ましく、水素化ナトリウムがより好ましい。

アルカリ金属化合物の使用量として、（Ａ）重合体の合成に用いる全化合物中のヒドロキシ基のモル数に対するアルカリ金属化合物中の金属原子のモル数の比の下限としては、１が好ましく、１．１がより好ましく、１．２がさらに好ましい。上記比の上限としては、３が好ましく、２がより好ましく、１．５がさらに好ましい。

（有機溶媒）
重合に用いる有機溶媒としては、例えば
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、アニソール、フェネトール、ジフェニルエーテル、ジアルコキシベンゼン、トリアルコキシベンゼン等のエーテル系溶媒；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の含窒素系溶媒；
γ−ブチロラクトン等のラクトン系溶媒などのエステル系溶媒；
スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン等の含硫黄系溶媒；
ベンゾフェノン等のケトン系溶媒；
塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの有機溶媒は、１種又は２種以上を用いることができる。これらの有機溶媒の中で、ＴＨＦ、塩化メチレン及びトルエンが好ましく、ＴＨＦがより好ましい。

（反応条件）
（Ａ）重合体の合成時の反応温度の下限としては、−３０℃が好ましく、−１０℃がより好ましい。上記反応温度の上限としては、２００℃が好ましく、１００℃がより好ましい。上記合成時の反応時間の下限としては、５分が好ましく、１時間がより好ましく、２時間がさらに好ましい。上記反応時間の上限としては、１００時間が好ましく、２４時間がより好ましく、１２時間がさらに好ましい。

［重合体の物性］
（ガラス転移温度（Ｔｇ））
（Ａ）重合体のＴｇの下限としては、８０℃が好ましく、１００℃がより好ましく、１１０℃がさらに好ましく、１２０℃が特に好ましい。上記Ｔｇの上限としては、２００℃が好ましく、１８０℃がより好ましく、１７５℃がさらに好ましく、１７０℃が特に好ましい。（Ａ）重合体のＴｇを上記範囲とすることで、溶融成形をより容易に行うことができ、成形体をより簡便にコスト的により有利に得ることができる。

本明細書における重合体のＴｇは、例えばＤＳＣ測定装置（Ｒｉｇａｋｕ社の「ＴｈｅｒｍｏＰｌｕｓＤＳＣ８２３０」を用いて得られたサーモグラムから算出した値である。

（屈折率（ｎＤ））
（Ａ）重合体の屈折率の下限としては、１．６０が好ましく、１．６２がより好ましく、１．６３がさらに好ましく、１．６４が特に好ましい。上記屈折率の上限としては、例えば１．７０である。

［アッベ数（νＤ）］
（Ａ）重合体のアッベ数の上限としては、２８が好ましく、２７がより好ましく、２５がさらに好ましく、２４が特に好ましい。上記アッベ数の下限としては、例えば１５であり、２０が好ましい。

（Ａ）重合体の屈折率が１．６０以上、かつアッベ数が２８以下であることで、レンズ、フィルム等の薄膜化及び高付加価値化を実現することが可能となる。

＜成形体＞
当該重合体は、溶融成形法、溶剤キャスト法等の成形方法により、成形して成形体とすることができる。当該重合体から光学部品の成形体を形成する場合、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形体を得るためには、成形方法としては溶融成形法が好ましい。溶融成形法としては、プレス成形法、押出成形法、射出成形法等が挙げられる。これらの中で、成形性及び生産性の観点から射出成形法が好ましい。

成形工程における成形条件は、使用目的又は成形方法により適宜選択されるが、射出成形法における重合体組成物の温度の下限としては、１５０℃が好ましく、１８０℃がより好ましく、２００℃がさらに好ましい。上記温度の上限としては、４００℃が好ましく、３５０℃がより好ましく、３３０℃がさらに好ましい。成形における重合体組成物の温度を上記範囲とすることで、成形体の熱分解及び黄変を効果的に抑制することができる。

当該重合体の成形体の用途としては、高屈折率、低アッベ数及び優れた低複屈折性の特性を利用した光学部品が好ましい。光学部品としては、例えば光ディスク、光学レンズ、プリズム、光拡散板、光カード、光ファイバー、光学ミラー、液晶表示素子基板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム等が挙げられる。

＜光学レンズ＞
本発明の光学レンズは、当該重合体の成形体からなる。当該重合体は、特に光学レンズとして好適に用いることができる。当該光学レンズは、当該重合体を射出成形機又は射出圧縮成形機によってレンズ形状に射出成形することで得ることができる。光学レンズを得る際には異物の混入を極力避けるため、成形環境が低ダスト環境であることが好ましい。

当該光学レンズは、ピックアップレンズ、ｆ−θレンズ、メガネレンズ等の各種レンズに使用することができる。当該光学レンズは、高屈折率及び低アッベ数であることから、色収差補正用レンズとして特に好適に使用することができる。具体的には、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、プロジェクター等のレンズとして好適に使用することができる。

当該光学レンズは、凸レンズ及び凹レンズのいずれであってもよい。当該光学レンズが凹レンズである場合には、他の高アッベ数の凸レンズと組み合わせて色収差の少ない光学レンズ系として好適に使用することができる。

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。各物性値は、以下の方法により測定した。

［重量平均分子量（Ｍｗ）］
重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ装置（東ソー社の「ＨＬＣ−８３２０型」）を使用し、下記条件で測定した。
カラム：東ソー社の「ＴＳＫｇｅｌ α−Ｍ」と、東ソー社の「ＴＳＫｇｅｌｇｕａ
ｒｄｃоｌｕｍｎ α」とを連結したもの
展開溶媒：Ｎ−メチル−２−ピロリドンにＬｉＢｒを１０ｍＭの濃度になるよう添加したもの
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
試料濃度：０．３３質量％
試料注入量：５０μＬ
検出器：紫外可視吸光光度計
標準物質：単分散ポリスチレン

［^１Ｈ−ＮＭＲ分析］
重合体における各構造単位の含有割合を求めるための^１Ｈ−ＮＭＲ分析は、核磁気共鳴装置（日本電子社の「ＥＣＸ４００Ｐ」）を使用し、測定溶媒として重クロロホルムを用いて行った。

＜重合体の合成＞
［実施例１］（重合体１の合成）
撹拌子を入れた３００ｍＬの２つ口フラスコに、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢｉｓＯＰＰＡ）５．８８ｇ（１５．５ｍｍоｌ）及び塩基性化合物としての水素化ナトリウム（純度５３．２％オイル分散体）１．５３ｇ（３３．９ｍｍоｌ）を仕込み、三方コック及び滴下ロートを取り付けた。フラスコ内を窒素置換したのち、滴下ロートに二塩化フェニルホスホン酸３．０１ｇ（１５．４ｍｍоｌ）を仕込んだ。２つ口フラスコ及び滴下ロートに蒸留精製したＴＨＦをそれぞれ２５ｍＬ及び５ｍＬ投入した。２つ口フラスコ内の混合物を還流下で３０分間攪拌した。この混合物を０℃に冷却したのち、二塩化フェニルホスホン酸のＴＨＦ溶液を１時間かけて滴下した。滴下終了後、滴下ロートをＴＨＦ５ｍＬで洗浄し、洗浄液も反応混合物に滴下した。反応混合物を室温まで昇温し、２時間半反応させた。反応終了後、酢酸３．７８ｇ及びイオン交換水５０ｇを投入して反応をクエンチした。クロロホルムでポリマーを抽出したのち、有機層を同体積のイオン交換水で３回洗浄した。得られた有機層を濃縮したのち、アセトン３００ｍＬに強攪拌下で投入した。得られた膨潤状態のポリマーをアセトン３００ｍＬで３回洗浄した。続いて、ポリマーをクロロホルムに再溶解させ、ヘキサン１Ｌに強攪拌下で投入し、白色繊維状の固体を得た。得られた固体をろ過で回収した後、１００℃で真空乾燥し、下記式（Ｐ−１）で表される構造を有する重合体１を得た（収量３．１９ｇ、収率４１．１％）。図１は、重合体１の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示すチャートである。

［実施例２］（重合体２の合成）
実施例１において、ＢｉｓＯＰＰＡの代わりに、２,２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢｉｓＡ）１．７９ｇ（７．８ｍｍｏｌ）及び９,９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢｉｓＦＬ）２．７４ｇ（７．８ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、下記式（Ｐ−２）で表される構造を有する重合体２を得た（収量３．９８ｇ、収率６２．０％）。

［実施例３］（重合体３の合成）
実施例１において、ＢｉｓＯＰＰＡの代わりに、ＢｉｓＡ１．６６ｇ（７．３ｍｍｏｌ）及び１，１−ビ−２−ナフトール（ＢＩＮＯＬ）２．０８ｇ（７．３ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、下記式（Ｐ−３）で表される構造を有する重合体３を得た（収量０．９９ｇ、収率１７．９％）。

［実施例４］（重合体４の合成）
実施例１において、ＢｉｓＯＰＰＡの代わりに、ＢｉｓＡ１．８４ｇ（８．１ｍｍｏｌ）及び１，４−ジヒドロキシトリプチセン（ＴＰＨＱ）２．３３ｇ（８．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、下記式（Ｐ−４）で表される構造を有する重合体４を得た（収量２．６６ｇ、収率４３．３％）。

［実施例５］（重合体５の合成）
実施例１において、二塩化フェニルホスホン酸の代わりに、二塩化フェニルチオホスホン酸３．０５ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）を用い、ＢｉｓＯＰＰＡの代わりに、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢｉｓＣ）３．７４ｇ（１４．６ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、下記式（Ｐ−５）で表される構造を有する重合体５を得た（収量３．００ｇ、収率５２．４％）。

［実施例６］（重合体６の合成）
実施例５において、ＢｉｓＣの代わりに、ＢｉｓＡ１．７２ｇ（７．５ｍｍｏｌ）及びＢｉｓＦＬ２．６５ｇ（７．６ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様にして、下記式（Ｐ−６）で表される構造を有する重合体６を得た（収量３．１２ｇ、収率４８．４％）。

［比較例１］（重合体７の合成）
実施例１において、ＢｉｓＯＰＰＡの代わりに、ＢｉｓＡ３．４９ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）及び末端封止剤としての２−フェニルフェノール（２−ＰｈＰｈＯＨ）０．０４１７ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、下記式（Ｐ−７）で表される構造を有する重合体７を得た（収量２．６５ｇ、収率４９．４％）。

［比較例２］（重合体８の合成）
比較例１において、ＢｉｓＡの代わりに、ＢｉｓＦＬ５．０８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を用いた以外は、比較例１と同様にして、下記式（Ｐ−８）で表される構造を有する重合体８を得た（収量４．５８ｇ、収率６６．８％）。

［比較例３］（重合体９の合成）
４，４’−ビフェノール（４，４’−ＢＰ）２．８５ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）、２−ＰｈＰｈＯＨ０．０２３１ｇ（０．１４ｍｍｏｌ）、フェニルホスホン酸ジクロリド２．９８ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）、１−メチルイミダゾール０．０８９ｇ（１．１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン６．５ｇ（６４．６ｍｍｏｌ）及び塩化メチレン４０ｍＬを用い、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．ＰａｒｔＡ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，２００１，３９（１７），２９０１−２９１０に記載の方法に従って重合し、下記式（Ｐ−９）で表される構造を有する重合体９を得た（収量３．７５g、収率７９．６％）。

［比較例４］（重合体１０の合成）
比較例１において、二塩化フェニルホスホン酸の代わりに、二塩化フェニルチオホスホン酸３．２３ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）を用いた以外は、比較例１と同様にして、下記式（Ｐ−１０）で表される構造を有する重合体１０を得た（収量３．５４ｇ、収率６３．１％）。

＜評価＞
実施例１〜６及び比較例１〜４の重合体１〜１０について、下記方法に従いガラス転移温度（Ｔｇ）、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（νＤ）及びゴム状態での応力光学係数（ＣＲ）を評価した。評価結果を表１に示す。

［ガラス転移温度（Ｔｇ）［℃］］
重合体のガラス転移温度は、ＤＳＣ装置（Ｒｉｇａｋｕ社の「ＴｈｅｒｍｏＰｌｕｓＤＳＣ８２３０」）を用いて得られたサーモグラムから算出した。ＤＳＣ測定は、窒素下、昇温速度を２０℃／分として行った。ガラス転移温度は、サーモグラムでのＤＳＣの昇温曲線において、ベースラインと変曲点での接線との交点に対応する温度として算出した。変曲点は、サーモグラムのＤＤＳＣ（ＤＳＣの微分値）曲線におけるピークに対応する温度とした。また、ＤＳＣのベースラインの確認には、適宜ＤＤＳＣ曲線を参照した。
ガラス転移温度（Ｔｇ）は、８０℃以上１８０℃以下である場合は「良好」と、８０℃未満又は１８０℃を超える場合は「不良」と評価できる。

［屈折率（ｎＤ）［−］及びアッベ数（νＤ）［−］］
重合体を適量の塩化メチレンに溶解させたものをガラス板上にキャスト成膜し、常温常圧下にて一晩乾燥させた。次いで真空乾燥機にて残存塩化メチレンを除去し、重合体のフィルムを得た。これらのフィルムの屈折率を、プリズムカプラ（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社の「モデル２０１０」）にて測定した。屈折率は、４０８ｎｍ、６３３ｎｍ、８２８ｎｍの３波長にて測定し、Ｃａｕｃｈｙの式を用いてＤ線（５８９ｎｍ）での屈折率（ｎＤ）を求めた。Ｆ線（４８６ｎｍ）及びＣ線（６５６ｎｍ）の屈折率についても同様にして求め、アッベ数（νＤ）を算出した。
屈折率（ｎＤ）は、１．６０以上である場合は「良好」と、１．６０未満の場合は「不良」と評価できる。
アッベ数（νＤ）は、２８．０以下である場合は「良好」と、２８．０を超える場合は「不良」と評価できる。

［応力光学係数（ＣＲ）［１０^−９Ｐａ^−１］］
ゴム状態での応力光学係数（ＣＲ）は、公知の方法（ＰｏｌｙｍｅｒＪｏｕｒｎａｌ、Ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．９，９４３−９５０，１９９５）により求めた。上記屈折率評価用に成膜したフィルムを短冊状に切り出し、数種類の荷重をかけ、Ｔｇ＋２０℃の温度条件下にて加熱延伸し、荷重をかけたままゆっくりと冷却した。フィルムに加えた応力と、生じた複屈折（測定波長５９８ｎｍ）との関係を求め、その比例係数をＣＲとした。複屈折の測定には大塚電子社の「ＲＥＴＳ１００」を用いた。また、ＣＲの正負は、上記得られた延伸フィルムと、ポリカーボネートの延伸フィルム（ＣＲが正）とを延伸方向同士が平行又は垂直になるように重ねてリターデーション値を測定することにより評価した。測定したリターデーション値が平行に重ねた方が垂直に重ねた場合より大きいとき、ＣＲは正であり、垂直に重ねた方が平行に重ねた場合より大きいとき、ＣＲは負である。
ＣＲは、絶対値（｜ＣＲ｜）が１０^−９Ｐａ^−１以下である場合は「良好」と、１０^−９Ｐａ^−１を超える場合は「不良」と評価できる。

表１から明らかなように、実施例１〜６の重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（νＤ）及び複屈折（ＣＲ）の評価において良好な結果が得られた。

本発明の重合体は、高屈折率及び低アッベ数であり、低複屈折性に優れ、かつ溶融成形容易なガラス転移温度を有する。従って、本発明の重合体によれば、高屈折率及び低アッベ数であり、低複屈折性に優れる成形体を簡便かつコスト的に有利に得ることができる。また、本発明の光学レンズは、高屈折率、低アッベ数及び優れた低複屈折性の特性を有している。

Claims

下記式（１）で表される第１構造単位と、下記式（２−１）又は（２−２）で表される第２構造単位とを有し、
ゴム状態での応力光学係数の絶対値が１．０×１０^−９Ｐａ^−１以下である重合体。

（式（１）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はセレン原子である。Ｒ^１は、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基である。）

（式（２−１）中、Ｚは、それぞれ独立して、−Ｏ−又は−Ｓ−である。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、メチレン基又は炭素数２〜４のアルキレン基である。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ａが２の場合、２つのＲ^２は同一でも異なっていてもよい。ｂが２の場合、２つのＲ^３は、同一でも異なっていてもよい。ｃは、０〜２の整数である。Ｒ^４は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基、ニトロ基又はシアノ基である。ｄは、０〜８の整数である。ｄが２以上の場合、複数のＲ^４は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。）

（式（２−２）中、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基、ニトロ基又はシアノ基である。ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０〜８の整数である。ｅが２以上の場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。ｆが２以上の場合、複数のＲ^６は同一でも異なっていてもよく、これらの基のうちの２つ以上が互いに結合してこれらが結合する炭素鎖と共に環員数４〜２０の環構造を形成していてもよい。ｇ及びｈは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。Ｌは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−又は炭素数１〜２０の２価の有機基である。ｙは、０〜２の整数である。ｙが２の場合、２つのｇは同一でも異なっていてもよく、２つのＬは同一でも異なっていてもよい。Ｒ^５が複数の場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよい。Ｚは、それぞれ独立して、−Ｏ−又は−Ｓ−である。Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、メチレン基又は炭素数２〜１０のアルキレン基である。ｉ及びｊは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ｉが２の場合、２つのＲ^７は同一でも異なっていてもよい。ｊが２の場合、２つのＲ^８は同一でも異なっていてもよい。）
上記式（１）におけるＲ^１が炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基である請求項１に記載の重合体。
ポリスチレン換算重量平均分子量が２,０００以上３００，０００以下である請求項１又は請求項２に記載の重合体。
ガラス転移温度が８０℃以上１８０℃以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の重合体。
アッベ数が２８以下である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の重合体。
屈折率が１．６０以上である請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の重合体。
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の重合体の成形体からなる光学レンズ。