JP6892860B2 - 高密度回転成形用樹脂 - Google Patents

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Description

本発明は、良好な剛性を有する約0.950g/ccの密度を有する回転成形用ポリエチレン樹脂に関する。この密度範囲内には市販の回転成形用樹脂は存在しないと見受けられる。この樹脂から製造された製品は、競争力がある物性を有する。
回転成形(rotomolding)製造に使用するのに適した樹脂を製造するには、いくつかの異なる考慮事項がある。樹脂は次のようなものである必要がある:商業的に許容される製造速度で製造可能であること;回転成形プロセスでの使用に適していること(例えば、型から除去されるように適切な焼結温度および適切な冷却速度を有していること);ならびに最終的に末端での用途に適した特性を有していなければならないこと。求められる1つの重要な特性は耐低温衝撃性である。求められるもう一つの重要な特性は環境応力亀裂耐性(environmental stress crack resistance)である。樹脂は、農業用タンク噴霧器、水槽、小型回転成形部品などの用途で、化学物質、太陽光などに暴露されることに起因して亀裂が発生しないようにするべきである。
2010年9月7日にDavisらに発行され、Dow Global Technologies Inc.に譲渡された米国特許第7,790,826号は、ボトル水または炭酸飲料のキャップを製造するのに有用な圧縮成形に有用な樹脂を教示している。本開示は、回転成形用途における使用に適した樹脂を教示または示唆していない。
2002年9月10日にKolthammerらに発行され、Dow the Dow Chemical Companyに譲渡された米国特許第6,448,341号は、回転成形に有用な溶液ポリマーのブレンドを教示している。この特許の本質的な特徴は、成分の1つが0.908g/cc未満の密度を有することである。本発明のポリエチレンには0.908g/cc未満の密度を有する成分が存在しない。さらに、Kolthammerのポリマーは、約3〜100g/10分のMI(I)を有する。本発明のポリマーは、約1.0〜1.5g/10分のMI(I)を有する。
本発明は、増強された剛性および低い反りを有する回転成形用途に適したより高密度の樹脂を提供することを目的とする。
発明の要約
一実施形態において、本発明は、以下を提供する:
1.5重量%未満の1−オクテンおよび残部のエチレンを含むポリエチレン樹脂であって、
密度が0.948〜0.953g/ccであり、190℃の温度で2.16kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I)が1.0〜1.5g/10分であり、190℃の温度で21.6kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I21)が32〜55g/10分であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量(Mw)が95,000〜120,000であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定した数平均分子量が20,000〜40,000であり、z平均分子量(Mz)が240,000〜360,000であり、Mw/Mnが2.5〜4.5であり、Mz/Mwが2.5〜3.5であり、CBDI(50)が80〜95であり、残留不飽和度が1000炭素原子あたり0.22未満であり、好ましくは0.06〜0.22であり、このポリマーのGPCによって測定される分子量分布が、少なくとも2成分にデコンボルーションされており、
200,000〜250,000である計算された重量平均分子量(Mw)、90,000〜140,000の計算された数平均分子量(Mn)、390,000〜520,000のz平均分子量(Mz)、および0.921〜0.930g/ccの見積もり密度を有する、20〜40重量%の第1成分、ならびに
20,000〜57,000である計算された重量平均分子量(Mw)、10,000〜30,000の計算された数平均分子量(Mn)、30,000〜80,000のz平均分子量(Mz)、および0.948〜0.953g/ccの見積もり密度を有する、40〜70重量%の第2成分であって、ただし第2成分と第1成分との密度の差異が0.030g/cc未満である第2成分を含む、上記ポリエチレン樹脂。
更なる実施形態において、組成物は、60,000〜130,000である計算された重量平均分子量(Mw)、30,000〜65,000の計算された数平均分子量(Mn)、90,000〜180,000のz平均分子量(Mz)、および0.935〜0.945g/cc、好ましくは0.938〜0.943g/ccの見積もり密度を有する第3成分を含む。
更なる実施形態において、ポリエチレン樹脂は、1200〜1300MPaの1%フレックス割線弾性係数(flex secant modulus 1%)を有する。
更なる実施形態において、ポリエチレン樹脂は、低温ARM衝撃性能試験を用いた測定により、150ft.lb以上の平均破壊エネルギーおよび80%超の延性を有する。
更なる実施形態において、ポリエチレン樹脂は、A100 100%CO−630およびB100 100%CO−630のESCR条件で測定して330時間以上の環境応力亀裂耐性を有する。
更なる実施形態において、ポリエチレン樹脂は、0.6重量%以上の1−オクテンを含む。
更なる実施形態において、ポリエチレン樹脂は、2.5〜4.5のMw/Mnを有する。
更なる実施形態において、ポリエチレン樹脂は、2.5〜3.5のMz/Mnを有する。
更なる実施形態において、第1成分は、全ポリマー組成物の20〜40重量%の量で存在する。
更なる実施形態において、第2成分は、全ポリマー組成物の40〜70重量%の量で存在する。
更なる実施形態において、本発明は、上記樹脂を用いた回転成形部品を提供する。
図1は、本発明による例1のポリマーのGPCによって得られた分子量分布、ならびに、本発明による例1のポリマーに含まれる第1、第2および第3のエチレンポリマーの分子量分布のコンピューターモデル予測のプロットである。 図2は、本発明による例2のポリマーのGPCによって得られた分子量分布、ならびに、本発明による例2のポリマーに含まれる第1、第2および第3のエチレンポリマーの分子量分布のコンピューターモデル予測のプロットである。 図3は、本発明による例3のポリマーのGPCによって得られた分子量分布、ならびに、本発明による例3のポリマーに含まれる第1および第2のエチレンポリマーの分子量分布のコンピューターモデル予測のプロットである。 図4は、比較例3のポリマーのGPCによって得られた分子量分布、ならびに、比較例3のポリマーに含まれる第1および第2のエチレンポリマーの分子量分布のコンピューターモデル予測のプロットである。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。 本発明による例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図5〜10に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測する際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。
数値範囲
[1].実施例以外において、または別に指定されない限りは、本明細書および特許請求の範囲で使用される成分の量、反応条件などを指す全ての数値または表現は、全ての場合において、「約」という用語によって修飾されていると理解されるべきである。したがって、反対に示されない限り、以下の明細書および添付の特許請求の範囲に記載される数値パラメータは、本発明が得ることを望む特性に応じて変化し得る近似値である。最低限、特許請求の範囲に対する均等論の適用を制限する試みとしてではなく、各数値パラメータは、報告された有効数字の数に照らし、かつ通常の丸め技術を適用することによって少なくとも解釈されるべきである。
[2].本発明の広い範囲を示す数値範囲およびパラメータが近似値であるにもかかわらず、特定の実施例に示された数値は可能な限り正確に報告される。しかし、いずれの数値も、それぞれの試験測定値に見られる標準偏差から必然的に生じる特定の誤差を本質的に含む。
[3].また、本明細書に列挙された任意の数値範囲は、その中に包含されるすべての下位範囲を含むことが意図されることを理解されたい。例えば、「1から10」の範囲は、規定された最小値1と規定された最大値10との間の(両端の数値自体を含む)全ての部分範囲を含むことを意図している。すなわち、1以上の最小値および10以下の最大値を有する。開示された数値範囲は連続的であるため、最小値と最大値の間のすべての値を含む。別に特記しない限り、本明細書で特定される様々な数値範囲は近似値である。
[4].本明細書で表現される全ての組成範囲は、合計で100%(体積パーセントまたは重量パーセント)に制限され、実際にはこれを超えない。複数の成分が組成物中に存在し得る場合、各成分の最大量の合計は、当業者が容易に理解するように、実際に使用される諸成分の量が最大100%に合致するとの理解と共に、100%を超えることがある。
本発明のポリマーは、Van Asseldonkらの名で2012年1月24日に発行された、NOVA Chemicals(International)SAに譲渡された米国特許第8,101,693号(その全文は参照により本明細書に組み込まれる)に記載された方法を用いて製造される。
このプロセスでは、2つのCSTR反応器とそれに続く管状反応器が使用される。
高温溶液法における反応器(群)の温度は、約80℃〜約300℃、好ましくは約120℃〜250℃である。(重合温度を上昇させることは一般にポリマーの分子量を減少させるので)温度上限は、良好なポリマー特性を依然として維持しながら(溶液粘度を低下させるように)動作温度を最大化することが要望されるというような、当業者に周知の考慮事項によって影響される。一般に、重合温度の上限は200〜300℃が好ましい。最も好ましい反応プロセスは、「中圧プロセス」であり、これは、反応器(群)内の圧力が、好ましくは約6,000psi(約42,000キロパスカルまたはkPa)未満であることを意味する。好ましい圧力は、10,000〜40,000kPa(1450〜5800psi)、最も好ましくは約14,000〜22,000kPa(2,000psi〜3,000psi)である。
いくつかの反応スキームでは、反応器系の圧力は、重合溶液を単相溶液として維持し、反応器系から熱交換器系を経てポリマー溶液を脱揮系に供給するのに必要な上流圧力を提供するのに十分高くなければならない。他の系は、ポリマーリッチストリームとポリマーリーン(欠乏)ストリームとに溶媒を分離させて、ポリマー分離を容易にすることができる。
溶液重合プロセスは、1つ以上の撹拌タンク反応器を含む撹拌「反応器系」(“reactor system”)、または1つ以上のループ反応器、または混合ループおよび攪拌タンク反応器系で行うことができる。反応器は、タンデム式でも並列式でもよい。二重タンデム反応器系では、第一の重合反応器は、好ましくはより低い温度で操作される。各反応器の滞留時間は、反応器の設計および容量に依存する。一般に、反応器は、反応物の完全な混合を達成する条件下で操作されるべきである。
特に有用な溶液重合プロセスは、少なくとも2つの重合反応器を直列に使用する。第1の反応器における重合温度は約80℃〜約180℃(好ましくは約120℃〜160℃)であり、第2の反応器は、好ましくはより高い温度(約220℃まで)で操作される。最も好ましい反応プロセスは、「中圧プロセス」であり、これは、各反応器の圧力が、好ましくは約6,000psi(約42,000キロパスカル(kPa))未満、最も好ましくは約2,000psi〜3,000psi(約14,000〜22,000kPa)であることを意味する。
「管状反応器」という用語は、その従来の意味、すなわち単なる管であることを意味する。本発明の管状反応器は、長さ/直径(L/D)比が少なくとも10/1である。管状反応器は攪拌されない。好ましくは、管状反応器は断熱的に操作される。従って、重合が進行するにつれて、残りのコモノマーが次第に消費され、かつ溶液の温度が上昇する(これら両方によって残りのコモノマーをポリマー溶液から分離する効率が向上する)。管状反応器の長さに沿った温度上昇が3℃よりも大きいこと(すなわち、管状反応器からの排出温度が、管状反応器に供給されるCSTRからの排出温度よりも少なくとも3℃高いこと)が、特に好ましい。
本発明で使用される管状反応器は、追加のエチレンおよび溶媒のための供給口を有する。供給物は、「調節」(“tempered”:平穏化)される、すなわち、追加のエチレンおよび/または溶媒の温度が周囲温度より高く(好ましくは約100℃まで)加熱されるが、その温度は管状反応器の排出温度より低い。好ましい実施形態では、エチレンを100〜200℃に調節する。エチレンを溶媒と共に添加することが最も好ましい。
溶媒の量(エチレンに対して重量比として表される)は、好ましくは20/1〜0.1/1、特に10/1〜1/1である。
任意選択的に、管型反応器は、追加の触媒、共触媒、コモノマーおよび/またはテロメリゼーション剤(水素など)のための供給口を有することもできる。しかし、非常に好ましい実施形態では、追加の触媒は管状反応器に添加されない。
管状反応器の全容積は、好ましくは、少なくとも1つのCSTRの容積の少なくとも10容積%、特に30〜200容積%である(説明すると、CSTRの容積が1000リットルである場合、管型反応器の容積は少なくとも100リットル、好ましくは300〜2000リットルである)。
管状反応器に添加されるエチレンの総量は、好ましくは、CSTR(単数または複数)に添加される全エチレンの1〜50重量%である。例えば、1つのCSTRが1000kg/時のエチレン流速で操作されている場合、管状反応器へのエチレン流は10〜500kg/時であろう。同様に、2つのCSTRが第1のエチレン流に対して1000kg/時、第2のエチレン流に対して500kg/時で操作された場合、管状反応器へのエチレン流は15〜750kg/時であろう。
全体として、得られたポリマーまたはポリエチレン樹脂は、1.5未満、一実施形態では0.6より多く、さらに別の実施形態では0.7〜1.2重量%の1−オクテンおよび残部エチレンを含み、0.948〜0.953の密度を有し、2.16kgの荷重下、190℃の温度でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I)が1.0〜1.5g/10分、いくつかの実施形態では1.1〜1.3g/10分であり;21.6kgの荷重下、190℃の温度でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I21)が32〜55g/10分、いくつかの実施形態では36〜50g/10分であり;ゲル浸透クロマトグラフィーによって測定された重量平均分子量(Mw)が95,000〜120,000、いくつかの実施形態では100,000〜115,000であり;ゲル浸透クロマトグラフィーによって測定される数平均分子量(Mn)が20,000〜40,000、いくつかの実施形態では25,000〜35,000であり;z平均分子量(Mz)が240,000〜360,000、いくつかの実施形態では260,000〜325,000であり;2.3〜4.5のMw/Mn、別の実施形態では2.7〜4.3のMw/Mnを有し;2.5〜3.5のMz/Mwを有し;80〜95のCBDI(50)を有し;1000炭素原子当たり0.22未満、好ましくは0.06〜0.22、いくつかの実施形態では20未満の残留不飽和度を有する。
さらに、樹脂は、部品またはプラーク(plaques)に成形されるとき、以下の特性を有する:
ESCR条件A100 100%CO−630およびB100 100%CO−630で測定した場合に330時間以上の環境応力亀裂耐性;1%フレックス(flex)割線弾性係数が1200を超え、いくつかの実施形態では1200〜1300MPaであり;平均破壊エネルギーが150ft.lb以上であり;低温ARM衝撃性能試験を用いて測定したときに80%を超える延性;および
8未満、好ましくは約2〜7、最も好ましくは2.5〜5の一次構造パラメータ(PSP2)。
Macromolecular Symposia(2009),282(Polyolefin Characterization−ICPC 2008)、136−149ページのDesLauriersおよびRohlfingによって概説されたPSP2計算は、参照により本明細書に組み込まれる。PSP2計算は、一般に、多段階プロセスとして説明され得る。第1のステップは、式1によって記述されるようなサンプルの分子量分布からサンプルのホモポリマー(または低コモノマーポリマー)密度を見積もることを含む。第1のステップは、サンプル密度に対する分子量の影響を考慮する。
1/ρ=Σ(wi/ρi)=∫1/ρ(dw/dLogM)dLogM(式1)
ここで、ρ=1.0748−(0.0241)LogMである。
720g/mol未満の分子量での密度値は、この方法によれば1.006g/cmに等しい。第2のステップでは、各分子量(MW)スライスについて短鎖分岐の存在による密度抑制への追加寄与をさらに説明するために、測定されたコポリマーの嵩密度と計算されたホモポリマー密度との間の差を、全体短鎖分岐(SCB)レベル(サイズ排除クロマトグラフィー−フーリエ変換赤外分光法またはC13−NMRによって測定されたもの)で除算し、続いて各MWスライスのSCBレベルに適用する。コポリマーの最初に観測された嵩密度(0.852g/cmまで)は、上記のMWスライスの合計によって得られる。計算は、すべてのSCBレベルが密度抑制に同じ効果を持つと仮定することによって単純化されている。しかしながら、密度を抑制するための特定のSCBレベルの有効性は変化する(すなわち、SCBのレベルが増加するにつれてSCBが結晶性を破壊する能力は低下する)ことが理解されるべきである。あるいは、コポリマーの密度が分かっていない場合、SCBのサンプル密度への影響は、米国特許出願公開第2007/0298508号(米国特許第7,803,629号として発行)にてDesLauriers and Rohlfingによって説明されているように式2を用いて見積もることができ、密度の変化Δρは、スライスをベースとして1つの分子スライスについて式1で与えられた値から減じられた値を指す。
Δρ=C(SCB/PDIC2−C(SCB/PDIC4(式2)
式2において、C=1.25E−02、C=0.5、C=7.51E−05、C=0.62、およびn=0.32である。
PSP2を計算する第3のステップは、2l+lの量を計算することであり、ここで、以下の複数の式で与えられた特定の分子量にて、lは、見積もり結晶ラメラ厚み(nm)であり、lは、非晶性材料の見積もり厚み(nm)である。
Figure 0006892860
式3では、それぞれ0.852g/cmおよび1.01g/cmの密度値に対して20℃および142.5℃の割り当て値が与えられている。式4は、よく受け入れられたギブス・トンプソン式の一形式である。非晶質層(1)の厚みは、式5aおよび5bを使用して計算される。
Figure 0006892860

式中、上記の記号は、以下の意味を有する。
= 重量分率結晶化度
ρ = MWスライスの計算密度
ρ = 100%結晶性サンプルの密度(1.006g/cmとする)
ρ = 非晶質相の密度(0.852g/cm
第4のステップは、式6aおよび6bに従って、各分子量およびそれぞれの2l+lの値についての結合分子確率(tie molecule probability)(P)を計算する。
Figure 0006892860

式中、上記の記号は、以下の意味を有する。
P = 結合鎖形成の確率
L = 限界距離(nm) = 2lc+la
D =ポリエチレンの溶融時の連鎖延長係数 = 6.8
n = ポリエチレンのリンク数 = Mw/14
l = ポリエチレンのリンク長さ = 0.153nm
Figure 0006892860
最終的にPSP2値は、この値をMWDの各スライスについて本質的に重み付け係数(P)として扱うことによって、式6aおよび6bから計算され、ここで、Pは任意に100で乗算され、その後PSP2として定義された。前述の計算のすべてと同様に、バルクポリマーの値を得るために、各スライスにおけるこの値にMWDプロファイルのそれぞれの重量分率(w)を乗じる。
本発明の実施例および比較例についてのlogMに対する計算されたw・PSP2値のプロットをそれぞれ図4〜図9に示すが、これは構造特性の関係を理解し予測することを試みる際に洞察できる。得られたw・PSP2対logM曲線の下の領域は、ポリマーサンプル全体のPSP2を定義する。
上述したように、樹脂は、直列の2つのCSTRを使用し、続いて管状反応器(バーナー後)を使用するプロセスで製造される。このように、樹脂のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)は、数学的にデコンボリューションして3つの成分にすることができる。
第1成分は、高分子量の最低密度成分である。この成分は、最も低い温度で最初のCSTRで作成される。この成分の密度は0.921〜0.930g/ccであり、別の実施形態では0.921〜0.925g/ccであると見積もられる。この成分は、ポリマー全体の20〜40重量%、別の実施形態では25〜40重量%の量で存在する。この成分は、170,000〜265,000の計算された重量平均分子量(Mw);90,000〜140,000の計算された数平均分子量(Mn);390,000〜520,000のz平均分子量(Mz)を有する。この第1の成分は、約1.9〜2.2、一般に1.9〜2.1の計算されたMw/Mnを有する。この第1の成分は、1.4から1.6、別の実施形態では1.5の計算されたMz/Mwを有する。第1の成分は、1000個の炭素原子当たり約1.8の計算された短鎖分岐度(short chain branch frequency)(ここで「短鎖」は6炭素原子鎖である)を有する。
第2成分は、低分子量の最高密度成分である。この成分は、第2のCSTRにおいて、第2のCSTRの最高温度で作られる。成分2と成分1との間の密度差が0.030g/cc未満であれば、この成分の密度は0.948〜0.953g/cc、別の実施形態では0.949〜0.952g/ccであると見積もられる。この成分は、ポリマー全体の40〜70重量%、別の実施形態では60〜80重量%の量で存在する。この成分は、20,000〜57,000の計算された重量平均分子量(Mw);10,000〜27,000の計算された数平均分子量(Mn);30,000〜72,000のz平均分子量(Mz)を有する。この第2の成分は、約1.7〜2.2、一般に1.9〜2.1の計算されたMw/Mnを有する。この第2の成分は、1.4から1.6、別の実施形態では1.5の計算されたMz/Mwを有する。第2の成分は、1000個の炭素原子当たり0.5未満の計算された短鎖分岐度(short chain branch frequency)(ここで「短鎖」は6炭素原子鎖である)を有する。第1の成分と第2の成分との間の計算された密度差は、0.025〜0.030g/ccである。
第3の成分は、中間の分子量および密度の成分である。この成分は、高温で管状反応器中で製造される。この成分の密度は、0.935〜0.945g/cc、別の実施形態では0.938〜0.942g/ccであると計算される。この実施形態では、第3の成分は、ポリマーの残部、典型的に組成物の約3〜約20重量%、いくつかの実施形態では組成物の3〜17重量%を構成する。この成分は、60,000〜130,000の計算された重量平均分子量(Mw);30,000〜65,000の計算された数平均分子量(Mn);90,000〜180,000のz平均分子量(Mz)を有する。この第3成分は、約1.9〜2.1、一般に約2の計算されたMw/Mnを有する。この第3成分は、1.4〜1.6、別の実施形態では1.5の計算されたMz/Mwを有する。
このポリマーは、上述の溶液重合プロセスを用いて作ることができる。エチレンと、1種以上のコモノマー、典型的にはC〜C、好ましくはC〜Cのαオレフィン、好ましくはへキセンまたはオクテン、最も好ましくはオクテンとの溶液重合において、典型的に、モノマー群は、不活性炭化水素溶媒、典型的には、C〜Cアルキル基で置換されていてもよいし無置換でもよいC〜C12炭化水素 例えば、ペンタン、メチルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンおよび水素化ナフサに溶解されている。市販されている適切な溶媒の例は、「Isopar E」(C〜C12脂肪族溶媒、Exxon Chemical Co.)である。
触媒および活性化剤はまた、反応条件において、溶媒に溶解されるか、または溶媒と混和性の希釈剤中に懸濁される。
触媒
触媒は、以下の式の化合物である。
Figure 0006892860

式中、Mは、Ti、ZrおよびHfからなる群から選択され;Plは、以下の式のホスフィンイミン配位子であり、
Figure 0006892860

式中、各R21は、独立して、水素原子;ハロゲン原子;ハロゲン原子によって置換されていないか、またはさらにハロゲン原子で置換されているヒドロカルビル基、典型的にはC〜C10のヒドロカルビル基;C〜Cアルコキシ基;C〜C10アリールまたはアリールオキシ基;アミド基;以下の式のシリル基:
−Si−(R22
式中、各R22は、水素、C〜Cアルキルまたはアルコキシ基およびC〜C10アリールまたはアリールオキシ基からなる群から独立して選択され;および、以下の式のゲルマニル基:
−Ge−(R22
式中R22は前記と同義である;
Lは、シクロペンタジエニル型配位子からなる群から独立して選択されるモノアニオン性シクロペンタジエニル型配位子であり、Yは、活性化可能な配位子からなる群から独立して選択され;mは1または2であり;nは0または1であり;pは整数であり、m+n+pの和はMの価数状態に等しい。
好ましいホスフィンイミンは、各R21がヒドロカルビル基、好ましくはC〜Cヒドロカルビル基、最も好ましくはC〜Cヒドロカルビル基であるものである。
「シクロペンタジエニル」という用語は、環内に非局在化結合を有し、典型的には活性触媒部位、一般にはη−結合を介して第4族金属(M)に結合している5員炭素環を指す。シクロペンタジエニル配位子は、以下の1種または複数種の置換基、すなわち、非置換であるか若しくはハロゲン原子およびC〜Cアルキル基からなる群から選択される1以上の置換基によってさらに置換されたC〜C10ヒドロカルビル基;ハロゲン原子;C〜Cアルコキシ基;C〜C10アリールまたはアリールオキシ基;非置換であるか若しくは2個までのC〜Cアルキル基で置換されたアミド基;非置換であるか若しくは2個までのC〜Cアルキル基で置換されたホスフィド基;式−Si−(R)(式中、各Rは、水素、C〜Cアルキルまたはアルコキシ基、C〜C10アリールまたはアリールオキシ基からなる群から独立して選択される)のシリル基;ならびに式Ge−(R)(式中、Rは上記で定義した通りである)のゲルマニル基からなる群から選択される1種または複数種の置換基によって、部分的にまたは完全に至るまで置換されていてよいし、または、シクロペンタジエニル配位子は非置換であってもよい。
好ましくは、シクロペンタジエニル型配位子は、シクロペンタジエニル基、インデニル基およびフルオレニル基からなる群から選択され、これらの基は、非置換であるか、または、フッ素原子、塩素原子;C1−4アルキル基;および非置換であるか若しくは1つ以上のフッ素原子で置換されたフェニルまたはベンジル基からなる群から選択される1種以上の置換基によって、部分的にまたは完全に至るまで置換されていてもよい。
活性化可能な配位子Yは、ハロゲン原子、C1−4アルキル基、C6−20アリール基、C7−12アリールアルキル基、C6−10フェノキシ基、2個までのC1−4アルキル基で置換されていてもよいアミド基、およびC1−4アルコキシ基からなる群から選択されるものであってよい。好ましくは、Yは、塩素原子、メチル基、エチル基およびベンジル基からなる群から選択される。
適切なホスフィンイミン触媒は、1つのホスフィンイミン配位子(上記のような)および1つのシクロペンタジエニル型(L)配位子および2つの活性化可能な配位子を含む第4族有機金属錯体である。この触媒は架橋されていない。
活性化剤
触媒のための活性化剤は、典型的に、アルミノキサンおよびイオン活性化剤からなる群から選択される。
アルモキサン(alumoxanes)
適切なアルモキサンは、式:(RAlO(RAlO)Al(Rであってもよく、ここで、各Rは独立してC1−20ヒドロカルビル基からなる群から選択され、mは0〜50であり、好ましくは、各RはC1−4アルキル基であり、mは5〜30である。各Rがメチルであるメチルアルモキサン(または「MAO」)が好ましいアルモキサンである。アルモキサンは、共触媒(助触媒)として、特にメタロセン型触媒としてよく知られている。アルモキサンは、容易に入手可能な商品でもある。アルモキサン共触媒の使用は、一般に、触媒中のアルミニウム対遷移金属のモル比が20:1〜1000:1であることを必要とする。好ましい比は50:1〜250:1である。
商業的に入手可能なMAOは、触媒活性を低下させ、および/またはポリマーの分子量分布を広げることができる遊離アルミニウムアルキル(例えば、トリメチルアルミニウムまたは「TMA」)を典型的に含有する。狭い分子量分布のポリマーが必要な場合には、そのような市販のMAOを、TMAと反応することができる添加剤で処理することが好ましい。この目的のためには、アルコールが好ましい(ヒンダードフェノールが特に好ましい)。
「イオン活性化剤」共触媒
いわゆる「イオン活性剤」もメタロセン触媒としてよく知られている。例えば、米国特許第5,198,401号(Hlatky and Turner)および米国特許第5,132,380号(StevensおよびNeithamer)を参照のこと。
いずれの理論にも拘束されることを望まないが、「イオン活性剤」は、触媒をイオン化してカチオンにし、次いでカチオン形態の触媒を安定化する嵩高く不安定な非配位性のアニオンを与える方法で、活性化可能な配位子の1つ以上の引き抜きを最初に引き起こすと当業者に考えられている。嵩高く非配位性のアニオンは、カチオン性触媒中心でオレフィン重合を進行させることを可能にすると考えられる。なぜなら、非配位性アニオンは触媒に配位するモノマーによって置換されるのに十分に不安定であるからであろう。好ましいイオン活性化剤は、以下の(i)〜(iii)に記載のホウ素含有イオン活性化剤である。
(i)式[R[B(Rの化合物
式中、Bはホウ素原子であり、Rは芳香族ヒドロカルビル(例えば、トリフェニルメチルカチオン)であり、各Rは、独立して、非置換のフェニル基、または、フッ素原子、非置換もしくはフッ素原子で置換されたC1−4アルキル基またはアルコキシ基、および式−Si−(Rのシリル基(式中、各Rは、独立して、水素原子およびC1−4アルキル基からなる群から選択される)からなる群から選択される3〜5個の置換基で置換されたフェニル基からなる群から独立に選択される。
(ii)式[(RZH][B(Rの化合物
式中、Bはホウ素原子であり、Hが水素原子であり、Zが窒素原子またはリン原子であり、tが2または3であり、Rは、C1−8アルキル基、非置換または3個までのC1−4アルキル基で置換されたフェニル基から選択され、あるいは、1つのRは、窒素原子と一緒になってアニリニウム基を形成してもよく、Rは上で定義した通りである。
(iii)式B(Rの化合物
式中、Rは上記で定義した通りである。
上記化合物において、好ましくは、Rは、ペンタフルオロフェニル基であり、Rは、トリフェニルメチルカチオンであり、Zは、窒素原子であり、Rは、C1−4アルキル基であるか、または、窒素原子と一緒になったRは、2つのC1−4アルキル基で置換されたアニリニウム基を形成する。
「イオン活性化剤」は、1つ以上の活性化可能な配位子を引き抜くことができ、それによって、触媒中心をカチオンにイオン化するが、触媒と共有結合しないようにし、そして触媒とイオン化活性化剤との間に十分な距離を提供して、結果的に生じた活性部位に重合性オレフィンが入ることを可能にする。
イオン活性化剤の例としては、トリエチルアンモニウムテトラ(フェニル)ボロン;トリプロピルアンモニウムテトラ(フェニル)ボロン;トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ(フェニル)ボロン;トリメチルアンモニウムテトラ(p−トリル)ボロン;トリメチルアンモニウムテトラ(o−トリル)ボロン;トリブチルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボロン;トリプロピルアンモニウムテトラ(o,p−ジメチルフェニル)ボロン;トリブチルアンモニウムテトラ(m,m−ジメチルフェニル)ボロン;トリブチルアンモニウムテトラ(p−トリフルオロメチルフェニル)ボロン;トリブチルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボロン;トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ(o−トリル)ボロン;N,N−ジメチルアニリニウムテトラ(フェニル)ボロン;N,N−ジエチルアニリニウムテトラ(フェニル)ボロン;N,N−ジエチルアニリニウムテトラ(フェニル)n−ブチルボロン、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウムテトラ(フェニル)ボロン、ジ(イソプロピル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボロン;ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ(フェニル)ボロン、トリフェニルホスホニウムテトラ(フェニル)ボロン;トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラ(フェニル)ボロン;トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラ(フェニル)ボロン;トロピリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボラート;トリフェニルメチリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボラート;ベンゼン(ジアゾニウム)テトラキスペンタフルオロフェニルボラート;トロピリウムフェニルトリスペンタフルオロフェニルボラート;トリフェニルメチリウムフェニルトリスペンタフルオロフェニルボラート;ベンゼン(ジアゾニウム)フェニルトリスペンタフルオロフェニルボラート;トロピリウムテトラキス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ボラート;トリフェニルメチリウムテトラキス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ボラート;ベンゼン(ジアゾニウム)テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボラート;トロピリウムテトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボラート;ベンゼン(ジアゾニウム)テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボラート;トロピリウムテトラキス(1,2,2−トリフルオロエテニル)ボラート;トリフェニルメチリウムテトラキス(1,2,2−トリフルオロエテニル)ボラート;ベンゼン(ジアゾニウム)テトラキス(1,2,2−トリフルオロエテニル)ボラート;トロピリウムテトラキス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボラート;トリフェニルメチリウムテトラキス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボラート;ベンゼン(ジアゾニウム)テトラキス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボラートが挙げられる。
容易に入手される市販のイオン活性化剤としては、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボラート;トリフェニルメチリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボラート;およびトリスペンタフルオロフェニルボランが挙げられる。
イオン活性化剤は、触媒中の第IV族金属に対して数モル当量程度のホウ素で使用することができる。触媒からの第IV族金属のホウ素に対する好適なモル比は、1:1〜3:1、好ましくは1:1〜1:2の範囲であり得る。
ある場合には、イオン活性化剤は、アルキル化活性化剤(スカベンジャーとしても作用し得る)と組み合わせて使用することができる。アルキル化活性化剤は、(RMgX2−p(Xはハロゲン化物であり、各Rは独立してC1−10アルキル基からなる群から選択され、pは1または2である。);RLi(Rは上で定義された通りである。);(RZnX2−q(Rは上で定義された通りであり、Xはハロゲンであり、pは1または2である。);(RAlX3−s(Rは上で定義された通りであり、Xはハロゲンであり、sは1〜3の整数である。)からなる群から選択されてよい。好ましくは、上記化合物において、RはC1−4アルキル基であり、Xは塩素である。市販の化合物には、トリエチルアルミニウム(TEAL)、塩化ジエチルアルミニウム(DEAC)、ジブチルマグネシウム((Bu)Mg)、およびブチルエチルマグネシウム(BuEtMgまたはBuMgEt)が含まれる。
ホスフィンイミン触媒が、イオン活性化剤(例えばホウ素化合物)とアルキル化剤との組み合わせで活性化される場合、触媒からの第IV族金属:イオン活性剤からのメタロイド(ホウ素):アルキル化剤からの金属のモル比は、1:1:1〜1:3:10、好ましくは1:1.3:5〜1:1.5:3であってよい。
得られたポリマー溶液から残留モノマーをストリップ除去し、ペレット化する。一般に、ペレット化プロセスの間に、酸化防止剤、熱および光安定剤、ならびにプロセス助剤のような従来の添加剤がポリマーに添加される。
得られるポリマーは、以下のタイプを含む従来の添加剤と配合(コンパウンディング)することができる:
ジホスファイト(diphosphite)
本明細書で使用される場合、用語「ジホスファイト」は、ホスファイト分子当たり少なくとも2つのリン原子を含むホスファイト安定剤を指す。
好適なジホスファイトおよびジホスホナイトの非限定的な例は以下のとおりである:ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト[Chemtura Corporationにより商標名ULTRANOX(登録商標)626で販売されている];ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト;ビスイソデシルオキシ−ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト[Dover Chemicals Corporationにより商標名DOVERPHOS(登録商標)S9228−TおよびDOVERPHOS S9228−CTで販売されている]。ジホスファイトは、200ppm〜2000ppm、好ましくは300ppm〜1500ppm、最も好ましくは400ppm〜1000ppmの量で使用される。
他の添加剤
本発明の組成物は、任意選択的で、従来ポリエチレンと共に使用される他の添加剤を含み得る。非限定的なリストは以下のとおりである。
酸中和剤
多くの市販のポリオレフィンは塩化物残留物を含む。これらの塩化物残留物は、特に溶融加工操作中に塩酸を生成することがある。したがって、「酸中和剤」は、従来、ポリオレフィン安定化パッケージに含まれており、好ましくは本発明の方法に含まれる。
これらの酸中和剤は、酸化亜鉛、合成ハイドロタルサイトおよびLi、Na、CaまたはAl(ヒドロキシ)炭酸塩のような「無機」類と、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、乳酸カルシウムおよびステアロイル乳酸カルシウムを含む、脂肪酸の塩またはそれらの誘導体などの「有機」類とに分類される。これらの従来の酸中和剤が使用される場合、通常の量で使用される。合成ハイドロタルサイト(100〜1000ppmの量)、ステアリン酸亜鉛(200〜700ppmの量)、ステアロイル乳酸カルシウム(200〜700ppmの量)を用いることが好ましい。ハイドロタルサイトと「有機」酸中和剤との組み合わせが非常に好ましい。
HALS
フェノール系抗酸化剤
アルキル化モノフェノール類
例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール;2−tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール;2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール;2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノール;2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール;2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール;2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6ジメチルフェノール;2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール;2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール;および2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシメチルフェノールが挙げられる。
アルキル化ヒドロキノン類
例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェノール;2,5−ジ−tert−ブチルヒドロキノン;2,5−ジ−tert−アミル−ヒドロキノン;2,6ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノールが挙げられる。
ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル類
例えば、2,2’−チオ−ビス−(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール);2,2’−チオ−ビス−(4−オクチルフェノール);4,4’チオ−ビス−(6−tertブチル−3−メチルフェノール);および4,4’−チオ−ビス−(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)が挙げられる。
アルキリデン−ビスフェノール類
例えば、2,2’−メチレン−ビス−(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール);2,2’−メチレン−ビス−(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール);2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール);2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール);2,2’−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール);2,2’−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール);2,2’−メチレン−ビス−(6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール);2,2’−メチレン−ビス−(6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニル−フェノール);2,2’−メチレン−ビス−(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール);2,2’−エチリデン−ビス−(6−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール);4,4’−メチレン−ビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール);4,4’−メチレン−ビス−(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール);1,1−ビス−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェノール)ブタン;2,6−ジ−(3−tert−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール;1,1,3−トリス−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン;1,1−ビス−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−ドデシルメルカプトブタン;エチレングリコール−ビス−(3,3−ビス−(3’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−ブチレート)−ジ−3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−ジシクロペンタジエン;ジ−(2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル)テレフタレート;例えば、エチリジエンビス−2,4−ジ−t−ブチルフェノールモノアクリレートエステルなどのビスフェノールのモノアクリレートエステルのような他のフェノール類が挙げられる。
ヒドロキシルアミン類およびアミンオキサイド類
例えば、N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン;N,N−ジエチルヒドロキシルアミン;N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン;N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン;N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン;N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン;N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン;N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン;N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン;水素化獣脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンが挙げられる。アミンオキサイド類の同族体(米国特許第5,844,029号、Prachu et al.に開示されているもの)もまた使用することができる。
ポリエチレンに充填剤を添加する場合は、成形品の反りを引き起こす可能性があるため注意が必要である。
ポリエチレンは、典型的には、約500〜1000ミクロンのサイズを有する微細粉末に粉砕される。粉末は、そのまま使用してもよいし、追加の熱および光安定剤や顔料をポリエチレンに添加してもよい。
粉末は、典型的にはまた、離型助剤と共に、型に充填される。型は、2つの回転軸の周りを回転して、型の内面全体に粒子が流れるようにする。粒子は、焼結温度まで加熱され、一緒に融着し、連続表面を形成する。次いで、型を冷却して開放し、形成された部品を除去する。
本発明を以下の実施例により説明する。
実施例
試験方法
ユニバーサル較正(例えば、ASTM−D646−99)を用いた示差屈折率検出を伴う高温ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)によって、Mn、MwおよびMz(g/mol)を測定した。分子量分布(MWD)は、重量平均分子量(Mw)の数平均分子量(Mn)に対する比である。
GPC−FTIRを使用して、コモノマー含有量を分子量の関数として測定した。GPCによるポリマーの分離の後、オンラインFTIRによって、ポリマーおよびメチル末端基の濃度を測定する。メチル末端基は、分岐度計算に使用される。従来の較正は、分子量分布の計算を可能にする。
各ポリマー成分がFloryの分子量分布関数に従い、それが分子量の全範囲に渡って均一なコモノマー分布を有すると仮定することによって、各反応器で製造された成分のポリマーの相対量、分子量およびコモノマー含量を測定するために数学的デコンボリューションを行った。シングルサイト触媒の使用の結果である、各樹脂成分の均一なコモノマー分布は、ポリエチレン組成物中の第1および第2のエチレンポリマー成分のデコンボリューションされた相対量ならびに上記手順からのそれらの見積もり樹脂分子量パラメータに基づいた、第1および第2エチレンポリマーの1000個の炭素原子あたりの分岐における短鎖分岐含量(SCB)の見積もりを可能にした。
コポリマーサンプルの短鎖分岐度(1000炭素原子あたりのSCB)を、ASTM D6645−01に従うフーリエ変換赤外分光法(FTIR)によって測定した。測定にはThermo−Nicolet 750 Magna−IR分光光度計を用いた。また、FTIRを用いて、不飽和の内部、側鎖および末端レベルを測定した。
コモノマー含量はまた、Randall Rev. Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),p.285;米国特許第5,292,845号および国際公開第2005/121239号にて議論されているように、13C NMR技法を用いて測定され得る。
ポリエチレン組成物の密度(g/cm)をASTM D792に従って測定した。
ポリエチレン組成物のメルトインデックスIおよびI21を、ASTM D1238に従って測定した。
ポリエチレン組成物を構成する第1および第2エチレンポリマーの密度およびメルトインデックスは、組成物モデルに基づいて決定された。以下の式を使用して密度およびメルトインデックスIを計算した(NOVA Chemicalsに譲渡され、2011年9月20日に公開されたWangによる米国特許第8,022,143B2号参照)。
Figure 0006892860

式中、M、M、MおよびSCB/1000Cは、上記デコンボリューションの結果から得られた個々のエチレンポリマー成分のデコンボリューション値である。
ポリエチレン組成物から成形されたプラーク(plaques)を、以下のASTM法に従って試験した:ベントストリップ環境応力亀裂耐性(ESCR)、ASTM D1693;屈曲特性、ASTM D790;引張特性、ASTM D638。
回転成形された部品は、Ferry Industries Inc.によって商品名Rotospeed RS3−160で販売されている回転成形機で調製された。この機械は、密閉オーブン内で中心軸の周りを回転する2つのアームを有する。これらのアームは、アームの回転軸にほぼ垂直な軸上で回転するプレートに取り付けられている。各アームには、12.5インチ(31.8cm)×12.5インチ×12.5インチの寸法を有するプラスチック立方体を生産する6つのキャストアルミニウム型が取り付けられている。アームの回転を約8回転/分(rpm)に設定し、プレートの回転を約2rpmに設定した。これらの型は、最初に粉末形態(35USメッシュサイズ)の約3.7kgのポリエチレン樹脂の標準装填物で充填されたとき、約0.25インチ(0.64cm)の公称厚みを有する部品を製造する。密閉オーブン内の温度を560℃の温度に維持した。型およびそれらの内容物を特定の時間加熱した。型はその後、部品を除去する前に制御された環境で冷却された。密度測定(そのままの密度)ならびに色度および白色度(そのままの色)を測定するために、成形部品からサンプルを採取した。ARM衝撃試験は、ASTM D5628に従って、試験温度−40℃で実施した。
樹脂
双峰性ポリエチレン組成物を二重反応器パイロットプラントで調製した。この二重反応器プロセスでは、第1の反応器の内容物が第2の反応器に流入し、両方ともよく混合される。このプロセスは、連続供給物流を用いて動作する。触媒(シクロペンタジエニルTiトリtert−ブチルホスフィミンジクロライド)を両方の反応器に供給した。全体の製造速度は約90kg/時であった。
パイロットプラントで調製されたポリマー組成物は、プラーク試験および回転成形試行を実施する前に、従来の添加剤パッケージによって安定化された。
重合条件を表1に示す。得られたポリエチレン組成物を表2に説明する。得られた樹脂の特性を、比較例1および比較例2とそれぞれ称される2つの市販の回転成形樹脂と比較する。第1のエチレンポリマーおよび第2のエチレンポリマーの特性は、GPCおよびGPC−FTIRから得られた結果について行われたデコンボリューション研究から見積もられた。結果を表3に示す。ポリエチレン組成物から製造されたプレス成形プラークおよび回転成形部品の特性を表4に示す。
Figure 0006892860
Figure 0006892860
Figure 0006892860
Figure 0006892860

本発明に包含され得る諸態様は、以下のとおり要約される。
[態様1]
1重量%未満の1−オクテンおよび残部のエチレンを含むポリエチレン樹脂であって、
密度が0.948〜0.953g/ccであり、190℃の温度で2.16kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I )が1.0〜1.5g/10分であり、190℃の温度で21.6kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I 21 )が32〜55g/10分であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量(Mw)が90,000〜130,000であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定した数平均分子量(Mn)が20,000〜40,000であり、z平均分子量(Mz)が240,000〜360,000であり、Mw/Mnが2.9〜4であり、Mz/Mwが2.9〜3.2であり、CDBI(50)が80〜95であり、このポリマーのGPCによって測定される分子量分布が、少なくとも2成分にデコンボルーションされており、
200,000〜250,000である計算された重量平均分子量(Mw)、90,000〜135,000の計算された数平均分子量、390,000〜490,000のz平均分子量、および0.921〜0.930g/ccの見積もり密度を有する、20〜40重量%の第1成分、および
37,000〜57,000である計算された重量平均分子量(Mw)、18,000〜30,000の計算された数平均分子量(Mn)、60,000〜85,000のz平均分子量、および0.948〜0.953g/ccの見積もり密度を有する、60〜80重量%の第2成分であって、ただし第2成分と第1成分との密度の差異が0.030g/cc未満である第2成分を含む、上記ポリエチレン樹脂。
[態様2]
1200〜1300MPaの1%フレックス割線弾性係数を有する、上記態様1に記載のポリエチレン樹脂。
[態様3]
低温ARM衝撃性能試験を用いた測定により、150ft.lb以上の平均破壊エネルギーおよび80%以上の延性を有する、上記態様2に記載のポリエチレン樹脂。
[態様4]
0.6重量%以上の1−オクテンを含む、上記態様3に記載のポリエチレン樹脂。
[態様5]
2.5〜4.5のMw/Mnを有する、上記態様4に記載のポリエチレン樹脂。
[態様6]
2.5〜4のMz/Mwを有する、上記態様5に記載のポリエチレン樹脂。
[態様7]
第1成分が、全ポリマー組成物の25〜30重量%の量で存在する、上記態様6に記載のポリエチレン。
[態様8]
1重量%未満の1−オクテンおよび残部のエチレンを含むポリエチレン樹脂であって、
密度が0.948〜0.953g/ccであり、190℃の温度で2.16kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I )が1.0〜1.5g/10分であり、190℃の温度で21.6kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I 21 )が32〜55g/10分であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量(Mw)が90,000〜130,000であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定した数平均分子量(Mn)が20,000〜40,000であり、z平均分子量(Mz)が240,000〜360,000であり、Mw/Mnが2.9〜4であり、Mz/Mwが2.9〜3.2であり、CDBI(50)が80〜95であり、このポリマーのGPCによって測定される分子量分布が、少なくとも3成分にデコンボルーションされており、
170,000〜265,000である計算された重量平均分子量(Mw)、90,000〜140,000の計算された数平均分子量(Mn)、390,000〜520,000のz平均分子量、および0.921〜0.930g/ccの見積もり密度を有する、20〜40重量%の第1成分、
20,000〜57,000である計算された重量平均分子量(Mw)、10,000〜27,000の計算された数平均分子量(Mn)、30,000〜72,000のz平均分子量、および0.948〜0.953g/ccの見積もり密度を有する、40〜70重量%の第2成分であって、ただし第2成分と第1成分との密度の差異が0.030g/cc未満である第2成分、および
60,000〜130,000である計算された重量平均分子量(Mw)、30,000〜65,000の計算された数平均分子量(Mn)、90,000〜180,000のz平均分子量、および0.935〜0.945g/ccの見積もり密度を有する、3〜20重量%の第3成分を含む、上記ポリエチレン樹脂。
[態様9]
1200〜1300MPaの1%フレックス割線弾性係数を有する、上記態様8に記載のポリエチレン樹脂。
[態様10]
低温ARM衝撃性能試験を用いた測定により、150ft./lb以上の平均破壊エネルギーおよび80%超の延性を有する、上記態様9に記載のポリエチレン樹脂。
[態様11]
A100 100%CO−630およびB100 100%CO−630のESCR条件で測定して200時間以上の環境応力亀裂耐性を有する、上記態様10に記載のポリエチレン樹脂。
[態様12]
0.6重量%以上の1−オクテンを含む、上記態様11に記載のポリエチレン樹脂。
[態様13]
2.5〜4.5のMw/Mnを有する、上記態様12に記載のポリエチレン樹脂。
[態様14]
2.5〜3.5のMz/Mnを有する、上記態様13に記載のポリエチレン樹脂。
[態様15]
第1成分が、全ポリマー組成物の25〜40重量%の量で存在する、上記態様14に記載のポリエチレン樹脂。
[態様16]
第2成分が、全ポリマー組成物の45〜65重量%の量で存在する、上記態様15に記載のポリエチレン樹脂。

Claims (6)

  1. 0.6重量%以上かつ1.2重量%未満の1−オクテンおよび残部のエチレンを含むポリエチレン樹脂であって、
    密度が0.948〜0.953g/ccであり、190℃の温度で2.16kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I)が1.0〜1.5g/10分であり、190℃の温度で21.6kgの荷重下でASTM1238に従って測定されたメルトインデックス(I21)が32〜55g/10分であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量(Mw)が90,000〜130,000であり、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定した数平均分子量(Mn)が20,000〜40,000であり、z平均分子量(Mz)が240,000〜360,000であり、Mw/Mnが2.9〜4であり、Mz/Mwが2.5〜3.5であり、CDBI(50)が80〜95であり、このポリマーのGPCによって測定される分子量分布が、少なくとも3成分にデコンボルーションされており、
    170,000〜265,000である計算された重量平均分子量(Mw)、90,000〜140,000の計算された数平均分子量(Mn)、390,000〜520,000のz平均分子量、および0.921〜0.930g/ccの見積もり密度を有する、20〜40重量%の第1成分、
    20,000〜57,000である計算された重量平均分子量(Mw)、10,000〜27,000の計算された数平均分子量(Mn)、30,000〜72,000のz平均分子量、および0.948〜0.953g/ccの見積もり密度を有する、40〜70重量%の第2成分であって、ただし第2成分と第1成分との密度の差異が0.030g/cc未満である第2成分、および
    60,000〜130,000である計算された重量平均分子量(Mw)、30,000〜65,000の計算された数平均分子量(Mn)、90,000〜180,000のz平均分子量、および0.935〜0.945g/ccの見積もり密度を有する、3〜20重量%の第3成分を含む、上記ポリエチレン樹脂。
  2. 1200〜1300MPaの1%フレックス割線弾性係数を有する、請求項1に記載のポリエチレン樹脂。
  3. 低温ARM衝撃性能試験を用いた測定により、150ft./lb以上の平均破壊エネルギーおよび80%超の延性を有する、請求項2に記載のポリエチレン樹脂。
  4. A100 100%CO−630およびB100 100%CO−630のESCR条件で測定して200時間以上の環境応力亀裂耐性を有する、請求項3に記載のポリエチレン樹脂。
  5. 第1成分が、全ポリマー組成物の25〜40重量%の量で存在する、請求項4に記載のポリエチレン樹脂。
  6. 第2成分が、全ポリマー組成物の45〜65重量%の量で存在する、請求項5に記載のポリエチレン樹脂。
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