JP6887453B2 - 挟持された放射線不透過性インサートを含む埋め込み可能アクセスポート - Google Patents
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Description
計の、別のアクセスポートの全てではなくともほとんどの他の識別可能な特徴に対して、固有のものとなり得る。当然のことながら、本開示によって企図されるアクセスポートの少なくとも1つの識別可能な特徴は、ポートの種類、カテーテルの種類、製造日、材料のロット、部品番号等のような、目的とする任意の情報とさらに相関的であり得る。一実施例では、アクセスポートの少なくとも1つの識別可能な特徴は、高圧注入可能であるアクセスポートと相関的であり得る。このように、アクセスポートの少なくとも1つの識別可能な特徴が観測又は別の方法で判定されると、アクセスポートのかかる少なくとも1つの特徴の相関が達成され得、アクセスポートに属する情報が得られ得る。
定される外部を有し得る一方で、下部本体部20bは、側表面50b及び丸角領域30bによって実質的に画定される外部を有し得る。張り出したリム特徴76は、触診を介した知覚のために寸法決定及び構成され得るということが理解され得る。かかる構成は、有益な物質又は医薬物質の送達のために、埋め込み後に識別可能な(例えばモデル番号、製造業者等によって)、好適なアクセスポートを提供し得る。
伸長する突出部80E及び円周方向に伸長する陥凹部82を含む上部トポグラフィー61Cを有する、キャップ14の斜視図を示し、この円周方向に伸長する突出部80E及び円周方向に伸長する陥凹部82は、(円周方向の)寸法又は範囲において実質的に同等である。本開示によって企図されるアクセスポートを形成するためのなおもさらなるキャップ14の実施形態では、図12は、3つの円周方向に伸長する突出部80E及び3つの円周方向に伸長する陥凹部82を含み、円周方向に交互になるように配置された上部トポグラフィー61Cを有するキャップ14の斜視図を示し、この円周方向に伸長する突出部80E及び円周方向に伸長する陥凹部82は、寸法において(円周方向に)実質的に同等である。
形態の斜視図及び上面正面図を示す。より具体的には、図22及び23に示されるように、キャップ14及びベース16(集合的にハウジングを形成する)は、アクセスポート10を形成するためにセプタム118を捕捉し得る。さらに、排出口ステム31は、ベース16内で形成された排出口陥凹部93内に配置及び密閉され得る、ステムベースを含み得る。排出口ステム31は、アクセスポート10内に形成された腔と流体連通し得る。任意追加的に、縫合プラグ89がベース16において形成された縫合腔91内に配置され得る。縫合プラグ89は、アクセスポート10(すなわちベース16)を患者に結合する縫合間のいくらかの弾性を提供し得る、柔軟な材料(例えば、シリコーン、ゴム等)を含み得る。さらに詳細には、アクセスポート10の側周辺95(例えば1つ以上の側壁)は、概して三角形であり得る。したがって、キャップ14及びベース16は、アクセスポート10の概して三角形のハウジング又は本体を集合的に形成し得る。さらに、本開示は、側周辺95が、キャップ14の上面161とベース16の下部表面151との間の断面寸法において、増加又は減少し得る(先細り又は弓状に変形することによって)ということを企図する。図22及び23に示されるように、アクセスポート10の横断面(ベース16の下部表面151に実質的に平行な選択された面において取られる)は、ベース16の下部表面151に近接するとより大きくあり得、キャップ14の上面161に近接すると相対的により小さくあり得る。
3Aは、アクセスポート10の上面図を示す。図52、53A、及び53Bのアクセスポート10は、図22及び23において見られるアクセスポート10に、本体を画定するために協働するキャップ14及びベース16を含む、いくつかの点で類似する。しかしながら、本実施形態の実施例では、図52及び53Bに見られるように、ベース16の下部表面151は、識別特徴200を含む。識別特徴200は、描写される「CT」等の、1つ以上の英数字であり得るということが企図される。さらに、本開示は、1つ以上の記号、模様、文字、デザイン、それらの組み合わせ等のような、他のマーキングの使用を企図する。識別特徴200は、識別特徴を、アクセスポートの1つ以上の様々な特徴の特定の識別用に仕立てるために、任意の寸法、形状、又は両方であり得る。具体的には、一実施形態では、識別特徴200は、埋め込みアクセスポートの高圧注入可能性に関して施術者に情報を伝達し得る。他の実施形態では、下記に記載されるように、識別特徴が他の方法で画定され得る一方で、本実施形態では、識別特徴200は陥凹特徴として画定されるということに注目されたい。
面図を示す。この実施形態の実施例では、識別特徴200は、セプタム118及び腔36の下に配置される。図56A及び56Bは、陥凹識別特徴200の潜在的切断輪郭の拡大断面図をさらに描写する。図56Aは、ベース16の下部表面151上に彫刻され、美的目的及び製造の容易性のために使用される、丸い彫刻輪郭201を示す。しかしながら、画像技術下での相対的により画定されたコントラストのために、図56Bに見られるように、縁の鋭い彫刻輪郭202が使用され得る。多様な断面陥凹輪郭が用いられ得るということに注目されたい。本開示は、ここでは彫刻が述べられるものの、識別特徴をマーキングするための、粉砕、機械加工、化学又はレーザーエッチング、鋳造、鍛造等のような、他の方法が使用され得るということをさらに企図する。
ている材料の厚さを大いに減らすことを可能にする。
する。これは、ベース若しくは本体116の下部表面251、又は、図151におけるベース16の下部表面151、及び図58A〜58Cにおけるキャップ114の下部表面252を含む、本明細書に記載する他の実施形態の対応するポート下部表面から、内向きに伸長する殻なし腔204をもたらす。これは、腔周辺36A又はアクセスポート10の外部側表面250を分断することなく、腔36を取り囲む材料を取り除くことによってなされる。図62Bにおいて見られるように、リブ240は、アクセスポート10の残っている「殻つき(shelled)」枠を支持するために残され得る。かかる腔204の画定は、X線画像によって識別され得るアクセスポート10の放射線不透過性における相対的な差異を提供する。したがって、腔204は、模様を画定するため又はアクセスポート10の態様又は特徴の識別のための表示部を形成するために配置され得る。他の実施形態では、腔は、アクセスポートの上表面及び側表面を含む他の表面から伸長するように画定され得る。
動型RFIDタグは、内部電池によって給電され、典型的に読み取り/書き込み装置である。現在は、好適な低電力回路に結合された好適な電池は、動作温度、並びに読み取り/書き込み周期、及び用途に依存し、10年以上の長きにわたって機能性を保証することができる。いわゆる受動型RFIDタグは、別個の外部の電力源を伴わずに動作し、読取り器から生成された動作電力を得る。受動型RFIDタグは、変更され得ない固有のデータセット(通常は32〜128ビット)で典型的にプログラム化される。読み取り専用タグは、選択された製品特有の情報を含み得る一次元バーコードに匹敵する、識別器として動作し得る。したがって、受動型RFIDタグは、能動型RFIDタグよりも非常に軽く、安価であり得、事実上無制限の動作寿命を提供し得る。トレードオフは、それらが能動型タグよりも短い読み取り範囲を有し、より多く給電された読取り器を要求するということである。
。任意追加的に、識別特徴は、図64に示すようにネガティブレリーフで、又は所望であればポジティブレリーフで、画定され得る。
めにマーキングインクと混合され得る。当業者に理解される他の好適な物質と共に、インクシンナーもまた、混合物に添加され得る。
射線不透過性部470は、硫酸バリウム装填のシリコーンを含む。他の実施形態では、他の好適な放射線不透過性材料が、シリコーン又は他のセプタム材料と共に用いられ得る。一実施形態では、図68A〜68Cのセプタム468は、2部分の成形プロセスによって形成され得、この環状部470は、セプタム468の残りの部分とは別個に製造され、その後、図68A〜68Cに示される構造を形成するために、2つの部分が好適な接着剤、機械的固着等で合わせて接着される。
における生体適合性の材料の使用の必要性を排除し得る。アクセスポート内の陥凹部及びインサートの両方の、寸法及び配置は、本明細書に示されるものから変化し得るということに注目されたい。例えば、陥凹部は、インサートをそこに滑らせることができるように寸法決定されるポート本体の一部分上の溝を含み得、その後溝はインサートを覆うために蓋を被せられる。
[形態1]
埋め込み可能アクセスポートであって、
互いと協働的に噛合されたベース部及びキャップ部を含むポート本体と、
前記ベース部及び前記キャップ部のうちの少なくとも一方によって画定された流体腔と、
前記ベース部及びキャップ部のうちの一方と一体式で形成され、前記流体腔と流体連通するステムと、
前記流体腔の開口部を覆う針穿通可能セプタムと、
放射線不透過性インサートであって、
放射線不透過性材料を含み、前記ベース部及び前記キャップ部が噛合されるときに、前記ベース部と前記キャップ部との間に固定して挿入されるように形作られた、本体であって、さらに前記放射線不透過性インサートが前記ベース部及び前記キャップ部のうちの少なくとも一方の、対応して形作られた特徴の周囲に適合することを可能にする、少なくとも1つの輪郭部を画定する、本体と、
患者内の前記アクセスポートの皮下埋め込み後にX線画像技術を介して観察可能であり、観測者に前記アクセスポートの所定の属性を伝達する、少なくとも1つのしるしと、を含むインサートと、を含む、アクセスポート。
[形態2]
前記ポート本体の前記ベース部及び前記キャップ部が、ポリエーテルエーテルケトンを含み、前記ステムが、前記ベース部と一体式で形成される、形態1に記載のアクセスポート。
[形態3]
前記放射線不透過性インサートが、前記ステムと、前記キャップ部によって画定される対応する凹部との間に適合する輪郭部を含む、形態1に記載のアクセスポート。
[形態4]
前記ポート本体の前記ベース部が、複数の伸長する足を含み、前記放射線不透過性インサートが、前記ベース部の前記足のそれぞれの周囲に適合するような輪郭部を含む、形態1に記載のアクセスポート。
[形態5]
前記少なくとも1つのしるしの前記所定の属性が、前記アクセスポートを高圧注入可能アクセスポートとして識別する、形態1に記載のアクセスポート。
[形態6]
前記放射線不透過性インサートが、ベース材料及び前記放射線不透過性材料の両方を含み、前記放射線不透過性材料が、ビスマス含有化合物を含む、形態1に記載のアクセスポート。
[形態7]
前記放射線不透過性材料が、三酸化ビスマス、次炭酸ビスマス、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、及び二酸化チタンのうちの少なくとも1つを含む、形態1に記載のアクセスポート。
[形態8]
前記少なくとも1つのしるしが英数字を含む、形態1に記載のアクセスポート。
[形態9]
前記本体の前記ベース部及び前記キャップ部が、それらの間への前記放射線不透過性インサートの挿入後に、超音波溶接される、形態1に記載のアクセスポート。
[形態10]
複数の超音波溶接特徴が、前記キャップ部に配置され、前記流体腔の周囲に円形パターンに配列され、それぞれの溶接特徴が、三角形の歯を画定する、形態9に記載のアクセスポート。
[形態11]
前記流体腔が、前記キャップ部及び前記ベース部の両方によって画定され、前記流体腔の前記開口部が、前記キャップ部によって画定される、形態1に記載のアクセスポート。
[形態12]
前記ステムが、前記ポート本体の前記ベース部と一体式で形成され、前記放射線不透過性インサートの前記本体の前記輪郭部が、前記ステムの一部分の周囲に適合するように形作られる、形態1に記載のアクセスポート。
[形態13]
前記放射線不透過性インサートの一部分が、前記キャップ部及び前記ベース部の噛合後に、前記ポート本体の外側に留まる、形態1に記載のアクセスポート。
[形態14]
アクセスポートの製造方法であって、
ポート本体及びセプタムを提供することであって、前記ポート本体が、ベース部及びキャップ部を含む、提供することと、
患者内の前記アクセスポートの皮下埋め込み後にX線画像技術を介して観測可能であり、観測者に前記アクセスポートが高圧注入可能であるということを伝達する、少なくとも1つのしるしを含む、放射線不透過性インサートを提供することと、
前記放射線不透過性インサートの輪郭部が、前記ベース部及び前記キャップ部の、対応して形作られた特徴の間に適合するように、前記放射線不透過性インサートを前記ベース部と前記キャップ部との間に挿入することと、
前記放射線不透過性インサートの一部分が前記ポート本体の外側に留まるように、前記ベース部を前記キャップ部に、放射線不透過性インサートがその間に挿入された状態で、協働的に噛合させることと、を含む方法。
[形態15]
前記ベース部及び前記キャップ部によって画定される流体腔と連通する、前記キャップ部の穴を、セプタムで覆うことをさらに含む、形態14に記載の製造方法。
[形態16]
前記ベース部を前記キャップ部に協働的に噛合させることが、前記ベース部を前記キャップ部に超音波溶接することをさらに含む、形態14に記載の製造方法。
[形態17]
埋め込み可能アクセスポートであって、
互いに協働的に噛合され、ポリエーテルエーテルケトンを含む、ベース部及びキャップ部を含む、ポート本体と、
前記ベース部及び前記キャップ部によって画定された流体腔と、
前記ベース部と一体式で形成され、前記流体腔と流体連通する、ステムと、
前記キャップ部によって画定される前記流体腔の開口部を覆う、針穿通可能セプタムと、
放射線不透過性インサートであって、
ビスマス含有材料を含み、前記ベース部及び前記キャップ部が噛合されるときに、前記ベース部と前記キャップ部との間に固定して挿入されるように形作られ、さらに前記放射線不透過性インサートが前記ベース部の前記ステムの周囲に適合することを可能にする少なくとも1つの輪郭部を画定する、本体と、
患者内の前記アクセスポートの皮下埋め込み後にX線画像技術を介して観測可能であり、観測者に前記アクセスポートが高圧注入可能であるということを伝達する、少なくとも1つのしるしとを含む、インサートと、を含む、アクセスポート。
[形態18]
前記放射線不透過性インサートの前記少なくとも1つのしるしが、文字「C」及び「T」を含む、形態17に記載のアクセスポート。
[形態19]
前記放射線不透過性インサートが、概して三角形に形作られ、前記インサートが通って前記ベース部の一部分を受容することを可能にするための穴を画定する、形態18に記載のアクセスポート。
[形態20]
前記放射線不透過性インサートが、射出成形プロセスを介して形成され、混合物が、約70重量%のアセチル樹脂及び約30重量%の三酸化ビスマスを含む、形態19に記載のアクセスポート。
[形態21]
前記ベース部が複数の足を含み、前記放射線不透過性インサートが、それぞれの足の周囲に適合するための輪郭部を含む、形態20に記載のアクセスポート。
Claims (10)
- 高圧注入可能なアクセスポートの製造方法であって、
ベース部とキャップ部とを有するポート本体と、セプタムと、を用意する工程と、
患者内に前記アクセスポートを皮下埋め込みした後にX線画像技術を介して観測可能な少なくとも1つのしるしであって、前記高圧注入可能なアクセスポートが高圧注入に適していることを観測者に伝達する少なくとも1つのしるしを含む放射線不透過性インサートを用意する工程と、
前記放射線不透過性インサートの輪郭部が、前記ベース部の外形と前記キャップ部の外形との間に適合するように、前記放射線不透過性インサートを前記ベース部と前記キャップ部との間に挿入する工程と、
前記放射線不透過性インサートの一部分が前記ポート本体の底部に留まり、前記ポート本体の底部から視認可能であるように、前記ベース部を前記キャップ部に、前記放射線不透過性インサートがその間に挿入された状態で、協働的に噛合させる工程と
を備える方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記ベース部と前記キャップ部とによって画定される流体腔と連通する、前記キャップ部の穴を、前記セプタムで覆う工程をさらに備える
製造方法。 - 請求項2に記載の製造方法であって、
前記ベース部は、該ベース部と一体的に形成されたステムを備え、
前記ステムは、前記流体腔に流体連通し、
前記放射線不透過性インサートを挿入する工程は、前記ステムと、該ステムを受け入れるように前記キャップ部によって形成された凹部と、の間に前記輪郭部を適合させる工程を備える
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記ベース部は、延在する複数の足を備え、
前記放射線不透過性インサートは、複数の輪郭部を備え、
前記放射線不透過性インサートを挿入する工程は、前記複数の輪郭部の各々を前記延在する足の各々のまわりに適合させる工程を備える
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記放射線不透過性インサートは、三酸化ビスマス、次炭酸ビスマス、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、二酸化チタン、および、それらの組み合わせからなる一群から選択される放射線不透過性材料を含有する
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記放射線不透過性インサートは、約70重量%のアセチル樹脂と約30重量%の三酸化ビスマスとを含む混合物を射出成形することによって用意される
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記ベース部を前記キャップ部に協働的に噛合させる前記工程は、さらに、前記ベース部を前記キャップ部に超音波溶接する工程を備える
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
複数の超音波溶接構造が、
前記キャップ部に配置され、
前記ベース部と前記キャップ部とによって形成される流体腔のまわりに円形パターンで配置され、
前記超音波溶接構造の各々は、三角形の歯を形成し、
前記ベース部を前記キャップ部に協働的に噛合させる前記工程は、さらに、前記キャップ部を前記ベース部に超音波溶接する工程を備える
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記放射線不透過性インサートは、材料長を押し出して、押出部を切断して前記放射線不透過性インサートにすることによって用意される
製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、
前記放射線不透過性インサートは、基材と放射線不透過性材料とを含有する材料の形成シートから前記放射線不透過性インサートをスタンピングすることによって用意される
製造方法。
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