JP6878659B2 - Display device - Google Patents

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芳隆 守屋
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Description

技術分野は、電子書籍に関する。 The technical field is related to electronic books.

近年、デジタル化技術の進歩に伴い、新聞、雑誌などの文字情報や画像情報を電子データ
として提供するという提供態様が採られるようになっている。この種の電子データは、一
般に、PCなどが備える表示装置に表示されることで、その内容が閲覧されるという特徴
を有している。
In recent years, with the progress of digitization technology, the provision mode of providing text information and image information of newspapers, magazines, etc. as electronic data has been adopted. This type of electronic data is generally characterized in that its contents can be viewed by being displayed on a display device provided in a PC or the like.

上述の電子データを表示する表示装置としては、設置型の表示装置以外に携帯型のものが
存在する。携帯型の表示装置としては、電子書籍が代表的である。電子書籍は通常、本体
前面に表示部を備え、本体外周部に備えられたページの切替キーを操作することで次ペー
ジや前ページのデータを表示部に表示する構成が採用されている。
As the display device for displaying the above-mentioned electronic data, there is a portable type display device other than the stationary display device. An electronic book is a typical portable display device. An electronic book usually has a display unit on the front surface of the main body, and a configuration is adopted in which data on the next page or the previous page is displayed on the display unit by operating a page switching key provided on the outer peripheral portion of the main body.

しかしながら、このような構成を採用した電子書籍は、新聞、雑誌などの紙媒体とは取り
扱い方が大きく異なっている。特に、キー操作でページの切替を行うという行為は、紙媒
体の書籍の取り扱い習慣からはかけ離れたものである。このため、このような取り扱い方
の違いに起因して、文字の読み取り効率や文章理解の効率、画像の認識効率などが低下す
るという問題がある。
However, electronic books adopting such a configuration are handled very differently from paper media such as newspapers and magazines. In particular, the act of switching pages by key operation is far from the habit of handling paper-based books. For this reason, there is a problem that the efficiency of reading characters, the efficiency of understanding sentences, the efficiency of image recognition, and the like are lowered due to such a difference in handling.

上述の紙媒体との相違点を解消すべく、両面表示装置を用いた電子書籍が提案されている
(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
In order to eliminate the difference from the above-mentioned paper medium, an electronic book using a double-sided display device has been proposed (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

特開2005−38608号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-38608 特開2003−58081号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-58081

開示する発明の一態様では、可撓性を有するパネルを取り扱う際に、駆動回路が壊れるこ
とを低減する電子書籍を提供することを目的の一とする。または、開示する発明の一態様
では、構造を簡略化した電子書籍を提供することを目的の一とする。
One aspect of the disclosed invention is an object of the present invention to provide an electronic book that reduces breakage of a drive circuit when handling a flexible panel. Alternatively, one aspect of the disclosed invention aims to provide an electronic book having a simplified structure.

開示する発明の一態様は、走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行われる
表示部を有する複数の可撓性の表示パネルと、複数の表示パネルを固定する綴じ部とを有
し、綴じ部には、信号線駆動回路が設けられ、表示パネルには、綴じ部と垂直方向の端部
に走査線駆動回路が設けられている電子書籍である。
One aspect of the disclosed invention has a plurality of flexible display panels having a display unit whose display is controlled by a scanning line drive circuit and a signal line drive circuit, and a binding unit for fixing the plurality of display panels. , The binding portion is provided with a signal line drive circuit, and the display panel is provided with a scanning line drive circuit at an end portion in the direction perpendicular to the binding portion.

開示する発明の一態様において、走査線駆動回路及び信号線駆動回路はトランジスタを有
し、走査線駆動回路を構成するトランジスタと信号線駆動回路を構成するトランジスタの
構造が異なる電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the scanning line drive circuit and the signal line driving circuit may have transistors, and electronic books having different structures of the transistors constituting the scanning line driving circuit and the transistors constituting the signal line driving circuit may be used.

開示する発明の一態様において、走査線駆動回路を構成するトランジスタのチャネル層は
、非単結晶半導体であり、信号線駆動回路を構成するトランジスタのチャネル層は、単結
晶半導体である電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the channel layer of the transistor constituting the scanning line drive circuit may be a non-single crystal semiconductor, and the channel layer of the transistor constituting the signal line drive circuit may be an electronic book which is a single crystal semiconductor. ..

開示する発明の一態様において、非単結晶半導体は、アモルファスシリコン、微結晶シリ
コン、ポリシリコン又は酸化物半導体である電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the non-single crystal semiconductor may be an electronic book that is amorphous silicon, microcrystalline silicon, polysilicon, or an oxide semiconductor.

開示する発明の一態様において、表示部はトランジスタを有し、且つ表示部を構成するト
ランジスタと走査線駆動回路を構成するトランジスタのチャネル層が同じ材料で設けられ
ている電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the display unit may be an electronic book in which the display unit has a transistor and the channel layer of the transistor constituting the display unit and the transistor forming the scanning line drive circuit are provided of the same material.

開示する発明の一態様において、綴じ部は、信号線駆動回路に加えて、バッテリー、アン
テナ、CPU、メモリのいずれか一を有する電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the binding portion may be an electronic book having any one of a battery, an antenna, a CPU, and a memory in addition to the signal line drive circuit.

開示する発明の一態様において、走査線駆動回路は、複数の回路部を有し、複数の回路部
は互いに離間して設けられている電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the scanning line drive circuit may be an electronic book having a plurality of circuit units, and the plurality of circuit units are provided apart from each other.

開示する発明の一態様において、複数の回路部の間に応力集中領域を有する電子書籍でも
よい。
In one aspect of the disclosed invention, an electronic book having a stress concentration region between a plurality of circuit units may be used.

開示する発明の一態様において、複数の表示パネルは、第1の表示部を有する第1の表示
パネルと、第2の表示部を有する第2の表示パネルと、第1の表示パネルと第2の表示パ
ネルの間に設けられ、第1の面に第3の表示部を有し且つ第1の面と反対側の第2の面に
第4の表示部を有する第3の表示パネルとを有し、第3の表示パネルは、第1の表示パネ
ル及び第2の表示パネルより曲がりやすい電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the plurality of display panels are a first display panel having a first display unit, a second display panel having a second display unit, a first display panel, and a second display panel. A third display panel provided between the display panels of the above, having a third display unit on the first surface and a fourth display unit on the second surface opposite to the first surface. The third display panel may be an electronic book that is more bendable than the first display panel and the second display panel.

開示する発明の一態様において、第1の表示パネルは、第1の表示部及び第3の表示部の
表示の有無を制御する第1の光センサを有し、第2の表示パネルは、第2の表示部及び第
4の表示部の表示の有無を制御する第2の光センサを有し、第3の表示パネルは、第1の
光センサ及び第2の光センサと重なる領域に遮光部を有する電子書籍でもよい。
In one aspect of the disclosed invention, the first display panel has a first optical sensor that controls the presence or absence of display on the first display unit and the third display unit, and the second display panel has a second display panel. It has a second optical sensor that controls the presence / absence of display of the second display unit and the fourth display unit, and the third display panel has a light-shielding unit in an area overlapping the first optical sensor and the second optical sensor. It may be an electronic book having.

また、本明細書等において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置
全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置に含まれる。
Further, in the present specification and the like, the semiconductor device refers to all devices that can function by utilizing the semiconductor characteristics, and the electro-optical device, the semiconductor circuit, and the electronic device are all included in the semiconductor device.

また、本明細書等において表示装置とは、発光装置や液晶表示装置を含む。発光装置は発
光素子を含み、液晶表示装置は液晶素子を含む。発光素子は、電流または電圧によって輝
度が制御される素子をその範疇に含んでおり、具体的には無機EL(Electro L
uminescence)素子、有機EL素子等がある。
Further, in the present specification and the like, the display device includes a light emitting device and a liquid crystal display device. The light emitting device includes a light emitting element, and the liquid crystal display device includes a liquid crystal element. The light emitting element includes an element whose brightness is controlled by current or voltage in its category, and specifically, an inorganic EL (Electro L).
There are uminesec) elements, organic EL elements, and the like.

開示する発明の一態様によれば、駆動回路が壊れることを低減し丈夫な電子書籍を提供す
ることができる。
According to one aspect of the disclosed invention, it is possible to reduce the breakage of the drive circuit and provide a durable electronic book.

開示する発明の一態様によれば、構造を簡略化し電子書籍の低コスト化することができる
According to one aspect of the disclosed invention, the structure can be simplified and the cost of the electronic book can be reduced.

電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の綴じ部内に構成される回路の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of the circuit configured in the binding part of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of an electronic book. 電子書籍の一形態のブロック図を説明する図である。It is a figure explaining the block diagram of one form of an electronic book. 表示パネルの一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of a display panel. 表示パネルの一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of a display panel. 表示パネルの一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of a display panel. 表示パネルの一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of a display panel. 電子書籍に適用できるトランジスタの一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of a transistor applicable to an electronic book. 表示パネルの一形態を説明する図である。It is a figure explaining one form of a display panel.

以下、実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、発明は以下に示す実施
の形態の記載内容に限定されず、本明細書等において開示する発明の趣旨から逸脱するこ
となく形態および詳細を様々に変更し得ることは当業者にとって自明である。また、異な
る実施の形態に係る構成は、適宜組み合わせて実施することが可能である。なお、以下に
説明する発明の構成において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を
用い、その繰り返しの説明は省略する。
Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings. However, the invention is not limited to the description of the embodiments shown below, and it is obvious to those skilled in the art that the form and details can be variously changed without departing from the spirit of the invention disclosed in the present specification and the like. .. In addition, the configurations according to different embodiments can be combined and implemented as appropriate. In the configuration of the invention described below, the same reference numerals are used for the same parts or parts having similar functions, and the repeated description thereof will be omitted.

なお、各実施の形態の図面等において示す各構成の、大きさ、層の厚さ、又は領域は、明
瞭化のために誇張されて表記している場合がある。よって、必ずしもそのスケールに限定
されない。
The size, layer thickness, or region of each configuration shown in the drawings and the like of each embodiment may be exaggerated for the sake of clarity. Therefore, it is not necessarily limited to that scale.

なお、本明細書にて用いる「第1」、「第2」、「第3」等などの用語は、構成要素の混
同を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
The terms such as "first", "second", and "third" used in the present specification are added to avoid confusion of the components, and are not limited in number. I will add that.

(実施の形態1)
本実施の形態では、電子書籍の一例について、図面を参照して説明する。
(Embodiment 1)
In the present embodiment, an example of an electronic book will be described with reference to the drawings.

本実施の形態で示す電子書籍は、走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行
われる表示部を有する複数の表示パネルと、当該複数の表示パネルを固定する綴じ部とを
有し、綴じ部の内側に信号線駆動回路が設けられ、複数の表示パネルにそれぞれ走査線駆
動回路が設けられている。
The electronic book shown in the present embodiment has a plurality of display panels having a display unit whose display is controlled by a scanning line drive circuit and a signal line drive circuit, and a binding unit for fixing the plurality of display panels. A signal line drive circuit is provided inside the binding portion, and a scanning line drive circuit is provided on each of the plurality of display panels.

図1は、複数の表示パネルを有する電子書籍の一例として、2枚の表示パネル(第1の表
示パネル4311と第2の表示パネル4312)の端部に綴じ部4308を設けて書籍と
する場合を示している。以下に図1を参照して、第1の表示パネルと第2の表示パネルか
ら構成される電子書籍について、具体的に説明する。なお、図1(A)は電子書籍を開い
た状態を示し、図1(B)は電子書籍を閉じた状態を示し、図1(C)は電子書籍を半分
開いた状態を示している。
FIG. 1 shows a case where a binding portion 4308 is provided at an end of two display panels (first display panel 4311 and second display panel 4312) to form a book as an example of an electronic book having a plurality of display panels. Is shown. Hereinafter, an electronic book composed of a first display panel and a second display panel will be specifically described with reference to FIG. Note that FIG. 1A shows a state in which the electronic book is open, FIG. 1B shows a state in which the electronic book is closed, and FIG. 1C shows a state in which the electronic book is half open.

図1に示す電子書籍は、第1の表示部4301を有する第1の表示パネル4311と、第
2の表示部4307を有する第2の表示パネル4312と、第1の表示パネル4311と
第2の表示パネル4312の一端部に設けられた綴じ部4308と、第1の表示部430
1の表示制御を行う走査線駆動回路4321a、4321bと、第2の表示部4307の
表示制御を行う走査線駆動回路4322a、4322bと、第1の表示部4301及び第
2の表示部4307の表示制御を行う信号線駆動回路4323とを有している。
The electronic book shown in FIG. 1 includes a first display panel 4311 having a first display unit 4301, a second display panel 4312 having a second display unit 4307, and a first display panel 4311 and a second display panel 4311. A binding portion 4308 provided at one end of the display panel 4312 and a first display portion 430.
Display of scanning line drive circuits 4321a and 4321b that control the display of 1 and scanning line drive circuits 4322a and 4322b that control the display of the second display unit 4307, and display of the first display unit 4301 and the second display unit 4307. It has a signal line drive circuit 4323 for controlling.

走査線駆動回路4321a、4321bは第1の表示パネル4311に設けられ、走査線
駆動回路4322a、4322bは第2の表示パネル4312に設けられ、信号線駆動回
路4323は綴じ部4308の内部に設けられている。
The scan line drive circuits 4321a and 4321b are provided on the first display panel 4311, the scan line drive circuits 4322a and 4322b are provided on the second display panel 4312, and the signal line drive circuit 4323 is provided inside the binding portion 4308. ing.

第1の表示パネル4311は、可撓性を有する構成とすることができる。この場合、プラ
スチック等の可撓性を有する基板上に第1の表示部4301を構成する画素回路と、走査
線駆動回路4321a、4321bを設ければよい。
The first display panel 4311 can be configured to have flexibility. In this case, the pixel circuit constituting the first display unit 4301 and the scanning line drive circuits 4321a and 4321b may be provided on a flexible substrate such as plastic.

第2の表示パネル4312も、第1の表示パネル4311と同様に可撓性を有する構成と
することができる。この場合も、プラスチック等の可撓性を有する基板上に第2の表示部
4307を構成する画素回路と、走査線駆動回路4322a、4322bを設ければよい
The second display panel 4312 can also have a flexible configuration like the first display panel 4311. In this case as well, the pixel circuit constituting the second display unit 4307 and the scanning line drive circuits 4322a and 4322b may be provided on a flexible substrate such as plastic.

綴じ部4308は、少なくとも第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル4312
より曲がりにくい(剛性が高い)構成とすることが好ましい。一例として、綴じ部430
8を構成する筐体を、第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル4312より厚い
プラスチックや金属等で形成することができる。この場合、電子書籍を綴じ部4308以
外の部分で曲がる(湾曲する)構成とすることができる。
The binding portion 4308 includes at least the first display panel 4311 and the second display panel 4312.
It is preferable to have a configuration that is more difficult to bend (high rigidity). As an example, the binding part 430
The housing constituting No. 8 can be made of plastic, metal, or the like thicker than the first display panel 4311 and the second display panel 4312. In this case, the electronic book can be configured to bend (curve) at a portion other than the binding portion 4308.

綴じ部4308を設ける場所は特に限定されないが、一例として、第1の表示パネル43
11及び第2の表示パネル4312の一端部に沿って綴じ部4308を設けることができ
る。例えば、図1に示すように、第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル431
2を矩形状とする場合には、所定の一辺に沿って(一辺を固定するように)綴じ部430
8を設けることができる。なお、ここでいう矩形状とは、角部が丸まっている場合も含む
ものとする。
The place where the binding portion 4308 is provided is not particularly limited, but as an example, the first display panel 43
A binding portion 4308 can be provided along one end of the 11 and the second display panel 4312. For example, as shown in FIG. 1, the first display panel 4311 and the second display panel 431
When 2 is rectangular, the binding portion 430 is aligned along a predetermined side (so that one side is fixed).
8 can be provided. The rectangular shape referred to here includes the case where the corners are rounded.

信号線駆動回路4323は、綴じ部4308の内部に設けられる。例えば、綴じ部430
8を中空を有する柱状または円柱状の筐体で設け、当該中空部分に信号線駆動回路432
3を設けることができる。信号線駆動回路4323を綴じ部4308の内部に設けること
により、表示パネルの曲げに起因する信号線駆動回路4323の破損を防止できる。
The signal line drive circuit 4323 is provided inside the binding portion 4308. For example, binding part 430
8 is provided in a columnar or columnar housing having a hollow, and a signal line drive circuit 432 is provided in the hollow portion.
3 can be provided. By providing the signal line drive circuit 4323 inside the binding portion 4308, it is possible to prevent damage to the signal line drive circuit 4323 due to bending of the display panel.

また、図1に示すように、走査線駆動回路4321a、4321bを、第1の表示パネル
4311において、綴じ部4308と概略垂直方向の端部に設けることが好ましい。同様
に、走査線駆動回路4322a、4322bを、第2の表示パネル4312において、綴
じ部4308と概略垂直方向の端部に設けることが好ましい。これにより、走査線駆動回
路及び信号線駆動回路を一箇所(例えば、綴じ部4308の内部)に設ける場合と比較し
て、配線の引き回しを低減し、構造を簡略化することができる。
Further, as shown in FIG. 1, it is preferable that the scanning line drive circuits 4321a and 4321b are provided at the end portion of the first display panel 4311 in a direction substantially perpendicular to the binding portion 4308. Similarly, it is preferred that the scanning line drive circuits 4322a, 4322b be provided on the second display panel 4312 at an end approximately perpendicular to the binding portion 4308. As a result, as compared with the case where the scanning line driving circuit and the signal line driving circuit are provided at one place (for example, inside the binding portion 4308), the wiring can be reduced and the structure can be simplified.

また、走査線駆動回路4321a、4321bと第1の表示部4301を構成する画素回
路を同じプロセスで可撓性を有する基板上に形成することにより、走査線駆動回路432
1a、4321bの湾曲を可能とすると共に、低コスト化を図ることができる。同様に、
走査線駆動回路4322a、4322bと第2の表示部4307を構成する画素回路を同
じプロセスで可撓性を有する基板上に形成することにより、走査線駆動回路4322a、
4322bの湾曲を可能とすると共に、低コスト化を図ることができる。
Further, by forming the pixel circuits constituting the scanning line driving circuits 4321a and 4321b and the first display unit 4301 on a flexible substrate by the same process, the scanning line driving circuit 432
It is possible to bend 1a and 4321b and reduce the cost. Similarly
By forming the pixel circuits constituting the scanning line driving circuits 4322a and 4322b and the second display unit 4307 on a flexible substrate in the same process, the scanning line driving circuits 4322a,
It is possible to bend 4322b and reduce the cost.

第1の表示部4301を構成する画素回路、第2の表示部4307を構成する画素回路及
び走査線駆動回路4321a、4321b、4322a、4322bを構成する素子とし
ては、薄膜トランジスタ等で形成することができる。一方で、信号線駆動回路4323等
の高速動作する回路は、珪素(シリコン)等の半導体基板やSOI基板を用いて形成され
たIC(Integrated Circuit)を用いて形成し、当該ICを綴じ部4
308の内部に設けることができる。
The elements constituting the pixel circuit constituting the first display unit 4301, the pixel circuit constituting the second display unit 4307, and the scanning line drive circuits 4321a, 4321b, 4322a, 4322b can be formed of a thin film transistor or the like. .. On the other hand, a circuit that operates at high speed, such as a signal line drive circuit 4323, is formed by using an IC (Integrated Circuit) formed by using a semiconductor substrate such as silicon or an SOI substrate, and the IC is bound to the binding portion 4.
It can be provided inside the 308.

このように、信号線駆動回路等の高速動作させる回路が形成されたICを綴じ部の内部に
設け、走査線駆動回路と表示部を構成する画素回路を可撓性を有する基板上に薄膜トラン
ジスタ等の素子で形成することにより、信号線駆動回路及び走査線駆動回路をICで設け
る場合と比較して、表示パネルを曲げることを容易にする共に表示パネルの曲げに起因す
るICの破壊を抑制し、さらに低コスト化を図ることができる。また、走査線駆動回路を
、表示パネルにおいて綴じ部と垂直方向の端部に設けることにより、配線の引き回しを抑
止し構造を簡略化することができる。
In this way, an IC in which a circuit for high-speed operation such as a signal line drive circuit is formed is provided inside the binding portion, and a scanning line drive circuit and a pixel circuit constituting the display portion are provided on a flexible substrate such as a thin film. Compared with the case where the signal line drive circuit and the scanning line drive circuit are provided by the IC, the display panel can be easily bent and the IC destruction caused by the bending of the display panel can be suppressed. , Further cost reduction can be achieved. Further, by providing the scanning line drive circuit at the end portion of the display panel in the direction perpendicular to the binding portion, it is possible to suppress the routing of wiring and simplify the structure.

なお、図1では、走査線駆動回路を第1の表示パネル4311の両端部に形成する場合を
示したが、一方の端部にのみ(走査線駆動回路4321aと走査線駆動回路4321bの
いずれか一方のみ)設ける構成としてもよい。同様に、走査線駆動回路を第2の表示パネ
ル4312の両端部に形成する場合を示したが、一方の端部にのみ設ける構成としてもよ
い。
Although FIG. 1 shows a case where the scanning line drive circuit is formed at both ends of the first display panel 4311, only one end portion (either the scanning line driving circuit 4321a or the scanning line driving circuit 4321b) is formed. (Only one) may be provided. Similarly, although the case where the scanning line drive circuit is formed at both ends of the second display panel 4312 is shown, the configuration may be such that it is provided only at one end.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
This embodiment can be implemented in combination with the configurations described in other embodiments as appropriate.

(実施の形態2)
本実施の形態では、上記図1に示した電子書籍の具体的な構成について、図面を参照して
説明する。なお、本実施の形態で示す構成は多くの部分で上記実施の形態1と共通してい
る。したがって、以下においては、重複する部分の説明は省略し、異なる点について詳細
に説明する。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, the specific configuration of the electronic book shown in FIG. 1 will be described with reference to the drawings. The configuration shown in the present embodiment is common to the first embodiment in many parts. Therefore, in the following, the description of the overlapping parts will be omitted, and the differences will be described in detail.

まず、電子書籍の具体的な構成の一例について、図2を参照して説明する。なお、図2(
A)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図2(B)は図2(A)のA−B間の断
面を示し、図2(C)は断面の詳細な模式図を示している。
First, an example of a specific configuration of an electronic book will be described with reference to FIG. In addition, FIG.
A) shows a plan view of the electronic book in a closed state, FIG. 2 (B) shows a cross section between AB of FIG. 2 (A), and FIG. 2 (C) shows a detailed schematic view of the cross section. Shown.

図2に示す電子書籍は、綴じ部4308が中空を有する筐体で形成され、当該筐体の内部
に信号線駆動回路4323が設けられている。ここでは、信号線駆動回路4323がIC
で形成され、当該ICが綴じ部4308の内部に設けられている。ICは、シリコン等の
半導体基板やSOI基板等を用いて形成することができる。もちろん、信号線駆動回路以
外の回路(例えば、CPU、メモリ等)をICに設けることができる。
In the electronic book shown in FIG. 2, the binding portion 4308 is formed of a hollow housing, and the signal line drive circuit 4323 is provided inside the housing. Here, the signal line drive circuit 4323 is an IC.
The IC is provided inside the binding portion 4308. The IC can be formed by using a semiconductor substrate such as silicon, an SOI substrate, or the like. Of course, a circuit other than the signal line drive circuit (for example, CPU, memory, etc.) can be provided in the IC.

また、図2では、綴じ部4308の内部に設けられるICを、TAB(Tape Aut
omated Bonding)方式を用いてFPC(Flexible Printe
d Circuit)に実装する場合を示している。
Further, in FIG. 2, the IC provided inside the binding portion 4308 is TAB (Tape Out).
FPC (Flexible Print) using the mapped Bonding method
The case of mounting on dCircuit) is shown.

より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aがFPC4
324a上に設けられ、第2の表示部4307を制御する信号線駆動回路4323bがF
PC4324b上に設けられ、信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路4323bが
プリント基板4325を介して電気的に接続されている。FPC4324aは第1の表示
パネル4311及びプリント基板4325と電気的に接続され、FPC4324bは第2
の表示パネル4312及びプリント基板4325と電気的に接続されている。
More specifically, the signal line drive circuit 4323a that controls the first display unit 4301 is the FPC4.
The signal line drive circuit 4323b provided on the 324a and controlling the second display unit 4307 is F.
It is provided on the PC4324b, and the signal line drive circuit 4323a and the signal line drive circuit 4323b are electrically connected via the printed circuit board 4325. The FPC4324a is electrically connected to the first display panel 4311 and the printed circuit board 4325, and the FPC4324b is the second.
It is electrically connected to the display panel 4312 and the printed circuit board 4325.

また、図2において、プリント基板4325を綴じ部4308を構成する筐体に接して設
けることができる。この場合、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312が
綴じ部4308により固定される。
Further, in FIG. 2, the printed circuit board 4325 can be provided in contact with the housing constituting the binding portion 4308. In this case, the first display panel 4311 and the second display panel 4312 are fixed by the binding portion 4308.

図2に示すように、FPC上に信号線駆動回路を設ける場合、第1の表示パネル4311
と第2の表示パネル4312の一方又は双方に応力集中領域4326を設けることが好ま
しい。応力集中領域4326を表示パネルに設けることにより、電子書籍を開く場合(第
1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネル4312を折り曲げる場合)にFP
Cに加わる応力を低減し、FPC上に設けられた信号線駆動回路の破壊を抑制することが
できる。
As shown in FIG. 2, when the signal line drive circuit is provided on the FPC, the first display panel 4311
It is preferable to provide the stress concentration region 4326 on one or both of the second display panel 4312 and the second display panel 4312. By providing the stress concentration region 4326 on the display panel, the FP is used when the electronic book is opened (when the first display panel 4311 and / or the second display panel 4312 is bent).
It is possible to reduce the stress applied to C and suppress the destruction of the signal line drive circuit provided on the FPC.

なお、応力集中領域とは、切り込み等による部材の変形や、部材の貼付等による曲げ、延
びに対する強度の変更により形成される、応力の集中する領域のことをいう。具体的には
、第1の表示パネル4311又は第2の表示パネル4312の折り曲げたい部分に、切り
込み部(凹部、溝)を設けることにより応力集中領域4326を形成することができる。
The stress concentration region refers to a region where stress is concentrated, which is formed by deformation of a member due to cutting or the like, bending due to sticking of a member, or change in strength with respect to elongation. Specifically, the stress concentration region 4326 can be formed by providing a notch (recess, groove) in the portion of the first display panel 4311 or the second display panel 4312 to be bent.

例えば、第1の表示パネル4311を、素子基板4331aと封止基板4332aを用い
て形成し、素子基板4331aと封止基板4332aの一方又は双方に切り込み部を設け
た構成とすることができる。図2では、封止基板4332aに切り込み部を設けることに
より応力集中領域4326を形成する場合を示している。また、ここで示す構造において
、素子基板4331aには第1の表示部4301を駆動する画素回路と走査線駆動回路4
321a、4321bを形成し、これらの回路とFPC4324aを電気的に接続するこ
とができる。
For example, the first display panel 4311 may be formed by using the element substrate 4331a and the sealing substrate 4332a, and a notch may be provided in one or both of the element substrate 4331a and the sealing substrate 4332a. FIG. 2 shows a case where a stress concentration region 4326 is formed by providing a notch in the sealing substrate 4332a. Further, in the structure shown here, the element substrate 4331a has a pixel circuit for driving the first display unit 4301 and a scanning line drive circuit 4.
321a and 4321b can be formed, and these circuits can be electrically connected to the FPC4324a.

同様に、第2の表示パネル4312を、素子基板4331bと封止基板4332bを用い
て形成し、素子基板4331bと封止基板4332bの一方又は双方に入り込み部を設け
た構成とすることができる。なお、素子基板4331bには第2の表示部4307を駆動
する画素回路と走査線駆動回路4322a、4322bを形成し、これらの回路とFPC
4324bを電気的に接続することができる。
Similarly, the second display panel 4312 may be formed by using the element substrate 4331b and the sealing substrate 4332b, and may be provided with a recessing portion in one or both of the element substrate 4331b and the sealing substrate 4332b. A pixel circuit for driving the second display unit 4307 and scanning line drive circuits 4322a and 4322b are formed on the element substrate 4331b, and these circuits and the FPC are formed.
The 4324b can be electrically connected.

また、応力集中領域4326は、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312
を折り曲げたい方向に沿って設ければよい。例えば、図2(A)において、綴じ部430
8に概略平行な方向に沿って第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネル43
12の上端から下端まで切り込み部を設けることにより、表示パネルを折り曲げる方向を
制御できる(綴じ部4308と垂直な方向に表示パネルを選択的に折り曲げることができ
る)と共に、FPC上に設けられた信号線駆動回路の破壊を抑制することができる。
Further, the stress concentration region 4326 includes the first display panel 4311 and the second display panel 4312.
May be provided along the direction in which it is desired to be bent. For example, in FIG. 2A, the binding portion 430
First display panel 4311 and / or second display panel 43 along a direction approximately parallel to 8.
By providing a notch from the upper end to the lower end of 12, the direction in which the display panel is bent can be controlled (the display panel can be selectively bent in the direction perpendicular to the binding portion 4308), and the signal provided on the FPC is provided. It is possible to suppress the destruction of the line drive circuit.

応力集中領域4326は、綴じ部4308の内部又は外部に設けることができる。例えば
、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312を閉じた状態において、綴じ部
4308を第1の表示パネル4311又は第2の表示パネル4312に接するように設け
る場合には、綴じ部4308の外側(例えば、綴じ部4308と表示部との間)に応力集
中領域4326を設けることが好ましい。
The stress concentration region 4326 can be provided inside or outside the binding portion 4308. For example, when the first display panel 4311 and the second display panel 4312 are closed and the binding portion 4308 is provided so as to be in contact with the first display panel 4311 or the second display panel 4312, the binding portion 4308 is provided. It is preferable to provide the stress concentration region 4326 on the outside (for example, between the binding portion 4308 and the display portion).

図2では、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aと第2の表示部4
307を制御する信号線駆動回路4323bを別々のICを用いて形成し、プリント基板
4325を介して信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路4323bを電気的に接続
する場合を示しているがこれに限られない。信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路
4323bを1つのICに作り込んだ構成としてもよい。
In FIG. 2, the signal line drive circuit 4323a for controlling the first display unit 4301 and the second display unit 4
The case where the signal line drive circuit 4323b for controlling 307 is formed by using separate ICs and the signal line drive circuit 4323a and the signal line drive circuit 4323b are electrically connected via the printed circuit board 4325 is shown. Not limited. The signal line drive circuit 4323a and the signal line drive circuit 4323b may be incorporated into one IC.

次に、図2と異なる電子書籍の構成について、図3を参照して説明する。図3(A)は電
子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図3(B)は図3(A)のA−B間の断面を示し
、図3(C)は断面の詳細な模式図を示している。
Next, the configuration of the electronic book different from that of FIG. 2 will be described with reference to FIG. FIG. 3 (A) shows a plan view of the electronic book in a closed state, FIG. 3 (B) shows a cross section between AB of FIG. 3 (A), and FIG. 3 (C) shows a detailed cross section. A schematic diagram is shown.

図3は、綴じ部4308に設けられるICを、COG(Chip On Glass)方
式を用いて、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312に実装する場合を示
している。
FIG. 3 shows a case where the IC provided in the binding portion 4308 is mounted on the first display panel 4311 and the second display panel 4312 by using the COG (Chip On Glass) method.

より具体的に説明すると、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aが
第1の表示パネル4311を構成する素子基板4331a上に設けられ、第2の表示部4
307を制御する信号線駆動回路4323bが第2の表示パネル4312を構成する素子
基板4331b上に設けられ、信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路4323bが
FPC4324a、4324b及びプリント基板4325を介して電気的に接続されてい
る。
More specifically, the signal line drive circuit 4323a for controlling the first display unit 4301 is provided on the element substrate 4331a constituting the first display panel 4311, and the second display unit 4
The signal line drive circuit 4323b for controlling 307 is provided on the element substrate 4331b constituting the second display panel 4312, and the signal line drive circuit 4323a and the signal line drive circuit 4323b are electrically connected via the FPC 4324a, 4324b and the printed circuit board 4325. Is connected.

図3に示すように、表示パネル上に信号線駆動回路を設ける場合、上記図2と同様に、第
1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の一方又は双方に応力集中領域43
26を設けることが好ましい。この場合、応力集中領域4326は、信号線駆動回路が設
けられた領域と異なる領域(信号線駆動回路が設けられた領域を避けた領域)に設ける。
例えば、封止基板側に設けることにより、電子書籍を開く場合(第1の表示パネル431
1又は第2の表示パネル4312を折り曲げる場合)に信号線駆動回路に加わる応力を低
減し、信号線駆動回路の破壊を抑制することができる。
As shown in FIG. 3, when the signal line drive circuit is provided on the display panel, the stress concentration region 43 is provided in one or both of the first display panel 4311 and the second display panel 4312, as in FIG.
It is preferable to provide 26. In this case, the stress concentration region 4326 is provided in a region different from the region in which the signal line drive circuit is provided (a region avoiding the region in which the signal line drive circuit is provided).
For example, when opening an electronic book by providing it on the sealing substrate side (first display panel 431).
When the first or second display panel 4312 is bent), the stress applied to the signal line drive circuit can be reduced, and the destruction of the signal line drive circuit can be suppressed.

次に、図2、図3と異なる電子書籍の構成について、図4を参照して説明する。図4(A
)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図4(B)は図4(A)のA−B間の断面
を示し、図4(C)は断面の詳細な模式図を示している。
Next, the configuration of the electronic book different from those in FIGS. 2 and 3 will be described with reference to FIG. FIG. 4 (A
) Shows a plan view of the electronic book in a closed state, FIG. 4 (B) shows a cross section between AB of FIG. 4 (A), and FIG. 4 (C) shows a detailed schematic view of the cross section. ing.

図4に示す電子書籍は、信号線駆動回路等の回路が形成されたICをプリント基板に設け
、当該プリント基板と表示パネルをFPCを用いて接続する場合を示している。
The electronic book shown in FIG. 4 shows a case where an IC in which a circuit such as a signal line drive circuit is formed is provided on a printed circuit board, and the printed circuit board and a display panel are connected by using an FPC.

より具体的に説明すると、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aが
プリント基板4327a上に設けられ、第2の表示部4307を制御する信号線駆動回路
4323bがプリント基板4327b上に設けられ、信号線駆動回路4323aと信号線
駆動回路4323bがFPC4329を介して電気的に接続されている。FPC4329
はプリント基板4327aとプリント基板4327bに電気的に接続され、FPC432
4aは第1の表示パネル4311及びプリント基板4327aと電気的に接続され、FP
C4324bは第2の表示パネル4312及びプリント基板4327bと電気的に接続さ
れている。
More specifically, the signal line drive circuit 4323a for controlling the first display unit 4301 is provided on the printed circuit board 4327a, and the signal line drive circuit 4323b for controlling the second display unit 4307 is provided on the printed circuit board 4327b. The signal line drive circuit 4323a and the signal line drive circuit 4323b are electrically connected via the FPC 4329. FPC4329
Is electrically connected to the printed circuit board 4327a and the printed circuit board 4327b, and is FPC432.
4a is electrically connected to the first display panel 4311 and the printed circuit board 4327a, and is FP.
C4324b is electrically connected to the second display panel 4312 and the printed circuit board 4327b.

図4では、表示パネルの折り曲げをFPC4324a、FPC4324bで行うことがで
きるため、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312に応力集中領域を設け
ない構成とすることができる。
In FIG. 4, since the display panel can be bent by the FPC 4324a and the FPC 4324b, the first display panel 4311 and the second display panel 4312 can be configured so that the stress concentration region is not provided.

次に、綴じ部4308と当該綴じ部4308に設けることができる回路の構成の一例につ
いて、図5を参照して説明する。
Next, an example of the configuration of the binding portion 4308 and the circuit that can be provided in the binding portion 4308 will be described with reference to FIG.

図5では、綴じ部4308に信号線駆動回路を含む表示制御部200を内蔵する場合につ
いて説明する。これらの回路は、上述したようにシリコン等の半導体基板やSOI基板を
用いて形成されたICを用いて形成することができる。
FIG. 5 describes a case where the display control unit 200 including the signal line drive circuit is built in the binding unit 4308. These circuits can be formed by using an IC formed by using a semiconductor substrate such as silicon or an SOI substrate as described above.

表示制御部200は、CPU201、記憶部203、給電部205、電源供給回路207
、映像信号発生回路215、信号線駆動回路4323a、4323b、操作部219等を
有する構成とすることができる。また、各構成はインターフェース等を介して接続するこ
とができる。また、表示制御部200は、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル
4312と電気的に接続されている。ここでは、操作部219を綴じ部4308に設ける
場合を示しているが、操作部219を第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パ
ネル4312上に設けることもできる。
The display control unit 200 includes a CPU 201, a storage unit 203, a power supply unit 205, and a power supply circuit 207.
, The video signal generation circuit 215, the signal line drive circuits 4323a, 4323b, the operation unit 219, and the like can be provided. In addition, each configuration can be connected via an interface or the like. Further, the display control unit 200 is electrically connected to the first display panel 4311 and the second display panel 4312. Here, the case where the operation unit 219 is provided on the binding unit 4308 is shown, but the operation unit 219 can also be provided on the first display panel 4311 and / or the second display panel 4312.

CPU201は、電子書籍全体の動作を制御する。 The CPU 201 controls the operation of the entire electronic book.

データ入力部211は、外部機器から第1の表示部4301及び/又は第2の表示部43
07で表示する情報が入力される。なお、データ入力部211は、外部機器とのデータの
送受信を行うために、アンテナ216を有してもよい。この場合、データ入力部211は
、アンテナ216で受信したデータや記録媒体(外部メモリ213)に記憶されたデータ
を内部メモリ209に転送する機能を有する。
The data input unit 211 is a first display unit 4301 and / or a second display unit 43 from an external device.
The information to be displayed in 07 is input. The data input unit 211 may have an antenna 216 in order to transmit / receive data to / from an external device. In this case, the data input unit 211 has a function of transferring the data received by the antenna 216 and the data stored in the recording medium (external memory 213) to the internal memory 209.

記憶部203は、内部メモリ209、データ入力部211及び外部メモリ213を有する
構成とすることができる。内部メモリ209、データ入力部211及び外部メモリ213
には、第1の表示部4301及び第2の表示部4307に表示する情報や電子書籍を動作
させるプログラム等を記録することができる。
The storage unit 203 may have an internal memory 209, a data input unit 211, and an external memory 213. Internal memory 209, data input unit 211 and external memory 213
Can record information to be displayed on the first display unit 4301 and the second display unit 4307, a program for operating an electronic book, and the like.

内部メモリ209は、給電部205、操作部219等からの信号に基づいて映像信号発生
回路215及び/または電源供給回路207に出力する信号をCPU201で処理するた
めのプログラムや、データ入力部211から転送されるデータ等を記憶する記憶部を有す
る。内部メモリ209の一例として、DRAM(Dynamic Random Acc
ess Memory)、SRAM(Static Random Access Me
mory)、マスクROM(Read Only Memory)、PROM(Prog
rammable Read Only Memory)等で構成されるものである。
The internal memory 209 is a program for processing a signal output to the video signal generation circuit 215 and / or the power supply circuit 207 based on the signals from the power supply unit 205, the operation unit 219, etc., and the data input unit 211 from the data input unit 211. It has a storage unit for storing data to be transferred and the like. As an example of the internal memory 209, DRAM (Dynamic Random Acc)
ess Memory), SRAM (Static Random Access Me)
Mory), mask ROM (Read Only Memory), PROM (Prog)
It is composed of a ramable Read Only Memory) and the like.

外部メモリ213としては、ICカード、メモリカード等の記憶媒体がある。 The external memory 213 includes a storage medium such as an IC card and a memory card.

給電部205は、2次電池、キャパシタ等で構成される。二次電池としては、例えばリチ
ウム電池、好ましくはゲル状電解質を用いるリチウムポリマー電池、リチウムイオン電池
等を用いることで、小型化が可能である。勿論、充電可能な電池であればなんでもよく、
ニッケル水素電池、ニカド電池、有機ラジカル電池、鉛蓄電池、空気二次電池、ニッケル
亜鉛電池、銀亜鉛電池などの充電放電可能な電池であってもよい。キャパシタとしては、
電気二重層キャパシタ、リチウムイオンキャパシタや他の大容量のキャパシタなどを用い
ることができる。キャパシタは、充放電の回数が増えても劣化が小さく、急速充電特性に
も優れているため好適である。給電部205の形状としては、シート状、円柱状、角柱状
、板状、コイン状等を適宜選択すればよい。
The power feeding unit 205 is composed of a secondary battery, a capacitor, and the like. As the secondary battery, for example, a lithium battery, preferably a lithium polymer battery using a gel-like electrolyte, a lithium ion battery, or the like can be used to reduce the size. Of course, any rechargeable battery will do,
It may be a rechargeable / dischargeable battery such as a nickel hydrogen battery, a nicad battery, an organic radical battery, a lead storage battery, an air secondary battery, a nickel zinc battery, or a silver zinc battery. As a capacitor
Electric double layer capacitors, lithium ion capacitors and other large capacity capacitors can be used. Capacitors are suitable because they are less likely to deteriorate even if the number of times of charging and discharging increases, and they are also excellent in quick charging characteristics. As the shape of the power feeding unit 205, a sheet shape, a columnar shape, a prismatic shape, a plate shape, a coin shape, or the like may be appropriately selected.

また、給電部205を、無線により電力が供給される構成とすることができる。この場合
、給電部205にアンテナを設ければよい。
Further, the power feeding unit 205 can be configured to be wirelessly supplied with electric power. In this case, the feeding unit 205 may be provided with an antenna.

電源供給回路207は、CPU201の制御に応じて、第1の表示パネル4311及び第
2の表示パネル4312の表示、非表示を行うために、表示素子への電源供給を制御する
ための回路である。
The power supply circuit 207 is a circuit for controlling the power supply to the display element in order to display or hide the first display panel 4311 and the second display panel 4312 according to the control of the CPU 201. ..

操作部219は、キーボード、操作ボタン等で設けることができる。また、操作部219
を第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネル4312に設ける場合には、第
1の表示部4301及び/又は第2の表示部4307をタッチディスプレイとして、該表
示部を操作部としても機能させることができる。
The operation unit 219 can be provided by a keyboard, operation buttons, or the like. In addition, the operation unit 219
When the first display panel 4311 and / or the second display panel 4312 is provided, the first display unit 4301 and / or the second display unit 4307 may be used as a touch display, and the display unit may be used as an operation unit. Can work.

図5では、綴じ部4308に表示制御部200を内蔵した構成を示したが、さらにスイッ
チング電源やDC−DCコンバータ等のいわゆるパワーデバイスを設けてもよい。
Although FIG. 5 shows a configuration in which the display control unit 200 is built in the binding unit 4308, a so-called power device such as a switching power supply or a DC-DC converter may be further provided.

また、図5に示した電子書籍では、操作部219を操作することにより、電源入力や表示
切り替えを行うことができる。また、第1の表示部4301及び/又は第2の表示部43
07をタッチディスプレイとして、第1の表示部4301や第2の表示部4307に指や
入力ペンなどで触れることにより操作する構成としてもよい。
Further, in the electronic book shown in FIG. 5, power input and display switching can be performed by operating the operation unit 219. Further, the first display unit 4301 and / or the second display unit 43
You may use 07 as a touch display and operate it by touching the first display unit 4301 or the second display unit 4307 with a finger, an input pen, or the like.

このように、表示制御部200を綴じ部4308に内蔵することで、表示制御部200を
筐体で保護することができる。また、電子書籍を薄型にすることができる。
By incorporating the display control unit 200 in the binding unit 4308 in this way, the display control unit 200 can be protected by the housing. Moreover, the electronic book can be made thin.

なお、実施の形態1、2では、第1の表示パネル4311において、走査線駆動回路43
21a、4321bを、綴じ部4308の垂直方向であって第1の表示部4301に沿っ
て設け、第2の表示パネル4312において、走査線駆動回路4322a、4322bを
、綴じ部4308の垂直方向であって第2の表示部4307に沿って設ける場合を示した
が、これに限られない。
In the first and second embodiments, the scanning line drive circuit 43 is displayed on the first display panel 4311.
21a and 4321b are provided in the vertical direction of the binding portion 4308 and along the first display portion 4301, and in the second display panel 4312, the scanning line drive circuits 4322a and 4322b are provided in the vertical direction of the binding portion 4308. The case where it is provided along the second display unit 4307 has been shown, but the present invention is not limited to this.

例えば、図6(A)に示すように、第1の表示パネル4311において、走査線駆動回路
4321a、4321bを第1の表示部4301と比較して綴じ部4308から離間する
ように設けることができる。一般的に、走査線駆動回路4321a、4321bを構成す
る素子は、画素回路を構成する素子より集約して設けられるため、第1の表示パネル43
11が折り曲げられる部分に走査線駆動回路4321a、4321bを設けないことによ
り、走査線駆動回路4321a、4321bの破損を抑制することができる。
For example, as shown in FIG. 6A, in the first display panel 4311, the scanning line drive circuits 4321a and 4321b can be provided so as to be separated from the binding portion 4308 as compared with the first display portion 4301. .. In general, the elements constituting the scanning line drive circuits 4321a and 4321b are collectively provided from the elements constituting the pixel circuit, and therefore the first display panel 43
By not providing the scanning line drive circuits 4321a and 4321b in the portion where 11 is bent, damage to the scanning line drive circuits 4321a and 4321b can be suppressed.

また、図6(B)、(C)に示すように、走査線駆動回路4321a、4321bをそれ
ぞれ複数の回路部に分割して設け、複数の回路部を互いに離間して設けることができる。
これにより、第1の表示パネル4311を湾曲させた場合であっても、走査線駆動回路4
321a、4321bに加わる応力を低減し、走査線駆動回路4321a、4321bの
破損を抑制することができる。図6(B)は、走査線駆動回路4321a、4321bを
それぞれ2つの回路部に分割して設け、図6(C)は、走査線駆動回路4321a、43
21bをそれぞれ4つの回路部に分割して設ける場合を示しているが、走査線駆動回路を
分割する数はこれに限られない。
Further, as shown in FIGS. 6B and 6C, the scanning line drive circuits 4321a and 4321b can be provided separately in a plurality of circuit units, and the plurality of circuit units can be provided apart from each other.
As a result, even when the first display panel 4311 is curved, the scanning line drive circuit 4
The stress applied to 321a and 4321b can be reduced, and damage to the scanning line drive circuits 4321a and 4321b can be suppressed. FIG. 6B shows the scanning line drive circuits 4321a and 4321b divided into two circuit sections, respectively, and FIG. 6C shows the scanning line drive circuits 4321a and 43.
Although the case where 21b is divided into four circuit portions and provided is shown, the number of divisions of the scanning line drive circuit is not limited to this.

また、図6(D)に示すように、第1の表示パネル4311において、一方の端部にのみ
(走査線駆動回路4321aと走査線駆動回路4321bのいずれか一方のみ)設ける構
成としてもよい。これにより、電子書籍の狭額縁化を図ることが可能となる。
Further, as shown in FIG. 6D, the first display panel 4311 may be provided at only one end (only one of the scanning line driving circuit 4321a and the scanning line driving circuit 4321b). This makes it possible to narrow the frame of the electronic book.

なお、図6で示した構造は、第2の表示パネル4312にも適用することができる。 The structure shown in FIG. 6 can also be applied to the second display panel 4312.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
This embodiment can be implemented in combination with the configurations described in other embodiments as appropriate.

(実施の形態3)
本実施の形態では、複数の可撓性の表示パネルを有する電子書籍を見開きにし、湾曲させ
て使用する際に関し、上記実施の形態の作用効果について一例を示し、図7乃至図10を
参照して説明する。
(Embodiment 3)
In the present embodiment, with respect to the case where an electronic book having a plurality of flexible display panels is spread and curved for use, an example of the effects of the above-described embodiment is shown, and FIGS. 7 to 10 are shown. I will explain.

はじめに、図7(A)において、ユーザが電子書籍を見開きにして使用した際の正面平面
図、図7(B)において、ユーザが電子書籍を見開きにして使用した際の上面平面図、に
ついて示し説明する。
First, FIG. 7A shows a front plan view when the user uses the electronic book in a spread, and FIG. 7B shows a top plan view when the user uses the electronic book in a spread. explain.

図7(A)に示す電子書籍は、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312、
綴じ部4308を有する。第1の表示パネル4311は、第1の表示部4301を有し、
第1の表示部4301は、第1の表示部4301に走査信号を供給する走査線駆動回路4
321、第1の表示部4301に画像信号を供給する信号線駆動回路4323aによって
表示の制御が行われることとなる。また第2の表示パネル4312は、第2の表示部43
07を有し、第2の表示部4307は、第2の表示部4307に走査信号を供給する走査
線駆動回路4322、第2の表示部4307に画像信号を供給する信号線駆動回路432
3bによって表示の制御が行われることとなる。また図7(A)では、ユーザの手435
0a、4350bによって第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル4312の端
部を握持する様子について併せて図示している。また図7(A)に示す正面平面図では、
図7(B)に示す上面平面図を見る際の視線について併せて付記している。
The electronic books shown in FIG. 7A include a first display panel 4311 and a second display panel 4312.
It has a binding portion 4308. The first display panel 4311 has a first display unit 4301.
The first display unit 4301 is a scanning line drive circuit 4 that supplies a scanning signal to the first display unit 4301.
The display is controlled by the signal line drive circuit 4323a that supplies the image signal to the 321 and the first display unit 4301. Further, the second display panel 4312 is a second display unit 43.
The second display unit 4307 has 07, and the second display unit 4307 is a scanning line drive circuit 4322 that supplies a scanning signal to the second display unit 4307, and a signal line driving circuit 432 that supplies an image signal to the second display unit 4307.
The display is controlled by 3b. Further, in FIG. 7A, the user's hand 435
The state of grasping the ends of the first display panel 4311 and the second display panel 4312 by 0a and 4350b is also illustrated. Further, in the front plan view shown in FIG. 7 (A),
The line of sight when looking at the top plan view shown in FIG. 7B is also added.

図7(B)に示す上面平面図は、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312
、綴じ部4308を示している。図7(B)に示すように、ユーザが手4350a、43
50bで電子書籍を見開きにして使用する際、可撓性を有する表示パネルには、図中Cに
示す矢印の範囲に折曲部(以下、折曲部Cという)、図中Dに示す矢印の範囲に非折曲部
(以下、非折曲部Dという)形成されることとなる。
The top plan view shown in FIG. 7B shows the first display panel 4311 and the second display panel 4312.
, The binding portion 4308 is shown. As shown in FIG. 7B, the user has hands 4350a, 43.
When the electronic book is used with the spread spread at 50b, the flexible display panel has a bent portion (hereinafter referred to as a bent portion C) in the range of the arrow shown in C in the figure, and an arrow shown in D in the figure. A non-bent portion (hereinafter referred to as a non-bent portion D) is formed in the range of.

なお図7(B)では、一例として、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル431
2の折曲部C、非折曲部Dについて、綴じ部4308に近接する側を折曲部Cとし、綴じ
部4308から離れた側を非折曲部Dとして説明している。折曲部C、非折曲部Dの位置
は、綴じ部4308の構成及び表示パネルを構成する基板の材質に応じて、表示パネルの
湾曲の仕方が異なるものである。そのため、第1の表示パネル4311、第2の表示パネ
ル4312の折曲部C、非折曲部Dについて、綴じ部4308から離れた側が折曲部Cと
なり、綴じ部4308に近接する側が非折曲部Dとなることもある。
In FIG. 7B, as an example, the first display panel 4311 and the second display panel 431
Regarding the bent portion C and the non-folded portion D of 2, the side close to the binding portion 4308 is referred to as the bent portion C, and the side away from the bound portion 4308 is referred to as the non-folded portion D. The positions of the bent portion C and the non-folded portion D differ depending on the configuration of the binding portion 4308 and the material of the substrate constituting the display panel. Therefore, regarding the bent portion C and the non-folded portion D of the first display panel 4311 and the second display panel 4312, the side away from the binding portion 4308 becomes the bent portion C, and the side close to the binding portion 4308 is non-folded. It may be the song part D.

なお電子書籍は、綴じ部4308によって表示パネルを固定する構成であるため、綴じ部
4308の延在する方向と垂直方向(図7(B)中矢印7002)となる第1の表示パネ
ル4311及び第2の表示パネル4312に折曲部C、非折曲部Dが形成されることとな
る。そのため、信号線駆動回路4323a、信号線駆動回路4323bは、綴じ部430
8によって、表示パネルの曲げに起因する破損を防止できる。また走査線駆動回路432
1、走査線駆動回路4322を表示パネルの垂直方向の端部に設けることにより表示部と
同プロセスで作製することも可能になるため、低コスト化を図ることができ、綴じ部43
08に設ける場合と比較して表示部への配線の引き回しを低減できる。なお折曲部C、非
折曲部Dは、複数形成されても良いし、交互に形成されていてもよい。また表示パネルに
応力集中領域を設け、人為的に折曲部C、非折曲部Dを形成してもよい。
Since the electronic book has a configuration in which the display panel is fixed by the binding portion 4308, the first display panel 4311 and the first display panel 4311 and the first display panel 4311 are in the direction perpendicular to the extending direction of the binding portion 4308 (middle arrow 7002 in FIG. 7B). A bent portion C and a non-folded portion D are formed on the display panel 4312 of 2. Therefore, the signal line drive circuit 4323a and the signal line drive circuit 4323b have a binding portion 430.
According to 8, damage caused by bending of the display panel can be prevented. Scanning line drive circuit 432
1. By providing the scanning line drive circuit 4322 at the vertical end of the display panel, it is possible to manufacture the circuit in the same process as the display unit, so that the cost can be reduced and the binding unit 43 can be manufactured.
As compared with the case where it is provided in 08, it is possible to reduce the wiring routing to the display unit. A plurality of bent portions C and non-folded portions D may be formed, or may be formed alternately. Further, a stress concentration region may be provided on the display panel to artificially form the bent portion C and the non-bent portion D.

次いで、図8(A)乃至(C)では、図7(A)と同様に、電子書籍を見開きにして使用
した際の正面平面図を示し、折曲部C及び非折曲部Dに対する、走査線駆動回路4321
、走査線駆動回路4322の配置について説明する。
Next, FIGS. 8A to 8C show a front plan view when the electronic book is used with the spread spread, as in FIG. 7A, with respect to the bent portion C and the non-folded portion D. Scan line drive circuit 4321
, The arrangement of the scanning line drive circuit 4322 will be described.

図8(A)では、綴じ部4308に近接する側を折曲部Cとし、綴じ部4308から離れ
た側を非折曲部Dとして説明している。そのため、走査線駆動回路4321、走査線駆動
回路4322は、それぞれ綴じ部4308から離れた側の非折曲部Dに設けるようにする
。なお、表示部における画素TFT4352への走査信号の供給は、走査線駆動回路43
21、走査線駆動回路4322から延びる配線を表示部の各走査線に引き回すことによっ
て行えばよい。なお走査線駆動回路4321、走査線駆動回路4322を駆動するための
クロック信号等の制御信号の供給は、綴じ部4308内の映像信号発生回路から延びる配
線を通して行われる。回路間の電気的な接続を行うための配線は、金属膜等の微細加工に
より形成されており、走査線駆動回路を構成するトランジスタの半導体膜は、珪素膜等の
半導体材料で形成される。金属膜は半導体材料に比べ、延性に優れ、湾曲によるダメージ
が小さい。そのため、折曲部Cにあたる箇所に走査線駆動回路に接続される配線を配設し
、非折曲部Dにあたる箇所に走査線駆動回路を構成するトランジスタを配設することによ
り、湾曲によるトランジスタの半導体膜へのダメージを小さくすることができる。その結
果、図8(A)のように走査線駆動回路4321、走査線駆動回路4322を配置するこ
とで、ユーザが手4350a、4350bで電子書籍を見開きにして使用する際、回路の
破損を抑制することができる。
In FIG. 8A, the side close to the binding portion 4308 is referred to as a bent portion C, and the side away from the bound portion 4308 is referred to as a non-bent portion D. Therefore, the scanning line driving circuit 4321 and the scanning line driving circuit 4322 are provided in the non-bent portion D on the side away from the binding portion 4308, respectively. The scanning signal is supplied to the pixel TFT 4352 in the display unit by the scanning line drive circuit 43.
21. The wiring extending from the scanning line drive circuit 4322 may be routed to each scanning line of the display unit. The control signals such as the clock signal for driving the scanning line driving circuit 4321 and the scanning line driving circuit 4322 are supplied through the wiring extending from the video signal generation circuit in the binding portion 4308. The wiring for making an electrical connection between the circuits is formed by fine processing such as a metal film, and the semiconductor film of the transistor constituting the scanning line drive circuit is formed of a semiconductor material such as a silicon film. Compared to semiconductor materials, metal films have excellent ductility and less damage due to bending. Therefore, by arranging the wiring connected to the scanning line drive circuit at the portion corresponding to the bent portion C and arranging the transistor constituting the scanning line drive circuit at the portion corresponding to the non-bent portion D, the transistor due to bending can be arranged. Damage to the semiconductor film can be reduced. As a result, by arranging the scanning line driving circuit 4321 and the scanning line driving circuit 4322 as shown in FIG. 8A, damage to the circuit is suppressed when the user uses the electronic book with the hands 4350a and 4350b in a spread. can do.

図8(B)では、綴じ部4308に近接する側から離れた側に向けて折曲部Cと非折曲部
Dとを交互に設ける構成について示している。そのため、走査線駆動回路4321、走査
線駆動回路4322の配置は、非折曲部Dにおいて、それぞれの駆動回路を複数に分割し
、互いに離間して設けるようにする。なお、表示部における画素TFT4352への走査
信号の供給は、第1の走査線駆動回路4321、第2の走査線駆動回路4322から延び
る配線を引き回すことによって行えばよい。なお走査線駆動回路4321、走査線駆動回
路4322を駆動するためのクロック信号等の制御信号の供給は、綴じ部4308内の映
像信号発生回路から延びる配線を通して行われる。また、走査線駆動回路を構成するフリ
ップフロップ等のパルス信号生成回路間を伝搬する信号の供給は、配線を通して行われる
。回路間の電気的な接続を行うための配線は、金属膜等の微細加工により形成されており
、走査線駆動回路を構成するトランジスタの半導体膜は、珪素膜等の半導体材料で形成さ
れる。金属膜は半導体材料に比べ、延性に優れ、湾曲によるダメージが小さい。そのため
、折曲部Cにあたる箇所に走査線駆動回路に接続される配線を配設し、非折曲部Dにあた
る箇所に走査線駆動回路を構成するトランジスタを配設することにより、湾曲によるトラ
ンジスタの半導体膜へのダメージを小さくすることができる。また図8(B)では、駆動
回路を複数に分割し、互いに離間して設けており、湾曲させた際に走査線駆動回路に掛か
る応力を分散させることが出来る。その結果、図8(B)のように走査線駆動回路432
1、走査線駆動回路4322を配置することで、ユーザが手4350a、4350bで電
子書籍を見開きにして使用する際、より効果的に、回路の破損を抑制することができる。
FIG. 8B shows a configuration in which the bent portion C and the non-bent portion D are alternately provided from the side close to the binding portion 4308 to the side away from the binding portion 4308. Therefore, the scanning line drive circuit 4321 and the scanning line drive circuit 4322 are arranged so that each drive circuit is divided into a plurality of parts in the non-bent portion D and is provided apart from each other. The scanning signal may be supplied to the pixel TFT 4352 in the display unit by routing the wiring extending from the first scanning line driving circuit 4321 and the second scanning line driving circuit 4322. The control signals such as the clock signal for driving the scanning line driving circuit 4321 and the scanning line driving circuit 4322 are supplied through the wiring extending from the video signal generation circuit in the binding portion 4308. Further, the signal propagating between the pulse signal generation circuits such as the flip-flops constituting the scanning line drive circuit is supplied through the wiring. The wiring for making an electrical connection between the circuits is formed by fine processing such as a metal film, and the semiconductor film of the transistor constituting the scanning line drive circuit is formed of a semiconductor material such as a silicon film. Compared to semiconductor materials, metal films have excellent ductility and less damage due to bending. Therefore, by arranging the wiring connected to the scanning line drive circuit at the portion corresponding to the bent portion C and arranging the transistor constituting the scanning line drive circuit at the portion corresponding to the non-bent portion D, the transistor due to bending can be arranged. Damage to the semiconductor film can be reduced. Further, in FIG. 8B, the drive circuits are divided into a plurality of parts and provided so as to be separated from each other, so that the stress applied to the scanning line drive circuit when curved can be dispersed. As a result, as shown in FIG. 8B, the scanning line drive circuit 432
1. By arranging the scanning line drive circuit 4322, it is possible to more effectively suppress the breakage of the circuit when the user uses the electronic book with the hands 4350a and 4350b in a spread.

なお、図8(B)において、走査線駆動回路4321、走査線駆動回路4322を表示部
の上下に、走査線駆動回路4321a、走査線駆動回路4321b、走査線駆動回路43
22a、走査線駆動回路4322bとして配置し、冗長化する構成、または走査信号を出
力する機能を分散させる構成としてもよい。図8(C)では、図8(B)で説明した構成
を表示パネルの上下に配置した図である。画素TFT4352に供給する走査信号を、走
査線駆動回路4321aと走査線駆動回路4321bを上下に、及び走査線駆動回路43
22aと走査線駆動回路4322bを上下に配置して供給することで、走査線駆動回路を
構成するフリップフロップ等のパルス信号生成回路を削減することができるため、ユーザ
が手4350a、4350bで電子書籍を見開きにして使用する際、回路の破損を抑制す
ることができる。
In FIG. 8B, the scanning line driving circuit 4321 and the scanning line driving circuit 4322 are placed above and below the display unit, the scanning line driving circuit 4321a, the scanning line driving circuit 4321b, and the scanning line driving circuit 43.
22a may be arranged as a scanning line drive circuit 4322b to make it redundant, or may have a configuration in which the functions for outputting scanning signals are dispersed. 8 (C) is a diagram in which the configurations described in FIG. 8 (B) are arranged above and below the display panel. The scanning signal supplied to the pixel TFT 4352 is transmitted to the scanning line driving circuit 4321a and the scanning line driving circuit 4321b up and down, and the scanning line driving circuit 43.
By arranging the 22a and the scanning line drive circuit 4322b vertically and supplying them, it is possible to reduce the number of pulse signal generation circuits such as flip-flops constituting the scanning line drive circuit. When used with the spread spread, damage to the circuit can be suppressed.

以上図8(B)、(C)では、具体的な一例を示すことにより、折曲部Cとなる領域に走
査線駆動回路を配置せず、非折曲部Dとなる領域に走査線駆動回路を配置する利点につい
て説明している。当該構成により、湾曲させた際に走査線駆動回路に掛かる応力を分散さ
せることができ、ユーザが手4350a、4350bで電子書籍を見開きにして使用する
際、回路の破損を抑制することができる。
In FIGS. 8B and 8C, by showing a specific example, the scanning line drive circuit is not arranged in the region to be the bent portion C, and the scanning line is driven to the region to be the non-bent portion D. Explains the advantages of arranging circuits. With this configuration, it is possible to disperse the stress applied to the scanning line drive circuit when it is curved, and it is possible to suppress damage to the circuit when the user spreads the electronic book with his / her hands 4350a and 4350b.

次いで図8(B)、(C)に説明するように駆動回路を複数に分割し、互いに離間して設
けた際、表示パネルにおける折曲部C及び非折曲部Dを人為的に形成するための応力集中
領域を設ける一例について、図9、図10で説明する。
Next, as described in FIGS. 8B and 8C, when the drive circuit is divided into a plurality of parts and provided apart from each other, the bent portion C and the non-bent portion D in the display panel are artificially formed. An example of providing a stress concentration region for the purpose will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

図9(A)では第1の表示パネル4311、綴じ部4308、第1の表示部4301、走
査線駆動回路4321、信号線駆動回路4323aについて示している。走査線駆動回路
4321は2つに分割して示しており、配線920を介して互いに離間して設けられてい
る。応力集中領域921は、配線920と重畳するように形成することが好ましい。図9
(B)には、綴じ部4308と垂直方向の断面図の一例について示しており、配線920
と重畳する応力集中領域921では、封止基板923に切り込み部922aを設け、素子
基板924に切り込み部922bを設ければよい。なお、図9(C)に示すように、素子
基板924及び封止基板に923の走査線駆動回路4321上に、補強板925を貼付す
ることで、切り込み部922a及び切り込み部922bを形成する構成としてもよい。な
お切り込み部922a及び切り込み部922bは、綴じ部4308の長軸方向に平行に設
けても良いし、一部にのみ設ける構成としてもよい。
FIG. 9A shows the first display panel 4311, the binding unit 4308, the first display unit 4301, the scanning line drive circuit 4321, and the signal line drive circuit 4323a. The scanning line drive circuit 4321 is divided into two parts, and is provided so as to be separated from each other via the wiring 920. The stress concentration region 921 is preferably formed so as to overlap with the wiring 920. Figure 9
(B) shows an example of a cross-sectional view in the direction perpendicular to the binding portion 4308, and wiring 920.
In the stress concentration region 921 that overlaps with the above, the notch portion 922a may be provided on the sealing substrate 923, and the notch portion 922b may be provided on the element substrate 924. As shown in FIG. 9C, the notch portion 922a and the notch portion 922b are formed by attaching the reinforcing plate 925 on the scanning line drive circuit 4321 of the 923 to the element substrate 924 and the sealing substrate. May be. The cut portion 922a and the cut portion 922b may be provided parallel to the major axis direction of the binding portion 4308, or may be provided only in a part thereof.

なお応力集中領域とは、切り込み等による部材の変形や、部材の貼付等による曲げ、延び
に対する強度の変更により形成される、応力の集中する領域のことをいう。
The stress concentration region refers to a region where stress is concentrated, which is formed by deformation of a member due to cutting or the like, bending due to sticking of a member, or change in strength against elongation.

なお走査線駆動回路の分割とは、TFT等の回路素子と配線とが混在して繰り返しのレイ
アウトとなる領域が、配線引き回しに充てられる領域によって分割される状態のことをい
う。
The division of the scanning line drive circuit means a state in which a region in which circuit elements such as TFTs and wiring are mixed to form a repetitive layout is divided by an region allocated for wiring routing.

また図10(A)では、図9(A)と同様に、第1の表示パネル4311、綴じ部430
8、第1の表示部4301、走査線駆動回路4321、信号線駆動回路4323aについ
て示している。走査線駆動回路4321は4つに分割され、配線920を介して互いに離
間して設けられている。応力集中領域921は、複数の配線920と重畳するように形成
することが好ましい。図10(B)には、綴じ部と垂直方向の断面図の一例について示し
ており、配線920と重畳する応力集中領域921では、封止基板923に複数の切り込
み部922aを設け、素子基板924に複数の切り込み部922bを設ければよい。なお
、図10(C)に示すように、素子基板924及び封止基板に923の走査線駆動回路4
321上に、補強板925を貼付することで、複数の切り込み部922a及び複数の切り
込み部922bを形成する構成としてもよい。なお複数の切り込み部922a及び複数の
切り込み部922bは、綴じ部4308の長軸方向に平行に設けても良いし、一部にのみ
設ける構成としてもよい。
Further, in FIG. 10 (A), as in FIG. 9 (A), the first display panel 4311 and the binding portion 430
8. The first display unit 4301, the scanning line drive circuit 4321, and the signal line drive circuit 4323a are shown. The scanning line drive circuit 4321 is divided into four, and is provided so as to be separated from each other via the wiring 920. The stress concentration region 921 is preferably formed so as to overlap with the plurality of wirings 920. FIG. 10B shows an example of a cross-sectional view in the direction perpendicular to the binding portion. In the stress concentration region 921 overlapping with the wiring 920, a plurality of cut portions 922a are provided in the sealing substrate 923, and the element substrate 924 is provided. A plurality of notches 922b may be provided in the. As shown in FIG. 10C, the scanning line drive circuit 4 of 923 is attached to the element substrate 924 and the sealing substrate.
By attaching the reinforcing plate 925 on the 321 to form a plurality of cut portions 922a and a plurality of cut portions 922 b, a plurality of cut portions 922a may be formed. The plurality of cut portions 922a and the plurality of cut portions 922b may be provided parallel to the major axis direction of the binding portion 4308, or may be provided only in a part thereof.

なお、図9,図10に示した走査線駆動回路の分割数は、説明のための一例であり、適宜
任意の数に分割して設ければよい。
The number of divisions of the scanning line drive circuit shown in FIGS. 9 and 10 is an example for explanation, and may be appropriately divided into arbitrary numbers.

以上説明したように、本実施の形態の構成により、ユーザが電子書籍を見開きにして使用
する際に走査線駆動回路の破損をより効果的に抑制できる。また本実施の形態の構成によ
ると、表示パネルに対し予め切り込み部等による応力集中領域を設けることで、より効果
的に、走査線駆動回路の破損を抑制できる。
As described above, according to the configuration of the present embodiment, it is possible to more effectively suppress damage to the scanning line drive circuit when the user uses the electronic book in a spread. Further, according to the configuration of the present embodiment, it is possible to more effectively suppress damage to the scanning line drive circuit by providing a stress concentration region with a notch or the like in advance on the display panel.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
This embodiment can be implemented in combination with the configurations described in other embodiments as appropriate.

(実施の形態4)
本実施の形態では、上記実施の形態1で説明した複数の表示パネルを有する電子書籍の構
成に加えて、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の間に、両面表示型
の第3のパネルを搭載した例について説明する。図11(A)は、電子書籍を見開きにし
た状態であり、図11(B)は電子書籍を閉じた状態である。また、図12は電子書籍の
横方向の断面図である。
(Embodiment 4)
In the present embodiment, in addition to the configuration of the electronic book having the plurality of display panels described in the first embodiment, the double-sided display type second is provided between the first display panel 4311 and the second display panel 4312. An example in which the panel of 3 is mounted will be described. FIG. 11A shows a state in which the electronic book is spread out, and FIG. 11B shows a state in which the electronic book is closed. Further, FIG. 12 is a cross-sectional view of the electronic book in the horizontal direction.

図11(A)、(B)に示す電子書籍は、第1の表示部4301を有する第1の表示パネ
ル4311と、操作部4304及び第2の表示部4307を有する第2の表示パネル43
12と、第3の表示部4302及び第4の表示部4310を有する第3の表示パネル43
13と、第1の表示パネル4311と、第2の表示パネル4312と、第3の表示パネル
4313との一端部に設けられた綴じ部4308と、を有している。第3の表示パネル4
313は、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の間に挿入されている
。図11(A)、(B)の電子書籍は第1の表示部4301、第2の表示部4307、第
3の表示部4302、及び第4の表示部4310の4つの表示画面を有している。
The electronic books shown in FIGS. 11A and 11B have a first display panel 4311 having a first display unit 4301 and a second display panel 43 having an operation unit 4304 and a second display unit 4307.
12, and a third display panel 43 having a third display unit 4302 and a fourth display unit 4310.
It has 13, a first display panel 4311, a second display panel 4312, and a binding portion 4308 provided at one end of the third display panel 4313. Third display panel 4
The 313 is inserted between the first display panel 4311 and the second display panel 4312. The electronic book of FIGS. 11A and 11B has four display screens of a first display unit 4301, a second display unit 4307, a third display unit 4302, and a fourth display unit 4310. There is.

第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312、及び第3の表示パネル4313
は可撓性を有しており、曲がりやすい。また、第1の表示パネル4311、第2の表示パ
ネル4312にプラスチック基板を用い、第3の表示パネル4313に薄いフィルムを用
いると、薄型な電子書籍とすることができる。すなわち、図12に一例として電子書籍の
横方向の断面図を示すと、第3の表示パネル4313は、第1の表示パネル4311及び
第2の表示パネル4312より曲がりやすい電子書籍とすることができる。そのため、第
3の表示パネル4313より外側の表示パネルを硬くすることにより、書籍のような感覚
で取り扱えることができると共に、第3の表示パネル4313の破損を抑制できる。
First display panel 4311, second display panel 4312, and third display panel 4313
Is flexible and easy to bend. Further, if a plastic substrate is used for the first display panel 4311 and the second display panel 4312 and a thin film is used for the third display panel 4313, a thin electronic book can be obtained. That is, when a cross-sectional view of the electronic book in the horizontal direction is shown as an example in FIG. 12, the third display panel 4313 can be an electronic book that is more bendable than the first display panel 4311 and the second display panel 4312. .. Therefore, by making the display panel outside the third display panel 4313 hard, it can be handled like a book, and damage to the third display panel 4313 can be suppressed.

第3の表示パネル4313は第3の表示部4302及び第4の表示部4310を有する両
面表示型パネルである。第3の表示パネル4313は、両面射出型の表示パネルを用いて
もよいし、片面射出型の表示パネルを貼り合わせて用いてもよい。また、間にバックライ
ト(好適には薄型のEL発光パネル)を挟んだ2つの液晶表示パネルを用いてもよい。
The third display panel 4313 is a double-sided display type panel having a third display unit 4302 and a fourth display unit 4310. As the third display panel 4313, a double-sided injection type display panel may be used, or a single-sided injection type display panel may be attached and used. Further, two liquid crystal display panels having a backlight (preferably a thin EL light emitting panel) sandwiched between them may be used.

また図11(A)、(B)に示す電子書籍は、第1の表示部4301の表示制御を行う走
査線駆動回路(図示せず)と、第2の表示部4307の表示制御を行う走査線駆動回路4
322a、4322bと、第3の表示部4302及び/または第4の表示部4310の表
示制御を行う走査線駆動回路(図示せず)と、第1の表示部4301、第2の表示部43
07、第3の表示部4302、及び/または第4の表示部4310の表示制御を行う信号
線駆動回路4323とを有している。なお走査線駆動回路4321a、4321bは第1
の表示パネル4311に設けられ、走査線駆動回路4322a、4322bは第2の表示
パネル4312に設けられ、信号線駆動回路4323は綴じ部4308の内部に設けられ
ている。
Further, the electronic books shown in FIGS. 11A and 11B have a scanning line drive circuit (not shown) that controls the display of the first display unit 4301 and a scanning that controls the display of the second display unit 4307. Line drive circuit 4
322a, 4322b, a scanning line drive circuit (not shown) that controls the display of the third display unit 4302 and / or the fourth display unit 4310, the first display unit 4301, and the second display unit 43.
It has 07, a third display unit 4302, and / or a signal line drive circuit 4323 that controls the display of the fourth display unit 4310. The scanning line drive circuits 4321a and 4321b are the first.
The scanning line drive circuits 4322a and 4322b are provided on the display panel 4311 of the above, the scanning line drive circuits 4322a and 4322b are provided on the second display panel 4312, and the signal line drive circuit 4323 is provided inside the binding portion 4308.

また図11(A)、(B)に示す電子書籍において、第2の表示パネル4312は、操作
部4304を有し、電源入力スイッチや、表示切り替えスイッチなど、各機能を対応づけ
ることができる。
Further, in the electronic books shown in FIGS. 11A and 11B, the second display panel 4312 has an operation unit 4304, and each function such as a power input switch and a display changeover switch can be associated with each other.

また図11(A)、(B)に示す電子書籍の入力操作は、第1の表示部4301や第2の
表示部4307に指や入力ペンなどで触れること、又は操作部4304の操作により行わ
れる。なお、図11(A)では、第2の表示部4307に表示された表示ボタン4309
を図示しており、指などで触れることにより入力を行うことができる。
Further, the input operation of the electronic book shown in FIGS. 11A and 11B can be performed by touching the first display unit 4301 or the second display unit 4307 with a finger or an input pen, or by operating the operation unit 4304. It is said. In addition, in FIG. 11A, the display button 4309 displayed on the second display unit 4307
Is shown in the figure, and input can be performed by touching with a finger or the like.

また図11(A)、(B)に示す第3の表示パネル4313を挿入した電子書籍の使い方
の例としては、第1の表示部4301及び第4の表示部4310で文章を読み、第2の表
示部4307及び第3の表示部4302で図を参照するのは便利である。このとき、第3
の表示パネル4313は、第3の表示部4302と第4の表示部4310を同時に表示す
ることはできないため、ページをめくり始めたときに、第3の表示部4302の表示から
第4の表示部4310の表示に切り替わるものとする。
Further, as an example of how to use the electronic book in which the third display panel 4313 shown in FIGS. 11 (A) and 11 (B) is inserted, a sentence is read by the first display unit 4301 and the fourth display unit 4310, and the second display unit 4301 is used. It is convenient to refer to the figure on the display unit 4307 and the third display unit 4302. At this time, the third
Since the display panel 4313 cannot display the third display unit 4302 and the fourth display unit 4310 at the same time, when the page is started to be turned, the display of the third display unit 4302 to the fourth display unit It shall be switched to the display of 4310.

また、第1の表示部4301から第3の表示部4302を読んで、次のページ、第3の表
示パネル4313をめくり始めた時に、ある角度で第4の表示部4310及び第2の表示
部4307は次のページの表示を行い、また、第4の表示部4310及び第2の表示部4
307を使い終わり、第3の表示パネル4313をめくり始めると、ある角度で第3の表
示部4302及び第1の表示部4301が次のページを表示する。これにより、画面の切
り替わりを目に見えないようにし、視覚的な違和感等を抑えることが可能となる。
Further, when the first display unit 4301 to the third display unit 4302 are read and the next page, the third display panel 4313, is started to be turned, the fourth display unit 4310 and the second display unit 4310 and the second display unit are at a certain angle. The 4307 displays the next page, and the fourth display unit 4310 and the second display unit 4
When 307 is finished and the third display panel 4313 is turned over, the third display unit 4302 and the first display unit 4301 display the next page at a certain angle. As a result, it is possible to make the screen switching invisible and suppress visual discomfort and the like.

次いで第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312、及び第3の表示パネル4
313を有する電子書籍の具体的な構成の一例について、図2(A)、(B)と同様に、
図13(A)、(B)を参照して説明する。なお、図13(A)は電子書籍を閉じた状態
での平面図を示し、図13(B)は図13(A)のA−B間の断面を示している。
Then the first display panel 4311, the second display panel 4312, and the third display panel 4
An example of a specific configuration of an electronic book having 313 is described in the same manner as in FIGS. 2A and 2B.
This will be described with reference to FIGS. 13 (A) and 13 (B). Note that FIG. 13 (A) shows a plan view of the electronic book in a closed state, and FIG. 13 (B) shows a cross section between AB of FIG. 13 (A).

図13に示す電子書籍は、綴じ部4308が中空を有する筐体で形成され、当該筐体の内
部に信号線駆動回路4323が設けられている。ここでは、信号線駆動回路4323がI
Cで形成され、当該ICが綴じ部4308の内部に設けられている。ICは、シリコン等
の半導体基板やSOI基板等を用いて形成することができる。もちろん、信号線駆動回路
以外の回路(例えば、CPU、メモリ等)をICに設けることができる。
In the electronic book shown in FIG. 13, the binding portion 4308 is formed of a hollow housing, and the signal line drive circuit 4323 is provided inside the housing. Here, the signal line drive circuit 4323 is I.
It is formed of C, and the IC is provided inside the binding portion 4308. The IC can be formed by using a semiconductor substrate such as silicon, an SOI substrate, or the like. Of course, a circuit other than the signal line drive circuit (for example, CPU, memory, etc.) can be provided in the IC.

また、図13では、綴じ部4308の内部に設けられるICを、TAB(Tape Au
tomated Bonding)方式を用いてFPC(Flexible Print
ed Circuit)に実装する場合を示している。
Further, in FIG. 13, the IC provided inside the binding portion 4308 is TAB (Tape Au).
FPC (Flexible Print) using the synchronized Bonding method
The case where it is implemented in ed Circuit) is shown.

より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323が形成された
ICがFPC4324上に設けられ、同様に第2の表示部4307を制御する信号線駆動
回路4323が形成されたICがFPC4324上に設けられ、第3の表示部4302及
び第4の表示部4310を制御する信号線駆動回路4323が形成されたICがFPC4
324上に設けられ、信号線駆動回路4323がプリント基板4325を介して電気的に
接続されている。FPC4324は第1の表示パネル4311、第2の表示パネル431
2、及びプリント基板4325と電気的に接続されている。
More specifically, an IC on which the signal line drive circuit 4323 for controlling the first display unit 4301 is formed is provided on the FPC 4324, and the signal line drive circuit 4323 for controlling the second display unit 4307 is also formed. The IC is provided on the FPC4324, and the IC on which the signal line drive circuit 4323 for controlling the third display unit 4302 and the fourth display unit 4310 is formed is the FPC4.
Provided on the 324, the signal line drive circuit 4323 is electrically connected via the printed circuit board 4325. The FPC 4324 has a first display panel 4311 and a second display panel 431.
2. It is electrically connected to the printed circuit board 4325.

また、図13において、プリント基板4325を綴じ部4308を構成する筐体に接着す
るように設けることができる。
Further, in FIG. 13, the printed circuit board 4325 can be provided so as to be adhered to the housing constituting the binding portion 4308.

図13に示すように、FPC上に信号線駆動回路を設ける場合、上記図2(C)で説明し
たように、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の一方又は双方に応力
集中領域4326を設けることが好ましい。応力集中領域4326を表示パネルに設ける
ことにより、電子書籍を開く場合(第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネ
ル4312を折り曲げる場合)にFPC4324に加わる応力を低減し、FPC4324
上に設けられた信号線駆動回路4323の破壊を抑制することができる。なお第3の表示
パネル4313に薄いフィルムに形成されており、電子書籍を見開きにして使用する際に
十分なフレキシビリティを有しており、書籍のような感覚で取り扱えることができる。
As shown in FIG. 13, when the signal line drive circuit is provided on the FPC, stress concentration is concentrated on one or both of the first display panel 4311 and the second display panel 4312 as described in FIG. 2 (C) above. It is preferable to provide region 4326. By providing the stress concentration region 4326 on the display panel, the stress applied to the FPC 4324 when the electronic book is opened (when the first display panel 4311 and / or the second display panel 4312 is bent) is reduced, and the stress applied to the FPC 4324 is reduced.
It is possible to suppress the destruction of the signal line drive circuit 4323 provided above. The third display panel 4313 is formed of a thin film, has sufficient flexibility when the electronic book is spread and used, and can be handled like a book.

次に、図13と異なる電子書籍の構成について、図14を参照して説明する。図14(A
)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図14(B)は図14(A)のA−B間の
断面を示している。
Next, the configuration of the electronic book different from that of FIG. 13 will be described with reference to FIG. FIG. 14 (A
) Shows a plan view of the electronic book in a closed state, and FIG. 14 (B) shows a cross section between AB of FIG. 14 (A).

図14に示す電子書籍は、綴じ部4308に設けられるICを、COG(Chip On
Glass)方式を用いて、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312に
実装する場合を示している。
In the electronic book shown in FIG. 14, the IC provided in the binding portion 4308 is used as a COG (Chip On).
The case of mounting on the first display panel 4311 and the second display panel 4312 by using the Glass) method is shown.

より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323が形成された
ICが第1の表示パネル4311を構成する素子基板上に設けられ、同様に第2の表示部
4307を制御する信号線駆動回路4323が形成されたICが第2の表示パネル431
2を構成する素子基板上に設けられ、第3の表示部4302及び第4の表示部4310を
制御する信号線駆動回路4323が形成されたICが第3の表示パネル4313を構成す
る素子基板上に設けられ、信号線駆動回路4323がFPC4324及びプリント基板4
325を介して電気的に接続されている。
More specifically, an IC on which the signal line drive circuit 4323 for controlling the first display unit 4301 is formed is provided on the element substrate constituting the first display panel 4311, and similarly, the second display unit 4307 is provided. The IC on which the signal line drive circuit 4323 that controls the above is formed is the second display panel 431.
An IC provided on the element substrate constituting No. 2 and having a signal line drive circuit 4323 for controlling the third display unit 4302 and the fourth display unit 4310 is formed on the element substrate constituting the third display panel 4313. The signal line drive circuit 4323 is provided in the FPC 4324 and the printed circuit board 4.
It is electrically connected via 325.

次に、図13、図14と異なる電子書籍の構成について、図15を参照して説明する。図
15(A)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図15(B)は図15(A)のA
−B間の断面を示している。
Next, the configuration of the electronic book different from those in FIGS. 13 and 14 will be described with reference to FIG. FIG. 15 (A) shows a plan view of the electronic book in a closed state, and FIG. 15 (B) shows A of FIG. 15 (A).
The cross section between −B is shown.

図15に示す電子書籍は、信号線駆動回路等の回路が形成されたICをプリント基板に設
け、当該プリント基板と表示パネルをFPCを用いて接続する場合を示している。
The electronic book shown in FIG. 15 shows a case where an IC in which a circuit such as a signal line drive circuit is formed is provided on a printed circuit board, and the printed circuit board and a display panel are connected by using an FPC.

より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323が形成された
ICがプリント基板4325上に設けられ、同様に第2の表示部4307を制御する信号
線駆動回路4323が形成されたICがプリント基板上に設けられ、第3の表示部430
2及び第4の表示部4310を制御する信号線駆動回路4323が形成されたICが第3
の表示パネル4313を構成する素子基板上に設けられ、信号線駆動回路4323がFP
C4324を介して電気的に接続されている。FPC4324はそれぞれプリント基板4
325に電気的に接続される。
More specifically, an IC on which the signal line drive circuit 4323 for controlling the first display unit 4301 is formed is provided on the printed circuit board 4325, and the signal line drive circuit 4323 for controlling the second display unit 4307 is also provided. The IC on which the is formed is provided on the printed circuit board, and the third display unit 430 is provided.
The IC on which the signal line drive circuit 4323 that controls the second and fourth display units 4310 is formed is the third IC.
The signal line drive circuit 4323 is provided on the element substrate constituting the display panel 4313 of FP.
It is electrically connected via C4324. Each FPC4324 has a printed circuit board 4
It is electrically connected to 325.

図15では、表示パネルの折り曲げをFPC4324で行うことができるため、折り曲げ
部を設けない構成とすることができる。
In FIG. 15, since the display panel can be bent by the FPC 4324, the configuration can be such that the bent portion is not provided.

次いで、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の間に、両面表示型の第
3のパネルを搭載した電子書籍の構成及びその機能について、ブロック図等を用いて説明
する。なお、本実施形態における電子書籍は、表示パネルに用いる表示素子として、自発
光型の発光素子、またはバックライト等の光の透過を制御する液晶素子等の場合に特に好
適である。なお電子書籍が表示素子としては、電気泳動素子等の他の表示素子であっても
適用可能であることを付記する。
Next, the configuration and function of an electronic book in which a double-sided display type third panel is mounted between the first display panel 4311 and the second display panel 4312 will be described with reference to a block diagram and the like. The electronic book in the present embodiment is particularly suitable as a display element used for a display panel in the case of a self-luminous light emitting element, a liquid crystal element for controlling light transmission such as a backlight, or the like. It should be added that the electronic book can be applied to other display elements such as an electrophoresis element as the display element.

図16に本実施の形態で説明する電子書籍のブロック図を示す。図16に示す電子書籍は
、第1の表示パネル701と、第2の表示パネル702と、第3の表示パネル703と、
第4の表示パネル704と、表示制御部705を有する。第1の表示パネル701は、走
査線駆動回路706A、第1の表示部707Aを有する。第2の表示パネル702は、走
査線駆動回路706B、第2の表示部707Bを有する。第3の表示パネル703は、走
査線駆動回路706C、第3の表示部707Cを有する。第4の表示パネル704は、走
査線駆動回路706D、第4の表示部707Dを有する。
FIG. 16 shows a block diagram of an electronic book described in this embodiment. The electronic books shown in FIG. 16 include a first display panel 701, a second display panel 702, and a third display panel 703.
It has a fourth display panel 704 and a display control unit 705. The first display panel 701 has a scanning line drive circuit 706A and a first display unit 707A. The second display panel 702 includes a scanning line drive circuit 706B and a second display unit 707B. The third display panel 703 includes a scanning line drive circuit 706C and a third display unit 707C. The fourth display panel 704 includes a scanning line drive circuit 706D and a fourth display unit 707D.

なお、上記実施の形態で説明したように、第1の表示パネル701乃至第4の表示パネル
704はそれぞれ可撓性を有し、上記実施の形態で述べた信号線駆動回路を含む表示制御
部705を内設する綴じ部によって固定されているものである。
As described in the above embodiment, the first display panel 701 to the fourth display panel 704 each have flexibility, and the display control unit including the signal line drive circuit described in the above embodiment. The 705 is fixed by a binding portion provided internally.

なお、第3の表示パネル703と、第4の表示パネル704とは、両面射出型の表示パネ
ルを用いることにより、第3の表示部707Cと、第4の表示部707Dとを兼備した第
3の表示パネル703とすることができ、電子書籍の薄型化、低コスト化を図ることが出
来る。
The third display panel 703 and the fourth display panel 704 have a third display unit 707C and a fourth display unit 707D by using a double-sided injection type display panel. The display panel 703 can be used, and the thickness and cost of the electronic book can be reduced.

第1の表示部707A乃至第4の表示部707Dは、それぞれ複数の画素708を有して
おり、それぞれ複数の画素708には表示素子を制御するための画素回路710がある。
画素回路710には薄膜トランジスタ等が含まれており、それらを一括で形成すると低コ
スト化を図れる。また、第1の表示部707Aは光センサ709Aを有し、第2の表示部
707Bは光センサ709Bを有し、第3の表示部707Cは光センサ709Cを有し、
第4の表示部707Dは光センサ709Dを有する。
The first display unit 707A to the fourth display unit 707D each have a plurality of pixels 708, and each of the plurality of pixels 708 has a pixel circuit 710 for controlling a display element.
The pixel circuit 710 includes a thin film transistor and the like, and if they are formed collectively, the cost can be reduced. Further, the first display unit 707A has an optical sensor 709A, the second display unit 707B has an optical sensor 709B, and the third display unit 707C has an optical sensor 709C.
The fourth display unit 707D has an optical sensor 709D.

なお走査線駆動回路706A乃至走査線駆動回路706Dは、画素708における画素回
路710に走査信号を供給するものである。
The scanning line driving circuit 706A to the scanning line driving circuit 706D supply a scanning signal to the pixel circuit 710 in the pixel 708.

光センサ709A乃至709Dは、上記実施の形態で説明したように、第1の表示パネル
701及び第3の表示パネル703を視認している状態、または第2の表示パネル702
及び第4の表示パネル704を視認している状態を検知する機能を有する。そのため、表
示パネル等に傾き検出部、または別の開閉検出手段によって、本実施の形態で説明する機
能を実現することも可能である。
As described in the above-described embodiment, the optical sensors 709A to 709D are in a state of visually recognizing the first display panel 701 and the third display panel 703, or the second display panel 702.
It also has a function of detecting a state in which the fourth display panel 704 is visually recognized. Therefore, it is also possible to realize the function described in the present embodiment by an inclination detecting unit or another opening / closing detecting means on the display panel or the like.

なお、光センサ709C、及び/または光センサ709Dは、光センサ709A、及び/
または光センサ709Bの照度の精度を高めることによって、省略することができる。な
お光センサ709C、及び/または光センサ709Dの代わりに、遮光部を配設すること
により光センサ709A、及び/または光センサ709Bの照度の精度を高めることがで
き、また透光性の基板を用いた場合であっても光センサで検出することができ、好適であ
る。
The optical sensor 709C and / or the optical sensor 709D is the optical sensor 709A and / or.
Alternatively, it can be omitted by increasing the accuracy of the illuminance of the optical sensor 709B. By arranging a light-shielding portion instead of the optical sensor 709C and / or the optical sensor 709D, the accuracy of the illuminance of the optical sensor 709A and / or the optical sensor 709B can be improved, and a translucent substrate can be used. Even when it is used, it can be detected by an optical sensor, which is preferable.

なお光センサ709A乃至709Dは、画素回路710が有する薄膜トランジスタが形成
される基板上に、フォトダイオードまたはフォトトランジスタ等によるフォトセンサとし
て形成してもよい。光センサ709A乃至709Dを薄膜トランジスタと共に形成するこ
とで電子書籍の低コスト化を図ることが出来る。
The optical sensors 709A to 709D may be formed as a photosensor using a photodiode, a phototransistor, or the like on the substrate on which the thin film transistor of the pixel circuit 710 is formed. By forming the optical sensors 709A to 709D together with the thin film transistor, the cost of the electronic book can be reduced.

綴じ部4308内に位置する表示制御部705は、光強度比較回路711、CPU712
、内部メモリ713、映像信号発生回路714、電源供給回路715、信号送受信部71
6、給電部717、操作部718、信号線駆動回路714A乃至信号線駆動回路714D
を有し、各構成はインターフェース等を介して接続されている。なお信号送受信部716
は、外部機器とのデータの送受信を行うためのアンテナ部719を具備する構成であって
もよい。
The display control unit 705 located in the binding unit 4308 includes a light intensity comparison circuit 711 and a CPU 712.
, Internal memory 713, video signal generation circuit 714, power supply circuit 715, signal transmitter / receiver 71
6. Power supply unit 717, operation unit 718, signal line drive circuit 714A to signal line drive circuit 714D
Each configuration is connected via an interface or the like. Signal transmitter / receiver 716
May be configured to include an antenna unit 719 for transmitting and receiving data to and from an external device.

光強度比較回路711は、光センサ709A乃至光センサ709Dからの信号を検知し、
照度に応じた信号の強度を比較する回路である。光強度比較回路711は、得られる各光
センサの強度に応じた信号を符号化する。そして第1の表示パネル701及び/または第
3の表示パネル703が有する光センサ709A及び/または光センサ709Cと、第2
の表示パネル702及び/または第4の表示パネル704が有する光センサ709B及び
/または光センサ709Dと、で照度に応じた信号を比較する。比較した結果の信号はC
PU712に送られ、CPU712は当該信号に応じた処理を行うこととなる。なお、C
PU712は操作部718での操作に応じた処理等も行うこととなる。
The light intensity comparison circuit 711 detects signals from the light sensors 709A to 709D and detects the signals.
It is a circuit that compares the signal intensities according to the illuminance. The light intensity comparison circuit 711 encodes a signal corresponding to the intensity of each obtained optical sensor. Then, the optical sensor 709A and / or the optical sensor 709C included in the first display panel 701 and / or the third display panel 703, and the second display panel 701 and / or the optical sensor 709C.
The signals according to the illuminance are compared with the optical sensor 709B and / or the optical sensor 709D included in the display panel 702 and / or the fourth display panel 704. The signal of the comparison result is C
It is sent to the PU 712, and the CPU 712 performs processing according to the signal. In addition, C
The PU 712 also performs processing according to the operation of the operation unit 718.

信号送受信部716は、アンテナ部719で受信したデータ、または記録媒体に記憶され
たデータを内部メモリ713に転送する機能を有する。内部メモリ713には、インター
フェース等を介してデータが記憶される。なお信号送受信部716より内部メモリ713
に転送するデータとしては、表示パネルで表示するための映像信号の他、ユーザID等の
情報を記憶するものであってもよい。
The signal transmission / reception unit 716 has a function of transferring the data received by the antenna unit 719 or the data stored in the recording medium to the internal memory 713. Data is stored in the internal memory 713 via an interface or the like. Internal memory 713 from the signal transmitter / receiver 716
As the data to be transferred to, in addition to the video signal to be displayed on the display panel, information such as a user ID may be stored.

内部メモリ713は、光強度比較回路711、給電部717、操作部718等からの信号
に基づいて映像信号発生回路714、及び/または電源供給回路715に出力する信号を
CPU712で処理するためのプログラムや、信号送受信部716から転送されるデータ
、を記憶する記憶部を有する。一例としては、内部メモリ713は、ROM(Read
Only Memory)やRAM(Random Access Memory)で構
成されるものである。
The internal memory 713 is a program for the CPU 712 to process a signal output to the video signal generation circuit 714 and / or the power supply circuit 715 based on the signals from the light intensity comparison circuit 711, the power supply unit 717, the operation unit 718, and the like. It also has a storage unit that stores data transferred from the signal transmission / reception unit 716. As an example, the internal memory 713 is a ROM (Read).
It is composed of Only Memory) and RAM (Random Access Memory).

給電部717は、無線、または有線による電力の給電、または電池、コンデンサ等の蓄電
手段による電力の給電を行う機能を有する。また、操作部718は、タッチパネル、可動
部を操作できる操作ボタン等に基づくユーザによる操作を符号化し、CPU712に転送
する手段を有する。
The power supply unit 717 has a function of supplying electric power wirelessly or by wire, or supplying electric power by a storage means such as a battery or a capacitor. Further, the operation unit 718 has a means for encoding the operation by the user based on the touch panel, the operation buttons capable of operating the movable unit, and the like, and transferring the operation to the CPU 712.

映像信号発生回路714は、CPU712の制御に応じて、第1の表示パネル701乃至
第4の表示パネル704の表示、非表示を行うために、走査線駆動回路を駆動するための
クロック信号、スタートパルス等を各走査線駆動回路706A乃至走査線駆動回路706
Dに供給、及び綴じ部内に設けられた信号線駆動回路を駆動するためのクロック信号、ス
タートパルス、映像信号等を各信号線駆動回路714A乃至信号線駆動回路714Dに供
給、するための回路である。
The video signal generation circuit 714 starts, a clock signal for driving the scanning line drive circuit in order to display or hide the first display panel 701 to the fourth display panel 704 according to the control of the CPU 712. Each scan line drive circuit 706A to scan line drive circuit 706 for pulses, etc.
A circuit for supplying a clock signal, a start pulse, a video signal, etc. for driving a signal line drive circuit provided in the binding portion to D, to each signal line drive circuit 714A to signal line drive circuit 714D. is there.

なお信号線駆動回路714A乃至信号線駆動回路714Dは、画素708における画素回
路710に信号線を介して画像信号を供給するものである。
The signal line drive circuit 714A to the signal line drive circuit 714D supplies an image signal to the pixel circuit 710 of the pixel 708 via the signal line.

電源供給回路715は、CPU712の制御に応じて、第1の表示パネル701乃至第4
の表示パネル704の表示、非表示を行うために、表示素子への電源供給を制御するため
の回路である。図16では説明のため、電源供給回路715内に、第1の表示部707A
に電源供給を行う電源供給回路715A、第2の表示部707Bに電源供給を行う電源供
給回路715B、第3の表示部707Cに電源供給を行う電源供給回路715C、第4の
表示部707Dに電源供給を行う電源供給回路715D、を示している。
The power supply circuit 715 is the first display panel 701 to the fourth according to the control of the CPU 712.
This is a circuit for controlling the power supply to the display element in order to display or hide the display panel 704. In FIG. 16, for the sake of explanation, the first display unit 707A is provided in the power supply circuit 715.
Power supply circuit 715A that supplies power to the second display unit 707B, power supply circuit 715B that supplies power to the second display unit 707B, power supply circuit 715C that supplies power to the third display unit 707C, and power supply to the fourth display unit 707D. The power supply circuit 715D, which supplies power, is shown.

図16に示す電子書籍の動作について一例を用いて説明する。まず光センサ709A乃至
709Dによって得られる各表示パネルの表示面の照度を光強度比較回路711にて比較
する。CPU712は、光強度比較回路711で比較した結果、または操作部718から
の信号によって、ユーザがどの表示パネルを視認しているかを判定する。例えば光センサ
709A及び/または光センサ709Cの照度と、光センサ709B及び/または光セン
サ709Dの照度と、を比較し、光センサ709A及び/または光センサ709Cの照度
が光センサ709B及び/または光センサ709Dの照度より大きければ、ユーザが第1
の表示部707A及び/または第3の表示部707Cを視認していると判定する。CPU
712でのユーザがどの表示パネルを視認しているかの判定により、映像信号発生回路7
14が第1の表示パネル701乃至第4の表示パネル704に供給する映像信号及び制御
信号、及び/または電源供給回路715が第1の表示パネル701乃至第4の表示パネル
704に供給する電源供給を制御する。具体的には、ユーザが視認していない第2の表示
部707B及び第4の表示部707Dを具備する第2の表示パネル702及び第4の表示
パネル704への電源供給を停止することにより、低消費電力化、表示パネルの長寿命化
を図ることができる。
The operation of the electronic book shown in FIG. 16 will be described with an example. First, the illuminance of the display surface of each display panel obtained by the optical sensors 709A to 709D is compared by the light intensity comparison circuit 711. The CPU 712 determines which display panel the user is viewing based on the result of comparison by the light intensity comparison circuit 711 or the signal from the operation unit 718. For example, the illuminance of the optical sensor 709A and / or the optical sensor 709C is compared with the illuminance of the optical sensor 709B and / or the optical sensor 709D, and the illuminance of the optical sensor 709A and / or the optical sensor 709C is the optical sensor 709B and / or the light. If it is greater than the illuminance of sensor 709D, the user is the first
It is determined that the display unit 707A and / or the third display unit 707C of the above is visually recognized. CPU
The video signal generation circuit 7 is determined by determining which display panel the user is viewing on the 712.
The video signal and control signal that 14 supplies to the first display panel 701 to the fourth display panel 704, and / or the power supply that the power supply circuit 715 supplies to the first display panel 701 to the fourth display panel 704. To control. Specifically, by stopping the power supply to the second display panel 702 and the fourth display panel 704 including the second display unit 707B and the fourth display unit 707D that are not visually recognized by the user, the power supply is stopped. It is possible to reduce power consumption and extend the life of the display panel.

図16に示す電子書籍は、ユーザが視認しているページを光センサ及び光強度比較回路に
て判定することで、表示パネルへの画像信号の供給、電源供給等の選択的な切り替えを行
うことができる。そのため低消費電力化、表示パネルの長寿命化を実現した電子書籍を提
供することができる。
In the electronic book shown in FIG. 16, the page viewed by the user is determined by an optical sensor and a light intensity comparison circuit to selectively switch the image signal supply to the display panel, power supply, and the like. Can be done. Therefore, it is possible to provide an electronic book that realizes low power consumption and long life of the display panel.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
This embodiment can be implemented in combination with the configurations described in other embodiments as appropriate.

(実施の形態5)
本実施の形態では、電子書籍に設ける表示パネルの例を示す。表示パネルは様々の表示素
子を有する表示パネルを適用することができ、パッシブマトリクス型でもアクティブマト
リクス型でもよい。
(Embodiment 5)
In this embodiment, an example of a display panel provided on an electronic book is shown. As the display panel, a display panel having various display elements can be applied, and it may be a passive matrix type or an active matrix type.

表示パネルとしては、電子ペーパー、発光表示パネル(EL(エレクトロルミネッセンス
)パネル)、液晶表示パネルなどを用いることができる。表示パネルは、表示素子が封止
された状態にあるパネルであり、コネクター、例えばFPC(Flexible pri
nted circuit)もしくはTAB(Tape Automated Bond
ing)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付
けられ信号線駆動回路を含む外部回路と電気的に接続する。信号線駆動回路であるICが
、COG(Chip On Glass)方式により表示パネルに直接実装されてもよい
As the display panel, an electronic paper, a light emitting display panel (EL (electroluminescence) panel), a liquid crystal display panel, or the like can be used. The display panel is a panel in which the display element is sealed, and is a connector, for example, an FPC (Flexible pri).
nted cycle) or TAB (Tape Automated Bond)
ing) Tape or TCP (Tape Carrier Package) is attached and electrically connected to an external circuit including a signal line drive circuit. An IC, which is a signal line drive circuit, may be directly mounted on a display panel by a COG (Chip On Glass) method.

表示パネルは、両面に表示を行う両面表示型でも片面のみに表示を行う片面表示パネルを
用いてもよい。
As the display panel, a double-sided display type that displays on both sides or a single-sided display panel that displays on only one side may be used.

実施の形態4において、第3の表示パネル4313は第3の表示部4302及び第4の表
示部4310を有する両面表示型パネルである。第3の表示パネル4313は、両面射出
型の表示パネルを用いてもよいし、片面射出型の表示パネルを貼り合わせて用いてもよい
。また、間にバックライト(好適には薄型のELパネル)を挟んだ2つの液晶表示パネル
を用いてもよい。
In the fourth embodiment, the third display panel 4313 is a double-sided display panel having a third display unit 4302 and a fourth display unit 4310. As the third display panel 4313, a double-sided injection type display panel may be used, or a single-sided injection type display panel may be attached and used. Further, two liquid crystal display panels with a backlight (preferably a thin EL panel) sandwiched between them may be used.

両面表示型パネル例を第3の表示パネル4313を用いて図17(A)乃至(C)に示す
。なお、図17(A)乃至(C)において、矢印は光の射出方向を示している。
An example of a double-sided display panel is shown in FIGS. 17A to 17C using a third display panel 4313. In FIGS. 17A to 17C, the arrows indicate the light emission directions.

図17(A)は表示素子102を基板100及び基板101に挟持した第3の表示パネル
4313であり、基板100側に第3の表示部4302、基板101側に第4の表示部4
310が設けられている。表示素子102によって、第3の表示部4302及び第4の表
示部4310が表示されるため、基板100及び基板101は透光性を有する。表示素子
102は、自発光型の発光素子であるEL素子を用いると好ましい。なお、第3の表示パ
ネル4313に入射する光を利用する場合、表示素子102として液晶表示素子や電気泳
動表示素子を用いることもできる。
FIG. 17A shows a third display panel 4313 in which the display element 102 is sandwiched between the substrate 100 and the substrate 101, the third display unit 4302 on the substrate 100 side, and the fourth display unit 4 on the substrate 101 side.
310 is provided. Since the display element 102 displays the third display unit 4302 and the fourth display unit 4310, the substrate 100 and the substrate 101 are translucent. As the display element 102, it is preferable to use an EL element which is a self-luminous light emitting element. When the light incident on the third display panel 4313 is used, a liquid crystal display element or an electrophoresis display element can be used as the display element 102.

図17(B)は、基板110及び基板112に挟持された表示素子114を含む片面表示
パネル、及び基板111と基板113に挟持された表示素子115とを含む片面表示パネ
ルを積層した第3の表示パネル4313であり、基板110側に第3の表示部4302、
基板111側に第4の表示部4310が設けられている。表示素子114によって第3の
表示部4302が表示され、表示素子115によって第4の表示部4310が表示される
ため基板110及び基板111は透光性を有する。一方、基板112及び基板113は透
光性を有する必要はなく、反射性を有していてもよい。なお、片面表示パネル同士は、基
板112及び基板113を接着層によって接着して貼り合わせればよい。また、基板11
2及び基板113のどちらか一方のみを用いてもよい。
FIG. 17B shows a third layer in which a single-sided display panel including a display element 114 sandwiched between a substrate 110 and a substrate 112 and a single-sided display panel including a display element 115 sandwiched between the substrate 111 and the substrate 113 are laminated. Display panel 4313, the third display unit 4302, on the substrate 110 side,
A fourth display unit 4310 is provided on the substrate 111 side. Since the display element 114 displays the third display unit 4302 and the display element 115 displays the fourth display unit 4310, the substrate 110 and the substrate 111 are translucent. On the other hand, the substrate 112 and the substrate 113 do not have to have translucency, and may have reflectivity. The single-sided display panels may be bonded to each other by adhering the substrate 112 and the substrate 113 with an adhesive layer. In addition, the substrate 11
Only one of 2 and the substrate 113 may be used.

表示素子114及び表示素子115は、EL素子を用いると好ましい。なお、第3の表示
パネル4313に入射する光を利用する場合表示素子114及び表示素子115として液
晶表示素子や電気泳動表示素子を用いることもできる。光の取り出し効率を向上させるた
め、片面表示型の表示パネルとして反射型の表示パネルを用いると好ましい。
As the display element 114 and the display element 115, it is preferable to use an EL element. When the light incident on the third display panel 4313 is used, a liquid crystal display element or an electrophoresis display element can be used as the display element 114 and the display element 115. In order to improve the light extraction efficiency, it is preferable to use a reflective display panel as the single-sided display panel.

透光型液晶表示パネルの間にバックライトを設け、第3の表示パネル4313としてもよ
い。図17(C)は、基板120及び基板122に挟持された表示素子124を含む透光
型液晶表示パネル、及び基板121と基板123に挟持された表示素子125とを含む透
光型液晶表示パネルを、光源となるバックライト126を介して積層した第3の表示パネ
ル4313であり、基板120側に第3の表示部4302、基板121側に第4の表示部
4310が設けられている。バックライト126の光及び表示素子124によって第3の
表示部4302が表示され、バックライト126の光及び表示素子125によって第4の
表示部4310が表示されるため基板120、基板121、基板122及び基板123は
透光性を有する。
A backlight may be provided between the translucent liquid crystal display panels to form a third display panel 4313. FIG. 17C shows a translucent liquid crystal display panel including the display element 124 sandwiched between the substrate 120 and the substrate 122, and a translucent liquid crystal display panel including the display element 125 sandwiched between the substrate 121 and the substrate 123. Is a third display panel 4313 laminated via a backlight 126 as a light source, and a third display unit 4302 is provided on the substrate 120 side and a fourth display unit 4310 is provided on the substrate 121 side. The light of the backlight 126 and the display element 124 display the third display unit 4302, and the light of the backlight 126 and the display element 125 display the fourth display unit 4310. Therefore, the substrate 120, the substrate 121, the substrate 122, and the substrate 122 The substrate 123 is translucent.

なお、片面表示パネル、及びバックライトは、接着層によって接着して貼り合わせればよ
い。また、基板122及び基板123のどちらか一方のみを用いてもよい。バックライト
126としては、薄型のELパネルを用いると、第3の表示パネル4313を薄型化でき
るため好ましい。
The single-sided display panel and the backlight may be adhered and bonded by an adhesive layer. Further, only one of the substrate 122 and the substrate 123 may be used. As the backlight 126, it is preferable to use a thin EL panel because the third display panel 4313 can be made thinner.

なお、片面表示型パネルとする場合は表示部を設けない面に非透光性又は反射性の筐体を
設けると、表示パネルの強度を向上できるため好ましい。
In the case of a single-sided display type panel, it is preferable to provide a non-transmissive or reflective housing on the surface on which the display unit is not provided because the strength of the display panel can be improved.

表示パネルの一形態について、図18乃至図20を用いて説明する。図18乃至図20は
、図4(A)のM−Nにおける断面図に相当する。図18乃至図20、及び図22は、画
素回路を有する第1の表示部4301及び走査線駆動回路4322aを有する第1の表示
パネル4311にFPC4324が取り付けられた例であり、素子基板4331a上に設
けられた第1の表示部4301及び走査線駆動回路4322aは、シール材4005によ
って封止基板4332aで封止されている。
One form of the display panel will be described with reference to FIGS. 18 to 20. 18 to 20 correspond to the cross-sectional views taken along the line MN of FIG. 4 (A). 18 to 20 and 22 are examples in which the FPC 4324 is attached to the first display unit 4301 having a pixel circuit and the first display panel 4311 having the scanning line drive circuit 4322a, and are mounted on the element substrate 4331a. The first display unit 4301 and the scanning line drive circuit 4322a provided are sealed by the sealing material 4005 on the sealing substrate 4332a.

図18乃至図20、及び図22で示すように、第1の表示パネル4311は接続端子電極
4015及び端子電極4016を有しており、接続端子電極4015及び端子電極401
6はFPC4324が有する端子と異方性導電膜4019を介して、電気的に接続されて
いる。
As shown in FIGS. 18 to 20 and 22, the first display panel 4311 has a connection terminal electrode 4015 and a terminal electrode 4016, and the connection terminal electrode 4015 and the terminal electrode 401
Reference numeral 6 is electrically connected to the terminal of the FPC4324 via the anisotropic conductive film 4019.

接続端子電極4015は、第1の電極層4030と同じ導電膜から形成され、端子電極4
016は、薄膜トランジスタ4010、4011のソース電極層及びドレイン電極層と同
じ導電膜で形成されている。
The connection terminal electrode 4015 is formed of the same conductive film as the first electrode layer 4030, and the terminal electrode 4
016 is formed of the same conductive film as the source electrode layer and drain electrode layer of the thin film transistors 4010 and 4011.

また、上記図4に示すように、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体
膜で形成された信号線駆動回路4323aはFPCによって実装され、綴じ部4308内
に設けられている。信号線駆動回路4323a、走査線駆動回路4322a及び第1の表
示部4301に与えられる各種信号及び電位は、FPC4324から供給される。
Further, as shown in FIG. 4, the signal line drive circuit 4323a formed of the single crystal semiconductor film or the polycrystalline semiconductor film on the separately prepared substrate is mounted by the FPC and provided in the binding portion 4308. .. Various signals and potentials given to the signal line drive circuit 4323a, the scanning line drive circuit 4322a, and the first display unit 4301 are supplied from the FPC 4324.

なお、信号線駆動回路4323aの接続方法は、特に限定されるものではなく、COG方
法、ワイヤボンディング方法、或いはTAB方法などを用いることができる。
The connection method of the signal line drive circuit 4323a is not particularly limited, and a COG method, a wire bonding method, a TAB method, or the like can be used.

また素子基板4331a上に設けられた第1の表示部4301と、走査線駆動回路432
1aは、薄膜トランジスタを複数有しており、図18乃至20では、第1の表示部430
1に含まれる薄膜トランジスタ4010と、走査線駆動回路4321aに含まれる薄膜ト
ランジスタ4011とを例示している。薄膜トランジスタ4010、4011上には絶縁
層4020、4021が設けられている。なお、絶縁膜4023は下地膜として機能する
絶縁膜である。
Further, the first display unit 4301 provided on the element substrate 4331a and the scanning line drive circuit 432
1a has a plurality of thin film transistors, and in FIGS. 18 to 20, the first display unit 430
The thin film transistor 4010 included in 1 and the thin film transistor 4011 included in the scanning line drive circuit 4321a are illustrated. Insulating layers 4020 and 4021 are provided on the thin film transistors 4010 and 4011. The insulating film 4023 is an insulating film that functions as a base film.

薄膜トランジスタ4010、4011は、特に限定されず様々な薄膜トランジスタを適用
することができる。図18乃至20では、薄膜トランジスタ4010、4011として、
ボトムゲート構造の逆スタガ薄膜トランジスタを用いる例を示す。薄膜トランジスタ40
10、4011はチャネルエッチ型を示すが、半導体層上にチャネル保護膜を設けたチャ
ネル保護型の逆スタガ薄膜トランジスタを用いてもよい。
The thin film transistors 4010 and 4011 are not particularly limited, and various thin film transistors can be applied. In FIGS. 18 to 20, the thin film transistors 4010 and 4011 are designated as thin film transistors 4010 and 4011.
An example of using an inverted staggered thin film transistor having a bottom gate structure is shown. Thin film transistor 40
Although 10 and 4011 show a channel etch type, a channel protection type reverse staggered thin film transistor having a channel protection film provided on the semiconductor layer may be used.

第1の表示部4301に設けられた薄膜トランジスタ4010は表示素子と電気的に接続
し、表示パネルを構成する。表示素子は表示を行うことがでれば特に限定されず、様々な
表示素子を用いることができる。
The thin film transistor 4010 provided in the first display unit 4301 is electrically connected to the display element to form a display panel. The display element is not particularly limited as long as it can display, and various display elements can be used.

表示パネルとして電子ペーパーを用いることができる。電子ペーパーにおいては像書き込
み手段として電界、磁界、光、又は熱の利用、表示媒体の変化については形状や位置変化
の利用、物理的変化の利用など様々な組み合わせで多くの方式がある。例えば、ツイスト
ボール方式、電気泳動方式、粉体系方式(トナーディスプレイとも呼ばれる)、液晶方式
などが挙げられる。
Electronic paper can be used as the display panel. In electronic paper, there are many methods in various combinations such as the use of electric field, magnetic field, light, or heat as the image writing means, the use of shape and position changes for changes in the display medium, and the use of physical changes. For example, a twist ball method, an electrophoresis method, a powder method (also called a toner display), a liquid crystal method, and the like can be mentioned.

図18及び図22に第1の表示パネル4311としてアクティブマトリクス型の電子ペー
パーを用いた例を示す。電子ペーパーは、紙と同じ読みやすさ、他の表示パネルに比べ低
消費電力、薄くて軽い形状とすることが可能という利点を有している。
18 and 22 show an example in which an active matrix type electronic paper is used as the first display panel 4311. Electronic paper has the advantages of being as easy to read as paper, having lower power consumption than other display panels, and being able to have a thin and light shape.

図18(A)(B)及び図22は、表示パネルの例としてアクティブマトリクス型の電子
ペーパーを示す。
18 (A) and 22 (B) show an active matrix type electronic paper as an example of a display panel.

図18(A)の電子ペーパーは、ツイストボール表示方式を用いた表示装置の例である。
ツイストボール表示方式とは、白と黒に塗り分けられた球形粒子を表示素子に用いる電極
層間に配置し、電極層間に電位差を生じさせての球形粒子の向きを制御することにより、
表示を行う方法である。
The electronic paper of FIG. 18A is an example of a display device using the twist ball display method.
The twist ball display method is to control the orientation of spherical particles by arranging spherical particles painted in black and white between the electrode layers used for the display element and creating a potential difference between the electrode layers.
This is a method of displaying.

薄膜トランジスタ4010と接続する第1の電極層4030と、封止基板4332aに設
けられた第2の電極層4031との間には黒色領域4615a及び白色領域4615bを
有し、周りに液体で満たされているキャビティ4612を含む球形粒子4613が設けら
れており、球形粒子4613の周囲は樹脂等の充填材4614で充填されている。第2の
電極層4031が共通電極(対向電極)に相当する。第2の電極層4031は、共通電位
線と電気的に接続される。
A black region 4615a and a white region 4615b are provided between the first electrode layer 4030 connected to the thin film transistor 4010 and the second electrode layer 4031 provided on the sealing substrate 4332a, and the periphery is filled with a liquid. Spherical particles 4613 including the cavity 4612 are provided, and the periphery of the spherical particles 4613 is filled with a filler 4614 such as a resin. The second electrode layer 4031 corresponds to a common electrode (counter electrode). The second electrode layer 4031 is electrically connected to the common potential line.

また、ツイストボールの代わりに、電気泳動素子を用いることも可能である。表示素子と
して電気泳動素子を用いる例を図18(B)に示す。透明な液体4712と、第1の粒子
として負に帯電した黒い微粒子4715aと、第2の粒子として正に帯電した白い微粒子
4715bとを封入した直径10μm〜200μm程度のマイクロカプセル4713を用
いる。
It is also possible to use an electrophoretic element instead of the twist ball. An example of using an electrophoresis element as a display element is shown in FIG. 18 (B). A microcapsule 4713 having a diameter of about 10 μm to 200 μm, which encloses a transparent liquid 4712, negatively charged black fine particles 4715a as first particles, and positively charged white fine particles 4715b as second particles, is used.

第1の電極層4030と第2の電極層4031との間に設けられるマイクロカプセル47
13は、第1の電極層4030と第2の電極層4031によって、電場が与えられると、
白い微粒子4715bと、黒い微粒子4715aが逆の方向に移動し、白または黒を表示
することができる。この原理を応用した表示素子が電気泳動表示素子である。電気泳動表
示素子は、反射率が高いため、補助ライトは不要であり、また消費電力が小さく、薄暗い
場所でも表示部を認識することが可能である。また、表示部に電源が供給されない場合で
あっても、一度表示した像を保持することが可能であるため、電波発信源から表示パネル
を遠ざけた場合であっても、表示された像を保存しておくことが可能となる。
Microcapsules 47 provided between the first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031
13 is when an electric field is applied by the first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031.
The white fine particles 4715b and the black fine particles 4715a move in opposite directions, and white or black can be displayed. A display element to which this principle is applied is an electrophoresis display element. Since the electrophoresis display element has high reflectance, an auxiliary light is unnecessary, power consumption is low, and the display unit can be recognized even in a dim place. In addition, even when power is not supplied to the display unit, the image once displayed can be retained, so the displayed image can be saved even when the display panel is moved away from the radio wave transmission source. It becomes possible to keep it.

なお、第1の粒子および第2の粒子は染料を含み、電界がない場合において移動しないも
のである。また、第1の粒子および第2の粒子の色は異なるもの(無色を含む)とする。
The first particle and the second particle contain a dye and do not move in the absence of an electric field. Further, the colors of the first particle and the second particle are different (including colorless).

上記マイクロカプセルを溶媒中に分散させたものが電子インクと呼ばれるものであり、こ
の電子インクはガラス、プラスチック、布、紙などの表面に印刷することができる。また
、カラーフィルタや色素を有する粒子を用いることによってカラー表示も可能である。
The microcapsules dispersed in a solvent are called electronic inks, and the electronic inks can be printed on the surface of glass, plastic, cloth, paper, or the like. In addition, color display is also possible by using a color filter or particles having a dye.

なお、マイクロカプセル中の第1の粒子および第2の粒子は、導電体材料、絶縁体材料、
半導体材料、磁性材料、液晶材料、強誘電性材料、エレクトロルミネセント材料、エレク
トロクロミック材料、磁気泳動材料から選ばれた一種の材料、またはこれらの複合材料を
用いればよい。
The first particles and the second particles in the microcapsules are a conductor material, an insulator material, and the like.
A semiconductor material, a magnetic material, a liquid crystal material, a ferroelectric material, an electroluminescent material, an electrochromic material, a kind of material selected from a magnetic migration material, or a composite material thereof may be used.

また、粉体系方式として電子粉流体(登録商標)を用いることも可能である。表示素子と
して電子粉流体を用いる例を図22に示す。第1の電極層4030、第2の電極層403
1、及びリブ4814に区切られた空間4812に、正に帯電した黒い粉粒体4815a
と負に帯電した白い粉粒体4815bとを充填する。なお空間4812は空気である。
It is also possible to use an electronic powder fluid (registered trademark) as the powder system method. FIG. 22 shows an example in which an electron powder fluid is used as the display element. First electrode layer 4030, second electrode layer 403
In the space 4812 separated by 1 and the rib 4814, a positively charged black powder or granular material 4815a
And the negatively charged white powder or granular material 4815b are filled. The space 4812 is air.

第1の電極層4030と第2の電極層4031によって、電場が与えられると、黒い粉粒
体4815aと、白い粉粒体4815bが逆の方向に移動し、白または黒を表示すること
ができる。粉粒体として赤、黄、青のようなカラー粉体を用いてもよい。
When an electric field is applied by the first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031, the black powder particles 4815a and the white powder particles 4815b move in opposite directions, and white or black can be displayed. .. Color powders such as red, yellow, and blue may be used as the powder or granular material.

また、表示素子としては、エレクトロルミネッセンスを利用する発光素子(EL素子)を
用いてもよい。エレクトロルミネッセンスを利用する発光素子は、発光材料が有機化合物
であるか、無機化合物であるかによって区別され、一般的に、前者は有機EL素子、後者
は無機EL素子と呼ばれている。
Further, as the display element, a light emitting element (EL element) utilizing electroluminescence may be used. A light emitting element that utilizes electroluminescence is distinguished by whether the light emitting material is an organic compound or an inorganic compound, and the former is generally called an organic EL element and the latter is called an inorganic EL element.

有機EL素子は、発光素子に電圧を印加することにより、一対の電極から電子および正孔
がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャ
リア(電子および正孔)が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成
し、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このよう
な発光素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。
In the organic EL element, by applying a voltage to the light emitting element, electrons and holes are injected into the layer containing the luminescent organic compound from the pair of electrodes, respectively, and a current flows. Then, when those carriers (electrons and holes) are recombined, the luminescent organic compound forms an excited state, and when the excited state returns to the ground state, it emits light. From such a mechanism, such a light emitting element is called a current excitation type light emitting element.

無機EL素子は、その素子構成により、分散型無機EL素子と薄膜型無機EL素子とに分
類される。分散型無機EL素子は、発光材料の粒子をバインダ中に分散させた発光層を有
するものであり、発光メカニズムはドナー準位とアクセプター準位を利用するドナー−ア
クセプター再結合型発光である。薄膜型無機EL素子は、発光層を誘電体層で挟み込み、
さらにそれを電極で挟んだ構造であり、発光メカニズムは金属イオンの内殻電子遷移を利
用する局在型発光である。なお、ここでは、発光素子として有機EL素子を用いて説明す
る。
The inorganic EL element is classified into a dispersed inorganic EL element and a thin film type inorganic EL element according to the element configuration. The dispersed inorganic EL element has a light emitting layer in which particles of a light emitting material are dispersed in a binder, and the light emitting mechanism is donor-acceptor recombination type light emission utilizing a donor level and an acceptor level. In the thin film type inorganic EL element, the light emitting layer is sandwiched between the dielectric layers, and the light emitting layer is sandwiched between the dielectric layers.
Furthermore, it has a structure in which it is sandwiched between electrodes, and the light emission mechanism is localized light emission that utilizes the inner-shell electron transition of metal ions. Here, an organic EL element will be used as the light emitting element.

発光素子は発光を取り出すために少なくとも一対の電極の一方が透明であればよい。そし
て、基板上に薄膜トランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り
出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側
の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、どの射出構造の発光素子も適用
することができる。
The light emitting element may have at least one of a pair of electrodes transparent in order to extract light. Then, a thin film transistor and a light emitting element are formed on the substrate, and top surface injection that extracts light emission from the surface opposite to the substrate, bottom surface injection that extracts light emission from the surface on the substrate side, and a surface on the substrate side and the surface opposite to the substrate. There is a light emitting element having a double-sided injection structure that extracts light from the light emitting device, and any light emitting element having an injection structure can be applied.

図19に第1の表示パネル4311として発光表示パネル(ELパネル)を用いた例を示
す。表示素子である発光素子4513は、表示部4301に設けられた薄膜トランジスタ
4010と電気的に接続している。なお発光素子4513の構成は、第1の電極層403
0、電界発光層4511、第2の電極層4031の積層構造であるが、示した構成に限定
されない。発光素子4513から取り出す光の方向などに合わせて、発光素子4513の
構成は適宜変えることができる。
FIG. 19 shows an example in which a light emitting display panel (EL panel) is used as the first display panel 4311. The light emitting element 4513, which is a display element, is electrically connected to the thin film transistor 4010 provided in the display unit 4301. The configuration of the light emitting element 4513 is the first electrode layer 403.
0, The electroluminescent layer 4511 and the second electrode layer 4031 have a laminated structure, but the configuration is not limited to the one shown. The configuration of the light emitting element 4513 can be appropriately changed according to the direction of the light extracted from the light emitting element 4513 and the like.

隔壁4510は、有機樹脂膜、無機絶縁膜または有機ポリシロキサンを用いて形成する。
特に感光性の材料を用い、第1の電極層4030上に開口部を形成し、その開口部の側壁
が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。
The partition wall 4510 is formed by using an organic resin film, an inorganic insulating film, or an organic polysiloxane.
In particular, it is preferable to use a photosensitive material to form an opening on the first electrode layer 4030 so that the side wall of the opening becomes an inclined surface formed with a continuous curvature.

電界発光層4511は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成
されていてもどちらでも良い。
The electroluminescent layer 4511 may be composed of a single layer or may be configured such that a plurality of layers are laminated.

発光素子4513に酸素、水素、水分、二酸化炭素等が侵入しないように、第2の電極層
4031及び隔壁4510上に保護膜を形成してもよい。保護膜としては、窒化珪素膜、
窒化酸化珪素膜、DLC膜等を形成することができる。また、素子基板4331a、封止
基板4332a、及びシール材4005によって封止された空間には充填材4514が設
けられ密封されている。このように外気に曝されないように気密性が高く、脱ガスの少な
い保護フィルム(貼り合わせフィルム、紫外線硬化樹脂フィルム等)やカバー材でパッケ
ージング(封入)することが好ましい。
A protective film may be formed on the second electrode layer 4031 and the partition wall 4510 so that oxygen, hydrogen, water, carbon dioxide, etc. do not enter the light emitting element 4513. As a protective film, a silicon nitride film,
A silicon nitride film, a DLC film, or the like can be formed. Further, a filler 4514 is provided and sealed in the space sealed by the element substrate 4331a, the sealing substrate 4332a, and the sealing material 4005. As described above, it is preferable to package (enclose) with a protective film (bonded film, ultraviolet curable resin film, etc.) or a covering material having high airtightness and little degassing so as not to be exposed to the outside air.

充填材4514としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂また
は熱硬化樹脂を用いることができ、PVC(ポリビニルクロライド)、アクリル、ポリイ
ミド、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)またはEVA(エ
チレンビニルアセテート)を用いることができる。例えば充填材として窒素を用いればよ
い。
As the filler 4514, in addition to an inert gas such as nitrogen or argon, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used, and PVC (polyvinyl chloride), acrylic, polyimide, epoxy resin, silicone resin, PVB (polyvinyl) can be used. Butyral) or EVA (ethylene vinyl acetate) can be used. For example, nitrogen may be used as the filler.

また、必要であれば、発光素子の射出面に偏光板、又は円偏光板(楕円偏光板を含む)、
位相差板(λ/4板、λ/2板)、カラーフィルタなどの光学フィルムを適宜設けてもよ
い。また、偏光板又は円偏光板に反射防止膜を設けてもよい。例えば、表面の凹凸により
反射光を拡散し、映り込みを低減できるアンチグレア処理を施すことができる。
If necessary, a polarizing plate or a circular polarizing plate (including an elliptical polarizing plate) is provided on the ejection surface of the light emitting element.
An optical film such as a retardation plate (λ / 4 plate, λ / 2 plate) or a color filter may be appropriately provided. Further, an antireflection film may be provided on the polarizing plate or the circular polarizing plate. For example, it is possible to apply an anti-glare treatment that can diffuse the reflected light due to the unevenness of the surface and reduce the reflection.

図20に第1の表示パネル4311として液晶表示パネルを用いた例を示す。図20にお
いて、表示素子である液晶素子4013は、第1の電極層4030、第2の電極層403
1、及び液晶層4008を含む。なお、液晶層4008を挟持するように配向膜として機
能する絶縁膜4032、4033が設けられている。第2の電極層4031は封止基板4
332a側に設けられ、第1の電極層4030と第2の電極層4031とは液晶層400
8を介して積層する構成となっている。
FIG. 20 shows an example in which a liquid crystal display panel is used as the first display panel 4311. In FIG. 20, the liquid crystal element 4013, which is a display element, has a first electrode layer 4030 and a second electrode layer 403.
1 and the liquid crystal layer 4008 are included. Insulating films 4032 and 4033 that function as alignment films are provided so as to sandwich the liquid crystal layer 4008. The second electrode layer 4031 is a sealing substrate 4
The first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031 are provided on the 332a side, and the liquid crystal layer 400 is provided.
It is configured to be laminated via 8.

また4035は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、
液晶層4008の膜厚(セルギャップ)を制御するために設けられている。なお球状のス
ペーサを用いていても良い。
Further, 4035 is a columnar spacer obtained by selectively etching the insulating film.
It is provided to control the film thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 4008. A spherical spacer may be used.

また、図20の液晶表示装置では図示しないが、カラーフィルタ(着色層)、ブラックマ
トリクス(遮光層)、偏光部材、位相差部材、反射防止部材などの光学部材(光学基板)
などは適宜設ける。例えば、偏光基板及び位相差基板による円偏光を用いてもよい。また
、光源としてバックライト、サイドライトなどを用いてもよい。バックライトとしてはE
Lパネルを用いると薄型化できるために好ましい。
Further, although not shown in the liquid crystal display device of FIG. 20, an optical member (optical substrate) such as a color filter (colored layer), a black matrix (light-shielding layer), a polarizing member, a retardation member, and an antireflection member.
Etc. will be provided as appropriate. For example, circularly polarized light using a polarizing substrate and a retardation substrate may be used. Further, a backlight, a side light or the like may be used as the light source. E as a backlight
It is preferable to use an L panel because it can be made thinner.

また、配向膜を用いないブルー相を示す液晶を用いてもよい。ブルー相は液晶相の一つで
あり、コレステリック液晶を昇温していくと、コレステリック相から等方相へ転移する直
前に発現する相である。ブルー相は狭い温度範囲でしか発現しないため、温度範囲を改善
するために5重量%以上のカイラル剤を混合させた液晶組成物を用いて液晶層4008に
用いる。ブルー相を示す液晶とカイラル剤とを含む液晶組成物は、応答速度が10μs〜
100μsと短く、光学的等方性であるため配向処理が不要であり、視野角依存性が小さ
い。
Further, a liquid crystal showing a blue phase without using an alignment film may be used. The blue phase is one of the liquid crystal phases, and is a phase that appears immediately before the transition from the cholesteric phase to the isotropic phase when the temperature of the cholesteric liquid crystal is raised. Since the blue phase is expressed only in a narrow temperature range, a liquid crystal composition mixed with 5% by weight or more of a chiral agent is used for the liquid crystal layer 4008 in order to improve the temperature range. A liquid crystal composition containing a liquid crystal exhibiting a blue phase and a chiral agent has a response speed of 10 μs or more.
Since it is as short as 100 μs and is optically isotropic, no orientation treatment is required and the viewing angle dependence is small.

なお図20は透過型液晶表示パネルの例であるが、反射型液晶表示パネルでも半透過型液
晶表示パネルでも適用できる。
Although FIG. 20 shows an example of a transmissive liquid crystal display panel, it can be applied to both a reflective liquid crystal display panel and a semi-transmissive liquid crystal display panel.

なお、図18乃至図20、及び図22において、素子基板4331a、封止基板4332
aとしては、透光性を有するプラスチックなどを用いることができる。プラスチックとし
ては、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)板、
PVF(ポリビニルフルオライド)フィルム、ポリエステルフィルム、ポリエステルフィ
ルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをP
VFフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。
In addition, in FIGS. 18 to 20, and FIG. 22, the element substrate 4331a and the sealing substrate 4332 are shown.
As a, a translucent plastic or the like can be used. As plastic, FRP (Fiberglass-Reinforced Plastics) plate,
PVF (polyvinyl fluoride) film, polyester film, polyester film or acrylic resin film can be used. Also, P the aluminum foil
A sheet having a structure sandwiched between VF films and polyester films can also be used.

絶縁層4020は薄膜トランジスタの保護膜として機能する。 The insulating layer 4020 functions as a protective film for the thin film transistor.

なお、保護膜は、大気中に浮遊する有機物や金属物、水蒸気などの汚染不純物の侵入を防
ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタ法を用いて、酸化珪素膜
、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウ
ム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成す
ればよい。
The protective film is for preventing the invasion of pollutant impurities such as organic substances, metal substances, and water vapor suspended in the atmosphere, and a dense film is preferable. The protective film is a single layer of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon nitride film, a silicon nitride film, an aluminum oxide film, an aluminum nitride film, an aluminum nitride film, or an aluminum nitride film, using a sputtering method. Alternatively, it may be formed by laminating.

また、平坦化絶縁膜として機能する絶縁層4021は、ポリイミド、アクリル、ベンゾシ
クロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる
。また上記有機材料の他に、低誘電率材料(low−k材料)、シロキサン系樹脂、PS
G(リンガラス)、BPSG(リンボロンガラス)等を用いることができる。なお、これ
らの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層を形成してもよい。
Further, as the insulating layer 4021 that functions as a flattening insulating film, an organic material having heat resistance such as polyimide, acrylic, benzocyclobutene, polyamide, and epoxy can be used. In addition to the above organic materials, low dielectric constant materials (low-k materials), siloxane-based resins, and PS
G (phosphorus glass), BPSG (phosphorus glass) and the like can be used. An insulating layer may be formed by laminating a plurality of insulating films formed of these materials.

絶縁層4020、絶縁層4021の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパ
ッタ法、SOG法、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法(インクジェッ
ト法、スクリーン印刷、オフセット印刷等)、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテ
ンコーター、ナイフコーター等を用いることができる。絶縁層を材料液を用いて形成する
場合、ベークする工程で同時に、半導体層のアニール(200℃〜400℃)を行っても
よい。絶縁層の焼成工程と半導体層のアニールを兼ねることで効率よく表示パネルを作製
することが可能となる。
The method for forming the insulating layer 4020 and the insulating layer 4021 is not particularly limited, and depending on the material, a sputtering method, an SOG method, a spin coating, a dip, a spray coating, and a droplet ejection method (inkjet method, screen printing, offset printing). Etc.), doctor knife, roll coater, curtain coater, knife coater, etc. can be used. When the insulating layer is formed by using the material liquid, the semiconductor layer may be annealed (200 ° C. to 400 ° C.) at the same time in the baking step. By combining the firing process of the insulating layer and the annealing of the semiconductor layer, it is possible to efficiently manufacture the display panel.

表示パネルは光源又は表示素子からの光を透過させて表示を行う。よって光が透過する表
示部に設けられる基板、他絶縁膜、導電膜などの薄膜はすべて可視光の波長領域の光に対
して透光性とする。
The display panel transmits light from a light source or a display element to perform display. Therefore, all thin films such as the substrate, other insulating film, and conductive film provided on the display unit through which light is transmitted are made translucent with respect to light in the wavelength region of visible light.

表示素子に電圧を印加する第1の電極層4030及び第2の電極層4031(画素電極層
、共通電極層、対向電極層などともいう)においては、取り出す光の方向、電極層が設け
られる場所、及び電極層のパターン構造によって透光性、反射性を選択すればよい。
In the first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031 (also referred to as a pixel electrode layer, a common electrode layer, a counter electrode layer, etc.) that apply a voltage to the display element, the direction of the light to be taken out and the place where the electrode layer is provided. , And the translucency and the reflectivity may be selected according to the pattern structure of the electrode layer.

第1の電極層4030、第2の電極層4031は、酸化タングステンを含むインジウム酸
化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化
物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物(以下、ITOと示す。
)、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有
する導電性材料を用いることができる。
The first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031 are an indium oxide containing tungsten oxide, an indium zinc oxide containing tungsten oxide, an indium oxide containing titanium oxide, an indium tin oxide containing titanium oxide, and indium. Tin oxide (hereinafter referred to as ITO).
), Indium zinc oxide, indium tin oxide to which silicon oxide is added, and other conductive materials having translucency can be used.

また、第1の電極層4030、第2の電極層4031はタングステン(W)、モリブデン
(Mo)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(N
b)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、チタ
ン(Ti)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)等の金属、
又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いて形成することがで
きる。
Further, the first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031 are tungsten (W), molybdenum (Mo), zirconium (Zr), hafnium (Hf), vanadium (V), niobium (N).
b), Tantalum (Ta), Chromium (Cr), Cobalt (Co), Nickel (Ni), Titanium (Ti), Platinum (Pt), Aluminum (Al), Copper (Cu), Silver (Ag) and other metals ,
Or it can be formed from the alloy thereof or the metal nitride thereof using one or more kinds.

また、第1の電極層4030、第2の電極層4031として、導電性高分子(導電性ポリ
マーともいう)を含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性高分子として
は、いわゆるπ電子共役系導電性高分子が用いることができる。例えば、ポリアニリンま
たはその誘導体、ポリピロールまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体、若
しくはこれらの2種以上の共重合体などがあげられる。
Further, the first electrode layer 4030 and the second electrode layer 4031 can be formed by using a conductive composition containing a conductive polymer (also referred to as a conductive polymer). As the conductive polymer, a so-called π-electron conjugated conductive polymer can be used. For example, polyaniline or a derivative thereof, polypyrrole or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof, or a copolymer of two or more kinds thereof can be mentioned.

また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、駆動回路保護用の保護
回路を設けることが好ましい。保護回路は、非線形素子を用いて構成することが好ましい
Further, since the thin film transistor is easily destroyed by static electricity or the like, it is preferable to provide a protection circuit for protecting the drive circuit. The protection circuit is preferably configured by using a non-linear element.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
This embodiment can be implemented in combination with the configurations described in other embodiments as appropriate.

(実施の形態6)
本実施の形態では、電子書籍を構成する材料や素子構造の例を詳細に説明する。
(Embodiment 6)
In the present embodiment, examples of materials and element structures constituting the electronic book will be described in detail.

信号線駆動回路は綴じ部に設けられるために、特に可撓性を有する必要はない。よって、
信号線駆動回路として、高速動作が可能な半導体基板(半導体ウエハー)を用いた半導体
集積回路チップ(IC)を用いることが好ましい。半導体基板として単結晶半導体基板及
び多結晶半導体基板を用いることができ、シリコンウエハーやゲルマニウムウエハーなど
の半導体ウエハー、ガリウムヒ素やインジウムリンなどの化合物半導体ウエハーを適用す
る。
Since the signal line drive circuit is provided at the binding portion, it does not need to be particularly flexible. Therefore,
As the signal line drive circuit, it is preferable to use a semiconductor integrated circuit chip (IC) using a semiconductor substrate (semiconductor wafer) capable of high-speed operation. A single crystal semiconductor substrate and a polycrystalline semiconductor substrate can be used as the semiconductor substrate, and semiconductor wafers such as silicon wafers and germanium wafers and compound semiconductor wafers such as gallium arsenic and indium phosphorus are applied.

また、信号線駆動回路に、絶縁表面に単結晶半導体層を設けたSOI構造を有する基板(
SOI基板)を用いてもよい。SOI基板は、SIMOX(Separation by
IMplanted Oxygen)法や、Smart−Cut法を用いて形成するこ
とができる。SIMOX法は、単結晶シリコン基板に酸素イオンを注入し、所定の深さに
酸素含有層を形成した後、熱処理を行い、表面から一定の深さで埋込絶縁層を形成し、埋
込絶縁層の上に単結晶シリコン層を形成する方法である。また、Smart−Cut法は
、酸化された単結晶シリコン基板に水素イオン注入を行い、所望の深さに相当する所に水
素含有層を形成し、他の半導体基板(表面に貼り合わせ用の酸化シリコン膜を有する単結
晶シリコン基板など)と貼り合わせる、加熱処理を行うことにより水素含有層にて単結晶
シリコン基板を分断し、半導体基板上に酸化シリコン膜と単結晶シリコン層との積層を形
成する方法である。
Further, a substrate having an SOI structure in which a single crystal semiconductor layer is provided on an insulating surface in a signal line drive circuit (
SOI substrate) may be used. The SOI substrate is SIMOX (Separation by).
It can be formed by using the IMplated Oxygen) method or the Smart-Cut method. In the SIMOX method, oxygen ions are injected into a single crystal silicon substrate to form an oxygen-containing layer at a predetermined depth, and then heat treatment is performed to form an embedded insulating layer at a constant depth from the surface to form an embedded insulating layer. This is a method of forming a single crystal silicon layer on the layer. Further, in the Smart-Cut method, hydrogen ions are injected into an oxidized single crystal silicon substrate to form a hydrogen-containing layer at a position corresponding to a desired depth, and another semiconductor substrate (oxidation for bonding to the surface) is formed. The single crystal silicon substrate is divided by the hydrogen-containing layer by bonding with a single crystal silicon substrate having a silicon film (such as a single crystal silicon substrate) and heat-treating, and a laminate of the silicon oxide film and the single crystal silicon layer is formed on the semiconductor substrate. How to do it.

電子書籍の回路部に設けられる半導体素子としては電界効果トランジスタはもちろん、半
導体層を用いるメモリ(記憶)素子なども適用することができ、多用途に渡って要求され
る機能を満たす半導体集積回路を設けることができる。
As semiconductor elements provided in the circuit section of electronic books, not only field effect transistors but also memory (memory) elements using a semiconductor layer can be applied, and semiconductor integrated circuits that satisfy the functions required for various purposes can be applied. Can be provided.

走査線駆動回路及び表示部は表示パネルの可撓性基板上に設けられればその方法は特に限
定されない。走査線駆動回路及び表示部は可撓性基板に直接形成してもよいし、他の作製
基板上に作製し、その後作製基板から剥離法を用いて素子層のみを可撓性基板へ転置して
設けてもよい。例えば、走査線駆動回路及び表示部を同一工程で作製基板に形成し、走査
線駆動回路及び表示部を表示パネルの可撓性基板に転置して設けることができる。この場
合、走査線駆動回路及び表示部は同工程で形成されるため、同じ構造及び材料のトランジ
スタとすると低コスト化できて好ましい。よって、走査線駆動回路及び表示部を構成する
トランジスタのチャネル層が同じ材料で設けられる。
The method is not particularly limited as long as the scanning line drive circuit and the display unit are provided on the flexible substrate of the display panel. The scanning line drive circuit and the display unit may be formed directly on the flexible substrate, or may be formed on another fabrication substrate, and then only the element layer is transferred from the fabrication substrate to the flexible substrate by a peeling method. May be provided. For example, the scanning line drive circuit and the display unit can be formed on the manufacturing substrate in the same process, and the scanning line drive circuit and the display unit can be transposed and provided on the flexible substrate of the display panel. In this case, since the scanning line drive circuit and the display unit are formed in the same process, it is preferable to use transistors having the same structure and material because the cost can be reduced. Therefore, the channel layer of the transistor constituting the scanning line drive circuit and the display unit is provided with the same material.

また、作製基板から可撓性の支持基板へ転置し、可撓性の支持基板ごと表示パネルの基板
へ接着して設けてもよい。例えば、作製基板に走査線駆動回路のみを複数形成し、可撓性
の支持基板に転置した後、可撓性の支持基板ごと個々の走査線駆動回路に分断して、1つ
の表示パネルに必要なだけ可撓性の支持基板上に設けられた走査線駆動回路を接着して設
けてもよい。この場合、走査線駆動回路と表示部とは別工程で作製されるため、それぞれ
種々の構成及び材料のトランジスタを選択できる。
Further, it may be transferred from the manufactured substrate to the flexible support substrate, and the flexible support substrate may be adhered to the substrate of the display panel. For example, a plurality of scanning line drive circuits are formed on a fabrication substrate, transferred to a flexible support substrate, and then divided into individual scan line drive circuits together with the flexible support substrate, which is necessary for one display panel. A scanning line drive circuit provided on a flexible support substrate may be bonded and provided. In this case, since the scanning line drive circuit and the display unit are manufactured in separate processes, transistors having various configurations and materials can be selected.

また、上記転置法と直接形成法とを組み合わせてもよい。例えば、印刷法などを用いて、
表示部、走査線駆動回路部、FPCなどを電気的に接続する配線を表示パネルの可撓性基
板に直接形成すればよい。
Further, the above-mentioned transfer method and the direct formation method may be combined. For example, using a printing method, etc.
Wiring that electrically connects the display unit, the scanning line drive circuit unit, the FPC, and the like may be formed directly on the flexible substrate of the display panel.

作製基板は、素子層の作製工程に合わせて作製基板を適宜選択すればよい。例えば、作製
基板としては、ガラス基板、石英基板、サファイア基板、セラミック基板、表面に絶縁層
が形成された金属基板などを用いることができる。また、処理温度に耐えうる耐熱性を有
するプラスチック基板を用いてもよい。
As the manufacturing substrate, the manufacturing substrate may be appropriately selected according to the manufacturing process of the element layer. For example, as the fabrication substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a sapphire substrate, a ceramic substrate, a metal substrate having an insulating layer formed on the surface, or the like can be used. Further, a plastic substrate having heat resistance that can withstand the processing temperature may be used.

可撓性基板として、アラミド樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)樹脂、ポリエー
テルサルフォン(PES)樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)樹脂、ポリイミ
ド(PI)樹脂などを用いることができる。また、繊維に有機樹脂が含浸された構造体で
あるプリプレグを用いてもよい。
As the flexible substrate, aramid resin, polyethylene naphthalate (PEN) resin, polyether sulfone (PES) resin, polyphenylene sulfide (PPS) resin, polyimide (PI) resin and the like can be used. Further, a prepreg which is a structure in which fibers are impregnated with an organic resin may be used.

作製基板より素子層を他の基板へ転置する方法は、特に限定されず種々の方法を用いるこ
とができる。例えば作製基板と素子層との間に剥離層を形成すればよい。
The method of transposing the element layer from the manufactured substrate to another substrate is not particularly limited, and various methods can be used. For example, a release layer may be formed between the fabrication substrate and the element layer.

なお、本明細書において素子層とは、素子基板側に設ける半導体素子層はもちろん、対向
基板側で設ける対向電極層なども含む。よって剥離工程は、素子基側及び封止基板側どち
らにも用いることができる。また、工程の簡便性を考慮し、作製基板より可撓性基板へ転
置した後、作製工程において該可撓性基板をガラス基板等に仮接着して作製工程を進める
こともできる。
In the present specification, the element layer includes not only a semiconductor element layer provided on the element substrate side but also a counter electrode layer provided on the opposite substrate side. Therefore, the peeling step can be used on both the element base side and the sealing substrate side. Further, in consideration of the simplicity of the process, after the production substrate is transferred to the flexible substrate, the flexible substrate may be temporarily adhered to a glass substrate or the like in the production process to proceed with the production process.

剥離層は、スパッタリング法やプラズマCVD法、塗布法、印刷法等により、タングステ
ン(W)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)、
ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、ルテニウ
ム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(Os)、イリジウム
(Ir)、珪素(Si)から選択された元素、又は元素を主成分とする合金材料、又は前
記元素を主成分とする化合物材料からなる層を、単層又は積層して形成する。珪素を含む
層の結晶構造は、非晶質、微結晶、多結晶のいずれの場合でもよい。なお、ここでは、塗
布法は、スピンコーティング法、液滴吐出法、ディスペンス法を含む。
The release layer can be made of tungsten (W), molybdenum (Mo), titanium (Ti), tantalum (Ta), niobium (Nb), etc. by a sputtering method, plasma CVD method, coating method, printing method, etc.
From nickel (Ni), cobalt (Co), zirconium (Zr), zinc (Zn), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), palladium (Pd), osmium (Os), iridium (Ir), silicon (Si) A layer composed of the selected element, an alloy material containing the element as a main component, or a compound material containing the element as a main component is formed as a single layer or laminated. The crystal structure of the layer containing silicon may be amorphous, microcrystal, or polycrystalline. Here, the coating method includes a spin coating method, a droplet ejection method, and a dispensing method.

剥離層が単層構造の場合、好ましくは、タングステン層、モリブデン層、又はタングステ
ンとモリブデンの混合物を含む層を形成する。又は、タングステンの酸化物若しくは酸化
窒化物を含む層、モリブデンの酸化物若しくは酸化窒化物を含む層、又はタングステンと
モリブデンの混合物の酸化物若しくは酸化窒化物を含む層を形成する。なお、タングステ
ンとモリブデンの混合物とは、例えば、タングステンとモリブデンの合金に相当する。
When the release layer has a single layer structure, a tungsten layer, a molybdenum layer, or a layer containing a mixture of tungsten and molybdenum is preferably formed. Alternatively, a layer containing an oxide or nitride of tungsten, a layer containing an oxide or nitride of molybdenum, or a layer containing an oxide or nitride of a mixture of tungsten and molybdenum is formed. The mixture of tungsten and molybdenum corresponds to, for example, an alloy of tungsten and molybdenum.

剥離層が積層構造の場合、好ましくは、1層目としてタングステン層、モリブデン層、又
はタングステンとモリブデンの混合物を含む層を形成し、2層目として、タングステン、
モリブデン又はタングステンとモリブデンの混合物の酸化物、窒化物、酸化窒化物又は窒
化酸化物を形成する。
When the release layer has a laminated structure, preferably, a tungsten layer, a molybdenum layer, or a layer containing a mixture of tungsten and molybdenum is formed as the first layer, and tungsten, as the second layer,
Molybdenum or a mixture of tungsten and molybdenum forms oxides, nitrides, oxide nitrides or oxides.

剥離層として、タングステンを含む層とタングステンの酸化物を含む層の積層構造を形成
する場合、タングステンを含む層を形成し、その上層に酸化物で形成される絶縁層を形成
することで、タングステン層と絶縁層との界面に、タングステンの酸化物を含む層が形成
されることを活用してもよい。さらには、タングステンを含む層の表面を、熱酸化処理、
酸素プラズマ処理、オゾン水等の酸化力の強い溶液での処理等を行ってタングステンの酸
化物を含む層を形成してもよい。またプラズマ処理や加熱処理は、酸素、窒素、一酸化二
窒素単体、あるいは前記ガスとその他のガスとの混合気体雰囲気下で行ってもよい。これ
は、タングステンの窒化物、酸化窒化物及び窒化酸化物を含む層を形成する場合も同様で
あり、タングステンを含む層を形成後、その上層に窒化珪素層、酸化窒化珪素層、窒化酸
化珪素層を形成するとよい。
When forming a laminated structure of a layer containing tungsten and a layer containing an oxide of tungsten as a release layer, a layer containing tungsten is formed, and an insulating layer formed of an oxide is formed on the upper layer to form tungsten. It may be utilized that a layer containing a tungsten oxide is formed at the interface between the layer and the insulating layer. Furthermore, the surface of the layer containing tungsten is thermally oxidized.
A layer containing an oxide of tungsten may be formed by performing an oxygen plasma treatment, a treatment with a solution having a strong oxidizing power such as ozone water, or the like. Further, the plasma treatment and the heat treatment may be carried out in the atmosphere of oxygen, nitrogen, nitrous oxide alone, or a mixed gas atmosphere of the gas and other gases. This also applies to the case of forming a layer containing a tungsten nitride, an oxide nitride and a nitride oxide. After forming a layer containing tungsten, a silicon nitride layer, a silicon oxide layer and a silicon nitride oxide are formed on the layer. It is good to form a layer.

なお、他の基板への転置工程は、基板と素子層の間に剥離層を形成し、剥離層と素子層と
の間に金属酸化膜を設け、当該金属酸化膜を結晶化により脆弱化して、当該素子層を剥離
する方法、耐熱性の高い基板と素子層の間に水素を含む非晶質珪素膜を設け、レーザ光の
照射またはエッチングにより当該非晶質珪素膜を除去することで、当該素子層を剥離する
方法、基板と素子層の間に剥離層を形成し、剥離層と素子層との間に金属酸化膜を設け、
当該金属酸化膜を結晶化により脆弱化し、剥離層の一部を溶液やNF、BrF、Cl
等のフッ化ハロゲンガスによりエッチングで除去した後、脆弱化された金属酸化膜に
おいて剥離する方法、素子層が形成された基板を機械的に削除又は溶液やNF、BrF
、ClF等のフッ化ハロゲンガスによるエッチングで除去する方法等を適宜用いるこ
とができる。また、剥離層として窒素、酸素や水素等を含む膜(例えば、水素を含む非晶
質珪素膜、水素含有合金膜、酸素含有合金膜など)を用い、剥離層にレーザ光を照射して
剥離層内に含有する窒素、酸素や水素をガスとして放出させ素子層と基板との剥離を促進
する方法を用いてもよい。
In the transfer step to another substrate, a release layer is formed between the substrate and the element layer, a metal oxide film is provided between the release layer and the element layer, and the metal oxide film is fragile by crystallization. By providing a method of peeling off the element layer, providing an amorphous silicon film containing hydrogen between the highly heat-resistant substrate and the element layer, and removing the amorphous silicon film by irradiation or etching with laser light. A method of peeling the element layer, a release layer is formed between the substrate and the element layer, and a metal oxide film is provided between the release layer and the element layer.
The metal oxide film is fragile by crystallization, and a part of the release layer is made into a solution, NF 3 , BrF 3 , Cl.
After removal of the etching by a halogen fluoride gas F 3, etc., mechanically delete, the substrate on which the element layer is formed to peel the metal oxide film which is weakened or solution or NF 3, BrF
3. A method of removing by etching with a halogen gas such as ClF 3 or the like can be appropriately used. Further, a film containing nitrogen, oxygen, hydrogen, etc. (for example, an amorphous silicon film containing hydrogen, a hydrogen-containing alloy film, an oxygen-containing alloy film, etc.) is used as the release layer, and the release layer is irradiated with laser light for release. A method of releasing nitrogen, oxygen or hydrogen contained in the layer as a gas to promote the separation between the element layer and the substrate may be used.

上記剥離方法を組み合わすことでより容易に転置工程を行うことができる。つまり、レー
ザ光の照射、ガスや溶液などによる剥離層へのエッチング、鋭いナイフやメスなどによる
機械的な削除を行い、剥離層と素子層とを剥離しやすい状態にしてから、物理的な力(機
械等による)によって剥離を行うこともできる。
By combining the above peeling methods, the transposition step can be performed more easily. In other words, after irradiating the peeling layer with laser light, etching the peeling layer with a gas or solution, and mechanically removing it with a sharp knife or scalpel to make the peeling layer and the element layer easy to peel off, physical force is applied. It can also be peeled off (by a machine or the like).

また、剥離層と素子層との界面に液体を浸透させて基板から素子層を剥離してもよい。液
体としては水などを用いることができる。
Further, the element layer may be separated from the substrate by infiltrating the liquid into the interface between the release layer and the element layer. Water or the like can be used as the liquid.

本明細書で開示する電子書籍が有するトランジスタは特に限定されない。よってトランジ
スタの構造や用いる半導体材料は種々用いることができる。
The transistor included in the electronic book disclosed in the present specification is not particularly limited. Therefore, various transistor structures and semiconductor materials can be used.

薄膜トランジスタの構造の例を、図21を用いて説明する。図21は、実施の形態5にお
ける薄膜トランジスタ4010に用いることのできる薄膜トランジスタの例である。
An example of the structure of the thin film transistor will be described with reference to FIG. FIG. 21 is an example of a thin film transistor that can be used for the thin film transistor 4010 according to the fifth embodiment.

図21(A)乃至(D)において、素子基板4331a上に絶縁膜4023が形成され、
絶縁膜4023上に薄膜トランジスタ4010a、4010b、4010c、4010d
が設けられている。薄膜トランジスタ4010a、4010b、4010c、4010d
上に絶縁層4020、絶縁層4021が形成され、薄膜トランジスタ4010a、401
0b、4010c、4010dと電気的に接続する第1の電極層4030が設けられてい
る。
In FIGS. 21 (A) to 21 (D), the insulating film 4023 is formed on the element substrate 4331a.
Thin film transistors 4010a, 4010b, 4010c, 4010d on the insulating film 4023
Is provided. Thin film transistors 4010a, 4010b, 4010c, 4010d
An insulating layer 4020 and an insulating layer 4021 are formed on the thin film transistors 4010a and 401.
A first electrode layer 4030 that electrically connects to 0b, 4010c, and 4010d is provided.

薄膜トランジスタ4010aは、図18乃至図20における薄膜トランジスタ4010に
おいて、ソース電極層及びドレイン電極層として機能する配線層405a、405bと半
導体層403とがn層を介さずに接する構成である。
The thin film transistor 4010a has a configuration in which the wiring layers 405a and 405b functioning as the source electrode layer and the drain electrode layer and the semiconductor layer 403 are in contact with each other without the n + layer in the thin film transistor 4010 in FIGS. 18 to 20.

薄膜トランジスタ4010aは逆スタガ型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する
基板である素子基板4331a、絶縁膜4023上に、ゲート電極層401、ゲート絶縁
層402、半導体層403、ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層40
5a、405bを含む。n層404a、404bは、半導体層403より低抵抗な半導
体層である。
The thin film transistor 4010a is an inverted staggered thin film transistor, and is used as a gate electrode layer 401, a gate insulating layer 402, a semiconductor layer 403, a source electrode layer or a drain electrode layer on an element substrate 4331a and an insulating film 4023, which are substrates having an insulating surface. Functional wiring layer 40
Includes 5a and 405b. The n + layers 404a and 404b are semiconductor layers having lower resistance than the semiconductor layer 403.

薄膜トランジスタ4010bはボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有
する基板である素子基板4331a、絶縁膜4023上に、ゲート電極層401、ゲート
絶縁層402、ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層405a、405
b、ソース領域又はドレイン領域として機能するn層404a、404b、及び半導体
層403を含む。また、薄膜トランジスタ4010bを覆い、半導体層403に接する絶
縁層4020が設けられている。
The thin film transistor 4010b is a bottom gate type thin film transistor, and is a wiring layer that functions as a gate electrode layer 401, a gate insulating layer 402, a source electrode layer, or a drain electrode layer on the element substrate 4331a and the insulating film 4023, which are substrates having an insulating surface. 405a, 405
b, including n + layers 404a, 404b, which function as a source or drain region, and a semiconductor layer 403. Further, an insulating layer 4020 that covers the thin film transistor 4010b and is in contact with the semiconductor layer 403 is provided.

なお、n層404a、404bを、ゲート絶縁層402と配線層405a、405bの
間に設ける構造としてもよい。また、n層404a、404bをゲート絶縁層及び配線
層の間と、配線層と半導体層の間と両方に設ける構造としてもよい。
The n + layers 404a and 404b may be provided between the gate insulating layer 402 and the wiring layers 405a and 405b. Further, the n + layers 404a and 404b may be provided both between the gate insulating layer and the wiring layer and between the wiring layer and the semiconductor layer.

薄膜トランジスタ4010bは、薄膜トランジスタ4010bを含む領域全てにおいてゲ
ート絶縁層402が存在し、ゲート絶縁層402と絶縁表面を有する基板である素子基板
4331aの間にゲート電極層401が設けられている。ゲート絶縁層402上には配線
層405a、405b、及びn層404a、404bが設けられている。そして、ゲー
ト絶縁層402、配線層405a、405b、及びn層404a、404b上に半導体
層403が設けられている。また、図示しないが、ゲート絶縁層402上には配線層40
5a、405bに加えて配線層を有し、該配線層は半導体層403の外周部より外側に延
在している。
In the thin film transistor 4010b, the gate insulating layer 402 is present in the entire region including the thin film transistor 4010b, and the gate electrode layer 401 is provided between the gate insulating layer 402 and the element substrate 4331a which is a substrate having an insulating surface. Wiring layers 405a and 405b and n + layers 404a and 404b are provided on the gate insulating layer 402. A semiconductor layer 403 is provided on the gate insulating layer 402, the wiring layers 405a and 405b, and the n + layers 404a and 404b. Although not shown, the wiring layer 40 is placed on the gate insulating layer 402.
It has a wiring layer in addition to 5a and 405b, and the wiring layer extends outward from the outer peripheral portion of the semiconductor layer 403.

薄膜トランジスタ4010cは、薄膜トランジスタ4010bにおいて、ソース電極層及
びドレイン電極層と半導体層とが、n層を介さずに接する構成である。
The thin film transistor 4010c has a configuration in which the source electrode layer, the drain electrode layer, and the semiconductor layer are in contact with each other without the n + layer in the thin film transistor 4010b.

薄膜トランジスタ4010cは、薄膜トランジスタ4010cを含む領域全てにおいてゲ
ート絶縁層402が存在し、ゲート絶縁層402と絶縁表面を有する基板である素子基板
4331aの間にゲート電極層401が設けられている。ゲート絶縁層402上には配線
層405a、405bが設けられている。そして、ゲート絶縁層402、配線層405a
、405b上に半導体層403が設けられている。また、図示しないが、ゲート絶縁層4
02上には配線層405a、405bに加えて配線層を有し、該配線層は半導体層403
の外周部より外側に延在している。
In the thin film transistor 4010c, the gate insulating layer 402 is present in the entire region including the thin film transistor 4010c, and the gate electrode layer 401 is provided between the gate insulating layer 402 and the element substrate 4331a which is a substrate having an insulating surface. Wiring layers 405a and 405b are provided on the gate insulating layer 402. Then, the gate insulating layer 402 and the wiring layer 405a
, 405b is provided with a semiconductor layer 403. Although not shown, the gate insulating layer 4
On 02, a wiring layer is provided in addition to the wiring layers 405a and 405b, and the wiring layer is a semiconductor layer 403.
It extends to the outside of the outer circumference of the.

薄膜トランジスタ4010dは、トップゲート型の薄膜トランジスタである。薄膜トラン
ジスタ4010dはプラナー型の薄膜トランジスタの例である。絶縁表面を有する基板で
ある素子基板4331a、絶縁膜4023上に、ソース領域又はドレイン領域として機能
するn層404a、404bを含む半導体層403、半導体層403上にゲート絶縁層
402が形成され、ゲート絶縁層402上にゲート電極層401が形成されている。また
層404a、404bと接してソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線
層405a、405bが形成されている。n層404a、404bは、半導体層403
より低抵抗な半導体領域である。
The thin film transistor 4010d is a top gate type thin film transistor. The thin film transistor 4010d is an example of a planar type thin film transistor. A gate insulating layer 402 is formed on the semiconductor layer 403 and the semiconductor layer 403 including the n + layers 404a and 404b that function as a source region or a drain region on the element substrate 4331a and the insulating film 4023, which are substrates having an insulating surface. A gate electrode layer 401 is formed on the gate insulating layer 402. Further, wiring layers 405a and 405b that are in contact with the n + layers 404a and 404b and function as a source electrode layer or a drain electrode layer are formed. n + layers 404a and 404b are semiconductor layers 403.
It is a semiconductor region with lower resistance.

薄膜トランジスタとしてトップゲート型の順スタガ薄膜トランジスタを用いてもよい。 As the thin film transistor, a top gate type forward staggered thin film transistor may be used.

本実施の形態では、シングルゲート構造を説明したが、ダブルゲート構造などのマルチゲ
ート構造でもよい。この場合、半導体層の上方及び下方にゲート電極層を設ける構造でも
良く、半導体層の片側(上方又は下方)にのみ複数ゲート電極層を設ける構造でもよい。
In the present embodiment, the single gate structure has been described, but a multi-gate structure such as a double gate structure may be used. In this case, a structure in which gate electrode layers are provided above and below the semiconductor layer may be used, or a structure in which a plurality of gate electrode layers are provided only on one side (upper or lower) of the semiconductor layer may be used.

半導体層に用いられる半導体材料は特に限定されない。薄膜トランジスタの半導体層に用
いることのできる材料の例を説明する。
The semiconductor material used for the semiconductor layer is not particularly limited. An example of a material that can be used for the semiconductor layer of a thin film transistor will be described.

半導体素子が有する半導体層を形成する材料は、シランやゲルマンに代表される半導体材
料ガスを用いる気相成長法やスパッタリング法で作製される非晶質(アモルファス、以下
「AS」ともいう。)半導体、該非晶質半導体を光エネルギーや熱エネルギーを利用して
結晶化させた多結晶半導体、或いは微結晶(セミアモルファス若しくはマイクロクリスタ
ルとも呼ばれる。以下「SAS」ともいう。)半導体などを用いることができる。半導体
層はスパッタ法、LPCVD法、またはプラズマCVD法等により成膜することができる
The material that forms the semiconductor layer of the semiconductor element is an amorphous (amorphous, hereinafter also referred to as "AS") semiconductor produced by a vapor phase growth method or a sputtering method using a semiconductor material gas typified by silane or Germanan. , Polycrystalline semiconductors obtained by crystallizing the amorphous semiconductors using light energy or thermal energy, microcrystals (also referred to as semi-amorphous or microcrystals; hereinafter also referred to as “SAS”) semiconductors, and the like can be used. .. The semiconductor layer can be formed by a sputtering method, an LPCVD method, a plasma CVD method, or the like.

微結晶半導体膜は、ギブスの自由エネルギーを考慮すれば非晶質と単結晶の中間的な準安
定状態に属するものである。すなわち、自由エネルギー的に安定な第3の状態を有する半
導体であって、短距離秩序を持ち格子歪みを有する。柱状または針状結晶が基板表面に対
して法線方向に成長している。微結晶半導体の代表例である微結晶シリコンは、そのラマ
ンスペクトルが単結晶シリコンを示す520cm−1よりも低波数側に、シフトしている
。即ち、単結晶シリコンを示す520cm−1とアモルファスシリコンを示す480cm
−1の間に微結晶シリコンのラマンスペクトルのピークがある。また、未結合手(ダング
リングボンド)を終端するため水素またはハロゲンを少なくとも1原子%またはそれ以上
含ませている。さらに、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの希ガス元素を含
ませて格子歪みをさらに助長させることで、安定性が増し良好な微結晶半導体膜が得られ
る。
The microcrystalline semiconductor film belongs to a metastable state intermediate between amorphous and single crystal in consideration of the free energy of Gibbs. That is, it is a semiconductor having a third state that is stable in free energy, has short-range order, and has lattice distortion. Columnar or acicular crystals grow in the normal direction with respect to the substrate surface. Microcrystalline silicon, which is a typical example of microcrystalline semiconductor, has its Raman spectrum shifted to a lower wavenumber side than 520 cm -1, which indicates single crystal silicon. That is, 520 cm -1 indicating single crystal silicon and 480 cm indicating amorphous silicon.
There is a peak in the Raman spectrum of microcrystalline silicon between -1. It also contains at least 1 atomic% or more of hydrogen or halogen to terminate unbonded hands (dangling bonds). Further, by adding a rare gas element such as helium, argon, krypton, or neon to further promote the lattice strain, the stability is increased and a good polycrystalline semiconductor film can be obtained.

この微結晶半導体膜は、周波数が数十MHz〜数百MHzの高周波プラズマCVD法、ま
たは周波数が1GHz以上のマイクロ波プラズマCVD装置により形成することができる
。代表的には、SiH、Si、SiHCl、SiHCl、SiCl、S
iFなどの水素化珪素を水素で希釈して形成することができる。また、水素化珪素及び
水素に加え、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の
希ガス元素で希釈して微結晶半導体膜を形成することができる。これらのときの水素化珪
素に対して水素の流量比を5倍以上200倍以下、好ましくは50倍以上150倍以下、
更に好ましくは100倍とする。
This microcrystalline semiconductor film can be formed by a high-frequency plasma CVD method having a frequency of several tens of MHz to several hundreds of MHz, or a microwave plasma CVD apparatus having a frequency of 1 GHz or more. Typically, SiH 4 , Si 2 H 6 , SiH 2 Cl 2 , SiHCl 3 , SiCl 4 , S.
The silicon hydride such as iF 4 can be formed by dilution with hydrogen. Further, in addition to silicon hydride and hydrogen, it can be diluted with one or more rare gas elements selected from helium, argon, krypton, and neon to form a microcrystalline semiconductor film. At these times, the flow rate ratio of hydrogen to silicon hydride is 5 times or more and 200 times or less, preferably 50 times or more and 150 times or less.
More preferably, it is 100 times.

アモルファス半導体としては、代表的には水素化アモルファスシリコン、結晶性半導体と
しては代表的にはポリシリコンなどがあげられる。ポリシリコン(多結晶シリコン)には
、800℃以上のプロセス温度を経て形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂
高温ポリシリコンや、600℃以下のプロセス温度で形成されるポリシリコンを主材料と
して用いた所謂低温ポリシリコン、また結晶化を促進する元素などを用いて、非晶質シリ
コンを結晶化させたポリシリコンなどを含んでいる。もちろん、前述したように、微結晶
半導体又は半導体層の一部に結晶相を含む半導体を用いることもできる。
Typical examples of amorphous semiconductors include hydrogenated amorphous silicon, and typical examples of crystalline semiconductors include polysilicon. The main material of polysilicon (polycrystalline silicon) is so-called high-temperature polysilicon, which uses polysilicon formed at a process temperature of 800 ° C or higher as the main material, or polysilicon formed at a process temperature of 600 ° C or lower. It contains so-called low-temperature polysilicon used as, and polysilicon obtained by crystallizing amorphous silicon using an element that promotes crystallization. Of course, as described above, a microcrystalline semiconductor or a semiconductor containing a crystal phase in a part of the semiconductor layer can also be used.

また、半導体の材料としてはシリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)などの単体のほか
GaAs、InP、SiC、ZnSe、GaN、SiGeなどのような化合物半導体も用
いることができる。
Further, as the material of the semiconductor, not only a simple substance such as silicon (Si) and germanium (Ge) but also a compound semiconductor such as GaAs, InP, SiC, ZnSe, GaN and SiGe can be used.

半導体層に、結晶性半導体膜を用いる場合、その結晶性半導体膜の作製方法は、種々の方
法(レーザ結晶化法、熱結晶化法、またはニッケルなどの結晶化を助長する元素を用いた
熱結晶化法等)を用いれば良い。また、SASである微結晶半導体をレーザ照射して結晶
化し、結晶性を高めることもできる。結晶化を助長する元素を導入しない場合は、非晶質
珪素膜にレーザ光を照射する前に、窒素雰囲気下500℃で1時間加熱することによって
非晶質珪素膜の含有水素濃度を1×1020atoms/cm以下にまで放出させる。
これは水素を多く含んだ非晶質珪素膜にレーザ光を照射すると非晶質珪素膜が破壊されて
しまうからである。
When a crystalline semiconductor film is used for the semiconductor layer, the method for producing the crystalline semiconductor film is various methods (laser crystallization method, thermal crystallization method, or heat using an element that promotes crystallization such as nickel. A crystallization method or the like) may be used. Further, it is also possible to improve the crystallinity by irradiating a microcrystalline semiconductor which is SAS with a laser to crystallize it. When the element that promotes crystallization is not introduced, the hydrogen concentration of the amorphous silicon film is reduced by 1 × by heating the amorphous silicon film at 500 ° C. for 1 hour before irradiating the amorphous silicon film with laser light. Release to 10 20 amorphous / cm 3 or less.
This is because when the amorphous silicon film containing a large amount of hydrogen is irradiated with a laser beam, the amorphous silicon film is destroyed.

非晶質半導体膜への金属元素の導入の仕方としては、当該金属元素を非晶質半導体膜の表
面又はその内部に存在させ得る手法であれば特に限定はなく、例えばスパッタ法、CVD
法、プラズマ処理法(プラズマCVD法も含む)、吸着法、金属塩の溶液を塗布する方法
を使用することができる。このうち溶液を用いる方法は簡便であり、金属元素の濃度調整
が容易であるという点で有用である。また、このとき非晶質半導体膜の表面の濡れ性を改
善し、非晶質半導体膜の表面全体に水溶液を行き渡らせるため、酸素雰囲気中でのUV光
の照射、熱酸化法、ヒドロキシラジカルを含むオゾン水又は過酸化水素による処理等によ
り、酸化膜を成膜することが望ましい。
The method of introducing the metal element into the amorphous semiconductor film is not particularly limited as long as the metal element can be present on the surface of the amorphous semiconductor film or inside the amorphous semiconductor film, and is not particularly limited, for example, a sputtering method or CVD.
A method, a plasma treatment method (including a plasma CVD method), an adsorption method, and a method of applying a solution of a metal salt can be used. Of these, the method using a solution is convenient in that the concentration of the metal element can be easily adjusted. At this time, in order to improve the wettability of the surface of the amorphous semiconductor film and spread the aqueous solution over the entire surface of the amorphous semiconductor film, UV light irradiation in an oxygen atmosphere, thermal oxidation method, and hydroxyl radical are applied. It is desirable to form an oxide film by treatment with ozone water containing ozone or hydrogen peroxide.

また、非晶質半導体膜を結晶化し、結晶性半導体膜を形成する結晶化工程で、非晶質半導
体膜に結晶化を促進する元素(触媒元素、金属元素とも示す)を添加し、熱処理(550
℃〜750℃で3分〜24時間)により結晶化を行ってもよい。結晶化を助長(促進)す
る元素としては、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、ルテニウム(Ru
)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)
、白金(Pt)、銅(Cu)及び金(Au)から選ばれた一種又は複数種類を用いること
ができる。
Further, in the crystallization step of crystallizing an amorphous semiconductor film to form a crystalline semiconductor film, an element (also referred to as a catalyst element or a metal element) that promotes crystallization is added to the amorphous semiconductor film and heat treatment (also referred to as a catalyst element or a metal element) is performed. 550
Crystallization may be carried out at ° C. to 750 ° C. for 3 minutes to 24 hours). Elements that promote (promote) crystallization include iron (Fe), nickel (Ni), cobalt (Co), and ruthenium (Ru).
), Rhodium (Rh), Palladium (Pd), Osmium (Os), Iridium (Ir)
, Platinum (Pt), copper (Cu) and gold (Au).

結晶化を助長する元素を結晶性半導体膜から除去、又は軽減するため、結晶性半導体膜に
接して、不純物元素を含む半導体膜を形成し、ゲッタリングシンクとして機能させる。不
純物元素としては、n型を付与する不純物元素、p型を付与する不純物元素や希ガス元素
などを用いることができ、例えばリン(P)、窒素(N)、ヒ素(As)、アンチモン(
Sb)、ビスマス(Bi)、ボロン(B)、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴ
ン(Ar)、Kr(クリプトン)、Xe(キセノン)から選ばれた一種または複数種を用
いることができる。結晶化を促進する元素を含む結晶性半導体膜に、希ガス元素を含む半
導体膜を形成し、熱処理(550℃〜750℃で3分〜24時間)を行う。結晶性半導体
膜中に含まれる結晶化を促進する元素は、希ガス元素を含む半導体膜中に移動し、結晶性
半導体膜中の結晶化を促進する元素は除去、又は軽減される。その後、ゲッタリングシン
クとなった希ガス元素を含む半導体膜を除去する。
In order to remove or reduce the elements that promote crystallization from the crystalline semiconductor film, a semiconductor film containing an impurity element is formed in contact with the crystalline semiconductor film to function as a gettering sink. As the impurity element, an impurity element that imparts n-type, an impurity element that imparts p-type, a rare gas element, or the like can be used, and for example, phosphorus (P), nitrogen (N), arsenic (As), antimony (
One or more species selected from Sb), bismuth (Bi), boron (B), helium (He), neon (Ne), argon (Ar), Kr (krypton), and Xe (xenon) can be used. .. A semiconductor film containing a rare gas element is formed on a crystalline semiconductor film containing an element that promotes crystallization, and heat treatment (3 minutes to 24 hours at 550 ° C to 750 ° C) is performed. The element that promotes crystallization contained in the crystalline semiconductor film moves into the semiconductor film containing the noble gas element, and the element that promotes crystallization in the crystalline semiconductor film is removed or reduced. Then, the semiconductor film containing the noble gas element that has become the gettering sink is removed.

非晶質半導体膜の結晶化は、熱処理とレーザ光照射による結晶化を組み合わせてもよく、
熱処理やレーザ光照射を単独で、複数回行っても良い。
Crystallization of the amorphous semiconductor film may be a combination of heat treatment and crystallization by laser irradiation.
Heat treatment or laser light irradiation may be performed independently or multiple times.

また、結晶性半導体膜を、直接基板にプラズマ法により形成しても良い。また、プラズマ
法を用いて、結晶性半導体膜を選択的に基板に形成してもよい。
Further, the crystalline semiconductor film may be formed directly on the substrate by the plasma method. Further, the crystalline semiconductor film may be selectively formed on the substrate by using the plasma method.

また半導体層に、酸化物半導体を用いてもよい。例えば、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ
(SnO)なども用いることができる。ZnOを半導体層に用いる場合、ゲート絶縁層
をY、Al、TiO、それらの積層などを用い、ゲート電極層、ソース電
極層、ドレイン電極層としては、ITO、Au、Tiなどを用いることができる。また、
ZnOにInやGaなどを添加することもできる。
Further, an oxide semiconductor may be used for the semiconductor layer. For example, zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ) and the like can also be used. When ZnO is used as a semiconductor layer, the gate insulating layer is Y 2 O 3 , Al 2 O 3 , TiO 2 , or a laminate thereof, and the gate electrode layer, the source electrode layer, and the drain electrode layer are ITO, Au, etc. Ti or the like can be used. Also,
In and Ga can also be added to ZnO.

酸化物半導体としてInMO(ZnO)(m>0)で表記される薄膜を用いることが
できる。なお、Mは、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、マンガン(M
n)及びコバルト(Co)から選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えば
Mとして、Gaの場合があることの他、GaとNi又はGaとFeなど、Ga以外の上記
金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Mとして含まれる金
属元素の他に、不純物元素としてFe、Niその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸
化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてIn−Ga−Zn−O系
非単結晶膜を用いることができる。
As the oxide semiconductor, a thin film represented by InMO 3 (ZnO) m (m> 0) can be used. In addition, M is gallium (Ga), iron (Fe), nickel (Ni), manganese (M).
n) and one metal element selected from cobalt (Co) or a plurality of metal elements are shown. For example, M may be Ga, or may contain the above metal elements other than Ga, such as Ga and Ni or Ga and Fe. In addition to the metal element contained as M, some of the oxide semiconductors contain Fe, Ni or other transition metal elements, or oxides of the transition metal as impurity elements. For example, an In-Ga-Zn-O-based non-single crystal film can be used as the oxide semiconductor layer.

酸化物半導体層(InMO(ZnO)(m>0)膜)としてIn−Ga−Zn−O系
非単結晶膜のかわりに、Mを他の金属元素とするInMO(ZnO)(m>0)膜を
用いてもよい。また、酸化物半導体層に適用する酸化物半導体として上記の他にも、In
−Sn−Zn−O系、In−Al−Zn−O系、Sn−Ga−Zn−O系、Al−Ga−
Zn−O系、Sn−Al−Zn−O系、In−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Al−Z
n−O系、In−O系、Sn−O系、Zn−O系の酸化物半導体を適用することができる
Instead of the oxide semiconductor layer (InMO 3 (ZnO) m ( m> 0) film) as the In-Ga-ZnO-based non-single-crystal film, InMO 3 for the M and another metal element (ZnO) m ( m> 0) A film may be used. In addition to the above, In addition to the above, In
-Sn-Zn-O system, In-Al-Zn-O system, Sn-Ga-Zn-O system, Al-Ga-
Zn-O system, Sn-Al-Zn-O system, In-Zn-O system, Sn-Zn-O system, Al-Z
An n—O system, an In—O system, a Sn—O system, and a Zn—O system oxide semiconductor can be applied.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
This embodiment can be implemented in combination with the configurations described in other embodiments as appropriate.

100 基板
101 基板
102 表示素子
110 基板
111 基板
112 基板
113 基板
114 表示素子
115 表示素子
120 基板
121 基板
122 基板
123 基板
124 表示素子
125 表示素子
126 バックライト
200 表示制御部
201 CPU
203 記憶部
205 給電部
207 電源供給回路
209 内部メモリ
211 データ入力部
213 外部メモリ
215 映像信号発生回路
216 アンテナ
219 操作部
401 ゲート電極層
402 ゲート絶縁層
403 半導体層
404a n
405a 配線層
407 絶縁膜
421 薄膜トランジスタ
701 第1の表示パネル
702 第2の表示パネル
703 第3の表示パネル
704 第4の表示パネル
705 表示制御部
706A 走査線駆動回路
706B 走査線駆動回路
706C 走査線駆動回路
706D 走査線駆動回路
707A 第1の表示部
707B 第2の表示部
707C 第3の表示部
707D 第4の表示部
708 画素
709A 光センサ
709B 光センサ
709C 光センサ
709D 光センサ
710 画素回路
711 光強度比較回路
712 CPU
713 内部メモリ
714 映像信号発生回路
714A 信号線駆動回路
714B 信号線駆動回路
714C 信号線駆動回路
714D 信号線駆動回路
715 電源供給回路
715A 電源供給回路
715B 電源供給回路
715C 電源供給回路
715D 電源供給回路
716 信号送受信部
717 給電部
718 操作部
719 アンテナ部
920 配線
921 応力集中領域
922a 切り込み部
922b 切り込み部
923 封止基板
924 素子基板
925 補強板
4005 シール材
4008 液晶層
4010 薄膜トランジスタ
4011 薄膜トランジスタ
4013 液晶素子
4015 接続端子電極
4016 端子電極
4019 異方性導電膜
4020 絶縁層
4021 絶縁層
4023 絶縁膜
4030 電極層
4031 電極層
4032 絶縁膜
4301 第1の表示部
4302 第3の表示部
4304 操作部
4307 第2の表示部
4308 綴じ部
4309 表示ボタン
4310 第4の表示部
4311 第1の表示パネル
4312 第2の表示パネル
4313 第3の表示パネル
4321 走査線駆動回路
4322 走査線駆動回路
4323 信号線駆動回路
4324 FPC
4325 プリント基板
4326 応力集中領域
4329 FPC
4352 画素TFT
4507 表示部
4510 隔壁
4511 電界発光層
4513 発光素子
4514 充填材
4612 キャビティ
4613 球形粒子
4614 充填材
4712 液体
4713 マイクロカプセル
4812 空間
4814 リブ
7002 矢印
4010a 薄膜トランジスタ
4010b 薄膜トランジスタ
4010c 薄膜トランジスタ
4010d 薄膜トランジスタ
4321a 走査線駆動回路
4321b 走査線駆動回路
4322a 走査線駆動回路
4322b 走査線駆動回路
4323a 信号線駆動回路
4323b 信号線駆動回路
4324a FPC
4324b FPC
4327a プリント基板
4327b プリント基板
4331a 素子基板
4331b 素子基板
4332a 封止基板
4332b 封止基板
4350a 手
4350b 手
4615a 黒色領域
4615b 白色領域
4715a 微粒子
4715b 微粒子
4815a 粉粒体
4815b 粉粒体
100 Board 101 Board 102 Display element 110 Board 111 Board 112 Board 113 Board 114 Display element 115 Display element 120 Board 121 Board 122 Board 123 Board 124 Display element 125 Display element 126 Backlight 200 Display control unit 201 CPU
203 Storage unit 205 Power supply unit 207 Power supply circuit 209 Internal memory 211 Data input unit 213 External memory 215 Video signal generation circuit 216 Antenna 219 Operation unit 401 Gate electrode layer 402 Gate insulation layer 403 Semiconductor layer 404an + layer 405a Wiring layer 407 Insulation Film 421 Thin film 701 First display panel 702 Second display panel 703 Third display panel 704 Fourth display panel 705 Display control unit 706A Scan line drive circuit 706B Scan line drive circuit 706C Scan line drive circuit 706D Scan line drive Circuit 707A 1st display 707B 2nd display 707C 3rd display 707D 4th display 708 pixel 709A optical sensor 709B optical sensor 709C optical sensor 709D optical sensor 710 pixel circuit 711 optical intensity comparison circuit 712 CPU
713 Internal memory 714 Video signal generation circuit 714A Signal line drive circuit 714B Signal line drive circuit 714C Signal line drive circuit 714D Signal line drive circuit 715 Power supply circuit 715A Power supply circuit 715B Power supply circuit 715C Power supply circuit 715D Power supply circuit 716 Signal Transmission / reception part 717 Power supply part 718 Operation part 719 Antenna part 920 Wiring 921 Stress concentration area 922a Cut part 922b Cut part 923 Sealing substrate 924 Element substrate 925 Reinforcing plate 4005 Sealing material 4008 Liquid crystal layer 4010 Thin film 4011 Thin film 4013 Liquid crystal element 4015 Connection terminal electrode 4016 Terminal electrode 4019 Anisotropic conductive film 4020 Insulation layer 4021 Insulation layer 4023 Insulation film 4030 Electrode layer 4031 Electrode layer 4032 Insulation film 4301 First display unit 4302 Third display unit 4304 Operation unit 4307 Second display unit 4308 Binding Unit 4309 Display button 4310 Fourth display unit 4311 First display panel 4312 Second display panel 4313 Third display panel 4321 Scan line drive circuit 4322 Scan line drive circuit 4323 Signal line drive circuit 4324 FPC
4325 Printed circuit board 4326 Stress concentration area 4329 FPC
4352 pixel TFT
4507 Display 4510 Partition 4511 Electroluminescent layer 4513 Light emitting element 4514 Filling material 4612 Cavity 4613 Spherical particle 4614 Filling material 4712 Liquid 4713 Microcapsule 4812 Space 4814 Rib 7002 Arrow 4010a Thin film transistor 4010b Thin film transistor 4010c Thin film transistor 4010d Thin film transistor 4321b Scanning line drive circuit 4321b Drive circuit 4322a Scanning line drive circuit 4322b Scanning line drive circuit 4323a Signal line drive circuit 4323b Signal line drive circuit 4324a FPC
4324b FPC
4327a Printed circuit board 4327b Printed circuit board 4331a Element substrate 4331b Element substrate 4332a Encapsulation substrate 4332b Encapsulation substrate 4350a Hand 4350b Hand 4615a Black region 4615b White region 4715a Fine particles 4715b Fine particles 4815a Powder granules 4815b

Claims (3)

第1の樹脂層及び第2の樹脂層と、
前記第1の樹脂層上に配置され、かつ、前記第1の樹脂層と前記第2の樹脂層の間に配置された表示部と、
前記第1の樹脂層上に配置された信号線駆動回路と、
前記第1の樹脂層の前記第2の樹脂層側とは反対側の面において、前記第1の樹脂層に貼り付けられた第1の板及び第2の板と、を有する表示装置であって、
前記第1の板と前記第2の板とは、離して配置され、
前記第1の樹脂層は、前記信号線駆動回路と重なる第1の領域と、前記第1の板と重なり、かつ、前記表示部と重なる第2の領域と、前記第2の板と重なり、かつ、前記表示部と重なる第3の領域と、を有し、
前記第1の樹脂層は、前記第1の領域と前記第2の領域との間の領域において、折れ曲がる機能を有し、
前記第1の樹脂層は、前記第2の領域と前記第3の領域との間の領域において、折れ曲がる機能を有する表示装置。
The first resin layer, the second resin layer, and
A display unit arranged on the first resin layer and arranged between the first resin layer and the second resin layer.
The signal line drive circuit arranged on the first resin layer and
A display device having a first plate and a second plate attached to the first resin layer on a surface of the first resin layer opposite to the second resin layer side. hand,
The first plate and the second plate are arranged apart from each other.
The first resin layer overlaps the first region that overlaps with the signal line drive circuit, the second region that overlaps with the first plate, and overlaps with the display unit, and the second plate. It also has a third area that overlaps with the display unit.
The first resin layer has a function of bending in a region between the first region and the second region.
The first resin layer is a display device having a function of bending in a region between the second region and the third region.
第1の樹脂層及び第2の樹脂層と、
前記第1の樹脂層上に配置され、かつ、前記第1の樹脂層と前記第2の樹脂層の間に配置された表示部及び走査線駆動回路と、
前記第1の樹脂層上に配置された信号線駆動回路と、
前記第1の樹脂層の前記第2の樹脂層側とは反対側の面において、前記第1の樹脂層に貼り付けられた第1の板及び第2の板と、を有する表示装置であって、
前記第1の板と前記第2の板とは、離して配置され、
前記第1の樹脂層は、前記信号線駆動回路と重なる第1の領域と、前記第1の板と重なり、かつ、前記表示部と重なる第2の領域と、前記第2の板と重なり、かつ、前記表示部と重なる第3の領域と、を有し、
前記第1の樹脂層は、前記第1の領域と前記第2の領域との間の領域において、折れ曲がる機能を有し、
前記第1の樹脂層は、前記第2の領域と前記第3の領域との間の領域において、折れ曲がる機能を有し、
前記走査線駆動回路は、前記第1の領域と前記第2の領域との間の領域とは重ならない表示装置。
The first resin layer, the second resin layer, and
A display unit and a scanning line drive circuit arranged on the first resin layer and between the first resin layer and the second resin layer.
The signal line drive circuit arranged on the first resin layer and
A display device having a first plate and a second plate attached to the first resin layer on a surface of the first resin layer opposite to the second resin layer side. hand,
The first plate and the second plate are arranged apart from each other.
The first resin layer overlaps the first region that overlaps with the signal line drive circuit, the second region that overlaps with the first plate, and overlaps with the display unit, and the second plate. It also has a third area that overlaps with the display unit.
The first resin layer has a function of bending in a region between the first region and the second region.
The first resin layer has a function of bending in a region between the second region and the third region.
The scanning line drive circuit is a display device that does not overlap the region between the first region and the second region.
第1の樹脂層及び第2の樹脂層と、
前記第1の樹脂層上に配置され、かつ、前記第1の樹脂層と前記第2の樹脂層の間に配置された表示部と、
前記第1の樹脂層上に配置された信号線駆動回路と、
前記第1の樹脂層の前記第2の樹脂層側とは反対側の面において、前記第1の樹脂層に貼り付けられた第1の板及び第2の板と、を有する表示装置であって、
前記第1の板と前記第2の板とは、離して配置され、
前記第1の樹脂層は、前記信号線駆動回路と重なる第1の領域と、前記第1の板と重なり、かつ、前記表示部と重なる第2の領域と、前記第2の板と重なり、かつ、前記表示部と重なる第3の領域と、を有し、
前記第1の樹脂層は、前記第1の領域と前記第2の領域との間の領域において、折れ曲がる機能を有し、
前記第1の樹脂層は、前記第2の領域と前記第3の領域との間の領域において、折れ曲がる機能を有し、
前記第1の樹脂層が前記第1の領域と前記第2の領域との間の領域において折れ曲がっていない状態において、前記第2の樹脂層は前記信号線駆動回路と重なりを有さない表示装置。
The first resin layer, the second resin layer, and
A display unit arranged on the first resin layer and arranged between the first resin layer and the second resin layer.
The signal line drive circuit arranged on the first resin layer and
A display device having a first plate and a second plate attached to the first resin layer on a surface of the first resin layer opposite to the second resin layer side. hand,
The first plate and the second plate are arranged apart from each other.
The first resin layer overlaps the first region that overlaps with the signal line drive circuit, the second region that overlaps with the first plate, and overlaps with the display unit, and the second plate. It also has a third area that overlaps with the display unit.
The first resin layer has a function of bending in a region between the first region and the second region.
The first resin layer has a function of bending in a region between the second region and the third region.
In a state where the first resin layer is not bent in the region between the first region and the second region, the second resin layer is a display device that does not overlap with the signal line drive circuit. ..
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