JP6876455B2 - 観察方法および試料作製方法 - Google Patents

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Description

本発明は、観察方法および試料作製方法に関する。
SEM連続断面観察法は、TEM連続切片観察法に代わる三次元再構成法であり、細胞や組織の構造を正確に把握することができる方法として注目されている(例えば特許文献1参照)。
現在、SEM連続断面観察法として、Array Tomography法、ATUM(Automatic Tape−Collecting Ultra−Microtome)法、SBF−SEM(Serial Block Face−Scanning Electron Microscope)法、FIB/SEM Tomography(Focused Ion beam Scanning Electron Microscope Tomography)法などが知られている。
Array Tomography法は、電子顕微鏡用の超薄切片作製機で作製された試料をシリコン基板やガラスなどの平らな面に貼り付け、これを走査電子顕微鏡で観察し、得られたSEM像から三次元再構成を行う手法である。Array Tomography法では、試料(切片)が残るため、再度、観察を行うことが可能である。
ATUM法は、テープ上に自動で連続切片を回収する装置(ATUM)を用いて連続切片を取得し、これを走査電子顕微鏡で観察し、得られたSEM像から三次元再構成を行う手法である。ATUM法では、切片の作製が自動化されたことで、高精度な連続像を取得することができる。また、ATUM法では、Array Tomography法と同様に、試料(切片)が残るため、再度、観察を行うことが可能である。
SBF−SEM法は、SEMチャンバー内に高精度なミクロトームを導入し、試料表面をミクロトームで連続的に切削し、その表面を走査電子顕微鏡で観察し、得られたSEM像から三次元再構成を行う手法である。SBF−SEM法では、ミクロトームで切削された試料ブロックの表面を観察するため、歪みの少ない高精度な三次元再構成が可能である。
FIB/SEM Tomography法は、真空チャンバー内において集束イオンビームによる試料表面の切削と、走査電子顕微鏡による観察と、を繰り返し行い、得られたSEM像から三次元再構成を行う手法である。試料表面の切削は数nmずつ行うことが可能であり、FIB/SEM Tomography法では、高い空間分解能が得られる。また、集束イオンビームを用いて試料表面の切削を行うため、任意の部位の三次元再構成が可能である。
特開平11−337464号公報
ここで、ミクロトームにより作製された連続切片(試料から連続して切り出された複数の切片)を基板に貼り付ける際には、ガラスナイフで切り出された切片をボート(水受け
)に張られた水面上から回収しなければならない。そのため、切片を切り出された順序に整列させることは極めて困難である。
図29は、シリコン基板に貼り付けられた連続切片の光学顕微鏡像である。図29には、複数の切片が連続して繋がっている状態のものや、不連続な状態の切片(単独で存在する切片)が見られる。切片が連続して繋がっている場合には切り出された順序の特定は容易であるが、不連続な切片については切り出された順序の特定は困難である。
切片の回収時に切片が切り出された順序が特定できない場合には、切片のSEM像から切片が切り出された順序を特定しなければならないが、この作業は極めて煩雑である。
Array Tomography法のように、超薄切片作製機(例えばミクロトーム)を用いて試料から複数の切片(連続切片)を切り出して三次元再構成を行う場合、切片が切り出された順序を特定できなければ、撮影された多数のSEM像の試料深さ方向の位置関係を特定できず、三次元再構成を行うことができない。
また、上記のSBF−SEM法やFIB/SEM Tomography法のように、試料断面の加工と当該試料断面の観察とを繰り返して三次元再構成を行う場合、断面が加工された順序、すなわち、撮影された複数の試料断面のSEM像の深さ方向の位置関係を特定できなければ、同様に、三次元再構成を行うことができない。
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、試料から複数の切片を切り出して観察を行う観察方法であって、容易に、複数の観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができる観察方法を提供することにある。
また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、試料断面を加工と当該試料断面の観察を繰り返す観察方法であって、容易に、複数の観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができる観察方法を提供することにある。
また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、試料から複数の切片を切り出す試料作製方法であって、容易に、切片が切り出された順序を特定することができる試料作製方法を提供することにある。
(1)本発明に係る観察方法は、
試料に、当該試料の深さ方向に大きさおよび形状の少なくとも一方が変化するマーカーを形成する工程と、
前記試料から複数の切片を切り出す工程と、
複数の前記切片の観察を行い、複数の前記切片の観察画像を取得する工程と、
を含み、
前記切片を切り出す工程では、前記切片の厚さ方向が前記深さ方向となるように、前記切片が形成され、
前記マーカーを形成する工程では、前記試料に圧子を押しつけて圧痕を形成することで、前記試料に前記深さ方向に大きさが変化する孔を形成する
このような観察方法では、各観察画像中のマーカーから、切片が切り出された順序、すなわち、各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができる。したがって、このような観察方法では、容易に、各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができる。また、このような観察方法では、各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定するためのマーカー(圧痕)を容易に形成することができる。
(2)本発明に係る観察方法において、
前記マーカーから、前記切片が切り出された順序を特定する工程を含んでいてもよい。
このような観察方法では、容易に、各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができる。
(3)本発明に係る観察方法において、
前記マーカーから、前記切片の厚さを算出する工程を含んでいてもよい。
このような観察方法では、より精度よく三次元再構成を行うことができる。
(4)本発明に係る観察方法において、
複数の前記切片の観察画像から、三次元再構成を行ってもよい。
このような観察方法では、容易に各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができるため、容易に三次元再構成を行うことができる。
)本発明に係る観察方法において、
前記圧子の先端の形状は、多角錘または円錐であってもよい。
このような観察方法では、圧痕から容易に各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定することができる。
)本発明に係る観察方法において、
前記マーカーを形成する工程では、前記試料に複数の前記マーカーを形成し、
前記切片を切り出す工程では、複数の前記マーカーを含む前記切片を切り出してもよい。
このような観察方法では、複数のマーカーを、観察視野を特定するための目印および観察画像のアライメント調整のための目印として用いることができる。
)本発明に係る観察方法において、
前記マーカーを用いて、前記観察画像のアライメント調整を行ってもよい。
このような観察方法では、マーカーを用いて観察画像のアライメント調整を行うことができる。
)本発明に係る試料作製方法は、
試料に、当該試料の深さ方向に大きさおよび形状の少なくとも一方が変化するマーカー
を形成する工程と、
前記試料から複数の切片を切り出す工程と、
を含み、
前記切片を切り出す工程では、前記切片の厚さ方向が前記深さ方向となるように、前記切片が形成され、
前記マーカーを形成する工程では、前記試料に圧子を押しつけて圧痕を形成することで、前記試料に前記深さ方向に大きさが変化する孔を形成する
このような試料作製方法では、切片の観察画像中のマーカーから、切片が切り出された順序を特定することができる。したがって、このような試料作製方法では、容易に、切片が切り出された順序を特定することができる。また、このような試料作製方法では、各観察画像の試料深さ方向の位置関係を特定するためのマーカー(圧痕)を容易に形成することができる。
本実施形態に係る試料作製方法の一例を示すフローチャート。 圧子の先端を模式的に示す図。 試料に圧子を押し込むことで形成された圧痕を模式的に示す図。 試料から切片を切り出している様子を模式的に示す図。 n番目に切り出された切片を模式的に示す平面図。 n+1番目に切り出された切片を模式的に示す平面図。 本実施形態に係る観察方法の一例を示すフローチャート。 走査電子顕微鏡での切片の観察において、圧痕を用いて観察視野の角度を補正する様子を説明するための図。 複数の観察画像を切片が切り出された順序に並べた様子を示す図 n番目に切り出された切片の画像を模式的に示す図。 n+1番目に切り出された切片の画像を模式的に示す図。 圧子先端の走査電子顕微鏡像。 実施例に係る試料の光学顕微鏡像。 実施例に係る試料の光学顕微鏡像。 実施例に係る試料の光学顕微鏡像。 実施例に係る試料の光学顕微鏡像。 シリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像。 シリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像。 シリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像。 シリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像。 シリコン基板に載せられた16〜18枚目の超薄切片の走査電子顕微鏡像。 1枚目のシリコン基板に載せられた連続超薄切片の走査電子顕微鏡像。 2枚目のシリコン基板に載せられた連続超薄切片の走査電子顕微鏡像。 三次元再構成を行った結果を示す画像。 集束イオンビーム装置で形成された孔を模式的に示す断面図。 第3変形例に係る観察方法を説明するための図。 マーカーが深さ方向に形状が変化している様子を示す模式図 マーカーが深さ方向に形状が変化している様子を示す模式図 シリコン基板に貼り付けられた連続切片の光学顕微鏡像。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1. 試料作製方法
まず、本実施形態に係る試料作製方法について、図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る試料作製方法では、試料を電子顕微鏡用の超薄切片作製機(ミクロトーム等)で切り出して複数の切片(連続切片)を作製する。
本実施形態に係る試料作製方法が適用可能な試料としては、細胞や組織などの生体材料、高分子、液晶、生体膜、生体分子などのソフトマテリアル、ABS樹脂などの樹脂材料などが挙げられる。なお、本実施形態に係る試料作製方法が適用可能な試料は特に限定されない。
図1は、本実施形態に係る試料作製方法の一例を示すフローチャートである。
まず、試料を樹脂包埋する(ステップS10)。
樹脂包埋に用いられる包埋剤は、例えば、エポキシ樹脂である。なお、包埋剤は特に限定されず、試料に応じて様々は包埋剤を用いることができる。
なお、樹脂包埋された試料をミクロトームで切削しやすいように、所定の形状にトリミングしてもよい。
次に、樹脂包埋された試料に圧痕(マーカーの一例)を形成する(ステップS12)。
図2は、圧子2の先端を模式的に示す図である。図3は、試料Sに圧子2を押し込むことで形成された圧痕4を模式的に示す図(平面図および断面図)である。
圧痕4は、圧子2を試料Sに押し込むことで形成される。圧痕4は、圧子2を試料Sに押し込むことで形成される窪み(孔)である。圧痕4は、1つ形成されてもよいし、複数形成されてもよい。圧痕4を観察視野を特定するための目印や観察画像のアライメント調整のための目印とする場合には、圧痕4の数を増やすことで、観察視野の特定および観察画像のアライメント調整をより正確に行うことができる。
圧痕4は、例えば、硬さ試験機などを用いて形成される。圧痕4を形成する際には、圧痕形成時の位置や荷重を制御して、圧痕形成の再現性を図ることが望ましい。圧子2は、試料Sに対して十分に固い材料で形成される。
圧子2は、図2に示すように、四角錐の形状を有している。圧子2は、先端部に向かうに従ってその大きさ(面積)が小さくなる形状を有している。そのため、試料Sの深さ方向Dに大きさ(面積)が変化する圧痕4を形成することができる。より具体的には、図2に示す圧子2を用いることで、試料Sの表面から深さ方向Dに向かうに従って、大きさ(面積)が小さくなる四角錐状の圧痕4を形成することができる。
例えば、圧子2として、頭頂角度Pが136°のビッカース圧子を用いた場合、圧痕4の一辺の長さ(ABまたはAC、図示の例ではAB=AC)から、圧痕4の深さdを求めることができる。
なお、ここでは、圧子2がビッカース圧子である例を説明したが、圧子2はビッカース圧子に限定されず、先端部が多角錘や円錐など様々な形状の圧子を用いることができる。圧子2の形状および大きさが既知であれば、上述したビッカース圧子と同様に、圧痕4の形状および大きさから圧痕4の深さdを求めることができる。
次に、試料Sを染色する(ステップS14)。
染色は、四酸化オスミウム(OsO)や酢酸ウラニルなどの重金属を用いて行われる。試料Sを染色することで、走査電子顕微鏡で観察する際の帯電を防止することができる。また、試料Sを染色することで、試料Sを固くすることができ、切片6を切り出しやすくすることができる。なお、染色に用いる染色剤は特に限定されず、試料Sに応じて様々な染色剤を用いることができる。
次に、試料Sから複数の切片を切り出す(連続切片作製)(ステップS16)。
図4は、試料Sから切片6を切り出している様子を模式的に示す図である。
切片6の切り出しは、例えば、ミクロトームを用いて行われる。試料Sから切片6を連続して切り出すことにより、複数の切片6(連続切片)が得られる。本工程では、図4に示すように、各切片6の厚さ方向が試料Sの深さ方向Dとなるように、切片6が形成される。切片6は、圧痕4が含まれるように試料Sから切り出される。圧痕4は深さ方向Dに大きさが変化するため、各切片6の厚さ方向が試料Sの深さ方向Dとなるように切片6が形成されることにより、各切片6に含まれる圧痕4の大きさが変化する。図示の例では、圧痕4は深さ方向Dに向かうに従って大きさが小さくなるため(深くなるほど大きさが小さくなるため)、後から切り出される切片6ほど、切片6に含まれる圧痕4の大きさが小さくなる。
図5は、n番目に切り出された切片6を模式的に示す平面図(切片6の厚さ方向から見た図)である。図6は、n+1番目に切り出された切片6を模式的に示す平面図である。
図5および図6に示すように、n+1番目に切り出された切片6の圧痕4の一辺の長さLn+1は、n番目に切り出された切片6の圧痕4の一辺の長さLnよりも小さくなる(Ln+1<Ln)。そのため、各切片6の圧痕4の一辺の長さから、各切片6の切り出された順序を特定することができる。なお、各切片6の圧痕4の面積から各切片6が切り出された順序を特定してもよいし、各切片6の圧痕4の対角線の長さから各切片6が切り出された順序を特定してもよい。
また、例えば、圧子2が上記のビッカース圧子である場合、n番目に切り出された切片6の圧痕4の一辺の長さLnと、n+1番目に切り出された切片6の圧痕4の一辺の長さ
Ln+1から、n番目に切り出された切片6の厚さを算出することができる。
なお、圧子2の形状および大きさが既知であれば、ビッカース圧子の場合と同様に、n番目の切片6の圧痕4の大きさと、n+1番目の切片6の圧痕4の大きさと、から、n番目に切り出された切片6の厚さを算出することができる。圧痕4の大きさは、圧痕4の一辺の長さや、圧痕4の面積、圧痕4の対角線の長さなどである。
作製された切片6は、例えば、シリコン基板やガラスなどの上に置かれる。
以上の工程により、試料Sの深さ方向Dの連続切片(複数の切片6)を作製することができる。
なお、上記では、試料Sを染色する工程(ステップS14)を試料Sから切片6を切り出す工程(ステップS16)の前に行う場合について説明したが、試料Sから切片6を切り出す工程の後に試料S(切片6)を染色する工程を行ってもよい。
2. 観察方法
次に、本実施形態に係る観察方法について説明する。本実施形態に係る観察方法は、本実施形態に係る試料作製方法を含む。本実施形態に係る観察方法では、上述した試料作製方法で形成された連続切片の観察を行い、得られた複数の観察画像から三次元再構成を行う。
図7は、本実施形態に係る観察方法の一例を示すフローチャートである。
まず、試料Sの深さ方向Dの連続切片を作製する(ステップS20)。本工程は、上述した本実施形態に係る試料作製方法で行われる。
次に、各切片6の観察を行い、連続切片の観察画像(複数の切片6の観察画像)を取得する(ステップS22)。
各切片6の観察は、走査電子顕微鏡を用いて行われる。走査電子顕微鏡で各切片6の観察を行うことで、各切片6の観察画像、すなわち、各切片6のSEM像を得ることができる。
走査電子顕微鏡で切片6を観察する際には、圧痕4を目印として観察視野を特定することができる。図8は、走査電子顕微鏡での切片6の観察において、圧痕4を用いて観察視野の角度を補正する様子を説明するための図である。
図8に示すように、試料Sに圧痕4を複数形成することにより、観察視野の角度を補正することができる。図8に示す例では、2つの圧痕4を結ぶ仮想直線(図8に示す一点鎖線)が、SEM像のX軸方向と平行になるように(例えばSEM像のフレームが長方形である場合、その一辺と平行になるように)、観察視野の角度を補正して撮影を行う。これにより、後述する三次元再構成の際に、各観察画像のアライメント調整(回転の補正)を容易化できる。
さらに、圧痕4を目印として、試料Sの撮影領域を特定することができる。圧痕4を目印として撮影領域を特定することにより、各切片6の観察画像の視野を揃えることができる。
このように、圧痕4を目印として観察視野を特定する場合、圧痕4の数を多くすること
で、より正確に観察視野を特定することができる。この結果、後述する三次元再構成の際に、各観察画像のアライメント調整(位置の調整)を容易化できる。
次に、各切片6の観察画像から、複数の切片6が切り出された順序、すなわち複数の観察画像の深さ方向Dの位置関係を特定する(ステップS24)。
図9は、複数の観察画像を切片6が切り出された順序に並べた様子を示す図である。なお、図9において、画像I1は1番目に切り出された切片6の観察画像である。また、画像I2は2番目に切り出された切片6の観察画像である。また、画像Inはn番目に切り出された切片6の観察画像である。画像In+1はn+1番目に切り出された切片6の観察画像である。また、図9のZ方向は、試料Sの深さ方向Dに対応する。
図10は、n番目に切り出された切片6の画像Inを模式的に示す図であり、図11は、n+1番目に切り出された切片6の画像In+1を模式的に示す図である。
上述した切片6を切り出す工程では、ミクロトームを用いて試料Sから切片6を切り出す。この工程では、ガラスナイフで切り出された複数の切片6はボート(水受け)に張られた水面上から回収される。そのため、回収時にこれらの切片6が切り出された順序を特定することは困難である。
本実施形態では、上述したように、圧痕4の大きさが試料Sの深さ方向Dに変化するため(具体的には深さが深いほど圧痕4の大きさが小さくなるため)、各画像I1,I2,・・・,In,In+1,・・・の圧痕4の大きさ(例えば一辺の長さ)から切片6が切り出された順序を特定することができる。
具体的には、画像In中の圧痕4の一辺の長さLnは、画像In+1中の圧痕4の一辺の長さLn+1よりも大きい。したがって、図9に示すように、各観察画像を切片6が切り出された順序を特定することができる。この結果、複数の観察画像をZ方向に並べることができる。
次に、各切片6の厚さを算出して、各観察画像間の距離aを求める(ステップS26)。
上述したように、圧子2の形状および大きさが既知であれば、画像In中の圧痕4の大きさおよび画像In+1中の圧痕4の大きさから、n番目に切り出された切片6の厚さを算出することができる。すなわち、n番目に切り出された切片6の画像Inとn+1番目に切り出された切片6の画像In+1との間のZ方向の距離a(試料Sの深さ方向Dの距離)を算出することができる。
本実施形態では、三次元再構成の際に、本工程で算出された各観察画像間の距離aを用いることができるため、例えば、各観察画像間の距離aをミクロトームで切片を切り出す際の試料の送りから特定する場合と比べて、試料Sの深さ方向D(Z方向)の正確な情報を取得することができる。したがって、より精度よく三次元再構成を行うことができる。
次に、各切片6の観察画像のアライメント調整を行う(ステップS28)。
図10および図11に示すように、各観察画像中の圧痕4からアライメント調整用の点を作製し、各観察画像のアライメント調整用の点をリンクさせることで、観察画像間の位置合わせ(アライメント調整)が可能である。以下では、図10および図11に示す画像Inと画像In+1との間のアライメント調整を行う場合について説明する。
図10および図11に示す例では、アライメント調整用の点を、圧痕4の対角線の交点としている。図10では、2つの圧痕4の対角線の交点の座標をそれぞれ(X1,Y1)、(X2,X2)とし、図11では、2つの圧痕4の対角線の交点の座標をそれぞれ(X1n+1,Y1n+1)、(X2n+1,X2n+1)としている。なお、座標(X1,Y1)を付した圧痕4と座標(X1n+1,Y1n+1)を付した圧痕4は同じ圧痕であり、座標(X2,Y2)を付した圧痕4と座標(X2n+1,Y2n+1)を付した圧痕4は同じ圧痕である。
アライメント調整は、画像Inの座標(X1,Y1)と画像In+1の座標(X1n+1,Y1n+1)とをリンクさせ、画像Inの座標(X2,X2)と画像In+1の座標(X2n+1,X2n+1)とをリンクさせることで行われる。このように、観察画像中の対応する点をリンクさせることで、観察画像間のアライメント調整(位置合わせ)を行うことができる。このとき、画像上に圧痕4が多いほど、アライメントの精度を向上できる。
なお、上記では、切片6の切り出し順序を特定する工程(ステップS24)の後に、切片6の厚さを算出する工程(ステップS26)を行い、その後、各観察画像のアライメント調整を行う工程(ステップS28)を行う場合について説明したが、各観察画像のアライメント調整を行う工程(ステップS28)の後に、切片6の切り出し順序を特定する工程(ステップS24)、および切片6の厚さを算出する工程(ステップS26)を行ってもよい。
次に、アライメント調整が行われた複数の観察画像から、三次元再構成を行う(ステップS30)。
三次元再構成の手法は特に限定されず、公知の手法で三次元再構成を行うことができる。上述したように、三次元再構成の際に、各切片6の厚さを算出して得られた各観察画像間の距離aを用いることで、より精度よく三次元再構成を行うことができる。
なお、上記では、各切片6の厚さを算出して、各観察画像間の距離aを求める工程(ステップS26)を行ったが、この工程(ステップS26)を行わずに、各観察画像間の距離aをミクロトームで切片を切り出す際の試料の送りから特定してもよい。
本実施形態に係る観察方法は、例えば、以下の特徴を有する。
本実施形態に係る観察方法では、試料Sに深さ方向Dに大きさが変化する圧痕4(マーカー)を形成する工程と、試料Sから複数の切片6を切り出す工程と、複数の切片6の観察を行い複数の切片6の観察画像を取得する工程とを含み、切片6を切り出す工程では、切片6の厚さ方向が深さ方向Dとなるように切片6が形成される。そのため、各切片6に含まれる圧痕4の大きさは、試料Sの深さ方向Dに応じて、すなわち、複数の切片6が切り出された順序で変化する。したがって、本実施形態に係る観察方法では、各切片6の圧痕4から複数の切片6が切り出された順序、すなわち、各観察画像の試料Sの深さ方向Dの位置関係を特定することができる。よって、本実施形態に係る観察方法では、容易に、各観察画像の試料Sの深さ方向Dの位置関係を特定することができる。
また、本実施形態に係る観察方法では、切片6の観察を行う際の観察視野の特定(視野探し)を、圧痕4を目印として行うことができるため、視野の特定にかかる時間を短縮することができる。さらに、圧痕4を目印として観察視野の角度の調整を行うことができるため、観察画像間のアライメント調整時に、画像の回転を大きく変更しなくてもよい(ま
たは画像の回転の調整を行わなくてもよい)。したがって、本実施形態に係る観察方法では、切片6の観察画像間のアライメント調整を、容易に、かつ、精度よく行うことができる。
また、本実施形態に係る観察方法では、観察画像間のアライメント調整の際に、各画像の圧痕4から座標を算出し、当該座標をリンクさせることで、アライメント調整が可能であるため、アライメント精度を向上できる。
また、本実施形態に係る観察方法では、圧痕4から切片6の厚さを算出することができるため、例えば、各観察画像間の距離aをミクロトームで切片を切り出す際の試料の送りから特定する場合と比べて、より精度よく三次元再構成を行うことができる。
本実施形態に係る観察方法では、試料Sに圧子2を押しつけて圧痕4を形成することで、試料Sの厚さ方向に大きさが変化する孔(圧痕4)を形成する。そのため、本実施形態に係る観察方法では、容易に、各観察画像の深さ方向Dの位置関係を特定するための目印を形成することができる。
本実施形態に係る観察方法では、圧痕4を形成する工程では、試料Sに複数の圧痕4を形成し、切片6を切り出す工程では、複数の圧痕4を含む切片6を切り出す。そのため、複数の圧痕4を、観察視野を特定するための目印および観察画像のアライメント調整のための目印として用いることができる。したがって、より精度よく観察画像のアライメント調整を行うことができる。
3. 実施例
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれによって制限されるものではない。
3.1. 実験条件
<試料>
本実施例では、試料として、ABS樹脂を用いた。
<試料前処理>
ABS樹脂は、エポン樹脂で包埋し、四酸化オスミウム(OsO)を用いて染色した。この染色によって、ABS樹脂に含まれるブタジエンを染色した。
<圧痕形成>
圧痕は、微小硬さ試験機(株式会社ミツトヨ社製 HM−221)を用いて形成した。圧子の材質は、単結晶ダイヤモンドとした。また、圧子は、頭頂角度44°(稜線角度60°)とした。図12は、圧子先端のSEM像である。圧痕形成時の加重は9.807mNとした。
<超薄切片作製>
切片の作製は、ウルトラミクロトームを用いた。超薄切片の狙い厚みは80nmとした。
<走査電子顕微鏡像の取得>
走査電子顕微鏡は、日本電子株式会社製 JSM−7100Fを用いた。この走査電子顕微鏡像を用いて、染色されたブタジエンについて反射電子像を取得した。
<三次元再構成>
切片の画像から三次元再構成を行うためのソフトウェアとして、TEMography(株式会社システムインフロンティア社製)を用いた。
3.2. 結果
図13〜図16は、試料の光学顕微鏡像である。なお、図13は、樹脂包埋された試料の全体の光学顕微鏡像であり、図14〜図16は、試料の先端部の光学顕微鏡像である。図16に示すように、試料には、10μm間隔で形成された2つの圧痕の対を、5箇所形成した(すなわち10個の圧痕を形成した)。
図17〜図20は、シリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像である。図17は1枚目のシリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像であり、図18は図17を拡大したものである。図19は2枚目のシリコン基板に載せられた連続超薄切片の光学顕微鏡像であり、図20は図19を拡大したものである。なお、図18および図20の矢印は、切片が切り出された順序を示している。図21は、シリコン基板に載せられた16〜18枚目の超薄切片のSEM像である。
図17および図18に示す1枚目のシリコン基板には26枚の超薄切片が載せられており、図19および図20に示す2枚目のシリコン基板には31枚の超薄切片が載せられている。SEM像から圧痕の大きさを確認し、超薄切片が切り出された順序を特定した。
図22は、1枚目のシリコン基板に載せられた連続超薄切片のSEM像(26枚)である。図23は、2枚目のシリコン基板に載せられた連続超薄切片のSEM像(16枚)である。
超薄切片に形成した圧痕により、視野探しの作業性が向上した。また、SEM像の撮像の際には、2つの圧痕を用いて観察視野の角度を補正した後、圧痕を視野の上方中央に据えて撮像範囲を設定した。この結果、図22および図23に示すように、各切片のほぼ同一の範囲を撮像できた。
図24は、三次元再構成を行った結果を示す図である。図24は、42枚の超薄切片の走査電子顕微鏡像から、三次元再構成を行った結果である。
図24に示すように、ABS樹脂に含まれるブタジエンの三次元情報を取得することができた。
4. 変形例
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
4.1. 第1変形例
上述した実施形態では、図2および図3に示すように、試料Sに圧子2を押しつけることで、試料Sの深さ方向Dに大きさが変化する圧痕4(マーカー)を形成したが、マーカーの形成方法はこれに限定されない。例えば、集束イオンビーム(FIB)装置で、図25に示すように、試料Sの深さ方向Dに大きさが変化する(深くなるほど大きさが小さくなる)孔8を形成してマーカーとしてもよい。なお、図25に示すように、マーカーとなる孔8の一部に、試料Sの深さ方向Dに大きさが変化しない部分があってもよい。
本変形例では、試料Sの深さ方向Dに大きさが変化するマーカーを形成する工程では、試料Sを集束イオンビームで加工することで、孔8を形成する。したがって、本変形例によれば、上述した実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
なお、マーカーの形状は深さ方向Dに大きさが変化していればその形状は特に限定されない。
4.2. 第2変形例
上述した実施形態では、切片6の観察を走査電子顕微鏡を用いて行ったが、切片6の観察をその他の観察装置で行ってもよい。例えば、切片6の観察を光学顕微鏡を用いて行ってもよい。すなわち、切片6の光学顕微鏡像を用いて、三次元再構成を行ってもよい。
本変形例によれば、上述した実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
4.3. 第3変形例
上述した実施形態では、ミクロトームを用いて圧痕4が形成された試料Sから連続切片を切り出し、走査電子顕微鏡を用いて連続切片の観察を行い、得られた連続切片の観察画像から三次元再構成を行った。本変形例では、集束イオンビーム装置を用いた試料の深さ方向の断面の形成と、走査電子顕微鏡を用いた試料断面の観察と、を繰り返して、複数の試料断面の観察画像を得て、当該観察画像から三次元再構成を行う。
図26は、第3変形例に係る観察方法を説明するための図である。
本変形例では、図26に示すように、真空チャンバー内において集束イオンビームIBによる試料S表面の切削による断面加工と、当該断面を電子線EBで走査することによる試料Sの断面のSEM像の取得と、を繰り返し行い、得られた各断面のSEM像から三次元再構成を行う。
具体的には、集束イオンビームIBで試料Sを加工し、露出した断面を電子線EBで走査することで観察を行い、断面のSEM像を取得する。このようにして試料Sの断面の観察画像を取得すると、次に深さ方向Dに所定の距離だけ進んだ試料Sの断面が露出するように集束イオンビームIBで試料Sを加工し、露出した断面のSEM像を取得する。これを繰り返して、複数の断面の観察画像を取得する。そして、取得した複数の断面の観察画像から三次元再構成を行う。
本変形例においても、試料Sに深さ方向Dに大きさが変化する圧痕4が形成される。そのため、上述した実施形態と同様に、圧痕4から断面が加工された順序、すなわち、各観察画像の試料Sの深さ方向Dの位置関係を特定することができる。
本変形例に係る観察方法では、試料Sに、当該試料Sの深さ方向Dに大きさが変化する圧痕4を形成する工程と、試料Sの深さ方向Dの断面の形成と当該断面の観察とを繰り返して、複数の試料Sの断面の観察画像を取得する工程と、を含む。そのため、本変形例に係る観察方法では、上述した実施形態と同様に、容易に、断面が加工された順序、すなわち、各観察画像の試料Sの深さ方向Dの位置関係を特定することができる。
さらに、本変形例に係る走査電子顕微鏡では、圧痕4を、切片6の観察を行う際の観察視野の特定のためのマーカー、およびアライメント調整のためのマーカーとして用いることができる。
なお、ここでは、試料Sの断面の加工を集束イオンビーム装置で行う場合について説明したが、試料Sの断面の加工は集束イオンビーム装置に限定されず様々な断面加工装置を用いることができる。例えば、断面加工装置として、ミクロトームを用いてもよい。具体的には、SEMチャンバー内に高精度なミクロトームを導入し、試料表面をミクロトーム
で連続的に切削し、その表面(断面)を走査電子顕微鏡で観察し、得られたSEM像から三次元再構成を行ってもよい。
4.4. 第4変形例
上述した実施形態では、図3に示すように、各観察画像の深さ方向Dの位置関係を特定するためのマーカー(圧痕4)は試料Sの深さ方向Dに大きさ(面積)が変化したが、マーカーは深さ方向Dに大きさおよび形状の少なくとも一方が変化すればよい。マーカーが深さ方向Dに大きさおよび形状の少なくとも一方が変化すれば、各観察画像の深さ方向Dの位置関係を特定することが可能である。
図27および図28は、マーカー4が深さ方向Dに形状が変化している様子を示す模式図である。図27および図28は、マーカー4を平面視した図(厚さ方向Dから見た図)である。なお、図27および図28では、マーカー4の大きさ(面積)は変化していないものとする。
図27に示す例では、マーカー4の形状は長方形であり、深さが深くなるに従って(深さ方向Dに向かうに従って)、長辺と短辺との比が大きくなるように形状が変化している。図28に示す例では、マーカー4の形状は楕円状であり、深さが深くなるに従って長軸と短軸との比が大きくなるように形状が変化している。
図27および図28に示すように、マーカー4の面積が深さ方向Dに変化しない場合であっても、マーカー4の形状が深さ方向Dに変化すれば、マーカー4の大きさが変化する場合と同様に、切片6が切り出された順序、および断面が加工された順序を特定することができる。
なお、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
2…圧子、4…圧痕、6…切片、8…孔

Claims (8)

  1. 試料に、当該試料の深さ方向に大きさおよび形状の少なくとも一方が変化するマーカーを形成する工程と、
    前記試料から複数の切片を切り出す工程と、
    複数の前記切片の観察を行い、複数の前記切片の観察画像を取得する工程と、
    を含み、
    前記切片を切り出す工程では、前記切片の厚さ方向が前記深さ方向となるように、前記切片が形成され、
    前記マーカーを形成する工程では、前記試料に圧子を押しつけて圧痕を形成することで、前記試料に前記深さ方向に大きさが変化する孔を形成する、観察方法。
  2. 請求項1において、
    前記マーカーから、前記切片が切り出された順序を特定する工程を含む、観察方法。
  3. 請求項1または2において、
    前記マーカーから、前記切片の厚さを算出する工程を含む、観察方法。
  4. 請求項1ないし3のいずれか1項において、
    複数の前記切片の観察画像から、三次元再構成を行う、観察方法。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項において、
    前記圧子の先端の形状は、多角錘または円錐である、観察方法。
  6. 請求項1ないしのいずれか1項において、
    前記マーカーを形成する工程では、前記試料に複数の前記マーカーを形成し、
    前記切片を切り出す工程では、複数の前記マーカーを含む前記切片を切り出す、観察方法。
  7. 請求項1ないしのいずれか1項において、
    前記マーカーを用いて、複数の前記観察画像のアライメント調整を行う工程を含む、観察方法。
  8. 試料に、当該試料の深さ方向に大きさおよび形状の少なくとも一方が変化するマーカーを形成する工程と、
    前記試料から複数の切片を切り出す工程と、
    を含み、
    前記切片を切り出す工程では、前記切片の厚さ方向が前記深さ方向となるように、前記切片が形成され、
    前記マーカーを形成する工程では、前記試料に圧子を押しつけて圧痕を形成することで、前記試料に前記深さ方向に大きさが変化する孔を形成する、試料作製方法。
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