JP6876326B2 - 電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 - Google Patents
電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6876326B2 JP6876326B2 JP2017061059A JP2017061059A JP6876326B2 JP 6876326 B2 JP6876326 B2 JP 6876326B2 JP 2017061059 A JP2017061059 A JP 2017061059A JP 2017061059 A JP2017061059 A JP 2017061059A JP 6876326 B2 JP6876326 B2 JP 6876326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collector electrode
- slit
- electron beam
- insulator
- beam generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 29
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 24
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
12 高周波誘導コイル
13 キーパ電極
14 ディスチャージチャンバ
15 チャンバープレート
16 ガス導入口
17 ナット
21 スリット
22 碍子
23 留具
31 取付用部材
32 貫通孔
Claims (6)
- ディスチャージチャンバ内に配置される円筒形状のコレクタ電極と、
高周波電界を印加して前記ディスチャージチャンバの内部にプラズマを生成させる高周波誘導コイルと、
前記コレクタ電極に対して正電位となる電圧が印加され、前記コレクタ電極の内部に生成されたプラズマから電子ビームを引き出すキーパ電極と
を備え、
前記コレクタ電極にはスリットが設けられ、このスリットに碍子が保持されている
ことを特徴とする電子ビーム発生装置。 - 請求項1に記載の電子ビーム発生装置において、前記碍子は、前記スリットの全体を塞ぐように設けられることを特徴とする電子ビーム発生装置。
- 請求項1または2に記載の電子ビーム発生装置において、前記スリットは、前記円筒形状の軸と平行に設けられていることを特徴とする電子ビーム発生装置。
- 請求項2に記載の電子ビーム発生装置において、
前記コレクタ電極は、円筒形状に曲げ加工され周方向両端面に前記碍子を嵌め込み保持する構造が設けられた一枚の金属板からなる
ことを特徴とする電子ビーム発生装置。 - 周囲に高周波誘導コイルが配置される円筒形状のコレクタ電極において、スリットが設けられ、このスリットに碍子が保持されていることを特徴とするコレクタ電極。
- 周囲に高周波誘導コイルが配置される円筒形状のコレクタ電極において、スリットが設けられ、このスリットに、碍子を保持するための留具が設けられたことを特徴とするコレクタ電極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017061059A JP6876326B2 (ja) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | 電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017061059A JP6876326B2 (ja) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | 電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018163832A JP2018163832A (ja) | 2018-10-18 |
JP6876326B2 true JP6876326B2 (ja) | 2021-05-26 |
Family
ID=63860236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017061059A Active JP6876326B2 (ja) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | 電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6876326B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0841683A3 (en) * | 1996-10-08 | 1999-12-01 | Applied Materials, Inc. | Active shield for generating a plasma for sputtering |
DE10058326C1 (de) * | 2000-11-24 | 2002-06-13 | Astrium Gmbh | Induktiv gekoppelte Hochfrequenz-Elektronenquelle mit reduziertem Leistungsbedarf durch elektrostatischen Einschluss von Elektronen |
JP3907425B2 (ja) * | 2001-05-21 | 2007-04-18 | 東京応化工業株式会社 | 誘導結合プラズマ処理装置 |
JP3606842B2 (ja) * | 2002-02-20 | 2005-01-05 | 株式会社シンクロン | 電子銃および電子ビーム照射処理装置 |
DK1856702T3 (da) * | 2005-03-07 | 2012-09-03 | Univ California | Plasma-elektrisk generationssystem |
US7498592B2 (en) * | 2006-06-28 | 2009-03-03 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Non-ambipolar radio-frequency plasma electron source and systems and methods for generating electron beams |
JP4925132B2 (ja) * | 2007-09-13 | 2012-04-25 | 公立大学法人首都大学東京 | 荷電粒子放出装置およびイオンエンジン |
JP5325623B2 (ja) * | 2009-03-24 | 2013-10-23 | 株式会社アルバック | 電子源 |
JP5636931B2 (ja) * | 2010-12-13 | 2014-12-10 | 株式会社昭和真空 | 電子ビーム照射装置、これを用いる電子ビーム照射処理装置、及びこれらに用いるコレクター電極 |
-
2017
- 2017-03-27 JP JP2017061059A patent/JP6876326B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018163832A (ja) | 2018-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7206286B2 (ja) | 線形化されたエネルギーの無線周波数プラズマイオン供給源、薄膜堆積装置、およびプラズマイオンビーム発生方法 | |
US9425023B2 (en) | Ion generator and thermal electron emitter | |
US20130133690A1 (en) | Ion bombardment apparatus and method for cleaning of surface of base material using the same | |
US9211570B2 (en) | Ion bombardment treatment apparatus and method for cleaning of surface of base material using the same | |
US20130333618A1 (en) | Hall effect plasma source | |
JP5475506B2 (ja) | スパッタリング薄膜形成装置 | |
JP6876326B2 (ja) | 電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 | |
WO2006097994A1 (ja) | スパッタリング装置 | |
US9368331B2 (en) | Sputtering apparatus | |
US9966234B2 (en) | Film forming device | |
US5855683A (en) | Thin film deposition apparatus | |
EP3998467B1 (en) | Ionization vacuum gauge and cartridge | |
JP6298328B2 (ja) | 成膜装置、プラズマガン、および、薄膜を備えた物品の製造方法 | |
TWI659445B (zh) | 射頻(rf)-濺鍍沉積源、沉積設備及其之組裝方法 | |
JP5636931B2 (ja) | 電子ビーム照射装置、これを用いる電子ビーム照射処理装置、及びこれらに用いるコレクター電極 | |
JP5640135B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR20110072282A (ko) | 보호부재 및 이를 포함하는 플라즈마 발생장치 | |
JP7500397B2 (ja) | プラズマ処理装置とその製造方法、及びプラズマ処理方法 | |
WO2024181225A1 (ja) | イオン源 | |
RU2627820C1 (ru) | Узел катода магнетронного распылителя | |
JP2016186876A (ja) | イオン源 | |
JP2020186426A (ja) | スパッタ成膜装置 | |
WO2024085938A1 (en) | Resonant antenna for physical vapor deposition applications | |
JP6078171B2 (ja) | プラズマ補助物理気相蒸着源 | |
JP6344973B2 (ja) | マイクロ波イオン源 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210317 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210419 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6876326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE Ref document number: 6876326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |