JP6869162B2 - Cleaning mechanism - Google Patents

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Description

ここに開示された技術は、清掃機構に関する。 The technique disclosed herein relates to a cleaning mechanism.

従来より、ボイラ管等の管の表面に付着した付着物を除去する清掃機構が知られている。例えば、特許文献１には、打叩アームで管を打ち叩くことによって付着物を除去する清掃機構が開示されている。 Conventionally, a cleaning mechanism for removing deposits adhering to the surface of a pipe such as a boiler pipe has been known. For example, Patent Document 1 discloses a cleaning mechanism that removes deposits by tapping a pipe with a tapping arm.

特開平１１−２３７１９９号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-237199

しかしながら、付着物が管に強固に付着している場合などは、前述のように管を打ち叩くだけでは、管の付着物を十分に除去することが難しい。 However, when the deposits are firmly adhered to the pipe, it is difficult to sufficiently remove the deposits on the pipe only by hitting the pipe as described above.

ここに開示された技術は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、管の表面の付着物を十分に除去することにある。 The technique disclosed herein has been made in view of this point, and the purpose thereof is to sufficiently remove deposits on the surface of the pipe.

ここに開示された清掃機構は、管群内を進行しながら、前記管群に含まれる管の表面を清掃する清掃機構であって、所定の回転軸回りに回転する回転シャフトと、前記管の表面に接触することによって前記管の表面の付着物を除去する清掃部とを備え、前記清掃部は、前記回転シャフトの遠心力によって前記回転軸を中心とする半径方向外側へ拡がるように前記回転シャフトに連結され、前記清掃機構が前記管の横を通過する際に、前記管の表面形状に倣って前記半径方向への拡がりを変更しながら前記管の表面に接触するものとする。 The cleaning mechanism disclosed here is a cleaning mechanism that cleans the surface of a pipe included in the pipe group while traveling in the pipe group, and is a rotating shaft that rotates around a predetermined rotation axis and a rotating shaft of the pipe. The cleaning unit is provided with a cleaning unit that removes deposits on the surface of the pipe by coming into contact with the surface, and the cleaning unit rotates so as to expand outward in the radial direction about the rotation axis by the centrifugal force of the rotation shaft. It is connected to the shaft, and when the cleaning mechanism passes by the side of the pipe, it comes into contact with the surface of the pipe while changing the spread in the radial direction according to the surface shape of the pipe.

ここで、「管の表面に接触する」とは、管に直接的に接触する場合だけでなく、管に間接的に接触する場合も含む意味である。例えば、除去しきれない硬質のクリンカ等が管の表面に残存する場合には、クリンカ等を介して間接的に管の表面に接触する場合も含まれる。以下、同様である。 Here, "contacting the surface of the pipe" means not only the case of directly contacting the pipe but also the case of indirectly contacting the pipe. For example, when a hard clinker or the like that cannot be completely removed remains on the surface of the pipe, the case where it indirectly contacts the surface of the pipe through the clinker or the like is also included. The same applies hereinafter.

また、ここに開示された清掃機構は、管群に含まれる管の表面を清掃する清掃機構であって、所定の回転軸回りに回転する回転シャフトと、前記管の表面に接触することによって前記管の表面の付着物を除去する接触部とを備え、前記接触部は、前記回転シャフトと一体的に回転する揺動シャフトに揺動可能に連結され、前記回転シャフトの遠心力によって前記揺動シャフト回りに揺動して前記回転軸を中心とする半径方向外側へ拡がるものとする。 Further, the cleaning mechanism disclosed herein is a cleaning mechanism that cleans the surface of a pipe included in a pipe group, and is said to be described by contacting a rotating shaft that rotates around a predetermined rotation axis with the surface of the pipe. A contact portion for removing deposits on the surface of the tube is provided, and the contact portion is swingably connected to a swing shaft that rotates integrally with the rotary shaft, and the swing is caused by the centrifugal force of the rotary shaft. It shall swing around the shaft and spread outward in the radial direction about the rotation axis.

前記清掃機構によれば、管の表面の付着物を十分に除去することができる。 According to the cleaning mechanism, deposits on the surface of the pipe can be sufficiently removed.

図１は、清掃装置の側面図である。FIG. 1 is a side view of the cleaning device. 図２は、清掃装置を正面から見た図である。FIG. 2 is a front view of the cleaning device. 図３は、清掃機構をＹ軸方向に見た図である。FIG. 3 is a view of the cleaning mechanism in the Y-axis direction. 図４は、スクレーパが収容された状態の、図３のＳ−Ｓ線における清掃ユニットの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the cleaning unit in the SS line of FIG. 3 in a state where the scraper is housed. 図５は、スクレーパが拡がった状態の、図３のＳ−Ｓ線における清掃ユニットの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the cleaning unit in the SS line of FIG. 3 in a state where the scraper is expanded. 図６は、ガイドが縮まった状態の清掃機構をＸ軸方向に見た図である。FIG. 6 is a view of the cleaning mechanism with the guide contracted in the X-axis direction. 図７は、ガイドが拡がった状態の清掃機構をＸ軸方向に見た図である。FIG. 7 is a view of the cleaning mechanism with the guide expanded in the X-axis direction. 図８は、図７のＴ−Ｔ線における第１ブレードの断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the first blade in the TT line of FIG. 図９は、清掃機構が管を清掃している状態をＸ軸方向に見た図である。FIG. 9 is a view of the state in which the cleaning mechanism is cleaning the pipe in the X-axis direction. 図１０は、管と平行に移動する清掃装置をＸ軸方向に見た図である。FIG. 10 is a view of a cleaning device that moves in parallel with the pipe in the X-axis direction. 図１１は、管と平行に移動する清掃装置をＺ軸方向に見た図である。FIG. 11 is a view of a cleaning device moving in parallel with the pipe in the Z-axis direction. 図１２は、管上で旋回する清掃装置をＸ軸方向に見た図である。FIG. 12 is a view of a cleaning device that swivels on a pipe in the X-axis direction. 図１３は、管上で旋回する清掃装置をＺ軸方向に見た図である。FIG. 13 is a view of a cleaning device that swivels on a pipe in the Z-axis direction.

以下、例示的な実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, exemplary embodiments will be described in detail with reference to the drawings.

実施形態に係る清掃装置１００は、管群に含まれる管の表面に付着した付着物を清掃する。ここでは、清掃装置１００がボイラの伝熱管を清掃する場合について説明する。図１は、清掃装置１００の側面図である。図２は、清掃装置１００を正面から見た図であり、部分的に断面図となっている。 The cleaning device 100 according to the embodiment cleans the deposits adhering to the surface of the pipes included in the pipe group. Here, a case where the cleaning device 100 cleans the heat transfer tube of the boiler will be described. FIG. 1 is a side view of the cleaning device 100. FIG. 2 is a front view of the cleaning device 100, which is a partial cross-sectional view.

ボイラ内には、複数の管Ｐによって形成された管群Ｑ（図２参照）が設けられている。管Ｐの内部には、水等の流体が流通している。管Ｐは、伝熱管であり、ボイラの燃焼室で発生した熱と熱交換を行う。複数の管Ｐは、水平方向に延びており、水平方向及び鉛直方向に配列されている。つまり、管群Ｑにおいては、水平方向において複数の管Ｐが互いに平行な状態で配列されていると共に、鉛直方向において複数の管Ｐが互いに平行な状態で配列されている。 A tube group Q (see FIG. 2) formed by a plurality of tubes P is provided in the boiler. A fluid such as water circulates inside the pipe P. The tube P is a heat transfer tube and exchanges heat with the heat generated in the combustion chamber of the boiler. The plurality of pipes P extend in the horizontal direction and are arranged in the horizontal direction and the vertical direction. That is, in the tube group Q, a plurality of tubes P are arranged in a state parallel to each other in the horizontal direction, and a plurality of tubes P are arranged in a state parallel to each other in the vertical direction.

尚、一の管Ｐと他の管Ｐとは、それぞれの端部が繋がって、１本の管を形成する場合もある。つまり、管群Ｑには、１本の管が水平方向に延びた後、折り返して再び水平方向に延びる場合や、１本の管が水平方向に延びた後、折り返して再び水平方向に延びることを繰り返し、全体として蛇行するように延びる場合がある。本明細書では、このような場合であっても、水平方向に延びる部分の１つ１つを１本の管Ｐとして捉えるものとする。そのため、実際には連続した１本の管であっても、水平方向に延びる部分が複数存在すれば、複数の管Ｐとして扱う。 In some cases, one pipe P and the other pipe P are connected to each other to form one pipe. That is, in the pipe group Q, when one pipe extends in the horizontal direction and then folds back and extends in the horizontal direction again, or when one pipe extends in the horizontal direction and then folds back and extends in the horizontal direction again. May be repeated and extend in a meandering manner as a whole. In the present specification, even in such a case, each of the portions extending in the horizontal direction shall be regarded as one pipe P. Therefore, even if it is actually one continuous pipe, if there are a plurality of portions extending in the horizontal direction, it is treated as a plurality of pipes P.

ボイラでは、燃焼により生じた灰が管Ｐに付着し得る。灰の一部は、溶融してクリンカになるものもある。このように、管Ｐの表面には、灰やクリンカ等の付着物が付着している。ここで、付着物とは、管Ｐの表面に直接的に接触しているものに限られず、管Ｐの表面に直接的に接触しているものにさらに積み重なっているものも含む。例えば、管Ｐの表面に直接的に接触している灰だけでなく、その上にさらに堆積している灰も付着物に含まれる。 In the boiler, the ash produced by combustion can adhere to the pipe P. Some of the ash melts into clinker. As described above, deposits such as ash and clinker are attached to the surface of the tube P. Here, the deposits are not limited to those that are in direct contact with the surface of the pipe P, but also include those that are further stacked on those that are in direct contact with the surface of the pipe P. For example, not only the ash that is in direct contact with the surface of the pipe P, but also the ash that is further deposited on the ash is included in the deposit.

清掃装置１００は、水平方向に並ぶ少なくとも２本の管Ｐの上に載置される。清掃装置１００は、装置本体１と、装置本体１に設けられ、少なくとも２本の管Ｐの上を走行する走行機構２と、装置本体１から昇降して、走行機構２よりも下方に位置する管Ｐの表面の付着物を清掃する清掃機構３と、清掃機構３を走行機構２から昇降させる昇降機構７と、清掃装置１００を制御する本体コントローラ８と、オペレータが指令を入力する際に操作する外部コントローラ９とを備えている。清掃装置１００は、走行機構１が載っている２本の管Ｐの間に清掃機構３を昇降機構７によって降下及び上昇させ、２本の管Ｐ及びそれらの下方に並ぶ管Ｐに付着した付着物を清掃する。尚、図２においては、昇降機構７、本体コントローラ８及び外部コントローラ９を省略している。 The cleaning device 100 is placed on at least two pipes P arranged in the horizontal direction. The cleaning device 100 is provided on the device main body 1 and the device main body 1, and is located below the traveling mechanism 2 by moving up and down from the device main body 1 and the traveling mechanism 2 that travels on at least two pipes P. A cleaning mechanism 3 for cleaning the deposits on the surface of the pipe P, an elevating mechanism 7 for raising and lowering the cleaning mechanism 3 from the traveling mechanism 2, a main body controller 8 for controlling the cleaning device 100, and an operation when the operator inputs a command. It is provided with an external controller 9 for cleaning. The cleaning device 100 lowers and raises the cleaning mechanism 3 between the two pipes P on which the traveling mechanism 1 is mounted by the elevating mechanism 7, and attaches the cleaning mechanism 3 to the two pipes P and the pipes P arranged below them. Clean the kimono. In FIG. 2, the elevating mechanism 7, the main body controller 8, and the external controller 9 are omitted.

以下、説明の便宜上、清掃装置１００を基準に互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を規定する。清掃装置１００の走行方向（即ち、走行機構２の走行方向）にＸ軸を設定し、清掃装置１００の上下方向（即ち、昇降機構７の昇降方向）にＺ軸を設定し、清掃装置１００の幅方向（即ち、走行方向及び上下方向の両方に直交する方向）にＹ軸を設定する。 Hereinafter, for convenience of explanation, the X-axis, Y-axis, and Z-axis that are orthogonal to each other with respect to the cleaning device 100 are defined. The X-axis is set in the traveling direction of the cleaning device 100 (that is, the traveling direction of the traveling mechanism 2), the Z-axis is set in the vertical direction of the cleaning device 100 (that is, the elevating direction of the elevating mechanism 7), and the cleaning device 100 is set. The Y-axis is set in the width direction (that is, the direction orthogonal to both the traveling direction and the vertical direction).

また、管群Ｑを基準に互いに直交するＵ軸、Ｖ軸及びＷ軸を規定する。管Ｐが延びる方向にＵ軸を設定し、Ｕ軸に直交し且つ水平な方向にＶ軸を設定し、Ｕ軸に直交し且つ鉛直な方向にＷ軸を設定する。 In addition, the U-axis, V-axis, and W-axis that are orthogonal to each other with respect to the tube group Q are defined. The U-axis is set in the direction in which the pipe P extends, the V-axis is set in the direction orthogonal to and horizontal to the U-axis, and the W-axis is set in the direction orthogonal to and vertical to the U-axis.

装置本体１は、ＸＹ平面上に拡がる平板状のベース１１と、ベース１１に設けられ、清掃機構３を収容するケース１２とを有している。ベース１１の略中央には、ベース１１を貫通する開口１１ａ（図２参照）が形成されている。ケース１２は、Ｘ軸方向を長手方向とする略長方形の断面を有する角筒状に形成されている。ケース１２は、ベース１１の開口１１ａを貫通している。また、装置本体１には、管Ｐを検出する複数のセンサ（図示省略）が設けられている。 The apparatus main body 1 has a flat plate-shaped base 11 extending on an XY plane, and a case 12 provided on the base 11 and accommodating the cleaning mechanism 3. An opening 11a (see FIG. 2) penetrating the base 11 is formed substantially in the center of the base 11. The case 12 is formed in a square tubular shape having a substantially rectangular cross section with the X-axis direction as the longitudinal direction. The case 12 penetrates the opening 11a of the base 11. Further, the apparatus main body 1 is provided with a plurality of sensors (not shown) for detecting the tube P.

走行機構２は、ベース１１の下面に取り付けられた２本のクローラ２１を有している。クローラ２１は、Ｘ軸方向に進行するように構成されている。つまり、クローラ２１の駆動輪の回転軸は、Ｙ軸方向に延びている。２本のクローラ２１は、ベース１１の開口１１ａを挟んでＹ軸方向に並んでいる。 The traveling mechanism 2 has two crawlers 21 attached to the lower surface of the base 11. The crawler 21 is configured to travel in the X-axis direction. That is, the rotation axis of the drive wheel of the crawler 21 extends in the Y-axis direction. The two crawlers 21 are arranged in the Y-axis direction with the opening 11a of the base 11 interposed therebetween.

清掃機構３は、詳しくは後述するが、フレーム３１（図１参照）と、フレーム３１に支持された３つの清掃ユニット４（図２参照）と、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する際に清掃機構３を進行方向に案内するガイド５とを有している。清掃機構３は、清掃を行わないときには、ケース１２内に収容されている。清掃機構３は、清掃を行うときには、ケース１２から下方へ降下し、管群Ｑ内を進行しながら、管群Ｑに含まれる管Ｐの表面を清掃する。 The cleaning mechanism 3 will be described in detail later, but when the frame 31 (see FIG. 1), the three cleaning units 4 supported by the frame 31 (see FIG. 2), and the cleaning mechanism 3 travel in the pipe group Q. It also has a guide 5 that guides the cleaning mechanism 3 in the traveling direction. The cleaning mechanism 3 is housed in the case 12 when cleaning is not performed. When cleaning, the cleaning mechanism 3 descends downward from the case 12 and cleans the surface of the pipe P included in the pipe group Q while traveling in the pipe group Q.

昇降機構７は、２基のウインチ７１と、各ウインチ７１に巻き上げられるワイヤ７２とを有している。ウインチ７１は、ベース１１の上面に設置されている。２基のウインチ７１は、Ｘ軸方向においてケース１２を挟むように配置されている。ワイヤ７２は、ウインチ７１のリールに巻き掛けられている。ワイヤ７２の一端は、清掃機構３に取り付けられている。つまり、清掃機構３は、２本のワイヤ７２でつり下げられた状態となっており、昇降機構７によってＺ軸方向に昇降させられる。尚、ケース１２には、ウインチ７１のリール及びワイヤ７２との干渉を避けるための切欠き（図示省略）が形成されている。 The elevating mechanism 7 has two winches 71 and a wire 72 wound around each winch 71. The winch 71 is installed on the upper surface of the base 11. The two winches 71 are arranged so as to sandwich the case 12 in the X-axis direction. The wire 72 is wound around the reel of the winch 71. One end of the wire 72 is attached to the cleaning mechanism 3. That is, the cleaning mechanism 3 is in a state of being suspended by two wires 72, and is moved up and down in the Z-axis direction by the elevating mechanism 7. The case 12 is formed with a notch (not shown) for avoiding interference with the reel of the winch 71 and the wire 72.

本体コントローラ８は、装置本体１に搭載されている。本体コントローラ８は、プロセッサで形成されている。本体コントローラ８は、外部コントローラ９からの指令を受けて、清掃装置１００の各部を制御する。例えば、本体コントローラ８は、前述の管Ｐを検出するセンサの出力に基づいて、装置本体１と管Ｐとの位置関係を判断する。本体コントローラ８は、センサの出力を参照しながら、外部コントローラ９からの指令に応じた位置へ清掃装置１００を移動させる。また、本体コントローラ８は、清掃機構３及び昇降機構７を作動させる。 The main body controller 8 is mounted on the device main body 1. The main body controller 8 is formed by a processor. The main body controller 8 receives a command from the external controller 9 and controls each part of the cleaning device 100. For example, the main body controller 8 determines the positional relationship between the device main body 1 and the pipe P based on the output of the sensor that detects the pipe P described above. The main body controller 8 moves the cleaning device 100 to a position in response to a command from the external controller 9 while referring to the output of the sensor. Further, the main body controller 8 operates the cleaning mechanism 3 and the elevating mechanism 7.

外部コントローラ９は、ケーブル９１を介して本体コントローラ８に接続されている。オペレータは、外部コントローラ９を操作することによって、本体コントローラ８に指令を入力する。例えば、外部コントローラ９は、指令として、清掃装置１００への動作指令が入力可能である。それに加えて、外部コントローラ９は、動作に関連する移動距離を入力可能であってもよい。 The external controller 9 is connected to the main body controller 8 via a cable 91. The operator inputs a command to the main body controller 8 by operating the external controller 9. For example, the external controller 9 can input an operation command to the cleaning device 100 as a command. In addition, the external controller 9 may be capable of inputting a travel distance associated with the operation.

以下、清掃機構３についてさらに詳細に説明する。図３は、清掃機構３をＹ軸方向に見た図である。図４は、スクレーパ３４が収容された状態の、図３のＳ−Ｓ線における清掃ユニット４の断面図である。図５は、スクレーパ３４が拡がった状態の、図３のＳ−Ｓ線における清掃ユニット４の断面図である。図６は、ガイド５が縮まった状態の清掃機構３をＸ軸方向に見た図である。図７は、ガイド５が拡がった状態の清掃機構３をＸ軸方向に見た図である。図８は、図７のＴ−Ｔ線における第１ブレード５１Ａの断面図である。 Hereinafter, the cleaning mechanism 3 will be described in more detail. FIG. 3 is a view of the cleaning mechanism 3 viewed in the Y-axis direction. FIG. 4 is a cross-sectional view of the cleaning unit 4 on the SS line of FIG. 3 in a state where the scraper 34 is housed. FIG. 5 is a cross-sectional view of the cleaning unit 4 on the SS line of FIG. 3 in a state where the scraper 34 is expanded. FIG. 6 is a view of the cleaning mechanism 3 with the guide 5 contracted in the X-axis direction. FIG. 7 is a view of the cleaning mechanism 3 with the guide 5 expanded in the X-axis direction. FIG. 8 is a cross-sectional view of the first blade 51A on the TT line of FIG.

フレーム３１は、図３に示すように、概ね四角形の枠状に形成されている。フレーム３１は、カバー３１ａが取り付けられており、これにより、全体として箱状に形成されている。フレーム３１のうちＸ軸方向の両端に設けられ、Ｚ軸方向に延びる一対の縦フレーム３１ｂのそれぞれには、昇降機構７のワイヤ７２が取り付けられる係止部３１ｃが設けられている。 As shown in FIG. 3, the frame 31 is formed in a substantially quadrangular frame shape. A cover 31a is attached to the frame 31, whereby the frame 31 is formed in a box shape as a whole. Each of the pair of vertical frames 31b provided at both ends of the frame 31 in the X-axis direction and extending in the Z-axis direction is provided with locking portions 31c to which the wire 72 of the elevating mechanism 7 is attached.

Ｚ軸方向（即ち、清掃機構３の昇降方向）に見た場合のフレーム３１の形状は、清掃装置１００が載置された２本の管ＰのＶ軸方向の間隔ＧＶ（図２参照）を直径とする円よりもはみ出している。具体的には、フレーム３１のＹ軸方向の寸法は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも小さく設定されている。一方、フレーム３１のＸ軸方向の寸法は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも大きく設定されている。つまり、清掃装置１００のＸ軸方向と管群ＱのＵ軸方向とが一致する場合には、フレーム３１は、２本の管Ｐの間に進入することができる。フレーム３１は、支持部の一例である。 Z-axis direction (i.e., the lift direction of the cleaning mechanism 3) shape of the frame 31 as viewed in the gap G V of the V-axis direction of the two tubes P of the cleaning device 100 is placed (see FIG. 2) It protrudes from the circle whose diameter is. Specifically, the dimensions of the Y-axis direction of the frame 31 is set smaller than the spacing G V of two tubes P. On the other hand, the dimensions of the X-axis direction of the frame 31 is set to be larger than the distance G V of two tubes P. That is, when the X-axis direction of the cleaning device 100 and the U-axis direction of the pipe group Q coincide with each other, the frame 31 can enter between the two pipes P. The frame 31 is an example of a support portion.

３つの清掃ユニット４は、フレーム３１に支持されている。３つの清掃ユニット４は、フレーム３１の下部から下方に突出している。 The three cleaning units 4 are supported by the frame 31. The three cleaning units 4 project downward from the lower part of the frame 31.

３つの清掃ユニット４は、Ｘ軸方向に配列されている。３つの清掃ユニット４は、Ｚ軸方向（即ち、清掃装置３の昇降方向）における位置が異なっている。具体的には、真ん中の清掃ユニット４は、両側の清掃ユニット４に比べて下方に突出している。以下、３つの清掃ユニット４をそれぞれ区別する場合には、Ｘ軸方向に並ぶ順に、「第１清掃ユニット４Ａ」、「第２清掃ユニット４Ｂ」、「第３清掃ユニット４Ｃ」と称する。 The three cleaning units 4 are arranged in the X-axis direction. The positions of the three cleaning units 4 are different in the Z-axis direction (that is, the elevating direction of the cleaning device 3). Specifically, the cleaning unit 4 in the center projects downward as compared with the cleaning units 4 on both sides. Hereinafter, when the three cleaning units 4 are distinguished from each other, they are referred to as "first cleaning unit 4A", "second cleaning unit 4B", and "third cleaning unit 4C" in the order of arrangement in the X-axis direction.

清掃ユニット４は、Ｚ軸と平行（即ち、清掃機構３の昇降方向と平行）な回転軸Ａ回りに回転しながら管Ｐに接触して管Ｐの表面の付着物を除去するように構成されている。具体的には、清掃ユニット４は、図３に示すように、Ｚ軸と平行に延びる回転軸Ａ回りに回転する回転シャフト３２と、管Ｐの表面に接触することによって管Ｐの表面の付着物を除去するスクレーパ３４と、回転軸Ａと同軸に設けられた円板３５と、回転軸Ａ上であって清掃ユニット４の先端に設けられた掘削部３６とを有している。回転シャフト３２は、フレーム３１に支持されたモータ（図示省略）によって回転駆動される。清掃ユニット４は、清掃部の一例であり、スクレーパ３４は、接触部の一例である。 The cleaning unit 4 is configured to come into contact with the pipe P while rotating around a rotation axis A parallel to the Z axis (that is, parallel to the elevating direction of the cleaning mechanism 3) to remove deposits on the surface of the pipe P. ing. Specifically, as shown in FIG. 3, the cleaning unit 4 has a rotating shaft 32 that rotates around a rotating shaft A extending parallel to the Z axis and a surface of the pipe P that is attached to the surface of the pipe P by contacting the surface of the pipe P. It has a scraper 34 for removing kimono, a disk 35 provided coaxially with the rotating shaft A, and an excavation portion 36 provided on the rotating shaft A at the tip of the cleaning unit 4. The rotary shaft 32 is rotationally driven by a motor (not shown) supported by the frame 31. The cleaning unit 4 is an example of a cleaning unit, and the scraper 34 is an example of a contact unit.

回転シャフト３２の先端部に、円板３５、スクレーパ３４及び掘削部３６が設けられている。４枚の円板３５が、回転軸Ａと同軸上に等間隔で配置されている。円板３５は、回転シャフト３２に回転不能な状態で取り付けられている。つまり、円板３５は、回転シャフト３２と一体的に回転する。円板３５の直径は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも小さく設定されている。 A disk 35, a scraper 34, and an excavation portion 36 are provided at the tip of the rotating shaft 32. Four discs 35 are arranged coaxially with the rotation axis A at equal intervals. The disk 35 is attached to the rotating shaft 32 in a non-rotatable state. That is, the disk 35 rotates integrally with the rotating shaft 32. The diameter of the disc 35 is set smaller than the spacing G V of two tubes P.

４枚の円板３５によって３つの隙間が形成されている。図４，５に示すように、各隙間に３つのスクレーパ３４が配置されている。隣り合う各２つの円板３５の間には、回転軸Ａと平行な揺動軸Ｂに沿って延びる３本の揺動シャフト３７が設けられている。３本の揺動シャフト３７は、回転軸Ａから偏心した位置において、回転軸Ａ回りに等間隔を空けて設けられている。各スクレーパ３４は、揺動シャフト３７に揺動可能な状態で連結されている。スクレーパ３４は、概ね円弧状に形成されている。スクレーパ３４は、例えば、アルミ合金、炭素鋼、ウレタンゴム又は真鍮で形成されている。 Three gaps are formed by the four disks 35. As shown in FIGS. 4 and 5, three scrapers 34 are arranged in each gap. Between each of the two adjacent discs 35, three swing shafts 37 extending along the swing shaft B parallel to the rotation shaft A are provided. The three swing shafts 37 are provided at positions eccentric from the rotation shaft A at equal intervals around the rotation shaft A. Each scraper 34 is connected to the swing shaft 37 in a swingable state. The scraper 34 is formed in a substantially arc shape. The scraper 34 is made of, for example, an aluminum alloy, carbon steel, urethane rubber or brass.

図４に示すように、スクレーパ３４のうち揺動軸Ｂから遠い端部である先端部３４ａが回転軸Ａに最も接近した状態においては、スクレーパ３４は、２つの円板３５の隙間内に完全に収容される。すなわち、スクレーパ３４は、円板３５の外周縁Ｅの内側に収容される。スクレーパ３４が円板３５内に収容された状態において、Ｚ軸方向（即ち、清掃機構３の昇降方向）に見た場合の清掃ユニット４の形状は、２本の管Ｐの間隔ＧＶを直径とする円内に収まっている。ここで、「外周縁Ｅの内側に収容される」とは、スクレーパ３４が外周縁Ｅからはみ出さないことを意味している。つまり、スクレーパ３４は、円板３５の間に収容されたときに、外周縁Ｅと面一な状態であってもよい。 As shown in FIG. 4, when the tip portion 34a of the scraper 34, which is the end far from the swing shaft B, is closest to the rotation shaft A, the scraper 34 is completely within the gap between the two disks 35. Is housed in. That is, the scraper 34 is housed inside the outer peripheral edge E of the disk 35. In the state in which the scraper 34 is received in the circular plate 35, Z-axis direction (i.e., the lift direction of the cleaning mechanism 3) the shape of the cleaning unit 4 as viewed in the diameter interval G V of two tubes P It is within the circle. Here, "accommodated inside the outer peripheral edge E" means that the scraper 34 does not protrude from the outer peripheral edge E. That is, the scraper 34 may be flush with the outer peripheral edge E when housed between the disks 35.

一方、図５に示すように、スクレーパ３４は、回転シャフト３２の遠心力によって先端部３４ａが回転軸Ａから離れるように揺動し、回転軸Ａを中心とする半径方向外側へ拡がる。このとき、スクレーパ３４は、円板３５の外周縁Ｅよりも外側へ突出する（即ち、外周縁Ｅから外側へはみ出す）。 On the other hand, as shown in FIG. 5, the scraper 34 swings so that the tip portion 34a is separated from the rotation axis A by the centrifugal force of the rotation shaft 32, and expands outward in the radial direction about the rotation axis A. At this time, the scraper 34 protrudes outward from the outer peripheral edge E of the disk 35 (that is, protrudes outward from the outer peripheral edge E).

以下、特段の断りがない限り、「半径方向」とは、回転軸Ａを中心とする半径方向を意味する。 Hereinafter, unless otherwise specified, the "radial direction" means the radial direction centered on the rotation axis A.

尚、スクレーパ３４が円板３５内に収容された状態において、スクレーパ３４が揺動シャフト３７から先端部３４ａへ向かって延びる方向は、回転シャフト３２の回転方向とは反対向きとなっている。そのため、スクレーパ３４が拡がった状態で回転軸Ａ回りに回転している際にスクレーパ３４が何かに接触したとしても、スクレーパ３４が円板３５内に収容される方向へ揺動して、回転軸Ａ回りのスクレーパ３４の回転が維持される。 In the state where the scraper 34 is housed in the disk 35, the direction in which the scraper 34 extends from the swing shaft 37 toward the tip portion 34a is opposite to the rotation direction of the rotating shaft 32. Therefore, even if the scraper 34 comes into contact with something while the scraper 34 is rotating around the rotation axis A in the expanded state, the scraper 34 swings in the direction of being accommodated in the disk 35 and rotates. The rotation of the scraper 34 around the axis A is maintained.

掘削部３６は、図３に示すように、回転シャフト３２の最も先端側に配置されている。掘削部３６は、回転シャフト３２に回転不能な状態で取り付けられている。つまり、掘削部３６は、回転シャフト３２と一体的に回転する。掘削部３６は、概ね円錐状に、即ち、先鋭な形状に形成されている。掘削部３６には、掘削部３６によって削った切屑を逃がすための溝が形成されている。 As shown in FIG. 3, the excavation portion 36 is arranged on the most tip side of the rotary shaft 32. The excavation portion 36 is attached to the rotary shaft 32 in a non-rotatable state. That is, the excavation portion 36 rotates integrally with the rotating shaft 32. The excavation portion 36 is formed in a substantially conical shape, that is, in a sharp shape. The excavation section 36 is formed with a groove for allowing the chips cut by the excavation section 36 to escape.

さらに、図３，６，７に示すように、フレーム３１のうち一対の縦フレーム３１ｂのそれぞれに、ガイド５が設けられている。ガイド５は、一対の第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂと、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂを縦フレーム３１ｂに連結する４つの第１〜第４リンク６１〜６４とを有している。第１ブレード５１Ａと第２ブレード５１Ｂとは、左右対称な形状をしている。第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向におけるガイド５の外側の管Ｐと接触することによって、清掃機構３を案内する。第１ブレード５１Ａと第２ブレード５１Ｂとを区別しない場合には、単に「ブレード５１」と称する。第１〜第４リンク６１〜６４は全て、同じ形状をしている。第１リンク６１、第２リンク６２、第３リンク６３及び第４リンク６４のそれぞれを区別しない場合には、単に「リンク６」と称する。 Further, as shown in FIGS. 3, 6 and 7, guides 5 are provided in each of the pair of vertical frames 31b of the frames 31. The guide 5 has a pair of first blades 51A and second blades 51B, and four first to fourth links 61 to 64 connecting the first blades 51A and the second blades 51B to the vertical frame 31b. .. The first blade 51A and the second blade 51B have symmetrical shapes. The first blade 51A and the second blade 51B guide the cleaning mechanism 3 by coming into contact with the pipe P outside the guide 5 in the Y-axis direction. When the first blade 51A and the second blade 51B are not distinguished, they are simply referred to as "blade 51". The first to fourth links 61 to 64 all have the same shape. When each of the first link 61, the second link 62, the third link 63, and the fourth link 64 is not distinguished, it is simply referred to as "link 6".

各ブレード５１は、Ｚ軸方向に延びる形状をしている。各ブレード５１は、Ｙ軸方向の外側（即ち、フレーム３１のＹ軸方向中央から遠い側）に概ねＺ軸方向に延びるエッジ５３を有している。エッジ５３が、管Ｐと接触する。エッジ５３のうちＺ軸方向の両端部は、図６，７に示すように、先端側ほどＹ軸方向の内側に位置するようにＺ軸に対して傾斜している。ＸＹ平面（即ち、清掃機構３の進行方向と直交する平面）によるエッジ５３の断面形状は、図８に示すように、Ｙ軸方向外側に向かって細くなる（即ち、Ｙ軸方向外側に位置する管Ｐに近いほど細い）先鋭な形状となっている。各ブレード５１には、第１〜第４リンク６１〜６４が連結されている。 Each blade 51 has a shape extending in the Z-axis direction. Each blade 51 has an edge 53 extending substantially in the Z-axis direction on the outside in the Y-axis direction (that is, the side of the frame 31 far from the center in the Y-axis direction). The edge 53 comes into contact with the tube P. As shown in FIGS. 6 and 7, both ends of the edge 53 in the Z-axis direction are inclined with respect to the Z-axis so as to be located inward in the Y-axis direction toward the tip side. As shown in FIG. 8, the cross-sectional shape of the edge 53 in the XY plane (that is, the plane orthogonal to the traveling direction of the cleaning mechanism 3) becomes thinner toward the outside in the Y-axis direction (that is, is located outside in the Y-axis direction). It has a sharp shape (the closer it is to the tube P, the thinner it is). The first to fourth links 61 to 64 are connected to each blade 51.

各リンク６の長手方向中央部は、縦フレーム３１ｂに回転自在に取り付けられている。第１リンク６１と第２リンク６２とは、同じ回転軸Ｃに取り付けられている。第３リンク６３と第４リンク６４とは、同じ回転軸Ｄに取り付けられている。各リンク６の長手方向一端部（以下、「第１端部」と称する）が第１ブレード５１Ａに連結され、各リンク６の長手方向他端部（以下、「第２端部」と称する）が第２ブレード５１Ｂに連結されている。 The central portion of each link 6 in the longitudinal direction is rotatably attached to the vertical frame 31b. The first link 61 and the second link 62 are attached to the same rotating shaft C. The third link 63 and the fourth link 64 are attached to the same rotating shaft D. One end in the longitudinal direction of each link 6 (hereinafter referred to as "first end") is connected to the first blade 51A, and the other end in the longitudinal direction of each link 6 (hereinafter referred to as "second end"). Is connected to the second blade 51B.

詳しくは、第１リンク６１の第１端部６１ａは、第１ブレード５１Ａに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。第１リンク６１の第２端部６１ｂは、第２ブレード５１Ｂに回転自在に取り付けられている。第２リンク６２の第１端部６２ａは、第１ブレード５１Ａに回転自在に取り付けられている。第２リンク６２の第２端部６２ｂは、第２ブレード５１Ｂに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。 Specifically, the first end portion 61a of the first link 61 is rotatably and slidably attached to the elongated hole 54 extending in the Z-axis direction formed in the first blade 51A. .. The second end 61b of the first link 61 is rotatably attached to the second blade 51B. The first end portion 62a of the second link 62 is rotatably attached to the first blade 51A. The second end portion 62b of the second link 62 is rotatably and slidably attached to the elongated hole 54 extending in the Z-axis direction formed in the second blade 51B.

同様に、第３リンク６３の第１端部６３ａは、第１ブレード５１Ａに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。第３リンク６３の第２端部６３ｂは、第２ブレード５１Ｂに回転自在に取り付けられている。第４リンク６４の第１端部６４ａは、第１ブレード５１Ａに回転自在に取り付けられている。第４リンク６４の第２端部６４ｂは、第２ブレード５１Ｂに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。 Similarly, the first end portion 63a of the third link 63 is rotatably and slidably attached to the elongated hole 54 extending in the Z-axis direction formed in the first blade 51A. .. The second end 63b of the third link 63 is rotatably attached to the second blade 51B. The first end 64a of the fourth link 64 is rotatably attached to the first blade 51A. The second end portion 64b of the fourth link 64 is rotatably and slidably attached to the elongated hole 54 extending in the Z-axis direction formed in the second blade 51B.

第１リンク６１及び第２リンク６２は、第１リンク６１の第１端部６１ａと第２リンク６２の第２端部６２ｂとがＹ軸方向に離れ且つ、第１リンク６１の第２端部６１ｂと第２リンク６２の第１端部６２ａとがＹ軸方向に離れるように、コイルバネ（図示省略）によって回転軸Ｃ回りに付勢されている。 In the first link 61 and the second link 62, the first end portion 61a of the first link 61 and the second end portion 62b of the second link 62 are separated from each other in the Y-axis direction, and the second end portion of the first link 61 is formed. The 61b and the first end portion 62a of the second link 62 are urged around the rotation axis C by a coil spring (not shown) so as to be separated from each other in the Y-axis direction.

同様に、第３リンク６３及び第４リンク６４は、第３リンク６３の第１端部６３ａと第４リンク６４の第２端部６４ｂとがＹ軸方向に離れ且つ、第３リンク６３の第２端部６３ｂと第４リンク６４の第１端部６４ａとがＹ軸方向に離れるように、コイルバネ（図示省略）によって回転軸Ｄ回りに付勢されている。 Similarly, in the third link 63 and the fourth link 64, the first end portion 63a of the third link 63 and the second end portion 64b of the fourth link 64 are separated from each other in the Y-axis direction, and the third link 63 is the third link 63. The two end portions 63b and the first end portion 64a of the fourth link 64 are urged around the rotation axis D by a coil spring (not shown) so as to be separated from each other in the Y-axis direction.

こうして、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｚ軸方向に延びる姿勢を維持したまま、Ｙ軸方向へ互いに離れるように付勢されている。つまり、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向においてガイド５の外側に位置する管Ｐにエッジ５３を押し付けるように付勢されている。尚、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向に移動する際にＺ軸方向にも移動する。図７に示すように、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、最も拡がった状態においては、フレーム３１よりもＹ軸方向へ拡がっている。尚、係止部３１ｃは、前述のように移動する第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂ並びに第１〜第４リンク６１〜６４と干渉しない位置に配置されている。 In this way, the first blade 51A and the second blade 51B are urged so as to be separated from each other in the Y-axis direction while maintaining the posture extending in the Z-axis direction. That is, the first blade 51A and the second blade 51B are urged to press the edge 53 against the pipe P located outside the guide 5 in the Y-axis direction. The first blade 51A and the second blade 51B also move in the Z-axis direction when they move in the Y-axis direction. As shown in FIG. 7, the first blade 51A and the second blade 51B are expanded in the Y-axis direction with respect to the frame 31 in the most expanded state. The locking portion 31c is arranged at a position that does not interfere with the moving first blades 51A and second blades 51B and the first to fourth links 61 to 64 as described above.

このように構成された清掃機構３は、図１，２に示すように、ケース１２内に収容可能となっている。Ｙ軸方向へ最も拡がった状態における一対のブレード５１の両エッジ５３間の距離は、ケース１２のＹ軸方向寸法よりも大きい。つまり、清掃機構３がケース１２内に収容された状態においては、一対のブレード５１がＹ軸方向内側へ縮まった状態となり、両エッジ５３がケース１２の内面に接触している。これにより、清掃機構３は、ケース１２内においてＹ軸方向の位置が決められる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the cleaning mechanism 3 configured in this way can be housed in the case 12. The distance between both edges 53 of the pair of blades 51 in the state of being most widened in the Y-axis direction is larger than the Y-axis direction dimension of the case 12. That is, when the cleaning mechanism 3 is housed in the case 12, the pair of blades 51 are contracted inward in the Y-axis direction, and both edges 53 are in contact with the inner surface of the case 12. As a result, the cleaning mechanism 3 is positioned in the case 12 in the Y-axis direction.

続いて、清掃装置１００の動作について説明する。図９は、清掃機構３が管Ｐを清掃している状態をＸ軸方向に見た図である。 Subsequently, the operation of the cleaning device 100 will be described. FIG. 9 is a view of the state in which the cleaning mechanism 3 is cleaning the pipe P in the X-axis direction.

清掃装置１００は、２本の管Ｐの間に清掃機構３を降下及び上昇させることによって、２本の管Ｐ及び、Ｚ軸方向において２本の管Ｐの下方に配列された管Ｐを清掃する。 The cleaning device 100 cleans the two pipes P and the pipes P arranged below the two pipes P in the Z-axis direction by lowering and raising the cleaning mechanism 3 between the two pipes P. To do.

まず、オペレータは、清掃装置１００を管Ｐの上に載置する。オペレータは、外部コントローラ９を操作して、清掃装置１００を清掃開始位置まで移動させる。例えば、清掃開始位置は、２本のクローラ２１が２本の管Ｐ上に管Ｐと平行な状態で載り、且つ、清掃装置１００が２本の管ＰのＵ軸方向の一端部に位置し、且つ、清掃機構３がＶ軸方向において２本の管Ｐの間に位置する位置である。清掃開始位置までの清掃装置１００の移動は、オペレータの目視で行ってもよいし、清掃装置１００のセンサが清掃開始位置を検知するようにしてもよい。オペレータの目視による場合には、外部コントローラ９からの入力は、装置本体１００の前進、後退又は旋回等の動作指令であってもよいし、それに加えて移動距離であってもよい。 First, the operator places the cleaning device 100 on the pipe P. The operator operates the external controller 9 to move the cleaning device 100 to the cleaning start position. For example, the cleaning start position is such that the two crawler 21 are placed on the two pipes P in a state parallel to the pipe P, and the cleaning device 100 is located at one end of the two pipes P in the U-axis direction. Moreover, the cleaning mechanism 3 is located between the two pipes P in the V-axis direction. The cleaning device 100 may be moved to the cleaning start position visually by the operator, or the sensor of the cleaning device 100 may detect the cleaning start position. In the case of visual observation by the operator, the input from the external controller 9 may be an operation command such as forward movement, backward movement, or turning of the device main body 100, or may be a movement distance in addition to the operation command.

清掃装置１００が清掃開始位置まで移動すると、オペレータは、外部コントローラ９を介して清掃開始の指令を入力する。 When the cleaning device 100 moves to the cleaning start position, the operator inputs a cleaning start command via the external controller 9.

本体コントローラ８は、清掃開始の指令を受けると、清掃機構３の回転シャフト３２を回転駆動させ、この状態で清掃機構３を昇降機構７によって２本の管Ｐの間に降下させる。回転シャフト３２の回転による遠心力によってスクレーパ３４が回転軸Ａを中心とする半径方向外側に拡がる。 When the main body controller 8 receives a command to start cleaning, the rotary shaft 32 of the cleaning mechanism 3 is rotationally driven, and in this state, the cleaning mechanism 3 is lowered between the two pipes P by the elevating mechanism 7. The scraper 34 expands outward in the radial direction about the rotation axis A due to the centrifugal force generated by the rotation of the rotation shaft 32.

スクレーパ３４は遠心力によって拡がるので、十分なスペースが存在しない場合には、スクレーパ３４は最大には拡がらず、可能な範囲で拡がる。つまり、スクレーパ３４の半径方向外側のスペースがＺ軸方向位置によって異なる場合、スクレーパ３４は、半径方向外側のスペースに応じて拡がりを変化させながら降下していく。清掃機構３が管群Ｑ内を降下する場合、図９に示すように、スクレーパ３４の半径方向外側に管Ｐが存在しない位置、又は、スクレーパ３４の半径方向外側に管Ｐが存在するもののスクレーパ３４が届かない位置においては、スクレーパ３４は、最大限拡がった状態となる（図９における第１清掃ユニット４Ａの比較的上部のスクレーパ３４を参照）。スクレーパ３４の半径方向外側に管Ｐが存在し且つスクレーパ３４が管Ｐに届く位置においては、スクレーパ３４が管Ｐに接触する状態まで拡がる（図９における第１清掃ユニット４Ａの比較的下部のスクレーパ３４及び第２清掃ユニット４Ｂのスクレーパ３４を参照）。その結果、スクレーパ３４は、管Ｐの横を通過する際に、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触する。 Since the scraper 34 expands due to centrifugal force, if there is not enough space, the scraper 34 does not expand to the maximum, but expands to the extent possible. That is, when the space on the outer side in the radial direction of the scraper 34 differs depending on the position in the Z-axis direction, the scraper 34 descends while changing the spread according to the space on the outer side in the radial direction. When the cleaning mechanism 3 descends in the pipe group Q, as shown in FIG. 9, the scraper is located at a position where the pipe P does not exist on the radial outside of the scraper 34, or the pipe P exists on the radial outside of the scraper 34. At a position where 34 does not reach, the scraper 34 is in the fully expanded state (see scraper 34, which is relatively upper part of the first cleaning unit 4A in FIG. 9). At the position where the pipe P exists on the radial outer side of the scraper 34 and the scraper 34 reaches the pipe P, the scraper 34 expands to the state where the scraper 34 is in contact with the pipe P (the scraper at a relatively lower portion of the first cleaning unit 4A in FIG. 9). 34 and scraper 34 of the second cleaning unit 4B). As a result, when the scraper 34 passes by the side of the pipe P, the scraper 34 comes into contact with the surface of the pipe P while changing the radial spread according to the surface shape of the pipe P.

つまり、清掃機構３の進行方向に沿って配列された（即ち、Ｗ軸方向に配列された）複数の管Ｐの間にスクレーパ３４が入り込んで、該複数の管Ｐの間に存在する付着物を除去すると共に該複数の管Ｐの表面に接触して管Ｐの付着物を除去する。その結果、スクレーパ３４は、管Ｐの表面のうち、清掃機構３が通過するスペースに面している部分だけでなく、該スペースから清掃機構３の進行方向と交差する方向（例えば、Ｖ軸方向）に離れた部分（即ち、奥まった部分）に付着した付着物も除去する。 That is, the scraper 34 enters between the plurality of pipes P arranged along the traveling direction of the cleaning mechanism 3 (that is, arranged in the W-axis direction), and the deposits existing between the plurality of pipes P. And contact the surfaces of the plurality of tubes P to remove the deposits on the tubes P. As a result, the scraper 34 is not only the portion of the surface of the pipe P facing the space through which the cleaning mechanism 3 passes, but also the direction intersecting the traveling direction of the cleaning mechanism 3 from the space (for example, the V-axis direction). ) Also removes deposits adhering to the distant portion (that is, the recessed portion).

好ましくは、スクレーパ３４が最も拡がった状態におけるスクレーパ３４の外接円Ｆ（図５参照）の直径は、Ｖ軸方向に並ぶ２つの管Ｐの軸心間の距離よりも大きく設定されている。これにより、スクレーパ３４は、管Ｐの側方をＷ軸方向に通過することによって、管Ｐの表面のうち概ね半周部分の付着物を除去することができる。 Preferably, the diameter of the circumscribed circle F (see FIG. 5) of the scraper 34 in the most expanded state of the scraper 34 is set to be larger than the distance between the axes of the two pipes P arranged in the V-axis direction. As a result, the scraper 34 can remove the deposits on the substantially half circumference of the surface of the pipe P by passing the side of the pipe P in the W-axis direction.

こうして、スクレーパ３４は、管Ｐの表面に付着した付着物を削り落としていく。 In this way, the scraper 34 scrapes off the deposits adhering to the surface of the pipe P.

このとき、スクレーパ３４は、２枚の円板３５の間に配置されている。そのため、清掃ユニット４の回転時やスクレーパ３４が管Ｐ等の他の物体と接触したときに、スクレーパ３４のＺ軸方向へのぶれを円板３５によって低減することができる。 At this time, the scraper 34 is arranged between the two disks 35. Therefore, when the cleaning unit 4 is rotated or the scraper 34 comes into contact with another object such as the pipe P, the scraper 34 can be reduced in the Z-axis direction by the disk 35.

また、清掃機構３が狭い隙間を通過する際にはスクレーパ３４の拡がりが抑えられる。スクレーパ３４の拡がりが最小となったときにはスクレーパ３４が円板３５内に収容される。すなわち、Ｚ軸方向を向いて見た場合に清掃ユニット４の最小外形は、円板３５の外形である。ここで、円板３５が無ければ、清掃ユニット４の最小外形は、先端部が回転シャフト３２に接近した３つのスクレーパ３４の外縁によって形成される（図４において円板３５を省略した状態）。この場合の清掃ユニット４の最小外形は、完全な円ではなく、隣り合う２つのスクレーパ３４の間に凹部が形成され、全体として凹凸を有している。このような凹凸を有する回転体である清掃ユニット４が管Ｐ等に接触すると、管Ｐ等からの反発が大きくなる。それに対し、円板３５が設けられていることによって、清掃ユニット４が管Ｐ等に接触した際の反発を低減することができる。 Further, when the cleaning mechanism 3 passes through a narrow gap, the scraper 34 is suppressed from spreading. When the spread of the scraper 34 is minimized, the scraper 34 is housed in the disk 35. That is, the minimum outer shape of the cleaning unit 4 when viewed in the Z-axis direction is the outer shape of the disk 35. Here, without the disk 35, the minimum outer shape of the cleaning unit 4 is formed by the outer edges of the three scrapers 34 whose tip portions are close to the rotating shaft 32 (state in which the disk 35 is omitted in FIG. 4). The minimum outer shape of the cleaning unit 4 in this case is not a perfect circle, but a recess is formed between two adjacent scrapers 34, and the cleaning unit 4 has irregularities as a whole. When the cleaning unit 4, which is a rotating body having such unevenness, comes into contact with the pipe P or the like, the repulsion from the pipe P or the like becomes large. On the other hand, by providing the disk 35, it is possible to reduce the repulsion when the cleaning unit 4 comes into contact with the pipe P or the like.

ここで、清掃機構３が２本の管Ｐの間を降下していく際に、清掃機構３の進行方向の前方（即ち、清掃機構３の下方）に灰等の付着物が存在している場合がある。例えば、管Ｐの表面の付着物の厚みが増大すると、付着物で覆われた２本の管ＰのＶ軸方向の間隔が小さくなる。付着物が多い場合には、２本の管ＰのＶ軸方向の間隔が付着物で埋まっていることがあるかもしれない。この間隔が円板３５の直径やフレーム３１のＹ軸方向寸法よりも小さくなると、清掃機構３が降下する際に円板３５及びフレーム３１が付着物に干渉し、清掃機構３の降下が阻害される。スクレーパ３４は、円板３５から半径方向外側の付着物を除去することができるが、円板３５の下方の付着物を除去することはできない。それに対し、清掃ユニット４の先端には、掘削部３６が設けられている。掘削部３６は、清掃機構３が降下する際に、回転シャフト３２と一体的に回転している。そのため、清掃機構３が降下する際に清掃機構３の下方に存在する付着物を掘削部３６が掘削していく。これにより、清掃機構３を円滑に降下させることができる。 Here, when the cleaning mechanism 3 descends between the two pipes P, deposits such as ash are present in front of the cleaning mechanism 3 in the traveling direction (that is, below the cleaning mechanism 3). In some cases. For example, as the thickness of the deposits on the surface of the pipe P increases, the distance between the two pipes P covered with the deposits in the V-axis direction becomes smaller. If there are many deposits, the distance between the two tubes P in the V-axis direction may be filled with deposits. If this interval is smaller than the diameter of the disk 35 and the Y-axis direction dimension of the frame 31, the disk 35 and the frame 31 interfere with the deposits when the cleaning mechanism 3 descends, and the descent of the cleaning mechanism 3 is hindered. To. The scraper 34 can remove the deposits on the outer side in the radial direction from the disc 35, but cannot remove the deposits on the lower side of the disc 35. On the other hand, an excavation portion 36 is provided at the tip of the cleaning unit 4. The excavation portion 36 rotates integrally with the rotating shaft 32 when the cleaning mechanism 3 descends. Therefore, when the cleaning mechanism 3 descends, the excavation section 36 excavates the deposits existing below the cleaning mechanism 3. As a result, the cleaning mechanism 3 can be smoothly lowered.

さらに、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する際には、ガイド５が清掃機構３を案内している。詳しくは、ガイド５の第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向において互いに離間する方向へ付勢されている。そのため、第１ブレード５１Ａは、Ｖ軸方向一方側の管Ｐに接触し、第２ブレード５１Ｂは、Ｖ軸方向他方側の管Ｐに接触する。こうして、清掃機構３は、Ｖ軸方向両側に位置する管Ｐに対してＶ軸方向位置が決められる。具体的には、清掃機構３は、Ｖ軸方向に並ぶ管ＰのＶ軸方向中央に位置決めされる。さらに、管Ｐに接触する第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂのエッジ５３の断面形状がＹ軸方向外側に向かって先鋭な形状となっているので、管Ｐの表面に付着物が付着していたとしても、エッジ５３は、付着物に切れ込んで管Ｐの表面に接触しやすくなる。これにより、清掃機構３の位置決め精度が向上する。 Further, when the cleaning mechanism 3 advances in the pipe group Q, the guide 5 guides the cleaning mechanism 3. Specifically, the first blade 51A and the second blade 51B of the guide 5 are urged in a direction in which they are separated from each other in the Y-axis direction. Therefore, the first blade 51A contacts the pipe P on one side in the V-axis direction, and the second blade 51B contacts the pipe P on the other side in the V-axis direction. In this way, the cleaning mechanism 3 is positioned in the V-axis direction with respect to the pipes P located on both sides in the V-axis direction. Specifically, the cleaning mechanism 3 is positioned at the center of the pipes P arranged in the V-axis direction in the V-axis direction. Further, since the cross-sectional shape of the edge 53 of the first blade 51A and the second blade 51B in contact with the pipe P is sharp toward the outside in the Y-axis direction, deposits are attached to the surface of the pipe P. Even so, the edge 53 cuts into the deposit and easily comes into contact with the surface of the tube P. As a result, the positioning accuracy of the cleaning mechanism 3 is improved.

尚、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂのエッジ５３のうちＺ軸方向の両端部は、先端側ほどＹ軸方向の内側に位置するように傾斜している。すなわち、即ち、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂの両エッジ５３のＹ軸方向の距離は、先端側ほど短くなっている。そのため、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂが２本の管Ｐの間に進入する際には、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１ＢのＺ軸方向の端部が管Ｐに引っかかることなく、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂが２本の管Ｐの間に円滑に進入していく。 Of the edges 53 of the first blade 51A and the second blade 51B, both ends in the Z-axis direction are inclined so as to be located inward in the Y-axis direction toward the tip side. That is, the distance between the edges 53 of the first blade 51A and the second blade 51B in the Y-axis direction is shorter toward the tip side. Therefore, when the first blade 51A and the second blade 51B enter between the two pipes P, the ends of the first blade 51A and the second blade 51B in the Z-axis direction do not get caught in the pipe P. The first blade 51A and the second blade 51B smoothly enter between the two pipes P.

清掃機構３は、清掃対象の管Ｐのうち最も下方の管Ｐを清掃ユニット４が通過するまで降下すると、昇降機構７によって上昇させられる。この清掃機構３の最下位への到達は、オペレータの目視で確認してもよいし、清掃装置３にセンサを設けて、センサによって検出するようにしてもよい。あるいは、清掃開始時にオペレータが清掃機構３の降下する距離を入力するようにしてもよい。 When the cleaning mechanism 3 descends until the cleaning unit 4 passes through the lowermost pipe P among the pipes P to be cleaned, the cleaning mechanism 3 is raised by the elevating mechanism 7. The arrival at the lowest level of the cleaning mechanism 3 may be visually confirmed by the operator, or the cleaning device 3 may be provided with a sensor and detected by the sensor. Alternatively, the operator may input the descending distance of the cleaning mechanism 3 at the start of cleaning.

清掃機構３が上昇する際にも、スクレーパ３４は、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触し、管Ｐの表面に付着した付着物を削り落としていく。つまり、清掃機構３は、降下時と上昇時との両方で、管Ｐの表面をスクレーパ３４で清掃する。 Even when the cleaning mechanism 3 rises, the scraper 34 contacts the surface of the pipe P while changing the spread in the radial direction according to the surface shape of the pipe P, and scrapes off the deposits adhering to the surface of the pipe P. I will drop it. That is, the cleaning mechanism 3 cleans the surface of the pipe P with the scraper 34 both when descending and when ascending.

清掃機構３には、Ｘ軸方向に並ぶ３つの清掃ユニット４が設けられているので、清掃機構３の１回の降下及び上昇によって、管ＰのうちＵ軸方向位置が異なる３箇所が清掃される。 Since the cleaning mechanism 3 is provided with three cleaning units 4 arranged in the X-axis direction, three places of the pipe P having different positions in the U-axis direction are cleaned by one descent and ascent of the cleaning mechanism 3. To.

清掃機構３の上下の往復が終了すると、清掃装置１００は、２本の管Ｐに沿ってＵ軸方向へ所定量だけ移動する。その後、清掃機構３は、再度、降下及び上昇を実行する。つまり、清掃機構３は、管Ｐのうち、先の清掃機構３の降下及び上昇時とはＵ軸方向位置が異なる部分を清掃する。 When the vertical reciprocation of the cleaning mechanism 3 is completed, the cleaning device 100 moves along the two pipes P in the U-axis direction by a predetermined amount. After that, the cleaning mechanism 3 executes descent and ascent again. That is, the cleaning mechanism 3 cleans the portion of the pipe P whose position in the U-axis direction is different from that when the cleaning mechanism 3 is lowered and raised.

尚、この清掃装置１００のＵ軸方向への移動は、清掃機構３の上昇が完了したときに清掃装置１００が自動で行ってもよいし、オペレータが外部コントローラ９を介して指令を入力することによって行ってもよい。 The movement of the cleaning device 100 in the U-axis direction may be automatically performed by the cleaning device 100 when the ascending of the cleaning mechanism 3 is completed, or the operator inputs a command via the external controller 9. May be done by.

こうして、清掃装置１００は、Ｕ軸方向の位置を変更しながら、清掃機構３の降下及び上昇を繰り返す。清掃装置１００は、清掃装置１００が載置された２本の管ＰのＵ軸方向の一端部から他端部までの移動を終了すると、清掃装置１００が載置された２本の管Ｐの間における清掃を終了する。 In this way, the cleaning device 100 repeatedly lowers and raises the cleaning mechanism 3 while changing the position in the U-axis direction. When the cleaning device 100 finishes moving the two pipes P on which the cleaning device 100 is mounted from one end to the other end in the U-axis direction, the cleaning device 100 of the two pipes P on which the cleaning device 100 is mounted Finish cleaning in between.

尚、２本の管ＰのＵ軸方向の他端部への清掃装置１００の到達は、オペレータが目視で確認してもよいし、清掃装置１００に設けられたセンサで検出してもよい。あるいは、清掃開始時にオペレータが清掃装置１００のＵ軸方向への移動距離を入力するようにしてもよい。 The arrival of the cleaning device 100 at the other end of the two pipes P in the U-axis direction may be visually confirmed by the operator or detected by a sensor provided in the cleaning device 100. Alternatively, the operator may input the moving distance of the cleaning device 100 in the U-axis direction at the start of cleaning.

続いて、清掃装置１００は、Ｖ軸方向へ移動し、清掃機構３を異なる２本の管Ｐの間に配置させる。詳しくは、清掃装置１００は、２本のクローラ２１が管Ｐと平行な状態から２本のクローラ２１が管Ｐと略直交する状態まで旋回する。そして、清掃装置１００は、管Ｐを横断して、清掃が終了した２本の管Ｐの間の隣りの２本の管Ｐの間に清掃機構３が位置するようになるまで移動する。清掃機構３が隣りの２本の管Ｐの間に移動すると、清掃装置１００は、２本のクローラ２１が管Ｐと平行な状態まで旋回する。旋回後、清掃装置１００は、２本の管ＰのＵ軸方向の端部まで移動する。尚、新たな２本の管Ｐの一方は、先に清掃が終了した２本の管Ｐの一方の管Ｐである。 Subsequently, the cleaning device 100 moves in the V-axis direction, and the cleaning mechanism 3 is arranged between two different pipes P. Specifically, the cleaning device 100 rotates from a state in which the two crawlers 21 are parallel to the pipe P to a state in which the two crawlers 21 are substantially orthogonal to the pipe P. Then, the cleaning device 100 moves across the pipes P until the cleaning mechanism 3 is located between the two adjacent pipes P between the two pipes P for which cleaning has been completed. When the cleaning mechanism 3 moves between the two adjacent pipes P, the cleaning device 100 turns the two crawlers 21 until they are parallel to the pipes P. After turning, the cleaning device 100 moves to the end of the two pipes P in the U-axis direction. One of the two new pipes P is one of the two pipes P that have been cleaned first.

そして、清掃装置１００は、新たな２本の管Ｐ及びその下方の管Ｐに対して前述と同様の清掃を行う。こうして、清掃装置１００は、清掃装置１００が載置される２本の管Ｐを変更しながら前述の清掃を繰り返すことによって、管群Ｑに含まれる管Ｐの清掃を行う。 Then, the cleaning device 100 cleans the two new pipes P and the pipes P below the new pipes P in the same manner as described above. In this way, the cleaning device 100 cleans the pipes P included in the pipe group Q by repeating the above-mentioned cleaning while changing the two pipes P on which the cleaning device 100 is placed.

ここで、一組の管Ｐの間の清掃終了後の清掃装置１００の旋回、清掃装置１００の管Ｐの横断、清掃装置１００の再旋回、及び、別の一組の管ＰのＵ軸方向端部への清掃装置１００の移動は、清掃装置１００が自動で行ってもよいし、オペレータが外部コントローラ９を介して指令を入力することによって行ってもよい。オペレータが指令を入力する場合には、清掃装置１００の旋回、横断、再旋回及び移動の全てを１度の指令で行ってもよいし、清掃装置１００の旋回、横断、再旋回及び移動の動作ごとに指令が入力されてもよい。 Here, the swivel of the cleaning device 100 after the completion of cleaning between the set of pipes P, the crossing of the pipe P of the cleaning device 100, the re-turning of the cleaning device 100, and the U-axis direction of another set of pipes P. The cleaning device 100 may be automatically moved to the end portion by the cleaning device 100, or may be performed by the operator inputting a command via the external controller 9. When the operator inputs a command, the cleaning device 100 may be swiveled, crossed, re-turned, and moved with a single command, or the cleaning device 100 may be swiveled, crossed, re-turned, and moved. A command may be input for each.

続いて、清掃装置１００の移動についてさらに詳しく説明する。図１０は、管Ｐと平行に移動する清掃装置１００をＸ軸方向に見た図である。図１１は、管Ｐと平行に移動する清掃装置１００をＺ軸方向に見た図である。図１２は、管Ｐ上で旋回する清掃装置１００をＸ軸方向に見た図である。図１３は、管Ｐ上で旋回する清掃装置１００をＺ軸方向に見た図である。尚、図１１，１３においては、清掃装置１００を模式的に図示している。また、図１１，１３においては、３つの清掃ユニット４のうち、清掃装置１００が載置された管ＰとＷ軸方向位置が同じ清掃ユニット４のみを図示している。 Subsequently, the movement of the cleaning device 100 will be described in more detail. FIG. 10 is a view of the cleaning device 100 moving in parallel with the pipe P as viewed in the X-axis direction. FIG. 11 is a view of the cleaning device 100 moving in parallel with the pipe P as viewed in the Z-axis direction. FIG. 12 is a view of the cleaning device 100 that swivels on the pipe P as viewed in the X-axis direction. FIG. 13 is a view of the cleaning device 100 that swivels on the pipe P as viewed in the Z-axis direction. In FIGS. 11 and 13, the cleaning device 100 is schematically shown. Further, in FIGS. 11 and 13, of the three cleaning units 4, only the cleaning unit 4 in which the pipe P on which the cleaning device 100 is mounted and the position in the W-axis direction are the same is shown.

前述の如く、清掃装置１００が管群Ｑに含まれる管Ｐを清掃する際には、清掃装置１００は、管Ｐの上を走行する。管Ｐの表面には付着物が付着しているので、クローラ２１が滑って空転し得る。そのため、清掃装置１００を所望の位置まで走行させることが困難な場合もあり得る。そこで、清掃装置１００は、清掃ユニット４を走行時のガイドに用いることによって、所望の位置までの移動を実現している。 As described above, when the cleaning device 100 cleans the pipe P included in the pipe group Q, the cleaning device 100 runs on the pipe P. Since the deposits are attached to the surface of the tube P, the crawler 21 can slip and slip. Therefore, it may be difficult to drive the cleaning device 100 to a desired position. Therefore, the cleaning device 100 realizes movement to a desired position by using the cleaning unit 4 as a guide during traveling.

基本的には、清掃装置１００は、管Ｐ上を移動する際には、清掃ユニット４が管Ｐと干渉しないように、図２に示すように清掃ユニット４を引き上げた状態（清掃ユニット４が走行機構２から下方に突出していない状態）で移動する。 Basically, the cleaning device 100 is in a state in which the cleaning unit 4 is pulled up as shown in FIG. 2 so that the cleaning unit 4 does not interfere with the pipe P when moving on the pipe P (the cleaning unit 4 is in a state of being pulled up. It moves in a state where it does not protrude downward from the traveling mechanism 2.

ただし、管ＰのＵ軸方向位置が異なる部分を清掃するために清掃装置１００が２本の管Ｐに沿ってＵ軸方向へ移動する際には、清掃装置１００は、図１０に示すように、清掃ユニット４を走行機構２よりも下方に突出させ、清掃装置１００が載置された２本の管Ｐの間に進入させた状態で走行する。清掃ユニット４が２本の管Ｐの間に進入しているので、清掃装置１００は、図１１に示すように、２本の管Ｐに沿って移動する際にＶ軸方向へ逸れていくことが規制される。つまり、清掃ユニット４は、清掃装置１００が管Ｐと平行に移動する際のガイドとして機能する。 However, when the cleaning device 100 moves in the U-axis direction along the two pipes P in order to clean the portions of the pipes P having different positions in the U-axis direction, the cleaning device 100 moves as shown in FIG. The cleaning unit 4 is projected below the traveling mechanism 2 and travels in a state where the cleaning device 100 is inserted between the two pipes P on which the cleaning device 100 is mounted. Since the cleaning unit 4 has entered between the two pipes P, the cleaning device 100 deviates in the V-axis direction when moving along the two pipes P, as shown in FIG. Is regulated. That is, the cleaning unit 4 functions as a guide when the cleaning device 100 moves in parallel with the pipe P.

このとき、複数の清掃ユニット４が２本の管Ｐの間に進入した状態となっていることが好ましい。清掃機構３では第１清掃ユニット４Ａと第３清掃ユニット４ＣのＺ軸方向位置が同じなので、第１清掃ユニット４Ａ及び第３清掃ユニット４Ｃが２本の管Ｐの間に進入させられる。Ｘ軸方向に並ぶ複数の清掃ユニット４が２本の管Ｐの間に進入しているので、清掃装置１００は、２本の管Ｐに沿って移動する際にＺ軸回りの回転が規制される。 At this time, it is preferable that the plurality of cleaning units 4 are in a state of being inserted between the two pipes P. In the cleaning mechanism 3, since the positions of the first cleaning unit 4A and the third cleaning unit 4C in the Z-axis direction are the same, the first cleaning unit 4A and the third cleaning unit 4C are allowed to enter between the two pipes P. Since a plurality of cleaning units 4 arranged in the X-axis direction enter between the two pipes P, the cleaning device 100 is restricted from rotating around the Z-axis when moving along the two pipes P. To.

また、清掃装置１００は、例えば清掃を行う２本の管Ｐを変更する場合のように、管Ｐを横切って移動する場合がある。このような場合、清掃装置１００は、クローラ２１が管Ｐに平行な状態から旋回して方向転換する必要がある。清掃装置１００は、旋回を行う際には、２つのクローラ２１を互いに反対方向に駆動する。つまり、一方のクローラ２１がＸ軸方向の一方側へ進行するように駆動され、他方のクローラ２１がＸ軸方向の他方側へ進行するように駆動される。これにより、清掃装置１００は、Ｚ軸と平行な軸回りに旋回する。しかし、クローラ２１が接している管Ｐの表面に付着物（例えば、灰）が付着していると、クローラ２１が空転して、清掃装置１００がうまく旋回しない場合がある。例えば、一方のクローラ２１だけが空転すると、他方のクローラ２１の進行方向へ清掃装置１００が移動していく。 Further, the cleaning device 100 may move across the pipes P, for example, when changing the two pipes P for cleaning. In such a case, the cleaning device 100 needs to turn the crawler 21 from a state parallel to the pipe P to change the direction. The cleaning device 100 drives the two crawlers 21 in opposite directions when making a turn. That is, one crawler 21 is driven so as to advance to one side in the X-axis direction, and the other crawler 21 is driven to advance to the other side in the X-axis direction. As a result, the cleaning device 100 turns around an axis parallel to the Z axis. However, if deposits (for example, ash) are attached to the surface of the pipe P in contact with the crawler 21, the crawler 21 may slip and the cleaning device 100 may not rotate properly. For example, when only one crawler 21 idles, the cleaning device 100 moves in the traveling direction of the other crawler 21.

これを防止するために、清掃装置１００は、清掃ユニット４を１つだけ２本の管Ｐの間に進入させた状態で旋回を行う。清掃機構３では第２清掃ユニット４Ｂが第１清掃ユニット４Ａ及び第３清掃ユニット４Ｃに比べて下方に突出しているので、図１２に示すように、第２清掃ユニット４Ｂが２本の管Ｐの間に進入させられる。スクレーパ３４は円板３５内に収容可能であり、円板３５の外径は、２本の管Ｐの間隔よりも小さい。すなわち、Ｚ軸方向に見た場合の第２清掃ユニット４Ｂの外形は、２本の管Ｐの間隔を直径とする円内に収まっている。そのため、第２清掃ユニット４Ｂが２本の管Ｐの間に進入した状態であっても、清掃装置１００は旋回することができる。尚、Ｚ軸方向に見た場合において、フレーム３１の短手方向寸法は、２本の管Ｐの間隔よりも小さいものの、フレーム３１の長手方向寸法は、２本の管Ｐの間隔よりも大きい。そのため、フレーム３１は、２本の管Ｐの間に進入していない。 In order to prevent this, the cleaning device 100 makes a turn with only one cleaning unit 4 inserted between the two pipes P. In the cleaning mechanism 3, the second cleaning unit 4B protrudes downward as compared with the first cleaning unit 4A and the third cleaning unit 4C. Therefore, as shown in FIG. 12, the second cleaning unit 4B has two pipes P. It is made to enter in between. The scraper 34 can be accommodated in the disk 35, and the outer diameter of the disk 35 is smaller than the distance between the two pipes P. That is, the outer shape of the second cleaning unit 4B when viewed in the Z-axis direction is within a circle whose diameter is the distance between the two pipes P. Therefore, the cleaning device 100 can rotate even when the second cleaning unit 4B has entered between the two pipes P. When viewed in the Z-axis direction, the lateral dimension of the frame 31 is smaller than the distance between the two pipes P, but the longitudinal dimension of the frame 31 is larger than the distance between the two pipes P. .. Therefore, the frame 31 does not enter between the two pipes P.

こうして、第２清掃ユニット４Ｂが２本の管Ｐの間に進入していると、一方のクローラ２１の駆動力が優位であったとしても、清掃装置１００は自由に移動することができない。第２清掃ユニット４Ｂが２本の管Ｐに係合し且つ２つのクローラ２１の駆動力が不均衡な状態で清掃装置１００が走行を継続すると、空転していたクローラ２１もやがて管Ｐとの間に摩擦力が作用するようになり、清掃装置１００が旋回するようになる。その結果、図１３に示すように、清掃装置１００は、その場で旋回できないとしても、２本の管Ｐに沿って少し移動しながら最終的には旋回していく。 In this way, when the second cleaning unit 4B is inserted between the two pipes P, the cleaning device 100 cannot move freely even if the driving force of one of the crawlers 21 is superior. When the cleaning device 100 continues to run in a state where the second cleaning unit 4B is engaged with the two pipes P and the driving forces of the two crawlers 21 are unbalanced, the crawler 21 that has been idling eventually becomes a pipe P. A frictional force acts between them, and the cleaning device 100 turns. As a result, as shown in FIG. 13, even if the cleaning device 100 cannot turn on the spot, it finally turns while moving a little along the two pipes P.

そして、２本のクローラ２１が管Ｐと概ね直交するようになると、清掃装置１００は、２本の管Ｐの間に進入していた清掃ユニット４が２本の管Ｐの間から引き抜かれるように昇降機構７によって清掃機構４を上昇させる。 Then, when the two crawlers 21 become substantially orthogonal to the pipes P, the cleaning device 100 causes the cleaning unit 4 that has entered between the two pipes P to be pulled out from between the two pipes P. The cleaning mechanism 4 is raised by the elevating mechanism 7.

清掃ユニット４が走行機構２から下方に突出していない状態となると、清掃装置１００は、管Ｐを横切るように移動する。清掃装置１００は、第２清掃ユニット４ＢがＶ軸方向において、次の清掃対象となる２本の管Ｐの間に位置するまで移動する。清掃装置１００が該位置まで移動すると、清掃装置１００は、第２清掃ユニット４Ｂだけが２本の管Ｐの間に進入するように清掃機構４を降下させる。この状態で、清掃装置１００は、前述のように旋回を行う。このときは、清掃装置１００は、２本のクローラ２１が２本の管Ｐと平行となるまで旋回する。 When the cleaning unit 4 does not protrude downward from the traveling mechanism 2, the cleaning device 100 moves so as to cross the pipe P. The cleaning device 100 moves until the second cleaning unit 4B is located between the two pipes P to be cleaned next in the V-axis direction. When the cleaning device 100 moves to the position, the cleaning device 100 lowers the cleaning mechanism 4 so that only the second cleaning unit 4B enters between the two pipes P. In this state, the cleaning device 100 makes a turn as described above. At this time, the cleaning device 100 turns until the two crawlers 21 are parallel to the two pipes P.

２本のクローラ２１が２本の管Ｐと平行となると、清掃装置１００は、複数の清掃ユニット４（具体的には、第１清掃ユニット４Ａ及び第３清掃ユニット４Ｃ）が２本の管Ｐの間に進入するように清掃機構４を降下させる。清掃装置１００は、前述のように複数の清掃ユニット４が２本の管Ｐの間に進入した状態で、清掃を再開する位置まで２本の管Ｐに沿って移動する。 When the two crawlers 21 are parallel to the two pipes P, the cleaning device 100 has a plurality of cleaning units 4 (specifically, the first cleaning unit 4A and the third cleaning unit 4C) having two pipes P. The cleaning mechanism 4 is lowered so as to enter between the two. The cleaning device 100 moves along the two pipes P to a position where cleaning is restarted in a state where the plurality of cleaning units 4 are inserted between the two pipes P as described above.

このように、清掃装置１００は、清掃ユニット４をガイドとして用いる場合には、清掃ユニット４を管Ｐの間に進入させる際、並びに、清掃ユニット４を管Ｐの間に進入させた状態で旋回又は移動する際には、回転シャフト３２を回転駆動している。回転シャフト３２が回転していると、スクレーパ３４が何かに接触した場合には、スクレーパ３４にはスクレーパ３４を円板３５内へ収容する方向への成分が作用する。そのため、スクレーパ３４が何かに接触したとしても、スクレーパ３４が円板３５内に収容される方向へ揺動して、スクレーパ３４の回転が維持される。つまり、実質的には、円板３５が管Ｐと接触することによって、清掃装置１００の移動を規制する。尚、清掃ユニット４がガイドとして機能する際の回転シャフト３２の回転速度は、清掃ユニット４が管Ｐの清掃する際の回転シャフト３２の回転速度よりも低速に設定されている。 As described above, when the cleaning unit 4 is used as a guide, the cleaning device 100 turns when the cleaning unit 4 is inserted between the pipes P and in a state where the cleaning unit 4 is inserted between the pipes P. Alternatively, when moving, the rotary shaft 32 is rotationally driven. When the rotating shaft 32 is rotating, when the scraper 34 comes into contact with something, a component in the direction of accommodating the scraper 34 in the disk 35 acts on the scraper 34. Therefore, even if the scraper 34 comes into contact with something, the scraper 34 swings in the direction of being accommodated in the disk 35, and the rotation of the scraper 34 is maintained. That is, substantially, the disk 35 comes into contact with the pipe P to restrict the movement of the cleaning device 100. The rotation speed of the rotating shaft 32 when the cleaning unit 4 functions as a guide is set to be lower than the rotation speed of the rotating shaft 32 when the cleaning unit 4 cleans the pipe P.

以上のように、管群Ｑ内を進行しながら、管群Ｑに含まれる管Ｐの表面を清掃する清掃機構３は、所定の回転軸Ａ回りに回転する回転シャフト３２と、管Ｐの表面に接触することによって管Ｐの表面の付着物を除去するスクレーパ３４（接触部）とを備え、スクレーパ３４は、回転シャフト３２の遠心力によって回転軸Ａを中心とする半径方向外側へ拡がるように回転シャフト３２に連結され（具体的には、円板３５及び揺動シャフト３７を介して間接的に連結され）、管Ｐの横を通過する際に、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触する。 As described above, the cleaning mechanism 3 that cleans the surface of the pipe P included in the pipe group Q while traveling in the pipe group Q includes the rotating shaft 32 that rotates around a predetermined rotation axis A and the surface of the pipe P. A scraper 34 (contact portion) for removing deposits on the surface of the pipe P by contacting the pipe P is provided, and the scraper 34 expands outward in the radial direction about the rotation axis A by the centrifugal force of the rotation shaft 32. It is connected to the rotating shaft 32 (specifically, indirectly connected via the disk 35 and the swing shaft 37), and when passing beside the pipe P, it follows the surface shape of the pipe P in the radial direction. It contacts the surface of the tube P while changing its spread to.

清掃機構３は、管群Ｑ内を進行する際に、管Ｐが存在しないスペース、例えば、管Ｐと管Ｐとの間のスペースを進行していく。そのような場合、管Ｐのうち、清掃機構３が通過するスペースに面している部分は、付着物の除去が比較的容易である。しかし、管Ｐのうち該スペースから清掃機構３の進行方向と交差する方向に離れた部分にも付着物が存在する。 When traveling in the pipe group Q, the cleaning mechanism 3 advances in a space where the pipe P does not exist, for example, a space between the pipes P and the pipe P. In such a case, the portion of the pipe P facing the space through which the cleaning mechanism 3 passes is relatively easy to remove the deposits. However, deposits are also present in the portion of the pipe P that is separated from the space in the direction intersecting the traveling direction of the cleaning mechanism 3.

それに対し、スクレーパ３４は、回転シャフト３２の遠心力によって半径方向外側に拡がるので、スクレーパ３４は、半径方向外側への拡がりを制限するものがなければ最大限に拡がり、半径方向外側への拡がりを制限するものがあれば可能な範囲で拡がることができる。このようなスクレーパ３４は、清掃機構３の進行方向に沿って配列された複数の管Ｐの間に進入するように拡がることができる。 On the other hand, since the scraper 34 expands radially outward due to the centrifugal force of the rotating shaft 32, the scraper 34 expands to the maximum if there is nothing that limits the radial outward expansion, and the scraper 34 expands radially outward. If there is something to limit, it can be expanded to the extent possible. Such a scraper 34 can be expanded so as to enter between a plurality of pipes P arranged along the traveling direction of the cleaning mechanism 3.

ただし、スクレーパ３４がこのように拡がったままでは、スクレーパ３４が管Ｐと干渉して、清掃機構３の進行を阻害してしまう。それに対し、スクレーパ３４は、回転シャフト３２の遠心力で拡がっているだけなので、スクレーパ３４は、管Ｐに接触すると、管Ｐの表面形状に倣って拡がりを変更して、清掃機構３の進行を阻害しないようする。スクレーパ３４は、管Ｐまでの距離が長い場合には半径方向外側への拡がりが大きくなり、管Ｐまでの距離が短い場合には半径方向外側への拡がりが小さくなる。このように、スクレーパ３４は、清掃機構３の進行に応じて、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触する。 However, if the scraper 34 remains expanded in this way, the scraper 34 interferes with the pipe P and hinders the progress of the cleaning mechanism 3. On the other hand, since the scraper 34 is only expanded by the centrifugal force of the rotating shaft 32, when the scraper 34 comes into contact with the pipe P, the scraper 34 changes its expansion according to the surface shape of the pipe P to advance the cleaning mechanism 3. Do not interfere. When the distance to the pipe P is long, the scraper 34 spreads outward in the radial direction becomes large, and when the distance to the pipe P is short, the spread outward in the radial direction becomes small. In this way, the scraper 34 comes into contact with the surface of the pipe P while changing the radial spread according to the surface shape of the pipe P according to the progress of the cleaning mechanism 3.

その結果、スクレーパ３４は、管Ｐのうち清掃機構の通過するスペースに面した部分、又は、該スペースに接近した部分に接触するだけでなく、該スペースから離れた部分にも接触することができるので、管Ｐの表面の比較的広い範囲に接触して付着物を削り落とすことができる。さらには、複数の管Ｐの形状が不均一であったり、複数の管Ｐが不均一に配列されている場合であっても、スクレーパ３４がその拡がりを柔軟に変更することによって、管Ｐの不均一な形状又は配列に対応して管Ｐの付着物を削り落とすことができる。これにより、清掃機構３は、管Ｐの表面の付着物を十分に除去することができる。 As a result, the scraper 34 can not only contact the portion of the pipe P facing the space through which the cleaning mechanism passes, or the portion close to the space, but also contact the portion away from the space. Therefore, it is possible to contact a relatively wide area on the surface of the tube P and scrape off the deposits. Furthermore, even if the shapes of the plurality of tubes P are non-uniform or the plurality of tubes P are non-uniformly arranged, the scraper 34 can flexibly change the spread of the tubes P. The deposits on the tube P can be scraped off corresponding to the non-uniform shape or arrangement. As a result, the cleaning mechanism 3 can sufficiently remove the deposits on the surface of the pipe P.

観点を変えると、管群Ｑに含まれる管Ｐの表面を清掃する清掃機構３は、所定の回転軸Ａ回りに回転する回転シャフト３２と、管Ｐの表面に接触することによって管Ｐの表面の付着物を除去するスクレーパ３４（接触部）とを備え、スクレーパ３４は、回転シャフト３２と一体的に回転する揺動シャフト３７に揺動可能に連結され、回転シャフト３２の遠心力によって揺動シャフト３７回りに揺動して回転軸Ａを中心とする半径方向外側へ拡がる。 From a different point of view, the cleaning mechanism 3 for cleaning the surface of the pipe P included in the pipe group Q has a rotating shaft 32 that rotates around a predetermined rotation axis A and a surface of the pipe P by contacting the surface of the pipe P. The scraper 34 is provided with a scraper 34 (contact portion) for removing the deposits of the above, and the scraper 34 is swingably connected to a swing shaft 37 that rotates integrally with the rotary shaft 32, and swings due to the centrifugal force of the rotary shaft 32. It swings around the shaft 37 and spreads outward in the radial direction about the rotation axis A.

この構成によれば、スクレーパ３４は、回転シャフト３２の遠心力によって揺動しながら半径方向外側へ拡がる。スクレーパ３４が回転シャフト３２の遠心力によって半径方向外側へ拡がる構成としては、その他にスクレーパ３４が半径方向へ摺動する構成も考えられる。そのような構成の場合、スクレーパ３４が半径方向へ拡がることができる範囲（即ち、スクレーパ３４が半径方向内側へ最も縮まった状態から半径方向外側へ最も拡がった状態までの半径方向へ拡がることができる範囲）は、スクレーパ３４が半径方向へ摺動できる距離で決まる。それに対し、スクレーパ３４が前述のように摺動する構成の場合、スクレーパ３４が半径方向へ拡がることができる範囲は、揺動シャフト３７からのスクレーパ３４の長さに依存し、スクレーパ３４が単純に半径方向へ摺動する構成よりも大きく設定することができる。 According to this configuration, the scraper 34 expands outward in the radial direction while swinging due to the centrifugal force of the rotating shaft 32. As a configuration in which the scraper 34 expands outward in the radial direction due to the centrifugal force of the rotating shaft 32, a configuration in which the scraper 34 slides in the radial direction is also conceivable. In such a configuration, the scraper 34 can be expanded in the radial direction from the state in which the scraper 34 can be expanded in the radial direction (that is, the state in which the scraper 34 is most contracted inward in the radial direction to the state in which the scraper 34 is most expanded in the radial direction). The range) is determined by the distance that the scraper 34 can slide in the radial direction. On the other hand, in the case where the scraper 34 slides as described above, the range in which the scraper 34 can expand in the radial direction depends on the length of the scraper 34 from the swing shaft 37, and the scraper 34 simply It can be set larger than the configuration that slides in the radial direction.

その結果、スクレーパ３４は、管Ｐのうち清掃機構の通過するスペースから離れた部分にまで接触するように大きく拡がることができるので、前述のように管Ｐの表面の比較的広い範囲に接触して付着物を削り落とすことができる。これにより、清掃機構３は、管Ｐの表面の付着物を十分に除去することができる。 As a result, the scraper 34 can be greatly expanded so as to come into contact with the portion of the pipe P that is distant from the space through which the cleaning mechanism passes, so that the scraper 34 comes into contact with a relatively wide range of the surface of the pipe P as described above. The deposits can be scraped off. As a result, the cleaning mechanism 3 can sufficiently remove the deposits on the surface of the pipe P.

また、清掃機構３は、回転軸Ａと同軸に設けられた円板３５をさらに備え、スクレーパ３４は、円板３５の外周縁Ｅの内側に収容される一方、回転シャフト３２の遠心力によって拡がる場合には円板３５の外周縁Ｅよりも外側へ突出する。 Further, the cleaning mechanism 3 further includes a disk 35 provided coaxially with the rotating shaft A, and the scraper 34 is housed inside the outer peripheral edge E of the disk 35, while being expanded by the centrifugal force of the rotating shaft 32. In the case, it protrudes outward from the outer peripheral edge E of the disk 35.

この構成によれば、スクレーパ３４が円板３５の内側に収容されるので、管群Ｑにおいて円板３５の外径よりも大きい隙間であれば、清掃機構３が進入することができる。そして、回転シャフト３２の遠心力がスクレーパ３４に作用することによって、スクレーパ３４は、円板３５の外周縁Ｅよりも外側へ突出し、管Ｐの付着物を除去する。 According to this configuration, since the scraper 34 is housed inside the disk 35, the cleaning mechanism 3 can enter the pipe group Q if the gap is larger than the outer diameter of the disk 35. Then, the centrifugal force of the rotating shaft 32 acts on the scraper 34, so that the scraper 34 protrudes outward from the outer peripheral edge E of the disk 35 and removes the deposits on the pipe P.

また、スクレーパ３４が円板３５内に収容された状態では、円板３５が管Ｐに接触し得る。円板３５の外形は円形なので、円板３５が管Ｐと接触しても管Ｐからの反発を低減することができる。 Further, in a state where the scraper 34 is housed in the disk 35, the disk 35 may come into contact with the pipe P. Since the outer shape of the disk 35 is circular, the repulsion from the tube P can be reduced even if the disk 35 comes into contact with the tube P.

さらに、清掃機構３は、回転軸Ａ上であってスクレーパ３４よりも先端側に設けられた掘削部３６をさらに備える。 Further, the cleaning mechanism 3 further includes an excavation portion 36 provided on the rotation shaft A and on the tip side of the scraper 34.

この構成によれば、清掃機構３が回転軸Ａの方向へ進行する際に、掘削部３６が進行方向前方に存在する付着物等の異物を掘削して除去していく。これにより、清掃機構３を円滑に進行させることができる。 According to this configuration, when the cleaning mechanism 3 advances in the direction of the rotation axis A, the excavation portion 36 excavates and removes foreign substances such as deposits existing in front of the traveling direction. As a result, the cleaning mechanism 3 can proceed smoothly.

また、清掃機構３は、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する際に清掃機構３を進行方向に案内するガイド５をさらに備え、ガイド５は、管Ｐと接触するエッジ５３を有し、進行方向と直交する平面によるエッジ５３の断面形状は、管Ｐに近いほど細い先鋭な形状となっている。 Further, the cleaning mechanism 3 further includes a guide 5 for guiding the cleaning mechanism 3 in the traveling direction when the cleaning mechanism 3 advances in the pipe group Q, and the guide 5 has an edge 53 in contact with the pipe P. The cross-sectional shape of the edge 53 on a plane orthogonal to the traveling direction is a sharper shape that is thinner as it is closer to the pipe P.

この構成によれば、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する際には、ガイド５が管Ｐと接触して清掃機構３を案内する。このとき、管Ｐの表面に付着物が付着していたとしても、ガイド５のエッジ５３が、付着物に切れ込んで管Ｐの表面に接触しやすくなる。これにより、清掃機構３が進行する際の清掃機構３の位置決め精度が向上する。 According to this configuration, when the cleaning mechanism 3 advances in the pipe group Q, the guide 5 comes into contact with the pipe P to guide the cleaning mechanism 3. At this time, even if deposits are attached to the surface of the pipe P, the edge 53 of the guide 5 cuts into the deposits and easily comes into contact with the surface of the pipe P. As a result, the positioning accuracy of the cleaning mechanism 3 when the cleaning mechanism 3 advances is improved.

また、ガイド５は、エッジ５３を管Ｐに押し付けるように付勢されている。 Further, the guide 5 is urged to press the edge 53 against the pipe P.

この構成によれば、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する場合に、清掃機構３と管Ｐとの距離が一定でなくても、ガイド５のエッジ５３を管Ｐに接触させることができる。つまり、ガイド５は、清掃機構３からの距離が様々な管Ｐに柔軟に対応して清掃機構３を案内することができる。 According to this configuration, when the cleaning mechanism 3 travels in the pipe group Q, the edge 53 of the guide 5 can be brought into contact with the pipe P even if the distance between the cleaning mechanism 3 and the pipe P is not constant. .. That is, the guide 5 can flexibly guide the cleaning mechanism 3 in response to pipes P having various distances from the cleaning mechanism 3.

《その他の実施形態》
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、前記実施形態を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、適宜、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用可能である。また、前記実施形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。また、添付図面および詳細な説明に記載された構成要素の中には、課題解決のために必須な構成要素だけでなく、前記技術を例示するために、課題解決のためには必須でない構成要素も含まれ得る。そのため、それらの必須ではない構成要素が添付図面や詳細な説明に記載されていることをもって、直ちに、それらの必須ではない構成要素が必須であるとの認定をするべきではない。 << Other Embodiments >>
As described above, the above-described embodiment has been described as an example of the technology disclosed in the present application. However, the technique in the present disclosure is not limited to this, and can be applied to embodiments in which changes, replacements, additions, omissions, etc. are made as appropriate. It is also possible to combine the components described in the above embodiment to form a new embodiment. In addition, among the components described in the attached drawings and detailed explanations, not only the components essential for problem solving but also the components not essential for problem solving in order to exemplify the above-mentioned technology. Can also be included. Therefore, the fact that those non-essential components are described in the accompanying drawings and detailed description should not immediately determine that those non-essential components are essential.

例えば、清掃機構３は、清掃装置１００に備えられているが、これに限られるものではない。前述の構成では、清掃機構３は、清掃装置１００によって搬送され且つ昇降させられる。しかし、清掃機構３は、オペレータが手動で操作するものであってもよい。つまり、オペレータが清掃機構３を把持して、管群Ｑ内で清掃機構３を移動させつつ清掃機構３で管Ｐの清掃を行ってもよい。また、清掃機構３が清掃装置１００に備えられた構成であったとしても、走行機構２又は昇降機構７の構成は、前述の構成に限られるものではない。例えば、走行機構２は、クローラではなく、車輪であってもよい。昇降機構７は、ウインチではなく、ラックアンドピニオンやパンタグラフであってもよい。 For example, the cleaning mechanism 3 is provided in the cleaning device 100, but is not limited thereto. In the above configuration, the cleaning mechanism 3 is conveyed and moved up and down by the cleaning device 100. However, the cleaning mechanism 3 may be manually operated by the operator. That is, the operator may grasp the cleaning mechanism 3 and clean the pipe P by the cleaning mechanism 3 while moving the cleaning mechanism 3 in the pipe group Q. Further, even if the cleaning mechanism 3 is provided in the cleaning device 100, the configuration of the traveling mechanism 2 or the elevating mechanism 7 is not limited to the above-mentioned configuration. For example, the traveling mechanism 2 may be a wheel instead of a crawler. The elevating mechanism 7 may be a rack and pinion or a pantograph instead of a winch.

清掃機構３が備える清掃ユニット４の個数は、３個に限られるものではない。清掃ユニット４は、１個、２個又は４個以上であってもよい。清掃機構３の昇降方向、即ち、Ｚ軸方向における各清掃ユニット４の位置は、前述の位置に限られるものではない。例えば、３個の清掃ユニット４のＺ軸方向の位置は、同じであってもよい。あるいは、３個の清掃ユニット４のＺ軸方向の位置は、全て異なっていてもよい。 The number of cleaning units 4 included in the cleaning mechanism 3 is not limited to three. The number of cleaning units 4 may be one, two, or four or more. The position of each cleaning unit 4 in the elevating direction of the cleaning mechanism 3, that is, in the Z-axis direction is not limited to the above-mentioned position. For example, the positions of the three cleaning units 4 in the Z-axis direction may be the same. Alternatively, the positions of the three cleaning units 4 in the Z-axis direction may all be different.

清掃ユニット４の構成は、前述の構成に限られるものではない。例えば、清掃ユニット４が有するスクレーパ３４の個数は、３個に限られず、１個、２個又は４個以上であってもよい。清掃ユニット４は、円板３５又は掘削部３６を有していなくてもよい。前述の清掃ユニット４は、４枚の円板３５によって形成される３つの隙間のそれぞれに複数のスクレーパ３４が設けられている。つまり、３組のスクレーパ３４が設けられている。しかし、スクレーパ３４の組数は、１組、２組又は４組以上であってもよい。 The configuration of the cleaning unit 4 is not limited to the above-mentioned configuration. For example, the number of scrapers 34 included in the cleaning unit 4 is not limited to three, and may be one, two, or four or more. The cleaning unit 4 does not have to have the disk 35 or the excavation section 36. The cleaning unit 4 described above is provided with a plurality of scrapers 34 in each of the three gaps formed by the four disks 35. That is, three sets of scrapers 34 are provided. However, the number of sets of the scraper 34 may be one set, two sets, or four sets or more.

スクレーパ３４の形状は、円弧状でなく、例えば直線状であってもよい。スクレーパ３４は、揺動する構成ではなく、摺動する構成であってもよい。例えば、スクレーパ３４に長孔が形成され、２つの円板３５の間に設けられたピンが長孔に挿通されるようにスクレーパ３４がピンに連結される構成であってもよい。この構成の場合、スクレーパ３４は、長孔内をピンが相対的に移動するようにピンに対して摺動可能である。スクレーパ３４が摺動可能な構成であれば、回転シャフト３２の遠心力がスクレーパ３４に作用すると、スクレーパ３４は遠心力に従って摺動し、半径方向外側へ拡がる。 The shape of the scraper 34 may be, for example, a straight line instead of an arc shape. The scraper 34 may have a sliding structure instead of a swinging structure. For example, the scraper 34 may have an elongated hole formed therein, and the scraper 34 may be connected to the pin so that the pin provided between the two discs 35 is inserted into the elongated hole. In this configuration, the scraper 34 is slidable with respect to the pin so that the pin moves relatively in the elongated hole. If the scraper 34 is slidable, when the centrifugal force of the rotating shaft 32 acts on the scraper 34, the scraper 34 slides according to the centrifugal force and expands outward in the radial direction.

清掃機構３は、ガイド５を備えているが、ガイド５を備えていなくてもよい。ガイド５の構成は、前述の構成に限られるものではない。ガイド５は、リンク６を有していなくてもよい。例えば、ブレード５１は、フレーム３１に対して摺動可能に連結され、且つ、バネ等でＹ軸方向外側へ付勢された構成であってもよい。 The cleaning mechanism 3 includes the guide 5, but the guide 5 may not be provided. The configuration of the guide 5 is not limited to the above-mentioned configuration. The guide 5 does not have to have the link 6. For example, the blade 51 may be slidably connected to the frame 31 and may be urged outward in the Y-axis direction by a spring or the like.

また、ブレード５１のエッジ５３の断面形状は、管Ｐに近いほど細い先鋭な形状であればよく、最も管Ｐに近い部分、即ち、管Ｐと接触する部分は多少丸まっていてもよい。 Further, the cross-sectional shape of the edge 53 of the blade 51 may be a sharp shape that is thinner as it is closer to the pipe P, and the portion closest to the pipe P, that is, the portion in contact with the pipe P may be slightly rounded.

以上説明したように、ここに開示された技術は、清掃機構について有用である。 As described above, the techniques disclosed herein are useful for cleaning mechanisms.

１００ 清掃装置
３ 清掃機構
３２ 回転シャフト
３４ スクレーパ（接触部）
４Ａ 第１清掃ユニット（清掃部）
４Ｂ 第２清掃ユニット（清掃部）
４Ｃ 第３清掃ユニット（清掃部）
５ ガイド
５３ エッジ
Ａ 回転軸
Ｑ 管群
Ｐ 管 100 Cleaning device 3 Cleaning mechanism 32 Rotating shaft 34 Scraper (contact part)
4A 1st cleaning unit (cleaning section)
4B 2nd cleaning unit (cleaning section)
4C 3rd cleaning unit (cleaning section)
5 Guide 53 Edge A Rotation axis Q Tube group P Tube

Claims (5)

管群内を進行しながら、前記管群に含まれる管の表面を清掃する清掃機構であって、
所定の回転軸回りに回転する回転シャフトと、
前記管の表面に接触することによって前記管の表面の付着物を除去する接触部と、
前記回転軸と同軸に設けられた円板とを備え、
前記接触部は、
前記回転シャフトの遠心力によって前記回転軸を中心とする半径方向外側へ拡がるように前記回転シャフトに連結され、
前記円板の外周縁の内側に収容される一方、前記回転シャフトの遠心力によって拡がる場合には前記円板の外周縁よりも外側へ突出し、
前記管の横を通過する際に、前記管の表面形状に倣って前記半径方向への拡がりを変更しながら前記管の表面に接触することを特徴とする清掃機構。 A cleaning mechanism that cleans the surface of the pipes included in the pipe group while traveling in the pipe group.
A rotating shaft that rotates around a predetermined axis of rotation,
A contact portion that removes deposits on the surface of the pipe by contacting the surface of the pipe ,
It is provided with a disk provided coaxially with the rotating shaft .
The contact part is
It is connected to the rotating shaft by the centrifugal force of the rotating shaft so as to expand outward in the radial direction about the rotating shaft.
While it is housed inside the outer peripheral edge of the disk, when it expands due to the centrifugal force of the rotating shaft, it protrudes outward from the outer peripheral edge of the disk.
A cleaning mechanism characterized in that when passing by the side of the pipe, the cleaning mechanism comes into contact with the surface of the pipe while changing the spread in the radial direction according to the surface shape of the pipe. 管群内を進行しながら、前記管群に含まれる管の表面を清掃する清掃機構であって、
所定の回転軸回りに回転する回転シャフトと、
前記管の表面に接触することによって前記管の表面の付着物を除去する接触部と、
前記回転軸上であって前記接触部よりも先端側に設けられた掘削部とを備え、
前記接触部は、
前記回転シャフトの遠心力によって前記回転軸を中心とする半径方向外側へ拡がるように前記回転シャフトに連結され、
前記管の横を通過する際に、前記管の表面形状に倣って前記半径方向への拡がりを変更しながら前記管の表面に接触することを特徴とする清掃機構。 A cleaning mechanism that cleans the surface of the pipes included in the pipe group while traveling in the pipe group.
A rotating shaft that rotates around a predetermined axis of rotation,
A contact portion that removes deposits on the surface of the pipe by contacting the surface of the pipe,
It is provided with an excavation portion on the rotation axis and provided on the tip side of the contact portion .
The contact part is
It is connected to the rotating shaft by the centrifugal force of the rotating shaft so as to expand outward in the radial direction about the rotating shaft.
A cleaning mechanism characterized in that when passing by the side of the pipe, the cleaning mechanism comes into contact with the surface of the pipe while changing the spread in the radial direction according to the surface shape of the pipe. 管群内を進行しながら、前記管群に含まれる管の表面を清掃する清掃機構であって、
所定の回転軸回りに回転する回転シャフトと、
前記管の表面に接触することによって前記管の表面の付着物を除去する接触部と、
前記清掃機構が前記管群内を進行する際に前記清掃機構を進行方向に案内するガイドとを備え、
前記接触部は、
前記回転シャフトの遠心力によって前記回転軸を中心とする半径方向外側へ拡がるように前記回転シャフトに連結され、
前記管の横を通過する際に、前記管の表面形状に倣って前記半径方向への拡がりを変更しながら前記管の表面に接触し、
前記ガイドは、前記管と接触するエッジを有し、
前記進行方向と直交する平面による前記エッジの断面形状は、前記管に近いほど細い先鋭な形状となっていることを特徴とする清掃機構。 A cleaning mechanism that cleans the surface of the pipes included in the pipe group while traveling in the pipe group.
A rotating shaft that rotates around a predetermined axis of rotation,
A contact portion that removes deposits on the surface of the pipe by contacting the surface of the pipe,
The cleaning mechanism is provided with a guide for guiding the cleaning mechanism in the traveling direction as it travels in the pipe group.
The contact part is
It is connected to the rotating shaft by the centrifugal force of the rotating shaft so as to expand outward in the radial direction about the rotating shaft.
When passing by the side of the pipe, it comes into contact with the surface of the pipe while changing the radial spread according to the surface shape of the pipe.
The guide has an edge in contact with the tube and has an edge.
A cleaning mechanism characterized in that the cross-sectional shape of the edge by a plane orthogonal to the traveling direction is a sharp shape that is thinner as it is closer to the pipe. 請求項３に記載の清掃機構において、
前記ガイドは、前記エッジを前記管に押し付けるように付勢されていることを特徴とする清掃機構。 In the cleaning mechanism according to claim 3,
The guide is a cleaning mechanism characterized in that the edge is urged to press against the pipe. 管群に含まれる管の表面を清掃する清掃機構であって、
所定の回転軸回りに回転する回転シャフトと、
前記管の表面に接触することによって前記管の表面の付着物を除去する接触部とを備え、
前記接触部は、前記回転シャフトと一体的に回転する揺動シャフトに揺動可能に連結され、前記回転シャフトの遠心力によって前記揺動シャフト回りに揺動して前記回転軸を中心とする半径方向外側へ拡がることを特徴とする清掃機構。 A cleaning mechanism that cleans the surface of pipes included in the pipe group.
A rotating shaft that rotates around a predetermined axis of rotation,
A contact portion for removing deposits on the surface of the pipe by contacting the surface of the pipe is provided.
The contact portion is swingably connected to a swing shaft that rotates integrally with the rotary shaft, and swings around the swing shaft by the centrifugal force of the rotary shaft to have a radius centered on the rotary shaft. A cleaning mechanism characterized by spreading outward in the direction.
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