JP6864685B2 - 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系 - Google Patents

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関連出願の相互参照

本願は、２０１５年１２月１５日に出願された独国特許出願第１０ ２０１５ ２２５ ２６２．０号に基づいて優先権を主張するものであり、その内容を本明細書に参照として援用する。

本発明は特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系に関する。

マイクロリソグラフィは、例えば集積回路やＬＣＤのような微細構造化構成要素の製造に使用される。マイクロリソグラフィプロセスは、照明デバイスおよび投影レンズを有するいわゆる投影露光装置において行われる。この場合、マスク構造を基板の感光性コーティングに転写するために、照明デバイスによって照明されたマスク（レチクル）の像は、感光層（フォトレジスト）によって被覆され、投影レンズの像面に配置された基板（例えばシリコンウエハ）上に、投影レンズによって投影される。

ＥＵＶ領域、すなわち波長約１３ｎｍまたは１７ｎｍ用に設計された投影レンズに関しては、適切な光透過性屈折性材料が不足していることから、結像プロセス用の光学部品としてミラーが使用される。例えば特許文献１に記載されているＥＵＶ用の典型的な投影レンズは、 開口数（ＮＡ）０．２〜０．３の像側開口数（ＮＡ）を有し、（例えば環状の）物体視野を像面またはウエハ面に結像する。

とりわけ、光学収差を補正するために、ミラーを投影レンズ内で能動的に作動可能に構成し、最大６自由度での位置操作および収差関連の操作または補正を達成することが知られている。しかしながらこの場合、投影レンズ内でのミラーの位置操作（例えば移動または傾斜）は同時にウエハ面で得られる像の動きを伴うという問題がある。ミラーの動きに対する望ましくない像位置応答の感度はこれらのミラーの動きに対する収差の望ましい操作よりも比較的大きく、いわゆる傾斜自由度において生じるミラーの動きの場合、特にそうであるため、問題は一層深刻である。

更なる実際の課題は、投影レンズ内の１つまたは複数のミラー位置を操作することによる収差補正はマイクロリソグラフィ露光プロセス中にも望ましいため、上述の問題は露光プロセスの休止中にウエハの位置を調整するたけでは解決することができない。

従来技術に関しては、特許文献２、特許文献３、特許文献４および特許文献５を単に例として参照する。

米国特許第７５３８８５６（Ｂ２）号明細書 米国特許第６８４２２９４（Ｂ２）号明細書 独国特許出願第１０２０１２２１２０６４（Ａ１）号明細書 独国特許出願第１０２０１００３８７４８（Ａ１）号明細書 国際公開第２００８／１２６９２５（Ａ１）号

上述の背景に対する本発明の目的は、特にマイクロリソグラフィ露光プロセス中においても上述の問題を生じさせることなく収差補正を可能にする、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系を提供することである。

この目的は独立請求項１の特徴によって達成される。

本発明による特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系は、
‐光学系の光線経路に配置され、光学系の作動中に発生する収差を補正するために移動可能な第１反射面と、
‐光学系の光線経路に配置された少なくとも１つの第２反射面とを有し、
‐第１反射面の移動中、第１反射面および第２反射面の相対位置が安定して維持可能であるように構成され、
‐第１反射面および第２反射面は光線経路内で直接的に相互に連続する、または第１反射面と第２反射面との間には反射光学素子のみが存在する。

ここで、本願の文脈において、第１反射面の移動中、第１反射面および第２反射面の相対位置が安定して維持可能であることの基準は、露光に伴う像の動き（image movement )が生じないことと理解されたい。好適には、この場合、第１反射面と第２反射面との相対位置は、これらの面の間の角度の最大変化または変動（１６ピコラジアン（ｐｒａｄ））を除き一定である。

本発明は、特に望ましくない（例えば、投影露光装置の投影レンズ内のウエハ面上における）像の動きを生じさせることなく収差補正のための移動を得るために、少なくとも２つの反射面を相互に安定した、またはほぼ一定の相対位置に維持するという概念に基づくものである。

本発明の特に有利な適用例は、マイクロリソグラフィ露光プロセス中、ミラーの位置操作によって収差補正を行うものであり、本発明によれば、これは、ウエハ面上の像の動き／シフトの補正を、ミラーを追加する必要なく実現することができる。

一実施形態によれば、光学系は基準位置に対する第１反射面および第２反射面の共通位置を制御するための第一制御ループを有する。この場合、共通位置は第１および第２面の位置の平均位置であると理解されよう。更なる実施形態において、光学系は基準位置に対する第１反射面の位置を制御する第１制御ループを有する。

一実施形態によれば、光学系は第１反射面と第２反射面との相対位置を制御する第２制御ループを有する。

一実施形態によれば、第１制御ループでの制御は少なくとも１つの第１センサのセンサ信号に基づいて行われ、第２制御ループでの制御は少なくとも１つの第２センサのセンサ信号に基づいて行われ、第１センサの感度は第２センサよりも低く、測定範囲は第２センサよりも大きい。この場合、第１および／または第２制御ループのそれぞれに、複数の自由度で一緒に測定を行う複数のセンサを設けることができる。

一実施形態によれば、第２制御ループでの制御は、第１反射面および第２反射面の相対位置を測定する少なくとも１つのセンサのセンサ信号に基づいて行われる。しかしながら本発明はそれに限定されない。更なる実施形態において、（共通の）基準物または基準面に対する第１反射面および第２反射面の各位置を測定することも可能である。

一実施形態によれば、第１反射面および第２反射面は相互に機械的に剛結合される。

一実施形態によれば、第１反射面および第２反射面はモノリシックに実現される。

一実施形態によれば、第１反射面および第２反射面は別個の鏡体上に実現される。

一実施形態によれば、第１反射面および第２反射面は光線経路において直接的に相互に連続する。

しかしながら本発明はこれらに限定されない。更なる実施形態において、少なくとも１つの反射光学素子が第１反射面と第２反射面との間の光線経路に配置される。特に、本発明は、（例えば、第１反射面から１つまたは複数の更なる光学素子に延び、そして第２反射面に戻る光学光路のため）第１反射面および第２反射面が、ビーム経路において直接的に相互に連続していないが、小さな距離を空けて相互に配置される実施形態も含む。

一実施形態によれば、第１反射面および／または第２反射面は、光学系の作動中それぞれの面に電磁放射が反射する際に発生する、それぞれの面法線に対する反射角度が少なくとも５５°，好適には少なくとも６０°，より好適には少なくとも６５°になるように配置される。

換言すれば、これらの実施形態において、反射面のうちの少なくとも１つをかすめ入射で作動させることができる。このような反射面を持つミラーを略してＧＩ（＝grazing incidence、かすめ入射）ミラーとも称する。この使用は、達成可能な反射率が比較的高い（例えば８０％以上）ことから一般に望ましい。更に、対応する光学系においては、連続するＧＩミラー間の距離が比較的小さい場合もあるため、本発明（例えば第１反射面と第２反射面とが機械的剛結合される場合）は、このような光学系において特に有利に実現することができる。

しかしながら本発明はＧＩミラーと関連する実現に限定されず、特に、２つの反射面のうちの少なくとも１つが垂直入射で作動される場合にも実現することができる。

一実施形態によれば、第１反射面および／または第２反射面は非球面である。このように、有効な収差補正が達成される一方で、少なくとも良好な近似値で、ウエハ面での像シフトを回避することができる。

一実施形態によれば、第１反射面の移動は光学系の作動中に行うことができる。

一実施形態によれば、光学系は３０ｎｍ未満、特に１５ｎｍ未満の動作波長に対して設計される。しかしながら本発明はこれに限定されず、例えばＤＵＶ範囲（例えば２５０ｎｍ未満）の波長でも有利に実現することができる。

一実施形態によれば、光学系はマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスまたは投影レンズである。

本発明は更に照明デバイスおよび投影レンズを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置に関し、照明デバイスは投影露光装置の作動中、投影レンズの物体面に位置するマスクを照明し、投影レンズはそのマスク上の構造を投影レンズの像面に位置する感光層に結像し、投影露光装置は上述の特徴を有する光学系を有する。

本発明は更に、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系を作動させる方法にも関し、光学系は光線経路に第１反射面および少なくとも１つの第２反射面を有し、第１反射面は光学系の作動中に発生する収差を補正するために移動され、移動中、第１反射面と第２反射面との相対位置は安定して維持され、第１反射面および第２反射面は光線経路において直接的に相互に連続する、または第１反射面と第２反射面との間には反射光学素子のみが存在する。

一実施形態によれば、基準位置に対する第１反射面の位置は第１制御ループ内で制御される。

一実施形態によれば、第１反射面と第２反射面との相対位置は第２制御ループ内で制御される。

一実施形態によれば、第１反射面および第２反射面は相互に機械的に剛結合される。

本発明の更なる構成を明細書および従属請求項に記載する。

添付図面に示す例示的実施形態を参照して本発明を以下に詳述する。

ＥＵＶで作動するように設計された投影露光装置の概略図である。 ａ）〜ｃ）は本発明の基本原理および作用形態を説明する概略図である。 本発明の基本原理および作用形態を説明する概略図である。 本発明の基本原理および作用形態を説明する概略図である。 本発明の更なる実施形態を説明する概略図である。 本発明の更なる実施形態を説明する概略図である。 本発明の更なる実施形態を説明する概略図である。 本発明の更なる実施形態を説明する概略図である。 本発明を実現することのできる投影レンズの例示的実施形態を説明する概略図である。

図１は、ＥＵＶ領域での作動のために設計され、本発明を実現することのできる例示的投影露光装置の概略図である。

図１によれば、ＥＵＶ用に設計された投影露光装置１００における照明デバイスは、視野ファセットミラー１０３および瞳ファセットミラー１０４を有する。プラズマ光源１０１および集光鏡１０２を含む光源部からの光は視野ファセットミラー１０３に向けられる。第１望遠鏡ミラー１０５および第２望遠鏡ミラー１０６は瞳ファセットミラー１０４の下流の光路に配置される。偏向ミラー１０７は光路の下流に配置され、それに入射する放射線を投影レンズ１５０の物体面の物体視野上に向ける。これは図１ａのみに示されている。マスクステージ１２０上の反射構造担持マスク１２１は物体視野に配置され、当該マスクは投影レンズ１５０によって像面に結像される。感光層（フォトレジスト）によってウエハステージ１６０上で被覆された基板１６１は当該像面に位置している。

本発明によれば、本発明の実施形態において、投影露光装置または投影レンズは、２つの反射面または反射鏡が相互に機械的に剛結合されるように構成することができ、特に図２ｂ、２ｃおよび図３を参照して以下に説明するように、ウエハ面上で望ましくない像の動きを生じさせることなく収差補正のために当該反射面が所定の回転軸を中心に回転できるように、１つの同じ鏡体上に実現させることができる。

更なる実施形態において、図４を参照して以下に更に詳述する、片方が２つの反射面の相対移動を制御または最小限に抑え、もう片方が反射面の共通の回転動作を制御し、更に収差補正にも作用する２つの制御ループを実現することにより、ウエハ面における望ましくない像シフトが制御され、これに伴い制御工学コストの削減が可能となる。

しかしながら先ずは本発明の基本的な概念について、図２のａ）〜ｃ）、図３および図４の概略図を参照して説明する。

図２のａ）〜ｃ）の概略図は、再帰反射器のそのような既知の機能原理を説明するものである。

入射光線の方向に対して傾斜される際、それぞれの反射光線の方向に敏感な反応を示す単純な平面鏡２１０（図２ａ）とは対照的に、図２ｂに示す、相互に固定された角度（本例では９０°）で配置された２つの反射面２２０ａ，２２０ｂを有する再帰反射器２２０では、第２反射面で反射される光線の方向は第１反射面２２０ａに入射する際の入射方向とは関係なく維持される。

第２反射面に反射する光線方向のこのような維持は、２つの反射面の直角配置（すなわち１８０°の反射）に限定されず、それぞれの光線を連続的に反射させる２つの表面の間の、他の（一定の）角度において実現される。そのため、２つの反射面２３０ａ，２３０ｂを有する図２ｃに示す鏡体２３０の移動中であっても、第１反射面２３０ａに入射する前の光線の１つの同じ入射方向に対するそれぞれの出射光線（すなわち第２反射面２３０ｂで反射される光線）の方向は維持されるか、または一定のままである。

上述の考察に基づき、本発明は、特に、リソグラフィプロセス中の相対位置が変わらない、投影レンズ内の２つの反射面を実現する概念を含む。これは、図３に示す例示的実施形態を参照して以下に説明するように、特に（ただし本発明をそれに限定することなく）、２つの反射面を相互に機械的に剛結合する、またはこれらを１つの同じ鏡体にモノリシックに実現することによって達成することができる。

図３は、上述の概念を実現させるための、２つの反射面３１１，３１２を有する鏡体３１０の構成を示し、同図に略的に示す様に、作動中に入射する光線はそれぞれの場合において２度連続して反射される（この場合、上述の様に、ミラーを有する投影レンズの像面またはウエハ面の下流に生成される像の位置は、鏡体３１０の移動に関係なく変化しない）。

また図３は、２つの反射面３１１，３１２を有する鏡体３１０のフレーム３０５に対する位置が位置センサ３２０によって測定され、アクチュエータ３３０を介してコントローラによって（設定点位置の値３０１に応じて）所望の値に設定される制御ループを示す。位置センサ３２０、アクチュエータ３３０およびコントローラ３４０は、図３の概略図において１自由度のみ、すなわち図面の平面に対して垂直に走る回転軸を中心とする回転運動に対してのみ作用する。技術的には、通常、複数の自由度を同時に操作することができる。

更なる実施形態において、複数の自由度を測定するために複数の位置センサ３２０を設けることも可能である。

ウエハ面に最終的に生成される像位置が収差補正のために行われる鏡体３１０の動きと関係なく維持されるという事実は、位置センサ３２０（または複数の位置センサ）が比較的低い測定精度を必要とするようになるという結果をもたらす。この精度は、単一の反射面が移動する際に像位置の安定性を確保しなければならない類似の方法で使用される位置センサの測定精度と比較すると、かなり低いものである。

換言すれば、位置センサ３２０の機能に関しては、収差に影響を及ぼすような鏡体３１０の位置決めに対しては、比較的粗い位置測定を行えば十分である。この位置測定には収差に影響を及ぼすために必要とされる位置決めに対応する大きな測定範囲（例えば５０μｍ）が必要であるが、移動する１つの反射面のみで反射する場合の像安定性を確保する位置センサと比較して、数桁低い測定精度が要求される。

そのため、センサ技術や制御工学に関するコストが大幅に削減され、そしてその結果、図３に示す構造における鏡体３１０、アクチュエータ３３０およびフレーム３０５の構造的に動的な設計に対する要求が低減される。

既に述べた様に、本発明は、同じ鏡体上の２つの連続する反射または反射面の実現、または他の方法で実現されるそれぞれの反射面の機械的剛結合に限定されない。更なる実施形態において、それぞれが反射面を有し、相互に剛結合されていない２つの別個の鏡体の相対位置を、適切な制御ループ内において制御することができる。この場合も、図４を参照して以下に詳述するように、センサ技術および制御工学のコストに関する大きな利点がある。

図４は２つの個々の鏡体４１０ａ，４１０ｂを示し、鏡体はそれぞれ反射面４１１，４１２を有し、これらの鏡体は相互に機械的に剛結合されていない。２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂの相対位置は相対センサ４２５によって決定される。（２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂまたは反射面４１１，４１２の相対移動は直接的に大きな像の動きをもたらす可能性があるので、）相対センサ４２５には比較的高い測定精度が必要とされるが、（反射面４１１，４１２は連続して同じ角度で配置されたままであるため）、当該相対センサには高い測定範囲が必要とされない。

相対位置センサ４２５の測定信号に基づき、コントローラ４４５を有する制御ループにおいて、２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂまたは２つの反射面４１１，４１２の相対位置は、それぞれの鏡体４１０ａ，４１０ｂに割り当てられた相対コントローラ４４５およびアクチュエータ４３１，４３２を用いて制御される。この場合、アクチュエータ４３１，４３２は、例えば鏡体４１０ａ，４１０ｂが相互に離れる望ましくない移動の場合、鏡体４１０ａ，４１０ｂに再びお互いの方に向かって動き出すような力が加えられるように駆動される。

第１アクチュエータ４３１によってかけられる力をｆ_１，第２アクチュエータ４３２によってかけられる力をｆ_２，作動変数または共通制御ループの力をｆ_ｃ，差動制御ループの作動変数をｆ_ｄとすると、
ｆ_１ ＝ｆ_ｃ＋ｆ_ｄ （１）
ｆ_２ ＝ｆ_ｃ−ｆ_ｄ （２）
となる。

（２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂ間の相対位置に関与する）コントローラ４４５を有する制御ループに加え、図４によれば、外部フレーム４０５に対する２つの鏡体４１０ａおよび４１０ｂの共通位置または平均位置を制御するコントローラ４４０を有する上位制御ループが実現さる。「４０１」は設定点位置の値を示す。この場合、
ｑ_ｃ＝ ｑ_１ ＋ １／２ ＊ ｑ_ｄ （３）
となり、ｑ_１は第１鏡体４１０ａの位置、ｑ_ｃは２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂの共通位置、ｑ_ｄは２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂの相対位置を示す。

コントローラ４４０を有する当該上位制御ループは（この点に関しては図３の例示的実施形態と同様に）、大きな測定範囲を有するセンサを必要とするが、同時に、必要とする測定精度は低い（というのもこの場合、例えば、収差を操作するための鏡体４１０ａ，４１０ｂの傾斜は比較的低い精度で、しかも例えば５０μｍを超える広い測定範囲にわたって決定しなければならない）。

本発明は図４に示すようなアクチュエータの具体的な配置に限定されない。更なる実施形態において、例えば、片方のアクチュエータを２つの鏡体４１０ａ，４１０ｂの間で作用させ、もう片方のアクチュエータを鏡体４１０ａ，４１０ｂのうちの１つとフレーム４０５との間で作用させることも可能である。

その結果、図４の例示的実施形態を実現するため、２つの制御ループのそれぞれにおいて適用可能なセンサ技術および制御工学に関する（特に、比較的小さな測定範囲にわたって高い測定精度を持つセンサ、および比較的大きな測定範囲にわたって低い測定精度を持つ別のセンサの）要求事項を比較的容易に実現させることができる。

図５ａ〜５ｄは本発明の更なる実施形態を説明する概略図であり、同じ構成部品または同じ機能を持つ構成部品は、図４に示す番号に「１００」を加えた番号で示している。

図５ａの実施形態は図４の実施形態と以下の点、すなわち、外フレームに対する１つの鏡体のみの位置を測定する代わりに、鏡体５１０ａ，５１０ｂの両方の平均位置を測定し、これが２つの鏡体５１０ａ，５１０ｂの外フレーム５０５に対する平均位置を制御するコントローラを有するそれぞれの上位制御ループの基準として用いられる点で異なる。「５０１」は設定点位置の値を示す。

図５ｂに示すコントローラ５４５を有する制御ループに関しては、鏡体５１０ａ，５１０ｂの相互位置の測定およびそれぞれの制御は図４と同様であるが、図４とは対照的に、外フレーム５０５に対する１つの鏡体５１０ｂの位置を測定し、これがコントローラ５４０を有する制御ループの基準として用いられる。コントローラは鏡体５１０ｂの位置を制御する。鏡体５１０ａの位置はコントローラ５４５によって間接的に制御される。

図５ｃの実施形態は図４の実施形態と、外フレーム５０５に対する鏡体５１０ａ，５１０ｂのそれぞれの位置が測定される点で異なる。これらの測定位置は、両方の制御ループ、すなわち鏡体５１０ａ，５１０ｂの共通位置または平均位置を制御するコントローラ５４０を有する制御ループ、および反射面５１１，５１２または鏡体５１０ａ, ５１０ｂの相対位置をそれぞれ制御するコントローラ５４５を有する制御ループに使用される。

図５ｄに係る実施形態は図４の実施形態と、測定対象物、２つの鏡体５１０ａ，５１０ｂの相対位置、外フレーム５０５に対する１つの鏡体５１０ｂの位置に関して同様である。しかし図４とは異なり、鏡体５１０ａ，５１０ｂの位置はコントローラ５５０または５６０を有する別個の制御ループでそれぞれ制御される。

図６は、本発明を実現することのできる投影レンズ６００の例示的かつ具体的な配置を示す。しかしながら本発明は図６に示す具体的な配置の投影レンズでの実現に限定されない。更なる例示的実施形態において、本発明は（例えば独国特許出願第１０２０１２２０２６７５（Ａ１）号明細書に開示されているような）異なる配置の投影レンズまたは他の光学系でも実現することができる。図６の例示的実施形態による投影レンズ６００はＭ１〜Ｍ８の８つのミラーを有し、その中のＭ１，Ｍ４，Ｍ７およびＭ８のミラーは照明光の垂直入射（入射角４５°未満）用のミラーとして実現され、モリブデン（Ｍｏ）およびシリコン（Ｓｉ）層からなる積層反射層を構成することができる。ミラーＭ２，Ｍ３，Ｍ５およびＭ６は照明光のかすり入射（６０°より大きい入射角）用のミラーとして実現され、例えば、モリブデン（Ｍｏ）またはルテニウム（Ｒｕ）から成る層で被覆することができる。

ほんの一例として、本発明における、その間の相対位置が安定している反射面を、ミラーＭ５，Ｍ６の光学有効面（かすり入射下で反射する２つの面の組み合わせ）、またはミラーＭ３，Ｍ４の光学有効面（かすり入射下で反射する面とほぼ垂直の入射で反射する面との組み合わせ）とすることができる。

本発明を特定の実施形態に基づいて説明してきたが、個々の実施形態の特徴の組み合わせおよび／または交換による多くの変形および代替実施形態が当業者にとって明らかである。従って、そのような変形および代替実施形態が本発明に含まれ、本発明の範囲が添付の特許請求項およびその等価物の観点からのみ限定されることは当業者にとって明らかであろう。

Claims (16)

1. マイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系であって、
   ‐前記光学系の光線経路に配置され、前記光学系の作動中に発生する収差を補正するために移動可能な第１反射面（３１１，４１１，５１１）と、
   ‐前記光学系の前記光線経路に配置された少なくとも１つの第２反射面（３１２，４１２，５１２）とを有し、
   ‐前記光学系は、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）の移動中、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）の相対位置が安定して維持可能であるように構成され、
   ‐前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）は前記光線経路内で直接的に相互に連続する、または前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）と前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）との間には反射光学素子のみが存在し、
   ‐前記第１反射面（４１１，５１１）および前記第２反射面（４１２，５１２）は別個の鏡体に実現され、
   基準位置に対する前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）の共通位置を制御する第１制御ループを有する光学系。
2. 請求項１に記載の光学系であって、前記第１反射面（４１１，５１１）および前記第２反射面（４１２，５１２）の相対位置を制御する第２制御ループを有する光学系。
3. 請求項２に記載の光学系であって、前記第１制御ループでの制御は少なくとも１つの第１センサ（４２０，５２０）のセンサ信号に基づいて行われ、前記第２制御ループでの制御は少なくとも１つの第２センサ（４２５，５２５）のセンサ信号に基づいて行われ、前記第１センサ（４２０，５２０）は前記第２センサ（４２５，５２５）よりも感度が低く、前記第２センサ（４２５，５２５）よりも測定範囲が大きい光学系。
4. 請求項２または３に記載の光学系であって、前記第２制御ループにおける制御は前記第１反射面（４１１，５１１）および前記第２反射面（４１２，５１２）の相対位置を測定する少なくとも１つのセンサ（４２５，５２５）のセンサ信号に基づいて行われる光学系。
5. 請求項１〜４の何れか一項に記載の光学系であって、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）及び前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）は前記光線経路において相互に直接的に連続する光学系。
6. 請求項１〜４の何れか一項に記載の光学系であって、前記第１反射面と前記第２反射面との間の前記光線経路に少なくとも１つの反射光学素子が配置される光学系。
7. 請求項１〜６の何れか一項に記載の光学系であって、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および／または前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）は、前記光学系の作動中、前記反射面のそれぞれに電磁放射が反射する際に発生する、それぞれの面法線に対する反射角度が少なくとも５５°となるように配置される光学系。
8. 請求項７に記載の光学系であって、前記反射角度が少なくとも６０°となる光学系。
9. 請求項８に記載の光学系であって、前記反射角度が少なくとも６５°となる光学系。
10. 請求項１〜９の何れか一項に記載の光学系であって、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および／または前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）は非球面である光学系。
11. 請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学系であって、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）の移動は前記光学系の作動中に行われることが可能な光学系。
12. 請求項１〜１１の何れか一項に記載の光学系であって、前記光学系は３０ｎｍ未満の動作波長用に設計される光学系。
13. 請求項１２に記載の光学系であって、前記光学系は１５ｎｍ未満の動作波長用に設計される光学系。
14. 請求項１〜１３の何れか一項に記載の光学系であって、前記光学系はマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスまたは投影レンズである光学系。
15. 照明デバイスおよび投影レンズを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、前記照明デバイスは、前記投影露光装置の作動中、前記投影レンズ（１５０）の物体面に配置されたマスク（１２１）を照明し、前記投影レンズは前記マスク（１２１）上の構造を前記投影レンズ（１５０）の像面に配置された感光層上に結像し、前記投影露光装置は請求項１〜１４の何れか一項に記載の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置。
16. マイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系の作動方法であって、前記光学系は光線経路内に第１反射面（３１１，４１１，５１１）および少なくとも１つの第２反射面（３１２，４１２，５１２）を有し、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）は前記光学系の作動中に生じる収差を補正するために移動され、前記移動中、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）と前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）との相対位置は安定して保たれ、前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）は前記光線経路内で相互に直接的に連続する、または前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）と前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）との間には反射光学素子のみが存在し、
    基準位置に対する前記第１反射面（３１１，４１１，５１１）および前記第２反射面（３１２，４１２，５１２）の共通位置を第１制御ループ内で制御し、
    前記第１反射面（４１１，５１１）と前記第２反射面（４１２，５１２）との相対位置を第２制御ループ内で制御する作動方法。
    

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