JP6845038B2 - How to divide the package board - Google Patents
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 252
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 73
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 23
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
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Description
本発明は、パッケージ基板を分割する方法に関するものである。 The present invention relates to a method of dividing a package substrate.
CSP(Chip Size Package)基板やQFN(Quad Flat Non-leaded package)基板等のパッケージ基板は、IC,LSI等の回路が作り込まれたチップを配線基板上に配置してモールド樹脂によって封止することにより形成されており、隣り合うチップとチップとの間に設定された分割予定ラインを縦横に切削することにより、個々のパッケージデバイスに分割される。 For package substrates such as CSP (Chip Size Package) substrates and QFN (Quad Flat Non-leaded package) substrates, chips with circuits such as ICs and LSIs are placed on the wiring boards and sealed with mold resin. By cutting the planned division line set between the adjacent chips vertically and horizontally, the device is divided into individual package devices.
パッケージ基板には、分割予定ラインとの一定の位置関係を有するアライメントマークと呼ばれるものが形成されており、アライメントマークを撮像して検出することにより、最初に切削しようとする分割予定ラインと切削ブレードとを位置合わせして切削を行うことができる。また、その他の分割予定ラインについては、通常は、すべての分割予定ラインが等間隔かつ平行に形成されているとの想定の下で、切削ブレードを一定間隔ずつインデックス送りしながら切削を行うこととしている。 An alignment mark, which has a certain positional relationship with the planned division line, is formed on the package substrate. By imaging and detecting the alignment mark, the planned division line and the cutting blade to be cut first are formed. It is possible to perform cutting by aligning with. In addition, for other scheduled division lines, it is usually assumed that all scheduled division lines are formed at equal intervals and in parallel, and cutting is performed while index-feeding the cutting blades at regular intervals. There is.
しかし、樹脂によるモールド時には、配線基板の伸縮等により、パッケージ基板に反りが発生する。そして、パッケージ基板に反りが生じると、分割予定ラインにも位置ずれや湾曲が生じる。したがって、パッケージ基板に反りがないと想定して切削を行うと、分割予定ラインを正確に切削することが困難となり、パッケージデバイスとなるべき部分を損傷させたり、寸法が大きなパッケージデバイスが形成されたりしてしまうという問題がある。特に、近年は、パッケージデバイスの小型化が求められ、分割予定ラインに形成される切削溝の幅も細くすること要求されており、上記問題が発生するおそれが高くなっている。 However, when molding with resin, the package substrate is warped due to expansion and contraction of the wiring board. Then, when the package substrate is warped, the planned division line is also displaced or curved. Therefore, if cutting is performed assuming that the package substrate is not warped, it becomes difficult to accurately cut the planned division line, which may damage the part that should be the package device or form a package device with a large size. There is a problem of doing it. In particular, in recent years, there has been a demand for miniaturization of package devices, and a demand for narrowing the width of a cutting groove formed in a planned division line, and there is a high possibility that the above problem will occur.
そこで、すべての分割予定ラインについてアライメントマークを検出して切削ブレードを分割予定ラインに位置合わせして切削することにより、分割予定ラインを正確に切削する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, a technique has been proposed in which the alignment mark is detected for all the planned division lines and the cutting blade is aligned with the planned division line to cut the scheduled division line accurately (for example, Patent Document 1). reference).
また、パッケージ基板には、チップが実装されたデバイス領域が複数のブロックに分かれて存在しているタイプのものもあり、このタイプのパッケージ基板では、ブロック間に余剰連結部が介在している。また、デバイス領域は、その外側から外周余剰領域と呼ばれる領域によって囲繞されている。 Further, there is a type of package board in which a device area on which a chip is mounted is divided into a plurality of blocks, and in this type of package board, a surplus connecting portion is interposed between the blocks. Further, the device area is surrounded by an area called an outer peripheral surplus area from the outside thereof.
このように複数のブロックを有するパッケージ基板を切削する場合においては、各分割予定ラインの角度を測定してブロックごとに切削を行い、1つのブロックを切削した後にパッケージ基板を回転させて角度を調整することにより、反りがあるパッケージ基板の分割予定ラインに沿った切削を行う技術も提案されている(例えば、特許文献2参照)。 When cutting a package substrate having a plurality of blocks in this way, the angle of each planned division line is measured, cutting is performed for each block, and after cutting one block, the package substrate is rotated to adjust the angle. By doing so, a technique for cutting along a planned division line of a package substrate having a warp has also been proposed (see, for example, Patent Document 2).
しかし、特許文献1に記載された記載の分割方法のように、すべての分割予定ラインについてアライメントマークを検出して切削しても、湾曲した分割予定ラインの平均位置を切削しているにすぎないため、切削位置の最大ずれ量を低減することはできるものの、ずれの総量を低減することはできない。
However, even if the alignment mark is detected and cut for all the scheduled division lines as in the division method described in
また、特許文献2に記載された分割方法は、いわゆるチョッパーカットによって切削を行うもので、切削ブレードをパッケージ基板の厚さ方向に下降させて切り込ませてからパッケージ基板を水平方向に送って1つのブロックの分割予定ラインに沿って切削をした後、切削ブレードを上昇させ、その後、次のブロックの分割予定ラインを切削するために再び切削ブレードを下降させるという制御が必要となる。このように切削ブレードをZ軸方向に上下させる動作が頻繁に発生すると、生産性が低下するという問題がある。
Further, the dividing method described in
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、パッケージ基板を分割予定ラインに沿って切削して個々のパッケージデバイスに分割する場合において、生産性を低下させずに分割予定ラインを精度よく切削できるようにすることを課題とする。 In the present invention, such a problem is considered, and when the package substrate is cut along the planned division line and divided into individual package devices, the planned division line is accurately divided without reducing the productivity. The challenge is to be able to cut.
第一の発明は、パッケージ基板の分割方法に関し、互いに直交する第一の方向及び第二の方向の分割予定ラインによって区画されてデバイスが複数形成され各分割予定ラインに対応するアライメントマークを備えたデバイス領域と、該デバイス領域を囲む外周余剰領域とから形成されたパッケージ基板を、パッケージ基板を保持する保持テーブルとパッケージ基板を撮像する撮像手段とパッケージ基板を切削する切削ブレードとを少なくとも備える加工装置によって、デバイスごとに分割するパッケージ基板の分割方法であって、パッケージ基板を該加工装置の該保持テーブルに保持する保持ステップと、該アライメントマークのうち各分割予定ラインの両端に位置するものをそれぞれ始点及び終点とし、該始点と該終点とを結ぶラインを基準ラインとし、該始点と該終点との間に形成され該基準ラインから距離が一番離れたアライメントマークを頂点とし、該基準ラインと該頂点との距離を最大反り量としたとき、該最大反り量の許容値を設定する許容値設定ステップと、各分割予定ラインについて該最大反り量が許容値以下か否かを判断する判断ステップと、該判断ステップにおいて該最大反り量が該許容値を超えたと判断された分割予定ラインについては、該分割予定ラインのうち該始点から該頂点までを結ぶ部分を該外周余剰領域から切削する第一次切削ステップと、該終点から該頂点までを結ぶ部分を該外周余剰領域から切削する第二次切削ステップとによって切削し、該判断ステップにおいて該最大反り量が許容値以下と判断された分割予定ラインについては該始点と該終点とを結ぶ該基準ラインを切削する切削ステップと、を備えることを特徴とする。 The first invention relates to a method for dividing a package substrate, in which a plurality of devices are formed by being partitioned by planned division lines in a first direction and a second direction orthogonal to each other, and an alignment mark corresponding to each planned division line is provided. A processing device including at least a holding table for holding a package substrate formed from a device region and an outer peripheral surplus region surrounding the device region, an imaging means for imaging the package substrate, and a cutting blade for cutting the package substrate. This is a method of dividing a package substrate for each device, in which a holding step of holding the package substrate on the holding table of the processing apparatus and one of the alignment marks located at both ends of each scheduled division line are selected. The start point and the end point are defined, the line connecting the start point and the end point is used as a reference line, and the alignment mark formed between the start point and the end point and the farthest distance from the reference line is used as the apex. When the distance from the apex is set as the maximum warp amount, a tolerance setting step for setting a permissible value for the maximum warp amount and a determination step for determining whether or not the maximum warp amount is equal to or less than the permissible value for each planned division line. With respect to the planned division line for which the maximum warp amount is determined to exceed the permissible value in the determination step, the portion of the planned division line connecting the start point to the apex is cut from the outer peripheral surplus region. A division in which a primary cutting step and a secondary cutting step of cutting a portion connecting the end point to the apex from the outer peripheral excess region are performed, and the maximum warpage amount is determined to be equal to or less than an allowable value in the determination step. The planned line is characterized by including a cutting step for cutting the reference line connecting the start point and the end point.
第二の発明は、上記第一及び第二の発明において、パッケージ基板に切り込む前記切削ブレードの回転方向が前記第一次切削ステップと前記第二次切削ステップとで同方向になるように、該第一次切削ステップの実施後に、パッケージ基板を保持する前記保持テーブルを180度回転させる回転ステップをさらに備え、該回転ステップの実施後に該第二次切削ステップを実施することを特徴とする。 The second invention is described in the first and second inventions so that the rotation direction of the cutting blade that cuts into the package substrate is the same in the primary cutting step and the secondary cutting step. After the execution of the primary cutting step, a rotation step of rotating the holding table for holding the package substrate by 180 degrees is further provided, and the secondary cutting step is executed after the execution of the rotation step.
本発明は、パッケージ基板の切削しようとする領域が1つのブロックからなる場合は、基準ラインと頂点との距離を最大反り量とし、最大反り量が所定の許容値を超えた分割予定ラインについては、始点から頂点までを結ぶ直線と、終点から頂点までを結ぶ直線とに分けて切削することとしたため、反りがあるパッケージ基板であっても、分割予定ラインを精度よく切削することができる。反りの程度が高い部分については、始点から頂点までと終点から頂点までとに分けて切削し、ともに外周余剰領域側から切削するため、切削開始時に、チョッパーカットのように切削ブレードをゆっくりと下降させる必要がないため、加工時間を短縮することができる。 In the present invention, when the region to be cut of the package substrate consists of one block, the distance between the reference line and the apex is set as the maximum warp amount, and the maximum warp amount exceeds a predetermined allowable value for the planned division line. Since it is decided to cut the straight line connecting the start point to the apex and the straight line connecting the end point to the apex separately, even if the package substrate has a warp, the planned division line can be cut accurately. The part with a high degree of warpage is cut separately from the start point to the apex and from the end point to the apex, and both are cut from the outer peripheral surplus area side, so the cutting blade is slowly lowered like a chopper cut at the start of cutting. Since it is not necessary to make the processing time, the processing time can be shortened.
頂点を境にして2回に分けて切削する場合又はブロックごとに切削する場合において、第一次切削ステップの後に保持テーブルを180度回転させてから第二次切削ステップを実施することにより、両ステップにおける切削ブレードの回転方向を同方向とすることができる。 In the case of cutting in two steps with the apex as the boundary or in each block, by rotating the holding table 180 degrees after the primary cutting step and then performing the secondary cutting step, both are performed. The direction of rotation of the cutting blade in the step can be the same.
図1に示す切削装置1は、保持テーブル10に保持されたパッケージ基板W等の被加工物を切削手段11によって切削する装置である。
The
切削対象のパッケージ基板W1は、テープ30に貼着される。テープ30には環状のフレーム31が貼着され、パッケージ基板Wは、テープ30を介してフレーム31に支持された状態となる。
The package substrate W1 to be cut is attached to the
切削装置1の前部には、カセット200が載置されるカセット載置部20が設けられている。カセット載置部20は、昇降可能となっている。カセット200には、テープ30
を介してフレーム31に支持されたパッケージ基板W(以下、「ワークユニットU」という。)が複数収容される。
A
A plurality of package substrates W (hereinafter, referred to as “work unit U”) supported by the
カセット載置部20の後方(+Y方向側)には、ワークユニットUを仮置きする仮置き部21が配設されている。また、仮置き部21の後方には、カセット200からワークユニットUを仮置き部21に搬出するとともに切削加工後のワークユニットUを仮置き部21からカセット200に搬入する搬出入手段22が配設されている。
A
仮置き部21の近傍には、仮置き部21と保持テーブル10との間でワークユニットUを搬送する第一の搬送手段23が配設されている。保持テーブル10は、第一の搬送手段23によるワークユニットUの搬入及び搬出が行われる着脱領域10aと、切削手段11による切削加工が行われる加工領域10bとの間をX軸方向に移動可能となっている。
A first transport means 23 for transporting the work unit U between the
着脱領域10aの後方には、切削加工後のワークユニットUを洗浄する洗浄手段24が配設されている。また、洗浄手段24の上方には、着脱領域10aに位置する保持テーブルと洗浄手段24との間でワークユニットUを搬送する第二の搬送手段25が配設されている。
A cleaning means 24 for cleaning the work unit U after cutting is provided behind the attachment /
図2に示すように、保持テーブル10は、被加工物を吸着するポーラス部材等からなる吸着部100と、吸着部100を支持する枠体101と、吸着部100及び枠体101の周囲に配設されたカバー102と、吸着部の底面側に連結され吸着部100及び枠体101を回転駆動する回転手段103と、枠体101の周方向に均等に4つ配設された固定クランプ104とを備えている。吸着部100は図示しない吸引源に連通し、吸着部100の露出面である保持面100aにおいて被加工物を吸引保持する。
As shown in FIG. 2, the holding table 10 is arranged around a
保持テーブル10は、切削送り手段12によって駆動されてX軸方向に移動可能となっている。切削送り手段12は、X軸方向の軸心を有するボールネジ120と、ボールネジ120と平行に配設された一対のガイドレール121と、ボールネジ120を回動させるモータ122と、内部のナットがボールネジ120に螺合し底部がガイドレール121に摺接する可動板123とから構成されており、モータ122がボールネジ120を回動させると、これに伴い可動板123がガイドレール121にガイドされてX軸方向に移動し、可動板123上に配設された保持テーブル10が可動板123の移動にともないX軸方向に移動する構成となっている。
The holding table 10 is driven by the cutting feed means 12 and can move in the X-axis direction. The cutting feed means 12 includes a
切削手段11は、Y軸方向の軸心を有するスピンドル111と、スピンドル111を回転可能に支持するハウジング110と、スピンドル111を回転駆動するモータ112と、スピンドル111の先端部に装着された切削ブレード113とを備えている。ナット111aを締め付けることにより切削ブレード113がスピンドル111に固定されており、モータ112がスピンドル111を回転駆動することにより切削ブレード113も回転する構成となっている。
The cutting means 11 includes a
ハウジング110にはブレードカバー114が取り付けられており、ブレードカバー114には、被加工物と切削ブレード113とが接触する加工点に切削水を供給する切削水供給ノズル115が取り付けられている。
A
ハウジング110の側面にはアライメント手段19が配設されている。アライメント手段19は、被加工物Wを撮像する撮像部190を備えており、撮像部190は、例えば、被加工物Wに光を照射する光照射部と、被加工物Wからの反射光を捕らえる光学系および反射光に対応した電気信号を出力する撮像素子(CCD)等で構成されたカメラとを備えている。アライメント手段19と切削手段11とは連動してY軸方向及びZ軸方向へと移
動する。
Alignment means 19 is arranged on the side surface of the
切削装置1の基台1A上には、切削手段11をY軸方向に移動させる割り出し送り手段13が備えられている。割り出し送り手段13は、Y軸方向の軸心を有するボールネジ130と、ボールネジ130と平行に配設された一対のガイドレール131と、ボールネジ130を回動させるモータ132と、内部のナットがボールネジ130に螺合し底部がガイドレール131に摺接する可動板133とから構成され、モータ132がボールネジ130を回動させると可動板133がガイドレール131にガイドされてY軸方向に移動し、これにともない可動板133上に配設された切削手段11がY軸方向に移動する構成となっている。
On the
可動板133上からは壁部145が一体的に立設されており、壁部145の+X方向側の側面にはZ軸方向に切削手段11を往復移動させる切り込み送り手段14が備えられている。切り込み送り手段14は、Z方向の軸心を有するボールネジ140と、ボールネジ140と平行に配設された一対のガイドレール141と、ボールネジ140を回動させるモータ142と、内部のナットがボールネジ140に螺合し側部がガイドレール141に摺接するホルダー143とから構成され、モータ142がボールネジ140を回動させるとホルダー143がガイドレール141にガイドされてZ軸方向に移動し、これにともないホルダー143に支持されている切削手段11がホルダー143の移動に伴いZ軸方向に移動する構成となっている。
A
切削装置1は、CPU及びメモリ等で構成され装置全体の制御を行う制御手段16を備えている。切削送り手段12を構成するモータ122、割り出し送り手段13を構成するモータ132、切り込み送り手段14を構成するモータ142等に接続されており、制御手段16による制御の下で、切削送り手段12による保持テーブル10のX軸方向の移動、割り出し送り手段13及び切り込み送り手段14による切削手段11のY軸方向及びZ軸方向の移動等が制御される。また、制御手段16には記憶手段17が接続されており、制御に用いるデータ等を記憶手段17に記憶させることができる。さらに、制御手段16には表示手段18が接続されており、撮像部190が撮像した画像等を表示手段18に表示させることができる。
The
以下では、カセット200からワークユニットUを搬出して切削手段11による切削を行い、切削後の被加工物を洗浄手段24によって洗浄し、洗浄後のワークユニットUをカセット200に収容する場合における切削装置1の動作について説明する。
In the following, the work unit U is carried out from the
1 第一例
(1)被加工物の構成
図3に示すパッケージ基板W1は、配線基板の表面に複数の半導体チップを配置してボンディングし、樹脂によってモールディングすることにより、1枚の基板として構成されている。
1 First Example (1) Structure of Work Work The package substrate W1 shown in FIG. 3 is configured as one substrate by arranging a plurality of semiconductor chips on the surface of a wiring substrate, bonding them, and molding them with a resin. Has been done.
このパッケージ基板W1は、チップが実装されモールディングされた領域が2つのブロックA、Bに分かれており、個々のブロックは、分割予定ラインによって複数のチップ領域Cに区画されている。図3の例では、個々のブロックA,Bにそれぞれ9個のチップ領域Cが存在しているが、チップ領域Cの数は、図示の例には限定されない。なお、以下では、分割予定ラインを、単に「ライン」と称する。 In this package substrate W1, the area in which the chip is mounted and molded is divided into two blocks A and B, and each block is divided into a plurality of chip areas C by a planned division line. In the example of FIG. 3, nine chip regions C exist in each of the blocks A and B, but the number of chip regions C is not limited to the illustrated example. In the following, the planned division line is simply referred to as a “line”.
隣り合うブロックは、余剰連結領域Dを介して接続されている。また、ブロックA及びBは、外周余剰領域Eによって囲繞されている。余剰連結領域D及び外周余剰領域Eは、配線基板を構成する金属板である。このパッケージ基板W1は、長手方向である第一方向
(X軸方向)に延在する複数の第一のラインS1と短手方向である第二方向(Y軸方向)に延在する複数の第二のラインS2とを有しており、本来は第一のラインS1と第二のラインS2とが互いに直交するものであるが、余剰連結領域Dにおいて湾曲しているために、第一のラインS1が湾曲しており、また、第二のラインS2は、互いが平行でない状態となっている。図2の例における複数の第一のラインS1は、4本のラインS11、S12、S13、S14により構成され、複数の第二のラインS2は、8本のS21、S22、S23、S24、S25、S26、S27、S28により構成されている。
Adjacent blocks are connected via a surplus connection area D. Further, the blocks A and B are surrounded by the outer peripheral surplus area E. The surplus connecting region D and the outer peripheral surplus region E are metal plates constituting the wiring board. The package substrate W1 has a plurality of first lines S1 extending in the first direction (X-axis direction) in the longitudinal direction and a plurality of first lines extending in the second direction (Y-axis direction) in the lateral direction. It has two lines S2, and originally the first line S1 and the second line S2 are orthogonal to each other, but since they are curved in the surplus connection region D, the first line S2 is formed. S1 is curved, and the second line S2 is not parallel to each other. The plurality of first lines S1 in the example of FIG. 2 are composed of four lines S11, S12, S13, and S14, and the plurality of second lines S2 are eight S21, S22, S23, S24, and S25. , S26, S27, S28.
余剰連結領域D及び外周余剰領域Eには、個々のラインに対応するアライメントマークが形成されている。アライメントマークA11、A14、B11、B14は、第一のラインS11上に形成され、アライメントマークA21、A24、B21、B24は、第一のラインS12上に形成され、アライメントマークA31、A34、B31、B34は、第一のラインS13上に形成され、アライメントマークA41、A44、B41、B44は、第一のラインS14上に形成されている。一方、アライメントマークA11、A41は、第二のラインS21上に形成され、アライメントマークA12、A42は、第二のラインS22上に形成され、アライメントマークA13、A43は、第二のラインS23上に形成され、アライメントマークA14、A44は、第二のラインS24上に形成され、アライメントマークB11、B41は、第二のラインS25上に形成され、アライメントマークB12、A42は、第二のラインS26上に形成され、アライメントマークB13、B43は、第二のラインS27上に形成され、アライメントマークB14、B44は、第二のラインS28上に形成されている。 Alignment marks corresponding to individual lines are formed in the surplus connecting region D and the outer peripheral surplus region E. Alignment marks A11, A14, B11, B14 are formed on the first line S11, alignment marks A21, A24, B21, B24 are formed on the first line S12, and alignment marks A31, A34, B31, B34 is formed on the first line S13, and the alignment marks A41, A44, B41, and B44 are formed on the first line S14. On the other hand, the alignment marks A11 and A41 are formed on the second line S21, the alignment marks A12 and A42 are formed on the second line S22, and the alignment marks A13 and A43 are formed on the second line S23. The alignment marks A14 and A44 are formed on the second line S24, the alignment marks B11 and B41 are formed on the second line S25, and the alignment marks B12 and A42 are formed on the second line S26. The alignment marks B13 and B43 are formed on the second line S27, and the alignment marks B14 and B44 are formed on the second line S28.
アライメントマークA11、A21、A31、A41、A12、A13、A14、B11、B12、B13、B14は、切削時の始点となる位置に形成されている。アライメントマークを検出することにより、図1及び図2に示した切削ブレード113をいずれかのラインに位置合わせすることが可能になる。
The alignment marks A11, A21, A31, A41, A12, A13, A14, B11, B12, B13, and B14 are formed at positions that serve as starting points during cutting. By detecting the alignment mark, the
(2)保持ステップ
図1に示したカセット200に収容され切削しようとするワークユニットUは、カセット載置部20の昇降により所定の高さに位置づけされ、搬出入手段22によって挟持されて仮置き部21に搬出される。仮置き部21ではワークユニットUが所定の位置に位置合わせされる。
(2) Holding Step The work unit U housed in the
次に、第一の搬送手段23がワークユニットUを吸引保持して旋回し、着脱位置10aに位置する保持テーブル10に載置される。そして、第一の保持テーブル10の吸着部100においてワークユニットUのテープ30側が保持されるとともに、第一の搬送手段23による吸着を解除する。これにより、パッケージ基板W1がテープ30を介して保持テーブル10の吸着部100において吸引保持される。また、図2に示した固定クランプ104によってフレーム31が固定される。
Next, the first transport means 23 sucks and holds the work unit U, turns, and is placed on the holding table 10 located at the attachment /
(3)アライメントステップ
保持ステップの後、保持テーブル10が+X方向に移動しつつ、撮像手段190もY軸方向に移動しながらパッケージ基板W1の表面が撮像され、図3に示したすべてのアライメントマークが検出され、それぞれの座標を求める。また、第一のラインS11、すなわちアライメントマークA11、A14、B11、及びB14を通る湾曲した線の中点M1のX−Y座標を求める。同様に、ラインS12、S13、S14についてもそれぞれの中点M2、M3、M4の座標を求める。
(3) Alignment Step After the holding step, the surface of the package substrate W1 is imaged while the holding table 10 moves in the + X direction and the imaging means 190 also moves in the Y-axis direction, and all the alignment marks shown in FIG. 3 are taken. Is detected and the coordinates of each are calculated. Further, the XY coordinates of the first line S11, that is, the midpoint M1 of the curved line passing through the alignment marks A11, A14, B11, and B14 are obtained. Similarly, for the lines S12, S13, and S14, the coordinates of the midpoints M2, M3, and M4 are obtained.
次に、アライメントマークA11のX−Y座標及び中点MのX−Y座標に基づき、アライメントマークA11と中点Mとを結ぶラインS11aを想定するとともに、ラインS1
1aとX軸方向とがなす角度α11aを求め、この角度の値を、例えば図2に示した記憶手段17に記憶させる。また、アライメントマークA11及び中点MのX座標の値の差から、この2点の距離を求め、この距離の値を記憶手段17に記憶させる。
Next, based on the XY coordinates of the alignment mark A11 and the XY coordinates of the midpoint M, a line S11a connecting the alignment mark A11 and the midpoint M is assumed, and the line S1
The angle α11a formed by 1a and the X-axis direction is obtained, and the value of this angle is stored in, for example, the storage means 17 shown in FIG. Further, the distance between these two points is obtained from the difference between the values of the X coordinates of the alignment mark A11 and the midpoint M, and the value of this distance is stored in the storage means 17.
同様に、アライメントマークA21と中点M2とを結ぶラインS12aを想定するとともに、ラインS12aとX軸方向とがなす角度α12aを求め、アライメントマークA31と中点M3とを結ぶラインS13aを想定するとともに、ラインS13aとX軸方向とがなす角度α13aを求め、アライメントマークA41と中点M4とを結ぶラインS14aを想定するとともに、ラインS14aとX軸方向とがなす角度α14aを求める。そして、求めたそれぞれの角度の値を記憶手段17に記憶させる。 Similarly, the line S12a connecting the alignment mark A21 and the midpoint M2 is assumed, the angle α12a formed by the line S12a and the X-axis direction is obtained, and the line S13a connecting the alignment mark A31 and the midpoint M3 is assumed. , The angle α13a formed by the line S13a and the X-axis direction is obtained, the line S14a connecting the alignment mark A41 and the midpoint M4 is assumed, and the angle α14a formed by the line S14a and the X-axis direction is obtained. Then, the obtained value of each angle is stored in the storage means 17.
また、アライメントマークB14と中点M1とを結ぶラインS11bを想定するとともに、ラインS11bとX軸方向とがなす角度α11bを求め、アライメントマークB24と中点M2とを結ぶラインS12bを想定するとともに、ラインS12bとX軸方向とがなす角度α12bを求め、アライメントマークB34と中点M3とを結ぶラインS13bを想定するとともに、ラインS13bとX軸方向とがなす角度α13bを求め、アライメントマークB44と中点M4とを結ぶラインS14bを想定するとともに、ラインS14bとX軸方向とがなす角度α14bを求める。そして、求めたそれぞれの角度の値を記憶手段17に記憶させる。 Further, the line S11b connecting the alignment mark B14 and the midpoint M1 is assumed, the angle α11b formed by the line S11b and the X-axis direction is obtained, and the line S12b connecting the alignment mark B24 and the midpoint M2 is assumed. The angle α12b formed by the line S12b and the X-axis direction is obtained, the line S13b connecting the alignment mark B34 and the midpoint M3 is assumed, and the angle α13b formed by the line S13b and the X-axis direction is obtained, and the alignment mark B44 and the middle point are formed. Assuming the line S14b connecting the point M4, the angle α14b formed by the line S14b and the X-axis direction is obtained. Then, the obtained value of each angle is stored in the storage means 17.
さらに、ラインS21、S22、S23、S24、S25、S26、S27、S28とY軸方向とがなす角度α21〜α28についてもそれぞれ求め、その角度の値を記憶手段17に記憶させる。 Further, the angles α21 to α28 formed by the lines S21, S22, S23, S24, S25, S26, S27, S28 and the Y-axis direction are also obtained, and the values of the angles are stored in the storage means 17.
(4)第一方向切削ステップ
アライメントステップの後、本ステップでは、第一のラインS11−S14について、それぞれの中点を境界として1本のラインを2つに分けて、第一次切削ステップと第二次切削ステップとの2段階に分けて切削する。切削時は、図2に示した切削ブレード113を外周余剰領域Eから切り込ませる。
(4) First-direction cutting step After the alignment step, in this step, for the first lines S11-S14, one line is divided into two with the midpoint of each as a boundary, and the first cutting step is performed. Cutting is performed in two stages, the second cutting step. At the time of cutting, the
(4−1)第一次切削ステップ
まず、図2に示した回転手段103が、保持手段10を記憶手段17に記憶させた角度α11aだけ回転させることにより、ラインS11aをX軸方向と平行にする。その後、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させることにより、切削ブレード113をラインS11aの+X方向の延長線上に位置させる。そして、切削ブレード113の下端位置がテープ30の上面のわずかに下方となるように切り込み送り手段14が切削ブレード113のZ軸方向の位置を合わせ、その状態で、切削送り手段12が保持テーブル10を+X方向に送り、図4に示すように、外周余剰領域EにおけるラインS11aの延長線上に位置する端部に切削ブレード113を切り込ませる。このときの切り込み深さは、切削ブレード113の下端がテープ30に僅かに切り込む深さとなる。
(4-1) Primary Cutting Step First, the rotating means 103 shown in FIG. 2 rotates the holding means 10 by the angle α11a stored in the storage means 17, so that the line S11a is parallel to the X-axis direction. To do. After that, the indexing feed means 13 moves the cutting means 11 in the Y-axis direction to position the
その状態から切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、ラインS11aに沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が中点M1に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、ラインS11aの切削を終了する。
From that state, the cutting feed means 11 further cuts and feeds the holding table 10 in the + X direction to cut along the line S11a to form a cutting groove. Then, when the lower end of the
次に、保持テーブル10を−X方向に移動させて元の位置に戻すとともに、保持テーブル10を、当初の向きを基準として角度α12aだけ回転させることにより、ラインS12aをX軸方向と平行にする。その後、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させ、切削ブレード113をライン12aの+X方向の延長線上に位置させる。切
削ブレード113の下端位置がテープ30の上面のわずかに下となるように切り込み送り手段14が切削ブレード113のZ軸方向の位置を合わせ、その状態で、切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、ラインS12aに沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が中点M2に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、ラインS12aの切削を終了する。同様の切削を、ライン13a及び14aについても行う。
Next, the holding table 10 is moved in the −X direction to return to the original position, and the holding table 10 is rotated by an angle α12a with respect to the initial orientation to make the line S12a parallel to the X-axis direction. .. After that, the indexing feed means 13 moves the cutting means 11 in the Y-axis direction, and positions the
(4−2)回転ステップ
第一次切削ステップの後、保持テーブル10を180度回転させることにより、ラインS11b、S12b、S13b、S14bの未切削部分を+X方向側に位置させる。
(4-2) Rotation Step After the first cutting step, the holding table 10 is rotated 180 degrees to position the uncut portions of the lines S11b, S12b, S13b, and S14b on the + X direction side.
(4−3)第二次切削ステップ
回転ステップの後に、さらに、保持テーブル10を角度α11bだけ回転させることにより、ラインS11bをX軸方向と平行にする。
(4-3) Second Cutting Step After the rotation step, the holding table 10 is further rotated by the angle α11b to make the line S11b parallel to the X-axis direction.
次に、切り込み送り手段14が切削手段11を下降させることにより、切削ブレード113の下端位置をテープ30の上面のわずかに下方の位置とする。そしてその状態で、切削送り手段12が保持テーブル10をX軸方向に送り、図5に示すように、外周余剰領域EにおけるラインS11bの延長線上に位置する端部に切削ブレード113を切り込ませる。このときの切り込み深さは、切削ブレード113の下端がテープ30に僅かに切り込む深さとなる。
Next, the cutting feed means 14 lowers the cutting means 11 to set the lower end position of the
その状態から切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、ラインS11bに沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が中点M1に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、ラインS11bの切削を終了する。
From that state, the cutting feed means 11 further cuts and feeds the holding table 10 in the + X direction to cut along the line S11b to form a cutting groove. Then, when the lower end of the
次に、保持テーブル10を−X方向に移動させて元の位置に戻すとともに、保持テーブル10を当初の向きを基準として角度α12bだけ回転させることにより、ラインS12bをX軸方向と平行にする。その後、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させ、切削ブレード113をライン12bの+X方向の延長線上に位置させる。そして、切削ブレード113の下端位置をテープ30の上面のわずかに下方の位置とし、その状態で切削送り手段11が保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、ラインS12bに沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が中点M2(図3参照)に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、ラインS12bの切削を終了する。同様の切削を、ライン13b及びライン14bについても行う。
Next, the holding table 10 is moved in the −X direction to return to the original position, and the holding table 10 is rotated by an angle α12b with respect to the initial orientation to make the line S12b parallel to the X-axis direction. After that, the indexing feed means 13 moves the cutting means 11 in the Y-axis direction, and positions the
以上のようにして、第一次切削ステップと第二次切削ステップとを実施することにより、図6に示すように、ラインS11a及びS11bに形成された切削溝G11a及びG11b、ラインS12a及びS12bに形成された切削溝G12a及びG12b、ラインS13a及びS13bに形成された切削溝G13a及びG13b、ラインS14a及びS14bに形成された切削溝G14a及びG14bがそれぞれつながるため、図3に示したラインS11−14が完全切断される。 By carrying out the primary cutting step and the secondary cutting step as described above, as shown in FIG. 6, the cutting grooves G11a and G11b and the lines S12a and S12b formed in the lines S11a and S11b are formed. Since the cutting grooves G12a and G12b formed, the cutting grooves G13a and G13b formed in the lines S13a and S13b, and the cutting grooves G14a and G14b formed in the lines S14a and S14b are connected, respectively, the lines S11-14 shown in FIG. Is completely disconnected.
第一方向切削ステップでは、第一次切削ステップと第二次切削ステップとに分けて切削することにより、パッケージ基板W1の反りに合わせて切削することができるため、ラインに沿って正確に切削することができる。 In the first-direction cutting step, by cutting separately in the primary cutting step and the secondary cutting step, it is possible to cut according to the warp of the package substrate W1, so that the cutting is performed accurately along the line. be able to.
また、それぞれのブロックについて外周余剰領域側から切削するため、切削開始時に、
チョッパーカットのように切削ブレードをゆっくりと下降させる必要がないため、加工時間を短縮することができる。
In addition, since each block is cut from the outer peripheral surplus area side, at the start of cutting,
Since it is not necessary to slowly lower the cutting blade as in the case of chopper cutting, the machining time can be shortened.
また、第二次切削ステップにおいて保持テーブルを180度回転させることにより、切削ブレード113の回転方向を第一次切削ステップと同方向にすることができるため、切削ブレード113の回転を止めずに連続して切削することができる。また、切削ブレード13を固定するナット111aの締め付け方向と同じ方向に回転させることができるため、ナット111aに緩みが生じるのを防止することができる。
なお、本ステップでは、保持テーブル10を180度回転させずに切削することもできる。この場合は、切削ブレード113を第一次切削ステップとは逆方向に回転させるとともに、保持テーブル10を−X方向に移動させて切削を行う。
Further, by rotating the holding table 180 degrees in the secondary cutting step, the rotation direction of the
In this step, the holding table 10 can be cut without being rotated by 180 degrees. In this case, the
(5)第二方向切削ステップ
次に、第二のラインS21−S28について、両端の2つのアライメントマークを結ぶ直線に沿って切削する。
(5) Second-direction cutting step Next, the second line S21-S28 is cut along a straight line connecting the two alignment marks at both ends.
最初に保持テーブル10を例えば90度回転させるとともに、図3に示した角度α21だけ回転させることにより、図6に示すように、第二のラインS21とX軸方向とを平行にする。そして、アライメント手段19がアライメントマークA11を検出し、切削ブレード113のY軸方向の位置をアライメントマークA11に合わせる。
First, the holding table 10 is rotated by, for example, 90 degrees, and then by the angle α21 shown in FIG. 3, so that the second line S21 and the X-axis direction are made parallel as shown in FIG. Then, the alignment means 19 detects the alignment mark A11 and aligns the position of the
次に、切削ブレード113を下降させることにより切削ブレード113の下端をテープ30の上面のわずかに下方に合わせ、その状態で保持テーブル10をX軸方向に送り、図7に示すように、外周余剰領域EにおけるラインS21の延長線上に位置する端部に切削ブレード113を切り込ませる。このときの切り込み深さは、切削ブレード113の下端がテープ30に僅かに切り込む深さとなる。
Next, by lowering the
その状態からさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、第二のラインS21に沿って切削する。そして、切削ブレード113の下端がアライメントマークA41を通過してもう一方の端部に到達すると、切削手段11を上昇させ、切削を終了する。
From that state, the holding table 10 is further cut and fed in the + X direction to cut along the second line S21. Then, when the lower end of the
第二のラインS22−S28についても同様に、各ラインをX軸方向と平行にした後に切削を行って切削溝を形成する。これにより、第一のラインS11−S14と第二のラインS21−S28とが縦横に完全切断され、パッケージ基板W1が個々のパッケージデバイスごとのチップCに分割される。 Similarly, for the second line S22-S28, each line is made parallel to the X-axis direction and then cutting is performed to form a cutting groove. As a result, the first line S11-S14 and the second line S21-S28 are completely cut vertically and horizontally, and the package substrate W1 is divided into chips C for each individual package device.
なお、本ステップでは、外周余剰領域Eの端部から端部までを切削せず、アライメントマークからアライメントマークまでを切削するようにしてもよい。 In this step, the outer peripheral surplus region E may not be cut from one end to the other, but may be cut from the alignment mark to the alignment mark.
本例のアライメントステップでは、アライメントマークをすべて検出する全ポイントアライメントにより、すべての検出したアライメントマークの位置に基づいて切削するラインを設定したが、全ポイントアライメントに代えて、4隅のアライメントマークを検出する2ポイントアライメントを実施してもよい。2ポイントアライメントでは、例えばブロックAについては、アライメントマークA11、A14、A41、A44を検出し、端部のラインのみを設定する。そして、両端のアライメントマーク間の距離を一列のデバイス数で等分してインデックスサイズを求めることで、端部以外のラインを設定する。ブロックBについても同様にラインを設定する。 In the alignment step of this example, the line to be cut is set based on the positions of all the detected alignment marks by all-point alignment that detects all the alignment marks. However, instead of all-point alignment, the alignment marks at the four corners are set. Two-point alignment to be detected may be performed. In the two-point alignment, for example, for the block A, the alignment marks A11, A14, A41, and A44 are detected, and only the end line is set. Then, the distance between the alignment marks at both ends is divided equally by the number of devices in a row to obtain the index size, and the line other than the end is set. Lines are set for block B in the same manner.
また、各ブロックについてアライメントマークを2つ、例えばブロックAについてはア
ライメントマークA11とA14とを検出してラインを設定し、その他のラインについてはライン間隔が一定でかつラインがすべて平行であるという想定に基づき、各ラインを設定してもよい。
Further, it is assumed that two alignment marks are detected for each block, for example, for block A, alignment marks A11 and A14 are detected and lines are set, and for other lines, the line spacing is constant and all the lines are parallel. Each line may be set based on.
2 第二例
(1)被加工物の構成
図8に示すパッケージ基板W2は、配線基板の表面に複数の半導体チップを配置してボンディングし、樹脂によってモールディングすることにより、1枚の基板として構成されている。
2 Second Example (1) Structure of Work Work The package substrate W2 shown in FIG. 8 is configured as one substrate by arranging a plurality of semiconductor chips on the surface of the wiring substrate, bonding them, and molding them with a resin. Has been done.
このパッケージ基板W1は、チップが実装されモールディングされた領域が1つのブロックFとなっており、ラインによって複数のチップ領域Cに区画されている。図8の例では、21個のチップ領域Cが存在しているが、チップ領域Cの数は、図示の例には限定されない。 In this package substrate W1, a region in which a chip is mounted and molded is one block F, and the package substrate W1 is divided into a plurality of chip regions C by lines. In the example of FIG. 8, there are 21 chip regions C, but the number of chip regions C is not limited to the illustrated example.
ブロックFは、外周余剰領域Hによって囲繞されている。外周余剰領域Hは、配線基板を構成する金属板である。このパッケージ基板W2は、長手方向(X軸方向)に延在する複数の第一のラインと短手方向(Y軸方向)に延在する複数の第二のラインとを有しており、本来は第一のラインと第二のラインとが互いに直交するものであるが、パッケージ基板W2の反りのために第一のラインが湾曲しており、また、第二のラインは、互いが平行でない状態となっている。複数の第一のラインは、4本の第一のライン2S11、2S12、2S13、2S14により構成され、複数の第二のラインは、2S21、2S22、2S23、2S24、2S25、2S26、2S27、2S28により構成されている。 The block F is surrounded by the outer peripheral surplus area H. The outer peripheral surplus region H is a metal plate constituting the wiring board. The package substrate W2 has a plurality of first lines extending in the longitudinal direction (X-axis direction) and a plurality of second lines extending in the lateral direction (Y-axis direction). The first line and the second line are orthogonal to each other, but the first line is curved due to the warp of the package substrate W2, and the second line is not parallel to each other. It is in a state. The plurality of first lines are composed of four first lines 2S11, 2S12, 2S13, 2S14, and the plurality of second lines are composed of 2S21, 2S22, 2S23, 2S24, 2S25, 2S26, 2S27, 2S28. It is configured.
外周余剰領域Hには、個々のラインに対応するアライメントマークが形成されている。アライメントマークF11、F18は、第一のライン2S11上に形成され、アライメントマークF21、F28は、第一のライン2S12上に形成され、アライメントマークF31、F38は、第一のライン2S13上に形成され、アライメントマークF41、F48は、第一のライン2S14上に形成されている。一方、アライメントマークF11、F41は、第二のライン2S21上に形成され、アライメントマークF12、F42は、第二のライン2S22上に形成され、アライメントマークF13、F43は、第二のライン2S23上に形成され、アライメントマークF14、F44は、第二のライン2S24上に形成され、アライメントマークF15、F45は、第二のライン2S25上に形成され、アライメントマークF16、F46は、第二のライン2S26上に形成され、アライメントマークF17、F47は、第二のライン2S27上に形成され、アライメントマークF18、F48は、第二のライン2S28上に形成されている。 Alignment marks corresponding to individual lines are formed in the outer peripheral surplus region H. Alignment marks F11 and F18 are formed on the first line 2S11, alignment marks F21 and F28 are formed on the first line 2S12, and alignment marks F31 and F38 are formed on the first line 2S13. , Alignment marks F41 and F48 are formed on the first line 2S14. On the other hand, the alignment marks F11 and F41 are formed on the second line 2S21, the alignment marks F12 and F42 are formed on the second line 2S22, and the alignment marks F13 and F43 are formed on the second line 2S23. The alignment marks F14 and F44 are formed on the second line 2S24, the alignment marks F15 and F45 are formed on the second line 2S25, and the alignment marks F16 and F46 are formed on the second line 2S26. The alignment marks F17 and F47 are formed on the second line 2S27, and the alignment marks F18 and F48 are formed on the second line 2S28.
アライメントマークF11、F21、F31、F41、F12、F13、F14、F15、F16、F17、F18は、切削時の始点となる位置に形成されている。アライメントマークを検出することにより、切削ブレード113をいずれかのラインに位置合わせすることが可能になる。
The alignment marks F11, F21, F31, F41, F12, F13, F14, F15, F16, F17, and F18 are formed at positions that serve as starting points during cutting. By detecting the alignment mark, the
(2)保持ステップ
図1に示したカセット200に収容され切削しようとするワークユニットUは、カセット載置部20の昇降により所定の高さに位置づけされ、搬出入手段22によって挟持されて仮置き部21に搬出される。仮置き部21ではワークユニットUが所定の位置に位置合わせされる。
(2) Holding Step The work unit U housed in the
次に、第一の搬送手段23がワークユニットUを吸引保持して旋回し、着脱位置10aに位置する保持テーブル10に載置される。そして、第一の保持テーブル10の吸着部1
00においてワークユニットUのテープ30側が保持されるとともに、第一の搬送手段23による吸着を解除する。これにより、パッケージ基板W2がテープ30を介して保持テーブル10の吸着部100において吸引保持される。また、図2に示した固定クランプ104によってフレーム31が固定される。
Next, the first transport means 23 sucks and holds the work unit U, turns, and is placed on the holding table 10 located at the attachment /
At 00, the
(3)アライメントステップ
保持ステップの後、保持テーブル10が+X方向に移動しつつ、撮像手段190もY軸方向に移動しながらパッケージ基板W2の表面が撮像され、図8に示したすべてのアライメントマークが検出される。
(3) Alignment Step After the holding step, the surface of the package substrate W2 is imaged while the holding table 10 moves in the + X direction and the imaging means 190 also moves in the Y-axis direction, and all the alignment marks shown in FIG. 8 are taken. Is detected.
次に、撮像した画像において、第一のライン2S11を切削する際の始点となるアライメントマークF11と終点となるアライメントマークF18とを直線で結び、この直線を基準ラインLとする。また、始点であるアライメントマークF11と終点であるアライメントマークF18との間で、基準ラインLから最も離れたアライメントマーク、図8の例ではアライメントマークF15を、頂点とする。さらに、頂点であるアライメントマークF15から基準ラインLまでの距離L1を算出する。この距離L1は、最大反り量であり、アライメントマークF15から基準ラインLに下ろした垂線の長さである。第一のライン2S12、2S13、2S14についても同様に、頂点を決定するとともに最大反り量を算出し、それぞれの最大反り量の値を、例えば図2に示した記憶手段17に記憶する。なお、頂点は、パッケージ基板W2の長手方向の中央付近に存在するとは限らない。 Next, in the captured image, the alignment mark F11 which is the start point when cutting the first line 2S11 and the alignment mark F18 which is the end point are connected by a straight line, and this straight line is used as a reference line L. Further, the alignment mark F11 farthest from the reference line L between the alignment mark F11 which is the start point and the alignment mark F18 which is the end point, and the alignment mark F15 in the example of FIG. 8 are set as vertices. Further, the distance L1 from the alignment mark F15, which is the apex, to the reference line L is calculated. This distance L1 is the maximum amount of warpage, and is the length of the perpendicular line drawn from the alignment mark F15 to the reference line L. Similarly, for the first lines 2S12, 2S13, and 2S14, the vertices are determined and the maximum warp amount is calculated, and the value of each maximum warp amount is stored in, for example, the storage means 17 shown in FIG. The apex does not always exist near the center of the package substrate W2 in the longitudinal direction.
(4)許容値設定ステップ
アライメントステップの前には、最大反り量の許容値が、例えば図2に示した記憶手段17に記憶される。この許容値は、図1に示した操作部26から入力される。
(4) Allowable Value Setting Step Before the alignment step, the allowable value of the maximum warp amount is stored in, for example, the storage means 17 shown in FIG. This permissible value is input from the
(5)判断ステップ
アライメントステップの後、各第一のライン2S11−2S14について、最大反り量と許容値とを比較し、各ラインの最大反り量が許容値以下か否かを判断する。そして、その判断結果を、ラインごとに記憶手段17に記憶する。
以下では、判断ステップにおいて、例えば、第一のライン2S11及び2S12については最大反り量が許容値を超えており、第一のライン2S13及び2S14については最大反り量が許容値以下と判断された場合について説明する。また、第一のライン2S12については、頂点をアライメントマークF25とする。
(5) Judgment Step After the alignment step, the maximum warp amount and the permissible value of each first line 2S11-2S14 are compared, and it is judged whether or not the maximum warp amount of each line is equal to or less than the permissible value. Then, the determination result is stored in the storage means 17 for each line.
In the following, in the determination step, for example, when the maximum warp amount exceeds the permissible value for the first lines 2S11 and 2S12, and the maximum warp amount is less than the permissible value for the first lines 2S13 and 2S14. Will be described. Further, for the first line 2S12, the apex is set as the alignment mark F25.
(6)切削ステップ
(6−1)第一次切削ステップ
第一のライン2S11の切削にあたっては、最初に、始点であるアライメントマークF11と頂点であるアライメントマークF15とを結ぶ直線と、X軸方向とがなす角度β11aを求め、その角度β11aだけ保持テーブル10を回転させ、アライメントマークF11と頂点であるアライメントマークF15とを結ぶ直線とX軸方向とを平行にする。
(6) Cutting step (6-1) Primary cutting step When cutting the first line 2S11, first, a straight line connecting the alignment mark F11 which is the starting point and the alignment mark F15 which is the apex and the X-axis direction The angle β11a formed by the teeth is obtained, and the holding table 10 is rotated by the angle β11a so that the straight line connecting the alignment mark F11 and the apex alignment mark F15 is parallel to the X-axis direction.
そして、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させることにより、切削ブレード113を第一のライン2S11の+X方向の延長線上に位置させる。また、切り込み送り手段14が切削手段11を下降させることにより、切削ブレード113の下端をテープ30の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、図9に示すように、切削送り手段12が保持テーブル10をX軸方向に送るとともに、切削ブレード113を回転させながら、外周余剰領域Hにおける第一のライン2S11の+X側の延長線上に位置する端部に切削ブレード113を切り込ませる。このときの切り込み深さは、切削ブレード113の下端がテープ30に僅かに切り込む深さとなる。
Then, the indexing feed means 13 moves the cutting means 11 in the Y-axis direction to position the
その状態から切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、第一のライン2S11に沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF15に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、切削ブレード113を退避させる。
From that state, the cutting feed means 11 further cuts and feeds the holding table 10 in the + X direction to cut along the first line 2S11 to form a cutting groove. Then, when the lower end of the
次に、保持テーブル10を−X方向に移動させて元の位置に戻すとともに、図8に示した始点であるアライメントマークF21と頂点であるアライメントマークF25とを結ぶ直線と、X軸方向とがなす角度を求め、保持テーブル10を当初の向きを基準として図8に示した保持テーブル10をその角度だけ回転させることにより、アライメントマークF21とアライメントマークF25とを結ぶ直線をX軸方向と平行にする。その後、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させ、切削ブレード113を第一のライン2S12aの+X方向の延長線上に位置させる。また、切り込み送り手段14が切削手段11を下降させることにより、切削ブレード113の下端をテープ30の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、第一のライン2S12に沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF15に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させ、切削ブレード113を退避させる。
Next, the holding table 10 is moved in the −X direction to return to the original position, and the straight line connecting the alignment mark F21 which is the starting point and the alignment mark F25 which is the apex shown in FIG. 8 and the X-axis direction are By determining the angle to be formed and rotating the holding table 10 shown in FIG. 8 with respect to the initial orientation of the holding table 10 by that angle, the straight line connecting the alignment mark F21 and the alignment mark F25 is made parallel to the X-axis direction. To do. After that, the indexing feed means 13 moves the cutting means 11 in the Y-axis direction, and positions the
(6−2)第二次切削ステップ
次に、図10に示すように、保持テーブル10を180度回転させ、さらに、頂点であるアライメントマークF15と終点であるアライメントマークF18とを結ぶ直線とX軸方向とがなす角度β11bだけ保持テーブル10を回転させることにより、アライメントマークF15とアライメントマークF18とを結ぶ直線をX軸方向と平行にする。そして、その直線の+X方向の延長線上に切削ブレード113を位置させるとともに、切削ブレード113の下端をテープ30の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、図11に示すように、その状態で切削送り手段12が保持テーブル10をX軸方向に送り、第一のライン2S11に沿って切削溝を形成し、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF15に到達すると、切削手段11を上昇させる。
(6-2) Second Cutting Step Next, as shown in FIG. 10, the holding table 10 is rotated 180 degrees, and a straight line connecting the alignment mark F15, which is the apex, and the alignment mark F18, which is the end point, and X By rotating the holding table 10 by the angle β11b formed by the axial direction, the straight line connecting the alignment mark F15 and the alignment mark F18 is made parallel to the X-axis direction. Then, the
次に、保持テーブル10を−X方向に移動させて元の位置に戻すとともに、保持テーブル10を図8に示した始点であるアライメントマークF28と頂点であるアライメントマークF25とを結ぶ直線と、X軸方向とがなす角度を求め、その角度だけ回転させることにより、アライメントマークF28とアライメントマークF25とを結ぶ直線をX軸方向と平行にする。その後、割り出し送り手段13が切削手段11をY軸方向に移動させ、切削ブレード113を第二のライン2S12の+X方向の延長線上に位置させる。また、切削ブレード113の下端をテープ30の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、切削送り手段11がさらに保持テーブル10を+X方向に切削送りすることにより、第一のライン2S12に沿って切削して切削溝を形成する。そして、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF25に到達すると、切り込み送り手段14が切削手段11を上昇させる。
Next, the holding table 10 is moved in the −X direction to return to the original position, and the holding table 10 is moved to the straight line connecting the alignment mark F28 which is the starting point and the alignment mark F25 which is the apex shown in FIG. By determining the angle formed by the axial direction and rotating it by that angle, the straight line connecting the alignment mark F28 and the alignment mark F25 is made parallel to the X-axis direction. After that, the indexing feed means 13 moves the cutting means 11 in the Y-axis direction, and positions the
このように、第一次切削ステップと第二次切削ステップとを実施することにより、第一のライン2S11及びライン2S12が完全切断される。 By carrying out the primary cutting step and the secondary cutting step in this way, the first line 2S11 and the line 2S12 are completely cut.
(6−3)一括切削ステップ
本ステップでは、最大反り量が許容値以下と判断されたライン2S13及び2S14を切削する。まず、始点であるアライメントマークF38と終点であるアライメントマークF31とを結ぶ線をX軸方向に対して平行にする。そして、その直線の+X方向の延長線上に切削ブレード113を位置させるとともに、切削ブレード113の下端をテープ30
の上面よりもわずかに下方に位置させる。そして、切削送り手段12が保持テーブル10をX軸方向に送ることにより、第一のライン2S13に沿って切削溝を形成し、切削ブレード113の下端が頂点であるアライメントマークF31に到達すると、切削手段11を上昇させる。第一のライン2S14についても同様に切削を行う。このようにして、始点であるアライメントマークF38からF31、F48からF41が切削される。
(6-3) Batch cutting step In this step, lines 2S13 and 2S14 whose maximum warpage amount is judged to be less than or equal to the allowable value are cut. First, the line connecting the alignment mark F38, which is the start point, and the alignment mark F31, which is the end point, is made parallel to the X-axis direction. Then, the
Positioned slightly below the top surface of. Then, the cutting feed means 12 feeds the holding table 10 in the X-axis direction to form a cutting groove along the first line 2S13, and when the lower end of the
このようにして、第一のライン2S21−2S24が完全切断される。なお、第二次切削ステップを実施する前に、一括切削ステップを実施するようにしてもよい。 In this way, the first line 2S21-2S24 is completely cut. It should be noted that the batch cutting step may be carried out before the second cutting step is carried out.
その後、保持テーブル10を90度回転させ、第二のライン2S21−2S28について、それぞれをX軸方向と平行にして切削する。そうすると、パッケージ基板W2が個々のチップCに分割される。 After that, the holding table 10 is rotated 90 degrees, and each of the second lines 2S21-2S28 is cut in parallel with the X-axis direction. Then, the package substrate W2 is divided into individual chips C.
以上のように、本発明では、第一例で示したように複数のブロックを有するパッケージ基板についてはブロックごとに分けて切削を行い、第二例で示したようにブロックが複数に分かれていないパッケージ基板については反りが最も大きいところを基準として2つに分けて切削を行う。すなわち、第一例及び第二例は、パッケージ基板を2つの領域に分けて切削するという共通の技術的特徴を有している。したがって、いずれの場合も、反りがあるパッケージ基板であっても、分割予定ラインを精度よく切削することができる。 As described above, in the present invention, as shown in the first example, the package substrate having a plurality of blocks is cut separately for each block, and the blocks are not divided into a plurality of blocks as shown in the second example. The package substrate is cut in two parts based on the part with the largest warp. That is, the first example and the second example have a common technical feature that the package substrate is divided into two regions and cut. Therefore, in any case, even if the package substrate has a warp, the planned division line can be cut with high accuracy.
なお、上記第一例及び第二例では、第一のラインを切削してから第二のラインを切削することとしたが、第二のラインを切削してから第一のラインを切削してもよい。 In the first and second examples above, it was decided to cut the first line and then the second line, but after cutting the second line, the first line was cut. May be good.
1:切削装置
10:保持テーブル 10a:着脱領域 10b:加工領域
100:吸着部 100a:保持面 101:枠体 102:カバー 103:回転手段
104:固定クランプ
11:切削手段
110:ハウジング 111:スピンドル 111a:ナット 112:モータ
113:切削ブレード 114:ブレードカバー 115:切削水供給ノズル
12:切削送り手段
120:ボールネジ 121:ガイドレール 122:モータ 123:可動板
13:割り出し送り手段
130:ボールネジ 131:ガイドレール 132:モータ133:可動板
14:切り込み送り手段
140:ボールネジ 141:ガイドレール 142:モータ 143:ホルダー
145:壁部
16:制御手段 17:記憶手段 18:表示手段
19:アライメント手段 190:撮像部
U:ワークユニット W:パッケージ基板 30:テープ 31:フレーム
20:カセット載置部 200:カセット
21:仮置き部 22:搬出入手段
23:第一の搬送手段 24:洗浄手段 25:第二の搬送手段 26:操作部
W1:パッケージ基板
A、B:ブロック C:チップ領域 D:余剰連結領域 E:外周余剰領域
S1(S11−S14):第一の分割予定ライン
S2(S21−S28):第二の分割予定ライン
A11−A44、B11−B44、:アライメントマーク
G11a−G14b:切削溝
W2:パッケージ基板
C:チップ領域 F:ブロック H:外周余剰領域
2S11−2S14:第一の分割予定ライン
2S21−2S28:第二の分割予定ライン
F11−F48:アライメントマーク
1: Cutting device 10: Holding table 10a:
Claims (2)
パッケージ基板を該加工装置の該保持テーブルに保持する保持ステップと、
該アライメントマークのうち各分割予定ラインの両端に位置するものをそれぞれ始点及び終点とし、該始点と該終点とを結ぶラインを基準ラインとし、該始点と該終点との間に形成され該基準ラインから距離が一番離れたアライメントマークを頂点とし、該基準ラインと該頂点との距離を最大反り量としたとき、該最大反り量の許容値を設定する許容値設定ステップと、
各分割予定ラインについて該最大反り量が許容値以下か否かを判断する判断ステップと、
該判断ステップにおいて該最大反り量が該許容値を超えたと判断された分割予定ラインについては、該分割予定ラインのうち該始点から該頂点までを結ぶ部分を該外周余剰領域から切削する第一次切削ステップと、該終点から該頂点までを結ぶ部分を該外周余剰領域から切削する第二次切削ステップとによって切削し、該判断ステップにおいて該最大反り量が許容値以下と判断された分割予定ラインについては該始点と該終点とを結ぶ該基準ラインを切削する切削ステップと、
を備えることを特徴とするパッケージ基板の分割方法。 A device area in which a plurality of devices are formed by being partitioned by planned division lines in the first and second directions orthogonal to each other and having an alignment mark corresponding to each planned division line, and an outer peripheral surplus area surrounding the device area. The package substrate formed from is divided into each device by a processing device including at least a holding table for holding the package substrate, an imaging means for imaging the package substrate, and a cutting blade for cutting the package substrate. There,
A holding step of holding the package substrate on the holding table of the processing apparatus, and
Of the alignment marks, those located at both ends of each planned division line are set as start points and end points, respectively, and the line connecting the start point and the end point is set as a reference line, and the reference line formed between the start point and the end point is formed. When the alignment mark farthest from the apex is set as the apex and the distance between the reference line and the apex is set as the maximum warp amount, the permissible value setting step for setting the permissible value of the maximum warp amount and
Judgment step to judge whether the maximum warp amount is less than the allowable value for each scheduled division line,
For the planned division line for which the maximum warp amount is determined to exceed the permissible value in the determination step, the portion of the planned division line connecting the start point to the apex is cut from the outer peripheral surplus region. A planned division line in which the cutting step and the secondary cutting step of cutting the portion connecting the end point to the apex from the outer peripheral excess region are performed, and the maximum warpage amount is determined to be equal to or less than the allowable value in the determination step. With respect to the cutting step of cutting the reference line connecting the start point and the end point,
A method of dividing a package substrate, which comprises.
該回転ステップの実施後に該第二次切削ステップを実施することを特徴とする、
請求項1に記載のパッケージ基板の分割方法。 The holding that holds the package substrate after the primary cutting step is performed so that the rotation direction of the cutting blade that cuts into the package substrate is the same in the primary cutting step and the secondary cutting step. Further equipped with a rotation step to rotate the table 180 degrees,
The second cutting step is carried out after the rotation step is carried out.
The method for dividing a package substrate according to claim 1.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017034628A JP6845038B2 (en) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | How to divide the package board |
CN201810148821.8A CN108511391B (en) | 2017-02-27 | 2018-02-13 | Method for dividing package substrate |
TW107106040A TWI744489B (en) | 2017-02-27 | 2018-02-22 | Dividing method of package substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017034628A JP6845038B2 (en) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | How to divide the package board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018142572A JP2018142572A (en) | 2018-09-13 |
JP6845038B2 true JP6845038B2 (en) | 2021-03-17 |
Family
ID=63375621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017034628A Active JP6845038B2 (en) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | How to divide the package board |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6845038B2 (en) |
CN (1) | CN108511391B (en) |
TW (1) | TWI744489B (en) |
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-
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- 2017-02-27 JP JP2017034628A patent/JP6845038B2/en active Active
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2018
- 2018-02-13 CN CN201810148821.8A patent/CN108511391B/en active Active
- 2018-02-22 TW TW107106040A patent/TWI744489B/en active
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Publication number | Publication date |
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JP2018142572A (en) | 2018-09-13 |
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CN108511391B (en) | 2023-08-04 |
TW201832277A (en) | 2018-09-01 |
CN108511391A (en) | 2018-09-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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