JP6838155B2 - レーザシステム、極端紫外光生成装置、及び極端紫外光生成方法 - Google Patents
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Description
1.EUV光生成システムの全体説明
1.1 構成
1.2 動作
2.比較例に係るEUV光生成システム
2.1 構成
2.1.1 レーザシステム3
2.1.1.1 第1及び第2プリパルスレーザ光P1及びP2の光路
2.1.1.2 第1のガイドレーザ光G1の光路
2.1.1.3 メインパルスレーザ光Mの光路
2.1.2 レーザ光進行方向制御部34
2.1.2.1 光路管330、340
2.1.2.2 チャンバ基準部材10
2.1.3 ミラー収容容器60
2.2 動作
2.3 課題
3.偏光変換機構を備えたEUV光生成システム
3.1 概要
3.2 構成
3.2.1 レーザシステム3
3.2.2 レーザ光進行方向制御部34
3.3 動作
3.4 作用
4.ビーム調節装置の例
4.1 ビームポジション及びビームポインティング調節器
4.2 ビーム径及びビームダイバージェンス調節器
5.ビームモニタの例
6.補足
1.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザシステム3と共に用いられる。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザシステム3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含む。チャンバ2は、密閉可能に構成されている。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられている。ターゲット供給部26から出力されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含むことができるが、これらに限定されない。
図1を参照に、レーザシステム3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射する。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射される。
2.1 構成
図2は、比較例に係るEUV光生成システム11aの構成を示す一部断面図である。EUV光生成システム11aに含まれる構成要素のうち、チャンバ2はクリーンルームフロアに配置され、レーザシステム3はサブファブフロアに配置されている。サブファブフロアはクリーンルームフロアの階下に位置している。レーザシステム3からチャンバ2内に向けてレーザビームを導くためのレーザ光進行方向制御部34は、クリーンルームフロアとサブファブフロアとにまたがって配置されている。レーザシステム3は、図示しない固定装置により筐体310の内部に固定されている。筐体310は複数のエアサスペンション320によってサブファブフロアの床上に設置されている。
レーザシステム3は、第1プリパルスレーザ装置3aと、第2プリパルスレーザ装置3bと、ガイドレーザ装置3gと、メインパルスレーザ装置3mと、を含む。
第2プリパルスレーザ装置3bは、上記第1プリパルスレーザ光P1の波長成分と同じ第1の波長成分を有する第2プリパルスレーザ光P2を出力するように構成された第2のオシレータを含んでいる。
波長1.030μmのレーザ光を出力するYb:YAGレーザ装置
波長1.047μmのレーザ光を出力するNd:YLFレーザ装置
波長1.053μmのレーザ光を出力するNd:YLFレーザ装置
波長1.064μmのレーザ光を出力するNd:YAGレーザ装置
レーザシステム3は、さらに、波長板37、38、及び39と、偏光ビームスプリッタ36と、ダイクロイックミラー43と、高反射ミラー35、42、及び47と、を含む。
(1)偏光ビームスプリッタ36から出射された第1プリパルスレーザ光P1が、波長板39を通過しなくても、偏光ビームスプリッタ55に入射するときにS偏光になること。
(2)偏光ビームスプリッタ36から出射された第2プリパルスレーザ光P2が、波長板39を通過しなくても、偏光ビームスプリッタ55に入射するときにP偏光になること。
高反射ミラー42は、ガイドレーザ装置3gから出力された第1のガイドレーザ光G1を高い反射率で反射するように構成されている。
しかしながら、本開示はこれに限定されない。ダイクロイックミラー43は、第1プリパルスレーザ光P1及び第2プリパルスレーザ光P2を透過させ、第1のガイドレーザ光G1を反射するように構成されてもよい。
高反射ミラー47は、メインパルスレーザ装置3mから出力されたメインパルスレーザ光Mを高い反射率で反射するように構成されている。
2.1.2.1 光路管330、340
サブファブフロアとクリーンルームフロアとにまたがる領域において、レーザ光進行方向制御部34は、光路管330及び光路管340を含んでいる。光路管330及び光路管340はいずれも中空であり、光路管330及び光路管340の内部は、真空とされるか、あるいは、乾燥空気又は不活性ガス等が導入されている。
クリーンルームフロアにおいて、チャンバ2は、チャンバ基準部材10に固定されている。チャンバ2の内部にEUV集光ミラー23が配置されている。図1を参照しながら説明したターゲット供給部26の図示は、図2以降の図では省略されている。EUV集光ミラー23は、ミラーホルダを介してチャンバ基準部材10に固定されている。チャンバ基準部材10は、設置機構9によってクリーンルームフロアの床上に固定されている。チャンバ基準部材10は、レーザ光進行方向制御部34の一部を構成する光学素子群を収容している。
ビームスプリッタ58によって反射された第1プリパルスレーザ光P1及び第2プリパルスレーザ光P2と、ビームスプリッタ58を透過したメインパルスレーザ光Mとは、光路軸がほぼ一致した状態で高反射ミラー61に向けて出射される。
ビームスプリッタ58を透過した第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2、及び第1のガイドレーザ光G1と、ビームスプリッタ58によって反射されたメインパルスレーザ光Mとは、光路軸がほぼ一致した状態でビームモニタ59に向けて出射される。高反射ミラー57によって反射され、ビームスプリッタ58を透過した第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2、及び第1のガイドレーザ光G1の光路も、第7の光路を構成する。
EUV光生成制御部5は、ビームモニタ59から受信したデータに基づいて、第2プリパルスレーザ光P2のビームパラメータを算出するように構成されている。EUV光生成制御部5は、算出したビームパラメータに基づいて、ビーム調節装置52を制御するように構成されている。
チャンバ基準部材10の内部に、ミラー収容容器60が配置されている。ミラー収容容器60には、ウインドウ66が設けられている。ミラー収容容器60の内部には、高反射ミラー62及びレーザ光集光光学系220が配置されている。
高反射ミラー62は、ウインドウ66を透過した第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2、及びメインパルスレーザ光Mを高い反射率で反射する。
レーザ光集光光学系220は、高反射ミラー62によって反射された第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2、及びメインパルスレーザ光Mを高い反射率で反射してプラズマ生成領域25に集光させる。
図4は、比較例における第1プリパルスレーザ光P1のビーム調節の動作を示すフローチャートである。EUV光生成制御部5は、図4に示される処理により、ビームモニタ59から出力されたデータに基づいてビーム調節装置51を制御する。なお、本開示に含まれるフローチャートにおいて、NはNOの判定を示し、YはYESの判定を示す。
上述の構成では、第1プリパルスレーザ光P1の出力開始時から、ターゲットに精度よく第1プリパルスレーザ光P1を照射することができる。しかし、第2プリパルスレーザ光P2の調節は、第2プリパルスレーザ光P2の出力開始後でないとすることができない。このため、第2プリパルスレーザ光P2の出力開始時には、第2プリパルスレーザ光P2の精度が不十分となる可能性があった。第2プリパルスレーザ光P2の精度が不十分となると、ターゲットを十分に微粒子化することができず、ターゲットのフラグメントがEUV集光ミラー23等の光学素子に付着して光学素子の性能を悪化させる可能性があった。
3.1 概要
以下に説明する実施形態においては、ガイドレーザ装置3gはガイドレーザ光Gを出力する。ガイドレーザ光Gの光路に、偏光変換機構41が配置される。偏光変換機構41は、ガイドレーザ光Gを第1の偏光成分を有する第1のガイドレーザ光G1とする第1の状態と、ガイドレーザ光Gを第2の偏光成分を有する第2のガイドレーザ光G2とする第2の状態と、に切り替え可能に構成されている。
3.2 構成
3.2.1 レーザシステム3
図5は、本開示の第1の実施形態に係るEUV光生成システム11bの構成を示す一部断面図である。図6は、第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2、第1のガイドレーザ光G1、及び第2のガイドレーザ光G2の光路を簡略化して示す。図6においては、プリパルスレーザシステム3cの内部の構成の図示は省略されている。
第1のガイドレーザ光G1及び第2のガイドレーザ光G2は、いずれも、高反射ミラー42によって反射される。高反射ミラー42によって反射された第1のガイドレーザ光G1及び第2のガイドレーザ光G2の光路も、第3の光路を構成する。
第1のガイドレーザ光G1及び第2のガイドレーザ光G2は、いずれも、ダイクロイックミラー43を透過する。
第1のガイドレーザ光G1は、比較例における第1のガイドレーザ光G1と同様に、高反射ミラー44、45、及び46によってクリーンルームフロアに導かれる。その後、第1のガイドレーザ光G1は、比較例における第1のガイドレーザ光G1と同様に、第1プリパルスレーザ光P1と同じ光路を通ってビームモニタ59に入射する。すなわち、第1のガイドレーザ光G1は、ビーム調節装置51を通過する。第1のガイドレーザ光G1は、上述の第4の光路、第5の光路、及び第7の光路を通る。
EUV光生成制御部5は、ビーム調節装置51を制御するだけでなく、ビーム調節装置52も制御するように構成されている。EUV光生成制御部5は、第2のガイドレーザ光G2のビームパラメータに基づいて、ビーム調節装置52を制御する。EUV光生成制御部5は、第1及び第2のビーム調節装置を制御するように構成されたコントローラに相当する。
他の点については、上述の比較例と同様である。
偏光変換機構41は、1/2波長板41aを備えるものとして説明したが、本開示はこれに限定されない。偏光変換機構41は、例えば、ダブプリズムや、その他のイメージローテータを備えていてもよい。
図7は、第1の実施形態における第1プリパルスレーザ光P1及び第2プリパルスレーザ光P2のビーム調節の動作を示すフローチャートである。EUV光生成制御部5は、図7に示される処理により、ビームモニタ59の出力に基づいてビーム調節装置51及び52を制御する。
以上の構成及び動作によれば、第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2、及びメインパルスレーザ光Mが出力される前に、第1及び第2のガイドレーザ光G1及びG2の検出結果に基づいてビーム調節装置51及び52が制御される。従って、第1プリパルスレーザ光P1及び第2プリパルスレーザ光P2の出力開始時から、ターゲットに精度よく第1プリパルスレーザ光P1及び第2プリパルスレーザ光P2を照射することができる。
上述の実施形態において、ビーム調節装置51及び52は、互いにほぼ同一の構成を有することができる。ビーム調節装置51及び52のいずれにも使用可能なビーム調節装置の例について、以下に説明する。
図8Aは、上述の実施形態において使用可能なビーム調節装置の第1の例を示す。ビーム調節装置511は、2つの高反射ミラー51a及び51bを含む。高反射ミラー51a及び51bは、それぞれ、アクチュエータによって姿勢を変更できるようになっている。
図9A〜図9Cは、上述の実施形態において使用可能なビーム調節装置の第2の例を示す。ビーム調節装置512は、凹レンズ52a及び凸レンズ52bを含む。
凹レンズ52aは、ホルダ52cによって固定されている。ホルダ52cは、固定プレート52fに固定されている。
凸レンズ52bは、ホルダ52dによって保持されている。ホルダ52dは、リニアステージ52eを介して固定プレート52fに支持されている。リニアステージ52eは、ホルダ52dによって保持された凸レンズ52bがレーザ光の光路軸に沿って固定プレート52fに対して往復動できるように、ホルダ52dを支持している。
以上の構成により、ビーム調節装置512はレーザ光のビームダイバージェンスを調節することができる。
図10は、上述の実施形態において使用可能なビームモニタの例を示す。ビームモニタ59は、ビームスプリッタ59aと、転写光学系59bと、集光光学系59cと、2次元光センサ59d及び59eと、を含む。
θ=Sp/F
なお、断面S1の位置におけるレーザ光の波面の曲率Xは、以下の式により算出することができる。
X=2sinθ/D
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
Claims (18)
- レーザシステムであって、
第1の波長成分を有し第1の偏光成分を有する第1のレーザ光と、前記第1の波長成分を有し前記第1の偏光成分と異なる第2の偏光成分を有する第2のレーザ光と、を第1の光路に沿って出射するように構成されたパルスレーザシステムと、
前記第1の波長成分と異なる第2の波長成分を有する第3のレーザ光を第2の光路に沿って出射するように構成されたガイドレーザ装置と、
前記第2の光路に位置し、前記第3のレーザ光を前記第1の偏光成分を有する第1のガイドレーザ光として第3の光路に沿って出射する第1の状態と、前記第3のレーザ光を前記第2の偏光成分を有する第2のガイドレーザ光として前記第3の光路に沿って出射する第2の状態と、に切り替え可能に構成された偏光変換機構と、
前記第1の光路に位置する第1の面と、前記第3の光路に位置する第2の面とを有し、前記第1の波長成分を有する前記第1及び第2のレーザ光と、前記第2の波長成分を有する前記第1及び第2のガイドレーザ光と、の一方を反射し、他方を透過させて、前記第1及び第2のレーザ光と、前記第1及び第2のガイドレーザ光と、を第4の光路に沿って出射するように構成されたダイクロイックミラーと、
前記第4の光路に位置し、前記第1の波長成分を有し前記第1の偏光成分を有する前記第1のレーザ光と、前記第2の波長成分を有し前記第1の偏光成分を有する前記第1のガイドレーザ光とを反射し、前記第1の波長成分を有し前記第2の偏光成分を有する前記第2のレーザ光と、前記第2の波長成分を有し前記第2の偏光成分を有する前記第2のガイドレーザ光とを透過させて出射するように構成された偏光ビームスプリッタと、
を備えるレーザシステム。 - 請求項1に記載のレーザシステムであって、
前記パルスレーザシステムは、
前記第1のレーザ光を出力する第1のレーザ装置と、
前記第2のレーザ光を出力する第2のレーザ装置と、
を含む、レーザシステム。 - 請求項2に記載のレーザシステムであって、
前記パルスレーザシステムは、
前記第1の偏光成分を有する前記第1のレーザ光と、前記第2の偏光成分を有する前記第2のレーザ光と、の一方を反射し、他方を透過させて、前記第1及び第2のレーザ光を前記第1の光路に沿って出射する第2の偏光ビームスプリッタ
をさらに含む、レーザシステム。 - 請求項3に記載のレーザシステムであって、
前記第1のレーザ装置は、レーザ光を出力する第1のオシレータと、前記第1のオシレータから出力されたレーザ光を前記第1の偏光成分を有する前記第1のレーザ光に変換する第1の波長板と、を含む、
レーザシステム。 - 請求項3に記載のレーザシステムであって、
前記第2のレーザ装置は、レーザ光を出力する第2のオシレータと、前記第2のオシレータから出力されたレーザ光を前記第2の偏光成分を有する前記第2のレーザ光に変換する第2の波長板と、を含む、
レーザシステム。 - 請求項3に記載のレーザシステムであって、
前記パルスレーザシステムは、
前記第1の光路に配置された第3の波長板をさらに含む、
レーザシステム。 - 請求項1に記載のレーザシステムであって、
前記ガイドレーザ装置は、直線偏光の前記第3のレーザ光を出力するように構成され、
前記偏光変換機構は、前記第3のレーザ光の光路に位置する1/2波長板と、前記1/2波長板を回転させる回転機構と、を含む、
レーザシステム。 - 請求項7に記載のレーザシステムであって、
前記回転機構を制御するように構成されたコントローラをさらに含む、
レーザシステム。 - 請求項1に記載のレーザシステムであって、
前記ダイクロイックミラーは、前記第1及び第2のレーザ光を反射し、前記第1及び第2のガイドレーザ光を透過させるように構成された、
レーザシステム。 - 請求項1に記載のレーザシステムであって、
前記偏光ビームスプリッタによって反射された前記第1のレーザ光及び前記第1のガイドレーザ光の光路に配置され、前記第1のレーザ光及び前記第1のガイドレーザ光を第5の光路に沿って出射する第1のビーム調節装置と、
前記偏光ビームスプリッタを透過した前記第2のレーザ光及び前記第2のガイドレーザ光の光路に配置され、前記第2のレーザ光及び前記第2のガイドレーザ光を第6の光路に沿って出射する第2のビーム調節装置と、
をさらに備えるレーザシステム。 - 請求項10に記載のレーザシステムであって、
前記第5の光路に位置する第3の面と、前記第6の光路に位置する第4の面とを有し、前記第1の偏光成分を有する前記第1のレーザ光及び前記第1のガイドレーザ光と、前記第2の偏光成分を有する前記第2のレーザ光及び前記第2のガイドレーザ光と、の一方を反射し、他方を透過させて、前記第1及び第2のレーザ光と、前記第1及び第2のガイドレーザ光と、を第7の光路に沿って出射する第3の偏光ビームスプリッタ
をさらに含む、レーザシステム。 - 請求項11に記載のレーザシステムであって、
前記第7の光路に位置し、前記第1及び第2のガイドレーザ光を検出してデータを出力するビームモニタと、
前記ビームモニタから出力された前記データに基づいて前記第1及び第2のビーム調節装置を制御するように構成されたコントローラと、
をさらに含む、レーザシステム。 - 請求項10に記載のレーザシステムであって、
前記第1のビーム調節装置から出射された前記第1のガイドレーザ光を検出してデータを出力するビームモニタと、
前記ビームモニタから出力された前記データに基づいて前記第1のビーム調節装置を制御するように構成されたコントローラと、
をさらに含む、レーザシステム。 - 請求項10に記載のレーザシステムであって、
前記第2のビーム調節装置から出射された前記第2のガイドレーザ光を検出してデータを出力するビームモニタと、
前記ビームモニタから出力された前記データに基づいて前記第2のビーム調節装置を制御するように構成されたコントローラと、
をさらに含む、レーザシステム。 - 極端紫外光生成装置であって、
第1の波長成分を有し第1の偏光成分を有する第1のレーザ光と、前記第1の波長成分を有し前記第1の偏光成分と異なる第2の偏光成分を有する第2のレーザ光と、を第1の光路に沿って出射するように構成されたパルスレーザシステムと、
前記第1の波長成分と異なる第2の波長成分を有する第3のレーザ光を第2の光路に沿って出射するように構成されたガイドレーザ装置と、
前記第2の光路に位置し、前記第3のレーザ光を前記第1の偏光成分を有する第1のガイドレーザ光として第3の光路に沿って出射する第1の状態と、前記第3のレーザ光を前記第2の偏光成分を有する第2のガイドレーザ光として前記第3の光路に沿って出射する第2の状態と、に切り替え可能に構成された偏光変換機構と、
前記第1の光路に位置する第1の面と、前記第3の光路に位置する第2の面とを有し、前記第1の波長成分を有する前記第1及び第2のレーザ光と、前記第2の波長成分を有する前記第1及び第2のガイドレーザ光と、の一方を反射し、他方を透過させて、前記第1及び第2のレーザ光と、前記第1及び第2のガイドレーザ光と、を第4の光路に沿って出射するように構成されたダイクロイックミラーと、
前記第4の光路に位置し、前記第1の波長成分を有し前記第1の偏光成分を有する前記第1のレーザ光と、前記第2の波長成分を有し前記第1の偏光成分を有する前記第1のガイドレーザ光とを反射し、前記第1の波長成分を有し前記第2の偏光成分を有する前記第2のレーザ光と、前記第2の波長成分を有し前記第2の偏光成分を有する前記第2のガイドレーザ光とを透過させて出射するように構成された偏光ビームスプリッタと、
を備えるレーザシステムと、
チャンバと、
前記チャンバ内の所定の領域にターゲットを供給するように構成されたターゲット供給部と、
前記レーザシステムから出射された前記第1及び第2のレーザ光を前記所定の領域に集光するように構成されたレーザ光集光光学系と、
を備える極端紫外光生成装置。 - 極端紫外光生成方法であって、
第1の波長成分を有し第1の偏光成分を有する第1のレーザ光と、前記第1の波長成分を有し前記第1の偏光成分と異なる第2の偏光成分を有する第2のレーザ光と、を第1の光路に沿って出射するように構成されたパルスレーザシステムと、
前記第1の波長成分と異なる第2の波長成分を有する第3のレーザ光を第2の光路に沿って出射するように構成されたガイドレーザ装置と、
前記第2の光路に位置し、前記第3のレーザ光を前記第1の偏光成分を有する第1のガイドレーザ光として第3の光路に沿って出射する第1の状態と、前記第3のレーザ光を前記第2の偏光成分を有する第2のガイドレーザ光として前記第3の光路に沿って出射する第2の状態と、に切り替え可能に構成された偏光変換機構と、
前記第1の光路に位置する第1の面と、前記第3の光路に位置する第2の面とを有し、前記第1の波長成分を有する前記第1及び第2のレーザ光と、前記第2の波長成分を有する前記第1及び第2のガイドレーザ光と、の一方を反射し、他方を透過させて、前記第1及び第2のレーザ光と、前記第1及び第2のガイドレーザ光と、を第4の光路に沿って出射するように構成されたダイクロイックミラーと、
前記第4の光路に位置し、前記第1の偏光成分を有する前記第1のレーザ光及び前記第1のガイドレーザ光と、前記第2の偏光成分を有する前記第2のレーザ光及び前記第2のガイドレーザ光と、の一方を反射し、他方を透過させて出射するように構成された偏光ビームスプリッタと、
を備えるレーザシステムと、
チャンバと、
前記チャンバ内の所定の領域にターゲットを供給するように構成されたターゲット供給部と、
前記レーザシステムから出射された前記第1及び第2のレーザ光を前記所定の領域に集光するように構成されたレーザ光集光光学系と、
を備える極端紫外光生成装置を用いて、
前記偏光変換機構が前記第1の状態である場合に、前記偏光ビームスプリッタから出射された前記第1のガイドレーザ光を検出する第1の工程と、
前記第1の工程の後、前記偏光変換機構を前記第2の状態に切り替えて、前記偏光ビームスプリッタから出射された前記第2のガイドレーザ光を検出する第2の工程と、
を含む、極端紫外光生成方法。 - 請求項16に記載の極端紫外光生成方法であって、
前記レーザシステムは、
前記偏光ビームスプリッタから出射された前記第1のレーザ光及び前記第1のガイドレーザ光の光路に配置された第3のビーム調節装置と、
前記偏光ビームスプリッタから出射された前記第2のレーザ光及び前記第2のガイドレーザ光の光路に配置された第4のビーム調節装置と、
をさらに備え、
前記第1の工程は、前記第1のガイドレーザ光の検出結果が許容範囲外である場合に前記第3のビーム調節装置を制御することをさらに含み、
前記第2の工程は、前記第2のガイドレーザ光の検出結果が許容範囲外である場合に前記第4のビーム調節装置を制御することをさらに含む、
極端紫外光生成方法。 - 請求項16に記載の極端紫外光生成方法であって、
前記第2の工程の後、前記パルスレーザシステムにより前記第1及び第2のレーザ光を出射する第3の工程をさらに含み、
前記第1及び第2の工程は、前記パルスレーザシステムによる前記第1及び第2のレーザ光の出射を停止させた状態で行われる、
極端紫外光生成方法。
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