JP6829128B2 - シリコーン部材およびその製造方法 - Google Patents
シリコーン部材およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6829128B2 JP6829128B2 JP2017060503A JP2017060503A JP6829128B2 JP 6829128 B2 JP6829128 B2 JP 6829128B2 JP 2017060503 A JP2017060503 A JP 2017060503A JP 2017060503 A JP2017060503 A JP 2017060503A JP 6829128 B2 JP6829128 B2 JP 6829128B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- silicone member
- silicone
- base material
- member according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明のシリコーン部材は、シリコーン製の基材と、該基材の表面に配置されるバリア積層体と、を備える。本明細書において「シリコーン」とは、シリコーン樹脂およびシリコーンゴムの両方を含む概念である。基材の形状は特に限定されず、用途に応じて種々の形状を採用すればよい。例えば、本発明のシリコーン部材を、ホースやマイクロチューブなどに適用する場合には、円筒状の基材の内周面にバリア積層体を配置するとよい。
本発明のシリコーン部材の製造方法は、バリア層形成工程と、改質処理工程と、を有する。以下、各工程を説明する。
本工程は、シリコーン製の基材の表面に、有機成分を含む金属酸化物からなる一層以上のバリア層をプラズマCVD法により形成する工程である。
本工程は、先の工程において形成されたバリア層の最表面を改質処理して、親水性を有する最表層を形成する工程である。
[実施例1]
以下のようにして、上記実施形態のシリコーン部材1を製造した(前出図1参照)。まず、真空容器内にシリコーンゴム製の基材(縦200mm×横200mm×厚さ3mm)を配置して、内部を0.5Pa以下の減圧状態にした。次に、真空容器内にArガスおよびHMDSOガスを供給して、合計圧力7Paの混合ガス雰囲気を形成した。それから、周波数2.45GHz、出力電力1kWにてマイクロ波プラズマを発生させて、60秒間成膜処理を行った。このようにして、基材の上面全体に、有機成分を含むケイ素酸化物からなる一層のバリア層を形成した。バリア層の厚さは75nmであった。
実施例1と同じシリコーンゴム製の基材の上面全体に、親水性を有する改質層を形成した。まず、真空容器内に基材を配置して、内部を0.5Pa以下の減圧状態にした。次に、真空容器内にO2ガスを供給して、圧力6PaのO2ガス雰囲気を形成した。そして、周波数2.45GHz、出力電力1.5kWにてマイクロ波プラズマを発生させて、基材の上面にマイクロ波プラズマを10秒間照射した。このようにして基材の上面を改質処理し、基材の上面全体に親水性を有する改質層を形成した。改質層の厚さは4nm、水接触角は30°であった。製造したシリコーン部材を、比較例1のシリコーン部材と称す。
実施例1と同じシリコーンゴム製の基材の上面全体に、親水性を有し、有機成分を含むケイ素酸化物膜を形成した。まず、真空容器内に基材を配置して、内部を0.5Pa以下の減圧状態にした。次に、真空容器内にArガス、O2ガス、およびTEOSガスを供給して、合計圧力7Paの混合ガス雰囲気を形成した。それから、周波数2.45GHz、出力電力1kWにてマイクロ波プラズマを発生させて、60秒間成膜処理を行った。このようにして、基材の上面全体に、有機成分を含むケイ素酸化物膜を形成した。ケイ素酸化物膜の厚さは150nm、水接触角は60°であった。製造したシリコーン部材を、比較例2のシリコーン部材と称す。
比較例2の製造方法において、マイクロ波プラズマの出力電力を0.5kWに、成膜時間を2秒間に変更して、基材の上面全体に、有機成分を含むケイ素酸化物膜を形成した。ケイ素酸化物膜の厚さは4nm、水接触角は60°であった。製造したシリコーン部材を、比較例3のシリコーン部材と称す。
[評価方法]
製造したシリコーン部材の上面(改質および/または成膜が施された側)に、有機溶剤のトルエンを接触させて、シリコーン部材の変形の有無を観察した。まず、シリコーン部材の上面中央に、直径10mmの円筒状のステンレス管を配置した。次に、ステンレス管の内側にトルエンを10ml注入した。それから5分間経過した後、残留しているトルエンをスポイトで除去し、ステンレス管を取り外した。そして、シリコーン部材の上面におけるトルエン接触部と非接触部との厚さの差を、デジタルゲージ((株)小野測器製「DG−925」)にて測定した。この際、厚さの差が50μm未満であれば、変形なし(膨潤なし)と判断した。また、シリコーン部材を顕微鏡で観察し、形成された最表層(実施例1)、改質層(比較例1)、ケイ素酸化物膜(比較例2、3)の割れの有無を調べた。
Claims (10)
- シリコーン製の基材と、
該基材の表面に配置されるバリア積層体と、を備え、
該バリア積層体は、有機成分を含む金属酸化物からなる二層以上の積層構造を有し、親水性を有する最表層と、該最表層と該基材との間に配置される一層以上の中間層と、を有し、
該バリア積層体の厚さは15nm以上300nm以下であり、
該バリア積層体における任意の一層をX線光電子分光測定し、該一層に含有される金属原子、酸素原子、炭素原子の合計原子数を100%とした場合、該最表層に含有される炭素量は5%以上30%以下であり、該中間層のうち該基材と接する層に含有される炭素量は30%より多く75%以下であるシリコーン部材。 - 前記バリア積層体は、層ごとに炭素含有量が異なる請求項1に記載のシリコーン部材。
- 前記金属酸化物は、ケイ素酸化物、チタン酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛酸化物から選ばれる一種以上である請求項1または請求項2に記載のシリコーン部材。
- 前記最表層の水接触角は、80°以下である請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のシリコーン部材。
- 前記最表層の厚さは、10nm以下である請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のシリコーン部材。
- 可視光透過率が80%以上である請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のシリコーン部材。
- 請求項1に記載のシリコーン部材の製造方法であって、
シリコーン製の基材の表面に、有機成分を含む金属酸化物からなる一層以上のバリア層をプラズマCVD法により形成するバリア層形成工程と、
該バリア層の最表面を改質処理して、親水性を有する最表層を形成する改質処理工程と、を有するシリコーン部材の製造方法。 - 前記改質処理は、プラズマを照射して行う請求項7に記載のシリコーン部材の製造方法。
- 前記プラズマは、マイクロ波プラズマである請求項8に記載のシリコーン部材の製造方法。
- 前記マイクロ波プラズマの照射による前記改質処理は、酸素を含むガス中で行う請求項9に記載のシリコーン部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017060503A JP6829128B2 (ja) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | シリコーン部材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017060503A JP6829128B2 (ja) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | シリコーン部材およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018161813A JP2018161813A (ja) | 2018-10-18 |
JP6829128B2 true JP6829128B2 (ja) | 2021-02-10 |
Family
ID=63859570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017060503A Active JP6829128B2 (ja) | 2017-03-27 | 2017-03-27 | シリコーン部材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6829128B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11300880A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-02 | Toto Ltd | 建 材 |
JP5899044B2 (ja) * | 2012-05-08 | 2016-04-06 | 三菱樹脂株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP5977190B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2016-08-24 | 住友理工株式会社 | 表面改質部材およびその製造方法、並びにマイクロ流路装置およびその製造方法 |
JP2016159570A (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-05 | セイコーエプソン株式会社 | 部材および部材の製造方法 |
-
2017
- 2017-03-27 JP JP2017060503A patent/JP6829128B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018161813A (ja) | 2018-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101660557B1 (ko) | 성형 물품의 내부 표면 상에 보호 코팅으로서 다이아몬드상 카본을 증착하는 방법 | |
JP5344177B2 (ja) | フレキシブルなプラズマポリマー生成物、相当する物品およびその使用 | |
JP4050800B2 (ja) | バリヤー皮膜を有するプラスチック容器及びその製造方法 | |
WO2011108625A1 (ja) | 非晶質炭素膜からなる層への固定化方法及び積層体 | |
Capote et al. | Influence of acetylene precursor diluted with argon on the microstructure and the mechanical and tribological properties of aC: H films deposited via the modified pulsed-DC PECVD method | |
MX2007004481A (es) | Proceso para recubrimiento de plasma. | |
US9238350B2 (en) | Method for affixing water-and-oil-repellent layer to amorphous carbon film layer, and laminated body formed by said method | |
JP6829128B2 (ja) | シリコーン部材およびその製造方法 | |
JP6238053B2 (ja) | 摺動部材 | |
Dufour | From basics to frontiers: A comprehensive review of plasma-modified and plasma-synthesized polymer films | |
JP4403093B2 (ja) | 複合材料およびそれを製造する方法 | |
US20090286012A1 (en) | Method and Apparatus for High Rate, Uniform Plasma Processing of Three-dimensional Objects | |
JP5418917B2 (ja) | 皮膜密着性に優れた表面被覆部品の製造方法 | |
JP5614873B2 (ja) | 半導体加工装置用部材およびその製造方法 | |
JP5610536B2 (ja) | 被覆プラスチック成形体及びその製造方法 | |
JP2008100398A (ja) | プラスチック容器及びプラスチック容器の製造方法 | |
Chevallier et al. | Annealing and ultraviolet treatment of plasma fluorocarbon films for enhanced cohesion and stability | |
CN110612361B (zh) | 硬质碳膜与其制造方法及滑动构件 | |
Nwankire et al. | Influence of nm-thick atmospheric plasma deposited coatings on the adhesion of silicone elastomer to stainless steel | |
KR20150118665A (ko) | 저마찰 및 기계적 특성이 향상된 자동차 습동 부품용 코팅재 및 이를 이용한 표면 코팅방법 | |
Palumbo et al. | Plasma Processes for the Surface Engineering of Polymers | |
WO2024062547A1 (ja) | 防汚コート構造の形成方法、防汚コート構造、及びアルミニウム物品 | |
TWI741320B (zh) | 電漿處理裝置用構件 | |
JP2018052040A (ja) | 積層体 | |
JP2008018681A (ja) | 高比表面積ガスバリア積層体およびこれを用いた難燃性フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201006 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210112 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6829128 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |