JP6825273B2 - 発光装置 - Google Patents

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本発明は、発光装置に関する。
半導体発光素子(以下、単に「発光素子」とも称する)を用いた発光装置において、発光素子からの光に対して高い反射率を有する銀(Ag)を最表面とする金属部材を備えたパッケージが知られている。Agは、例えば硫黄含有ガスのような腐蝕性のガスが存在する雰囲気下において変質(硫化)し易い。これにより変色及び腐食が発生し、反射率が低下するなど、発光装置の特性を著しく低下させる。そのため、Agを覆う封止樹脂としてガスバリア性の高い材料を用いること(例えば、特許文献1)、あるいは、封止樹脂を積層させることなどが知られている(例えば、特許文献2、3)。また、Agの表面をガラスなどの無機材料を用いた保護膜で被覆することが知られている(例えば、特許文献4、3)。
特開2012−138425号公報 特開2014−216329号公報 特開2008−216329号公報 特開2007−324256号公報 特開2009−224536号公報
Agの変質を低減した発光装置が求められている。
本発明の実施形態は、以下の構成を含む。
表面にAgを含む金属部材と、絶縁性の基体と、を備える基板と、基板上に載置される発光素子と、金属部材の少なくとも一部、及び、発光素子を覆う封止部材と、を有し、封止部材は、発光素子を覆うジメチルシリコーン樹脂と、ジメチルシリコーン樹脂を覆う酸化ケイ素膜と、酸化ケイ素膜を覆うフェニルシリコーン樹脂と、を備える発光装置。
以上により、Agの変質を低減した発光装置とすることができる。
図1は、実施形態に係る発光装置を示す概略断面図である。 図2は、実施形態に係る発光装置を示す概略断面図である。 図3は、実施形態に係る発光装置を示す概略断面図である。
本発明を実施するための形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための発光装置を例示するものであって、本発明は、発光装置を以下に限定するものではない。
また、本明細書は、特許請求の範囲に示される部材を、実施の形態の部材に特定するものでは決してない。特に、実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限りは、本開示の範囲をそれのみに限定する趣旨ではない。尚、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため誇張していることがある。さらに以下の説明において、同一の名称、符号については同一もしくは同質の部材を示しており、詳細説明を適宜省略する。
実施形態に係る発光装置は、基板と、基板上に載置される発光素子と、発光素子を覆う封止部材と、を備える。基板は表面にAg(銀)を含む金属部材と、絶縁性の基体と、を備える。封止部材は、発光素子を覆うジメチルシリコーン樹脂と、ジメチルシリコーン樹脂を覆う酸化ケイ素膜と、酸化ケイ素膜を覆うフェニルシリコーン樹脂と、を備える。
上述のような3層構造の封止部材とすることで、金属部材のAgの変質を低減することができる。
(基板)
基板は、金属部材と絶縁性の基体と、を備える。基板は平板状又は凹部を備えていてもよい。基板は凹部を備える場合、表面にAgを含む金属部材は凹部の底面及び/又は凹部の側面に配置することができる。
金属部材は、少なくとも表面の一部にAgを含む。例えば、Ag含有層のみからなる金属部材、または、母材と、その表面にAgを含むAg含有層と、を備えた金属部材が挙げられる。
金属部材は、例えば、金属板などの母材の表面に、Agを含むメッキなどを形成した板状の金属部材が挙げられる。このような導電性の母材としてはCu、Al、Ag、Au等の金属板などが挙げられる。また、セラミック、樹脂等の絶縁性の基体に設けられた導電配線などの金属部材が挙げられる。このような金属部材の母材としては、Mo、Wなどが挙げられる。
金属部材は、発光素子からの光に対して高い反射率を示す光反射部材として用いられる。Agを含む金属部材の表面は、発光素子からの光が照射される位置に配置されていればよい。例えば、発光素子の下方、側方、上方など金属部材を載置することができる。
金属部材は、発光装置の電極として機能する金属部材、及び/又は、通電に寄与しない金属部材とすることができる。金属部材と発光素子とは、導電性又は絶縁性の接合部材で接合することができる。また、金属部材と発光素子は、ワイヤなどを用いて発光素子と金属部材とを電気的に接続することができる。
また、金属部材は、Agを含む表面の少なくとも一部が発光素子と共にジメチルシリコーン樹脂によって封止される。
絶縁性の基体は、樹脂、セラミックス、ガラス等が挙げられる。樹脂としては、具体的には、熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂組成物、変成エポキシ樹脂組成物、シリコーン樹脂組成物、変成シリコーン樹脂組成物、シリコーン変成エポキシ樹脂、エポキシ変成シリコーン樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物、変成ポリイミド樹脂組成物、不飽和ポリエステル等の樹脂が挙げられ、熱可塑性樹脂としては、ポリアミド、ポリフタルアミド(PPA)、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、液晶ポリマー(LCP)、ABS樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、PBT樹脂等の樹脂が挙げられ、これらの中から少なくとも1つを含む樹脂とすることができる。また、基体は、発光素子からの光に対する反射率が60%以上であるものが好ましく、より好ましくは70%、80%又は90%以上であるものが好ましい。
また、基体には、酸化チタン、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、アルミナ、窒化アルミニウム、酸化亜鉛、窒化ホウ素、ムライトなどの光反射材が含有されていてもよい。これにより、発光素子からの光を効率よく反射させることができる。例えば、酸化チタンを用いる場合は、成形樹脂の全重量に対して、10〜60重量%、さらに15〜50重量%含有させることが好ましい。
また、基板に加えて、枠体を備えていてもよい。枠体は、例えば、酸化チタン等の光反射材を含む樹脂を、基板の上方に配置したノズルの先端から吐出させながら、枠状に描画することで形成することができる。
(発光素子)
発光素子は、素子基板上に積層された、発光層を含む半導体層から構成される。半導体層を構成するp層、発光層、n層としては、特に限定されるものではなく、例えば、InAlGa1−X−YN(0≦X、0≦Y、X+Y≦1)等の窒化物系化合物半導体が好適に用いられる。これらの窒化物半導体層は、それぞれ単層構造でもよいが、組成及び膜厚等の異なる層の積層構造、超格子構造等であってもよい。特に、発光層は、量子効果が生ずる薄膜を積層した単一量子井戸又は多重量子井戸構造であることが好ましい。
発光素子が有する一対の電極は、半導体層の同一面側、あるいは、半導体層を挟んで両面に配置されている。これらの一対の電極は、半導体層と、電流−電圧特性が直線又は略直線となるようなオーミック接続されるものであれば、単層構造でもよいし、積層構造でもよい。このような電極は、当該分野で公知の材料及び構成で、任意の厚みで形成することができる。
(封止部材)
封止部材は、発光素子等を塵芥、水分、外力などから保護する部材であり、金属部材の少なくとも一部と、発光素子とを覆う。詳細には、封止部材は、発光素子を覆うジメチルシリコーン樹脂と、ジメチルシリコーン樹脂を覆う酸化ケイ素膜と、酸化ケイ素膜を覆うフェニルシリコーン樹脂と、を備える。
ジメチルシリコーン樹脂は、表面にAgを含む金属部材と発光素子とを、一体的又は別々に覆う。ジメチルシリコーン樹脂は、フェニルシリコーン樹脂に比してガスバリア性が低いものの、耐熱衝撃性に優れている。そのため、発光素子への通電させるためにワイヤを用いる場合は、そのワイヤの全てもしくは大部分をジメチルシリコーン樹脂で覆うことで、断線しにくくすることができる。ジメチルシリコーン樹脂の厚みは、150μm〜600μmが好ましい。
酸化ケイ素膜は、ジメチルシリコーン樹脂を覆う。詳細には、酸化ケイ素膜は、ジメチルシリコーン樹脂と、後述のフェニルシリコーン樹脂との間に形成される。酸化ケイ素膜は、スパッタ法、蒸着法などにより形成することができる無機膜であり、かつ、透光性膜である。
上述の方法で形成される酸化ケイ素膜は、密度が2.2〜2.5g/cmであり、薄い膜厚であっても優れたガスバリア性を示す。酸化ケイ素膜の厚みは、30nm〜300nmが好ましい。このような範囲の膜厚とすることで、ジメチルシリコーン樹脂が熱によって伸縮する際、割れるなどの問題を生じにくくすることができる。さらに、上述の膜厚とすることで、発光素子からの光を吸収しにくくすることができる。
酸化ケイ素膜は、ジメチルシリコーン樹脂のみを覆ってもよく、あるいは、ジメチルシリコーン樹脂と他の部材とを覆ってもよい。例えば、発光素子を載置する基板を備える場合は、その基板の表面と、ジメチルシリコーン樹脂との両方を覆うように、酸化ケイ素膜を形成してもよい。
フェニルシリコーン樹脂は、酸化ケイ素膜を覆う。フェニルシリコーン樹脂は、ジメチルシリコーン樹脂に比して、耐熱衝撃性は劣るが、ガスバリア性は高い。また、酸化ケイ素膜に比してクラック耐性に優れている。そのため、ジメチルシリコーン樹脂上の酸化ケイ素膜を覆うようにフェニルシリコーン樹脂を形成することで、クラック耐性を向上することができる。また、凹部が浅い場合は、フェニルシリコーン樹脂中にワイヤが配置される場合がある。つまり、フェニルシリコーン樹脂でワイヤの一部を覆うことができるため、ワイヤを保護することができる。フェニルシリコーン樹脂の厚みは、150μm〜600μmが好ましい。
上述のような3層構造の封止部材とすることで、金属部材のAgの変質を低減することができる。
封止部材は、Agを含む金属及び発光素子に加え、ワイヤ、保護素子なども覆うことができる。また、封止部材は、蛍光体を含んでいてもよい。蛍光体は、発光素子からの光を異なる波長の光に変換する。蛍光体としては、例えば、酸化物系、硫化物系、窒化物系の蛍光体などが挙げられる。例えば、発光素子として青色発光する窒化ガリウム系発光素子を用いる場合、青色光を吸収して黄色〜緑色系発光するYAG系、LAG系、緑色発光するSiAlON系(βサイアロン)、赤色発光するSCASN、CASN系、KSF系蛍光体(KSiF:Mn)、硫化物系蛍光体等の蛍光体の単独又は組み合わせが挙げられる。蛍光体は、ジメチルシリコーン樹脂とフェニルシリコーン樹脂の両方に含まれていてもよく、また、どちらか一方に含まれていてもよい。好ましくは、ジメチルシリコーン樹脂に蛍光体を含む。また、封止部材は、所望に応じて着色剤、光拡散剤、光反射材、各種フィラーなどを含有させることもできる。
(実施形態1)
図1は、実施形態1に係る発光装置100の概略断面図である。発光装置100は、凹部R1を備えた基板110と、基板110上に載置される発光素子160と、発光素子160を覆う封止部材170と、を備える。基板110は、一対の電極として機能する2つ金属部材120と、それらを保持する基体130とを備えている。金属部材120は板状であり、導電性の母材120bと、その表面のAg含有層120aとを備える。Ag含有層120aの一部は基板110の凹部R1の底面に露出されている。第1底面R1axは、基板110の上面でもある。実施形態1では、発光素子260は、電極である金属部材120の上に載置されている。
基体130は、凹部R1の側壁を構成する部分と、凹部の底面の一部を構成する部分とが一体的に成形されている。実施形態1では、基板の凹部R1は、第1底面R1axと第1側面R1ayとを備えた下方凹部R1aと、それより上の上方凹部R1bとで構成される。
上方凹部R1bは、第1底面R1axよりも上側で、かつ、第1底面R1axよりも外側に位置する第2底面R1bxを備える。上方凹部R1bは、第1側面R1ayよりも上側で、かつ、第1側面R1ayよりも外側に位置する第2側面R1byを備える。第2底面R1bxは、基板の側壁の上面R1cよりも下側に位置する。
第1底面R1axに載置される発光素子160は、接合部材を介してAg含有層120aに接合されている。発光素子とAg含有層120aを含む金属部材120とは、導電性のワイヤ150によって接合されている。
実施形態1では、ジメチルシリコーン樹脂172は、下方凹部R1a内に配置される。酸化ケイ素膜174は、ジメチルシリコーン樹脂172を覆うと共に、上方凹部R1bの底面R1bxも覆うように形成される。フェニルシリコーン樹脂176は、酸化ケイ素膜174を覆い、上方凹部R1b内に配置される。
酸化ケイ素膜174は、凹部の第2側面R1byである上方凹部R1bの側面に配置されていてもよい。さらに、酸化ケイ素膜174は、凹部の側壁の上面R1cに形成されていてもよい。
このような構造の発光装置とすることで、Ag含有層120aの変質を抑制することができる。
(実施形態2)
図2は、実施形態2に係る発光装置200の概略断面図である。発光装置200は、金属部材220を3つ備えている点において、実施形態1と異なる。基板210は実施形態1と同様に下方凹部R2aと上方凹部R2bとを備える凹部R2を備えている。金属部材220は、一対の電極として機能する2つの第1金属部材221と、通電には寄与しない1つの第2金属部材222と、を備える。3つの金属部材220は、同一の部材であり、それぞれ導電性の基体221b、222bと、その表面のAg含有層221a、222aと、を備える。第2金属部材222は、上面に発光素子260が載置されており、その直下の下面において外部に露出している。これにより、発光装置200を配線基板上に実装した際に、発光素子260からの熱を効率よく外部に放出することはできる放熱部材として、第2金属部材222を機能させることができる。
第1金属部材221と第2金属部材222は、基体230によって一体的に保持されて基板210を構成する。第1金属部材221と第2金属部材222とは、基板210の凹部の底面においてそれぞれ露出されている。発光素子260は、通電に寄与しない第2金属部材222の上に載置されている。発光素子260と第2金属部材222とは、導電性のワイヤ250によって電気的に接続されている。
実施形態2では、ジメチルシリコーン樹脂272は、下方凹部R2a内に配置され、発光素子260を被覆する。酸化ケイ素膜274は、ジメチルシリコーン樹脂272を覆うと共に、上方凹部R2bの底面も覆うように形成される。フェニルシリコーン樹脂276は、酸化ケイ素膜274を覆い、上方凹部R2b内に配置される。
このような構造の発光装置とすることで、通電に寄与する第1金属部材221のAg含有層221aと、通電に寄与しない第2金属部材222のAg含有層222bの両方の変質を抑制することができる。
(実施形態3)
図3は、実施形態3に係る発光装置300の概略断面図である。発光装置300は、平板状の基体330が絶縁性であり、この絶縁性の基体330の上面に形成された金属部材320の上に発光素子360が載置されている。金属部材320は、通電に寄与する第1金属部材321と、通電に寄与しない第2金属部材322と、を備えている。発光素子360は通電に寄与しない第2金属部材322上に載置されている。第1金属部材321と発光素子360とはワイヤ350によって電気的に接続されている。第1金属部材321と第2金属部材322の間、及び第1金属部材321とワイヤ350との接続部分は、枠体340によって覆われている。枠体340で囲まれた領域には、第2金属部材322が配置されており、第1金属部材321は、枠体340に囲まれた領域には配置されていない。第1金属部材321は、一部が枠体340に埋設されると共に、一部が枠体340の外側に配置されている。枠体340の外側に配置された第1金属部材321は外部接続端子として機能する。
実施形態3では、枠体340と基板310の上面と、で構成された凹部内に発光素子360が配置される。ジメチルシリコーン樹脂372は、発光素子360を被覆する。酸化ケイ素膜374は、ジメチルシリコーン樹脂372を被覆する。フェニルシリコーン樹脂376は、酸化ケイ素膜374を被覆する。
実施形態3では、第1金属部材321及び第2金属部材322は、1つの絶縁性の基体330上に設けられた薄い金属層であり、それぞれ、少なくとも表面がAgを含むAg含有層321a、322aである。ここでは、母材として例えば、下地メッキ、金属箔など、薄い金属を用いることができる。
実施形態3では、通電に寄与する第1金属部材321のAg含有層321aは、封止部材で覆われていない。通電に寄与しない金属部材322のAg含有層322aのみが、封止部材370で覆われている。封止部材370は、発光素子360を被覆するジメチルシリコーン樹脂372と、ジメチルシリコーン樹脂372を被覆す酸化ケイ素膜374と、酸化ケイ素膜374を被覆するフェニルシリコーン樹脂376とを備える。これら3層構造の封止部材370が、1つの枠体340内に形成されている。
このような構造の発光装置とすることで、通電に寄与しない金属部材322のAg含有層322aの変質を抑制することができる。
本開示に係るリード、パッケージ、発光装置は、照明用光源、各種インジケーター用光源、車載用光源、ディスプレイ用光源、液晶のバックライト用光源、センサー用光源、信号機等、種々の発光装置に使用することができる。また、所謂サイドビュー型の発光装置など、リードを用いる全ての発光装置に適用可能である。
100、200、300…発光装置
110、210、310…基板
120、220、320…金属部材
221、321…第1金属部材
222、322…第2金属部材
120a、221a、222a、321a、322a…Ag含有層
120b、220b…母材
130、230、330…基体
R1、R2…基板の凹部
R1a、R2a…下方凹部
R1ax…凹部の第1底面(基板の上面)
R1ay…凹部の第1側面
R1b、R2b…上方凹部
R1bx…凹部の第2底面
R1by…凹部の第2側面
R1c…凹部の側壁の上面
340…枠体
150、250、350…ワイヤ
160、260、360…発光素子
170、270、370…封止部材
172、272、372…ジメチルシリコーン樹脂
174、274、374…酸化ケイ素膜
176、276、376…フェニルシリコーン樹脂

Claims (5)

  1. 表面にAgを含む金属部材と、絶縁性の基体と、を備える基板と、
    前記基板上に載置される発光素子と、
    前記金属部材の少なくとも一部、及び、前記発光素子を覆う封止部材と、
    を有し、
    前記基板は、第1底面を備えた下方凹部と、前記下方凹部よりも上側に位置し第1底面よりも外側に位置する第2底面を備えた上方凹部と、を有し、
    前記封止部材は、
    前記下方凹部内に配置され、前記発光素子を覆うジメチルシリコーン樹脂と、
    前記ジメチルシリコーン樹脂、及び、前記第2底面を覆う酸化ケイ素膜と、
    前記上方凹部内に配置され、前記酸化ケイ素膜を覆うフェニルシリコーン樹脂と、
    を備える発光装置。
  2. 前記金属部材と前記発光素子とを電気的に接続するワイヤを備え、前記ワイヤの全て、もしくは大部分は、前記ジメチルシリコーン樹脂で覆われている請求項1記載の発光装置。
  3. 前記ジメチルシリコーン樹脂の厚みは、150μm〜600μmである請求項1又は請求項2記載の発光装置。
  4. 前記酸化ケイ素膜の厚みは、30nm〜300nmである請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発光装置。
  5. 前記フェニルシリコーン樹脂の厚みは、150μm〜600μmである請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の発光装置。
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