JP6814293B2 - 空洞領域の垂直アンテナパッチ - Google Patents
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Description
Claims (19)
- 垂直方向に沿って積み重ねられた多数の層をもつ多層回路構造(110)と、
前記多層回路構造(110)のエッジに形成される少なくとも1つの空洞領域(120)であって、前記多層回路構造(110)の誘電体基板材料がそこから除去される多数の非導電ビア(121)により形成される少なくとも1つの空洞領域(120)と、
前記少なくとも1つの空洞領域(120)に配置される少なくとも1つの垂直アンテナパッチ(130)と、
前記多層回路構造(110)を収容するケーシング部(201、202、203、204、205)と、
−前記1つのアンテナパッチ(130)に面する平面上の前記ケーシング部(200)に配置される少なくとも1つの誘電パッチ(150)であって、変動パターンの誘電率をもつように構成される誘電パッチ(150)と、
を含む装置(100、101、102)。 - 前記空洞領域(120)は、
前記多数の層の1つまたは複数に形成され、かつ、前記空洞領域(120)の第1水平エッジを画定する少なくとも1つの第1導電ストリップ(122)と、
前記多数の層の1つまたは複数に形成され、かつ、前記空洞領域(120)の第2水平エッジを画定する少なくとも1つの第2導電ストリップ(123)と、
前記少なくとも1つの第1導電ストリップ(122)と前記少なくとも1つの第2導電ストリップ(123)の間に伸び、かつ、前記空洞領域(120)の垂直外側エッジを画定する導電ビア(124)と、
を含む、請求項1に記載の装置(100、101、102)。 - 前記空洞領域(120)の前記非導電ビア(121)は前記空洞領域(120)に前記基板材料の網状格子を形成するように配置される、請求項1または2に記載の装置(100、101、102)。
- 前記垂直アンテナパッチ(130)は前記多数の層の1つまたは複数の中に形成される多数の導電ストリップ(131)から形成され、前記垂直アンテナパッチ(130)の前記導電ストリップ(131)は前記多層回路構造(110)の種々の層の上に配置される2つ以上の前記導電ストリップ(131)の間に伸びる導電ビア(132)により相互に電気的に接続される、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)。 - 前記アンテナパッチ(130)の前記導電ストリップ(131)および前記導電ビア(132)は網目パターンを形成するように配置される、
請求項4に記載の装置(100、101、102)。 - 前記空洞領域(120)を形成する前記非導電ビア(121)を前記多層回路構造(110)の前記基板材料より低い誘電率をもつ誘電材料で充填する、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)。 - 前記空洞領域(120)を形成する前記非導電ビア(121)を空気で充填する、
請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)。 - 前記少なくとも1つのアンテナパッチ(130)に容量的に結合され、かつ、前記少なくとも1つのアンテナパッチ(130)から前記多層回路構造(110)の周辺に向かう方向にずれている平面に配置される少なくとも1つの電気的に浮動状態のパッチ(140)を含む、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置(102)。 - 電気的に浮動状態の前記パッチ(140)は前記多数の層の1つまたは複数の中の多数の導電ストリップ(141)から形成され、電気的に浮動状態の前記パッチ(140)の前記導電ストリップ(141)は前記多層回路構造(110)の種々の層上に配置される電気的に浮動状態の前記パッチ(141)の前記導電ストリップ(141)の2つ以上の間に伸びる導電ビア(142)により相互に電気的に接続される、
請求項8に記載の装置(102)。 - 電気的に浮動状態の前記パッチ(140)は前記多層回路構造(110)を収容するケーシング部(200、201、202、203、204、205)の上に形成される垂直導電ストリップにより形成される、
請求項8に記載の装置(102)。 - 前記少なくとも1つの誘電パッチ(150)は前記誘電パッチ(150)の誘電体基板材料がそこから除去される非導電ビア(151)を含む、
請求項1に記載の装置(100、101、102)。 - 前記変動パターンは前記誘電パッチ(150)の非導電ビア(151)の密度を設定することによりおよび/または前記誘電パッチ(150)の前記非導電ビア(151)の寸法を設定することにより形成される、
請求項11に記載の装置(100、101、102)。 - 前記変動パターンは前記誘電パッチ(150)の中心に向かって誘電率の増大を定める、
請求項12に記載の装置(100、101、102)。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)であって、
前記少なくとも1つの空洞領域(120)に配置され、かつ、前記少なくとも1つのアンテナパッチ(130)に対する容量給電を行うように構成される少なくとも1つの給電パッチ(135)を含み、
前記給電パッチ(135)は前記多数の層の1つまたは複数中の多数の導電ストリップ(136)から形成され、前記給電パッチ(140)の前記導電ストリップ(136)は、前記多層回路構造(110)の種々の層の上に配置される前記給電パッチ(135)の前記導電ストリップ(136)の2つ以上の間に伸びる導電ビア(137)により相互に電気的に接続される装置。 - 前記多層回路構造(110)の前記基板材料はセラミック材料を含む、
請求項1〜14のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)。 - 前記多層回路構造(110)の前記層は低温同時焼成により作成される、
請求項1〜15のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)。 - 前記多層回路構造(110)上に配置される無線フロントエンド回路(180)を含む、
請求項1〜16のいずれか一項に記載の装置(100、101、102)。 - 前記多層回路構造(110)は前記無線フロントエンド回路(180)を収容する空洞(170)を含む、
請求項17に記載の装置(100、101、102)。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の少なくとも1つの装置(100、101、102)と、
前記少なくとも1つの装置(100、101、102)の前記少なくとも1つのアンテナパッチ(130)経由で伝送される通信信号を処理するように構成される少なくとも1つの処理装置(340)と、
を含む通信装置(300)。
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