JP6813379B2 - Detection element mounting board, detection device and detection module - Google Patents

Detection element mounting board, detection device and detection module Download PDF

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Description

本発明は、検出素子搭載用基板、検出装置および検出モジュールに関するものである。 The present invention relates to a substrate for mounting a detection element, a detection device, and a detection module.

従来、絶縁基板の主面にX線検出素子を搭載する検出素子搭載用基板および検出装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, a detection element mounting substrate and a detection device in which an X-ray detection element is mounted on the main surface of an insulating substrate are known (see, for example, Patent Document 1).

このような検出素子搭載用基板において、絶縁基板の内部に、X線を減衰するための複数のビアを配置しているものが知られている。 In such a substrate for mounting a detection element, it is known that a plurality of vias for attenuating X-rays are arranged inside the insulating substrate.

特開2009-032936号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-032936

しかしながら、検出装置の高精度化が求められてきている。このような場合、検出素子搭載用基板内により多くのビアを配置することが必要となっており、複数のビアが絶縁基板の一方主面側に偏倚して、かつ密集して配置されていると、製作時に絶縁基板に変形が生じたり、絶縁基板にクラックが生じやすくなることが懸念される。このため、X線を良好に検出することが困難となることが懸念される。 However, there is a demand for higher accuracy of the detection device. In such a case, it is necessary to arrange more vias in the substrate for mounting the detection element, and a plurality of vias are arranged unevenly and densely on one main surface side of the insulating substrate. Then, there is a concern that the insulating substrate may be deformed during production or cracks may easily occur in the insulating substrate. Therefore, there is a concern that it will be difficult to detect X-rays well.

本発明の一つの態様によれば、検出素子搭載用基板は、第1主面と、該第1主面にX線を検出する検出素子を搭載する第1搭載部と、前記第1主面に相対する第2主面と、該第2主面に電子素子を搭載する第2搭載部と、内部に設けられた配線導体と、該配線導体に接続された接続導体と、群を成した複数のビアを含み、平面視で矩形状の絶縁基板を有しており、前記配線導体および前記接続導体は、検出素子または電子素子に電気的に接続されるものであり、前記絶縁基板の厚み方向において、前記複数のビアは、前記配線導体に接続しておらず、前記第1主面または前記第2主面と前記配線導体との間に設けられている。
According to one aspect of the present invention, the detection element mounting substrate includes a first main surface, a first mounting portion on which a detection element for detecting X-rays is mounted on the first main surface, and the first main surface. The second main surface facing the surface, the second mounting portion on which the electronic element is mounted on the second main surface, the wiring conductor provided inside, and the connection conductor connected to the wiring conductor form a group. It contains a plurality of vias and has a rectangular insulating substrate in a plan view, and the wiring conductor and the connecting conductor are electrically connected to a detection element or an electronic element, and the thickness of the insulating substrate. In the direction, the plurality of vias are not connected to the wiring conductor and are provided between the first main surface or the second main surface and the wiring conductor.

本発明の一つの態様によれば、検出装置は、上記構成の検出素子搭載用基板と、前記第1搭載部に搭載された検出素子と、前記第2搭載部に搭載された電子素子とを有している。 According to one aspect of the present invention, the detection device includes a detection element mounting substrate having the above configuration, a detection element mounted on the first mounting portion, and an electronic element mounted on the second mounting portion. Have.

本発明の一つの態様によれば、検出モジュールは、接続パッドを有するモジュール基板と、前記接続パッドにはんだを介して接続された上記構成の検出装置とを有している。 According to one aspect of the present invention, the detection module has a module substrate having a connection pad and a detection device having the above configuration connected to the connection pad via solder.

本発明の一つの態様による検出素子搭載用基板は、上記構成により、絶縁基板の厚み方向において、複数のビアに対して相対するように配線導体を配置しているので、複数のビアの偏倚および密集による応力の偏りを低減することでき、検出素子搭載用基板の製作時に、例えば焼成における熱収縮による応力で絶縁基板に変形が生じたり、絶縁基板にクラックが生じやすくなることを抑制し、X線を良好に検出することができる。
Detecting device mounting board according to one aspect of the present invention, the upper Symbol structure in the thickness direction of the insulating substrate, so that by arranging the wiring conductor so as to face to a plurality of vias, the bias of the plurality of vias In addition, it is possible to reduce the bias of stress due to density, and it is possible to prevent the insulating substrate from being deformed or cracked easily due to stress due to heat shrinkage during firing, for example, when manufacturing a substrate for mounting a detection element. X-rays can be detected well.

本発明の一つの態様による検出装置、上記構成の検出素子搭載用基板と、前記第1搭載部に搭載された検出素子と、前記第2搭載部に搭載された電子素子とを有していることによって、信頼性に優れたものとすることができる。
Detection device according to one aspect of the present invention, comprises a detection device mounting board having the above structure, the detection element mounted on the first mounting portion, and an electronic device mounted on the second mounting part by there can be provided with excellent reliability.

本発明の一つの態様による検出モジュール、接続パッドを有するモジュール基板と、接続パッドにはんだを介して接続された上記構成の検出装置とを有していることによって、信頼性に優れたものとすることができる。 Detection module according to one embodiment of the present invention includes: a module substrate having a connection pad, by having a detection device connected to the structure via a solder connection pads, and is excellent in reliability can do.

(a)は本発明の第1の実施形態における検出装置を示す上面透視図であり、(b)は(a)の下面透視図である。(A) is a top perspective view showing the detection device according to the first embodiment of the present invention, and (b) is a bottom perspective view of (a). (a)は図1(a)に示した検出装置の内部上面図であり、(b)は(a)のB部における要部拡大内部上面図である。(A) is an internal top view of the detection device shown in FIG. 1 (a), and (b) is an enlarged internal top view of a main part in part B of (a). (a)は図1(a)に示した検出装置のA−A線における縦断面図であり、(b)は(a)のC部における要部拡大縦断面図である。(A) is a vertical cross-sectional view taken along the line AA of the detection device shown in FIG. 1 (a), and (b) is an enlarged vertical cross-sectional view of a main part in part C of (a). 本発明の第1の実施形態における検出装置の他の例を示す要部拡大縦断面図である。It is a main part enlarged vertical sectional view which shows the other example of the detection apparatus in 1st Embodiment of this invention. (a)は、本発明の第1の実施形態の検出装置の他の例における縦断面図であり、(b)は(a)のC部における要部拡大縦断面図である。(A) is a vertical cross-sectional view of another example of the detection device according to the first embodiment of the present invention, and (b) is an enlarged vertical cross-sectional view of a main part in part C of (a). (a)は本発明の第2の実施形態における検出装置を示す上面透視図であり、(b)は(a)の下面透視図である。(A) is a top perspective view showing the detection device according to the second embodiment of the present invention, and (b) is a bottom perspective view of (a). (a)は図6(a)に示した検出装置の第1の内部上面図であり、(b)は第2の内部上面図である。(A) is a first internal top view of the detection device shown in FIG. 6 (a), and (b) is a second internal top view. 図7(a)のB部における要部拡大内部上面透視図である。FIG. 7 (a) is an enlarged internal top perspective view of a main part in part B of FIG. 7 (a). (a)は図8に示した検出装置のA−A線における要部拡大縦断面図であり、(b)は図8に示した検出装置のD−D線における要部拡大縦断面図である。(A) is an enlarged vertical cross-sectional view of a main part of the detection device shown in FIG. 8 along the AA line, and (b) is an enlarged vertical cross-sectional view of the main part of the detection device shown in FIG. 8 on the DD line. is there. (a)は本発明の第3の実施形態における検出装置の内部上面透視図であり、(b)は(a)のB部における要部拡大内部上面透視図である。(A) is an internal top perspective view of the detection device according to the third embodiment of the present invention, and (b) is an enlarged internal top perspective view of a main part in part B of (a). 本発明の第3の実施形態における検出装置の他の例を示す内部上面透視図である。FIG. 5 is an internal top perspective view showing another example of the detection device according to the third embodiment of the present invention. 本発明の第4の実施形態における検出装置の要部拡大内部上面透視図である。FIG. 5 is an enlarged internal top perspective view of a main part of the detection device according to the fourth embodiment of the present invention. (a)は、図12に示した検出装置のA−A線における縦断面透視図であり、(b)は、D−D線における縦断面図である。(A) is a vertical cross-sectional perspective view of the detection device shown in FIG. 12 along the line AA, and (b) is a vertical cross-sectional view taken along the line DD. (a)は、第4の実施形態における検出装置の他の例における要部拡大縦断面透視図であり、(b)は、第4の実施形態における検出装置の他の例における要部拡大縦断面図である。(A) is an enlarged vertical cross-sectional perspective view of a main part in another example of the detection device in the fourth embodiment, and (b) is an enlarged vertical section of a main part in another example of the detection device in the fourth embodiment. It is a top view. (a)は、第4の実施形態における検出装置の他の例における要部拡大縦断面透視図であり、(b)は、第4の実施形態における検出装置の他の例における要部拡大縦断面図である。(A) is an enlarged vertical cross-sectional perspective view of a main part in another example of the detection device in the fourth embodiment, and (b) is an enlarged vertical section of a main part in another example of the detection device in the fourth embodiment. It is a top view.

本発明のいくつかの例示的な実施形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。 Some exemplary embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.

(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態における検出装置は、図1〜図3に示すように、検出素子搭載用基板1と、検出素子搭載用基板1の第1主面11aに搭載された検出素子2と、検出素子搭載用基板1の第2主面11bに搭載された電子素子3とを含んでいる。検出装置は、例え
ば、検出モジュールを構成するモジュール基板上にはんだを用いて接続される。
(First Embodiment)
As shown in FIGS. 1 to 3, the detection device according to the first embodiment of the present invention includes a detection element mounting substrate 1 and a detection element 2 mounted on the first main surface 11a of the detection element mounting substrate 1. And the electronic element 3 mounted on the second main surface 11b of the detection element mounting substrate 1. The detection device is connected using solder, for example, on the module substrate constituting the detection module.

本実施形態における検出素子搭載用基板1は、第1主面11aと、第1主面11aにX線を検出する検出素子2を搭載する第1搭載部12と、第1主面11aに相対する第2主面11bと、第2主面11bに電子素子3を搭載する第2搭載部13と、絶縁基板11の内部に設けられた配線導体14と、群15Gを成した複数のビア15を含み、平面視で矩形状の絶縁基板11を有している。複数のビア15は、絶縁基板11の厚み方向において、第1主面11aまたは第2主面11b側のいずれかに偏倚して配置されている。第1主面11aまたは第2主面11bと配線導体14との間に設けられている。検出素子搭載用基板1は、絶縁基板11の内部に設けられた接続導体16と絶縁基板11の表面に設けられた配線パターン17とを有している。図1〜図3において、検出素子搭載用基板1および検出装置は仮想のxyz空間におけるxy平面に実装されている。図1〜図3において、上方向とは、仮想のz軸の正方向のことをいう。なお、以下の説明における上下の区別は便宜的なものであり、実際に検出素子搭載用基板1等が使用される際の上下を限定するものではない。また、絶縁基板11の厚み方向とは、図1〜図3において、z軸の方向のことをいう。 The detection element mounting substrate 1 in the present embodiment is relative to the first main surface 11a, the first mounting portion 12 on which the detection element 2 for detecting X-rays is mounted on the first main surface 11a, and the first main surface 11a. A second main surface 11b, a second mounting portion 13 for mounting an electronic element 3 on the second main surface 11b, a wiring conductor 14 provided inside the insulating substrate 11, and a plurality of vias 15 forming a group 15G. The insulating substrate 11 has a rectangular shape in a plan view. The plurality of vias 15 are arranged unevenly on either the first main surface 11a or the second main surface 11b side in the thickness direction of the insulating substrate 11. It is provided between the first main surface 11a or the second main surface 11b and the wiring conductor 14. The detection element mounting substrate 1 has a connection conductor 16 provided inside the insulating substrate 11 and a wiring pattern 17 provided on the surface of the insulating substrate 11. In FIGS. 1 to 3, the detection element mounting substrate 1 and the detection device are mounted on the xy plane in the virtual xyz space. In FIGS. 1 to 3, the upward direction means the positive direction of the virtual z-axis. It should be noted that the distinction between the upper and lower sides in the following description is for convenience, and does not limit the upper and lower sides when the detection element mounting substrate 1 and the like are actually used. Further, the thickness direction of the insulating substrate 11 means the direction of the z-axis in FIGS. 1 to 3.

絶縁基板11は、第1主面11a(図1〜図3では上面)および第2主面11b(図1〜図3では下面)と、側面とを有している。絶縁基板11は、複数の絶縁層11cからなり、平面視すなわち主面に垂直な方向から見ると矩形の板状の形状を有している。絶縁基板11は検出素子2および電子素子3を支持するための支持体として機能し、第1主面11aの第1搭載部12上に検出素子2とが、第2主面11bの第2搭載部13上に電子素子3とが、はんだバンプ、金バンプまたは導電性樹脂(異方性導電樹脂等)等の接続部材4を介して接着されて固定される。 The insulating substrate 11 has a first main surface 11a (upper surface in FIGS. 1 to 3), a second main surface 11b (lower surface in FIGS. 1 to 3), and a side surface. The insulating substrate 11 is composed of a plurality of insulating layers 11c, and has a rectangular plate-like shape when viewed in a plan view, that is, in a direction perpendicular to the main surface. The insulating substrate 11 functions as a support for supporting the detection element 2 and the electronic element 3, and the detection element 2 is mounted on the first mounting portion 12 of the first main surface 11a and the second mounting of the second main surface 11b. The electronic element 3 is adhered and fixed on the portion 13 via a connecting member 4 such as a solder bump, a gold bump, or a conductive resin (anisometric conductive resin or the like).

絶縁基板11は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス),窒化アルミニウム質焼結体,窒化珪素質焼結体、ムライト質焼結体またはガラスセラミックス焼結体等のセラミックスを用いることができる。絶縁基板11は、例えば酸化アルミニウム質焼結体である場合であれば、酸化アルミニウム(Al),酸化珪素(SiO),酸化マグネシウム(MgO),酸化カルシウム(CaO)等の原料粉末に適当な有機バインダーおよび溶剤等を添加混合して泥漿物を作製する。この泥漿物を、従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等を採用してシート状に成形することによってセラミックグリーンシートを作製する。次に、このセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともに、セラミックグリーンシートを複数枚積層して生成形体を形成し、この生成形体を高温(約1600℃)で焼成することによって絶縁基板11が製作される。 For the insulating substrate 11, for example, ceramics such as an aluminum oxide sintered body (alumina ceramics), an aluminum nitride material sintered body, a silicon nitride material sintered body, a mulite material sintered body, or a glass ceramics sintered body may be used. it can. If the insulating substrate 11 is, for example, an aluminum oxide sintered body, it is a raw material powder such as aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO) and the like. An appropriate organic binder, solvent, etc. are added and mixed to prepare a muddy syrup. A ceramic green sheet is produced by molding this slurry into a sheet shape by using a conventionally known doctor blade method, calendar roll method, or the like. Next, the insulating substrate 11 is formed by subjecting the ceramic green sheet to an appropriate punching process, laminating a plurality of ceramic green sheets to form a product, and firing the product at a high temperature (about 1600 ° C.). It will be manufactured.

絶縁基板11の第1主面11aに、検出素子2を搭載する第1搭載部12が設けられており、絶縁基板11の第2主面11bに、電子素子3を搭載する第2搭載部13が設けられている。絶縁基板11の第1主面11aには、検出素子2と電気的に接続するための配線パターン17が設けられている。絶縁基板11の第2主面11bには、電子素子3と電気的に接続するための配線パターン17が設けられている。 A first mounting portion 12 for mounting the detection element 2 is provided on the first main surface 11a of the insulating substrate 11, and a second mounting portion 13 for mounting the electronic element 3 on the second main surface 11b of the insulating substrate 11. Is provided. A wiring pattern 17 for electrically connecting to the detection element 2 is provided on the first main surface 11a of the insulating substrate 11. A wiring pattern 17 for electrically connecting to the electronic element 3 is provided on the second main surface 11b of the insulating substrate 11.

配線導体14および接続導体16は、絶縁基板11の内部に設けられており、電気的に接続されている。また、配線導体14および接続導体16は、配線パターン17に電気的に接続されている。配線導体14および接続導体16、配線パターン17は、検出素子搭載用基板1に搭載された検出素子2および電子素子3とモジュール基板とを電気的に接続するためのものである。配線導体14は、絶縁基板11の内部に設けられた配線導体14と、絶縁基板11を構成する絶縁層11cを貫通して上下に位置する配線導体14同士を電気的に接続する、あるいは配線パターン17と電気的に接続する貫通導体とを含んでいる。なお、接続導体16は、図1〜図3に示す例では、絶縁基板11の厚み方向の中央部から第2主面11bにかけて、絶縁基板11の複数の絶縁層11cを貫通している。 The wiring conductor 14 and the connecting conductor 16 are provided inside the insulating substrate 11 and are electrically connected to each other. Further, the wiring conductor 14 and the connecting conductor 16 are electrically connected to the wiring pattern 17. The wiring conductor 14, the connecting conductor 16, and the wiring pattern 17 are for electrically connecting the detection element 2 and the electronic element 3 mounted on the detection element mounting substrate 1 to the module substrate. The wiring conductor 14 electrically connects the wiring conductor 14 provided inside the insulating substrate 11 and the wiring conductors 14 located above and below the insulating layer 11c constituting the insulating substrate 11 or a wiring pattern. Includes a through conductor that electrically connects to 17. In the example shown in FIGS. 1 to 3, the connecting conductor 16 penetrates the plurality of insulating layers 11c of the insulating substrate 11 from the central portion in the thickness direction of the insulating substrate 11 to the second main surface 11b.

配線導体14および接続導体16、ならびに配線パターン17は、例えばタングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn)等を主成分とする金属粉末メタライズである。例えば、絶縁基板11が酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、W,MoまたはMn等の高融点金属粉末に適当な有機バインダーおよび溶媒等を添加混合して得たメタライズペーストを、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートに予めスクリーン印刷法によって所定のパターンに印刷塗布して、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートと同時に焼成することによって、絶縁基板11の所定位置に被着形成される。配線導体14および配線パターン17は、例えば、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートに、配線導体14用または配線パターン17用のメタライズペーストをスクリーン印刷法等の印刷手段によって印刷塗布し、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。また、配線導体14が貫通導体である場合、あるいは接続導体16は、例えば、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートに金型またはパンチングによる打ち抜き加工またはレーザー加工等の加工方法によって貫通導体用の貫通孔を形成し、この貫通孔に、貫通導体用または接続導体16用のメタライズペーストを上記印刷手段によって充填しておき、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。メタライズペーストは、上述の金属粉末に適当な溶剤およびバインダーを加えて混練することによって、適度な粘度に調整して作製される。なお、絶縁基板11との接合強度を高めるために、ガラス粉末、セラミック粉末を含んでいても構わない。 The wiring conductor 14, the connecting conductor 16, and the wiring pattern 17 are metal powder metallized containing, for example, tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), or the like as main components. For example, when the insulating substrate 11 is made of an aluminum oxide sintered body, a metallized paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and a solvent to a refractory metal powder such as W, Mo or Mn is insulated. A predetermined pattern is printed and applied to the ceramic green sheet for the substrate 11 in advance by a screen printing method, and the ceramic green sheet for the insulating substrate 11 is fired at the same time to be adhered and formed at a predetermined position on the insulating substrate 11. For the wiring conductor 14 and the wiring pattern 17, for example, a metallized paste for the wiring conductor 14 or the wiring pattern 17 is printed and applied to a ceramic green sheet for the insulating substrate 11 by a printing means such as a screen printing method, and the wiring conductor 14 and the wiring pattern 17 are used for the insulating substrate 11. It is formed by firing together with the ceramic green sheet of. Further, when the wiring conductor 14 is a through conductor, or the connection conductor 16 is a through hole for a through conductor by a processing method such as punching or laser processing on a ceramic green sheet for an insulating substrate 11 by a mold or punching. Is formed, and the through hole is filled with a metallized paste for a through conductor or a connecting conductor 16 by the above printing means and fired together with a ceramic green sheet for an insulating substrate 11. The metallized paste is prepared by adding an appropriate solvent and a binder to the above-mentioned metal powder and kneading the paste to adjust the viscosity to an appropriate level. In addition, in order to increase the bonding strength with the insulating substrate 11, glass powder and ceramic powder may be contained.

ビア15は、絶縁基板11の内部に、絶縁基板11の厚み方向(図1ではz方向)に複数設けられている。複数のビア15は、絶縁基板11の厚み方向において、第1主面11aまたは第2主面11bと配線導体14との間に設けられている。複数のビア15は、図2に示される例において、第1主面11a側から4番目の絶縁層11cに設けられており、第2主面11bと配線導体14との間に設けられている。 A plurality of vias 15 are provided inside the insulating substrate 11 in the thickness direction of the insulating substrate 11 (z direction in FIG. 1). The plurality of vias 15 are provided between the first main surface 11a or the second main surface 11b and the wiring conductor 14 in the thickness direction of the insulating substrate 11. In the example shown in FIG. 2, the plurality of vias 15 are provided on the fourth insulating layer 11c from the first main surface 11a side, and are provided between the second main surface 11b and the wiring conductor 14. ..

ビア15は、検出素子搭載用基板1の第1主面11a側に照射されたX線を遮断するものであり、絶縁基板11の第2主面11b側に透過し、電子素子3に照射されるのを抑制するものである。ビア15は、タングステンまたはモリブデンを主原料とした材料が好適に使用され、上述の配線導体14の貫通導体と同様の方法により形成される。ビア15は、図1〜図3に示す例では、絶縁基板11を構成する複数に積層された絶縁層11cのうち、絶縁基板11の第2主面11b側の絶縁層11cに偏倚して設けられている。ビア15は、平面視において、円形状を有している。第1の実施形態の検出素子搭載用基板1において、ビア15は円柱状である。 The via 15 blocks the X-rays emitted to the first main surface 11a side of the detection element mounting substrate 1, passes through the second main surface 11b side of the insulating substrate 11, and is irradiated to the electronic element 3. It suppresses the problem. A material mainly made of tungsten or molybdenum is preferably used for the via 15, and the via 15 is formed by the same method as the through conductor of the wiring conductor 14 described above. In the example shown in FIGS. 1 to 3, the via 15 is provided unevenly on the insulating layer 11c on the second main surface 11b side of the insulating substrate 11 among the plurality of laminated insulating layers 11c constituting the insulating substrate 11. Has been done. The via 15 has a circular shape in a plan view. In the detection element mounting substrate 1 of the first embodiment, the via 15 is cylindrical.

検出素子搭載用基板1は、絶縁基板11の内部に複数のビア15を有しており、複数のビア15は群15Gを成している。群15Gが格子状である格子部を有している。ここで、群15Gが格子部を有しているとは、図2に示す例のように、複数のビア15の群15Gが、格子状に配列されていることを示している。なお、図2に示す例においては、複数のビア15の群15Gは、平面透視において、配線導体14の貫通導体を囲むように、格子状に配列されている。この場合、配線導体14の貫通導体とビア15との間隔は、平面透視において、近傍に配置された隣接するビア15同士の間隔よりも大きく、複数のビア15は、隣接する配線導体14の貫通導体同士の中央部に沿って配置されている。 The detection element mounting substrate 1 has a plurality of vias 15 inside the insulating substrate 11, and the plurality of vias 15 form a group 15G. Group 15G has a grid portion that is grid-like. Here, the fact that the group 15G has a grid portion indicates that the group 15G of a plurality of vias 15 are arranged in a grid pattern as in the example shown in FIG. In the example shown in FIG. 2, the group 15G of the plurality of vias 15 are arranged in a grid pattern so as to surround the through conductor of the wiring conductor 14 in plan perspective. In this case, the distance between the penetrating conductor of the wiring conductor 14 and the via 15 is larger than the distance between adjacent vias 15 arranged in the vicinity in plan perspective, and the plurality of vias 15 penetrate the adjacent wiring conductor 14. It is arranged along the central part of the conductors.

ビア15の厚み(絶縁基板11のZ方向の長さ)は、X線の強度により設定され、例えば、100μm〜300μm程度に形成される。なお、ビア15は、図3に示す例では、絶縁基板11の厚み方向の第2主面11b側寄りに配置された1つの絶縁層11cに形成しているが、図4に示す例のように、絶縁基板11の内部に、複数の絶縁層11cに形成しても構わない。例えば、100μmの厚さのビア15を2つの絶縁層11cにそれぞれ形成しておき、これらの絶縁層11cを絶縁基板11の厚み方向に積み重ねることにより、200μmの厚さとなるビア15を形成
しても構わない。この場合、ビア15が設けられる1つの絶縁層11cの厚みを小さくすることで、検出素子搭載用基板1の製作時において、1つの絶縁層11cの厚みを大きくする場合と比較して、隣接するビア15間にクラックの発生を生じにくくすることができ、同一の絶縁層11cにおけるビア15間同士の間隔を小さくすることができるので、絶縁基板11内に複数のビア15を格子状に密集して設けることができ、検出装置の作動時に電子素子3等の熱が検出素子搭載用基板1に伝わり、絶縁層11cとビア15との熱膨張差による応力が発生しようとしても、複数のビア15による群15Gが有する格子部で応力が分散されて、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。なお、ビア15が設けられる1つの絶縁層11cの厚みは、ビア15の径以下とすることが好ましい。また、それぞれの群15Gにおける効果を効率よくするため、それぞれの絶縁層11cの厚みが同じ大きさとなる、すなわち均等に設けることが好ましい。また、絶縁基板11の最外周側に配置されたビア15と絶縁基板11との間の間隔は、絶縁基板11の側面側に応力が加えられた際に、複数のビア15による群15Gの応力分散のバランスが崩れることを抑制するため、隣接するビア15間の間隔よりも大きくなるように配置されていることが好ましい。より好ましくは、絶縁基板11の最外周側に配置されたビア15と絶縁基板11との間の間隔は、隣接するビア15間の間隔の2倍以上である。
The thickness of the via 15 (the length of the insulating substrate 11 in the Z direction) is set by the intensity of X-rays, and is formed to be, for example, about 100 μm to 300 μm. In the example shown in FIG. 3, the via 15 is formed on one insulating layer 11c arranged closer to the second main surface 11b in the thickness direction of the insulating substrate 11, but as in the example shown in FIG. In addition, a plurality of insulating layers 11c may be formed inside the insulating substrate 11. For example, vias 15 having a thickness of 100 μm are formed on two insulating layers 11c, respectively, and these insulating layers 11c are stacked in the thickness direction of the insulating substrate 11 to form vias 15 having a thickness of 200 μm. It doesn't matter. In this case, by reducing the thickness of one insulating layer 11c on which the via 15 is provided, the thickness of the one insulating layer 11c is increased when the substrate 1 for mounting the detection element is manufactured. Since it is possible to make it difficult for cracks to occur between the vias 15 and to reduce the distance between the vias 15 in the same insulating layer 11c, a plurality of vias 15 are densely packed in the insulating substrate 11 in a grid pattern. Even if the heat of the electronic element 3 or the like is transferred to the detection element mounting substrate 1 when the detection device is operated and stress is generated due to the difference in thermal expansion between the insulating layer 11c and the via 15, a plurality of vias 15 are provided. Stress is dispersed in the lattice portion of the group 15G, and it is possible to suppress the occurrence of distortion in the detection element mounting substrate 1, and it is possible to detect X-rays satisfactorily. The thickness of one insulating layer 11c on which the via 15 is provided is preferably not more than the diameter of the via 15. Further, in order to make the effect in each group 15G efficient, it is preferable that the thicknesses of the respective insulating layers 11c are the same, that is, they are provided evenly. Further, the distance between the via 15 arranged on the outermost peripheral side of the insulating substrate 11 and the insulating substrate 11 is the stress of the group 15G due to the plurality of vias 15 when the stress is applied to the side surface side of the insulating substrate 11. In order to prevent the dispersion from being out of balance, it is preferable that the arrangement is larger than the distance between adjacent vias 15. More preferably, the distance between the via 15 arranged on the outermost peripheral side of the insulating substrate 11 and the insulating substrate 11 is at least twice the distance between the adjacent vias 15.

また、第1主面11a側の絶縁層11cの厚みおよび第2主面11b側の絶縁層11cの厚みを、ビア15が設けられる絶縁層11cの厚みよりも大きくしておくと、ビア15が設けられた絶縁層11cを挟むようにして保持することにより、検出装置の作動時に発熱し、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。 Further, if the thickness of the insulating layer 11c on the first main surface 11a side and the thickness of the insulating layer 11c on the second main surface 11b side are made larger than the thickness of the insulating layer 11c on which the via 15 is provided, the via 15 is formed. By holding the provided insulating layer 11c so as to sandwich it, it is possible to suppress heat generation during operation of the detection device and distortion of the detection element mounting substrate 1, and it is possible to detect X-rays satisfactorily. ..

また、平面透視において、複数のビア15による群15Gは格子部から延出された延出部Lを有している。このような構成により、検出装置の作動時に電子素子3等の熱が検出素子搭載用基板1に伝わり、絶縁体である絶縁層11cと金属導体であるビア15との熱膨張差による応力が発生しようとしても、複数のビア15による群15Gが有する格子部および格子部から延出された延出部Lで応力が分散されて、格子部の外側近傍においても歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。 Further, in plan perspective, the group 15G formed by the plurality of vias 15 has an extending portion L extending from the lattice portion. With such a configuration, heat of the electronic element 3 or the like is transferred to the substrate 1 for mounting the detection element when the detection device is operated, and stress is generated due to the difference in thermal expansion between the insulating layer 11c which is an insulator and the via 15 which is a metal conductor. Even if an attempt is made, the stress is dispersed in the lattice portion of the group 15G by the plurality of vias 15 and the extension portion L extending from the lattice portion, and it is possible to suppress the occurrence of distortion even in the vicinity of the outside of the lattice portion. It can detect X-rays well.

なお、延出部Lにおいても、絶縁基板11の最外周側に配置されたビア15と絶縁基板11との間の間隔は、上述と同様に、隣接するビア15間の間隔の2倍以上であることが好ましい。 In the extending portion L, the distance between the via 15 arranged on the outermost peripheral side of the insulating substrate 11 and the insulating substrate 11 is at least twice the distance between the adjacent vias 15 as described above. It is preferable to have.

平面透視において、格子部から延出された延出部Lは絶縁基板11の周縁部に設けられている。このような構成により、検出装置の作動時に電子素子3等の熱が検出素子搭載用基板1に伝わり、検出素子搭載用基板1の周縁部(外縁)において、絶縁体である絶縁層11cと金属導体であるビア15との熱膨張差による応力が発生しようとしても、複数のビア15による群15Gが有する格子部および格子部から延出された延出部Lで応力が分散されて、検出素子搭載用基板1の周縁部においても歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。 In the plan perspective, the extending portion L extending from the lattice portion is provided on the peripheral edge portion of the insulating substrate 11. With such a configuration, heat of the electronic element 3 or the like is transferred to the detection element mounting substrate 1 when the detection device is operated, and the insulating layer 11c which is an insulator and the metal are formed on the peripheral edge (outer edge) of the detection element mounting substrate 1. Even if stress due to the difference in thermal expansion with the conductor via 15 is about to be generated, the stress is dispersed by the lattice portion of the group 15G due to the plurality of vias 15 and the extending portion L extending from the lattice portion, and the detection element is detected. It is possible to suppress the occurrence of distortion even at the peripheral edge of the mounting substrate 1, and it is possible to detect X-rays satisfactorily.

配線導体14の絶縁基板11から露出する表面には、電気めっき法または無電解めっき法によって金属めっき層が被着される。金属めっき層は、ニッケル,銅,金等の耐食性および接続部材4との接続性に優れる金属から成るものであり、例えば厚さ0.5〜5μm程度の
ニッケルめっき層と0.1〜3μm程度の金めっき層とが順次被着される。これによって、
配線導体14が腐食することを効果的に抑制できるとともに、配線導体14と接続部材4との接合、ならびに配線導体14とモジュール基板に形成された接続用の接続パッドとの接合を強固にできる。
A metal plating layer is adhered to the surface of the wiring conductor 14 exposed from the insulating substrate 11 by an electroplating method or an electroless plating method. The metal plating layer is made of a metal having excellent corrosion resistance such as nickel, copper, and gold and connectivity with the connecting member 4. For example, a nickel plating layer having a thickness of about 0.5 to 5 μm and a gold plating layer having a thickness of about 0.1 to 3 μm. And are sequentially adhered. by this,
Corrosion of the wiring conductor 14 can be effectively suppressed, and the connection between the wiring conductor 14 and the connecting member 4 and the connection between the wiring conductor 14 and the connection pad for connection formed on the module substrate can be strengthened.

検出素子搭載用基板1の第1主面11aの第1搭載部12上に検出素子2を搭載し、検出素子搭載用基板1の第2主面11bの第2搭載部13上に電子素子3を搭載することによって、検出装置を作製できる。 The detection element 2 is mounted on the first mounting portion 12 of the first main surface 11a of the detection element mounting substrate 1, and the electronic element 3 is mounted on the second mounting portion 13 of the second main surface 11b of the detection element mounting substrate 1. A detection device can be manufactured by mounting the device.

検出素子2は、検出素子搭載用基板1に入射されるX線を、電気信号に変換するための素子である。検出素子2は、例えば、X線を光に変換するシンチレータと、光を電気信号に変換するフォトダイオードとを有している。検出装置に入射されたX線をシンチレータにより光に変換し、その光をフォトダイオードにより電気信号に変換する。電子素子3は、検出素子2から出力される電気信号を検出し、情報として処理するための素子であり、例えば、集積回路デバイスである。検出素子2および電子素子3は、例えば、はんだバンプ、金バンプまたは導電性樹脂(異方性導電樹脂等)等の接続部材4を介して、検出素子2の電極または電子素子3の電極と配線導体14とが電気的および機械的に接続されることによって検出素子搭載用基板1に搭載される。 The detection element 2 is an element for converting X-rays incident on the detection element mounting substrate 1 into an electric signal. The detection element 2 has, for example, a scintillator that converts X-rays into light and a photodiode that converts light into an electric signal. The X-rays incident on the detection device are converted into light by a scintillator, and the light is converted into an electric signal by a photodiode. The electronic element 3 is an element for detecting an electric signal output from the detection element 2 and processing it as information, and is, for example, an integrated circuit device. The detection element 2 and the electronic element 3 are wired to the electrode of the detection element 2 or the electrode of the electronic element 3 via, for example, a connecting member 4 such as a solder bump, a gold bump, or a conductive resin (anisometric conductive resin or the like). The conductor 14 is electrically and mechanically connected to be mounted on the detection element mounting substrate 1.

ビア15は、平面透視において、X線を光に変換するシンチレータの非形成部を覆うように、複数のビア15が群15Gを成しており、平面透視において群15Gが格子状に設けられている。群15Gは、平面透視において、シンチレータの非形成部の幅よりも幅広に設けられている。絶縁基板11内を透過するX線が、検出素子搭載用基板1の第2搭載部13に搭載された電子素子3に照射されることを低減することで、電子素子3の機能低下を抑制することができ、電気信号を良好に検出し、処理することができる。 In the plane perspective, a plurality of vias 15 form a group 15G so as to cover the non-forming portion of the scintillator that converts X-rays into light, and the vias 15 are provided in a grid pattern in the plane perspective. There is. The group 15G is provided wider than the width of the non-formed portion of the scintillator in planar fluoroscopy. By reducing the irradiation of the X-rays transmitted through the insulating substrate 11 to the electronic element 3 mounted on the second mounting portion 13 of the detection element mounting substrate 1, the functional deterioration of the electronic element 3 is suppressed. It can detect and process electrical signals well.

本実施形態の検出装置の配線導体14が、モジュール基板の接続パッドにはんだを介して接続されて、検出モジュールとなる。 The wiring conductor 14 of the detection device of this embodiment is connected to the connection pad of the module substrate via solder to form a detection module.

本実施形態の検出素子搭載用基板1は、第1主面11aと、第1主面11aにX線を検出する検出素子2を搭載する第1搭載部12と、第1主面11aに相対する第2主面11bと、第2主面11bに電子素子3を搭載する第2搭載部13と、内部に設けられた配線導体14と、群15Gを成した複数のビア15を含み、平面視で矩形状の絶縁基板11を有しており、絶縁基板11の厚み方向において、複数のビア15は、第1主面11aまたは第2主面11bと配線導体14との間に設けられている。上記構成により、絶縁基板11の厚み方向において、複数のビア15に対して相対するように配線導体14を配置しているので、複数のビア15の偏倚および密集による応力の偏りを低減することでき、検出素子搭載用基板1の製作時に、例えば焼成における熱収縮による応力で絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることを抑制し、X線を良好に検出することができる。 The detection element mounting substrate 1 of the present embodiment is relative to the first main surface 11a, the first mounting portion 12 on which the detection element 2 for detecting X-rays is mounted on the first main surface 11a, and the first main surface 11a. A flat surface including a second main surface 11b, a second mounting portion 13 for mounting an electronic element 3 on the second main surface 11b, a wiring conductor 14 provided inside, and a plurality of vias 15 forming a group 15G. A visually rectangular insulating substrate 11 is provided, and a plurality of vias 15 are provided between the first main surface 11a or the second main surface 11b and the wiring conductor 14 in the thickness direction of the insulating substrate 11. There is. With the above configuration, since the wiring conductors 14 are arranged so as to face the plurality of vias 15 in the thickness direction of the insulating substrate 11, it is possible to reduce the bias of the stress due to the deviation and the density of the plurality of vias 15. When manufacturing the substrate 1 for mounting a detection element, it is necessary to prevent the insulating substrate 11 from being deformed or cracked easily due to stress due to heat shrinkage during firing, and to detect X-rays satisfactorily. Can be done.

また、複数のビア15は、図3に示す例において、第2主面11bと配線導体14との間に設けられているが、図5に示す例のように、第1主面11aと配線導体14との間に設けられていても構わない。複数のビア15により、検出素子2に近い第1主面11a側にて、X線を遮断することで、絶縁基板11の第2主面11b側に透過して電子素子3に照射されるのをより良好に抑制することができる。後述の実施形態の検出素子搭載用基板1においても同様に、複数のビア15は、第1主面11aと配線導体14との間に設けられていても構わない。 Further, the plurality of vias 15 are provided between the second main surface 11b and the wiring conductor 14 in the example shown in FIG. 3, but as in the example shown in FIG. 5, the first main surface 11a and the wiring are provided. It may be provided between the conductor 14 and the conductor 14. By blocking X-rays on the first main surface 11a side close to the detection element 2 by the plurality of vias 15, the X-rays are transmitted to the second main surface 11b side of the insulating substrate 11 and irradiated to the electronic element 3. Can be better suppressed. Similarly, in the detection element mounting substrate 1 of the embodiment described later, a plurality of vias 15 may be provided between the first main surface 11a and the wiring conductor 14.

また、群15Gは、図2、3に示される例のように、面状に設けられた金属層18に接続されていると、平面透視において、金属層18が複数のビア15間の間を覆うこととなり、検出素子搭載用基板1内におけるビア15の非形成部を補填し、X線の遮断をより効果的に行うことで、検出素子搭載用基板1の第1主面11a側に照射されたX線を良好に遮断して、絶縁基板11の第2主面11b側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制することができる。 Further, when the group 15G is connected to the metal layer 18 provided in a plane shape as in the example shown in FIGS. 2 and 3, the metal layer 18 is between the plurality of vias 15 in the plan perspective. By covering the non-formed portion of the via 15 in the detection element mounting substrate 1 and blocking X-rays more effectively, the first main surface 11a side of the detection element mounting substrate 1 is irradiated. It is possible to satisfactorily block the generated X-rays, transmit them to the second main surface 11b side of the insulating substrate 11, and satisfactorily suppress the irradiation of the electronic element 3.

金属層18は、平面透視において、ビア15と同様に、X線を光に変換するシンチレータの
非形成部に重なるように、格子状に設けられており、平面透視において、複数のビア15の群15Gと重なるように設けられている。
Similar to the via 15, the metal layer 18 is provided in a grid pattern so as to overlap the non-forming portion of the scintillator that converts X-rays into light in the plane perspective, and is a group of a plurality of vias 15 in the plane perspective. It is provided so as to overlap with 15G.

このような金属層18は、タングステンまたはモリブデンを主原料とした材料が好適に使用され、上述の配線導体14と同様の製造方法により、製作することができる。金属層18は、平面視において、金属層18の幅を格子部の幅よりも大きくしておくと、複数のビア15を良好に保持し、検出装置の作動時に、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。 Such a metal layer 18 is preferably made of a material containing tungsten or molybdenum as a main raw material, and can be manufactured by the same manufacturing method as that of the wiring conductor 14 described above. When the width of the metal layer 18 is made larger than the width of the lattice portion in the plan view, the metal layer 18 satisfactorily holds a plurality of vias 15 and is attached to the detection element mounting substrate 1 when the detection device is operated. It is possible to suppress the occurrence of distortion, and it is possible to detect X-rays satisfactorily.

また、金属層18は、5〜30μm程度の厚みに設けられている。金属層18の厚みは、平面透視において複数のビア15間の間隙よりも大きいことが好ましい。 The metal layer 18 is provided with a thickness of about 5 to 30 μm. The thickness of the metal layer 18 is preferably larger than the gap between the plurality of vias 15 in plan perspective.

また、金属層18は、図3に示す例のように、複数のビア15に接続される、すなわち複数の絶縁層11c間に配置され、厚み方向に複数形成されていてもよい。例えば、金属層18が、格子状の複数のビア15の群15Gに接続しておくことで、複数のビア15を保持し、例えば検出装置の作動時に電子素子3等の熱が検出素子搭載用基板1に伝わり、絶縁層11cとビア15との熱膨張差による応力が発生しようとしても、金属層18で応力が分散されて、検出素子搭載用基板1が歪むことをより効果的に抑制することができる。 Further, the metal layer 18 may be connected to a plurality of vias 15, that is, may be arranged between the plurality of insulating layers 11c, and may be formed in a plurality in the thickness direction, as in the example shown in FIG. For example, by connecting the metal layer 18 to the group 15G of a plurality of vias 15 in a grid pattern, the plurality of vias 15 are held, and for example, the heat of the electronic element 3 or the like is used for mounting the detection element when the detection device is operated. Even if the stress is transmitted to the substrate 1 and stress is generated due to the difference in thermal expansion between the insulating layer 11c and the via 15, the stress is dispersed in the metal layer 18 to more effectively suppress the distortion of the detection element mounting substrate 1. be able to.

また、平面透視において、群15Gの領域は第2搭載部13の領域を含むように設けられていると、第2搭載部13の領域に対して、検出素子搭載用基板1の第1主面11a側に照射されたX線を良好に遮断して、第2主面11b側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制することができX線を良好に検出することができる。 Further, in the plane perspective, if the region of the group 15G is provided so as to include the region of the second mounting portion 13, the first main surface of the detection element mounting substrate 1 is provided with respect to the region of the second mounting portion 13. It is possible to satisfactorily block the X-rays emitted to the 11a side, transmit the X-rays to the second main surface 11b side, and satisfactorily suppress the irradiation to the electronic element 3, and to detect the X-rays satisfactorily. it can.

絶縁基板11は、配線導体14に接続されており、第2主面11bに導出され、電子素子3に接続される接続導体16を有しており、平面透視において、群15Gの外縁部は第2主面11bの接続導体16より外側に位置していると、第2搭載部13の領域に対して、検出素子搭載用基板1の第1主面11a側に照射されたX線を良好に遮断して、第2主面11b側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制することができX線を良好に検出することができる。 The insulating substrate 11 has a connecting conductor 16 which is connected to the wiring conductor 14, is led out to the second main surface 11b, and is connected to the electronic element 3, and the outer edge portion of the group 15G is the first in plan perspective. When the two main surfaces 11b are located outside the connecting conductor 16, the X-rays radiated to the first main surface 11a side of the detection element mounting substrate 1 are satisfactorily applied to the region of the second mounting portion 13. It can be blocked, transmitted to the second main surface 11b side, and is satisfactorily suppressed from being irradiated to the electronic element 3, and X-rays can be satisfactorily detected.

本発明の一つの態様による検出装置において、上記構成の検出素子搭載用基板1と、第1搭載部12に搭載された検出素子2と、第2搭載部13に搭載された電子素子3とを有していることによって、信頼性に優れた検出装置とすることができる。 In the detection device according to one aspect of the present invention, the detection element mounting substrate 1 having the above configuration, the detection element 2 mounted on the first mounting portion 12, and the electronic element 3 mounted on the second mounting portion 13 are provided. By having it, it is possible to obtain a detection device having excellent reliability.

本発明の一つの態様による検出モジュールにおいて、接続パッドを有するモジュール基板と、接続パッドにはんだを介して接続された上記構成の検出装置とを有していることによって、信頼性に優れた検出モジュールとすることができる。 In the detection module according to one aspect of the present invention, a detection module having an excellent reliability is provided by having a module substrate having a connection pad and a detection device having the above configuration connected to the connection pad via solder. Can be.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による検出装置について、図6〜図9を参照しつつ説明する。
(Second Embodiment)
Next, the detection device according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 to 9.

本発明の第2の実施形態における検出装置において、上記した実施形態の検出装置と異なる点は、絶縁基板11の厚み方向において、第1主面11aと配線導体14との間に面上の補助金属層19が設けられている点である。この場合、複数のビア15が第2主面11bと配線導体14との間に設けられている。 The detection device according to the second embodiment of the present invention differs from the detection device according to the above-described embodiment in that the auxiliary on the surface between the first main surface 11a and the wiring conductor 14 in the thickness direction of the insulating substrate 11. The point is that the metal layer 19 is provided. In this case, a plurality of vias 15 are provided between the second main surface 11b and the wiring conductor 14.

本発明の第2の実施形態における検出素子搭載用基板1によれば、第1の実施形態の検出装置用基板1と同様に、絶縁基板11の厚み方向において、複数のビア15に対して相対す
るように配線導体14を配置しているので、複数のビア15の偏倚および密集による応力の偏りを低減することでき、検出素子搭載用基板1の製作時に、例えば焼成における熱収縮による応力で絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることを抑制し、X線を良好に検出することができる。
According to the detection element mounting substrate 1 according to the second embodiment of the present invention, similarly to the detection device substrate 1 of the first embodiment, the insulating substrate 11 is relative to the plurality of vias 15 in the thickness direction. Since the wiring conductor 14 is arranged so as to be used, it is possible to reduce the bias of the stress due to the deviation and the density of the plurality of vias 15, and to insulate the substrate 1 for mounting the detection element by the stress due to heat shrinkage during firing, for example. It is possible to prevent the substrate 11 from being deformed or the insulating substrate 11 from being easily cracked, and to detect X-rays satisfactorily.

また、絶縁基板11の厚み方向において、複数のビア15が第2主面11bと配線導体14との間に設けられており、第1主面11aと配線導体14との間に面上の補助金属層19が設けられていることによって、複数のビア15が複数の絶縁層11cに設けられたとしても、絶縁基板11の厚み方向において、複数のビア15に対して相対するように配線導体14および補助金属層19を配置しているので、複数のビア15の偏倚および密集による応力の偏りをより低減することでき、検出素子搭載用基板1の製作時に、例えば焼成における熱収縮による応力で絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることをより抑制し、X線を良好に検出することができる。 Further, in the thickness direction of the insulating substrate 11, a plurality of vias 15 are provided between the second main surface 11b and the wiring conductor 14, and the auxiliary on the surface is provided between the first main surface 11a and the wiring conductor 14. By providing the metal layer 19, even if a plurality of vias 15 are provided on the plurality of insulating layers 11c, the wiring conductor 14 faces the plurality of vias 15 in the thickness direction of the insulating substrate 11. Since the auxiliary metal layer 19 is arranged, the bias of the stress due to the unevenness and the density of the plurality of vias 15 can be further reduced, and the substrate 1 for mounting the detection element is insulated by the stress due to heat shrinkage during firing, for example. It is possible to prevent the substrate 11 from being deformed or the insulating substrate 11 from being easily cracked, and to detect X-rays satisfactorily.

補助金属層19は、平面透視において、絶縁層11cの50%以上の面積に形成されていることが好ましい。また、補助金属層19は、配線導体14と電気的に接続されていても良いし、配線導体14と電気的に非接続されていても良い。補助金属層19は、例えば、第1主面11aと配線導体14との間に、電源層として形成されているものであってもよい。 The auxiliary metal layer 19 is preferably formed in an area of 50% or more of the insulating layer 11c in plan perspective. Further, the auxiliary metal layer 19 may be electrically connected to the wiring conductor 14 or may be electrically disconnected from the wiring conductor 14. The auxiliary metal layer 19 may be formed as a power supply layer between the first main surface 11a and the wiring conductor 14, for example.

補助金属層19は、タングステンまたはモリブデンを主原料とした材料が好適に使用され、上述の配線導体14または配線パターン17と同様の材料および方法により製作することができる。補助金属層19は、5〜30μm程度の厚みに設けられている。 A material mainly made of tungsten or molybdenum is preferably used for the auxiliary metal layer 19, and the auxiliary metal layer 19 can be manufactured by the same material and method as the above-mentioned wiring conductor 14 or wiring pattern 17. The auxiliary metal layer 19 is provided to have a thickness of about 5 to 30 μm.

また、第2の実施形態の検出装置搭載用基板1において、複数のビア15が、3つの絶縁層11cに設けられており、3つの絶縁層11cに設けられたビア15(第1のビア15a、第2のビア15b、第3のビア15c)が、平面透視において、互いにずれて配置されている。このようにすると、1つの絶縁層11cに設けるビア15の数を低減できるので、ビア15間にクラックが生じたりすることを抑制し、X線を良好に検出することができる。 Further, in the detection device mounting substrate 1 of the second embodiment, a plurality of vias 15 are provided on the three insulating layers 11c, and the vias 15 (first vias 15a) provided on the three insulating layers 11c are provided. , The second via 15b and the third via 15c) are arranged so as to be offset from each other in plan perspective. By doing so, the number of vias 15 provided in one insulating layer 11c can be reduced, so that cracks may be suppressed between the vias 15 and X-rays can be detected satisfactorily.

また、ビア15の群15Gは、それぞれの絶縁層11cにおいて、格子状である格子部を有している。第1のビア15aと第2のビア15bと第3のビア15cとは、同じ直径および同じ厚みにてそれぞれの絶縁層11cに設けられている。また、それぞれの絶縁層11cに設けられたビア15同士が、平面透視において、互いにずれて配置されている。すなわち、第1のビア15aは、平面透視において、第2のビア15bと第3のビア15cとの間を覆うように設けられている。第1の絶縁層11cに設けられた第1のビア15aと、第2の絶縁層11cに設けられた第2のビア15bと、第3の絶縁層11cに設けられたビア15cとは、平面透視において隣接するそれぞれのビア15の中心を結ぶ仮想線が三角形状となるように配置されている。この構成により、平面透視において、第1のビア15aが、第2のビア15bおよび第3のビア15との間を覆うように配置され、複数のビア15の群15Gにおけるビア15の非形成部を少なくし、検出素子搭載用基板1の第1主面11a側に照射されたX線を良好に遮断して、第2主面11b側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制することができる。なお、第1のビア15aと、第2のビア15bと、第3のビア15cとは、それぞれのビア15の中心を結ぶ仮想線が、平面透視において、正三角形状となるように配置されていることがより好ましい。上述の場合、3つの絶縁層11cに設けられるビア15(第1のビア15a、第2のビア15b、第3のビア15c)は、平面透視で、同じ絶縁層11cに設けられるビア15同士の間隔を直径の2倍としておくと、互いのビア15の間を良好に覆うことができる。 Further, the group 15G of the via 15 has a grid-like lattice portion in each insulating layer 11c. The first via 15a, the second via 15b, and the third via 15c are provided on the respective insulating layers 11c with the same diameter and the same thickness. Further, the vias 15 provided in the respective insulating layers 11c are arranged so as to be offset from each other in plan perspective. That is, the first via 15a is provided so as to cover between the second via 15b and the third via 15c in plan perspective. The first via 15a provided on the first insulating layer 11c, the second via 15b provided on the second insulating layer 11c, and the via 15c provided on the third insulating layer 11c are flat surfaces. The virtual lines connecting the centers of the adjacent vias 15 in perspective are arranged so as to form a triangle. With this configuration, in planar perspective, the first via 15a is arranged so as to cover between the second via 15b and the third via 15, and the non-forming portion of the via 15 in the group 15G of the plurality of vias 15 It is good that the X-rays emitted to the first main surface 11a side of the detection element mounting substrate 1 are satisfactorily blocked, transmitted to the second main surface 11b side, and irradiated to the electronic element 3. Can be suppressed. The first via 15a, the second via 15b, and the third via 15c are arranged so that the virtual lines connecting the centers of the respective vias 15 form a regular triangle shape in plan perspective. It is more preferable to be. In the above case, the vias 15 (first via 15a, second via 15b, third via 15c) provided on the three insulating layers 11c are planar perspectives of the vias 15 provided on the same insulating layer 11c. If the distance is set to twice the diameter, the space between the vias 15 can be well covered.

また、絶縁基板11内の1つの絶縁層11cにおけるビア15を少なくしても、平面透視において、格子状の複数の群15Gを絶縁基板11内に密集して設けることできるので、検出素子搭載用基板1の製作時において、1つの絶縁層11cにおける隣接するビア15間にクラック
の発生を生じにくくすることができる。
Further, even if the vias 15 in one insulating layer 11c in the insulating substrate 11 are reduced, a plurality of grid-like groups 15G can be densely provided in the insulating substrate 11 in plan perspective, so that the detection element can be mounted. At the time of manufacturing the substrate 1, it is possible to prevent the occurrence of cracks between adjacent vias 15 in one insulating layer 11c.

なお、それぞれのビア15(15a〜15c)の厚みは、平面透視における隣接するビア15(15a〜15c)の間隙以上としておくことが好ましい。 The thickness of each via 15 (15a to 15c) is preferably set to be equal to or larger than the gap between adjacent vias 15 (15a to 15c) in plan perspective.

また、例えば、図7に示す例のように、ビア15が複数の絶縁層11cにそれぞれ設けられる場合、延出部Lは、ビア15が設けられた複数の絶縁層11cのそれぞれに設けることが好ましい。 Further, for example, when the via 15 is provided in each of the plurality of insulating layers 11c as in the example shown in FIG. 7, the extending portion L may be provided in each of the plurality of insulating layers 11c provided with the via 15. preferable.

なお、第1のビア15a、第2のビア15b、第3のビア15cが設けられる絶縁層11cの厚みは、それぞれのビア15の径以下とすることが好ましい。また、それぞれの群15Gの効果を効率よくするため、第1のビア15a、第2のビア15b、第3のビア15cが設けられる絶縁層11cの絶縁層11cの厚みが同じ大きさとなることが好ましい。 The thickness of the insulating layer 11c provided with the first via 15a, the second via 15b, and the third via 15c is preferably not more than the diameter of each via 15. Further, in order to make the effect of each group 15G efficient, the thickness of the insulating layer 11c of the insulating layer 11c provided with the first via 15a, the second via 15b, and the third via 15c may be the same. preferable.

また、金属層18を設ける場合、各ビア15と接続するように各絶縁層11c間に設けておくと、各ビア15間の歪みを抑制することができ、絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることを抑制し、X線を良好に検出することができる。 Further, when the metal layer 18 is provided, if it is provided between the insulating layers 11c so as to be connected to each via 15, distortion between the vias 15 can be suppressed, and the insulating substrate 11 may be deformed. It is possible to suppress the tendency of cracks to easily occur in the insulating substrate 11 and to detect X-rays satisfactorily.

また、図6〜図9に示す例においては、面状の補助金属層19が、第1主面11aと配線導体14との間に設けられているが、複数のビア15が、第1主面11aと配線導体14との間、すなわち第1主面11a側に偏倚して配置されている場合、第1主面11aと配線導体14との間に面状の補助金属層19が設けられていても構わない。この場合においても、上述と同様に、複数のビア15に対して相対するように配線導体14を配置しているので、複数のビア15の偏倚および密集による応力の偏りを低減することでき、検出素子搭載用基板1の製作時に、例えば焼成における熱収縮による応力で絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることを抑制し、X線を良好に検出することができる。 Further, in the examples shown in FIGS. 6 to 9, a planar auxiliary metal layer 19 is provided between the first main surface 11a and the wiring conductor 14, but a plurality of vias 15 are provided as the first main surface. When the surface 11a and the wiring conductor 14 are unevenly arranged, that is, on the side of the first main surface 11a, a planar auxiliary metal layer 19 is provided between the first main surface 11a and the wiring conductor 14. It doesn't matter if you do. In this case as well, since the wiring conductors 14 are arranged so as to face the plurality of vias 15 as described above, the bias of the stress due to the deviation and the density of the plurality of vias 15 can be reduced and detected. When manufacturing the element mounting substrate 1, for example, it is possible to suppress deformation of the insulating substrate 11 due to stress due to heat shrinkage during firing and cracking of the insulating substrate 11 easily, and to detect X-rays satisfactorily. ..

また、平面透視において、補助金属層19の領域が群15Gの領域を含むように設けられていると、第2搭載部13の領域に対して、検出素子搭載用基板1の第1主面11a側に照射されたX線を、補助金属層19で減衰することができ、群15Gでより確実に遮断して、第2主面11b側に透過し、電子素子3に照射されるのを効果的に抑制することができX線を良好に検出することができる。 Further, in the plan perspective, if the region of the auxiliary metal layer 19 is provided so as to include the region of the group 15G, the first main surface 11a of the detection element mounting substrate 1 is provided with respect to the region of the second mounting portion 13. The X-rays radiated to the side can be attenuated by the auxiliary metal layer 19, and the group 15G more reliably blocks the X-rays, transmits them to the second main surface 11b side, and irradiates the electronic element 3 with the effect. X-rays can be detected satisfactorily.

第2の実施形態の検出素子搭載用基板1は、上述の第1の実施形態の検出素子搭載用基板1と同様の製造方法を用いて製作することができる。 The detection element mounting substrate 1 of the second embodiment can be manufactured by using the same manufacturing method as the detection element mounting substrate 1 of the first embodiment described above.

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による検出装置について、図10を参照しつつ説明する。上記した実施形態の検出装置と異なる点は、平面透視において、群15Gを取り囲むようにダミー金属層20が設けられている点である。
(Third Embodiment)
Next, the detection device according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The difference from the detection device of the above-described embodiment is that the dummy metal layer 20 is provided so as to surround the group 15G in planar fluoroscopy.

本発明の第3の実施形態における検出素子搭載用基板1によれば、第1の実施形態の検出装置用基板1と同様に、絶縁基板11の厚み方向において、複数のビア15に対して相対するように配線導体14を配置しているので、複数のビア15の偏倚および密集による応力の偏りを低減することでき、検出素子搭載用基板1の製作時に、例えば焼成における熱収縮による応力で絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることを抑制し、X線を良好に検出することができる。 According to the detection element mounting substrate 1 according to the third embodiment of the present invention, similarly to the detection device substrate 1 of the first embodiment, the insulating substrate 11 is relative to the plurality of vias 15 in the thickness direction. Since the wiring conductor 14 is arranged so as to be used, it is possible to reduce the bias of the stress due to the deviation and the density of the plurality of vias 15, and to insulate the substrate 1 for mounting the detection element by the stress due to heat shrinkage during firing, for example. It is possible to prevent the substrate 11 from being deformed or the insulating substrate 11 from being easily cracked, and to detect X-rays satisfactorily.

また、ダミー金属層20を設けることにより、例えば検出装置の作動時に電子素子3等の熱が検出素子搭載用基板1に伝わったとしても、群15Gが設けられた絶縁基板11の内側と
、群15Gが設けられていない絶縁基板11の外周部との差により絶縁基板11の外周部に歪みが生じることを抑制し、絶縁基板11に変形が生じたり、絶縁基板11にクラックが生じやすくなることをより良好に抑制し、X線を良好に検出することができる。
Further, by providing the dummy metal layer 20, for example, even if the heat of the electronic element 3 or the like is transferred to the detection element mounting substrate 1 when the detection device is operated, the inside of the insulating substrate 11 provided with the group 15G and the group Distortion of the outer peripheral portion of the insulating substrate 11 due to the difference from the outer peripheral portion of the insulating substrate 11 not provided with 15G is suppressed, and the insulating substrate 11 is easily deformed or cracks are likely to occur. Can be better suppressed and X-rays can be detected well.

ダミー金属層20は、ビア15が設けられる絶縁層11cのそれぞれに設けておけばよく、例えば、複数の絶縁層11cにビア15が設けられる場合、複数の絶縁層11cの表面に、平面視にてそれぞれ群15Gを取り囲むように設けておけばよい。 The dummy metal layer 20 may be provided on each of the insulating layers 11c on which the vias 15 are provided. For example, when the vias 15 are provided on the plurality of insulating layers 11c, the dummy metal layers 20 may be provided on the surfaces of the plurality of insulating layers 11c in a plan view. It may be provided so as to surround each group 15G.

ダミー金属層20は、図10に示す例では、平面視にて枠状に形成しているが、複数に分割し、図11に示す例のように、群15Gを取り囲むように配置しても構わない。ダミー金属層20は、絶縁基板11の角部に歪みが生じることを抑制するために、群15Gを取り囲むように、絶縁基板11の角部に配置されていることが好ましい。また、絶縁基板11内に補助金属層が配置されている場合、平面透視において、補助金属層と重なるように設けておいてよい。 In the example shown in FIG. 10, the dummy metal layer 20 is formed in a frame shape in a plan view, but it may be divided into a plurality of layers and arranged so as to surround the group 15G as in the example shown in FIG. I do not care. The dummy metal layer 20 is preferably arranged at the corners of the insulating substrate 11 so as to surround the group 15G in order to suppress distortion at the corners of the insulating substrate 11. Further, when the auxiliary metal layer is arranged in the insulating substrate 11, it may be provided so as to overlap with the auxiliary metal layer in plan perspective.

ダミー金属層20は、タングステンまたはモリブデンを主原料とした材料が好適に使用され、上述の配線導体14または配線パターン17と同様の材料および方法により製作することができる。ダミー金属層20は、金属層18と同じ材料が用いられ、かつ金属層18と同等の厚み(金属層18の厚み±3μm)に設けられることが好ましい。 A material mainly made of tungsten or molybdenum is preferably used for the dummy metal layer 20, and the dummy metal layer 20 can be manufactured by the same material and method as the wiring conductor 14 or the wiring pattern 17 described above. It is preferable that the dummy metal layer 20 is made of the same material as the metal layer 18 and is provided with the same thickness as the metal layer 18 (thickness of the metal layer 18 ± 3 μm).

(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態による検出装置について、図12および図13を参照しつつ説明する。上記した第1の実施形態の検出装置と異なる点は、複数のビア15は側面が傾斜した傾斜部15Sを有しており、平面透視において、互いに対向する傾斜部15Sの一部が重なっている点である。第5の実施形態の検出装置において、絶縁基板11の第1主面11a側に設けられたビア15の傾斜部15Sと、絶縁基板11の第2主面11b側に設けられたビア15の傾斜部15Sとが平面透視において重なっている。
(Fourth Embodiment)
Next, the detection device according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 12 and 13. The difference from the detection device of the first embodiment described above is that the plurality of vias 15 have inclined portions 15S whose side surfaces are inclined, and a part of the inclined portions 15S facing each other overlap each other in plan perspective. It is a point. In the detection device of the fifth embodiment, the inclined portion 15S of the via 15 provided on the first main surface 11a side of the insulating substrate 11 and the inclined portion 15S of the via 15 provided on the second main surface 11b side of the insulating substrate 11 The portion 15S and the portion 15S overlap each other in a plane perspective.

本発明の第4の実施形態における検出素子搭載用基板1によれば、上下に配置された複数のビア15において傾斜部15S同士の一部が重なることでX線を良好に遮断し、絶縁基板1の第2主面側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制するとともに、絶縁層11a内に径が大きい円柱状のビアを複数設ける場合と比較して、絶縁層11cとビア15との
熱膨張差による応力を抑制し、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。
According to the detection element mounting substrate 1 according to the fourth embodiment of the present invention, X-rays are satisfactorily blocked by overlapping some of the inclined portions 15S in a plurality of vias 15 arranged one above the other, and an insulating substrate is provided. The insulating layer 11c is compared with the case where a plurality of columnar vias having a large diameter are provided in the insulating layer 11a while satisfactorily suppressing the irradiation to the electronic element 3 by transmitting through the second main surface side of 1. The stress due to the difference in thermal expansion between the via 15 and the via 15 can be suppressed, the distortion of the detection element mounting substrate 1 can be suppressed, and X-rays can be detected satisfactorily.

絶縁基板11の厚み方向において、ビア15の一方端の径(図13では第1主面側)は、図13に示す例において、ビア15の他方端の径(図13では第2主面側)よりも平面視において、大きくしている。ビア15の一方端の径は、ビア15の他方端の径に対して5%〜20%程度大きくなるように設けられており、ビア15の一方主面側(図13では第1主面側)の傾斜部15Sは、ビア15の第1主面側における一方端の平面方向から鋭角に傾斜し、ビア15の他方主面側(図13では第2主面側)の傾斜部15Sは、平面方向から鈍角に傾斜している。図12および図13に示す例において、ビア15は、側面全周にわたって傾斜部15Sを有しており、円錐台形状である。 In the thickness direction of the insulating substrate 11, the diameter of one end of the via 15 (the first main surface side in FIG. 13) is the diameter of the other end of the via 15 (the second main surface side in FIG. 13) in the example shown in FIG. ) Is larger in plan view. The diameter of one end of the via 15 is provided so as to be about 5% to 20% larger than the diameter of the other end of the via 15, and is provided on one main surface side of the via 15 (the first main surface side in FIG. 13). ) Is inclined at an acute angle from the plane direction of one end of the via 15 on the first main surface side, and the inclined portion 15S on the other main surface side of the via 15 (the second main surface side in FIG. 13) is It is inclined at an acute angle from the plane direction. In the examples shown in FIGS. 12 and 13, the via 15 has an inclined portion 15S over the entire circumference of the side surface and has a truncated cone shape.

また、縦断面視におけるビア15の傾斜部15Sの傾斜角度は、鋭角である場合、ビア15における一方端面に対して、60°以上89°以下、鈍角である場合、ビア15における他方端面に対して、91°以上120°以下としていると、絶縁層11a内に径が大きい円柱状のビアを
複数設ける場合と比較して、絶縁層11cとビア15との熱膨張差による応力を抑制し、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。以下において、平面方向から傾斜した傾斜部15Sは、縦断面視において、ビア
15における第1主面側の端面と傾斜した側面との角を傾斜部15Sの角度とする。
Further, the inclination angle of the inclined portion 15S of the via 15 in the vertical cross-sectional view is 60 ° or more and 89 ° or less with respect to one end surface of the via 15 when it is an acute angle, and with respect to the other end surface of the via 15 when it is obtuse. When the temperature is 91 ° or more and 120 ° or less, the stress due to the difference in thermal expansion between the insulating layer 11c and the via 15 is suppressed as compared with the case where a plurality of columnar vias having a large diameter are provided in the insulating layer 11a. It is possible to suppress the occurrence of distortion in the detection element mounting substrate 1, and it is possible to detect X-rays satisfactorily. In the following, the inclined portion 15S inclined from the plane direction is a via in the vertical cross-sectional view.
The angle between the end surface on the first main surface side and the inclined side surface in 15 is defined as the angle of the inclined portion 15S.

ビア15は、格子状である格子部全体にわたって傾斜部15Sを有していることが好ましく、延出部Lを有する場合には、延出部Lにおいても、傾斜部15Sを有している、すなわち、検出素子搭載用基板1全体にわたって設けられていると、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることをより抑制することができ、より効果的にX線を良好に検出することができる。 The via 15 preferably has an inclined portion 15S over the entire lattice-shaped lattice portion, and when the via 15 has an extending portion L, the extending portion L also has an inclined portion 15S. That is, if it is provided over the entire detection element mounting substrate 1, it is possible to further suppress the occurrence of distortion in the detection element mounting substrate 1, and it is possible to detect X-rays more effectively and satisfactorily.

また、ビア15は、絶縁基板11の厚み方向の全体にわたって、それぞれのビア15が傾斜部15Sを有していると、上下に配置された複数のビア15が傾斜部15S同士の重なることでX線を良好に遮断し、絶縁基板11の第2主面側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制し、X線を良好に検出することができる。 Further, in the via 15, if each via 15 has an inclined portion 15S over the entire thickness direction of the insulating substrate 11, a plurality of vias 15 arranged above and below overlap each other, so that X It is possible to satisfactorily block the line, transmit it to the second main surface side of the insulating substrate 11, satisfactorily suppress the irradiation of the electronic element 3, and satisfactorily detect the X-ray.

このようなビア15は、例えば、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートに金型またはパンチングによる打ち抜き加工またはレーザー加工等の加工方法によってビア15用の貫通孔を形成する際に、一方の開口径が他方の開口径よりも大きくなるように貫通孔を形成し、この貫通孔にビア15用のメタライズペーストをスクリーン印刷法等の印刷手段によって充填しておき、絶縁基板11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。 One of the vias 15 has an opening diameter when, for example, a through hole for the via 15 is formed in a ceramic green sheet for the insulating substrate 11 by a processing method such as punching or laser processing by a die or punching. A through hole is formed so as to be larger than the other opening diameter, the through hole is filled with metallized paste for via 15 by a printing means such as a screen printing method, and fired together with a ceramic green sheet for the insulating substrate 11. It is formed by doing.

また、ビア15は、図14に示す例のように、絶縁基板11の厚み方向において、ビア15の途中より傾斜した傾斜部15Sを有するものであっても構わない。この場合、大きなビアを複数設ける場合と比較して、絶縁層11cとビア15との熱膨張差による応力を抑制し、検出素子搭載用基板1に歪みが生じることを抑制することができ、X線を良好に検出することができる。さらに、ビア15の途中より傾斜した傾斜部15Sが傾斜のない部分とも重なるようにすることで、X線を効果的に遮断し、絶縁基板11の第2主面側に透過し、電子素子3に照射されるのを効果的に抑制し、X線をより良好に検出することができる。 Further, as in the example shown in FIG. 14, the via 15 may have an inclined portion 15S inclined from the middle of the via 15 in the thickness direction of the insulating substrate 11. In this case, as compared with the case where a plurality of large vias are provided, the stress due to the difference in thermal expansion between the insulating layer 11c and the vias 15 can be suppressed, and the distortion of the detection element mounting substrate 1 can be suppressed. The line can be detected well. Further, by making the inclined portion 15S inclined from the middle of the via 15 overlap with the non-inclined portion, X-rays are effectively blocked and transmitted to the second main surface side of the insulating substrate 11, and the electronic element 3 It is possible to effectively suppress the irradiation of X-rays and detect X-rays better.

また、ビア15は、絶縁基板11の厚み方向において、ビア15の中心側に凸曲面状の傾斜部15Sであっても構わない。この場合、傾斜部15Sの両端部を結ぶ仮想線が、上記の傾斜角度であることが好ましい。 Further, the via 15 may be an inclined portion 15S having a convex curved surface on the center side of the via 15 in the thickness direction of the insulating substrate 11. In this case, it is preferable that the virtual line connecting both ends of the inclined portion 15S has the above-mentioned inclination angle.

また、複数のビア15は、図14に示す例のように、平面方向から鈍角に傾斜した傾斜部15Sを有する第1のビア15aと平面方向から鋭角に傾斜した傾斜部15Sを有する第2のビア15bとを含んでいると、大きな径部分同士が接するように重なるので、X線を良好に遮断し、絶縁基板1の第2主面側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制し、X線
を良好に検出することができる。
Further, as shown in the example shown in FIG. 14, the plurality of vias 15 have a first via 15a having an inclined portion 15S inclined at an obtuse angle from the plane direction and a second via 15a having an inclined portion 15S inclined at an acute angle from the plane direction. When the via 15b is included, the large diameter portions overlap each other so as to be in contact with each other. Therefore, X-rays are well blocked, transmitted to the second main surface side of the insulating substrate 1, and irradiated to the electronic element 3. It can be suppressed well and X-rays can be detected well.

また、複数のビア15は、平面方向から鈍角に傾斜した傾斜部15Sを有する複数の第1のビア15aまたは平面方向から鋭角に傾斜した傾斜部15Sを有する複数の第2のビア15bを含んでいると、平面透視で大きな径部分が重なるので、X線を良好に遮断し、絶縁基板11の第2主面側に透過し、電子素子3に照射されるのを良好に抑制し、X線を良好に検出することができる。 Further, the plurality of vias 15 include a plurality of first vias 15a having an inclined portion 15S inclined at an obtuse angle from the plane direction or a plurality of second vias 15b having an inclined portion 15S inclined at an acute angle from the plane direction. If this is the case, since the large diameter portions overlap in the plan view, the X-rays are blocked well, transmitted to the second main surface side of the insulating substrate 11, and the irradiation to the electronic element 3 is well suppressed, and the X-rays are suppressed. Can be detected well.

第4の実施形態の検出素子搭載用基板1において、ビア15が設けられた3つの絶縁層11cを1つの組11Gとし、これらの1つの組11Gを、絶縁基板11の厚み方向に複数積層、すなわち、複数の組の11Gが絶縁基板11の厚み方向に配置されるようにしても良い。この場合、絶縁基板11の厚み方向に連続してビア15を設ける場合と比較して、それぞれの群15Gを分散して配置することにより、群15Gにおける効果を効率よくすることができる。また、上述と同様に、それぞれの絶縁層11cの厚みが同じ大きさとなる、すなわち均等に設け
ることが好ましい。
In the detection element mounting substrate 1 of the fourth embodiment, the three insulating layers 11c provided with the vias 15 are formed as one set 11G, and a plurality of these one set 11G are laminated in the thickness direction of the insulating substrate 11. That is, a plurality of sets of 11G may be arranged in the thickness direction of the insulating substrate 11. In this case, as compared with the case where the vias 15 are continuously provided in the thickness direction of the insulating substrate 11, the effect in the group 15G can be made more efficient by arranging the groups 15G in a dispersed manner. Further, as described above, it is preferable that the respective insulating layers 11c have the same thickness, that is, they are provided evenly.

ビア15は、図13〜図15に示すように、1つの絶縁層11c内の格子状である格子部全体にわたって、絶縁層11cの一方面側におけるビア15の径が、絶縁層11cの他方面側におけるビア15の径よりも大きい、すなわち1つの絶縁層11c内では、ビア15の径が大きくなる面が同じ方向であることが好ましい。 As shown in FIGS. 13 to 15, the via 15 has a diameter of the via 15 on one side of the insulating layer 11c over the entire lattice portion in the one insulating layer 11c, which is the other side of the insulating layer 11c. It is preferable that the surfaces in which the diameter of the via 15 is larger than the diameter of the via 15 on the side, that is, in one insulating layer 11c, are in the same direction.

また、第4の実施形態の検出素子搭載用基板1においても、上述と同様の理由により、第1のビア15a、第2のビア15b、第3のビア15cが設けられた全ての絶縁層11cのそれぞれに延出部Lを設けることが好ましい。 Further, also in the detection element mounting substrate 1 of the fourth embodiment, for the same reason as described above, all the insulating layers 11c provided with the first via 15a, the second via 15b, and the third via 15c are provided. It is preferable to provide an extension portion L in each of the above.

第4の実施形態の検出素子搭載用基板1は、上述の第1の実施形態の検出素子搭載用基板1と同様の製造方法を用いて製作することができる。 The detection element mounting substrate 1 of the fourth embodiment can be manufactured by using the same manufacturing method as the detection element mounting substrate 1 of the first embodiment described above.

本発明は、上述の実施の形態の例に限定されるものではなく、種々の変更は可能である。例えば、絶縁基板11は、平面視において、側面または角部に切欠き部や面取り部を有している矩形状であっても構わない。 The present invention is not limited to the examples of the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the insulating substrate 11 may have a rectangular shape having a notch or a chamfered portion on a side surface or a corner portion in a plan view.

また、第1の実施形態において、図4に示す例のように、ビア15を複数の絶縁層11cに配置し、平面透視においてこれらのビア15同士が互いに重なるように設けている例を示しているが、第2、第3の実施形態の検出素子搭載用基板1においても、ビア15を複数の絶縁層11cに配置し、平面透視において、これらのビア15同士が互いに重なるように設けても構わない。 Further, in the first embodiment, as in the example shown in FIG. 4, an example in which the vias 15 are arranged on a plurality of insulating layers 11c and the vias 15 are provided so as to overlap each other in plan perspective is shown. However, even in the detection element mounting substrate 1 of the second and third embodiments, the vias 15 may be arranged on the plurality of insulating layers 11c so that the vias 15 may overlap each other in plan perspective. I do not care.

また、金属層18、補助金属層19、ダミー金属層20は、第1〜第4の実施形態のいずれかの検出素子搭載用基板1に用いても良い。 Further, the metal layer 18, the auxiliary metal layer 19, and the dummy metal layer 20 may be used for the detection element mounting substrate 1 according to any one of the first to fourth embodiments.

また、検出素子搭載用基板1は、多数個取り検出素子搭載用基板の形態で製作されていてもよい。 Further, the detection element mounting substrate 1 may be manufactured in the form of a large number of detection element mounting substrates.

1・・・・検出素子搭載用基板
11・・・・絶縁基板
11a・・・第1主面
11b・・・第2主面
12・・・・第1搭載部
13・・・・第2搭載部
14・・・・配線導体
15・・・・ビア
15a・・・第1のビア
15b・・・第2のビア
15c・・・第3のビア
15G・・・(複数のビアの)群
15S・・・傾斜部
16・・・・接続導体
17・・・・配線パターン
18・・・・金属層
19・・・・補助金属層
20・・・・ダミー金属層
2・・・・検出素子
3・・・・電子素子
4・・・・接続部材
1 ... Substrate for mounting detection elements
11 ... Insulated substrate
11a ・ ・ ・ First main surface
11b ・ ・ ・ 2nd main surface
12 ... 1st mounting part
13 ... 2nd mounting part
14 ... Wiring conductor
15 ... Via
15a ・ ・ ・ First beer
15b ・ ・ ・ Second via
15c ・ ・ ・ Third beer
15G ... (of multiple vias) group
15S ・ ・ ・ Inclined part
16 ... Connecting conductor
17 ... Wiring pattern
18 ... Metal layer
19 ... Auxiliary metal layer
20 ... Dummy metal layer 2 ... Detection element 3 ... Electronic element 4 ... Connection member

Claims (13)

第1主面と、該第1主面にX線を検出する検出素子を搭載する第1搭載部と、前記第1主面に相対する第2主面と、該第2主面に電子素子を搭載する第2搭載部と、内部に設けられた配線導体と、該配線導体に接続された接続導体と、群を成した複数のビアを含み、平面視で矩形状の絶縁基板を有しており、
前記配線導体および前記接続導体は、検出素子または電子素子に電気的に接続されるものであり、
前記絶縁基板の厚み方向において、前記複数のビアは、前記配線導体に接続しておらず、前記第1主面または前記第2主面と前記配線導体との間に設けられていることを特徴とする検出素子搭載用基板。
A first main surface, a first mounting portion on which a detection element for detecting X-rays is mounted on the first main surface, a second main surface facing the first main surface, and an electronic element on the second main surface. It has a rectangular insulating substrate in a plan view, including a second mounting portion for mounting, a wiring conductor provided inside, a connecting conductor connected to the wiring conductor, and a plurality of vias formed in a group. And
The wiring conductor and the connecting conductor are electrically connected to a detection element or an electronic element.
The plurality of vias are not connected to the wiring conductor in the thickness direction of the insulating substrate, and are provided between the first main surface or the second main surface and the wiring conductor. Substrate for mounting the detection element.
前記群は、面状に設けられた金属層に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の検出素子搭載用基板。 The substrate for mounting a detection element according to claim 1, wherein the group is connected to a metal layer provided in a planar shape. 平面透視において、前記群の領域は前記第2搭載部の領域を含むように設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の検出素子搭載用基板。 The substrate for mounting a detection element according to claim 1 or 2, wherein the region of the group is provided so as to include a region of the second mounting portion in planar fluoroscopy. 前記接続導体、前記第2主面に導出されており、
平面透視において、前記群の外縁部は前記第2主面の前記接続導体より外側に位置していることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の検出素子搭載用基板。
The connection conductor is led before Symbol second major surface,
The substrate for mounting a detection element according to any one of claims 1 to 3, wherein the outer edge portion of the group is located outside the connecting conductor of the second main surface in plan perspective.
前記絶縁基板の厚み方向において、
前記複数のビアが前記第2主面と前記配線導体との間に設けられており、
前記第1主面と前記配線導体との間に面状の補助金属層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の検出素子搭載用基板。
In the thickness direction of the insulating substrate
The plurality of vias are provided between the second main surface and the wiring conductor.
The substrate for mounting a detection element according to any one of claims 1 to 4, wherein a planar auxiliary metal layer is provided between the first main surface and the wiring conductor.
前記絶縁基板の厚み方向において、
前記複数のビアが前記第1主面と前記配線導体との間に設けられており、
前記第2主面と前記配線導体との間に面状の補助金属層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の検出素子搭載用基板。
In the thickness direction of the insulating substrate
The plurality of vias are provided between the first main surface and the wiring conductor.
The substrate for mounting a detection element according to any one of claims 1 to 4, wherein a planar auxiliary metal layer is provided between the second main surface and the wiring conductor.
平面透視において、前記補助金属層の領域は前記群の領域を含むように設けられていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の検出素子搭載用基板。 The substrate for mounting a detection element according to claim 5 or 6, wherein the region of the auxiliary metal layer is provided so as to include the region of the group in the plan perspective. 平面透視において、前記群を取り囲むようにダミー金属層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の検出素子搭載用基板。 The substrate for mounting a detection element according to any one of claims 1 to 7, wherein a dummy metal layer is provided so as to surround the group in plan perspective. 前記複数のビアは側面が傾斜した傾斜部を有しており、
平面透視において、互いに対向する該傾斜部の一部が重なっていることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の検出素子搭載用基板。
The plurality of vias have an inclined portion whose side surface is inclined.
The substrate for mounting a detection element according to any one of claims 1 to 8, wherein a part of the inclined portions facing each other overlaps each other in plan perspective.
前記複数のビアは、平面方向から鈍角に傾斜した前記傾斜部を有する第1のビアと平面方向から鋭角に傾斜した前記傾斜部を有する第2のビアとを含んでいることを特徴とする請求項9に記載の検出素子搭載用基板。 The plurality of vias are claimed to include a first via having the inclined portion inclined at an obtuse angle from the plane direction and a second via having the inclined portion inclined at an acute angle from the plane direction. Item 9. The substrate for mounting the detection element according to Item 9. 前記複数のビアは、平面方向から鈍角に傾斜した前記傾斜部を有する複数の第1のビアまたは平面方向から鋭角に傾斜した前記傾斜部を有する複数の第2のビアを含んでいることを特徴とする請求項9に記載の検出素子搭載用基板。 The plurality of vias are characterized by including a plurality of first vias having the inclined portion inclined at an obtuse angle from the plane direction or a plurality of second vias having the inclined portion inclined at an acute angle from the plane direction. The substrate for mounting the detection element according to claim 9. 請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の検出素子搭載用基板と、
前記第1搭載部に搭載された検出素子と、
前記第2搭載部に搭載された電子素子とを有することを特徴とする検出装置。
The substrate for mounting the detection element according to any one of claims 1 to 11.
The detection element mounted on the first mounting portion and
A detection device having an electronic element mounted on the second mounting portion.
接続パッドを有するモジュール基板と、
前記接続パッドにはんだを介して接続された請求項12に記載の検出装置とを有することを特徴とする検出モジュール。
Module board with connection pad and
The detection module according to claim 12, further comprising the detection device according to claim 12, which is connected to the connection pad via solder.
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