JP6808280B2 - ウェーハの加工方法 - Google Patents
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Landscapes
- Dicing (AREA)
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Description
1a 表面
1b 裏面
1c 第1の方向
1d 第2の方向
3 ストリート
3a 第1のストリート
3b 第2のストリート
5 デバイス
7 表面保護テープ
9 改質層
9a 第1の改質層
9b 第2の改質層
11a 第1の部分
11b 第2の部分
2 レーザ加工装置
4 チャックテーブル
4a 保持面
6 加工ヘッド
8 研削装置
10 スピンドル
12 研削砥石
14 研削ホイール
16 チャックテーブル
16a 保持面
Claims (2)
- ウェーハの結晶の劈開方位に対して45度傾いた第1の方向に沿って伸長する複数の第1のストリートと、該第1の方向に直交する第2の方向に沿って連続して伸長する複数の第2のストリートと、を表面に有するウェーハの加工方法であって、
該ウェーハに対して透過性を有する波長のレーザビームの集光点をウェーハの内部に位置づけ、該ウェーハと、レーザビームと、を相対的に移動させて、該レーザビームを該第1のストリートに沿って照射することでウェーハの内部に該第1のストリートに沿った第1の改質層を形成する第1のレーザ加工ステップと、
該レーザビームの集光点をウェーハの内部に位置づけ、該ウェーハと、レーザビームと、を相対的に移動させて、該レーザビームを該第2のストリートに沿って照射することでウェーハの内部に該第2のストリートに沿った第2の改質層を形成する第2のレーザ加工ステップと、
該第1のレーザ加工ステップと、該第2のレーザ加工ステップと、を実施した後、ウェーハの裏面を研削して所定の厚さへ薄化するとともに、該第1の改質層と、該第2の改質層と、を起点にウェーハを個々のデバイスチップへと分割する研削ステップと、を備え、
連続した該第2のストリートに沿った該第2の改質層は、それぞれ、該第1のストリートの一つを境に一方側の第1の部分と、他方側の第2の部分と、を有し、
第2のレーザ加工ステップでは、該第2の改質層の該第1の部分と、該第2の部分と、は距離L1だけ第1の方向にずらすとともに、距離L2だけ第2の方向に離し、かつ、該第1の部分と、該第2の部分と、を第1の改質層から離して形成し、該第1の部分と、該第2の部分と、の間に第2の改質層が形成されない改質層非形成領域を配設し、
距離L1は距離L2よりも大きいことを特徴とするウェーハの加工方法。 - 該複数の第1のストリートと、該複数の第2のストリートと、で区画される各領域にはそれぞれデバイスが形成され、
該第2のレーザ加工ステップにおいて該第2の改質層は、デバイスの外周縁から20μm以上離れて形成される、請求項1に記載のウェーハの加工方法。
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