JP6800826B2 - 光コネクタ構造 - Google Patents

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本発明は、光コネクタ構造に関する。
波長1μm近傍のレーザ光を用いたレーザ加工では、レーザ光の吸収率が低いために加工効率が劣るということから、例えば銅等のレーザ加工において、波長450nm付近の青色レーザ光を用いることが検討されている。そして、かかる青色レーザ光の光源として、例えば、特許文献1には、波長440〜490nmの青色レーザ光を出力するファイバ付きレーザ光源装置が開示されている。
特開2013−99458号公報
ところで、レーザ光を伝送する光ファイバケーブルの端部には光コネクタが設けられる。通常、かかる光コネクタは、その放熱性を高めるため、熱伝導率の高い銅系材料で形成されることが多い。ところが、青色レーザ光を用いたレーザ加工では、銅系材料の青色レーザ光の吸収率が高いため、銅系材料で形成された光コネクタ内において、青色レーザ光の漏れ光が存在すると、光コネクタが著しく発熱し、それによって光ファイバ心線のジャケットが焼損する虞がある。
本発明の課題は、波長400nm以上570nm以下のレーザ光の伝送に適した光コネクタ構造を提供することである。
本発明は、光ファイバ及び前記光ファイバを被覆するジャケットを有する光ファイバ心線と、前記光ファイバ心線の端部に取り付けられた光コネクタと、前記光ファイバ心線に前記光コネクタを固定する固定部材とを備えた光コネクタ構造であって、前記光ファイバ心線は、前記光コネクタ内において、前記ジャケットを有さずに前記光ファイバが露出した先端側のファイバ露出部分と、前記ファイバ露出部分の後方側に連続した前記ジャケットを有するジャケット被覆部分とが構成されているとともに、前記ファイバ露出部分の外周面にモードストリッパが設けられており、前記光コネクタは、前記光ファイバ心線の前記ファイバ露出部分における前記モードストリッパが設けられている部分を囲う空間を構成するファイバ収容部を有しており、前記固定部材は、前記光ファイバ心線の前記ジャケット被覆部分を外嵌めするとともに、前記光コネクタの前記ファイバ収容部の後方側に内嵌めされ、且つ前記ファイバ収容部に露出しており、前記光コネクタの前記ファイバ収容部の内壁面を形成する第1表面材料が、前記固定部材の前記ファイバ収容部への露出面を形成する第2表面材料よりも、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が高く、前記第1表面材料が、銅、金、チタン、ニッケル、及びステンレスのうちの1種又は2種以上を含み、且つ前記第2表面材料が、銀及びアルミニウムのうちの少なくとも一方を含む
本発明によれば、光コネクタのファイバ収容部の内壁面を形成する第1表面材料が、固定部材のファイバ収容部への露出面を形成する第2表面材料よりも、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が高いので、波長400nm以上570nm以下のレーザ光の伝送時に、光コネクタ内にレーザ光の漏れ光が存在しても、ファイバ収容部において、その内壁面でレーザ光の漏れ光を積極的に吸収することにより、光ファイバ心線のジャケットに接触する固定部材でのレーザ光の漏れ光の吸収を少なくして発熱を抑制し、それによってジャケットの焼損を回避することができ、そのため、波長400nm以上570nm以下のレーザ光の伝送に好適に用いることができる。
実施形態に係る光コネクタ構造の縦断面図である。 光ファイバ心線の斜視図である。 固定部材の正面図である。 固定部材の側面図である。 図3AにおけるIIIC-IIIC断面図である。
以下、実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、実施形態に係る光コネクタ構造Cを示す。
実施形態に係る光コネクタ構造Cは、例えば、波長400nm以上570nm以下の青色レーザ光や緑色レーザ光を用いるレーザ加工機等におけるレーザ光伝送用の光ファイバケーブルの入射端部及び/又は出射端部に構成されるものである。
実施形態に係る光コネクタ構造Cは、光ファイバ心線10と、その端部に取り付けられた光コネクタ20と、それらの間に介設された固定部材30とを備える。
図2は、光ファイバ心線10を示す。
光ファイバ心線10は、光ファイバ11と、その光ファイバ11を被覆するジャケット12とを有する。
光ファイバ11は、相対的に高屈折率のコア11aと、それを被覆する相対的に低屈折率のクラッド11bとを有する。具体的には、光ファイバ11としては、例えば、コア11aが純粋石英ガラスで形成され、クラッド11bが、フッ素等の屈折率を低下させるドーパントがドープされた石英ガラスで形成された構成のものが挙げられる。光ファイバ11の外径は例えば500μm以上1500μm以下である。コア11aの直径は例えば50μm以上1200μmである。なお、光ファイバ11は、クラッド11bの外側を更に被覆するサポート層を有していてもよい。
ジャケット12は、例えば樹脂で形成されている。ジャケット12を形成する樹脂は、レーザ光が入射して伝搬したときの光吸収及びそれによる発熱を抑制する観点から、JISK7361に基づいて測定される全光線透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。ジャケット12を形成する樹脂は、レーザ光が入射して伝搬したときの光吸収による発熱及びそれに伴う変形による光ファイバ11への応力の作用を抑制する観点から、耐熱温度が150℃以上であることが好ましい。
ジャケット12は、単一層で構成されていてもよい。単一層のジャケット12を形成する樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂等の紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。単一層のジャケット12を形成する樹脂は、低屈折率であることが好ましく、具体的には屈折率が1.4以下であることが好ましい。単一層のジャケット12の厚さは例えば50μm以上200μm以下である。この場合、光ファイバ心線10の外径は例えば0.6mm以上1.9mm以下である。
ジャケット12は、内側の第1被覆層と外側の第2被覆層との二層で構成されていてもよい。二層のジャケット12の内側の第1被覆層を形成する樹脂としては、例えば全光線透過率が90%以上で且つ耐熱温度が150℃のシリコーン樹脂が挙げられる。第1被覆層を形成する樹脂は、低屈折率であることが好ましく、具体的には屈折率が1.4以下であることが好ましい。第1被覆層の厚さは例えば0.1mm以上0.3mm以下である。外側の第2被覆層を形成する樹脂としては、例えばナイロン樹脂やフッ素系樹脂が挙げられる。第2被覆層を形成する樹脂は、耐熱性及び強度が高いことが好ましく、これらのうちのフッ素系樹脂が好ましい。かかるフッ素系樹脂としては、例えば、全光線透過率が90%以上で且つ耐熱温度が150℃のエチレン・テトラフルオロエチレン共重合体樹脂(ETFE)、全光線透過率が90%以上で且つ耐熱温度が200℃の四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体樹脂(FEP)、全光線透過率が90%以上で且つ耐熱温度が260℃のペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)、及び全光線透過率が90%以上で且つ耐熱温度が280℃のポリテトラフルオロエチレン樹脂(PTFE)等が挙げられる。第2被覆層の厚さは例えば0.1mm以上0.3mm以下である。この場合、光ファイバ心線10の外径は例えば1.3mm以上2.3mm以下である。
光ファイバ心線10は、光コネクタ20内において、ジャケット12を有さずに光ファイバ11が露出した先端側のファイバ露出部分10aと、ファイバ露出部分10aの後方側に連続したジャケット12を有するジャケット被覆部分10bとが構成されている。
ファイバ露出部分10aにおける露出した光ファイバ11の外周面にはモードストリッパ13が設けられている。ここで、モードストリッパ13とは、光ファイバ11のクラッド11bを伝搬するレーザ光を光ファイバ11外に放出するための加工形状を意味する。
モードストリッパ13は、光ファイバ11の外周面に対して研磨や切断などの機械加工、化学エッチング、レーザ加工により加工された形状やシリカなどの微粒子の堆積溶融等して形成された粗面で構成されていてもよい。
光コネクタ20は筒状部材により構成されている。光コネクタ20は、コネクタ本体20aが例えばステンレスなどの金属で形成されていることが好ましい。
光コネクタ20の内部の中間部には、長さ方向に延びるように形成された円筒孔状空間で構成されたファイバ収容部21が設けられている。ファイバ収容部21の内壁は、レーザ光の吸収率を高める観点から、研磨や切断などの機械加工、化学エッチング、レーザ加工等により粗面に形成されていてもよい。同様の観点から、ファイバ収容部21の内壁には、研磨や切断などの機械加工、レーザ加工等により溝が形成されていてもよい。
ファイバ収容部21の内壁は、波長域400nm以上570nm以下における光の吸収率が相対的に高い第1表面材料で形成された内壁表面被覆層21aで被覆されている。したがって、ファイバ収容部21の内壁面は、第1表面材料で形成されている。これによりファイバ収容部21の内壁面で、後述するモードストリッパ13から除去されたクラッドモード光の除去光及び光コネクタ20内に直接的に入射した目的に供せられなかったレーザ光(以下、これらを併せて「レーザ光の漏れ光」という。)を積極的に吸収することができる。この第1表面材料の25℃(室温)における伝送するレーザ光に対する吸収率は、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上である。第1表面材料の熱伝導率は、放熱性を高める観点から、コネクタ本体20aよりも高いことが好ましく、好ましくは20W/m・K以上、より好ましくは300W/m・K以上である。第1表面材料としては、例えば、銅、金、チタン、ニッケル等が挙げられる。第1表面材料は、これらのうちの1種又は2種以上を含めて用いることが好ましい。内壁表面被覆層21aは、電解メッキ法や無電解メッキ法、或いは、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング蒸着法、イオンビーム蒸着法等により形成することができる。内壁表面被覆層21aの厚さは例えば1μm以上30μm以下である。
ファイバ収容部21の先端部には、環状のサファイアブロック22aの外周にホルダ22bが設けられた封止部材22が内嵌めされている。ホルダ22bは、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が第1表面材料よりも低い材料で形成されている。これによりレーザ光の漏れ光をファイバ収容部21の内壁面で顕著に吸収させることができる。ホルダ22bの形成材料の25℃(室温)における伝送するレーザ光に対する吸収率は50%よりも低いことが好ましい。ホルダ22bの形成材料の熱伝導率は、コネクタ本体20aと同等若しくはそれよりも高いことが好ましく、15W/m・K以上であることが好ましい。ホルダ22bの形成材料としては、例えば、銀、アルミニウム、ステンレス等が挙げられる。ホルダ22bの形成材料は、これらのうちの1種又は2種以上を含めて用いることが好ましく、コネクタ本体20aの形成材料と同一であってもよい。
光コネクタ20の内部のファイバ収容部21の後方には、それに連続して内径が漸次拡大した円錐孔状空間で構成された固定部材収容部23が設けられている。光コネクタ20の内部のファイバ収容部21よりも先端側には、それに連続するように形成された開口空間で構成されたブロック収容部24が設けられている。ブロック収容部24には石英ブロック25が収容されている。光コネクタ20のファイバ収容部21の外側には、ファイバ収容部21を囲うように形成された円筒孔状の冷却水流路26(冷媒流路)が設けられている。冷却水流路26は、光コネクタ20の外周部に設けられた冷却水導入口26a及び冷却水排出口26bに連通している。
図3A〜Cは、固定部材30を示す。
固定部材30は、外形が円錐形状の筒状部材により構成されている。固定部材30の内部には心線挿通孔31が設けられている。固定部材30の先端側部分には、正面視において十字状のすり割り32が設けられている。
固定部材30は、部材本体30aと、その部材本体30aの表面を被覆するように設けられた部材表面被覆層30bとを有する。
部材本体30aは、後述の光コネクタ20の固定部材収容部23への内嵌めの際における塑性変形の容易さの観点から、銅系材料で形成されていることが好ましい。部材本体30aを形成する銅系材料としては、例えば、リン青銅、無酸素銅、タフピッチ銅等が挙げられる。部材本体30aを形成する銅系材料は、これらのうちのリン青銅を用いることが好ましい。
部材表面被覆層30bは、波長域400nm以上570nm以下における光の吸収率が相対的に低い第2表面材料で形成されている。部材表面被覆層30bは、後述するように固定部材30のファイバ収容部21への露出面を構成するが、この部材表面被覆層30bを形成する第2表面材料よりも、光コネクタ20のファイバ収容部21の内壁面を形成する第1表面材料の方が、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が高い。これによりレーザ光の漏れ光をファイバ収容部21の内壁面で顕著に吸収させることができる。この第2表面材料の25℃(室温)における伝送するレーザ光に対する吸収率は、好ましくは50%よりも低く、より好ましくは40%以下である。部材表面被覆層30bは、光コネクタ20との接触面をも構成するので、固定部材30から光コネクタ20への放熱性を高める観点から、第2表面材料の熱伝導率は、光コネクタ20の本体部よりも高いことが好ましく、好ましくは200W/m・K以上、より好ましくは300W/m・K以上である。第2表面材料の熱伝導率は、第1表面材料の熱伝導率よりも高くてもよく、また、低くてもよい。第2表面材料としては、例えば、銀、アルミニウム等が挙げられる。第2表面材料は、これらのうちの少なくとも一方を含めて用いることが好ましい。部材表面被覆層30bは、電解メッキ法や無電解メッキ法、或いは、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング蒸着法、イオンビーム蒸着法等により形成することができる。部材表面被覆層30bの厚さは例えば1μm以上30μm以下である。
実施形態に係る光コネクタ構造Cでは、光ファイバ心線10の端部が、固定部材30及び光コネクタ20の後方から順に挿通され、そして、ファイバ露出部分10aの光ファイバ11がファイバ収容部21の中心軸位置を延びるように設けられるとともに、その先端部が封止部材22に内嵌めされ、且つその先端がブロック収容部24に収容された石英ブロック25に融着接続されている。また、固定部材30は、その先端が光ファイバ心線10のジャケット被覆部分10bの先端に一致するように配置されるとともに、光コネクタ20の固定部材収容部23に内嵌めされてすり割り32によるかしめによりジャケット被覆部分10bを外嵌めし、それにより光ファイバ心線10に光コネクタ20を取付固定している。
そして、実施形態に係る光コネクタ構造Cでは、入射端側の光コネクタ20の場合には光源からのレーザ光が、また、出射端側の光コネクタ20の場合には被照射物からの反射光が、石英ブロック25を介して光ファイバ11のクラッド11bにも入射してクラッドモード光として伝搬する。そのクラッドモード光は、光コネクタ20内において、大部分が光ファイバ心線10のファイバ露出部分10aの光ファイバ11の外周面に設けられたモードストリッパ13で除去される。また、光コネクタ20内には、クラッドモード光以外にも、目的に供せられなかったレーザ光が直接的に入射して存在する。
光コネクタ20のファイバ収容部21は、ファイバ露出部分10aの光ファイバ11におけるモードストリッパ13が設けられている部分を囲う空間を形成するが、モードストリッパ13から除去されたクラッドモード光の除去光及び光コネクタ20内に直接的に入射した目的に供せられなかったレーザ光、すなわち、レーザ光の漏れ光は、このファイバ収容部21内の空間を伝搬し、その内壁面に達する。また、かかるレーザ光の漏れ光は、封止部材22や固定部材30のファイバ収容部21への露出面にも達する。ところが、波長400nm以上570nm以下の青色レーザ光や緑色レーザ光を用いた場合、ファイバ収容部21の内壁面を形成する第1表面材料が、封止部材22のホルダ22bの形成材料及び固定部材30のファイバ収容部21への露出面を構成する部材表面被覆層30bを形成する第2表面材料よりも、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が高いので、レーザ光の漏れ光は、封止部材22や固定部材30よりも、ファイバ収容部21の内壁面において顕著に吸収される。そして、吸収された除去光は、光コネクタ20において熱に変換され、光コネクタ20の外部の大気及び冷却水流路26を流れる冷却水に赤外線として放出される。
このように実施形態に係る光コネクタ構造Cによれば、光コネクタ20のファイバ収容部21の内壁面を構成する内壁表面被覆層21aを形成する第1表面材料が、封止部材22のホルダ22bの形成材料及び固定部材30のファイバ収容部21への露出面を構成する部材表面被覆層30bを形成する第2表面材料よりも、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が高いので、青色レーザ光や緑色レーザ光のような波長400nm以上570nm以下のレーザ光の伝送時に、光コネクタ20内にレーザ光の漏れ光が存在しても、ファイバ収容部21において、その内壁面でレーザ光の漏れ光を積極的に吸収することにより、光ファイバ心線10のジャケット12に接触する固定部材30でのレーザ光の漏れ光の吸収を少なくして発熱を抑制し、それによってジャケット12の焼損を回避することができ、そのため、波長400nm以上570nm以下のレーザ光の伝送に好適に用いることができる。
また、レーザ光の漏れ光の一部は、ジャケット被覆部分10bのジャケット12の端面から入射してジャケット12を伝搬する。加えて、クラッドモード光のうちモードストリッパ13で除去されなかったものの一部は、ジャケット被覆部分10bにおいてクラッド11bからジャケット12に出射する。このことから、ジャケット12がシリコーン樹脂やフッ素系樹脂のような全光線透過率の高い樹脂で形成されていれば、これらのレーザ光が入射して伝搬したときの光吸収及びそれによる発熱を抑制することができる。また、ジャケット12がシリコーン樹脂やフッ素系樹脂のような耐熱温度の高い樹脂で形成されていれば、これらのレーザ光が伝搬したときの光吸収による発熱及びそれに伴う変形による光ファイバ11への応力の作用を抑制することができる。一方、ジャケット12に接触する固定部材30の心線挿通孔31の内周面を構成する部材表面被覆層30bを形成する第2表面材料が、銀のような熱伝導率の低い材料で形成されていれば、ジャケット12と固定部材30との間の接触熱抵抗が低く抑えられ、ジャケット12がレーザ光の漏れ光を吸収して発熱が生じても、それを速やかに放熱させることができる。
なお、上記実施形態では、部材本体30aの全体を第2表面材料の部材表面被覆層30bで被覆した固定部材30の構成としたが、特にこれに限定されるものではなく、固定部材30のファイバ収容部21への露出面を構成する部分が第2表面材料で形成されていれば、部材表面被覆層30bが部分的に設けられた構成であってもよく、また、固定部材30の全体が第2表面材料で形成された構成であってもよい。
本発明は、光コネクタ構造の技術分野について有用である。
C 光コネクタ構造
10 光ファイバ心線
10a ファイバ露出部分
10b ジャケット被覆部分
11 光ファイバ
11a コア
11b クラッド
12 ジャケット
13 モードストリッパ
20 光コネクタ
20a コネクタ本体
21 ファイバ収容部
21a 内壁表面被覆層
22 封止部材
22a サファイアブロック
22b ホルダ
23 固定部材収容部
24 ブロック収容部
25 石英ブロック
26 冷却水流路(冷媒流路)
26a 冷却水導入口
26b 冷却水排出口
30 固定部材
30a 部材本体
30b 部材表面被覆層
31 心線挿通孔
32 すり割り

Claims (3)

  1. 光ファイバ及び前記光ファイバを被覆するジャケットを有する光ファイバ心線と、
    前記光ファイバ心線の端部に取り付けられた光コネクタと、
    前記光ファイバ心線に前記光コネクタを固定する固定部材と、
    を備えた光コネクタ構造であって、
    前記光ファイバ心線は、前記光コネクタ内において、前記ジャケットを有さずに前記光ファイバが露出した先端側のファイバ露出部分と、前記ファイバ露出部分の後方側に連続した前記ジャケットを有するジャケット被覆部分とが構成されているとともに、前記ファイバ露出部分の外周面にモードストリッパが設けられており、
    前記光コネクタは、前記光ファイバ心線の前記ファイバ露出部分における前記モードストリッパが設けられている部分を囲う空間を構成するファイバ収容部を有しており、
    前記固定部材は、前記光ファイバ心線の前記ジャケット被覆部分を外嵌めするとともに、前記光コネクタの前記ファイバ収容部の後方側に内嵌めされ、且つ前記ファイバ収容部に露出しており、
    前記光コネクタの前記ファイバ収容部の内壁面を形成する第1表面材料が、前記固定部材の前記ファイバ収容部への露出面を形成する第2表面材料よりも、波長域400nm以上570nm以下における任意の波長の光に対して光の吸収率が高く、
    前記第1表面材料が、銅、金、チタン、ニッケル、及びステンレスのうちの1種又は2種以上を含み、且つ前記第2表面材料が、銀及びアルミニウムのうちの少なくとも一方を含む光コネクタ構造。
  2. 請求項1に記載された光コネクタ構造において、
    前記光コネクタは、前記ファイバ収容部の外側に冷媒流路が設けられている光コネクタ構造。
  3. 請求項1又は2に記載された光コネクタ構造において、
    前記固定部材は、銅系材料で形成された部材本体と、前記部材本体の表面を被覆するように設けられた前記第2表面材料で形成された部材表面被覆層と、を有する光コネクタ構造。
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