JP6791131B2 - Laminated body containing a low-dielectric adhesive layer - Google Patents

Laminated body containing a low-dielectric adhesive layer Download PDF

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Description

本発明は、低誘電率、低誘電正接を示す接着剤層を含有する積層体に関する。より詳しくは、低誘電率、低誘電正接を示す接着剤層を介して樹脂基材と金属基材が積層された積層体に関する。特にフレキシブルプリント配線板(以下、FPCと略す)用の積層体、並びにそれを含む、カバーレイフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに関する。 The present invention relates to a laminate containing an adhesive layer exhibiting a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. More specifically, the present invention relates to a laminate in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer exhibiting a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. In particular, the present invention relates to a laminate for a flexible printed wiring board (hereinafter abbreviated as FPC), and a coverlay film, a laminate, a copper foil with resin, and a bonding sheet containing the same.

近年、プリント配線板における伝送信号の高速化に伴い、信号の高周波化が進んでいる。これに伴い、FPCには、高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)の要求が高まっている。このような要求に対して、FPCに用いられる基材フィルムとして、従来のポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレートフィルムに代えて、低誘電特性を有する液晶ポリマー(LCP)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)などの基材フィルムが提案されている。
しかしながら、低誘電特性を有する基材フィルムは、低極性のため、従来のエポキシ系接着剤やアクリル系接着剤を用いた場合、接着力が弱く、カバーレイフィルム、積層板等FPC用部材の作製が困難であった。また、エポキシ系接着剤やアクリル系接着剤は、低誘電特性に優れず、FPCの誘電特性を損なう。
一方、ポリオレフィン樹脂は、低誘電特性を有することが知られている。そこで、ポリオレフィン樹脂を用いたFPC用接着剤組成物が提案されている。たとえば、特許文献1では、カルボキシル基を含有するポリオレフィン系共重合体、芳香族ビニル化合物重合体ブロックと共役ジエン系化合物重合体ブロックとのブロック共重合体、エポキシ樹脂を用いた熱反応性接着剤組成物が提案されている。また、特許文献2では、カルボキシル基含有スチレンエラストマーとエポキシ樹脂を用いた接着剤組成物が提案されている。
In recent years, as the speed of transmission signals on printed wiring boards has increased, the frequency of signals has been increasing. Along with this, there is an increasing demand for FPCs to have low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in the high frequency region. In response to such demands, as a base film used for FPC, instead of the conventional polyimide (PI) and polyethylene terephthalate film, a liquid crystal polymer (LCP) having low dielectric properties, syndiotactic polystyrene (SPS), etc. Base films such as polyphenylene sulfide (PPS) have been proposed.
However, since the base film having low dielectric properties has low polarity, the adhesive strength is weak when a conventional epoxy adhesive or acrylic adhesive is used, and FPC members such as coverlay films and laminated boards are manufactured. Was difficult. Further, epoxy adhesives and acrylic adhesives are not excellent in low dielectric properties and impair the dielectric properties of FPCs.
On the other hand, polyolefin resins are known to have low dielectric properties. Therefore, an adhesive composition for FPC using a polyolefin resin has been proposed. For example, in Patent Document 1, a polyolefin-based copolymer containing a carboxyl group, a block copolymer of an aromatic vinyl compound polymer block and a conjugated diene-based compound polymer block, and a heat-reactive adhesive using an epoxy resin are used. Compositions have been proposed. Further, Patent Document 2 proposes an adhesive composition using a carboxyl group-containing styrene elastomer and an epoxy resin.

特許3621351号公報Japanese Patent No. 3621351 WO2014/147903A1公報WO2014 / 147903A1 Gazette

しかしながら、特許文献1では、ポリイミドフィルムとSUSとの接着性、ハンダ耐熱性は述べられているが、誘電特性について言及されておらず、LCPなどの低誘電特性を有する基材フィルムとの接着性が得られがたい。また、特許文献2では、誘電特性、ポリイミドフィルムと銅箔との接着性は述べられているが、LCPなどの低誘電特性を有する基材フィルムとの接着性については言及されていない。また、乾燥後のハンダ耐熱性は述べられているが、加湿後のハンダ耐熱性は十分とはいえない。 However, Patent Document 1 describes the adhesiveness between the polyimide film and SUS and the heat resistance to solder, but does not mention the dielectric property, and the adhesiveness to the base film having low dielectric property such as LCP. Is hard to obtain. Further, Patent Document 2 describes the dielectric property and the adhesiveness between the polyimide film and the copper foil, but does not mention the adhesiveness to the base film having a low dielectric property such as LCP. Further, although the solder heat resistance after drying is stated, the solder heat resistance after humidification is not sufficient.

本発明は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の物性を有する接着剤層が、従来のポリイミドフィルムだけでなく、従来技術では想定されていないLCPなどの低誘電特性を有する樹脂基材と、銅箔などの金属基材との、高い接着性、高いハンダ耐熱性、および低誘電特性に優れることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present invention has not only a conventional polyimide film but also a resin having low dielectric properties such as LCP, which is not assumed in the prior art, as an adhesive layer having specific physical properties. We have found that the base material and a metal base material such as copper foil are excellent in high adhesiveness, high solder heat resistance, and low dielectric property, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、ポリイミド、LCPなどの様々な樹脂基材と金属基材双方への良好な接着性を有し、且つ耐熱性、低誘電特性にも優れた接着剤層で積層された積層体を提供することを目的とする。 That is, the present invention has good adhesiveness to both various resin base materials such as polyimide and LCP and metal base materials, and is laminated with an adhesive layer having excellent heat resistance and low dielectric properties. The purpose is to provide the body.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)であって、(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)積層体(Z)の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする積層体(Z)。A laminate (Z) in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), and (1) the specific dielectric constant of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz (1). ε c ) is 3.0 or less, (2) the dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less, and (3) the peel strength between the resin base material and the metal base material is 0. A laminate (Z) having a temperature of .5 N / mm or more and (4) a humidified solder heat resistance of the laminate (Z) of 240 ° C. or higher.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層と前記樹脂基材の積層体(X)であって、(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体における樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする積層体(X)。A laminate (X) of the adhesive layer and the resin base material used for the laminate (Z) in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A). ), And (1) the specific dielectric constant (ε c ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less, and (2) the dielectric tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less. (3) When the metal base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminated body (X), the peel strength between the resin base material and the metal base material in the laminated body is 0.5 N / mm or more, and (3) 4) A laminated body (X) characterized in that the humidified solder heat resistance of the laminated body when a metal base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminated body (X) is 240 ° C. or higher.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層と前記金属基材の積層体(Y)であって、(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)積層体(Y)の接着剤層面に樹脂基材を積層した場合の該積層体における樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)積層体(Y)の接着剤層面に樹脂基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする積層体(Y)。A laminate (Y) of the adhesive layer and the metal base material used for the laminate (Z) in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A). ), And (1) the specific dielectric constant (ε c ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less, and (2) the dielectric tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less. (3) When the resin base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminated body (Y), the peel strength between the resin base material and the metal base material in the laminated body is 0.5 N / mm or more, and (3) 4) The laminate (Y) is characterized in that the humidified solder heat resistance of the laminate (Y) when the resin base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminate (Y) is 240 ° C. or higher.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層であって、(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、(3)接着剤層の一方の面に樹脂基材を積層し、他方の面に金属基材を積層した場合の該積層体における樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であり、(4)接着剤層の一方の面に樹脂基材を積層し、他方の面に金属基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを特徴とする接着剤層。The adhesive layer used for the laminate (Z) in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), and (1) an adhesive layer. The specific dielectric constant (ε c ) at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less, (2) the dielectric tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less, and (3) one of the adhesive layers. When the resin base material is laminated on the surface of the above surface and the metal base material is laminated on the other surface, the peel strength between the resin base material and the metal base material in the laminated body is 0.5 N / mm or more, (4). An adhesive layer having a humidified solder heat resistance of 240 ° C. or higher when a resin base material is laminated on one surface of the adhesive layer and a metal base material is laminated on the other surface.

前記の積層体(Z)、積層体(X)、積層体(Y)または接着剤層を含有する接着シート。 An adhesive sheet containing the above-mentioned laminate (Z), laminate (X), laminate (Y) or an adhesive layer.

前記の接着シートを構成要素として含むプリント配線板。 A printed wiring board containing the above-mentioned adhesive sheet as a component.

本発明にかかるカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層された積層体は、(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であること、(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であること、(3)樹脂基材と金属基材との剥離強度が0.5N/mm以上であること、(4)積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることを満足するため、従来のポリイミド、ポリエステルフィルムだけでなく、従来技術では想定されていないLCPフィルムなどの低極性樹脂基材や金属基材と高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、且つ低誘電特性に優れる。The laminate in which the resin base material and the metal base material are laminated via the adhesive layer containing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) according to the present invention is (1) the specific dielectric constant (ε) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz. c ) is 3.0 or less, (2) the dielectric tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less, and (3) the peel strength between the resin base material and the metal base material is In order to satisfy that it is 0.5 N / mm or more and (4) the humidified solder heat resistance of the laminated body is 240 ° C. or more, not only the conventional polyimide and polyester films but also LCPs that are not assumed in the prior art. It has high adhesiveness to low-polarity resin base materials such as films and metal base materials, can obtain high solder heat resistance, and has excellent low dielectric properties.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含む接着剤層を介して樹脂基材および金属基材が積層されたものである。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The laminate (Z) according to the present invention is a laminate in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A).

<カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)>
本発明に用いるカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)(以下、単に(A)成分ともいう)は限定的ではないが、ポリオレフィン樹脂にα,β−不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトすることにより得られるものであることが好ましい。ポリオレフィン樹脂とは、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン等に例示されるオレフィンモノマーの単独重合、もしくはその他のモノマーとの共重合、および得られた重合体の水素化物やハロゲン化物など、炭化水素骨格を主体とする重合体を指す。すわなち、カルボキシル基含有ポリオレフィンは、ポリエチレン、ポリプロピレン及びプロピレン−α−オレフィン共重合体の少なくとも1種に、α,β−不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトすることにより得られるものが好ましい。
<Carboxylic group-containing polyolefin resin (A)>
The carboxyl group-containing polyolefin resin (A) used in the present invention (hereinafter, also simply referred to as the component (A)) is not limited, but the polyolefin resin contains at least one α, β-unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride thereof. It is preferably obtained by grafting. The polyolefin resin is a hydrocarbon such as homopolymerization of an olefin monomer exemplified by ethylene, propylene, butene, butadiene, isoprene, or copolymerization with other monomers, and hydrides and halides of the obtained polymer. Refers to a polymer whose main component is the skeleton. That is, the carboxyl group-containing polyolefin is obtained by grafting at least one of α, β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride on at least one of polyethylene, polypropylene and a propylene-α-olefin copolymer. What is obtained is preferable.

プロピレン−α−オレフィン共重合体は、プロピレンを主体としてこれにα−オレフィンを共重合したものである。α−オレフィンとしては、例えば、エチレン、1−ブテン、1−ヘプテン、1−オクテン、4−メチル−1−ペンテン、酢酸ビニルなどを1種又は数種用いるこができる。これらのα−オレフィンの中では、エチレン、1−ブテンが好ましい。プロピレン−α−オレフィン共重合体のプロピレン成分とα−オレフィン成分との比率は限定されないが、プロピレン成分が50モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましい。 The propylene-α-olefin copolymer is obtained by copolymerizing propylene as a main component with α-olefin. As the α-olefin, for example, one or several kinds of ethylene, 1-butene, 1-heptene, 1-octene, 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate and the like can be used. Among these α-olefins, ethylene and 1-butene are preferable. The ratio of the propylene component to the α-olefin component of the propylene-α-olefin copolymer is not limited, but the propylene component is preferably 50 mol% or more, and more preferably 70 mol% or more.

α,β−不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種としては、例えば、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸及びこれらの酸無水物が挙げられる。これらの中でも酸無水物が好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。具体的には、無水マレイン酸変性ポリプロピレン、無水マレイン酸変性プロピレン−エチレン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン−エチレン−ブテン共重合体等が挙げられ、これら酸変性ポリオレフィンを1種類又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of at least one of α, β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride include maleic acid, itaconic acid, citraconic acid and their acid anhydrides. Among these, acid anhydride is preferable, and maleic anhydride is more preferable. Specific examples thereof include maleic anhydride-modified polypropylene, maleic anhydride-modified propylene-ethylene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-ethylene-butene copolymer and the like. These acid-modified polyolefins can be used alone or in combination of two or more.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の酸価は、耐熱性および樹脂基材や金属基材との接着性の観点から、下限は100当量/10g以上であることが好ましく、より好ましくは200当量/10g以上であり、さらに好ましくは250当量/10gである。前記の値未満であると、エポキシ樹脂(D)、カルボジイミド樹脂(C)との相溶性が低く、接着強度が発現しないことがある。また架橋密度が低く耐熱性が乏しい場合がある。上限は1000当量/10g以下であることが好ましく、より好ましくは700当量/10g以下であり、さらに好ましくは500当量/10g以下である。前記の値を超えると、接着性が低下することがある。また、溶液の粘度や安定性が低下し、ポットライフ性が低下することがある。さらに製造効率も低下するため好ましくない。The acid value of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A), in view of adhesion to the heat resistance and the resin base material or metal substrate, preferably the lower limit is 100 eq / 10 6 g or more, more preferably 200 Equivalent / 10 6 g or more, more preferably 250 equivalent / 10 6 g. If it is less than the above value, the compatibility with the epoxy resin (D) and the carbodiimide resin (C) is low, and the adhesive strength may not be exhibited. In addition, the crosslink density may be low and the heat resistance may be poor. The upper limit is preferably 1000 equivalents / 10 6 g or less, more preferably 700 equivalents / 10 6 g or less, and even more preferably 500 equivalents / 10 6 g or less. If it exceeds the above value, the adhesiveness may decrease. In addition, the viscosity and stability of the solution may decrease, and the pot life property may decrease. Further, the production efficiency is lowered, which is not preferable.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の重量平均分子量(Mw)は、10,000〜180,000の範囲であることが好ましい。より好ましくは20,000〜160,000の範囲であり、さらに好ましくは30,000〜150,000の範囲であり、特に好ましくは40,000〜140,000の範囲であり、最も好ましくは、50,000〜130,000の範囲である。前記の値未満であると、凝集力が弱くなり接着性が劣る場合がある。一方、前記の値を超えると、流動性が低く接着する際の操作性に問題が生じる場合がある。 The weight average molecular weight (Mw) of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably in the range of 10,000 to 180,000. It is more preferably in the range of 20,000 to 160,000, further preferably in the range of 30,000 to 150,000, particularly preferably in the range of 40,000 to 140,000, and most preferably in the range of 50. It ranges from 000 to 130,000. If it is less than the above value, the cohesive force may be weakened and the adhesiveness may be poor. On the other hand, if it exceeds the above value, the fluidity is low and there may be a problem in operability at the time of bonding.

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)の製造方法としては、特に限定されず、例えばラジカルグラフト反応(すなわち主鎖となるポリマーに対してラジカル種を生成し、そのラジカル種を重合開始点として不飽和カルボン酸および酸無水物をグラフト重合させる反応)、などが挙げられる。 The method for producing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is not particularly limited, and for example, a radical graft reaction (that is, a radical species is generated for a polymer serving as a main chain, and the radical species is used as a polymerization initiation point to form an unsaturated carboxylic acid. (Reaction of graft polymerization of acid and acid anhydride), and the like.

ラジカル発生剤としては、特に限定されないが、有機過酸化物を使用することが好ましい。有機過酸化物としては、特に限定されないが、ジ−tert−ブチルパーオキシフタレート、tert−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソプロピオニトリル等のアゾニトリル類等が挙げられる。 The radical generator is not particularly limited, but it is preferable to use an organic peroxide. The organic peroxide is not particularly limited, but is di-tert-butylperoxyphthalate, tert-butylhydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butylperoxybenzoate, tert-butylperoxy-. Peroxides such as 2-ethylhexanoate, tert-butylperoxypivalate, methylethylketone peroxide, di-tert-butyl peroxide, lauroyl peroxide; azobisisobutyronitrile, azobisisopropionitrile, etc. Examples include azonitriles.

<接着剤層>
本発明において、接着剤層とは、接着剤組成物を基材に塗布し、乾燥させた後の接着剤組成物の層をいう。接着剤層の厚みは特に限定されないが、好ましくは5μm以上であり、より好ましくは、10μm以上であり、さらに好ましくは15μm以上である。また、好ましくは200μm以下であり、より好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは50μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、接着性能が十分に得られないことがあり、厚すぎる場合には、乾燥が不十分で残留溶剤が多くなりやすくなり、プリント配線板製造のプレス時にフクレを生じるという問題点が挙げられる。
<Adhesive layer>
In the present invention, the adhesive layer refers to a layer of an adhesive composition after the adhesive composition is applied to a base material and dried. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and further preferably 15 μm or more. Further, it is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, and further preferably 50 μm or less. If the thickness is too thin, sufficient adhesive performance may not be obtained, and if it is too thick, drying will be insufficient and residual solvent will tend to increase, causing blister during pressing for manufacturing printed wiring boards. There is a problem.

接着剤組成物を基材上にコーティングする方法としては、特に限定されないが、コンマコーター、リバースロールコーター等が挙げられる。もしくは、必要に応じて、プリント配線板構成材料である圧延銅箔、またはポリイミドフィルムに直接もしくは転写法で接着剤層を設けることもできる。乾燥条件は特に限定されないが、乾燥後の残留溶剤率は1質量%以下が好ましい。1質量%超では、プリント配線板プレス時に残留溶剤が発泡して、フクレを生じるという問題点が挙げられる。 The method for coating the adhesive composition on the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a comma coater and a reverse roll coater. Alternatively, if necessary, the adhesive layer may be provided directly or by a transfer method on the rolled copper foil or the polyimide film which is the constituent material of the printed wiring board. The drying conditions are not particularly limited, but the residual solvent ratio after drying is preferably 1% by mass or less. If it exceeds 1% by mass, there is a problem that the residual solvent foams when the printed wiring board is pressed, causing blisters.

<樹脂基材>
本発明において樹脂基材とは、本発明の接着剤組成物を塗布、乾燥し、接着剤層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、フィルム状樹脂等の樹脂基材(以下、基材フィルム層ともいう)が好ましい。具体的には、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー(LCP)、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。LCPフィルムの市販品としては、例えば、株式会社クラレ製のベクスター(登録商標)が挙げられる。また、ポリイミドフィルムの市販品としては、例えば、株式会社カネカ製のアピカル(登録商標)が挙げられる。
<Resin base material>
In the present invention, the resin base material is not particularly limited as long as the adhesive composition of the present invention can be applied and dried to form an adhesive layer, but the resin base material such as a film-like resin ( Hereinafter, it is also referred to as a base film layer). Specifically, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer (LCP), polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, fluorine resin and the like can be exemplified. Examples of commercially available LCP films include Vecstar (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd. Examples of commercially available polyimide films include Apical (registered trademark) manufactured by Kaneka Corporation.

樹脂基材の厚みについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは、3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。また、樹脂基材の比誘電率(εc)は、5.0以下であることが好ましく、4.0以下であることがより好ましく、3.5以下であることがさらに好ましい。下限値は特に限定されず、工業的には0.1以上あれば問題ない。The thickness of the resin base material is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and further preferably 10 μm or more. Further, it is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and further preferably 20 μm or less. If the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit, while if the thickness is too thick, the processing efficiency at the time of manufacturing the circuit may decrease. The relative permittivity (ε c ) of the resin base material is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less, and even more preferably 3.5 or less. The lower limit is not particularly limited, and industrially, there is no problem if it is 0.1 or more.

<金属基材>
金属基材としては、回路基板に使用可能な任意の従来公知の導電性材料が使用可能である。素材としては、SUS、銅、アルミニウム、鉄、スチール、亜鉛、ニッケル等の各種金属、及びそれぞれの合金、めっき品、亜鉛やクロム化合物など他の金属で処理した金属等を例示することができる。好ましくは金属箔であり、より好ましくは銅箔である。金属箔の厚みについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは、3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。金属箔は、通常、ロール状の形態で提供されている。本発明のプリント配線板を製造する際に使用される金属箔の形態は特に限定されない。リボン状の形態の金属箔を用いる場合、その長さは特に限定されない。また、その幅も特に限定されないが、250〜500cm程度であるのが好ましい。
<Metal base material>
As the metal substrate, any conventionally known conductive material that can be used for a circuit board can be used. Examples of the material include various metals such as SUS, copper, aluminum, iron, steel, zinc, and nickel, as well as alloys, plated products, and metals treated with other metals such as zinc and chromium compounds. A metal foil is preferable, and a copper foil is more preferable. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and further preferably 10 μm or more. Further, it is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and further preferably 20 μm or less. If the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit, while if the thickness is too thick, the processing efficiency at the time of manufacturing the circuit may decrease. The metal foil is usually provided in roll form. The form of the metal foil used in manufacturing the printed wiring board of the present invention is not particularly limited. When a ribbon-shaped metal foil is used, its length is not particularly limited. The width thereof is also not particularly limited, but is preferably about 250 to 500 cm.

<積層体>
本発明の積層体(Z)は、樹脂基材と金属基材が接着剤層を介して積層したもの(樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体)であり、積層体(X)は樹脂基材と接着剤層が積層したもの(樹脂基材/接着剤層)であり、積層体(Y)は金属基材と接着剤層が積層したもの(金属基材/接着剤層)である。本発明では、積層体(X)、積層体(Y)および積層体(Z)をあわせて単に積層体ということがある。積層体(X)は、接着剤組成物を、常法に従い、樹脂基材に塗布、乾燥することで得られる。また、積層体(Y)は、接着剤組成物を、常法に従い、金属基材に塗布、乾燥することで得られる。積層体(Z)は、積層体(X)または積層体(Y)に、それぞれ金属基材または樹脂基材を積層することにより得ることができる。積層体(X)または積層体(Y)の接着剤層の面に離型基材を積層することもできる。また、積層体(Z)の樹脂基材または金属基材にさらに接着剤層を積層(接着剤層/樹脂基材/接着剤層/金属基材、樹脂基材/接着剤層/金属基材/接着剤層、接着剤層/樹脂基材/接着剤層/金属基材/接着剤層)しても差し支えない。
<Laminated body>
The laminate (Z) of the present invention is a laminate in which a resin base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer (a three-layer laminate of a resin base material / an adhesive layer / a metal base material). (X) is a laminated resin base material and an adhesive layer (resin base material / adhesive layer), and (Y) is a laminated metal base material and an adhesive layer (metal base material / adhesive layer). Agent layer). In the present invention, the laminated body (X), the laminated body (Y), and the laminated body (Z) may be collectively referred to as a laminated body. The laminate (X) is obtained by applying the adhesive composition to a resin base material and drying it according to a conventional method. Further, the laminate (Y) is obtained by applying the adhesive composition to a metal base material and drying it according to a conventional method. The laminated body (Z) can be obtained by laminating a metal base material or a resin base material on the laminated body (X) or the laminated body (Y), respectively. The release base material can also be laminated on the surface of the adhesive layer of the laminate (X) or the laminate (Y). Further, an adhesive layer is further laminated on the resin base material or the metal base material of the laminated body (Z) (adhesive layer / resin base material / adhesive layer / metal base material, resin base material / adhesive layer / metal base material). / Adhesive layer, adhesive layer / resin base material / adhesive layer / metal base material / adhesive layer) may be used.

本発明の積層体は、さらに下記要件(1)〜(4)を満足する。 The laminate of the present invention further satisfies the following requirements (1) to (4).

<要件(1)>
要件(1)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であることが必要である。具体的には、接着剤組成物を離型基材に乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、硬化後の接着剤組成物層(接着剤層)を離型フィルムから剥離する。剥離後の該接着剤組成物層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)を測定する。比誘電率(εc)は3.0以下であり、好ましくは2.6以下であり、より好ましくは2.3以下である。下限は特に限定されないが、実用上は2.0である。また、周波数1MHz〜10GHzの全領域における比誘電率(εc)が3.0以下であることが好ましく、2.6以下であることがより好ましく、2.3以下であることがさらに好ましい。
<Requirement (1)>
The requirement (1) will be described. The laminate (Z) according to the present invention needs to have a relative permittivity (ε c ) of 3.0 or less at a frequency of 1 MHz for the adhesive layer. Specifically, the adhesive composition is applied to a release base material so that the thickness after drying is 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Then, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured, and the cured adhesive composition layer (adhesive layer) is peeled off from the release film. The relative permittivity (ε c ) of the adhesive composition layer after peeling at a frequency of 1 MHz is measured. The relative permittivity (ε c ) is 3.0 or less, preferably 2.6 or less, and more preferably 2.3 or less. The lower limit is not particularly limited, but is 2.0 in practice. The relative permittivity (ε c ) in the entire region of frequencies 1 MHz to 10 GHz is preferably 3.0 or less, more preferably 2.6 or less, and even more preferably 2.3 or less.

積層体(Z)における接着剤層の比誘電率(εc)は以下のとおり測定することができる。すなわち、積層体(Z)の金属基材をエッチング液できれいに除去し、接着剤層と樹脂基材の2層の積層体(X)を得る。エッチング液は特に限定されず、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、硫酸過酸化水素水混液、アルカリエッチャント、ニッケルエッチャント等を使用することができる。次いで、積層体(X)の樹脂基材をきれいに剥離(除去)し、残った接着剤層の両面に蒸着、スパッタリング法などの薄膜法、または導電性ペーストの塗布などの手法により金属層を形成してコンデンサとし、静電容量を測定して厚さと面積から比誘電率(εc)を算出する方法を例示できる。また別法として、積層体(X)の樹脂基材面に前述の方法により金属層を形成してコンデンサとし、樹脂基材と接着剤層の合成静電容量比誘電率(εc)を測定しておいた後、積層体(X)から金属層と接着剤層をきれいに剥離(除去)し、残った樹脂基材の比誘電率(εc)を同様にコンデンサ化して静電容量を測定する。積層体(X)から得られたコンデンサの誘電層は、樹脂基材と接着剤層の複層誘電体と見なせるため、両者の差から接着剤層の比誘電率(εc)を算出することができる。The relative permittivity (ε c ) of the adhesive layer in the laminated body (Z) can be measured as follows. That is, the metal base material of the laminated body (Z) is cleanly removed with an etching solution to obtain a two-layer laminated body (X) of an adhesive layer and a resin base material. The etching solution is not particularly limited, and an aqueous solution of ferric chloride, an aqueous solution of cupric chloride, a mixed solution of hydrogen peroxide solution, an alkaline etchant, a nickel etchant and the like can be used. Next, the resin base material of the laminate (X) is cleanly peeled off (removed), and a metal layer is formed on both sides of the remaining adhesive layer by a thin film method such as vapor deposition or a sputtering method, or a method such as coating a conductive paste. A method of calculating the relative permittivity (ε c ) from the thickness and area by measuring the capacitance can be exemplified. Alternatively, a metal layer is formed on the surface of the resin base material of the laminate (X) by the method described above to form a capacitor, and the combined capacitance relative permittivity (ε c ) of the resin base material and the adhesive layer is measured. After that, the metal layer and the adhesive layer are cleanly peeled off (removed) from the laminate (X), and the relative permittivity (ε c ) of the remaining resin base material is similarly made into a capacitor to measure the capacitance. To do. Since the dielectric layer of the capacitor obtained from the laminate (X) can be regarded as a multi-layer dielectric of the resin base material and the adhesive layer, the relative permittivity (ε c ) of the adhesive layer should be calculated from the difference between the two. Can be done.

<要件(2)>
要件(2)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であることが必要である。具体的には、接着剤組成物を離型基材に乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、硬化後の接着剤組成物層(接着剤層)を離型フィルムから剥離する。剥離後の該接着剤組成物の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)を測定する。誘電正接(tanδ)は0.02以下であり、好ましくは0.01以下であり、より好ましくは0.005以下である。下限は特に限定されないが、実用上は0.0001である。また、周波数1MHz〜10GHzの全領域における誘電正接(tanδ)が0.02以下であることが好ましく、0.01以下であることがより好ましく、0.005以下であることがさらに好ましい。
<Requirement (2)>
The requirement (2) will be described. The laminate (Z) according to the present invention needs to have a dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz of 0.02 or less. Specifically, the adhesive composition is applied to a release base material so that the thickness after drying is 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Then, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured, and the cured adhesive composition layer (adhesive layer) is peeled off from the release film. The dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive composition after peeling at a frequency of 1 MHz is measured. The dielectric loss tangent (tan δ) is 0.02 or less, preferably 0.01 or less, and more preferably 0.005 or less. The lower limit is not particularly limited, but is 0.0001 in practice. Further, the dielectric loss tangent (tan δ) in the entire region of a frequency of 1 MHz to 10 GHz is preferably 0.02 or less, more preferably 0.01 or less, and further preferably 0.005 or less.

積層体(Z)における接着剤層の誘電正接(tanδ)についても、前記誘電率と同様の操作で測定することができる。 The dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer in the laminated body (Z) can also be measured by the same operation as the dielectric constant.

<要件(3)>
要件(3)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、樹脂基材と金属基材の剥離強度が0.5N/mm以上であることが必要である。具体的には、接着剤組成物を樹脂基材に乾燥後の厚みが約25μmとなるように塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。常温(約25℃)にて、該積層体(Z)の樹脂基材を引張速度50mm/minで90°剥離し、剥離強度を測定する。90°剥離強度は0.5N/mm以上であることが必要であり、好ましくは0.8N/mm以上であり、より好ましくは1.0N/mm以上である。なお、前記方法以外の方法で作製された積層体(Z)であっても、90°剥離強度が0.5N/mm以上であれば、本発明に包含される。
<Requirement (3)>
The requirement (3) will be described. The laminate (Z) according to the present invention needs to have a peel strength of 0.5 N / mm or more between the resin base material and the metal base material. Specifically, the adhesive composition is applied to a resin base material so that the thickness after drying is about 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Next, a metal base material is attached to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer). The bonding is performed by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds so that the glossy surface of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At room temperature (about 25 ° C.), the resin base material of the laminate (Z) is peeled by 90 ° at a tensile speed of 50 mm / min, and the peel strength is measured. The 90 ° peel strength needs to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more. Even a laminated body (Z) produced by a method other than the above method is included in the present invention as long as the 90 ° peel strength is 0.5 N / mm or more.

積層体(X)からは、積層体(X)の接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。常温(約25℃)にて、該積層体(Z)の樹脂基材を引張速度50mm/minで90°剥離し、剥離強度を測定する。90°剥離強度は0.5N/mm以上であることが必要であり、好ましくは0.8N/mm以上であり、より好ましくは1.0N/mm以上である。From the laminate (X), the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a metal base material on the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (X). The bonding is performed by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds so that the glossy surface of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At room temperature (about 25 ° C.), the resin base material of the laminate (Z) is peeled by 90 ° at a tensile speed of 50 mm / min, and the peel strength is measured. The 90 ° peel strength needs to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

積層体(Y)からは、積層体(Y)の接着剤組成物層(接着剤層)の面に、樹脂基材を貼り合せることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合せは、樹脂基材が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。常温(約25℃)にて、該積層体(Z)の樹脂基材を引張速度50mm/minで90°剥離し、剥離強度を測定する。90°剥離強度は0.5N/mm以上であることが必要であり、好ましくは0.8N/mm以上であり、より好ましくは1.0N/mm以上である。From the laminate (Y), the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a resin base material on the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (Y). The bonding is performed by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds so that the resin base material is in contact with the adhesive composition layer. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At room temperature (about 25 ° C.), the resin base material of the laminate (Z) is peeled by 90 ° at a tensile speed of 50 mm / min, and the peel strength is measured. The 90 ° peel strength needs to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

接着剤層からは、接着剤層の一方の面に樹脂基材を貼り合わせ、他方の面に金属基材の光沢面を貼り合わせることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合わせは、離型基材/接着剤層と樹脂基材を約100℃で約3kgf/cmの加圧下で約1m/minロールラミして貼り合わせた後、離型基材を剥離し、金属基材の光沢面が接着剤層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。常温(約25℃)にて、該積層体(Z)の樹脂基材を引張速度50mm/minで90°剥離し、剥離強度を測定する。90°剥離強度は0.5N/mm以上であることが必要であり、好ましくは0.8N/mm以上であり、より好ましくは1.0N/mm以上である。From the adhesive layer, the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a resin base material on one surface of the adhesive layer and laminating a glossy surface of a metal base material on the other surface. For bonding, the release base material / adhesive layer and the resin base material are bonded together by rolling laminating about 1 m / min under a pressure of about 3 kgf / cm 2 at about 100 ° C., and then the release base material is peeled off. The glossy surface of the metal base material is brought into contact with the adhesive layer, and the adhesive is bonded by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At room temperature (about 25 ° C.), the resin base material of the laminate (Z) is peeled by 90 ° at a tensile speed of 50 mm / min, and the peel strength is measured. The 90 ° peel strength needs to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

<要件(4)>
要件(4)について説明する。本願発明に係る積層体(Z)は、加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であることが必要である。具体的には、接着剤組成物を樹脂基材に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下に約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。該積層体(Z)を約40℃、約80RH%の条件下で約72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定する。加湿ハンダ耐熱性は240℃以上であることが必要であり、好ましくは250℃以上であり、より好ましくは260℃以上である。なお、前記方法以外の方法で作製された積層体(Z)であっても、加湿ハンダ耐熱性が240℃以上であれば、本発明に包含される。
<Requirement (4)>
The requirement (4) will be described. The laminate (Z) according to the present invention needs to have a humidifying solder heat resistance of 240 ° C. or higher. Specifically, the adhesive composition is applied to a resin base material so that the thickness after drying is 25 μm, and dried at about 130 ° C. for about 3 minutes. Next, a metal base material is attached to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer). The bonding is performed by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds so that the glossy surface of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) is treated under the conditions of about 40 ° C. and about 80 RH% for about 72 hours, flowed into a solder bath melted at each temperature for 1 minute, and the temperature at which the appearance does not change such as swelling is measured. .. The heat resistance of the humidified solder needs to be 240 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher. Even a laminated body (Z) produced by a method other than the above method is included in the present invention as long as the humidifying solder heat resistance is 240 ° C. or higher.

積層体(X)からは、積層体(X)の接着剤組成物層(接着剤層)の面に、金属基材を貼り合せることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合せは、金属基材の光沢面が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。該積層体(Z)を約40℃、約80RH%の条件下で約72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定する。加湿ハンダ耐熱性は240℃以上であることが必要であり、好ましくは250℃以上であり、より好ましくは260℃以上である。From the laminate (X), the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a metal base material on the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (X). The bonding is performed by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds so that the glossy surface of the metal substrate is in contact with the adhesive composition layer. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) is treated under the conditions of about 40 ° C. and about 80 RH% for about 72 hours, flowed into a solder bath melted at each temperature for 1 minute, and the temperature at which the appearance does not change such as swelling is measured. .. The heat resistance of the humidified solder needs to be 240 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher.

積層体(Y)からは、積層体(Y)の接着剤組成物層(接着剤層)の面に、樹脂基材を貼り合せることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合せは、樹脂基材が接着剤組成物層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。該積層体(Z)を約40℃、約80RH%の条件下で約72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定する。加湿ハンダ耐熱性は240℃以上であることが必要であり、好ましくは250℃以上であり、より好ましくは260℃以上である。From the laminate (Y), the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a resin base material on the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (Y). The bonding is performed by vacuum pressing at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds so that the resin base material is in contact with the adhesive composition layer. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) is treated under the conditions of about 40 ° C. and about 80 RH% for about 72 hours, flowed into a solder bath melted at each temperature for 1 minute, and the temperature at which the appearance does not change such as swelling is measured. .. The heat resistance of the humidified solder needs to be 240 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher.

また、接着剤層からは、接着剤層の一方の面に樹脂基材を貼り合わせ、他方の面に金属基材の光沢面を貼り合わせることで本発明の積層体(Z)を得ることができる。貼り合わせは、接着剤層と樹脂基材を貼り合わせた後、金属基材の光沢面が接着剤層と接するようにして、約160℃で約40kgf/cmの加圧下で約30秒間真空プレスして接着する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、樹脂基材/接着剤層/金属基材の3層積層体(Z)を作製する。該積層体(Z)を約40℃、約80RH%の条件下で約72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定する。加湿ハンダ耐熱性は240℃以上であることが必要であり、好ましくは250℃以上であり、より好ましくは260℃以上である。Further, from the adhesive layer, the laminate (Z) of the present invention can be obtained by laminating a resin base material on one surface of the adhesive layer and laminating a glossy surface of a metal base material on the other surface. it can. For bonding, after bonding the adhesive layer and the resin base material, the glossy surface of the metal base material is in contact with the adhesive layer, and vacuum is applied at about 160 ° C. under a pressure of about 40 kgf / cm 2 for about 30 seconds. Press and glue. Next, it is heat-treated at about 140 ° C. for about 4 hours to be cured to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) is treated under the conditions of about 40 ° C. and about 80 RH% for about 72 hours, flowed into a solder bath melted at each temperature for 1 minute, and the temperature at which the appearance does not change such as swelling is measured. .. The heat resistance of the humidified solder needs to be 240 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher.

<接着剤組成物>
本発明に用いる接着剤組成物は、少なくともカルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含むものである。カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)を含有することで、該接着剤組成物からなる接着剤層を介した積層体が前記(1)〜(4)の優れた性能を発現することができる。
<Adhesive composition>
The adhesive composition used in the present invention contains at least a carboxyl group-containing polyolefin resin (A). By containing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the laminate via the adhesive layer made of the adhesive composition can exhibit the excellent performances of the above (1) to (4).

本発明の接着剤組成物は、前記(A)成分の他に、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)(以下、単に(B)成分ともいう。)、カルボジイミド樹脂(C)(以下、単に(C)成分ともいう。)および/またはエポキシ樹脂(D)(以下、単に(D)成分ともいう。)を含有することが好ましい。前記(A)成分〜(D)成分の4種類の樹脂を含有することで、従来のポリイミド、ポリエステルフィルムだけでなく、従来技術では想定されていないLCPフィルム等の低極性樹脂基材であっても、金属基材と高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、且つ低誘電特性に優れる。 In addition to the component (A), the adhesive composition of the present invention includes a carboxyl group-containing styrene resin (B) (hereinafter, also simply referred to as a component (B)) and a carbodiimide resin (C) (hereinafter, simply (C). ) And / or the epoxy resin (D) (hereinafter, also simply referred to as the component (D)) is preferably contained. By containing the four types of resins (A) to (D), it is not only a conventional polyimide and polyester film, but also a low-polarity resin base material such as an LCP film that is not assumed in the prior art. However, it has high adhesiveness to a metal base material, can obtain high solder heat resistance, and is excellent in low dielectric property.

<カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)>
本発明で用いることができるカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)は限定的ではないが、芳香族ビニル化合物単独もしくは、芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物とのブロック及び/又はランダム構造を主体とする共重合体、並びにその水素添加物を、不飽和カルボン酸で変性したものであることが好ましい。芳香族ビニル化合物としては、特に限定されないが、例えばスチレン、t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1−ジフェニルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン、ビニルトルエン、p−第3ブチルスチレン等が挙げられる。また、共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等が挙げられる。これら芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物との共重合体の具体例としては、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS)、スチレン−エチレン−エチレン・プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEEPS)などが挙げられる。
<Carboxylic group-containing styrene resin (B)>
The carboxyl group-containing styrene resin (B) that can be used in the present invention is not limited, but is mainly composed of a block and / or a random structure of an aromatic vinyl compound alone or an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound. The polymer and its hydrogenated product are preferably modified with an unsaturated carboxylic acid. The aromatic vinyl compound is not particularly limited, and is, for example, styrene, t-butylstyrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylstyrene, N, N-diethyl-p-aminoethyl. Examples thereof include styrene, vinyltoluene, p-third butylstyrene and the like. Examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like. Specific examples of the copolymer of these aromatic vinyl compounds and the conjugated diene compound include styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS), and so on. Examples thereof include styrene-ethylene-ethylene / propylene-styrene block copolymer (SEEPS).

カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の変性は、例えば、スチレン樹脂の重合時に、不飽和カルボン酸を共重合させることにより行うことができる。また、スチレン樹脂と不飽和カルボン酸を有機パーオキサイドの存在下に加熱、混練することにより行うこともできる。不飽和カルボン酸としては、特に限定されず、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フマル酸等が挙げられる。 The modification of the carboxyl group-containing styrene resin (B) can be performed, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid during the polymerization of the styrene resin. It can also be carried out by heating and kneading a styrene resin and an unsaturated carboxylic acid in the presence of an organic peroxide. The unsaturated carboxylic acid is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, fumaric anhydride and the like.

カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の酸価は、耐熱性および樹脂基材や金属基材との接着性の観点から、下限は10当量/10g以上であることが好ましく、より好ましくは100当量/10g以上であり、さらに好ましくは150当量/10gである。
前記の値未満であると、エポキシ樹脂(D)、カルボジイミド樹脂(C)との相溶性が低く、接着強度が発現しないことがある。また架橋密度が低く耐熱性が乏しい場合がある。上限は1000当量/10g以下であることが好ましく、より好ましくは700当量/10g以下であり、さらに好ましくは500当量/10g以下である。前記の値を超えると、接着性、低誘電特性が低下する場合がある。
The lower limit of the acid value of the carboxyl group-containing styrene resin (B) is preferably 10 equivalents / 10 6 g or more, more preferably 100, from the viewpoint of heat resistance and adhesiveness to the resin base material and the metal base material. Equivalent / 10 6 g or more, more preferably 150 equivalent / 10 6 g.
If it is less than the above value, the compatibility with the epoxy resin (D) and the carbodiimide resin (C) is low, and the adhesive strength may not be exhibited. In addition, the crosslink density may be low and the heat resistance may be poor. The upper limit is preferably 1000 equivalents / 10 6 g or less, more preferably 700 equivalents / 10 6 g or less, and even more preferably 500 equivalents / 10 6 g or less. If it exceeds the above value, the adhesiveness and low dielectric property may be deteriorated.

本発明に用いる接着剤組成物において、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の含有量は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)5〜95質量部に対して、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)95〜5質量部の範囲であること、すなわち(A)成分/(B)成分=5〜95/95〜5(質量比)であることが好ましい。より好ましくは(A)成分/(B)成分10〜90/90〜10(質量比)であり、最も好ましくは(A)成分/(B)成分=15〜85/85〜15(質量比)の範囲である。(A)成分量が前記の値未満であると、架橋密度が低下し、加湿ハンダ耐熱性が低下することがある。(A)成分量が前記の値を超えると、基材への濡れ性が低下し、接着強度が低下することがある。 In the adhesive composition used in the present invention, the content of the carboxyl group-containing styrene resin (B) is 95 to 95 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) with respect to 5 to 95 parts by mass. It is preferably in the range of 5 parts by mass, that is, the component (A) / component (B) = 5 to 95/95 to 5 (mass ratio). More preferably, (A) component / (B) component 10 to 90/90 to 10 (mass ratio), and most preferably (A) component / (B) component = 15 to 85/85 to 15 (mass ratio). Is the range of. If the amount of the component (A) is less than the above value, the crosslink density may decrease and the heat resistance of the humidified solder may decrease. If the amount of the component (A) exceeds the above value, the wettability to the substrate may decrease and the adhesive strength may decrease.

<カルボジイミド樹脂(C)>
カルボジイミド樹脂(C)としては、分子内にカルボジイミド基を有するものであれば、特に限定されない。好ましくは分子内にカルボジイミド基を2個以上有するポリカルボジイミドである。カルボジイミド樹脂(C)を使用することによって、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)またはカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)のカルボキシル基とカルボジイミドとが反応し、接着剤組成物と基材との相互作用を高め、接着性を向上することができる。
<Carbodiimide resin (C)>
The carbodiimide resin (C) is not particularly limited as long as it has a carbodiimide group in the molecule. It is preferably a polycarbodiimide having two or more carbodiimide groups in the molecule. By using the carbodiimide resin (C), the carboxyl group of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) or the carboxyl group-containing styrene resin (B) reacts with the carbodiimide, and the interaction between the adhesive composition and the substrate is observed. It can be enhanced and the adhesiveness can be improved.

本発明に用いる接着剤組成物において、カルボジイミド樹脂(C)の含有量は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)とカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の合計100質量部に対して、0.1〜30質量部の範囲であることが好ましい。より好ましくは1〜25質量部の範囲であり、最も好ましくは2〜20質量部の範囲である。前記の値未満であると、基材との相互作用が発現せず、接着性が低下する問題がある。前記の値を超えると、接着剤のポットライフが低下、低誘電特性が低下する問題がある。 In the adhesive composition used in the present invention, the content of the carbodiimide resin (C) is 0.1 to 0 to 100 parts by mass of the total of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B). It is preferably in the range of 30 parts by mass. It is more preferably in the range of 1 to 25 parts by mass, and most preferably in the range of 2 to 20 parts by mass. If it is less than the above value, there is a problem that the interaction with the base material is not exhibited and the adhesiveness is lowered. If it exceeds the above value, there is a problem that the pot life of the adhesive is lowered and the low dielectric property is lowered.

<エポキシ樹脂(D)>
エポキシ樹脂(D)としては、分子中にグリシジル基を有するものであれば、特に限定されないが、好ましくは分子中に2個以上のグリシジル基を有するものである。具体的には、特に限定されないが、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミンからなる群から選択される少なくとも1つを用いることができる。好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂またはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂である。
<Epoxy resin (D)>
The epoxy resin (D) is not particularly limited as long as it has a glycidyl group in the molecule, but is preferably one having two or more glycidyl groups in the molecule. Specifically, although not particularly limited, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, At least one selected from the group consisting of tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, tetraglycidyl bisaminomethylcyclohexanone, N, N, N', N'-tetraglycidyl-m-xylene diamine can be used. A bisphenol A type epoxy resin, a novolak type epoxy resin or a dicyclopentadiene type epoxy resin is preferable.

本発明に用いる接着剤組成物において、エポキシ樹脂(D)の含有量は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)とカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の合計100質量部に対して、1〜30質量部の範囲であることが好ましく、2〜15質量部の範囲であることがより好ましく、3〜10質量部の範囲であることが最も好ましい。前記範囲未満では十分な硬化効果が得られず接着性および耐熱性が低下することがある。また、前記範囲以上は、接着剤のポットライフが低下、低誘電特性が低下する問題がある。 In the adhesive composition used in the present invention, the content of the epoxy resin (D) is 1 to 30 mass by mass with respect to 100 parts by mass in total of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B). The range is preferably in the range of parts, more preferably in the range of 2 to 15 parts by mass, and most preferably in the range of 3 to 10 parts by mass. If it is less than the above range, a sufficient curing effect may not be obtained and the adhesiveness and heat resistance may be lowered. Further, above the above range, there is a problem that the pot life of the adhesive is lowered and the low dielectric property is lowered.

本発明に用いる接着剤組成物は、さらに有機溶剤を含有することができる。本発明で用いる有機溶剤は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、およびエポキシ樹脂(D)を溶解させるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素、トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶剤、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールモノn -ブチルエーテル、エチレングリコールモノi s o -ブチルエーテル、エチレングリコールモノt e r t - ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノn -ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノi s o -ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノn -ブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノn -ブチルエーテ等のグリコールエーテル系溶剤等を使用することができ、これら1種または2種以上を併用することができる。 The adhesive composition used in the present invention can further contain an organic solvent. The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves the carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C), and the epoxy resin (D). Specifically, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane and decane, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane and ethylcyclohexane. Halogenized hydrocarbons such as hydrogen, trichloroethylene, dichloroethylene, chlorobenzene, chloroform, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol, phenol, acetone, methylisobutylketone, Ketone solvents such as methyl ethyl ketone, pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone, acetophenone, cell solves such as methyl cellsolve and ethyl cell solve, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, butyl formate, etc. Ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol mono iso-butyl ether, ethylene glycol mono tert-butyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono iso-butyl ether, triethylene glycol mono n-butyl ether, tetraethylene glycol mono n-butylate, etc. Glycol ether-based solvents and the like can be used, and one or more of these can be used in combination.

有機溶剤は、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)とカルボキシル基含有スチレン樹脂(B)の合計100質量部に対して、100〜1000質量部の範囲であることが好ましく、200〜900質量部の範囲であることがより好ましく、300〜800質量部の範囲であることが最も好ましい。前記範囲未満では、液状およびポットライフ性が低下することがある。また、前記範囲を超えると製造コスト、輸送コストの面から不利となる問題がある。 The organic solvent is preferably in the range of 100 to 1000 parts by mass, preferably in the range of 200 to 900 parts by mass, with respect to a total of 100 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B). Is more preferable, and the range is most preferably in the range of 300 to 800 parts by mass. If it is less than the above range, the liquid and pot life properties may decrease. Further, if it exceeds the above range, there is a problem that it is disadvantageous in terms of manufacturing cost and transportation cost.

また、本発明に用いる接着剤組成物には、さらに他の成分を必要に応じて含有してもよい。このような成分の具体例としては、難燃剤、粘着性付与剤、フィラー、シランカップリング剤が挙げられる。 Further, the adhesive composition used in the present invention may further contain other components as required. Specific examples of such components include flame retardants, tackifiers, fillers, and silane coupling agents.

<難燃剤>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じて難燃剤を配合しても良い。難燃剤としては、臭素系、リン系、窒素系、水酸化金属化合物等が挙げられる。中でも、リン系難燃剤が好ましく、リン酸エステル、例えば、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等、リン酸塩、例えばホスフィン酸アルミニウム等、ホスファゼン等の公知のリン系難燃剤を使用できる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。難燃剤を含有させる場合、(A)〜(D)成分の合計100質量部に対し、難燃剤を1〜200質量部の範囲で含有させることが好ましく、5〜150質量部の範囲がより好ましく、10〜100質量部の範囲が最も好ましい。前記範囲未満では、難燃性が低い場合がある。前記範囲を超えると接着性、耐熱性、電気特性等が悪化する問題がある。
<Flame retardant>
A flame retardant may be added to the adhesive composition used in the present invention, if necessary. Examples of the flame retardant include bromine-based, phosphorus-based, nitrogen-based, and metal hydroxide compounds. Among them, a phosphorus-based flame retardant is preferable, and a known phosphorus-based flame retardant such as a phosphate ester such as trimethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate or the like, a phosphate such as aluminum phosphinate or phosphazene can be used. .. These may be used alone or in any combination of two or more. When the flame retardant is contained, it is preferable to contain the flame retardant in the range of 1 to 200 parts by mass, and more preferably in the range of 5 to 150 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the components (A) to (D). , 10 to 100 parts by mass is most preferable. If it is less than the above range, the flame retardancy may be low. If it exceeds the above range, there is a problem that adhesiveness, heat resistance, electrical characteristics and the like are deteriorated.

<粘着性付与剤>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じて粘着付与剤を配合しても良い。粘着性付与剤としては、ポリテルペン樹脂、ロジン系樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、スチレン樹脂および水添石油樹脂等が挙げられ、接着強度を向上させる目的で用いられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。
<Adhesive imparting agent>
A tackifier may be added to the adhesive composition used in the present invention, if necessary. Examples of the tackifier include polyterpene resin, rosin resin, aliphatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, copolymer petroleum resin, styrene resin, hydrogenated petroleum resin, and the like to improve the adhesive strength. Used for purposes. These may be used alone or in any combination of two or more.

<フィラー>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じてシリカなどのフィラーを配合しても良い。シリカを配合することにより耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シリカとしては一般に疎水性シリカと親水性シリカが知られているが、ここでは耐吸湿性を付与する上でジメチルジクロロシランやヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン等で処理を行った疎水性シリカの方が良い。シリカの配合量は、(A)〜(D)成分の合計100質量部に対し、0.05〜30質量部の配合量であることが好ましい。0.05質量部未満であると耐熱性を向上させる効果が発揮しない場合がある。一方30質量部を越えるとシリカの分散不良が生じたり溶液粘度が高くなりすぎて作業性に不具合が生じたり或いは接着性が低下する場合がある。
<Filler>
If necessary, a filler such as silica may be added to the adhesive composition used in the present invention. It is very preferable to add silica because the heat resistance property is improved. Hydrophobic silica and hydrophilic silica are generally known as silica, but here, hydrophobic silica treated with dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane, etc. in order to impart moisture absorption resistance is used. Is good. The amount of silica blended is preferably 0.05 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the components (A) to (D). If it is less than 0.05 parts by mass, the effect of improving heat resistance may not be exhibited. On the other hand, if it exceeds 30 parts by mass, poor dispersion of silica may occur, the viscosity of the solution may become too high, which may cause a problem in workability or a decrease in adhesiveness.

<シランカップリング剤>
本発明に用いる接着剤組成物には必要に応じてシランカップリング剤を配合しても良い。シランカップリング剤を配合することにより金属への接着性や耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シランカップリング剤としては特に限定されないが、不飽和基を有するもの、グリシジル基を有するもの、アミノ基を有するものなどが挙げられる。これらのうち耐熱性の観点からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランやβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランやβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のグリシジル基を有したシランカップリング剤がさらに好ましい。シランカップリング剤の配合量は(A)〜(D)成分の合計100質量部に対して0.5〜20質量部の配合量であることが好ましい。0.5質量部未満であると耐熱性不良となる場合がある。一方、20質量部を越えると耐熱性不良や接着性が低下する場合がある。
<Silane coupling agent>
A silane coupling agent may be added to the adhesive composition used in the present invention, if necessary. It is very preferable to add a silane coupling agent because the properties of adhesion to metal and heat resistance are improved. The silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include those having an unsaturated group, those having a glycidyl group, and those having an amino group. Of these, glycidyls such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxidecyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane from the viewpoint of heat resistance. A silane coupling agent having a group is more preferable. The blending amount of the silane coupling agent is preferably 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the components (A) to (D). If it is less than 0.5 parts by mass, heat resistance may be poor. On the other hand, if it exceeds 20 parts by mass, heat resistance may be poor and adhesiveness may be lowered.

<接着シート>
本発明において、接着シートとは、前記積層体(Z)と離型基材とを接着剤組成物を介して積層したもの、または積層体(X)もしくは積層体(Y)の接着剤層面に離型基材を積層したもの、または接着剤層の少なくとも一方の面に離型基材を積層したものである。具体的な構成態様としては、離型基材/接着剤層、離型基材/接着剤層/離型基材、樹脂基材/接着剤層/離型基材、金属基材/接着剤層/離型基材、積層体/接着剤層/離型基材、または離型基材/接着剤層/積層体/接着剤層/離型基材が挙げられる。離型基材を積層することで基材の保護層として機能する。また離型基材を使用することで、接着シートから離型基材を離型して、さらに別の基材に接着剤層を転写することができる。
<Adhesive sheet>
In the present invention, the adhesive sheet is a product obtained by laminating the laminate (Z) and a release base material via an adhesive composition, or on the adhesive layer surface of the laminate (X) or the laminate (Y). The release base material is laminated, or the release base material is laminated on at least one surface of the adhesive layer. Specific configurations include a release base material / adhesive layer, a release base material / adhesive layer / release base material, a resin base material / adhesive layer / release base material, and a metal base material / adhesive. Examples include a layer / release base material, a laminate / adhesive layer / release base material, or a release base material / adhesive layer / laminate / adhesive layer / release base material. By laminating the release base material, it functions as a protective layer of the base material. Further, by using the release base material, the release base material can be released from the adhesive sheet and the adhesive layer can be transferred to another base material.

本発明に用いる接着剤組成物を、常法に従い、各種積層体に塗布、乾燥することにより、本発明の接着シートを得ることができる。また乾燥後、接着剤層に離型基材を貼付けると、基材への裏移りを起こすことなく巻き取りが可能になり操業性に優れるとともに、接着剤層が保護されることから保存性に優れ、使用も容易である。また離型基材に塗布、乾燥後、必要に応じて別の離型基材を貼付すれば、接着剤層そのものを他の基材に転写することも可能になる。 The adhesive sheet of the present invention can be obtained by applying the adhesive composition used in the present invention to various laminates and drying them according to a conventional method. In addition, if a release base material is attached to the adhesive layer after drying, it can be wound up without causing set-off to the base material, which is excellent in operability and protects the adhesive layer for storage stability. It is excellent and easy to use. Further, if the release base material is coated and dried, and then another release base material is attached as needed, the adhesive layer itself can be transferred to another base material.

<離型基材>
離型基材としては、特に限定されるものではないが、例えば、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙などの紙の両面に、クレー、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの目止剤の塗布層を設け、さらにその各塗布層の上にシリコーン系、フッ素系、アルキド系の離型剤が塗布されたものが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−α−オレフィン共重合体、プロピレン−α−オレフィン共重合体等の各種オレフィンフィルム単独、及びポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に上記離型剤を塗布したものも挙げられる。離型基材と接着剤層との離型力、シリコーンが電気特性に悪影響を与える等の理由から、上質紙の両面にポリプロピレン目止処理しその上にアルキド系離型剤を用いたもの、またはポリエチレンテレフタレート上にアルキド系離型剤を用いたものが好ましい。
<Release base material>
The release base material is not particularly limited, but for example, a coating layer of a sealant such as clay, polyethylene, or polypropylene is applied to both sides of paper such as high-quality paper, kraft paper, roll paper, and glassine paper. Examples thereof include those in which a silicone-based, fluorine-based, or alkyd-based mold release agent is coated on each of the coating layers. In addition, various olefin films such as polyethylene, polypropylene, ethylene-α-olefin copolymer, propylene-α-olefin copolymer, etc., and films such as polyethylene terephthalate coated with the above-mentioned release agent can also be mentioned. For reasons such as the release force between the release base material and the adhesive layer, and the fact that silicone adversely affects the electrical properties, polypropylene sealing treatment is applied to both sides of high-quality paper, and an alkyd-based release agent is used on top of it. Alternatively, one using an alkyd-based mold release agent on polyethylene terephthalate is preferable.

<プリント配線板>
本発明における「プリント配線板」は、導体回路を形成する金属箔と樹脂基材とから形成された積層体を構成要素として含むものである。プリント配線板は、例えば、金属張積層体を用いてサブトラクティブ法などの従来公知の方法により製造される。必要に応じて、金属箔によって形成された導体回路を部分的、或いは全面的にカバーフィルムやスクリーン印刷インキ等を用いて被覆した、いわゆるフレキシブル回路板(FPC)、フラットケーブル、テープオートメーティッドボンディング(TAB)用の回路板などを総称している。
<Printed circuit board>
The "printed wiring board" in the present invention includes a laminate formed of a metal foil forming a conductor circuit and a resin base material as a component. The printed wiring board is manufactured by a conventionally known method such as a subtractive method using a metal-clad laminate, for example. So-called flexible circuit board (FPC), flat cable, tape automated bonding (FPC), flat cable, tape automated bonding (FPC), flat cable, tape automated bonding (FPC), flat cable, tape automated bonding, etc. It is a general term for circuit boards for TAB).

本発明のプリント配線板は、プリント配線板として採用され得る任意の積層構成とすることができる。例えば、基材フィルム層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の4層から構成されるプリント配線板とすることができる。また例えば、基材フィルム層、接着剤層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の5層から構成されるプリント配線板とすることができる。 The printed wiring board of the present invention may have an arbitrary laminated structure that can be adopted as the printed wiring board. For example, it can be a printed wiring board composed of four layers, a base film layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer. Further, for example, the printed wiring board may be composed of five layers of a base film layer, an adhesive layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.

さらに、必要に応じて、上記のプリント配線板を2つもしくは3つ以上積層した構成とすることもできる。 Further, if necessary, two or three or more of the above-mentioned printed wiring boards may be laminated.

本発明に用いる接着剤組成物はプリント配線板の各接着剤層に好適に使用することが可能である。特に本発明に用いる接着剤組成物を接着剤として使用すると、プリント配線板を構成する従来のポリイミド、ポリエステルフィルム、銅箔だけでなく、LCPなどの低極性の樹脂基材と高い接着性を有し、耐はんだリフロー性を得ることができ、接着剤層自信が低誘電特性に優れる。そのため、カバーレイフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに用いる接着剤組成物として好適である。 The adhesive composition used in the present invention can be suitably used for each adhesive layer of the printed wiring board. In particular, when the adhesive composition used in the present invention is used as an adhesive, it has high adhesiveness not only to the conventional polyimide, polyester film, and copper foil constituting the printed wiring board, but also to a low-polarity resin base material such as LCP. However, solder reflow resistance can be obtained, and the adhesive layer confidence is excellent in low dielectric properties. Therefore, it is suitable as an adhesive composition used for coverlay films, laminated boards, copper foils with resins, and bonding sheets.

本発明のプリント配線板において、基材フィルムとしては、従来からプリント配線板の基材として使用されている任意の樹脂フィルムが使用可能である。基材フィルムの樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。特に、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の低極性基材に対しても、優れた接着性を有する。 In the printed wiring board of the present invention, as the base film, any resin film conventionally used as the base material of the printed wiring board can be used. Examples of the resin of the base film include polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, and fluorine resin. In particular, it has excellent adhesiveness to low-polarity substrates such as liquid crystal polymers, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resins.

<カバーフィルム>
カバーフィルムとしては、プリント配線板用の絶縁フィルムとして従来公知の任意の絶縁フィルムが使用可能である。例えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の各種ポリマーから製造されるフィルムが使用可能である。より好ましくは、ポリイミドフィルムまたは液晶ポリマーフィルムである。
<Cover film>
As the cover film, any conventionally known insulating film as an insulating film for a printed wiring board can be used. For example, manufactured from various polymers such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyethersulfone, polyetheretherketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyimide, polyamideimide, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resin. The film to be used is available. More preferably, it is a polyimide film or a liquid crystal polymer film.

本発明のプリント配線板は、上述した各層の材料を用いる以外は、従来公知の任意のプロセスを用いて製造することができる。 The printed wiring board of the present invention can be manufactured by any conventionally known process other than using the above-mentioned materials for each layer.

好ましい実施態様では、カバーフィルム層に接着剤層を積層した半製品(以下、「カバーフィルム側半製品」という)を製造する。他方、基材フィルム層に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側2層半製品」という)または基材フィルム層に接着剤層を積層し、その上に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側3層半製品」という)を製造する(以下、基材フィルム側2層半製品と基材フィルム側3層半製品とを合わせて「基材フィルム側半製品」という)。このようにして得られたカバーフィルム側半製品と、基材フィルム側半製品とを貼り合わせることにより、4層または5層のプリント配線板を得ることができる。 In a preferred embodiment, a semi-finished product in which an adhesive layer is laminated on a cover film layer (hereinafter, referred to as “cover film side semi-finished product”) is manufactured. On the other hand, a semi-finished product (hereinafter referred to as "base film side two-layer semi-finished product") in which a metal foil layer is laminated on a base film layer to form a desired circuit pattern, or an adhesive layer is laminated on a base film layer. , A semi-finished product (hereinafter referred to as "base film side three-layer semi-finished product") in which a metal foil layer is laminated on the metal foil layer to form a desired circuit pattern (hereinafter referred to as a base film-side two-layer semi-finished product). Together with the base film side three-layer semi-finished product, it is called "base film side semi-finished product"). By laminating the cover film side semi-finished product thus obtained and the base film side semi-finished product, a four-layer or five-layer printed wiring board can be obtained.

基材フィルム側半製品は、例えば、(A)前記金属箔に基材フィルムとなる樹脂の溶液を塗布し、塗膜を初期乾燥する工程(B)(A)で得られた金属箔と初期乾燥塗膜との積層物を熱処理・乾燥する工程(以下、「熱処理・脱溶剤工程」という)を含む製造法により得られる。 The base film side semi-finished product is, for example, the metal foil obtained in the steps (A) of applying a resin solution to be a base film to the metal foil and initial drying the coating film (B) and the initial stage. It is obtained by a production method including a step of heat-treating / drying the laminate with the dry coating film (hereinafter, referred to as “heat treatment / solvent removal step”).

金属箔層における回路の形成は、従来公知の方法を用いることができる。アクティブ法を用いてもよく、サブトラクティブ法を用いてもよい。好ましくは、サブトラクティブ法である。 A conventionally known method can be used for forming the circuit in the metal foil layer. The active method may be used, or the subtractive method may be used. The subtractive method is preferable.

得られた基材フィルム側半製品は、そのままカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後にカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。 The obtained base film side semi-finished product may be used as it is for bonding with the cover film side semi-finished product, or for bonding with the cover film side semi-finished product after the release film is bonded and stored. You may use it.

カバーフィルム側半製品は、例えば、カバーフィルムに接着剤を塗布して製造される。必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。 The cover film side semi-finished product is manufactured, for example, by applying an adhesive to the cover film. If necessary, a cross-linking reaction can be carried out on the applied adhesive. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

得られたカバーフィルム側半製品は、そのまま基材側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。 The obtained cover film side semi-finished product may be used as it is for bonding with the base film side semi-finished product, or for bonding with the base film side semi-finished product after the release film is bonded and stored. You may use it.

基材フィルム側半製品とカバーフィルム側半製品とは、それぞれ、例えば、ロールの形態で保管された後、貼り合わされて、プリント配線板が製造される。貼り合わせる方法としては、任意の方法が使用可能であり、例えば、プレスまたはロールなどを用いて貼り合わせることができる。また、加熱プレス、または加熱ロ−ル装置を使用するなどの方法により加熱を行いながら両者を貼り合わせることもできる。 The base film side semi-finished product and the cover film side semi-finished product are, for example, stored in the form of rolls and then bonded to each other to manufacture a printed wiring board. Any method can be used as the bonding method, and for example, the bonding can be performed using a press or a roll. It is also possible to bond the two together while heating by a method such as using a heating press or a heating roll device.

補強材側半製品は、例えば、ポリイミドフィルムのように柔らかく巻き取り可能な補強材の場合、補強材に接着剤を塗布して製造されることが好適である。また、例えばSUS、アルミ等の金属板、ガラス繊維をエポキシ樹脂で硬化させた板等のように硬く巻き取りできない補強板の場合、予め離型基材に塗布した接着剤を転写塗布することによって製造されることが好適である。また、必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。 In the case of a reinforcing material that can be wound up softly, for example, a polyimide film, the reinforcing material side semi-finished product is preferably manufactured by applying an adhesive to the reinforcing material. Further, in the case of a reinforcing plate that is hard and cannot be wound up, such as a metal plate such as SUS or aluminum, or a plate obtained by curing glass fiber with epoxy resin, the adhesive previously applied to the release base material is transferred and applied. It is preferable to be manufactured. In addition, if necessary, a cross-linking reaction can be carried out on the applied adhesive. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

得られた補強材側半製品は、そのままプリント配線板裏面との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。 The obtained reinforcing material side semi-finished product may be used as it is for bonding with the back surface of the printed wiring board, or may be used for bonding with the base film side semi-finished product after the release film is bonded and stored. You may.

基材フィルム側半製品、カバーフィルム側半製品、補強剤側半製品はいずれも、本発明におけるプリント配線板用積層体である。 The base film side semi-finished product, the cover film side semi-finished product, and the reinforcing agent side semi-finished product are all laminates for the printed wiring board in the present invention.

<実施例>
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。実施例中および比較例中に単に部とあるのは質量部を示す。
<Example>
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples. In the examples and comparative examples, simply "parts" indicates parts by mass.

(物性評価方法) (Physical property evaluation method)

酸価(A)成分:カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂
本発明における酸価(当量/10g)は、FT−IR(島津製作所社製、FT−IR8200PC)を使用して、無水マレイン酸のカルボニル(C=O)結合の伸縮ピーク(1780cm−1)の吸光度(I)、アイソタクチック特有のピーク(840cm−1)の吸光度(II)および無水マレイン酸(東京化成製)のクロロホルム溶液によって作成した検量線から得られるファクター(f)を用いて下記式により算出した値を樹脂1ton中の当量(当量/10g)として表した。
酸価=[吸光度(I)/吸光度(II)×(f)/無水マレイン酸の分子量×2×10
無水マレイン酸の分子量:98.06
Acid value (A) component: acid value of the carboxyl group-containing polyolefin resin present invention (equivalents / 10 6 g) is, FT-IR (manufactured by Shimadzu Corporation, FT-IR8200PC) using, carbonyl maleic anhydride ( It was prepared by the absorbance (I) of the expansion and contraction peak (1780 cm -1 ) of the C = O) bond, the absorbance (II) of the peak (840 cm -1 ) peculiar to isotactics, and the chloroform solution of maleic anhydride (manufactured by Tokyo Kasei). It represents the value calculated by the following equation using the factor (f) obtained from the calibration curve as the equivalent amount of the resin 1 ton (equivalents / 10 6 g).
Acid value = [absorbance (I) / absorbance (II) x (f) / molecular weight of maleic anhydride x 2 x 10 4 ]
Molecular weight of maleic anhydride: 98.06

酸価(B)成分:カルボキシル基含有スチレン樹脂
本発明における酸価(当量/10g)は、カルボキシル基含有スチレン樹脂をトルエンに溶解し、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液でフェノールフタレインを指示薬として滴定した。樹脂1ton中の当量(当量/10g)として表した。
Acid value (B) component: acid value of the carboxyl group-containing styrene resin present invention (equivalents / 10 6 g) is a carboxyl group-containing styrene resin was dissolved in toluene, using phenolphthalein as an indicator of methanol solution of sodium methoxide Titrated. Equivalents in the resin 1ton expressed as (equivalents / 10 6 g).

重量平均分子量(Mw)
本発明における重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPC、標準物質:ポリスチレン樹脂、移動相:テトラヒドロフラン)によって測定した値である。
Weight average molecular weight (Mw)
The weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography (hereinafter, GPC, standard substance: polystyrene resin, mobile phase: tetrahydrofuran).

(1)剥離強度(接着性)
後述する接着剤組成物を厚さ12.5μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製、アピカル)、または、厚さ25μmのLCPフィルム(株式会社クラレ製、ベクスター)に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。この様にして得られた接着性フィルム(Bステージ品)を18μmの圧延銅箔と貼り合わせた。貼り合わせは、圧延銅箔の光沢面が接着剤と接する様にして、160℃で40kgf/cmの加圧下に30秒間プレスし、接着した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させて、剥離強度評価用サンプルを得た。剥離強度は、25℃において、フィルム引き、引張速度50mm/minで90°剥離試験を行ない、剥離強度を測定した。この試験は常温での接着強度を示すものである。
<評価基準>
◎:1.0N/mm以上
○:0.8N/mm以上1.0N/mm未満
△:0.5N/mm以上0.8N/mm未満
×:0.5N/mm未満
(1) Peeling strength (adhesiveness)
The adhesive composition described later is applied to a polyimide film (manufactured by Kaneka Corporation, Apical) having a thickness of 12.5 μm or an LCP film (manufactured by Kuraray Co., Ltd., Vecstar) having a thickness of 25 μm, and the thickness after drying is 25 μm. And dried at 130 ° C. for 3 minutes. The adhesive film (B stage product) thus obtained was bonded to an 18 μm rolled copper foil. The bonding was performed by pressing the rolled copper foil under pressure of 40 kgf / cm 2 at 160 ° C. for 30 seconds so that the glossy surface of the rolled copper foil was in contact with the adhesive. Then, it was heat-treated at 140 ° C. for 4 hours to be cured to obtain a sample for evaluation of peel strength. The peel strength was measured by conducting a 90 ° peel test at a film pulling rate of 50 mm / min at 25 ° C. This test shows the adhesive strength at room temperature.
<Evaluation criteria>
⊚: 1.0 N / mm or more ○: 0.8 N / mm or more and less than 1.0 N / mm Δ: 0.5 N / mm or more and less than 0.8 N / mm ×: 0.5 N / mm or less

(2)乾燥ハンダ耐熱性
上記と同じ方法でサンプルを作製し、2.0cm×2.0cmのサンプル片を120℃で30分乾燥処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定した。
<評価基準>
◎:310℃以上
○:300℃以上310℃未満
△:290℃以上300℃未満
×:290℃未満
(2) Dry solder heat resistance A sample is prepared by the same method as above, a sample piece of 2.0 cm × 2.0 cm is dried at 120 ° C. for 30 minutes, and flowed into a solder bath melted at each temperature for 1 minute. , The temperature at which the appearance did not change such as swelling was measured.
<Evaluation criteria>
⊚: 310 ° C or higher ○: 300 ° C or higher and lower than 310 ° C Δ: 290 ° C or higher and lower than 300 ° C ×: less than 290 ° C

(3)加湿ハンダ耐熱性
上記と同じ方法でサンプルを作製し、2.0cm×2.0cmのサンプル片を40℃×80RH%×72時間処理を行い、各温度で溶融したハンダ浴に1分間フローし、膨れなどの外観変化を起こさない温度を測定した。
<評価基準>
◎:260℃以上
○:250℃以上260℃未満
△:240℃以上250℃未満
×:240℃未満
(3) Humidified solder heat resistance A sample was prepared by the same method as above, and a sample piece of 2.0 cm × 2.0 cm was treated at 40 ° C. × 80 RH% × 72 hours and placed in a solder bath melted at each temperature for 1 minute. The temperature at which the solder flowed and did not change the appearance such as swelling was measured.
<Evaluation criteria>
⊚: 260 ° C or higher ○: 250 ° C or higher and lower than 260 ° C Δ: 240 ° C or higher and lower than 250 ° C ×: less than 240 ° C

(4)比誘電率(εc)及び誘電正接(tanδ)
後述する接着剤組成物を厚さ35μmの電解銅箔の光沢面に、乾燥硬化後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させて試験用の銅張積層板を得た。得られた試験用の銅張積層板の硬化した接着剤組成物面に、蒸発乾固型の導電性銀ペーストを直径50mmの円形にスクリーン印刷にて塗布し120℃30分乾燥硬化させ、さらに導電性銀ペーストによる円の中央に長さ30mmのリード線を導電性接着剤にて接着し平行平板コンデンサを得た。得られた平行平板コンデンサの静電容量Capと損失係数D(誘電正接)をPRECISION LCR meter HP−4284Aを用いて、22℃下、周波数1MHzの条件で測定を行い、次式より比誘電率(εc)を算出した。
εc=(Cap×d)/(S×ε0
ここに Cap:静電容量[F]
d:誘電体層厚さ=25×10-6[m]
S:被測定誘電体面積=π×(25×10-32
ε0:真空の誘電率 8.854×10-12
である。
得られた比誘電率、誘電正接について、以下の通りに評価した。
<比誘電率の評価基準>
◎:2.3以下
○:2.3を超え2.6以下
△:2.6を超え3.0以下
×:3.0を超える
<誘電正接の評価基準>
◎:0.005以下
○:0.005を超え0.01以下
△:0.01を超え0.02以下
×:0.02を超える
(4) Relative permittivity (ε c ) and dielectric loss tangent (tan δ)
The adhesive composition described below was applied to the glossy surface of an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm so that the thickness after drying and curing was 25 μm, and dried at 130 ° C. for 3 minutes. Then, it was heat-treated at 140 ° C. for 4 hours and cured to obtain a copper-clad laminate for testing. On the cured adhesive composition surface of the obtained copper-clad laminate for testing, a dry-evaporated conductive silver paste was applied by screen printing to a circle having a diameter of 50 mm, dried and cured at 120 ° C. for 30 minutes, and further. A lead wire having a length of 30 mm was bonded to the center of a circle made of conductive silver paste with a conductive adhesive to obtain a parallel flat plate capacitor. The capacitance Cap and loss coefficient D (dielectric loss tangent) of the obtained parallel plate capacitor were measured using PRECISION LCR meter HP-4284A under the condition of 22 ° C. and frequency 1 MHz, and the relative permittivity (dielectric constant) was calculated from the following equation. ε c ) was calculated.
ε c = (Cap × d) / (S × ε 0 )
Here Cap: Capacitance [F]
d: Dielectric layer thickness = 25 × 10 -6 [m]
S: Dielectric area to be measured = π × (25 × 10 -3 ) 2
ε 0 : Permittivity of vacuum 8.854 × 10 -12
Is.
The obtained relative permittivity and dielectric loss tangent were evaluated as follows.
<Evaluation criteria for relative permittivity>
⊚: 2.3 or less ○: More than 2.3 and 2.6 or less Δ: More than 2.6 and 3.0 or less ×: More than 3.0 <Evaluation criteria for dielectric loss tangent>
⊚: 0.005 or less ○: 0.005 or more and 0.01 or less Δ: 0.01 or more and 0.02 or less ×: 0.02 or more

(カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂)
製造例1
1Lオートクレーブに、プロピレン−ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7080」)100質量部、トルエン150質量部及び無水マレイン酸19質量部、ジ−tert−ブチルパーオキサイド6質量部を加え、140℃まで昇温した後、更に3時間撹拌した。その後、得られた反応液を冷却後、多量のメチルエチルケトンが入った容器に注ぎ、樹脂を析出させた。その後、当該樹脂を含有する液を遠心分離することにより、無水マレイン酸がグラフト重合した酸変性プロピレン−ブテン共重合体と(ポリ)無水マレイン酸および低分子量物とを分離、精製した。その後、減圧下70℃で5時間乾燥させることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−1、酸価410当量/10g、重量平均分子量60,000、Tm80℃、△H35J/g)を得た。
(Carboxylic group-containing polyolefin resin)
Manufacturing example 1
100 parts by mass of propylene-butene copolymer (“Toughmer (registered trademark) XM7080” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 150 parts by mass of toluene, 19 parts by mass of maleic anhydride, and 6 parts by mass of di-tert-butyl peroxide in a 1 L autoclave. Was added, the temperature was raised to 140 ° C., and the mixture was further stirred for 3 hours. Then, the obtained reaction solution was cooled and then poured into a container containing a large amount of methyl ethyl ketone to precipitate a resin. Then, the liquid containing the resin was centrifuged to separate and purify the acid-modified propylene-butene copolymer graft-polymerized with maleic anhydride, (poly) maleic anhydride and a low molecular weight substance. Thereafter, by drying under vacuum for 5 hours 70 ° C., maleic acid-modified propylene anhydride - butene copolymer (CO-1, acid value 410 equivalent / 10 6 g, weight average molecular weight 60,000, Tm80 ℃, △ H35J / G) was obtained.

製造例2
無水マレイン酸の仕込み量を11質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−2、酸価220当量/10g、重量平均分子量65,000、Tm78℃、△H25J/g)を得た。
Manufacturing example 2
By except that the charged amount of maleic anhydride was changed to 11 parts by weight is in the same manner as in Production Example 1, maleic anhydride-modified propylene anhydride - butene copolymer (CO-2, acid value 220 equivalent / 10 6 g, the weight An average molecular weight of 65,000, Tm78 ° C., ΔH25J / g) was obtained.

実施例1
水冷還流凝縮器と撹拌機を備えた500mlの四つ口フラスコに、製造例1で得られた無水マレイン酸変性プロピレン−ブテン共重合体(CO−1)を80質量部、カルボキシル基含有スチレン樹脂(タフテック(登録商標)M1943)を20質量部、トルエンを500質量部仕込み、撹拌しながら80℃まで昇温し、撹拌を1時間続けることで溶解した。冷却して得られた溶液に、カルボジイミド樹脂V−05を5質量部、エポキシ樹脂HP−7200を10質量部配合し、接着剤組成物を得た。配合量、接着強度、ハンダ耐熱性、電気特性を表1に示す。
Example 1
80 parts by mass of the maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-1) obtained in Production Example 1 and a carboxyl group-containing styrene resin were placed in a 500 ml four-necked flask equipped with a water-cooled reflux condenser and a stirrer. (Tough Tech (registered trademark) M1943) was charged in an amount of 20 parts by mass and toluene was added in an amount of 500 parts by mass, the temperature was raised to 80 ° C. with stirring, and the mixture was dissolved by continuing stirring for 1 hour. 5 parts by mass of carbodiimide resin V-05 and 10 parts by mass of epoxy resin HP-7200 were added to the solution obtained by cooling to obtain an adhesive composition. Table 1 shows the blending amount, adhesive strength, solder heat resistance, and electrical characteristics.

実施例2〜10
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、エポキシ樹脂(D)を表1に示すものに変更し、実施例1と同様な方法で、表1に示す各配合量となるように変更し、実施例2〜14を行った。接着強度、ハンダ耐熱性、電気特性を表1に示す。
Examples 2-10
The carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C), and the epoxy resin (D) were changed to those shown in Table 1, and in the same manner as in Example 1, Table 1 Examples 2 to 14 were carried out after changing the blending amounts to those shown in 1. Table 1 shows the adhesive strength, solder heat resistance, and electrical characteristics.

Figure 0006791131
Figure 0006791131

比較例1〜7
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、エポキシ樹脂(D)を表2に示すものに変更し、実施例1と同様な方法で、表2に示す各配合量となるように変更し、比較例1〜7を行った。配合量、接着強度、ハンダ耐熱性、電気特性を表2に示す。
Comparative Examples 1 to 7
The carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C), and the epoxy resin (D) were changed to those shown in Table 2, and the same method as in Example 1 was applied to Table 2. Comparative Examples 1 to 7 were carried out by changing the blending amounts shown in 1. Table 2 shows the blending amount, adhesive strength, solder heat resistance, and electrical characteristics.

Figure 0006791131
Figure 0006791131

表1、2で用いたポリオレフィン樹脂、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)、エポキシ樹脂(D)は以下のものである。
カルボキシル基含有スチレン樹脂:タフテック(登録商標)M1911(旭化成ケミカルズ社製)
カルボキシル基含有スチレン樹脂:タフテック(登録商標)M1913(旭化成ケミカルズ社製)
カルボキシル基含有スチレン樹脂:タフテック(登録商標)M1943(旭化成ケミカルズ社製)
ポリオレフィン樹脂:タフマー(登録商標)XM7080(三井化学社製)
スチレン樹脂:タフテック(登録商標)H1052(旭化成ケミカルズ社製)
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴムNBR(株式会社JSR製)
カルボジイミド樹脂:V−05(日清紡ケミカル社製)
カルボジイミド樹脂:V−03(日清紡ケミカル社製)
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂:YDCN−700−10(新日鉄住金化学社製)
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂:HP−7200(DIC社製)
The polyolefin resin, carboxyl group-containing styrene resin (B), carbodiimide resin (C), and epoxy resin (D) used in Tables 1 and 2 are as follows.
Carboxylic acid-containing styrene resin: Tough Tech (registered trademark) M1911 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals)
Carboxylic acid-containing styrene resin: Tough Tech (registered trademark) M1913 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals)
Carboxylic group-containing styrene resin: Tough Tech (registered trademark) M1943 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals)
Polyolefin resin: Toughmer (registered trademark) XM7080 (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
Styrene resin: Tough Tech (registered trademark) H1052 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals)
Carboxylic acid-containing acrylonitrile butadiene rubber NBR (manufactured by JSR Corporation)
Carbodiimide resin: V-05 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)
Carbodiimide resin: V-03 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)
o-cresol novolac type epoxy resin: YDCN-700-10 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.)
Dicyclopentadiene type epoxy resin: HP-7200 (manufactured by DIC Corporation)

表1から明らかなように、実施例1〜14では、ポリイミド(PI)と銅箔と優れた接着性、ハンダ耐熱性を有しながら、液晶ポリマー(LCP)と銅箔とも優れた接着性、ハンダ耐熱性を有する。また、接着剤組成物の電気特性は誘電率、誘電正接ともに低く良好である。これに対し、表2から明らかなように、比較例1では、カルボキシル基含有スチレン樹脂を配合していないため、加湿ハンダ耐熱性、接着強度が劣る。比較例2では、カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂を配合していないため、架橋密度が低く、加湿ハンダ耐熱性が劣る。比較例3では、ポリオレフィン樹脂がカルボキシル基を含有していないため、架橋密度が低く、加湿ハンダ耐熱性が劣る。比較例4では、スチレン樹脂がカルボキシル基を含有していないため、架橋密度が低く、加湿ハンダ耐熱性が劣る。比較例5では、カルボジイミド樹脂を配合していないため、LCP界面との相互作用が少なく、接着強度が低い。比較例6では、エポキシ樹脂を配合していないため、架橋密度が低く、ハンダ耐熱性が劣る。比較例7では、ポリオレフィン樹脂、スチレン樹脂を配合していないため、接着剤組成物の低誘電特性が劣っている。 As is clear from Table 1, in Examples 1 to 14, the liquid crystal polymer (LCP) and the copper foil have excellent adhesiveness while having excellent adhesiveness between the polyimide (PI) and the copper foil and solder heat resistance. Has solder heat resistance. Further, the electrical characteristics of the adhesive composition are both low and good in both dielectric constant and dielectric loss tangent. On the other hand, as is clear from Table 2, in Comparative Example 1, since the carboxyl group-containing styrene resin is not blended, the heat resistance of the humidified solder and the adhesive strength are inferior. In Comparative Example 2, since the carboxyl group-containing polyolefin resin is not blended, the crosslink density is low and the humidifying solder heat resistance is inferior. In Comparative Example 3, since the polyolefin resin does not contain a carboxyl group, the crosslink density is low and the humidifying solder heat resistance is inferior. In Comparative Example 4, since the styrene resin does not contain a carboxyl group, the crosslink density is low and the heat resistance of the humidified solder is inferior. In Comparative Example 5, since the carbodiimide resin is not blended, the interaction with the LCP interface is small and the adhesive strength is low. In Comparative Example 6, since the epoxy resin is not blended, the crosslink density is low and the solder heat resistance is inferior. In Comparative Example 7, since the polyolefin resin and the styrene resin are not blended, the low dielectric property of the adhesive composition is inferior.

本発明により、従来のポリイミド、ポリエチレンテレフタレートフィルムだけでなく、LCPなどの低誘電特性を有する樹脂基材と、銅箔などの金属基材との、高い接着性を有し、高いハンダ耐熱性を得ることができ、低誘電特性に優れる積層体を提供することができる。上記特性により、フレキシブルプリント配線板用途、特に高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)が求められるFPC用途において有用である。
According to the present invention, not only conventional polyimide and polyethylene terephthalate films but also resin substrates having low dielectric properties such as LCP and metal substrates such as copper foil have high adhesiveness and high solder heat resistance. It is possible to obtain a laminate having excellent low dielectric properties. Due to the above characteristics, it is useful for flexible printed wiring board applications, especially for FPC applications where low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in a high frequency region are required.

Claims (6)

カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)およびエポキシ樹脂(D)を含む接着剤層を介してLCP基材および金属基材が積層された積層体(Z)であって、
(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、
(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、
(3)LCP基材と金属基材との剥離強度が0.8N/mm以上であり、
(4)積層体(Z)の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上である
ことを特徴とする積層体(Z)。
A laminate in which an LCP base material and a metal base material are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B), a carbodiimide resin (C), and an epoxy resin (D). (Z)
(1) The relative permittivity (εc) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less.
(2) The dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less.
(3) The peel strength between the LCP base material and the metal base material is 0.8 N / mm or more.
(4) The laminated body (Z) characterized in that the humidifying solder heat resistance of the laminated body (Z) is 240 ° C. or higher.
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)およびエポキシ樹脂(D)を含む接着剤層を介してLCP基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層と前記LCP基材の積層体(X)であって、
(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、
(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、
(3)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体におけるLCP基材と金属基材との剥離強度が0.8N/mm以上であり、
(4)積層体(X)の接着剤層面に金属基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上である
ことを特徴とする積層体(X)。
A laminate in which an LCP substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B), a carbodiimide resin (C), and an epoxy resin (D). The laminate (X) of the adhesive layer and the LCP base material used in (Z).
(1) The relative permittivity (εc) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less.
(2) The dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less.
(3) When the metal base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminated body (X), the peel strength between the LCP base material and the metal base material in the laminated body is 0.8 N / mm or more.
(4) A laminated body (X) characterized in that the humidifying solder heat resistance of the laminated body when a metal base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminated body (X) is 240 ° C. or higher.
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)およびエポキシ樹脂(D)を含む接着剤層を介してLCP基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層と前記金属基材の積層体(Y)であって、
(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、
(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、
(3)積層体(Y)の接着剤層面にLCP基材を積層した場合の該積層体におけるLCP基材と金属基材との剥離強度が0.8N/mm以上であり、
(4)積層体(Y)の接着剤層面に樹脂基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上である
ことを特徴とする積層体(Y)。
A laminate in which an LCP substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B), a carbodiimide resin (C), and an epoxy resin (D). The laminate (Y) of the adhesive layer and the metal base material used in (Z).
(1) The relative permittivity (εc) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less.
(2) The dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less.
(3) When the LCP base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminated body (Y), the peel strength between the LCP base material and the metal base material in the laminated body is 0.8 N / mm or more.
(4) The laminate (Y) is characterized in that the humidifying solder heat resistance of the laminate (Y) when the resin base material is laminated on the adhesive layer surface of the laminate (Y) is 240 ° C. or higher.
カルボキシル基含有ポリオレフィン樹脂(A)、カルボキシル基含有スチレン樹脂(B)、カルボジイミド樹脂(C)およびエポキシ樹脂(D)を含む接着剤層を介してLCP基材および金属基材が積層された積層体(Z)に用いられる、前記接着剤層であって、
(1)接着剤層の周波数1MHzにおける比誘電率(εc)が3.0以下であり、
(2)接着剤層の周波数1MHzにおける誘電正接(tanδ)が0.02以下であり、
(3)接着剤層の一方の面にLCP基材を積層し、他方の面に金属基材を積層した場合の該積層体におけるLCP基材と金属基材との剥離強度が0.8N/mm以上であり、
(4)接着剤層の一方の面に樹脂基材を積層し、他方の面に金属基材を積層した場合の該積層体の加湿ハンダ耐熱性が240℃以上である
ことを特徴とする接着剤層。
A laminate in which an LCP substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B), a carbodiimide resin (C), and an epoxy resin (D). The adhesive layer used in (Z).
(1) The relative permittivity (εc) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 3.0 or less.
(2) The dielectric loss tangent (tan δ) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less.
(3) When the LCP base material is laminated on one surface of the adhesive layer and the metal base material is laminated on the other surface, the peel strength between the LCP base material and the metal base material in the laminated body is 0.8 N. / Mm or more,
(4) Adhesion characterized in that the humidified solder heat resistance of the laminated body when the resin base material is laminated on one surface of the adhesive layer and the metal base material is laminated on the other surface is 240 ° C. or higher. Agent layer.
請求項1に記載の積層体(Z)、請求項2に記載の積層体(X)、請求項3に記載の積層体(Y)または請求項4に記載の接着剤層を含有する接着シート。 An adhesive sheet containing the laminate (Z) according to claim 1, the laminate (X) according to claim 2, the laminate (Y) according to claim 3, or the adhesive layer according to claim 4. .. 請求項5に記載の接着シートを構成要素として含むプリント配線板。 A printed wiring board including the adhesive sheet according to claim 5 as a component.
JP2017519142A 2015-05-15 2016-05-11 Laminated body containing a low-dielectric adhesive layer Active JP6791131B2 (en)

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