KR20180008373A - Laminate comprising low dielectric constant adhesive layer - Google Patents

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Abstract

종래의 폴리이미드, 폴리에스테르 필름뿐만 아니라, LCP 등의 저극성 수지 기재나 금속 기재와 높은 접착성을 가지며, 높은 땜납 내열성을 얻을 수 있고, 또한 저유전 특성이 우수한 적층체를 제공한다. 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)로서, (1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고, (2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고, (3) 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고, (4) 적층체(Z)의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(Z). Provided is a laminate which has high adhesion with a low-polarity resin base material such as LCP or a metal base material as well as conventional polyimide and polyester films, can achieve high solder heat resistance, and is excellent in low dielectric properties. (Z) having a resin substrate and a metal substrate laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), wherein (1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of not more than 3.0 (2) the dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less, (3) the peel strength between the resin substrate and the metal substrate is 0.5 N / mm or more, (4) (Z) characterized in that the heat resistance of the humidifying solder is 240 占 폚 or higher.

Description

저유전 접착제층을 함유하는 적층체{LAMINATE COMPRISING LOW DIELECTRIC CONSTANT ADHESIVE LAYER}LAMINATE COMPRISING LOW DIELECTRIC CONSTANT ADHESIVE LAYER [0002]

본 발명은, 저유전율, 저유전 정접을 나타내는 접착제층을 함유하는 적층체에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 저유전율, 저유전 정접을 나타내는 접착제층을 통해 수지 기재와 금속 기재가 적층된 적층체에 관한 것이다. 특히 플렉시블 프린트 배선판(이하, FPC로 약칭)용의 적층체, 및 그것을 포함하는 커버레이 필름, 적층판, 수지 부착 동박 및 본딩 시트에 관한 것이다. The present invention relates to a laminate containing an adhesive layer exhibiting low dielectric constant and low dielectric loss tangent. More particularly, the present invention relates to a laminate in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer exhibiting low dielectric constant and low dielectric loss tangent. To a laminate for a flexible printed wiring board (hereinafter abbreviated as FPC), and to a coverlay film, a laminate, a resin-attached copper foil and a bonding sheet containing the same.

최근, 프린트 배선판에서의 전송 신호의 고속화에 따라, 신호의 고주파화가 진행되고 있다. 이에 따라, FPC에는, 고주파 영역에서의 저유전 특성(저유전율, 저유전 정접)의 요구가 높아지고 있다. 이러한 요구에 대하여, FPC에 이용되는 기재 필름으로서, 종래의 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 대신에, 저유전 특성을 갖는 액정 폴리머(LCP), 신디오택틱 폴리스티렌(SPS), 폴리페닐렌술피드(PPS) 등의 기재 필름이 제안되어 있다. 2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in the speed of a transmission signal in a printed wiring board, the frequency of a signal is increasing. As a result, the demand for low dielectric constant (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in the high frequency region is increasing for the FPC. As a substrate film used for the FPC, a liquid crystal polymer (LCP) having low dielectric properties, syndiotactic polystyrene (SPS), polyphenylene sulfide A base film such as a feed (PPS) film has been proposed.

그러나, 저유전 특성을 갖는 기재 필름은, 저극성으로 인해, 종래의 에폭시계 접착제나 아크릴계 접착제를 이용한 경우 접착력이 약하여, 커버레이 필름, 적층판 등 FPC용 부재의 제작이 어려웠다. 또한, 에폭시계 접착제나 아크릴계 접착제는, 저유전 특성이 우수하지 않고, FPC의 유전 특성을 손상한다. However, due to the low polarity, the base film having low dielectric properties has a weak adhesive force when using conventional epoxy adhesive or acrylic adhesive, and it has been difficult to manufacture an FPC member such as a coverlay film or a laminate. Further, the epoxy adhesive or the acrylic adhesive does not have a low dielectric property and damages the dielectric property of the FPC.

한편, 폴리올레핀 수지는, 저유전 특성을 갖는 것이 알려져 있다. 따라서, 폴리올레핀 수지를 이용한 FPC용 접착제 조성물이 제안되어 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에서는, 카르복실기를 함유하는 폴리올레핀계 공중합체, 방향족 비닐 화합물 중합체 블록과 공액 디엔계 화합물 중합체 블록의 블록 공중합체, 에폭시 수지를 이용한 열반응성 접착제 조성물이 제안되어 있다. 또한, 특허문헌 2에서는, 카르복실기 함유 스티렌 엘라스토머와 에폭시 수지를 이용한 접착제 조성물이 제안되어 있다. On the other hand, polyolefin resins are known to have low dielectric properties. Therefore, an adhesive composition for an FPC using a polyolefin resin has been proposed. For example, Patent Document 1 proposes a heat-reactive adhesive composition using a polyolefin-based copolymer containing a carboxyl group, a block copolymer of an aromatic vinyl compound polymer block and a conjugated diene compound polymer block, and an epoxy resin. Further, in Patent Document 2, an adhesive composition using a carboxyl group-containing styrene elastomer and an epoxy resin has been proposed.

특허문헌 1 : 일본 특허 3621351호 공보Patent Document 1: Japanese Patent No. 3621351 특허문헌 2 : WO2014/147903A1 공보Patent Document 2: WO2014 / 147903A1

그러나, 특허문헌 1에서는, 폴리이미드 필름과 SUS의 접착성, 땜납 내열성은 설명되어 있지만, 유전 특성에 관해 언급되어 있지 않아, LCP 등의 저유전 특성을 갖는 기재 필름과의 접착성을 얻기 어렵다. 또한, 특허문헌 2에서는, 유전 특성, 폴리이미드 필름과 동박의 접착성은 설명되어 있지만, LCP 등의 저유전 특성을 갖는 기재 필름과의 접착성에 관해서는 언급되어 있지 않다. 또한, 건조후의 땜납 내열성은 설명되어 있지만, 가습후의 땜납 내열성은 충분하다고는 할 수 없다. However, although Patent Document 1 describes the adhesiveness between the polyimide film and SUS and the solder heat resistance, the dielectric property is not mentioned, and it is difficult to obtain adhesion with a base film having low dielectric properties such as LCP. In Patent Document 2, the dielectric properties and the adhesiveness between the polyimide film and the copper foil have been described, but no mention has been made about the adhesion with a base film having low dielectric properties such as LCP. The solder heat resistance after drying has been described, but the solder heat resistance after humidification is not sufficient.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정한 물성을 갖는 접착제층이, 종래의 폴리이미드 필름뿐만 아니라, 종래 기술에서는 상정되지 않았던 LCP 등의 저유전 특성을 갖는 수지 기재와 동박 등의 금속 기재와의 높은 접착성, 높은 땜납 내열성 및 저유전 특성이 우수한 것을 발견하여, 본 발명을 완성한 것이다.The present invention has been made in order to solve the problems described above. As a result of intensive studies, it has been found that the adhesive layer having specific physical properties is not only a conventional polyimide film but also a resin substrate having low dielectric properties such as LCP High solder heat resistance and low dielectric properties, and has completed the present invention.

즉, 본 발명은, 폴리이미드, LCP 등의 여러가지 수지 기재와 금속 기재 쌍방에 대한 양호한 접착성을 가지며, 또한 내열성, 저유전 특성도 우수한 접착제층으로 적층된 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. In other words, it is an object of the present invention to provide a laminate which is laminated with an adhesive layer having good adhesiveness to various resin base materials such as polyimide and LCP, and also excellent in heat resistance and low dielectric property.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)로서, (1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고, (2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고, (3) 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고, (4) 적층체(Z)의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(Z). (Z) having a resin substrate and a metal substrate laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A), wherein (1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of not more than 3.0 (2) the dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less, (3) the peel strength between the resin substrate and the metal substrate is 0.5 N / mm or more, (4) (Z) characterized in that the heat resistance of the humidifying solder is 240 占 폚 or higher.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)에 이용되는 상기 접착제층과 상기 수지 기재의 적층체(X)로서, (1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고, (2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고, (3) 적층체(X)의 접착제층면에 금속 기재를 적층한 경우의 상기 적층체에서의 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고, (4) 적층체(X)의 접착제층면에 금속 기재를 적층한 경우의 상기 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(X). (1) a laminate (X) of the adhesive layer and the resin substrate used for the laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A) (2) the dielectric loss tangent (tan?) At a frequency of 1 MHz of the adhesive layer is 0.02 or less; and (3) the dielectric constant (? C ) of the adhesive layer The peeling strength between the resin base material and the metal base material in the laminate when the metal base material is laminated is not less than 0.5 N / mm, (4) when the metal base material is laminated on the adhesive layer side of the laminate (X) Wherein the moisture resistance of the humidifying solder is 240 占 폚 or higher.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)에 이용되는 상기 접착제층과 상기 금속 기재의 적층체(Y)로서, (1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고, (2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고, (3) 적층체(Y)의 접착제층면에 수지 기재를 적층한 경우의 상기 적층체에서의 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고, (4) 적층체(Y)의 접착제층면에 수지 기재를 적층한 경우의 상기 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(Y). (1) a laminate (Y) of the adhesive layer and the metal substrate used for the laminate (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated via an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A) (2) the dielectric loss tangent (tan?) At a frequency of 1 MHz of the adhesive layer is 0.02 or less; (3) the dielectric constant (? C ) of the adhesive layer The peel strength between the resin base material and the metal base material in the laminate when the resin base material is laminated is not less than 0.5 N / mm, (4) the laminate material in which the resin base material is laminated on the adhesive layer side of the laminate (Y) Wherein the moisture-proof solder has a heat resistance of 240 占 폚 or higher.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)에 이용되는 상기 접착제층으로서, (1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고, (2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고, (3) 접착제층의 한쪽 면에 수지 기재를 적층하고, 다른쪽 면에 금속 기재를 적층한 경우의 상기 적층체에서의 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고, (4) 접착제층의 한쪽 면에 수지 기재를 적층하고, 다른쪽 면에 금속 기재를 적층한 경우의 상기 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 접착제층. (1) The adhesive layer used for the laminate (Z) in which the resin substrate and the metal substrate are laminated through the adhesive layer containing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) c ) is not more than 3.0, (2) the dielectric loss tangent (tan?) of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less, (3) a resin substrate is laminated on one side of the adhesive layer, (4) a resin substrate is laminated on one side of the adhesive layer, and a metal substrate is laminated on the other side of the laminate Wherein the laminate has a heat resistance of humidifying solder of 240 DEG C or more.

상기 적층체(Z), 적층체(X), 적층체(Y) 또는 접착제층을 함유하는 접착 시트. An adhesive sheet comprising the laminate (Z), the laminate (X), the laminate (Y) or an adhesive layer.

상기 접착 시트를 구성 요소로서 포함하는 프린트 배선판. And the adhesive sheet as a component.

본 발명에 관한 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체는, (1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하인 것, (2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하인 것, (3) 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상인 것, (4) 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 만족하기 때문에, 종래의 폴리이미드, 폴리에스테르 필름뿐만 아니라, 종래 기술에서는 상정되지 않았던 LCP 필름 등의 저극성 수지 기재나 금속 기재와 높은 접착성을 가지며, 높은 땜납 내열성을 얻을 수 있고, 또한 저유전 특성이 우수하다. (1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (epsilon c ) at a frequency of 1 MHz of not more than 3.0, the adhesive layer having a dielectric constant (2) the dielectric tangent (tan?) At a frequency of 1 MHz of the adhesive layer is 0.02 or less, (3) the peel strength of the resin base material and the metal base is 0.5 N / mm or more, (4) It is possible to obtain high solder heat resistance as well as conventional polyimide and polyester films as well as high adhesion with low-polarity resin base materials and metal base materials such as LCP films which have not been assumed in the prior art And is also excellent in low dielectric properties.

이하, 본 발명의 실시형태에 관해 상세히 설명한다. 본원발명에 관한 적층체(Z)는, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 것이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The layered product (Z) relating to the present invention is a laminate of a resin substrate and a metal substrate through an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A).

<카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)> &Lt; Carboxy group-containing polyolefin resin (A)

본 발명에 이용하는 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)(이하, 단순히 (A) 성분이라고도 함)는 한정적이지는 않지만, 폴리올레핀 수지에 α,β-불포화 카르복실산 및 그 산무수물의 적어도 1종을 그래프트함으로써 얻어지는 것인 것이 바람직하다. 폴리올레핀 수지란, 에틸렌, 프로필렌, 부텐, 부타디엔, 이소프렌 등으로 예시되는 올레핀 모노머의 단독 중합, 혹은 그 밖의 모노머와의 공중합, 및 얻어진 중합체의 수소화물이나 할로겐화물 등, 탄화수소 골격을 주체로 하는 중합체를 가리킨다. 즉, 카르복실기 함유 폴리올레핀은, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 프로필렌-α-올레핀 공중합체의 적어도 1종에, α,β-불포화 카르복실산 및 그 산무수물의 적어도 1종을 그래프트함으로써 얻어지는 것이 바람직하다. The carboxyl group-containing polyolefin resin (A) (hereinafter, simply referred to as component (A)) used in the present invention is not limited, but may be obtained by grafting at least one of an?,? - unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride thereof to the polyolefin resin Is preferably obtained. The polyolefin resin is a polymer obtained by homopolymerization of an olefin monomer exemplified by ethylene, propylene, butene, butadiene, isoprene, etc., copolymerization with other monomers, and a polymer mainly composed of a hydrocarbon skeleton such as a hydride or a halide of the obtained polymer Point. That is, it is preferable that the carboxyl group-containing polyolefin is obtained by grafting at least one of an?,? - unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride thereof to at least one of polyethylene, polypropylene and propylene -? - olefin copolymer.

프로필렌-α-올레핀 공중합체는, 프로필렌을 주체로 하고, 이것에 α-올레핀을 공중합한 것이다. α-올레핀으로는, 예컨대, 에틸렌, 1-부텐, 1-헵텐, 1-옥텐, 4-메틸-1-펜텐, 아세트산비닐 등을 1종 또는 여러 종류 이용할 수 있다. 이들 α-올레핀 중에서는, 에틸렌, 1-부텐이 바람직하다. 프로필렌-α-올레핀 공중합체의 프로필렌 성분과 α-올레핀 성분의 비율은 한정되지 않지만, 프로필렌 성분이 50 몰% 이상인 것이 바람직하고, 70 몰% 이상인 것이 보다 바람직하다. The propylene-? -Olefin copolymer is obtained by copolymerizing propylene with an? -Olefin. As the? -olefin, for example, one or more kinds of ethylene, 1-butene, 1-heptene, 1-octene, 4-methyl-1-pentene and vinyl acetate can be used. Of these? -Olefins, ethylene and 1-butene are preferable. The ratio of the propylene component to the -olefin component in the propylene-? -Olefin copolymer is not limited, but is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more.

α,β-불포화 카르복실산 및 그 산무수물의 적어도 1종으로는, 예컨대, 말레산, 이타콘산, 시트라콘산 및 이들의 산무수물을 들 수 있다. 이들 중에서도 산무수물이 바람직하고, 무수말레산이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 무수말레산 변성 폴리프로필렌, 무수말레산 변성 프로필렌-에틸렌 공중합체, 무수말레산 변성 프로필렌-부텐 공중합체, 무수말레산 변성 프로필렌-에틸렌-부텐 공중합체 등을 들 수 있고, 이들 산변성 폴리올레핀을 1종류 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the at least one of the?,? - unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride include maleic acid, itaconic acid, citraconic acid and their acid anhydrides. Of these, acid anhydrides are preferable, and maleic anhydride is more preferable. Specific examples thereof include a maleic anhydride-modified polypropylene, a maleic anhydride-modified propylene-ethylene copolymer, a maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer and a maleic anhydride-modified propylene-ethylene-butene copolymer. One or more modified polyolefins may be used in combination.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)의 산가는, 내열성 및 수지 기재나 금속 기재와의 접착성의 관점에서, 하한은 100 당량/106 g 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 200 당량/106 g 이상이고, 더욱 바람직하게는 250 당량/106 g이다. 상기 값 미만이면, 에폭시 수지(D), 카르보디이미드 수지(C)와의 상용성이 낮아, 접착 강도가 발현되지 않는 경우가 있다. 또한 가교 밀도가 낮아 내열성이 부족한 경우가 있다. 상한은 1000 당량/106 g 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 700 당량/106 g 이하이고, 더욱 바람직하게는 500 당량/106 g 이하이다. 상기 값을 넘으면, 접착성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 용액의 점도나 안정성이 저하되어, 포트라이프성이 저하되는 경우가 있다. 또한 제조 효율도 저하되기 때문에 바람직하지 않다. The acid value of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably 100 equivalents / 10 6 g or more, more preferably 200 equivalents / 10 6 g or more, in view of heat resistance and adhesiveness to the resin base material or the metal base material , More preferably 250 equivalents / 10 6 g. If it is less than the above-mentioned value, compatibility with the epoxy resin (D) and the carbodiimide resin (C) is low and the adhesive strength may not be exhibited. In addition, the crosslinking density is low and the heat resistance may be insufficient. The upper limit is preferably 1000 equivalents / 10 6 g or less, more preferably 700 equivalents / 10 6 g or less, and still more preferably 500 equivalents / 10 6 g or less. If the value is exceeded, the adhesiveness may be lowered. In addition, the viscosity and stability of the solution deteriorate, and the pot life may be deteriorated. And the production efficiency is lowered.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 10,000∼180,000의 범위인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 20,000∼160,000의 범위이고, 더욱 바람직하게는 30,000∼150,000의 범위이고, 특히 바람직하게는 40,000∼140,000의 범위이며, 가장 바람직하게는 50,000∼130,000의 범위이다. 상기 값 미만이면, 응집력이 약해져 접착성이 떨어지는 경우가 있다. 한편, 상기 값을 넘으면, 유동성이 낮아 접착할 때의 조작성에 문제가 생기는 경우가 있다. The weight average molecular weight (Mw) of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is preferably in the range of 10,000 to 180,000. More preferably in the range of 20,000 to 160,000, more preferably in the range of 30,000 to 150,000, particularly preferably in the range of 40,000 to 140,000, and most preferably in the range of 50,000 to 130,000. If it is less than the above-mentioned value, the cohesive force is weakened and the adhesive property may be deteriorated. On the other hand, when it exceeds the above-mentioned value, the fluidity is low and there is a problem in operability when bonding.

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)의 제조 방법으로는, 특별히 한정되지 않고, 예컨대 라디칼 그래프트 반응(즉 주쇄가 되는 폴리머에 대하여 라디칼종을 생성하고, 그 라디칼종을 중합 개시점으로 하여 불포화 카르복실산 및 산무수물을 그래프트 중합시키는 반응) 등을 들 수 있다. The method for producing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) is not particularly limited, and for example, a radical graft reaction (that is, a method in which a radical species is generated for a polymer as a main chain and an unsaturated carboxylic acid and / A reaction in which an acid anhydride is subjected to graft polymerization).

라디칼 발생제로는, 특별히 한정되지 않지만, 유기 과산화물을 사용하는 것이 바람직하다. 유기 과산화물로는, 특별히 한정되지 않지만, 디-tert-부틸퍼옥시프탈레이트, tert-부틸히드로퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 디-tert-부틸퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드 등의 과산화물; 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스이소프로피오니트릴 등의 아조니트릴류 등을 들 수 있다. The radical generator is not particularly limited, but it is preferable to use an organic peroxide. Examples of the organic peroxide include, but are not limited to, di-tert-butyl peroxyphthalate, tert-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, Peroxides such as ethyl hexanoate, tert-butyl peroxypivalate, methyl ethyl ketone peroxide, di-tert-butyl peroxide, and lauroyl peroxide; And azonitriles such as azobisisobutylonitrile, azobisisopropionitrile, and the like.

<접착제층> <Adhesive Layer>

본 발명에 있어서 접착제층이란, 접착제 조성물을 기재에 도포하고 건조시킨 후의 접착제 조성물의 층을 말한다. 접착제층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 5 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이상이다. 또한, 바람직하게는 200 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 100 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 50 ㎛ 이하이다. 두께가 지나치게 얇은 경우에는, 접착 성능을 충분히 얻을 수 없는 경우가 있고, 지나치게 두꺼운 경우에는, 건조가 불충분하고 잔류 용제가 많아지기 쉬워져, 프린트 배선판 제조의 프레스시에 기포가 생긴다고 하는 문제를 들 수 있다. The adhesive layer in the present invention refers to a layer of an adhesive composition after the adhesive composition is applied to a substrate and dried. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 5 占 퐉 or more, more preferably 10 占 퐉 or more, and further preferably 15 占 퐉 or more. Further, it is preferably 200 占 퐉 or less, more preferably 100 占 퐉 or less, and further preferably 50 占 퐉 or less. When the thickness is excessively thin, the adhesion performance may not be sufficiently obtained. When the thickness is too large, the drying is insufficient and the residual solvent tends to become large, and bubbles are generated at the time of press production of the printed wiring board have.

접착제 조성물을 기재 상에 코팅하는 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 콤마 코터, 리버스롤 코터 등을 들 수 있다. 혹은, 필요에 따라서, 프린트 배선판 구성 재료인 압연 동박, 또는 폴리이미드 필름에 직접 혹은 전사법으로 접착제층을 형성할 수도 있다. 건조 조건은 특별히 한정되지 않지만, 건조후의 잔류 용제율은 1 질량% 이하가 바람직하다. 1 질량%를 초과하면, 프린트 배선판 프레스시에 잔류 용제가 발포하여, 기포가 생긴다고 하는 문제를 들 수 있다. The method of coating the adhesive composition on the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a comma coater and a reverse roll coater. Alternatively, if necessary, the adhesive layer may be formed directly on the rolled copper foil or the polyimide film as the constituent material of the printed wiring board or by transferring. The drying conditions are not particularly limited, but the residual solvent ratio after drying is preferably 1% by mass or less. When the content exceeds 1% by mass, there is a problem that bubbles are formed due to foaming of the residual solvent at the time of pressing the printed wiring board.

<수지 기재> &Lt; Resin substrate &

본 발명에 있어서 수지 기재란, 본 발명의 접착제 조성물을 도포, 건조시켜, 접착제층을 형성할 수 있는 것이라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 필름형 수지 등의 수지 기재(이하, 기재 필름층이라고도 함)가 바람직하다. 구체적으로는, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 액정 폴리머(LCP), 폴리페닐렌술피드, 신디오택틱 폴리스티렌, 폴리올레핀계 수지 및 불소계 수지 등을 예시할 수 있다. LCP 필름의 시판품으로는, 예컨대 주식회사 쿠라레 제조의 벡스타(등록상표)를 들 수 있다. 또한, 폴리이미드 필름의 시판품으로는, 예컨대, 주식회사 카네카 제조의 아피칼(등록상표)을 들 수 있다. The resin base material in the present invention is not particularly limited as long as the adhesive composition of the present invention can be applied and dried to form an adhesive layer, but a resin base material such as a film-like resin (hereinafter also referred to as a base film layer) Do. Specific examples include polyester resins, polyamide resins, polyimide resins, polyamideimide resins, liquid crystal polymers (LCP), polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resins and fluorine resins. A commercially available product of the LCP film is, for example, Beckstar (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd. As a commercially available product of the polyimide film, for example, Apicel (registered trademark) manufactured by Kaneka Corporation can be mentioned.

수지 기재의 두께에 관해서는 특별히 한정은 없지만, 바람직하게는 1 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 3 ㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다. 또한, 바람직하게는 50 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 30 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이하이다. 두께가 지나치게 얇은 경우에는, 회로의 충분한 전기적 성능을 얻기 어려운 경우가 있는 한편, 두께가 지나치게 두꺼운 경우에는, 회로 제작시의 가공 능률 등이 저하되는 경우가 있다. 또한, 수지 기재의 비유전률(εc)은, 5.0 이하인 것이 바람직하고, 4.0 이하인 것이 보다 바람직하고, 3.5 이하인 것이 더욱 바람직하다. 하한치는 특별히 한정되지 않고, 공업적으로는 0.1 이상이라면 문제없다. The thickness of the resin base material is not particularly limited, but is preferably 1 占 퐉 or more, more preferably 3 占 퐉 or more, and further preferably 10 占 퐉 or more. Further, it is preferably 50 占 퐉 or less, more preferably 30 占 퐉 or less, and further preferably 20 占 퐉 or less. When the thickness is excessively thin, it is difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit. On the other hand, when the thickness is too large, the processing efficiency and the like at the time of circuit production may be lowered. The relative dielectric constant (? C ) of the resin substrate is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less, and further preferably 3.5 or less. The lower limit is not particularly limited, and there is no problem if it is 0.1 or more from an industrial point of view.

<금속 기재> &Lt; Metal substrate &

금속 기재로는, 회로 기판에 사용 가능한 임의의 종래 공지된 도전성 재료를 사용할 수 있다. 소재로는, SUS, 구리, 알루미늄, 철, 스틸, 아연, 니켈 등의 각종 금속, 및 각각의 합금, 도금품, 아연이나 크롬 화합물 등 다른 금속으로 처리한 금속 등을 예시할 수 있다. 바람직하게는 금속박이고, 보다 바람직하게는 동박이다. 금속박의 두께에 관해서는 특별히 한정은 없지만, 바람직하게는 1 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 3 ㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다. 또한, 바람직하게는 50 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 30 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이하 있다. 두께가 지나치게 얇은 경우에는, 회로의 충분한 전기적 성능을 얻기 어려운 경우가 있는 한편, 두께가 지나치게 두꺼운 경우에는 회로 제작시의 가공 능률 등이 저하되는 경우가 있다. 금속박은, 통상 롤형의 형태로 제공되어 있다. 본 발명의 프린트 배선판을 제조할 때에 사용되는 금속박의 형태는 특별히 한정되지 않는다. 리본형의 형태의 금속박을 이용하는 경우, 그 길이는 특별히 한정되지 않는다. 또한, 그 폭도 특별히 한정되지 않지만, 250∼500 cm 정도인 것이 바람직하다. As the metal substrate, any conventionally known conductive material usable for a circuit board can be used. Examples of the material include various metals such as SUS, copper, aluminum, iron, steel, zinc and nickel, and alloys, plated products and metals treated with other metals such as zinc and chromium compounds. It is preferably a metal foil, more preferably a copper foil. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 1 占 퐉 or more, more preferably 3 占 퐉 or more, and further preferably 10 占 퐉 or more. Further, it is preferably 50 占 퐉 or less, more preferably 30 占 퐉 or less, and further preferably 20 占 퐉 or less. When the thickness is too thin, it is difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit. On the other hand, when the thickness is excessively large, the processing efficiency at the time of circuit production may be lowered. The metal foil is usually provided in the form of a roll. The form of the metal foil used in producing the printed wiring board of the present invention is not particularly limited. When a metal foil in the form of a ribbon is used, its length is not particularly limited. The width is not particularly limited, but is preferably about 250 to 500 cm.

<적층체> <Laminate>

본 발명의 적층체(Z)는, 수지 기재와 금속 기재가 접착제층을 통해 적층한 것(수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체)이며, 적층체(X)는 수지 기재와 접착제층이 적층된 것(수지 기재/접착제층)이며, 적층체(Y)는 금속 기재와 접착제층이 적층된 것(금속 기재/접착제층)이다. 본 발명에서는, 적층체(X), 적층체(Y) 및 적층체(Z)를 아울러 단순히 적층체라고 하는 경우가 있다. 적층체(X)는, 접착제 조성물을 통상의 방법에 따라서, 수지 기재에 도포, 건조시킴으로써 얻어진다. 또한, 적층체(Y)는, 접착제 조성물을 통상의 방법에 따라서, 금속 기재에 도포, 건조시킴으로써 얻어진다. 적층체(Z)는, 적층체(X) 또는 적층체(Y)에 각각 금속 기재 또는 수지 기재를 적층함으로써 얻을 수 있다. 적층체(X) 또는 적층체(Y)의 접착제층의 면에 이형 기재를 적층할 수도 있다. 또한, 적층체(Z)의 수지 기재 또는 금속 기재에 접착제층을 더 적층(접착제층/수지 기재/접착제층/금속 기재, 수지 기재/접착제층/금속 기재/접착제층, 접착제층/수지 기재/접착제층/금속 기재/접착제층)하더라도 지장이 없다.The laminate (Z) of the present invention is a laminate of a resin base material and a metal base material through an adhesive layer (a three-layer laminate of resin base material / adhesive layer / metal base material) (Resin substrate / adhesive layer), and the layered product Y is a laminate of a metal substrate and an adhesive layer (metal substrate / adhesive layer). In the present invention, the layered product (X), the layered product (Y) and the layered product (Z) may be simply referred to as a laminate. The layered product (X) is obtained by applying the adhesive composition to a resin base material and drying it by a conventional method. Further, the layered product (Y) is obtained by applying the adhesive composition to a metal substrate and drying the same by a conventional method. The layered product (Z) can be obtained by laminating a metal substrate or a resin substrate on the layered product (X) or the layered product (Y), respectively. The releasing base material may be laminated on the surface of the adhesive layer of the layered product (X) or the layered product (Y). Further, an adhesive layer is further laminated (adhesive layer / resin substrate / adhesive layer / metal substrate, resin substrate / adhesive layer / metal substrate / adhesive layer, adhesive layer / resin substrate / resin substrate / Adhesive layer / metal substrate / adhesive layer).

본 발명의 적층체는, 또한 하기 요건 (1)∼(4)를 만족한다. The laminate of the present invention further satisfies the following requirements (1) to (4).

<요건 (1)> <Requirement (1)>

요건 (1)에 관해 설명한다. 본원발명에 관한 적층체(Z)는, 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하인 것이 필요하다. 구체적으로는, 접착제 조성물을 이형 기재에 건조후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하고, 약 130℃에서 약 3분간 건조시킨다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 경화후의 접착제 조성물층(접착제층)을 이형 필름으로부터 박리한다. 박리후의 상기 접착제 조성물층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)을 측정한다. 비유전률(εc)은 3.0 이하이고, 바람직하게는 2.6 이하이고, 보다 바람직하게는 2.3 이하이다. 하한은 특별히 한정되지 않지만, 실용상은 2.0이다. 또한, 주파수 1 MHz∼10 GHz의 전영역에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하인 것이 바람직하고, 2.6 이하인 것이 보다 바람직하고, 2.3 이하인 것이 더욱 바람직하다. The requirement (1) will be described. In the layered product (Z) of the present invention, it is necessary that the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of 3.0 or less. Specifically, the adhesive composition is applied to the release-type substrate so that the thickness after drying becomes 25 占 퐉 and dried at about 130 占 폚 for about 3 minutes. Then, it is cured by heat treatment at about 140 캜 for about 4 hours to peel the cured adhesive composition layer (adhesive layer) from the release film. The relative permittivity (? C ) of the adhesive composition layer after peeling at a frequency of 1 MHz is measured. The relative dielectric constant (? C ) is 3.0 or less, preferably 2.6 or less, and more preferably 2.3 or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically 2.0. Further, it is preferable that the relative permittivity (? C ) in the entire frequency range of 1 MHz to 10 GHz is 3.0 or less, more preferably 2.6 or less, and further preferably 2.3 or less.

적층체(Z)에서의 접착제층의 비유전률(εc)은 이하와 같이 측정할 수 있다. 즉, 적층체(Z)의 금속 기재를 에칭액으로 깨끗이 제거하여, 접착제층과 수지 기재의 2층의 적층체(X)를 얻는다. 에칭액은 특별히 한정되지 않고, 염화 제2철 수용액, 염화 제2동 수용액, 황산과산화수소수 혼액, 알칼리 에칭제, 니켈 에칭제 등을 사용할 수 있다. 이어서, 적층체(X)의 수지 기재를 깨끗이 박리(제거)하고, 남은 접착제층의 양면에 증착, 스퍼터링법 등의 박막법, 또는 도전성 페이스트의 도포 등의 수법에 의해 금속층을 형성하여 콘덴서로 하고, 정전 용량을 측정하여 두께와 면적으로부터 비유전률(εc)을 산출하는 방법을 예시할 수 있다. 또한 다른 방법으로서, 적층체(X)의 수지 기재면에 전술한 방법에 의해 금속층을 형성하여 콘덴서로 하고, 수지 기재와 접착제층의 합성 정전 용량 비유전률(εc)을 측정해 놓은 후, 적층체(X)로부터 금속층과 접착제층을 깨끗이 박리(제거)하고, 남은 수지 기재의 비유전률(εc)을 동일하게 콘덴서화하여 정전 용량을 측정한다. 적층체(X)로부터 얻어진 콘덴서의 유전층은, 수지 기재와 접착제층의 복층 유전체로 간주할 수 있기 때문에, 양자의 차로부터 접착제층의 비유전률(εc)을 산출할 수 있다. The relative dielectric constant (? C ) of the adhesive layer in the layered product (Z) can be measured as follows. That is, the metal substrate of the layered product (Z) is cleanly removed with an etching solution to obtain a laminate (X) of two layers of an adhesive layer and a resin substrate. The etching solution is not particularly limited, and an aqueous solution of ferric chloride, an aqueous solution of cupric chloride, a mixed aqueous solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, an alkali etchant, a nickel etchant, and the like can be used. Subsequently, the resin base material of the layered product (X) is cleanly peeled (removed), and a metal layer is formed on both surfaces of the remaining adhesive layer by a thin film method such as evaporation or sputtering or by applying a conductive paste, , And measuring the capacitance to calculate the relative permittivity (? C ) from the thickness and the area. As another method, after a metal layer is formed on the resin base surface of the layered product (X) by a method as described above to measure a composite capacitance relative permittivity (? C ) between the resin base material and the adhesive layer, The metal layer and the adhesive layer are cleanly peeled (removed) from the body X and the relative dielectric constant (epsilon c ) of the remaining resin base material is made equal to that of the capacitor to measure the capacitance. Since the dielectric layer of the capacitor obtained from the layered product (X) can be regarded as a multilayer dielectric of the resin base material and the adhesive layer, the relative permittivity (? C ) of the adhesive layer can be calculated from the difference between them.

<요건 (2)> <Requirement (2)>

요건 (2)에 관해 설명한다. 본원발명에 관한 적층체(Z)는, 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하인 것이 필요하다. 구체적으로는, 접착제 조성물을 이형 기재에 건조후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하고, 약 130℃에서 약 3분간 건조시킨다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 경화후의 접착제 조성물층(접착제층)을 이형 필름으로부터 박리한다. 박리후의 상기 접착제 조성물의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)을 측정한다. 유전 정접(tanδ)은 0.02 이하이고, 바람직하게는 0.01 이하이고, 보다 바람직하게는 0.005 이하이다. 하한은 특별히 한정되지 않지만, 실용상은 0.0001이다. 또한, 주파수 1 MHz∼10 GHz의 전영역에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하인 것이 바람직하고, 0.01 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.005 이하인 것이 더욱 바람직하다. The requirement (2) will be described. The layered product (Z) of the present invention needs to have a dielectric loss tangent (tan?) Of 0.02 or less at a frequency of 1 MHz for the adhesive layer. Specifically, the adhesive composition is applied to the release-type substrate so that the thickness after drying becomes 25 占 퐉 and dried at about 130 占 폚 for about 3 minutes. Then, it is cured by heat treatment at about 140 캜 for about 4 hours to peel the cured adhesive composition layer (adhesive layer) from the release film. The dielectric tangent (tan?) Of the adhesive composition after peeling at a frequency of 1 MHz is measured. The dielectric loss tangent (tan?) Is 0.02 or less, preferably 0.01 or less, and more preferably 0.005 or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically 0.0001. The dielectric loss tangent (tan?) In the entire frequency range of 1 MHz to 10 GHz is preferably 0.02 or less, more preferably 0.01 or less, and even more preferably 0.005 or less.

적층체(Z)에서의 접착제층의 유전 정접(tanδ)에 관해서도, 상기 유전율과 동일한 조작으로 측정할 수 있다. The dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer in the layered product (Z) can also be measured by the same operation as the above dielectric constant.

<요건 (3)> <Requirement (3)>

요건 (3)에 관해 설명한다. 본원발명에 관한 적층체(Z)는, 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상인 것이 필요하다. 구체적으로는, 접착제 조성물을 수지 기재에 건조후의 두께가 약 25 ㎛가 되도록 도포하고, 약 130℃에서 약 3분간 건조시킨다. 이어서 접착제 조성물층(접착제층)의 면에 금속 기재를 접합한다. 접합은, 금속 기재의 광택면이 접착제 조성물층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상온(약 25℃)에서, 상기 적층체(Z)의 수지 기재를 인장 속도 50 mm/min로 90° 박리하여, 박리 강도를 측정한다. 90° 박리 강도는 0.5 N/mm 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 0.8 N/mm 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 N/mm 이상이다. 또, 상기 방법 이외의 방법으로 제작된 적층체(Z)라 하더라도, 90° 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이면 본 발명에 포함된다. The requirement (3) will be described. The layered product (Z) of the present invention is required to have a peel strength of 0.5 N / mm or more between the resin base material and the metal base material. Specifically, the adhesive composition is applied to the resin base material so that the thickness after drying becomes about 25 占 퐉, and is dried at about 130 占 폚 for about 3 minutes. Subsequently, a metal substrate is bonded to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer). The bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 캜 so that the glossy surface of the metal base is in contact with the adhesive composition layer. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At a room temperature (about 25 ° C), the resin base of the layered product (Z) is peeled at 90 ° at a tensile rate of 50 mm / min to measure the peel strength. The 90 占 peel strength is required to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more. Even if the layered product (Z) is produced by a method other than the above-mentioned method, it is included in the present invention if the 90 DEG peel strength is 0.5 N / mm or more.

적층체(X)로부터는, 적층체(X)의 접착제 조성물층(접착제층)의 면에 금속 기재를 접합함으로써 본 발명의 적층체(Z)를 얻을 수 있다. 접합은, 금속 기재의 광택면이 접착제 조성물층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상온(약 25℃)에서, 상기 적층체(Z)의 수지 기재를 인장 속도 50 mm/min로 90° 박리하여, 박리 강도를 측정한다. 90° 박리 강도는 0.5 N/mm 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 0.8 N/mm 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 N/mm 이상이다. The laminate (Z) of the present invention can be obtained from the laminate (X) by bonding a metal base material to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (X). The bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 캜 so that the glossy surface of the metal base is in contact with the adhesive composition layer. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At a room temperature (about 25 ° C), the resin base of the layered product (Z) is peeled at 90 ° at a tensile rate of 50 mm / min to measure the peel strength. The 90 占 peel strength is required to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

적층체(Y)로부터는, 적층체(Y)의 접착제 조성물층(접착제층)의 면에 수지 기재를 접합함으로써 본 발명의 적층체(Z)를 얻을 수 있다. 접합은, 수지 기재가 접착제 조성물층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서, 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상온(약 25℃)에서, 상기 적층체(Z)의 수지 기재를 인장 속도 50 mm/min로 90° 박리하여, 박리 강도를 측정한다. 90° 박리 강도는 0.5 N/mm 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 0.8 N/mm 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 N/mm 이상이다. The laminate (Z) of the present invention can be obtained from the laminate (Y) by bonding a resin substrate to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (Y). The bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm &lt; 2 &gt; at about 160 DEG C such that the resin substrate is in contact with the adhesive composition layer. Then, it is cured by heat treatment at about 140 占 폚 for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of resin base material / adhesive layer / metal base material. At a room temperature (about 25 ° C), the resin base of the layered product (Z) is peeled at 90 ° at a tensile rate of 50 mm / min to measure the peel strength. The 90 占 peel strength is required to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

접착제층으로부터는, 접착제층의 한쪽 면에 수지 기재를 접합하고, 다른쪽 면에 금속 기재의 광택면을 접합함으로써 본 발명의 적층체(Z)를 얻을 수 있다. 접합은, 이형 기재/접착제층과 수지 기재를 약 100℃에서 약 3 kgf/㎠의 가압하에 약 1 m/min 롤라미네이트하여 접합한 후, 이형 기재를 박리하고, 금속 기재의 광택면이 접착제층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상온(약 25℃)에서, 상기 적층체(Z)의 수지 기재를 인장 속도 50 mm/min로 90° 박리하여, 박리 강도를 측정한다. 90° 박리 강도는 0.5 N/mm 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 0.8 N/mm 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 N/mm 이상이다. From the adhesive layer, the laminate (Z) of the present invention can be obtained by bonding a resin base material to one surface of an adhesive layer and bonding a glossy surface of a metal base to the other surface. The bonding is performed by roll lamination of the releasing substrate / adhesive layer and the resin substrate at about 100 ° C under a pressure of about 3 kgf / cm 2 at about 1 m / min to peel off the releasing base material, And vacuum-pressed at about 160 DEG C for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm &lt; 2 &gt;. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. At a room temperature (about 25 ° C), the resin base of the layered product (Z) is peeled at 90 ° at a tensile rate of 50 mm / min to measure the peel strength. The 90 占 peel strength is required to be 0.5 N / mm or more, preferably 0.8 N / mm or more, and more preferably 1.0 N / mm or more.

<요건 (4)> <Requirement (4)>

요건 (4)에 관해 설명한다. 본원발명에 관한 적층체(Z)는, 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것이 필요하다. 구체적으로는, 접착제 조성물을 수지 기재에, 건조후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하고, 약 130℃에서 약 3분간 건조시킨다. 이어서 접착제 조성물층(접착제층)의 면에 금속 기재를 접합한다. 접합은, 금속 기재의 광택면이 접착제 조성물층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상기 적층체(Z)를 약 40℃, 약 80 RH%의 조건 하에서 약 72시간 처리를 행하고, 각 온도에서 용융한 땜납욕에 1분간 플로우하여, 부풀어오름 등의 외관 변화를 일으키지 않는 온도를 측정한다. 가습 땜납 내열성은 240℃ 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 250℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 260℃ 이상이다. 또, 상기 방법 이외의 방법으로 제작된 적층체(Z)라 하더라도, 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상이면 본 발명에 포함된다. The requirement (4) will be described. The layered product (Z) according to the present invention needs to have a heat resistance of humidifying solder of 240 DEG C or more. Specifically, the adhesive composition is applied to a resin substrate so that the thickness after drying becomes 25 占 퐉 and dried at about 130 占 폚 for about 3 minutes. Subsequently, a metal substrate is bonded to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer). The bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 캜 so that the glossy surface of the metal base is in contact with the adhesive composition layer. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) was treated for about 72 hours under the conditions of about 40 캜 and about 80 RH%, and the solder bath was melted at each temperature for one minute to measure the temperature at which the appearance change such as swelling did not occur do. Humidifying solder heat resistance is required to be 240 占 폚 or higher, preferably 250 占 폚 or higher, and more preferably 260 占 폚 or higher. Even if the layered product (Z) is produced by a method other than the above-mentioned method, it is included in the present invention if the heat resistance of the humidifying solder is 240 캜 or higher.

적층체(X)로부터는, 적층체(X)의 접착제 조성물층(접착제층)의 면에 금속 기재를 접합함으로써 본 발명의 적층체(Z)를 얻을 수 있다. 접합은, 금속 기재의 광택면이 접착제 조성물층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상기 적층체(Z)를 약 40℃, 약 80 RH%의 조건 하에서 약 72시간 처리를 행하고, 각 온도에서 용융한 땜납욕에 1분간 플로우하여, 부풀어오름 등의 외관 변화를 일으키지 않는 온도를 측정한다. 가습 땜납 내열성은 240℃ 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 250℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 260℃ 이상이다. The laminate (Z) of the present invention can be obtained from the laminate (X) by bonding a metal base material to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (X). The bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 캜 so that the glossy surface of the metal base is in contact with the adhesive composition layer. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) was treated for about 72 hours under the conditions of about 40 캜 and about 80 RH%, and the solder bath was melted at each temperature for one minute to measure the temperature at which the appearance change such as swelling did not occur do. Humidifying solder heat resistance is required to be 240 占 폚 or higher, preferably 250 占 폚 or higher, and more preferably 260 占 폚 or higher.

적층체(Y)로부터는, 적층체(Y)의 접착제 조성물층(접착제층)의 면에 수지 기재를 접합함으로써 본 발명의 적층체(Z)를 얻을 수 있다. 접합은, 수지 기재가 접착제 조성물층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상기 적층체(Z)를 약 40℃, 약 80 RH%의 조건 하에서 약 72시간 처리를 행하고, 각 온도에서 용융한 땜납욕에 1분간 플로우하여, 부풀어오름 등의 외관 변화를 일으키지 않는 온도를 측정한다. 가습 땜납 내열성은 240℃ 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 250℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 260℃ 이상이다. The laminate (Z) of the present invention can be obtained from the laminate (Y) by bonding a resin substrate to the surface of the adhesive composition layer (adhesive layer) of the laminate (Y). The bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm &lt; 2 &gt; at about 160 DEG C such that the resin substrate is in contact with the adhesive composition layer. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) was treated for about 72 hours under the conditions of about 40 캜 and about 80 RH%, and the solder bath was melted at each temperature for one minute to measure the temperature at which the appearance change such as swelling did not occur do. Humidifying solder heat resistance is required to be 240 占 폚 or higher, preferably 250 占 폚 or higher, and more preferably 260 占 폚 or higher.

또한, 접착제층으로부터는, 접착제층의 한쪽 면에 수지 기재를 접합하고, 다른쪽 면에 금속 기재의 광택면을 접합함으로써 본 발명의 적층체(Z)를 얻을 수 있다. 접합은, 접착제층과 수지 기재를 접합한 후, 금속 기재의 광택면이 접착제층과 접하도록 하여, 약 160℃에서 약 40 kgf/㎠의 가압하에 약 30초간 진공 프레스하여 접착한다. 이어서 약 140℃에서 약 4시간 열처리하여 경화시켜, 수지 기재/접착제층/금속 기재의 3층 적층체(Z)를 제작한다. 상기 적층체(Z)를 약 40℃, 약 80 RH%의 조건 하에서 약 72시간 처리를 행하고, 각 온도에서 용융한 땜납욕에 1분간 플로우하여, 부풀어오름 등의 외관 변화를 일으키지 않는 온도를 측정한다. 가습 땜납 내열성은 240℃ 이상인 것이 필요하고, 바람직하게는 250℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 260℃ 이상이다. Further, the laminate (Z) of the present invention can be obtained from the adhesive layer by bonding a resin base material to one side of the adhesive layer and bonding a glossy surface of a metal base to the other side. After bonding the adhesive layer and the resin base material, the bonding is performed by vacuum pressing for about 30 seconds under a pressure of about 40 kgf / cm 2 at about 160 ° C so that the glossy surface of the metal base contacts the adhesive layer. And then cured by heat treatment at about 140 ° C for about 4 hours to prepare a three-layer laminate (Z) of a resin base material / adhesive layer / metal base material. The laminate (Z) was treated for about 72 hours under the conditions of about 40 캜 and about 80 RH%, and the solder bath was melted at each temperature for one minute to measure the temperature at which the appearance change such as swelling did not occur do. Humidifying solder heat resistance is required to be 240 占 폚 or higher, preferably 250 占 폚 or higher, and more preferably 260 占 폚 or higher.

<접착제 조성물> &Lt; Adhesive composition >

본 발명에 이용하는 접착제 조성물은, 적어도 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 것이다. 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 함유함으로써, 상기 접착제 조성물로 이루어진 접착제층을 통한 적층체가 상기 (1)∼(4)의 우수한 성능을 발현할 수 있다. The adhesive composition used in the present invention comprises at least a carboxyl group-containing polyolefin resin (A). By containing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the laminate through the adhesive layer composed of the above adhesive composition can exhibit the above-mentioned excellent performances of (1) to (4).

본 발명의 접착제 조성물은, 상기 (A) 성분 외에, 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)(이하, 단순히 (B) 성분이라고도 함), 카르보디이미드 수지(C)(이하, 단순히 (C) 성분이라고도 함) 및/또는 에폭시 수지(D)(이하, 단순히 (D) 성분이라고도 함)를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 (A) 성분∼(D) 성분의 4종류의 수지를 함유함으로써, 종래의 폴리이미드, 폴리에스테르 필름뿐만 아니라, 종래 기술에서는 상정되지 않았던 LCP 필름 등의 저극성 수지 기재라 하더라도, 금속 기재와 높은 접착성을 가지며, 높은 땜납 내열성을 얻을 수 있고, 또한 저유전 특성이 우수하다. The adhesive composition of the present invention may contain, in addition to the above component (A), a carboxyl group-containing styrene resin (B) (hereinafter, simply referred to as component (B)) or a carbodiimide resin (hereinafter also referred to simply as component (C) ) And / or an epoxy resin (D) (hereinafter, also simply referred to as component (D)). By containing the four types of resins (A) to (D), not only conventional polyimide and polyester films but also low-polarity resin base materials such as LCP films, which have not been assumed in the prior art, High adhesiveness, high solder heat resistance, and low dielectric property.

<카르복실기 함유 스티렌 수지(B)> &Lt; Carboxyl group-containing styrene resin (B)

본 발명에서 이용할 수 있는 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)는 한정적이지 않지만, 방향족 비닐 화합물 단독 혹은, 방향족 비닐 화합물과 공액 디엔 화합물의 블록 및/또는 랜덤 구조를 주체로 하는 공중합체, 및 그 수소 첨가물을, 불포화 카르복실산으로 변성한 것인 것이 바람직하다. 방향족 비닐 화합물로는 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 스티렌, t-부틸스티렌, α-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 1,1-디페닐스티렌, N,N-디에틸-p-아미노에틸스티렌, 비닐톨루엔, p-제3부틸스티렌 등을 들 수 있다. 또한, 공액 디엔 화합물로는, 예컨대, 부타디엔, 이소프렌, 1,3-펜타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다. 이들 방향족 비닐 화합물과 공액 디엔 화합물의 공중합체의 구체예로는, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SEBS), 스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌 블록 공중합체(SEPS), 스티렌-에틸렌-에틸렌ㆍ프로필렌-스티렌 블록 공중합체(SEEPS) 등을 들 수 있다. The carboxyl group-containing styrene resin (B) usable in the present invention is not limited, but may be a copolymer of aromatic vinyl compound alone or a block and / or random structure of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound, , And those modified with an unsaturated carboxylic acid. Examples of the aromatic vinyl compound include, but are not limited to, styrene, t-butylstyrene,? -Methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylstyrene, N, Ethyl styrene, vinyl toluene, p-tert-butyl styrene, and the like. Examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like. Specific examples of the copolymer of the aromatic vinyl compound and the conjugated diene compound include styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS) Ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEEPS), and the like.

카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 변성은, 예컨대, 스티렌 수지의 중합시에, 불포화 카르복실산을 공중합시킴으로써 행할 수 있다. 또한, 스티렌 수지와 불포화 카르복실산을 유기 퍼옥사이드의 존재하에 가열, 혼련함으로써 행할 수도 있다. 불포화 카르복실산으로는, 특별히 한정되지 않고, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 무수말레산, 무수이타콘산, 무수푸마르산 등을 들 수 있다. Modification of the carboxyl group-containing styrene resin (B) can be performed, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid at the time of polymerization of the styrene resin. It is also possible to heat and knead a styrene resin and an unsaturated carboxylic acid in the presence of an organic peroxide. The unsaturated carboxylic acid is not particularly limited and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, and fumaric anhydride.

카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 산가는, 내열성 및 수지 기재나 금속 기재와의 접착성의 관점에서, 하한은 10 당량/106 g 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 당량/106 g 이상이고, 더욱 바람직하게는 150 당량/106 g이다. The acid value of the carboxyl group-containing styrene resin (B) is preferably 10 equivalents / 10 6 g or more, more preferably 100 equivalents / 10 6 g or more, in view of heat resistance and adhesiveness with the resin base material or the metal base material , More preferably 150 equivalents / 10 6 g.

상기 값 미만이면, 에폭시 수지(D), 카르보디이미드 수지(C)와의 상용성이 낮아, 접착 강도가 발현되지 않는 경우가 있다. 또한 가교 밀도가 낮아 내열성이 부족한 경우가 있다. 상한은 1000 당량/106 g 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 700 당량/106 g 이하이고, 더욱 바람직하게는 500 당량/106 g 이하이다. 상기 값을 넘으면, 접착성, 저유전 특성이 저하되는 경우가 있다. If it is less than the above-mentioned value, compatibility with the epoxy resin (D) and the carbodiimide resin (C) is low and the adhesive strength may not be exhibited. In addition, the crosslinking density is low and the heat resistance may be insufficient. The upper limit is preferably 1000 equivalents / 10 6 g or less, more preferably 700 equivalents / 10 6 g or less, and still more preferably 500 equivalents / 10 6 g or less. If it exceeds the above value, the adhesiveness and the low dielectric property may be lowered.

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에 있어서, 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 함유량은, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A) 5∼95 질량부에 대하여, 카르복실기 함유 스티렌 수지(B) 95∼5 질량부의 범위인 것, 즉 (A) 성분/(B) 성분=5∼95/95∼5(질량비)인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 (A) 성분/(B) 성분 10∼90/90∼10(질량비)이고, 가장 바람직하게는 (A) 성분/(B) 성분=15∼85/85∼15(질량비)의 범위이다. (A) 성분량이 상기 값 미만이면, 가교 밀도가 저하되어, 가습 땜납 내열성이 저하되는 경우가 있다. (A) 성분량이 상기 값을 넘으면, 기재에 대한 습윤성이 저하되어, 접착 강도가 저하되는 경우가 있다. In the adhesive composition for use in the present invention, the content of the carboxyl group-containing styrene resin (B) is preferably in the range of 95 to 5 parts by mass based on the carboxyl group-containing styrene resin (B) relative to 5 to 95 parts by mass of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) , That is, the component (A) / the component (B) = 5 to 95/95 to 5 (mass ratio). More preferably, the component (A) / component (B) is 10 to 90/90 to 10 (mass ratio), and most preferably the component (A) / component (B) is 15 to 85/85 to 15 Range. If the amount of the component (A) is less than the above-mentioned range, the crosslinking density is lowered and the heat resistance of the humidifying solder may be lowered. If the amount of the component (A) exceeds the above-mentioned range, the wettability to the substrate decreases, and the adhesive strength may be lowered.

<카르보디이미드 수지(C)> &Lt; Carbodiimide resin (C) >

카르보디이미드 수지(C)로는, 분자 내에 카르보디이미드기를 갖는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 바람직하게는 분자 내에 카르보디이미드기를 2개 이상 갖는 폴리카르보디이미드이다. 카르보디이미드 수지(C)를 사용함으로써, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A) 또는 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 카르복실기와 카르보디이미드가 반응하여, 접착제 조성물과 기재의 상호작용을 높여 접착성을 향상시킬 수 있다. The carbodiimide resin (C) is not particularly limited as long as it has a carbodiimide group in the molecule. And is preferably a polycarbodiimide having two or more carbodiimide groups in the molecule. By using the carbodiimide resin (C), the carboxyl group of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) or the carboxyl group-containing styrene resin (B) reacts with the carbodiimide to increase the interaction between the adhesive composition and the substrate, .

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에 있어서, 카르보디이미드 수지(C)의 함유량은, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)와 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 합계 100 질량부에 대하여, 0.1∼30 질량부의 범위인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 1∼25 질량부의 범위이고, 가장 바람직하게는 2∼20 질량부의 범위이다. 상기 값 미만이면, 기재와의 상호작용이 발현되지 않아, 접착성이 저하되는 문제가 있다. 상기 값을 넘으면, 접착제의 포트라이프가 저하되고, 저유전 특성이 저하되는 문제가 있다. The content of the carbodiimide resin (C) in the adhesive composition used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B) . More preferably in the range of 1 to 25 parts by mass, and most preferably in the range of 2 to 20 parts by mass. If it is less than the above-mentioned value, there is a problem that the interaction with the substrate is not expressed and the adhesiveness is lowered. If the value is exceeded, there is a problem that the port life of the adhesive is lowered and the low dielectric property is lowered.

<에폭시 수지(D)> &Lt; Epoxy resin (D) >

에폭시 수지(D)로는, 분자 중에 글리시딜기를 갖는 것이라면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 분자 중에 2개 이상의 글리시딜기를 갖는 것이다. 구체적으로는, 특별히 한정되지 않지만, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜파라아미노페놀, 테트라글리시딜비스아미노메틸시클로헥사논, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 이용할 수 있다. 바람직하게는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지 또는 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지이다. The epoxy resin (D) is not particularly limited as long as it has a glycidyl group in the molecule, and preferably has two or more glycidyl groups in the molecule. Specific examples include, but are not limited to, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, novolak type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins , Tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexanone, and N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine. At least one selected from the group can be used. Preferred are bisphenol A type epoxy resins, novolak type epoxy resins, or dicyclopentadiene type epoxy resins.

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에 있어서, 에폭시 수지(D)의 함유량은, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)와 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1∼30 질량부의 범위인 것이 바람직하고, 2∼15 질량부의 범위인 것이 보다 바람직하고, 3∼10 질량부의 범위인 것이 가장 바람직하다. 상기 범위 미만이면 충분한 경화 효과를 얻을 수 없어 접착성 및 내열성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 상기 범위 이상은, 접착제의 포트라이프가 저하되고, 저유전 특성이 저하되는 문제가 있다. The content of the epoxy resin (D) in the adhesive composition used in the present invention is preferably in the range of 1 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the total of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group-containing styrene resin (B) More preferably from 2 to 15 parts by mass, and most preferably from 3 to 10 parts by mass. When the amount is less than the above range, a sufficient curing effect can not be obtained and adhesiveness and heat resistance may be lowered. Above the above range, there is a problem that the port life of the adhesive is lowered and the low dielectric property is lowered.

본 발명에 이용하는 접착제 조성물은, 유기 용제를 더 함유할 수 있다. 본 발명에서 이용하는 유기 용제는, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A), 카르복실기 함유 스티렌 수지(B), 카르보디이미드 수지(C) 및 에폭시 수지(D)를 용해시키는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 예컨대, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸 등의 지방족계 탄화수소, 시클로헥산, 시클로헥센, 메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산 등의 지환족 탄화수소, 트리클로로에틸렌, 디클로로에틸렌, 클로로벤젠, 클로로포름 등의 할로겐화탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알콜, 부탄올, 펜타놀, 헥사놀, 프로판디올, 페놀 등의 알콜계 용제, 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 펜타논, 헥사논, 시클로헥사논, 이소포론, 아세토페논 등의 케톤계 용제, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸, 포름산부틸 등의 에스테르계 용제, 에틸렌글리콜모노 n-부틸에테르, 에틸렌글리콜모노 iso-부틸에테르, 에틸렌글리콜모노 tert-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노 n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노 iso-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노 n-부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노 n-부틸에테르 등의 글리콜에테르계 용제 등을 사용할 수 있고, 이들 1종 또는 2종 이상을 병용할 수 있다. The adhesive composition used in the present invention may further contain an organic solvent. The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves the carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C) and the epoxy resin (D). Specific examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane and decane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane and ethylcyclohexane, Halogenated hydrocarbons such as ethylene, dichloroethylene, chlorobenzene and chloroform, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol and phenol, acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone , Ketone solvents such as pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone and acetophenone, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, formic acid Butyl, etc .; ester solvents such as ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol mono isobutyl ether, ethylene glycol mono tert-butyl ether, di Glycol ether type solvents such as ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono isobutyl ether, triethylene glycol mono n-butyl ether and tetraethylene glycol mono n-butyl ether. Two or more species can be used in combination.

유기 용제는, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)와 카르복실기 함유 스티렌 수지(B)의 합계 100 질량부에 대하여, 100∼1000 질량부의 범위인 것이 바람직하고, 200∼900 질량부의 범위인 것이 보다 바람직하고, 300∼800 질량부의 범위인 것이 가장 바람직하다. 상기 범위 미만이면, 액상 및 포트라이프성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 상기 범위를 넘으면 제조 비용, 수송 비용의 면에서 불리해지는 문제가 있다. The organic solvent is preferably in the range of 100 to 1000 parts by mass, more preferably 200 to 900 parts by mass, more preferably in the range of 200 to 900 parts by mass based on 100 parts by mass of the total of the carboxyl group-containing polyolefin resin (A) and the carboxyl group- And most preferably in the range of 300 to 800 parts by mass. If the amount is less than the above range, the liquid phase and the port life may be deteriorated. In addition, if it exceeds the above range, there is a problem in that it becomes disadvantageous in terms of manufacturing cost and transportation cost.

또한, 본 발명에 이용하는 접착제 조성물에는, 다른 성분을 필요에 따라서 더 함유해도 좋다. 이러한 성분의 구체예로는, 난연제, 점착성 부여제, 필러, 실란커플링제를 들 수 있다. The adhesive composition used in the present invention may further contain other components as required. Specific examples of such components include flame retardants, tackifiers, fillers, and silane coupling agents.

<난연제> <Flame Retardant>

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에는 필요에 따라서 난연제를 배합해도 좋다. 난연제로는, 브롬계, 인계, 질소계, 수산화금속 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 인계 난연제가 바람직하고, 인산에스테르, 예컨대, 트리메틸포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리크레딜포스페이트 등, 인산염, 예컨대 포스핀산알루미늄 등, 포스파젠 등의 공지된 인계 난연제를 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 임의로 조합하여 사용해도 좋다. 난연제를 함유시키는 경우, (A)∼(D) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 난연제를 1∼200 질량부의 범위에서 함유시키는 것이 바람직하고, 5∼150 질량부의 범위가 보다 바람직하고, 10∼100 질량부의 범위가 가장 바람직하다. 상기 범위 미만이면, 난연성이 낮은 경우가 있다. 상기 범위를 넘으면 접착성, 내열성, 전기 특성 등이 악화되는 문제가 있다. A flame retardant may be added to the adhesive composition used in the present invention, if necessary. Examples of the flame retardant include bromine, phosphorus, nitrogen, and metal hydroxide compounds. Among them, phosphorus-based flame retardants are preferable, and phosphate-based flame retardants such as phosphates, such as phosphates, such as phosphates, such as trimethyl phosphate, triphenyl phosphate and tricresyl phosphate, can be used. These may be used alone or in combination of two or more. When the flame retardant is contained, the content of the flame retardant is preferably in the range of 1 to 200 parts by mass, more preferably 5 to 150 parts by mass, and still more preferably 5 to 150 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the components (A) Most preferably 100 parts by mass. If it is less than the above range, flame retardancy may be low. Beyond the above range, there is a problem that adhesiveness, heat resistance, electric characteristics and the like are deteriorated.

<점착성 부여제> &Lt; Adhesion imparting agent >

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에는 필요에 따라서 점착 부여제를 배합해도 좋다. 점착성 부여제로는, 폴리테르펜 수지, 로진계 수지, 지방족계 석유 수지, 지환족계 석유 수지, 공중합계 석유 수지, 스티렌 수지 및 수소 첨가 석유 수지 등을 들 수 있고, 접착 강도를 향상시킬 목적으로 이용된다. 이들은 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 임의로 조합하여 사용해도 좋다. The adhesive composition used in the present invention may optionally contain a tackifier. Examples of the tackifier include polyterpene resin, rosin resin, aliphatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, copolymer petroleum resin, styrene resin and hydrogenated petroleum resin, and is used for the purpose of improving the bonding strength . These may be used alone or in combination of two or more.

<필러> <Filler>

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에는 필요에 따라서 실리카 등의 필러를 배합해도 좋다. 실리카를 배합함으로써 내열성의 특성이 향상되기 때문에 매우 바람직하다. 실리카로는 일반적으로 소수성 실리카와 친수성 실리카가 알려져 있지만, 여기서는 내흡습성을 부여하는 데에 있어서 디메틸디클로로실란이나 헥사메틸디실라잔, 옥틸실란 등으로 처리를 행한 소수성 실리카쪽이 좋다. 실리카의 배합량은, (A)∼(D) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 0.05∼30 질량부의 배합량인 것이 바람직하다. 0.05 질량부 미만이면 내열성을 향상시키는 효과가 발휘되지 않는 경우가 있다. 한편 30 질량부를 넘으면 실리카의 분산 불량이 생기거나 용액 점도가 지나치게 높아져 작업성에 문제가 생기거나 또는 접착성이 저하되는 경우가 있다. The adhesive composition used in the present invention may optionally contain a filler such as silica. It is highly desirable that silica is blended to improve heat resistance. Hydrophilic silica and hydrophilic silica are generally known as silica, but hydrophobic silica treated with dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane, or the like is preferable for imparting hygroscopicity to moisture. The amount of silica to be blended is preferably from 0.05 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the components (A) to (D). If the amount is less than 0.05 part by mass, the effect of improving the heat resistance may not be exhibited. On the other hand, when the amount exceeds 30 parts by mass, dispersion failure of the silica may occur, or the solution viscosity may become excessively high, resulting in a problem in workability or deterioration of adhesion.

<실란커플링제> <Silane coupling agent>

본 발명에 이용하는 접착제 조성물에는 필요에 따라서 실란커플링제를 배합해도 좋다. 실란커플링제를 배합함으로써 금속에 대한 접착성이나 내열성의 특성이 향상되기 때문에 매우 바람직하다. 실란커플링제로는 특별히 한정되지 않지만, 불포화기를 갖는 것, 글리시딜기를 갖는 것, 아미노기를 갖는 것 등을 들 수 있다. 이들 중 내열성의 관점에서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란이나 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란이나 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란 등의 글리시딜기를 가진 실란커플링제가 더욱 바람직하다. 실란커플링제의 배합량은 (A)∼(D) 성분의 합계 100 질량부에 대하여 0.5∼20 질량부의 배합량인 것이 바람직하다. 0.5 질량부 미만이면 내열성 불량이 되는 경우가 있다. 한편, 20 질량부를 넘으면 내열성 불량이나 접착성이 저하되는 경우가 있다. The adhesive composition used in the present invention may optionally contain a silane coupling agent. The combination of the silane coupling agent is highly desirable because it improves the adhesion to metals and the heat resistance. The silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include those having an unsaturated group, those having a glycidyl group, those having an amino group, and the like. Among them, from the viewpoint of heat resistance,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane or? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane or? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane And a silane coupling agent having a glycidyl group. The blending amount of the silane coupling agent is preferably 0.5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the components (A) to (D). If the amount is less than 0.5 part by mass, heat resistance may be poor. On the other hand, if it exceeds 20 parts by mass, poor heat resistance and adhesion may be deteriorated.

<접착 시트> &Lt; Adhesive sheet &

본 발명에 있어서 접착 시트란, 상기 적층체(Z)와 이형 기재를 접착제 조성물을 통해 적층한 것, 또는 적층체(X) 혹은 적층체(Y)의 접착제층면에 이형 기재를 적층한 것, 또는 접착제층의 적어도 한쪽 면에 이형 기재를 적층한 것이다. 구체적인 구성 양태로는, 이형 기재/접착제층, 이형 기재/접착제층/이형 기재, 수지 기재/접착제층/이형 기재, 금속 기재/접착제층/이형 기재, 적층체/접착제층/이형 기재, 또는 이형 기재/접착제층/적층체/접착제층/이형 기재를 들 수 있다. 이형 기재를 적층함으로써 기재의 보호층으로서 기능한다. 또한 이형 기재를 사용함으로써, 접착 시트로부터 이형 기재를 이형하여, 또 다른 기재에 접착제층을 전사할 수 있다. In the present invention, the adhesive sheet is obtained by laminating the laminate (Z) and the release substrate through an adhesive composition, or by laminating a release substrate on the adhesive layer side of the laminate (X) or the laminate (Y) And a releasing base material laminated on at least one side of the adhesive layer. Specific examples of the composition include a release type substrate / adhesive layer, release type substrate / adhesive layer / release type substrate, resin substrate / adhesive layer / release type substrate, metal substrate / adhesive layer / release type substrate, laminate / adhesive layer / release type substrate, Substrate / adhesive layer / laminate / adhesive layer / release substrate. And functions as a protective layer of the base material by laminating the releasing base material. Further, by using the releasing base material, the releasing base material can be released from the adhesive sheet, and the adhesive layer can be transferred to another base material.

본 발명에 이용하는 접착제 조성물을, 통상의 방법에 따라서 각종 적층체에 도포, 건조시킴으로써, 본 발명의 접착 시트를 얻을 수 있다. 또한 건조후에 접착제층에 이형 기재를 접착하면, 기재 뒷면에 조성물이 묻어나는 일 없이 권취하는 가능해져 조업성이 우수함과 함께, 접착제층이 보호되기 때문에 보존성이 우수하고, 사용도 용이하다. 또한 이형 기재에 도포, 건조후, 필요에 따라서 다른 이형 기재를 접착하면, 접착제층 그 자체를 다른 기재에 전사하는 것도 가능해진다. The adhesive composition of the present invention can be obtained by applying the adhesive composition used in the present invention to various laminated bodies according to a conventional method and drying the same. Further, if the releasing base material is adhered to the adhesive layer after drying, it becomes possible to take up the composition without causing the composition to adhere to the rear surface of the base material, thereby improving workability and protecting the adhesive layer. Further, when the releasing base material is coated and dried, and if necessary another releasing base material is adhered, the adhesive layer itself can be transferred onto another base material.

<이형 기재> <Release type substrate>

이형 기재로는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 상질지, 크래프트지, 롤지, 글라신지 등의 종이의 양면에, 클레이, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 필러의 도포층을 형성하고, 그 각 도포층의 위에 실리콘계, 불소계, 알키드계의 이형제가 더 도포된 것을 들 수 있다. 또한, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-α-올레핀 공중합체, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 등의 각종 올레핀 필름 단독, 및 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 필름 상에 상기 이형제를 도포한 것도 들 수 있다. 이형 기재와 접착제층의 이형력, 실리콘이 전기 특성에 악영향을 미치는 등의 이유에서, 상질지의 양면에 폴리프로필렌 필링 처리하고 그 위에 알키드계 이형제를 이용한 것, 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 상에 알키드계 이형제를 이용한 것이 바람직하다. The release type substrate is not particularly limited. For example, a coated layer of a filler such as clay, polyethylene, or polypropylene is formed on both sides of a paper such as a top paper, a kraft paper, a roll paper or a gloss paper, Based, fluorine-based, and alkyd-based release agents. In addition, there may be mentioned those obtained by applying the releasing agent on various olefin films such as polyethylene, polypropylene, ethylene- alpha -olefin copolymer and propylene- alpha -olefin copolymer, and films such as polyethylene terephthalate. For example, a releasing force of the releasing base material and the adhesive layer, and an adverse effect on the electrical properties of silicon, etc., it is preferable to use a polypropylene peeling treatment on both sides of the upper surface tension paper and using an alkyd type releasing agent thereon or an alkyd releasing agent on polyethylene terephthalate Is preferably used.

<프린트 배선판> <Printed wiring board>

본 발명에서의 「프린트 배선판」은, 도체 회로를 형성하는 금속박과 수지 기재로 형성된 적층체를 구성 요소로서 포함하는 것이다. 프린트 배선판은, 예컨대 금속 피복 적층체를 이용하여 서브트랙티브법 등의 종래 공지된 방법에 의해 제조된다. 필요에 따라서, 금속박에 의해 형성된 도체 회로를 부분적 또는 전면적으로 커버 필름이나 스크린 인쇄 잉크 등을 이용하여 피복한, 소위 플렉시블 회로판(FPC), 플랫 케이블, 테이프 오토메이티드 본딩(TAB)용의 회로판 등을 총칭하고 있다. The &quot; printed wiring board &quot; in the present invention includes a metal foil for forming a conductor circuit and a laminate formed of a resin substrate as constituent elements. The printed wiring board is produced by a conventionally known method such as a subtractive method using a metal clad laminate. A flexible circuit board (FPC), a flat cable, a circuit board for tape automated bonding (TAB), etc., which are partially or wholly covered with a cover film or screen printing ink or the like, It is collectively called.

본 발명의 프린트 배선판은, 프린트 배선판으로서 채용될 수 있는 임의의 적층 구성으로 할 수 있다. 예컨대, 기재 필름층, 금속박층, 접착제층 및 커버 필름층의 4층으로 구성되는 프린트 배선판으로 할 수 있다. 또한 예컨대, 기재 필름층, 접착제층, 금속박층, 접착제층 및 커버 필름층의 5층으로 구성되는 프린트 배선판으로 할 수 있다. The printed wiring board of the present invention can have any lamination structure that can be employed as a printed wiring board. For example, a printed wiring board composed of a base film layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer can be formed. For example, a printed wiring board composed of five layers of a base film layer, an adhesive layer, a metal foil layer, an adhesive layer and a cover film layer can be used.

또한, 필요에 따라서, 상기 프린트 배선판을 2개 혹은 3개 이상 적층한 구성으로 할 수도 있다.If necessary, two or more of the printed wiring boards may be laminated.

본 발명에 이용하는 접착제 조성물은 프린트 배선판의 각 접착제층에 적합하게 사용하는 것이 가능하다. 특히 본 발명에 이용하는 접착제 조성물을 접착제로서 사용하면, 프린트 배선판을 구성하는 종래의 폴리이미드, 폴리에스테르 필름, 동박뿐만 아니라, LCP 등의 저극성의 수지 기재와 높은 접착성을 가지며, 내땜납 리플로우성을 얻을 수 있고, 접착제층 자신이 저유전 특성이 우수하다. 그 때문에, 커버레이 필름, 적층판, 수지 부착 동박 및 본딩 시트에 이용하는 접착제 조성물로서 적합하다. The adhesive composition used in the present invention can be suitably used for each adhesive layer of the printed wiring board. In particular, when the adhesive composition used in the present invention is used as an adhesive, it has high adhesion with a low-polarity resin base such as LCP, as well as conventional polyimide, polyester film, and copper foil constituting a printed wiring board, And the adhesive layer itself is excellent in low dielectric properties. Therefore, it is suitable as an adhesive composition used for a coverlay film, a laminated board, a resin-coated copper foil and a bonding sheet.

본 발명의 프린트 배선판에 있어서, 기재 필름으로는, 종래부터 프린트 배선판의 기재로서 사용되고 있는 임의의 수지 필름을 사용할 수 있다. 기재 필름의 수지로는, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 액정 폴리머, 폴리페닐렌술피드, 신디오택틱 폴리스티렌, 폴리올레핀계 수지 및 불소계 수지 등을 예시할 수 있다. 특히, 액정 폴리머, 폴리페닐렌술피드, 신디오택틱 폴리스티렌, 폴리올레핀계 수지 등의 저극성 기재에 대해서도 우수한 접착성을 갖는다. In the printed wiring board of the present invention, any resin film conventionally used as a base material of a printed wiring board can be used as the base film. As the resin of the base film, a polyester resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, a liquid crystal polymer, a polyphenylene sulfide, a syndiotactic polystyrene, a polyolefin resin and a fluorine resin can be exemplified. In particular, it has excellent adhesion to low polarity substrates such as liquid crystal polymers, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resins.

<커버 필름> <Cover film>

커버 필름으로는, 프린트 배선판용의 절연 필름으로서 종래 공지된 임의의 절연 필름을 사용할 수 있다. 예컨대, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술피드, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 액정 폴리머, 폴리페닐렌술피드, 신디오택틱 폴리스티렌, 폴리올레핀계 수지 등의 각종 폴리머로 제조되는 필름을 사용할 수 있다. 보다 바람직하게는, 폴리이미드 필름 또는 액정 폴리머 필름이다. As the cover film, any insulating film conventionally known as an insulating film for a printed wiring board can be used. For example, there can be mentioned polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyimide, polyamideimide, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene , A polyolefin resin, and the like can be used. More preferably, it is a polyimide film or a liquid crystal polymer film.

본 발명의 프린트 배선판은, 전술한 각 층의 재료를 이용하는 것 외에는, 종래 공지된 임의의 프로세스를 이용하여 제조할 수 있다. The printed wiring board of the present invention can be manufactured by any conventionally known process except that the materials for the respective layers described above are used.

바람직한 실시양태에서는, 커버 필름층에 접착제층을 적층한 반제품(이하, 「커버 필름측 반제품」이라고 함)을 제조한다. 한편, 기재 필름층에 금속박층을 적층하여 원하는 회로 패턴을 형성한 반제품(이하, 「기재 필름측 2층 반제품」이라고 함) 또는 기재 필름층에 접착제층을 적층하고, 그 위에 금속박층을 적층하여 원하는 회로 패턴을 형성한 반제품(이하, 「기재 필름측 3층 반제품」이라고 함)을 제조한다(이하, 기재 필름측 2층 반제품과 기재 필름측 3층 반제품을 아울러 「기재 필름측 반제품」이라고 함). 이와 같이 하여 얻어진 커버 필름측 반제품과, 기재 필름측 반제품을 접합하는 것에 의해, 4층 또는 5층의 프린트 배선판을 얻을 수 있다. In a preferred embodiment, a semi-finished product (hereinafter referred to as a "semi-finished product on a cover film") in which an adhesive layer is laminated on a cover film layer is produced. On the other hand, an adhesive layer is laminated on a semi-finished product (hereinafter referred to as &quot; base material-side two-layer semi-finished product &quot;) or a base film layer in which a metal foil layer is laminated on a base film layer to form a desired circuit pattern, (Hereinafter referred to as &quot; base film side three-layer semi-finished product &quot;) (hereinafter, referred to as &quot; base film side semi-finished product &quot; ). By bonding the semi-finished product on the cover film side thus obtained and the semi-finished product on the base film side, a printed wiring board having four or five layers can be obtained.

기재 필름측 반제품은, 예컨대 (A) 상기 금속박에 기재 필름이 되는 수지의 용액을 도포하고, 도포막을 초기 건조시키는 공정(B) (A)에서 얻어진 금속박과 초기 건조 도포막의 적층물을 열처리ㆍ건조시키는 공정(이하, 「열처리ㆍ탈용제 공정」이라고 함)을 포함하는 제조법에 의해 얻어진다. (A) a step of applying a solution of a resin as a base film to the metal foil, and a step of initially drying the coating film; (B) a step of heat-treating and drying a laminate of the metal foil and the initial dried coating film obtained in (Hereinafter referred to as &quot; heat treatment / desolvating step &quot;).

금속박층에서의 회로의 형성은, 종래 공지된 방법을 이용할 수 있다. 액티브법을 이용해도 좋고, 서브트랙티브법을 이용해도 좋다. 바람직하게는 서브트랙티브법이다. The formation of the circuit in the metal foil layer can be performed by a conventionally known method. The active method may be used, or the subtractive method may be used. It is preferably a subtractive method.

얻어진 기재 필름측 반제품은, 그대로 커버 필름측 반제품과의 접합에 사용되어도 좋고, 또한, 이형 필름을 접합하여 보관한 후에 커버 필름측 반제품과의 접합에 사용해도 좋다. The obtained base film side semi-finished product may be used for bonding with the semi-finished product on the cover film side as it is, or may be used for bonding with the semi-finished product on the side of the cover film after the releasing film is bonded and stored.

커버 필름측 반제품은, 예컨대, 커버 필름에 접착제를 도포하여 제조된다. 필요에 따라서, 도포된 접착제에서의 가교 반응을 행할 수 있다. 바람직한 실시양태에 있어서는, 접착제층을 반경화시킨다. The semi-finished product on the cover film is produced, for example, by applying an adhesive to the cover film. If necessary, a crosslinking reaction in the applied adhesive can be performed. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

얻어진 커버 필름측 반제품은, 그대로 기재측 반제품과의 접합에 사용되어도 좋고, 또한, 이형 필름을 접합시켜 보관한 후에 기재 필름측 반제품과의 접합에 사용해도 좋다. The obtained semi-finished product on the cover film side may be used as it is for bonding with the semi-finished product on the base side, or may be used for bonding with the semi-finished product on the base film side after the releasing film is bonded and stored.

기재 필름측 반제품과 커버 필름측 반제품은 각각, 예컨대 롤의 형태로 보관된 후, 접합되어 프린트 배선판이 제조된다. 접합하는 방법으로는 임의의 방법을 사용할 수 있고, 예컨대 프레스 또는 롤 등을 이용하여 접합할 수 있다. 또한, 가열 프레스 또는 가열 롤 장치를 사용하는 등의 방법에 의해 가열을 행하면서 양자를 접합할 수도 있다.The semifinished product on the base film side and the semifinished product on the cover film side are each stored in the form of a roll, for example, and then joined to produce a printed wiring board. As the bonding method, any method can be used, and bonding can be performed using, for example, a press or a roll. Further, it is also possible to bond them together while heating is performed by a method such as a heating press or a heating roll apparatus.

보강재측 반제품은, 예컨대 폴리이미드 필름과 같이 부드럽게 권취 가능한 보강재의 경우, 보강재에 접착제를 도포하여 제조되는 것이 적합하다. 또한, 예컨대 SUS, 알루미늄 등의 금속판, 유리 섬유를 에폭시 수지로 경화시킨 판 등과 같이 딱딱하여 권취할 수 없는 보강판의 경우, 미리 이형 기재에 도포한 접착제를 전사 도포함으로써 제조되는 것이 적합하다. 또한, 필요에 따라서, 도포된 접착제에서의 가교 반응을 행할 수 있다. 바람직한 실시양태에 있어서는, 접착제층을 반경화시킨다. The semi-finished product on the side of the reinforcing material is suitably produced by applying an adhesive to the reinforcing material in the case of a reinforcing material which can be gently wound, such as a polyimide film. Further, in the case of a reinforcing plate which is hard and can not be wound, such as a plate made of SUS, aluminum or the like, or a plate obtained by curing glass fiber with an epoxy resin, it is preferable that the reinforcing plate is produced by transfer-coating an adhesive applied to the mold- Further, the crosslinking reaction in the applied adhesive can be carried out, if necessary. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

얻어진 보강재측 반제품은, 그대로 프린트 배선판 이면과의 접합에 사용되어도 좋고, 또한, 이형 필름을 접합하여 보관한 후에 기재 필름측 반제품과의 접합에 사용해도 좋다. The obtained reinforcing-material-side semi-finished product may be used as it is for bonding with the back side of the printed wiring board as it is, or may be used for joining with the semi-finished product on the base film after bonding and storing the releasing film.

기재 필름측 반제품, 커버 필름측 반제품, 보강제측 반제품은 모두, 본 발명에서의 프린트 배선판용 적층체이다. The semi-finished product on the base film side, the semi-finished product on the cover film side, and the semi-finished product on the side of the reinforcing agent are all the laminate for a printed wiring board in the present invention.

<실시예><Examples>

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 단, 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다. 실시예 중 및 비교예 중에 단순히 부라고 되어 있는 것은 질량부를 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to the embodiments. In the examples and the comparative examples, simply referred to are parts by mass.

(물성 평가 방법)(Property evaluation method)

산가Acid value (A) 성분 : 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지Component (A): a carboxyl group-containing polyolefin resin

본 발명에서의 산가(당량/106 g)는, FT-IR(시마즈제작소사 제조, FT-IR8200PC)을 사용하여, 무수말레산의 카르보닐(C=O) 결합의 신축 피크(1780 cm- 1)의 흡광도(I), 이소택틱 특유의 피크(840 cm- 1)의 흡광도(II) 및 무수말레산(도쿄화성 제조)의 클로로포름 용액에 의해 작성한 검량선으로부터 얻어지는 팩터(f)를 이용하여 하기 식에 의해 산출한 값을 수지 1 ton 중의 당량(당량/106 g)으로서 나타냈다. Acid value (eq / 10 6 g) according to the present invention, FT-IR (manufactured by Shimadzu produced Sosa manufacture, FT-IR8200PC) using, of maleic anhydride carbonyl stretching peak (the combination (C = O) 1780 cm - to using the factor (f) is obtained from the calibration curve created by a chloroform solution of 1) the absorbance (II) and production of maleic anhydride (Tokyo Kasei a) to 1) of the absorbance (I), isotactic-specific peak (840 cm The value calculated by the equation was expressed as equivalent (equivalent amount / 10 6 g) in 1 ton of resin.

산가=[흡광도(I)/흡광도(II)×(f)/무수말레산의 분자량×2×104]Acid value = [absorbance (I) / absorbance (II) x (f) / molecular weight of maleic anhydride x 2 x 10 4 ]

무수말레산의 분자량 : 98.06Molecular weight of maleic anhydride: 98.06

산가Acid value (B) 성분 : 카르복실기 함유 스티렌 수지Component (B): Carboxyl group-containing styrene resin

본 발명에서의 산가(당량/106 g)는, 카르복실기 함유 스티렌 수지를 톨루엔에 용해하여, 나트륨메톡시드의 메탄올 용액으로 페놀프탈레인을 지시약으로서 적정했다. 수지 1 ton 중의 당량(당량/106 g)으로서 나타냈다. The acid value (equivalent weight / 10 6 g) in the present invention was obtained by dissolving the carboxyl group-containing styrene resin in toluene and titrating phenolphthalein as an indicator with a methanol solution of sodium methoxide. (Equivalent amount / 10 6 g) in 1 ton of resin.

중량 평균 분자량(Mw)Weight average molecular weight (Mw)

본 발명에서의 중량 평균 분자량은 겔퍼미메이션 크로마토그래피(이하, GPC, 표준 물질 : 폴리스티렌 수지, 이동상 : 테트라히드로푸란)에 의해 측정한 값이다. The weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC, standard material: polystyrene resin, mobile phase: tetrahydrofuran).

(1) 박리 강도(접착성)(1) Peel strength (adhesive property)

후술하는 접착제 조성물을 두께 12.5 ㎛의 폴리이미드 필름(주식회사 카네카 제조, 아피칼) 또는 두께 25 ㎛의 LCP 필름(주식회사 쿠라레 제조, 벡스타)에, 건조후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하여 130℃에서 3분 건조시켰다. 이렇게 하여 얻어진 접착성 필름(B 스테이지품)을 18 ㎛의 압연 동박과 접합했다. 접합은, 압연 동박의 광택면이 접착제와 접하도록 하여, 160℃에서 40 kgf/㎠의 가압하에 30초간 프레스하여 접착했다. 이어서 140℃에서 4시간 열처리하여 경화시켜 박리 강도 평가용 샘플을 얻었다. 박리 강도는, 25℃에 있어서 필름을 당겨 인장 속도 50 mm/min로 90° 박리 시험을 행하여, 박리 강도를 측정했다. 이 시험은 상온에서의 접착 강도를 나타내는 것이다. The adhesive composition to be described later was applied to a polyimide film having a thickness of 12.5 占 퐉 (Apikal manufactured by Kaneka Corporation) or an LCP film having a thickness of 25 占 퐉 (manufactured by Kuraray Co., Ltd., Beckstar) Lt; 0 &gt; C for 3 minutes. The adhesive film (B stage product) thus obtained was bonded to a rolled copper foil of 18 占 퐉. The bonding was carried out by press-bonding for 30 seconds under a pressure of 40 kgf / cm &lt; 2 &gt; at 160 DEG C such that the glossy surface of the rolled copper foil was in contact with the adhesive. And then heat-treated at 140 ° C for 4 hours to be cured to obtain a sample for peel strength evaluation. As for the peel strength, the film was pulled at 25 占 폚 to carry out a 90 占 peel test at a tensile speed of 50 mm / min to measure the peel strength. This test shows the bonding strength at room temperature.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎ : 1.0 N/mm 이상?: 1.0 N / mm or more

○ : 0.8 N/mm 이상 1.0 N/mm 미만?: 0.8 N / mm or more and less than 1.0 N / mm

△ : 0.5 N/mm 이상 0.8 N/mm 미만?: 0.5 N / mm or more and less than 0.8 N / mm

× : 0.5 N/mm 미만X: less than 0.5 N / mm

(2) 건조 땜납 내열성(2) Dry solder heat resistance

상기와 동일한 방법으로 샘플을 제작하여, 2.0 cm×2.0 cm의 샘플편을 120℃에서 30분 건조 처리를 행하고, 각 온도에서 용융한 땜납욕에 1분간 플로우하여, 부풀어오름 등의 외관 변화를 일으키지 않는 온도를 측정했다. A sample was prepared in the same manner as described above, and a sample piece of 2.0 cm x 2.0 cm was dried at 120 캜 for 30 minutes, flowed in a solder bath melted at each temperature for 1 minute to cause appearance change such as swelling Do not measure the temperature.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎ : 310℃ 이상?: 310 占 폚 or more

○ : 300℃ 이상 310℃ 미만○: 300 ° C or more and less than 310 ° C

△ : 290℃ 이상 300℃ 미만DELTA: 290 DEG C or more and less than 300 DEG C

× : 290℃ 미만×: less than 290 ° C.

(3) 가습 땜납 내열성(3) Humidity soldering heat resistance

상기와 동일한 방법으로 샘플을 제작하여, 2.0 cm×2.0 cm의 샘플편을 40℃×80 RH%×72시간 처리를 행하고, 각 온도에서 용융한 땜납욕에 1분간 플로우하여, 부풀어오름 등의 외관 변화를 일으키지 않는 온도를 측정했다. A sample was prepared in the same manner as described above, and a sample piece of 2.0 cm x 2.0 cm was treated at 40 캜 x 80 RH% x 72 hours. The solder bath melted at each temperature was flown for 1 minute, We measured the temperature that did not cause change.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎ : 260℃ 이상?: 260 占 폚 or more

○ : 250℃ 이상 260℃ 미만O: 250 deg. C or more and less than 260 deg.

△ : 240℃ 이상 250℃ 미만DELTA: 240 DEG C or more and less than 250 DEG C

× : 240℃ 미만X: less than 240 占

(4) 비유전률(εc) 및 유전 정접(tanδ)(4) Relative dielectric constant (? C ) and dielectric tangent (tan?)

후술하는 접착제 조성물을, 두께 35 ㎛의 전해 동박의 광택면에 건조 경화후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하여, 130℃에서 3분 건조시켰다. 이어서 140℃에서 4시간 열처리하여 경화시켜 시험용의 구리 피복 적층판을 얻었다. 얻어진 시험용의 구리 피복 적층판의 경화한 접착제 조성물면에, 증발 건고형의 도전성 은페이스트를 직경 50 mm의 원형에 스크린 인쇄로 도포하여 120℃ 30분 건조 경화시키고, 또한 도전성 은페이스트에 의한 원의 중앙에 길이 30 mm의 리드선을 도전성 접착제로 접착하여 평행 평판 콘덴서를 얻었다. 얻어진 평행 평판 콘덴서의 정전 용량 Cap과 손실 계수 D(유전 정접)를 PRECISION LCR meter HP-4284A를 이용하고, 22℃ 하에 주파수 1 MHz의 조건으로 측정을 행하여, 다음 식으로부터 비유전률(εc)을 산출했다. The adhesive composition described later was applied to the glossy surface of an electrolytic copper foil having a thickness of 35 占 퐉 so as to have a thickness of 25 占 퐉 after drying and curing, followed by drying at 130 占 폚 for 3 minutes. Then, it was cured by heat treatment at 140 ° C for 4 hours to obtain a copper clad laminate for testing. On the cured adhesive composition surface of the obtained copper clad laminate for test, a conductive silver paste of a vapor-dry solid type was applied by screen printing to a circle having a diameter of 50 mm, dried and cured at 120 ° C for 30 minutes, A lead wire having a length of 30 mm was adhered with a conductive adhesive to obtain a parallel plate capacitor. The capacitance and the loss factor D (dielectric loss tangent) of the obtained parallel plate capacitor were measured using a PRECISION LCR meter HP-4284A under the conditions of 22 캜 and a frequency of 1 MHz, and the relative dielectric constant (ε c ) was calculated from the following equation Respectively.

εc=(Cap×d)/(S×ε0)? c = (Cap 占 d) / (S 占? 0 )

여기에 Cap : 정전 용량[F] Here Cap: Capacitance [F]

d : 유전체층 두께=25×10-6[m] d: dielectric layer thickness = 25 x 10 -6 [m]

S : 피측정 유전체 면적=π×(25×10- 3)2 S: the measured dielectric area = π × (25 × 10 - 3) 2

ε0 : 진공의 유전율 8.854×10-12 ε 0 : Permittivity of vacuum 8.854 × 10 -12

이다. to be.

얻어진 비유전률, 유전 정접에 관해, 이하와 같이 평가했다. The obtained dielectric constant and dielectric loss tangent were evaluated as follows.

<비유전률의 평가 기준><Evaluation Criteria of Specific Permittivity>

◎ : 2.3 이하 ⊚: not more than 2.3

○ : 2.3 초과 2.6 이하 O: not less than 2.3 and not more than 2.6

△ : 2.6 초과 3.0 이하 ?: Not less than 2.6 but not more than 3.0

× : 3.0 초과 ×: exceeding 3.0

<유전 정접의 평가 기준>&Lt; Criteria for evaluation of dielectric loss tangent &

◎ : 0.005 이하 ?: 0.005 or less

○ : 0.005 초과 0.01 이하 ?: Not less than 0.005 but not more than 0.01

△ : 0.01 초과 0.02 이하 ?: More than 0.01 and not more than 0.02

× : 0.02 초과×: exceeding 0.02

(카르복실기 함유 폴리올레핀 수지)(Carboxyl group-containing polyolefin resin)

제조예Manufacturing example 1 One

1 L 오토클레이브에, 프로필렌-부텐 공중합체(미쯔이화학사 제조 「타프머(등록상표) XM7080」) 100 질량부, 톨루엔 150 질량부 및 무수말레산 19 질량부, 디-tert-부틸퍼옥사이드 6 질량부를 가하여 140℃까지 승온한 후, 3시간 더 교반했다. 그 후, 얻어진 반응액을 냉각시킨 후, 다량의 메틸에틸케톤이 들어간 용기에 부어 수지를 석출시켰다. 그 후, 상기 수지를 함유하는 액을 원심 분리함으로써, 무수말레산이 그래프트 중합한 산변성 프로필렌-부텐 공중합체와 (폴리)무수말레산 및 저분자량물을 분리, 정제했다. 그 후, 감압하 70℃에서 5시간 건조시킴으로써, 무수말레산 변성 프로필렌-부텐 공중합체(CO-1, 산가 410 당량/106 g, 중량 평균 분자량 60,000, Tm 80℃, △H 35 J/g)를 얻었다. A 1 L autoclave was charged with 100 parts by mass of a propylene-butene copolymer (Tafmer (registered trademark) XM7080 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 150 parts by mass of toluene, 19 parts by mass of maleic anhydride, 6 parts by mass of di- After the temperature was raised to 140 캜, the mixture was further stirred for 3 hours. Thereafter, the obtained reaction solution was cooled and then poured into a container containing a large amount of methyl ethyl ketone to deposit a resin. Thereafter, the solution containing the resin was centrifuged to separate and purify an acid-modified propylene-butene copolymer obtained by graft-polymerizing maleic anhydride, (poly) maleic anhydride and a low molecular weight water. (CO-1, acid value: 410 equivalent / 10 6 g, weight average molecular weight: 60,000, Tm of 80 ° C, ΔH of 35 J / g, weight average molecular weight of 60,000) by drying at 70 ° C. under reduced pressure for 5 hours ).

제조예Manufacturing example 2 2

무수말레산의 주입량을 11 질량부로 변경한 것 외에는 제조예 1과 동일하게 함으로써, 무수말레산 변성 프로필렌-부텐 공중합체(CO-2, 산가 220 당량/106 g, 중량 평균 분자량 65,000, Tm 78℃, △H 25 J/g)를 얻었다. Modified maleic acid-modified propylene-butene copolymer (CO-2, acid value: 220 equivalent / 10 6 g, weight average molecular weight: 65,000, Tm 78 (weight average molecular weight)) was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the amount of maleic anhydride was changed to 11 parts by mass.占 폚,? H 25 J / g).

실시예Example 1 One

수랭 환류 응축기와 교반기를 구비한 500 ml의 사구 플라스크에, 제조예 1에서 얻어진 무수말레산 변성 프로필렌-부텐 공중합체(CO-1)를 80 질량부, 카르복실기 함유 스티렌 수지(터프텍(등록상표) M1943)를 20 질량부, 톨루엔을 500 질량부 주입하고, 교반하면서 80℃까지 승온하고, 교반을 1시간 계속함으로써 용해했다. 냉각시켜 얻어진 용액에, 카르보디이미드 수지 V-05를 5 질량부, 에폭시 수지 HP-7200을 10 질량부 배합하여 접착제 조성물을 얻었다. 배합량, 접착 강도, 땜납 내열성, 전기 특성을 표 1에 나타낸다. 80 parts by mass of the maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-1) obtained in Production Example 1 and 40 parts by mass of a carboxyl group-containing styrene resin (Turfec (registered trademark)) were placed in a 500 ml four-necked flask equipped with a reflux condenser and a stirrer. M1943) and 500 parts by weight of toluene were charged, and the mixture was heated to 80 DEG C with stirring, and the mixture was dissolved by stirring for 1 hour. 5 parts by mass of carbodiimide resin V-05 and 10 parts by mass of epoxy resin HP-7200 were mixed with the solution obtained by cooling to obtain an adhesive composition. Table 1 shows the blending amount, adhesive strength, solder heat resistance, and electric characteristics.

실시예Example 2∼10 2 to 10

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A), 카르복실기 함유 스티렌 수지(B), 카르보디이미드 수지(C), 에폭시 수지(D)를 표 1에 나타내는 것으로 변경하고, 실시예 1과 동일한 방법으로, 표 1에 나타내는 각 배합량이 되도록 변경하여, 실시예 2∼14를 행했다. 접착 강도, 땜납 내열성, 전기 특성을 표 1에 나타낸다. The carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C) and the epoxy resin (D) were changed to those shown in Table 1, Examples 2 to 14 were carried out in such a manner that the respective amounts were changed. Table 1 shows the adhesive strength, solder heat resistance and electric characteristics.

[표 1] [Table 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

비교예Comparative Example 1∼7 1 to 7

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A), 카르복실기 함유 스티렌 수지(B), 카르보디이미드 수지(C), 에폭시 수지(D)를 표 2에 나타내는 것으로 변경하고, 실시예 1과 동일한 방법으로, 표 2에 나타내는 각 배합량이 되도록 변경하여, 비교예 1∼7을 행했다. 배합량, 접착 강도, 땜납 내열성, 전기 특성을 표 2에 나타낸다. The carboxyl group-containing polyolefin resin (A), the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C) and the epoxy resin (D) were changed to those shown in Table 2, And the amounts were adjusted so as to be the respective blending amounts, and Comparative Examples 1 to 7 were carried out. The compounding amount, adhesive strength, solder heat resistance and electric characteristics are shown in Table 2.

[표 2][Table 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

표 1, 2에서 이용한 폴리올레핀 수지, 카르복실기 함유 스티렌 수지(B), 카르보디이미드 수지(C), 에폭시 수지(D)는 이하의 것이다. The polyolefin resin, the carboxyl group-containing styrene resin (B), the carbodiimide resin (C) and the epoxy resin (D) used in Tables 1 and 2 are as follows.

카르복실기 함유 스티렌 수지 : 터프텍(등록상표) M1911(아사히카세이 케미컬사 제조)Carboxyl group-containing styrene resin: Tuftec (registered trademark) M1911 (manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.)

카르복실기 함유 스티렌 수지 : 터프텍(등록상표) M1913(아사히카세이 케미컬사 제조)Carboxyl group-containing styrene resin: Tuftec (registered trademark) M1913 (manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.)

카르복실기 함유 스티렌 수지 : 터프텍(등록상표) M1943(아사히카세이 케미컬사 제조)Carboxyl group-containing styrene resin: Tuftec (registered trademark) M1943 (manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.)

폴리올레핀 수지 : 타프머(등록상표) XM7080(미쯔이화학사 제조) Polyolefin resin: TFMER (registered trademark) XM7080 (manufactured by Mitsui Chemicals)

스티렌 수지 : 터프텍(등록상표) H1052(아사히카세이 케미컬사 제조)Styrene resin: Tuftec (registered trademark) H1052 (manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.)

카르복실기 함유 아크릴로니트릴부타디엔고무 NBR(주식회사 JSR 제조)Carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber NBR (manufactured by JSR Corporation)

카르보디이미드 수지 : V-05(닛신보 케미컬사 제조)Carbodiimide resin: V-05 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)

카르보디이미드 수지 : V-03(닛신보 케미컬사 제조) Carbodiimide resin: V-03 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)

o-크레졸노볼락형 에폭시 수지 : YDCN-700-10(신니테츠스미킨 화학사 제조)o-cresol novolak type epoxy resin: YDCN-700-10 (manufactured by Shin-Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.)

디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 : HP-7200(DIC사 제조)Dicyclopentadiene type epoxy resin: HP-7200 (manufactured by DIC)

표 1에서 분명한 바와 같이, 실시예 1∼14에서는, 폴리이미드(PI)와 동박과 우수한 접착성, 땜납 내열성을 가지면서, 액정 폴리머(LCP)와 동박 모두 우수한 접착성, 땜납 내열성을 갖는다. 또한, 접착제 조성물의 전기 특성은 유전율, 유전 정접 모두 낮고 양호하다. 이에 비해, 표 2에서 분명한 바와 같이, 비교예 1에서는, 카르복실기 함유 스티렌 수지를 배합하고 있지 않기 때문에, 가습 땜납 내열성, 접착 강도가 떨어진다. 비교예 2에서는, 카르복실기 함유 폴리올레핀 수지를 배합하지 않기 때문에, 가교 밀도가 낮아 가습 땜납 내열성이 떨어진다. 비교예 3에서는, 폴리올레핀 수지가 카르복실기를 함유하고 있지 않기 때문에, 가교 밀도가 낮아 가습 땜납 내열성이 떨어진다. 비교예 4에서는, 스티렌 수지가 카르복실기를 함유하고 있지 않기 때문에, 가교 밀도가 낮아 가습 땜납 내열성이 떨어진다. 비교예 5에서는, 카르보디이미드 수지를 배합하고 있지 않기 때문에, LCP 계면과의 상호 작용이 적고, 접착 강도가 낮다. 비교예 6에서는, 에폭시 수지를 배합하고 있지 않기 때문에, 가교 밀도가 낮아 땜납 내열성이 떨어진다. 비교예 7에서는, 폴리올레핀 수지, 스티렌 수지를 배합하고 있지 않기 때문에, 접착제 조성물의 저유전 특성이 떨어졌다.As is evident from Table 1, in Examples 1 to 14, both the liquid crystal polymer (LCP) and the copper foil have excellent adhesion and solder heat resistance, while having excellent adhesion and solder heat resistance to polyimide (PI) and copper foil. Further, the electric characteristics of the adhesive composition are both low and good in dielectric constant and dielectric tangent. On the other hand, as is apparent from Table 2, in Comparative Example 1, since the carboxyl group-containing styrene resin is not blended, the heat resistance of the humidifying solder and the adhesive strength are lowered. In Comparative Example 2, since the carboxyl group-containing polyolefin resin is not compounded, the cross-linking density is low and the heat resistance of the humidifying solder is low. In Comparative Example 3, since the polyolefin resin does not contain a carboxyl group, the cross-linking density is low and the heat resistance of the humidifying solder deteriorates. In Comparative Example 4, since the styrene resin does not contain a carboxyl group, the cross-linking density is low and the heat resistance of the humidifying solder drops. In Comparative Example 5, since no carbodiimide resin was blended, the interaction with the LCP interface was small and the bonding strength was low. In Comparative Example 6, since epoxy resin is not blended, the crosslinking density is low and solder heat resistance is poor. In Comparative Example 7, since the polyolefin resin and the styrene resin were not blended, the low dielectric property of the adhesive composition was deteriorated.

본 발명에 의해, 종래의 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름뿐만 아니라, LCP 등의 저유전 특성을 갖는 수지 기재와, 동박 등의 금속 기재의 높은 접착성을 가지며, 높은 땜납 내열성을 얻을 수 있고, 저유전 특성이 우수한 적층체를 제공할 수 있다. 상기 특성에 의해, 플렉시블 프린트 배선판 용도, 특히 고주파 영역에서의 저유전 특성(저유전율, 저유전 정접)이 요구되는 FPC 용도에 있어서 유용하다. According to the present invention, not only a conventional polyimide and polyethylene terephthalate film but also a resin base material having low dielectric properties such as LCP and a metal base material such as a copper foil can be obtained and high solder heat resistance can be obtained, It is possible to provide a laminate excellent in dielectric characteristics. The above properties are useful for FPC applications requiring a low dielectric constant (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in a flexible printed wiring board application, particularly in a high frequency region.

Claims (6)

카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)로서,
(1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고,
(2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고,
(3) 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고,
(4) 적층체(Z)의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(Z).
As a layered product (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated through an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A)
(1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of 3.0 or less,
(2) the dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less,
(3) the peel strength between the resin base material and the metal base is 0.5 N / mm or more,
(4) A laminate (Z) characterized in that the laminate (Z) has a heat resistance of humidifying solder of 240 DEG C or more.
카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)에 이용되는 상기 접착제층과 상기 수지 기재의 적층체(X)로서,
(1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고,
(2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고,
(3) 적층체(X)의 접착제층면에 금속 기재를 적층한 경우의 이 적층체에서의 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고,
(4) 적층체(X)의 접착제층면에 금속 기재를 적층한 경우의 이 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(X).
As a layered product (X) of the adhesive layer and the resin substrate used for the layered product (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated through an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A)
(1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of 3.0 or less,
(2) the dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less,
(3) When the metal substrate is laminated on the adhesive layer side of the laminate (X), the peel strength between the resin substrate and the metal substrate in this laminate is 0.5 N / mm or more,
(4) A laminated product (X), wherein the laminated product obtained by laminating a metal base material on the adhesive layer side of the laminated product (X) has a heat resistance of the humidifying solder of 240 캜 or more.
카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)에 이용되는 상기 접착제층과 상기 금속 기재의 적층체(Y)로서,
(1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고,
(2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고,
(3) 적층체(Y)의 접착제층면에 수지 기재를 적층한 경우의 이 적층체에서의 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고,
(4) 적층체(Y)의 접착제층면에 수지 기재를 적층한 경우의 이 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적층체(Y).
As a layered product (Y) of the adhesive layer and the metal substrate used for the layered product (Z) in which a resin substrate and a metal substrate are laminated through an adhesive layer containing a carboxyl group-containing polyolefin resin (A)
(1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of 3.0 or less,
(2) the dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less,
(3) When the resin base material is laminated on the adhesive layer side of the laminate (Y), the peeling strength between the resin base material and the metal base material in this laminate is 0.5 N / mm or more,
(4) A laminated product (Y), wherein the laminated product obtained by laminating the resin base material on the adhesive layer side of the laminated product (Y) has a heat resistance of the humidifying solder of 240 캜 or more.
카르복실기 함유 폴리올레핀 수지(A)를 포함하는 접착제층을 통해 수지 기재 및 금속 기재가 적층된 적층체(Z)에 이용되는 상기 접착제층으로서,
(1) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 비유전률(εc)이 3.0 이하이고,
(2) 접착제층의 주파수 1 MHz에서의 유전 정접(tanδ)이 0.02 이하이고,
(3) 접착제층의 한쪽 면에 수지 기재를 적층하고, 다른쪽 면에 금속 기재를 적층한 경우의 이 적층체에서의 수지 기재와 금속 기재의 박리 강도가 0.5 N/mm 이상이고,
(4) 접착제층의 한쪽 면에 수지 기재를 적층하고, 다른쪽 면에 금속 기재를 적층한 경우의 이 적층체의 가습 땜납 내열성이 240℃ 이상인 것을 특징으로 하는 접착제층.
As the adhesive layer used for the layered product (Z) in which the resin base material and the metal base material are laminated through the adhesive layer containing the carboxyl group-containing polyolefin resin (A)
(1) the adhesive layer has a relative dielectric constant (? C ) at a frequency of 1 MHz of 3.0 or less,
(2) the dielectric loss tangent (tan?) Of the adhesive layer at a frequency of 1 MHz is 0.02 or less,
(3) When the resin substrate is laminated on one side of the adhesive layer and the metal substrate is laminated on the other side, the peel strength between the resin substrate and the metal substrate in this laminate is 0.5 N / mm or more,
(4) An adhesive layer characterized in that the laminated product obtained by laminating the resin base material on one side of the adhesive layer and the metal base material on the other side has a heat resistance of the humidifying solder of 240 DEG C or more.
제1항에 기재된 적층체(Z), 제2항에 기재된 적층체(X), 제3항에 기재된 적층체(Y) 또는 제4항에 기재된 접착제층을 함유하는 접착 시트.An adhesive sheet containing the laminate (Z) according to claim 1, the laminate (X) according to claim 2, the laminate (Y) according to claim 3 or the adhesive layer according to claim 4. 제5항에 기재된 접착 시트를 구성 요소로서 포함하는 프린트 배선판. A printed wiring board comprising the adhesive sheet according to claim 5 as a component.
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