JP6785888B2 - 微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタ - Google Patents

微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタ Download PDF

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Description

本発明は、微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法に関し、より具体的には、ニッケル−パラジウム(Ni−Pd)合金メッキ液を用いて耐久性および生物学的安全性が確保された微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタに関する。
最近、気管支喘息および慢性閉塞性肺疾患(Chronic obstructive pulmonary disease、COPD)などの呼吸器疾患を治療するにおいて、薬物を患部まで効率的に伝達させるためのネブライザ(Nebulizer)が市販されて広く用いられている。より具体的には、前記ネブライザは、日常の呼吸状態で呼吸器内への疾患特異的な薬物伝達のためのエアロゾルを効果的に噴霧して薬物伝達効果を最大化できる多孔性膜ベースの微細噴霧発生装置である。一方、前記のような装置を用いて、薬物が肺に伝達される際には、薬物の粒子大きさおよび吸入容器などの影響を受けるようになる。特に、薬物の粒子が肺胞周囲まで伝達されるためには1〜5μmに形成されることが好ましい。このような薬物の粒子を制御するために、新しい多孔性フィルタの開発が重要である。
従来の多孔性フィルタを製作する方法としては、電鋳法(Electroforming Method)を用いたメッキ方法が主に利用されている。前記方法は、電気鋳造メッキ法とも呼ばれており、電着による金属製品の製造あるいは複製品を作る方法であって、より具体的には、平面または所定の凹部または凸部を有する基板上に金属塩溶液の電解によって一定の厚さで金属を電着させた後、該電着層を基板から剥離して金属製品の製造あるいは複製品を得る方法である。
このようなメッキを進行するにおいて、用いられる電気鋳造用金属としては、そのものとしての光沢が綺麗であり、耐食性の強いニッケル(Ni)が多く用いられている。しかし、前記ニッケルは、塩水や汗、化粧品などに接触する場合に化学反応を起こすなど、ニッケルイオンの溶出による問題をもたらすため、医療用として用いられることもできるが、毒性を示すニッケルイオンの溶出を防ぐ技術開発を必要としている。
したがって、医療用として使用できる耐食性に優れた微細噴霧型金属素材(例えば、合金など)の多孔性フィルタを製造する方法および装置の開発が主な課題の対象となっており、それに関する研究が行われているが(日本公開特許2005−296737)、未だ不備な実情である。
本発明は、前記のような問題点を解決するために導き出されたものであり、本発明者らは、特定の範囲内の組成を有するニッケル−パラジウム(Ni−Pd)メッキ液を用いて電気鋳造メッキを行って製造された多孔性フィルタの優れた耐食性を確認し、それに基づいて本発明を完成するに至った。
そこで、本発明は、下記のステップを含む、多孔性フィルタの製造方法を提供することをその目的とする。
(a)パターンが形成された電気鋳造用陰極板を準備するステップ、
(b)前記ステップ(a)で準備された陰極板をニッケル20重量%〜80重量%およびパラジウム15重量%〜80重量%を含む多孔性フィルタメッキ液に浸漬させた後、電流を印加してメッキ膜を形成するステップ、および
(c)前記ステップ(b)で形成されたメッキ膜を前記陰極板から剥離するステップ。
また、本発明は、前記製造方法によって形成される多孔性フィルタを提供することを他の目的とする。
なお、本発明は、前記多孔性フィルタを含む微細噴霧装置を提供することをまた他の目的とする。
さらに、本発明が解決しようとする技術的課題は以上に言及した課題に制限されず、言及していないまた他の課題は下記の記載によって当業者に明らかに理解できるものである。
前記目的を達成するために、本発明は、
下記ステップを含む、多孔性フィルタの製造方法:
(a)パターンが形成された電気鋳造用陰極板を準備するステップ、
(b)前記ステップ(a)で準備された陰極板をニッケル20重量%〜80重量%およびパラジウム15重量%〜80重量%を含む多孔性フィルタメッキ液に浸漬させた後、電流を印加してメッキ膜を形成するステップ、および
(c)前記ステップ(b)で形成されたメッキ膜を前記陰極板から剥離するステップを提供する。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、前記ステップ(a)で準備された陰極板をニッケル27重量%〜60重量%およびパラジウム40重量%〜73重量%を含む多孔性フィルタメッキ液に浸漬させた後、電流を印加してメッキ膜を形成してもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、メッキ液温35℃〜65℃の条件で行われてもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、印加電流0.05A〜15Aの条件で行われてもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、メッキ時間0.5分〜65分の条件で行われてもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、メッキ液温39℃〜48℃の条件で行われてもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、印加電流0.5A〜4.5Aの条件で行われてもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップは、メッキ時間40分〜65分の条件で行われてもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、ジアミンパラジウムジクロリド(Pd(NHCl)、およびスルファミン酸ニッケル4水和物(Ni(NHSO4HO)を含んでもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、塩化ニッケル(NiCl)をさらに含んでもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、1次光沢剤1重量%〜20重量%をさらに含んでもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、2次光沢剤1重量%〜20重量%をさらに含んでもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、緩衝剤1重量%〜20重量%をさらに含んでもよい。
本発明の一実施例において、前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、界面活性剤1重量%〜20重量%をさらに含んでもよい。
本発明の一実施例において、前記1次光沢剤は、タンニン酸(C282211)であってもよい。
本発明の一実施例において、前記2次光沢剤は1,4−ブタンジオール(OH(CHOH)であってもよい。
本発明の一実施例において、前記緩衝剤はホウ酸(HBO)であってもよい。
本発明の一実施例において、前記界面活性剤は、ラウリル硫酸ナトリウム(Sodium lauryl sulfate)であってもよい。
本発明は、前記製造方法によって形成される多孔性フィルタを提供する。
本発明の一実施例において、前記多孔性フィルタは14μm〜60μmの厚さを有してもよい。
本発明の一実施例において、前記多孔性フィルタは複数の気孔を有してもよい。
本発明の一実施例において、前記気孔は0.5μm〜5μmの直径を有してもよい。
本発明の一実施例において、前記気孔は1μm〜5μmの直径を有してもよい。
本発明は、前記多孔性フィルタを含む、微細噴霧装置を提供する。
本発明によれば、特定の範囲内の組成を有するニッケル−パラジウム(Ni−Pd)メッキ液を用いて電気鋳造メッキを行って製造されたニッケル−パラジウム合金素材の多孔性フィルタを微細噴霧フィルタとして用いた時、耐久性に優れて腐食および振動エネルギーなどの外部的な要因による金属元素の溶出が緩和したことを確認した。
また、本発明によれば、特定の組成を有する前記メッキ液により、パラジウム(Pd)が有する応力を効果的に下げて所望の厚さの多孔性フィルタの製造が可能であり、多孔性フィルタに形成された気孔により、薬物粒子大きさの調節が可能であるところ、人体の肺内の深部まで薬物が到達しうる。
そこで、本発明に係る多孔性フィルタは、呼吸器疾患を治療するための微細噴霧装置において、薬物および装置の振動などによる金属元素の溶出を効果的に防止し、且つ、肺胞周囲まで効果的に薬物伝達が可能な微細気孔フィルタとして適用されることができる。
印加電流2Aおよび10分の条件でメッキを行って製造した多孔性フィルタの気孔大きさおよび厚さを確認した結果を示すものである。 印加電流1.5Aおよび20分の条件でメッキを行って製造した多孔性フィルタの気孔大きさおよび厚さを確認した結果を示すものである。 印加電流1.5Aおよび90分の条件でメッキを行って製造した多孔性フィルタの気孔大きさおよび厚さを確認した結果を示すものである。 印加電流1.5Aで13分間メッキし、2.5Aで32分の条件でさらにメッキを行って製造した多孔性フィルタの気孔大きさおよび厚さを確認した結果を示すものである。 本発明の一実施例により最適なメッキ条件で製造された多孔性フィルタの直径を確認した結果を示すものである。 本発明の一実施例による多孔性フィルタの模式図を示すものである。 本発明の一実施例による多孔性フィルタの生物学的安全性を検査のための実験模式図を示すものである。 ニッケルメッキを行った多孔性フィルタの生物学的安定性を確認した結果を示すものである。 本発明の一実施例により製造されたニッケル−パラジウム多孔性フィルタの生物学的安定性を確認した結果を示すものである。
以下では、本発明について詳しく説明する。
本発明は、下記ステップを含む、多孔性フィルタの製造方法を提供する:
(a)パターンが形成された電気鋳造用陰極板を準備するステップ、
(b)前記ステップ(a)で準備された陰極板をニッケル20重量%〜80重量%およびパラジウム15重量%〜80重量%を含む多孔性フィルタメッキ液に浸漬させた後、電流を印加してメッキ膜を形成するステップ、および
(c)前記ステップ(b)で形成されたメッキ膜を前記陰極板から剥離するステップ。
本発明において、(a)ステップは、電気鋳造用陰極板を準備するステップである。この時、前記陰極板の表面は得ようとする後述のメッキ膜の形状に応じて様々な微細パターンに形成されることができ、前記微細パターンを形成するための方法としてはリソグラフィまたはインプリントなどの方法を利用することが好ましく、リソグラフィ方法を利用することがより好ましいが、これらに制限されるものではない。
一方、微細噴霧装置を用いた薬物伝達において、薬物粒子の大きさは、薬物を目的とする部位に伝達するのに重要である。より具体的には、薬物粒子の大きさが5μm以上である場合には、口腔咽喉部に大部分沈着し、1〜5μm大きさを有する場合には、大気道から末梢気管支まで伝達するようになり、薬物粒子の大きさが1μm以下である場合には、肺胞周囲まで薬物の伝達が可能である。この時、前記微細噴霧装置の薬物粒子大きさの調節は多孔性フィルタを介して調節することができ、そこで、肺胞周囲まで薬物がより効率的に伝達されるために、多孔性フィルタの気孔の直径は1〜5μmの大きさであることが好ましい。
そこで、前記リソグラフィ方法を利用して前記陰極板上にパターンを形成する時、前記多孔性フィルタの好ましい気孔の大きさに対抗してパターンを形成することが好ましい。より具体的には、前記陰極板の表面にフォトレジスト(Photoresist)をスピンコーティング(Spin Coating)して100℃の熱板に載せて1分間乾燥させる。その後、予め製作された好ましい気孔大きさを有する微細パターンフォトマスクを前記フォトレジスト上に位置させ、リソグラフィを用いて微細パターンに応じてフォトレジストを溶かして前記陰極板上にパターンを形成させる。その次に、パターンが形成された陰極板を現像液で焼き付けた後、100℃の熱板に載せて2分間乾燥させる。
一方、従来の微細噴霧装置に適用される金属素材(例えば、ニッケル(Ni))からなる多孔性膜の場合、長期間の使用に応じた腐食および振動エネルギーによって構成金属元素の溶出が発生して、医療用の目的で用い難いという問題があった。このために、本発明においては、構成金属元素の溶出を防ぐために、前記ニッケルおよびパラジウム合金をメッキするステップを含む。それにより、人体に有害な金属成分の溶出を効果的に防止することができる。
より具体的には、本発明において、(b)ステップは、前記(a)ステップでパターニングされた陰極板を特定範囲の多孔性フィルタメッキ液に浸漬させた後、電流を印加してメッキ膜を形成させるステップである。この時、前記多孔性フィルタメッキ液は、ニッケル20〜80重量%およびパラジウム15〜80重量%を含むことが好ましく、ニッケル27〜60重量%およびパラジウム40〜73重量%を含むことがより好ましく、ニッケル40重量%およびパラジウム60重量%を含むことが最も好ましいが、これらに制限されるものではない。
一方、前記多孔性フィルタメッキ液は、ジアミンパラジウムジクロリド(Pd(NHCl)およびスルファミン酸ニッケル4水和物(Ni(NHSO4HO)を主成分とし、塩化ニッケル(NiCl)をさらに含んでもよく、付加的にメッキに必要な添加剤をさらに含んでもよい。
例えば、前記添加剤は、1次光沢剤、2次光沢剤、緩衝剤および/または界面活性剤を含むことができ、この時、1次光沢剤1〜20重量%、2次光沢剤1〜20重量%、緩衝剤1〜20重量%、および界面活性剤1〜20重量%を含んで前記多孔性フィルタメッキ液に添加されることができる。
この時、1次光沢剤はタンニン酸(C282211)、2次光沢剤は1,4−ブタンジオール(OH(CHOH)、緩衝剤はホウ酸(HBO)、および界面活性剤はラウリル硫酸ナトリウム(Sodium lauryl sulfate)を用いることが好ましいが、これらに制限されるものではない。
また、前記光沢剤を添加するにおいて、前記1次光沢剤および2次光沢剤の添加比率を2:1にしてメッキを始め、その後、比率を1:3〜4に補充してメッキを行うことが好ましい。
次に、メッキ浴に前記多孔性フィルタメッキ液を入れ、パターニングされた陰極板を浸漬させた後、電流を印加すれば電気鋳造が行われる。
この時、電気鋳造を行う際、好ましいメッキ条件としては、メッキ液温35〜65℃、印加電流0.05〜15A、およびメッキ時間0.5〜65分であり、より好ましくは、メッキ液温35〜60℃、印加電流0.1〜10A、およびメッキ時間20〜65分であり、さらに好ましくは、メッキ液温35〜55℃、印加電流0.15〜5A、およびメッキ時間30〜65分であり、最も好ましくは、メッキ液温39〜48℃、印加電流0.5〜4.5A、およびメッキ時間40〜65分であるが、これらに制限されず、所望のレベルのメッキ厚さおよび気孔大きさに応じてメッキ条件を変更することができる。
一方、前記電気鋳造メッキを行う際、所望のメッキ厚さを形成するのに内部応力を解決することが重要である。従来、どのようなメッキでも内部応力が存在し、これは、メッキの種類、メッキ液の組成、添加剤の種類などに応じて応力が生成されうる。このような応力は、密着性などに影響を与えてメッキ被膜の剥離を助長する。例えば、厚さの薄い膜を形成するメッキを行って形成されたメッキ膜の場合には内部応力が少ないが、厚さの厚い膜を形成するメッキを行って形成されたメッキ膜の場合には応力が次第に増大して、それに応じた変形、剥離およびその他の問題を生じさせる。
それと共に、本発明の一実施例で用いられる多孔性フィルタメッキ液に含まれたパラジウム(Pd)の場合には、金属そのものが有する応力が高いため、メッキが行われることにつれて所望の厚さが形成される前に前記のような変形、剥離およびその他の問題が発生し、メッキをするのに困難がある。このような問題を解決するために、本発明の一実施例においては、特定範囲の組成比を有するニッケル−パラジウム(Ni−Pd)合金メッキ液を提供しており、それによってパラジウム(Pd)が有する応力を下げて、好ましいメッキ膜の厚さが形成される時まで変形、剥離およびその他の問題が発生することなくメッキの進行が可能である。この時、本発明の前記(b)ステップで形成されるメッキ膜の好ましい厚さは14〜60μmであり、より好ましい厚さは30〜40μmであり、最も好ましい厚さは35〜40μmである。それにより、所望の耐久性(引張強度、硬度または弾性率など)を有する厚さのメッキ膜を得ることができる。
本発明において、(c)ステップは、前記(b)ステップで形成されたメッキ膜を陰極板から剥離するステップである。この時、剥離されたメッキ膜は気孔が形成され、ニッケル−パラジウム合金からなっており、耐久性および耐食性が強化され、薬物粒子大きさを調節しつつ安定性の高い多孔性フィルタを得ることができる。また、前記(c)ステップを進行するにおいて、メッキ膜の損傷なしに陰極板から分離させるために、表面に酸化物、水酸化物、金属塩などのような様々な離型剤を用いた化学的処理を行うことができ、それによって表面接着力を下げて前記メッキ膜の円滑な剥離が行われることができる。
また、本発明の他の様態として、本発明は、前記製造方法によって形成される多孔性フィルタを提供する。
さらに、本発明のまた他の様態として、本発明は、前記多孔性フィルタを含む微細噴霧装置を提供する。
以下、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示する。但し、下記の実施例は本発明をより容易に理解するために提供されるものに過ぎず、下記の実施例によって本発明の内容が限定されるものではない。
[実施例]
〔実施例1.本発明に係る多孔性フィルタを製造するための最適条件の選定〕
本発明に係る最適の厚さおよび気孔大きさを有する多孔性フィルタを製造するための実験を下記のように行った。
具体的には、メッキ温度、印加電流およびメッキ時間を異にしつつ、所望の厚さおよび気孔大きさを有するかを確認しようとし、メッキ条件は下記の表1に示す。
より具体的には、先ず、メッキ温度は多少低い27℃、印加電流は2A、そして10分間の短いメッキを行った場合には、図1に示すように、気孔大きさ40μm〜43μmおよび厚さ9.0μmを示して、厚さは薄く、気孔大きさも大きく生成されるのを確認し、次に、メッキ温度は多少低い27℃、印加電流は1.5A、そして20分間のメッキを行った場合には、図2に示すように、気孔大きさ34μm〜50μmおよび厚さ10μmを示して、図1の結果と同様に、厚さは薄く、気孔大きさも大きく生成されるのを確認した。
そこで、本発明者らは、所望の厚さを形成するために、メッキ条件を変更した。先ず、メッキ温度40℃、印加電流1.5A、メッキ時間90分の条件にしてメッキを行った結果、図3に示すように、気孔大きさ9μm〜10μmおよび厚さ39μm〜41μmを示して、所望の厚さは形成したが、所望の気孔大きさは形成することができなかった。
次に、メッキ時間を短縮させるために、電流強さを増加させてメッキを行った。具体的には、メッキ温度40℃、印加電流1.5Aで13分間メッキを行った後、2.5Aで32分間さらにメッキを行った。
その結果、図4に示すように、気孔大きさ23μmおよび厚さ35μm〜40μmを示して、目標とする厚さは形成したが、依然として気孔大きさは減らせなかった。そこで、メッキ条件において時間に応じた電流条件を調整することによって、目標とする厚さおよび気孔大きさを形成できることを確認することができた。
前記研究結果により、メッキ温度39℃〜48℃、印加電流0.5A〜4.5A、およびメッキ時間40分〜65分をメッキ条件にし、メッキ液に含まれるパラジウムおよびニッケルの比率を異にして最適な厚さおよび気孔大きさを有する条件を選定する実験を行った。
表2に示した条件に従って多孔性フィルタを製造した結果、14μm〜60μmの厚さを示し、且つ、気孔大きさも1μm〜5μmまで調整されたのを確認した(図5参照)。
一方、微細噴霧装置の作動は振動素子によって発生する振動エネルギーを通じて液体の噴霧を誘導するようになり、この時、前記振動エネルギーにより、多孔性フィルタに亀裂(crack)が生じるか、または破損が生じうる。したがって、多孔性フィルタの振動エネルギーによる破損を防ぐためには、硬度が高いほど有利である。
そこで、本発明においては、メッキ液に含まれるパラジウムおよびニッケル重量比に応じたビッカース硬度を確認する実験を行って高い硬度を有するメッキ液の重量比を確認しようとした。この時、ビッカース硬度を測定するためのビッカース硬度測定法は、非常に固い表面物質の硬度測定標準方法として、表面をピラミッド型のダイヤモンドを用いて基準圧力を基準にして長さおよび時間をもって測定し、前記ピラミッド型のダイヤモンド圧子から彫られた大きさを計算することによって硬度を測定する。
そこで、前記方法に従ってメッキ液に含まれるパラジウムおよびニッケル重量比に応じた多孔性フィルタのビッカース硬度を確認する実験を行い、その結果を下記の表3に示す。
表3に示すように、メッキ液に含まれたパラジウムおよびニッケル重量%比率が64:36である時、ビッカース硬度が最も高いのを確認することができた。
前記結果より、所望の厚さおよび気孔大きさを有する多孔性フィルタを製造するための最適な条件を確認し、製造された多孔性フィルタは図6に示す。
〔実施例2.微細噴霧に応じた毒性物質溶出の確認〕
本発明に係る多孔性フィルタは、前述したように、金属成分の溶出を効果的に防ぐために、ニッケルおよびパラジウム合金をメッキに供したところ、これに対する金属成分の溶出防止効果を確認する生物学的安全性の評価実験を行い、前記生物学的安全性の評価実験は、国際標準であるISO 10993−5 Tests for in vitro cytotoxicityの実験方法のうちdirect diffusion法を適用して実施した。
具体的には、細胞毒性実験に用いた細胞株としてはL−929(線維芽細胞)を用い、イメージングのためにGFP−transfected L−929細胞を用いた。多孔性フィルタは、実験前に洗浄および滅菌過程を経た後、24時間事前に培養された前記細胞表面に載せておき、多孔性膜から放出される物質に対する細胞毒性有無を評価した。この時、前記細胞毒性実験の模式図は図7に示す。
その結果、図8に示すように、ニッケルメッキを行った多孔性フィルタの場合、多孔性フィルタから放出される物質に対する細胞毒性有無の評価(24h)を行った結果、ニッケル多孔性フィルタから放出される毒性により細胞が全て死んだのを確認することができた。
その反面、図9に示すように、本発明に係るニッケルおよびパラジウムメッキを行った多孔性フィルタの場合、多孔性フィルタから放出される物質に対する細胞毒性有無の評価(24h)を行った結果、ニッケル多孔性フィルタとは異なり、細胞が全て生きているのを観察できるところ、細胞毒性が現れないことを具体的に確認した。
前述した本発明の説明は例示するためのものであって、本発明が属する技術分野の通常の知識を有した者であれば、本発明の技術的思想や必須の特徴を変更せずに他の具体的な形態に容易に変形が可能であるということを理解することができるであろう。よって、以上で記述した実施例は全ての面で例示的なものであって限定的なものではないことを理解しなければならない。
本発明によれば、特定の組成を有する前記メッキ液により、パラジウム(Pd)が有する応力を効果的に下げて所望の厚さの多孔性フィルタの製造が可能であり、多孔性フィルタに形成された気孔により、薬物粒子大きさの調節が可能であるところ、人体の肺内の深部まで薬物が到達しうる。そこで、本発明に係る多孔性フィルタは、呼吸器疾患を治療するための微細噴霧装置において、薬物および装置の振動などによる金属元素の溶出を効果的に防止し、且つ、肺胞周囲まで効果的に薬物伝達が可能な微細気孔フィルタとして適用できると期待される。

Claims (15)

  1. 下記ステップを含む、多孔性フィルタの製造方法:
    (a)パターンが形成された電気鋳造用陰極板を準備するステップ、
    (b)前記ステップ(a)で準備された陰極板を、メッキ液に含まれるパラジウムおよびニッケルの比率がパラジウム59.6〜72.8重量%およびニッケル27.2〜40.4重量%である多孔性フィルタメッキ液に浸漬させた後、電流を印加してメッキ膜を形成するステップ、および
    (c)前記ステップ(b)で形成されたメッキ膜を前記陰極板から剥離するステップ。
  2. 前記(b)ステップは、メッキ液温35℃〜65℃の条件で行われることを特徴とする、請求項1に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  3. 前記(b)ステップは、メッキ時間0.5分〜65分の条件で行われることを特徴とする、請求項1に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  4. 前記(b)ステップは、メッキ液温39℃〜48℃の条件で行われることを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  5. 前記(b)ステップは、メッキ時間40分〜65分の条件で行われることを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  6. 前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、ジアミンパラジウムジクロリド(Pd(NHCl)、およびスルファミン酸ニッケル4水和物(Ni(NHSO4HO)を含むことを特徴とする、請求項1に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  7. 前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、塩化ニッケル(NiCl)をさらに含むことを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  8. 前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、添加剤をさらに含むことができ、前記添加剤は、1次光沢剤1重量%〜20重量%を含むことを特徴とする、請求項1に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  9. 前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、添加剤をさらに含むことができ、前記添加剤は、2次光沢剤1重量%〜20重量%を含むことを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  10. 前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、添加剤をさらに含むことができ、前記添加剤は、緩衝剤1重量%〜20重量%を含むことを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  11. 前記(b)ステップの多孔性フィルタメッキ液は、添加剤をさらに含むことができ、前記添加剤は、界面活性剤1重量%〜20重量%を含むことを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  12. 前記1次光沢剤はタンニン酸( 76 52 46 )であることを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  13. 前記2次光沢剤は1,4−ブタンジオール(OH(CHOH)であることを特徴とする、請求項に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  14. 前記緩衝剤はホウ酸(HBO)であることを特徴とする、請求項10に記載の多孔性フィルタの製造方法。
  15. 前記界面活性剤はラウリル硫酸ナトリウム(Sodium lauryl sulfate)であることを特徴とする、請求項11に記載の多孔性フィルタの製造方法。
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