JP6784550B2 - Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected - Google Patents

Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected Download PDF

Info

Publication number
JP6784550B2
JP6784550B2 JP2016178242A JP2016178242A JP6784550B2 JP 6784550 B2 JP6784550 B2 JP 6784550B2 JP 2016178242 A JP2016178242 A JP 2016178242A JP 2016178242 A JP2016178242 A JP 2016178242A JP 6784550 B2 JP6784550 B2 JP 6784550B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
eye
slit
inspected
background
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016178242A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018042644A (en
Inventor
上田 浩之
浩之 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP2016178242A priority Critical patent/JP6784550B2/en
Publication of JP2018042644A publication Critical patent/JP2018042644A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6784550B2 publication Critical patent/JP6784550B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B3/00Apparatus for testing the eyes; Instruments for examining the eyes
    • A61B3/10Objective types, i.e. instruments for examining the eyes independent of the patients' perceptions or reactions
    • A61B3/13Ophthalmic microscopes
    • A61B3/135Slit-lamp microscopes

Description

本発明は、眼科装置及び被検眼表示方法に関する。 The present invention relates to an ophthalmic apparatus and a method for displaying an eye to be inspected.

従来、眼科分野で使用される眼科装置の一種として、スリットランプ顕微鏡がある。これは眼科医の日常の診察において、一般的に使用されるもので、照明方法を工夫することで被検眼のいろいろな病変部を観察することができる。 Conventionally, there is a slit lamp microscope as a kind of ophthalmic apparatus used in the field of ophthalmology. This is generally used in the daily examination of an ophthalmologist, and various lesions of the eye to be examined can be observed by devising the lighting method.

このようなスリットランプ顕微鏡では、主照明系から被検眼に対して照射するスリット状の照明光(以下、スリット光という)、スリット光とは別に被検眼全体を照明する背景照明系を備えている(特許文献1参照)。 Such a slit lamp microscope includes a slit-shaped illumination light (hereinafter referred to as slit light) that is emitted from the main illumination system to the eye to be inspected, and a background illumination system that illuminates the entire eye to be inspected separately from the slit light. (See Patent Document 1).

眼科医等の検者が被検眼を精密に検査する場合、スリット光の照射領域とそれ以外の領域の明暗差が大きいほど観察部位が見やすくなるため、通常は暗室にて背景照明系を消灯し、スリット光のみを照射した状態で精密検査を行う。一方で、被検眼全体を観察したいときには背景照明系を点灯して、観察を行っていた。 When an ophthalmologist or other examiner inspects the eye to be examined precisely, the larger the difference in brightness between the slit light irradiation area and the other areas, the easier it is to see the observation site. Therefore, the background illumination system is usually turned off in a dark room. , Perform a detailed inspection while irradiating only slit light. On the other hand, when it was desired to observe the entire eye to be inspected, the background illumination system was turned on for observation.

また、特許文献1に示すスリットランプ顕微鏡では、肉眼での観察の他に、撮像装置を通して撮像した被検眼を表示部に表示して観察することも可能である。 Further, in the slit lamp microscope shown in Patent Document 1, in addition to the observation with the naked eye, it is also possible to display and observe the eye to be inspected taken through the imaging device on the display unit.

特開2014−188339号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-188339

しかしながら、特許文献1のスリットランプ顕微鏡において、撮像した被検眼を表示部にて表示する場合、スリット光に照射された観察部位は鮮明に見ることができるが、観察部位以外の部位は暗いため、眼科医等の専門知識を有する者以外の者は被検眼のどの部位を観察しているかも把握することは困難である。一方で、背景照明系を点灯した状態で撮像した被検眼は、被検眼全体の様子は把握できても、スリット光が照射された観察部位のコントラストが低下し、微弱な散乱を伴う病変部を確認することが困難である。 However, in the slit lamp microscope of Patent Document 1, when the imaged eye to be inspected is displayed on the display unit, the observed portion irradiated with the slit light can be clearly seen, but the portion other than the observed portion is dark. It is difficult for anyone other than an ophthalmologist or other person with specialized knowledge to know which part of the eye to be examined is being observed. On the other hand, the eye to be inspected, which was imaged with the background illumination system turned on, can grasp the whole state of the eye to be inspected, but the contrast of the observation site irradiated with the slit light is lowered, and the lesion portion with weak scattering is observed. Difficult to confirm.

そこで、本発明はこのような問題点を解決するためになされたもので、その目的とするところは、より容易に客観的な被検眼の観察を行うことができる眼科装置及び被検眼表示方法を提供することである。 Therefore, the present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an ophthalmic apparatus and an eye examination display method capable of more easily and objectively observing an eye to be inspected. Is to provide.

上記した目的を達成するために、本発明に係る眼科装置では、被検眼にスリット光を照射する主照明系と、前記主照明系による前記スリット光の照射領域に対する周囲領域を照明する背景照明系と、前記周囲領域を含めて前記被検眼を撮像する撮像部を有する観察系と、前記被検眼に前記主照明系によるスリット光が照射され且つ前記背景照明系が消灯状態であるときに前記撮像部により第1の画像を撮影させ、前記背景照明系が点灯状態であるときに前記撮像部により第2の画像を撮影させ、前記第1の画像から前記スリット光の照射領域を切り出したスリット像部と、前記第2の画像から前記スリット光の照射領域を切り抜いた背景部とを合成した第3の画像を生成する制御部と、少なくとも前記第1の画像、第2の画像、及び前記第の画像を表示可能な表示部と、を備える。
In order to achieve the above object, in the ophthalmic apparatus according to the present invention, a main lighting system that irradiates the eye to be inspected with slit light and a background lighting system that illuminates the surrounding area with respect to the slit light irradiation area by the main lighting system. An observation system having an imaging unit for imaging the eye to be inspected including the surrounding area, and the imaging when the eye to be inspected is irradiated with slit light by the main illumination system and the background illumination system is turned off. A slit image in which a first image is taken by a unit, a second image is taken by the imaging unit when the background illumination system is lit, and an irradiation region of the slit light is cut out from the first image. parts and the third image that generates the control unit from the second image by synthesizing the background portion cut out an irradiation region of the slit light, at least the first image, the second image, and the A display unit capable of displaying a third image is provided.

さらに、本発明に係る眼科装置において、前記制御部は、前記第1の画像と、前記第2の画像のそれぞれに対応する特徴点の位置のずれが所定範囲内である場合にのみ前記第3の画像を生成することとしてもよい。 Further, in the ophthalmic apparatus according to the present invention, the control unit performs the third only when the deviation of the position of the feature point corresponding to each of the first image and the second image is within a predetermined range. It may be possible to generate an image of.

また、本発明に係る眼科装置において、前記制御部は、前記第3の画像における前記スリット像部及び背景部の少なくともいずれか一方の領域の明暗を調節可能としてもよい。 Further, in the ophthalmic apparatus according to the present invention, the control unit may be able to adjust the brightness of at least one of the slit image portion and the background portion in the third image.

また、本発明に係る眼科装置において、前記制御部は、1つのトリガ操作で、少なくとも前記撮像部による前記第1の画像及び第2の画像の撮影を行うようにしてもよい。 Further, in the ophthalmic apparatus according to the present invention, the control unit may capture at least the first image and the second image by the imaging unit with one trigger operation.

上記した目的を達成するために、本発明に係る被検眼表示方法では、被検眼にスリット光を照射する主照明系と、前記主照明系による前記スリット光の照射領域に対する周囲領域を照明する背景照明系と、前記周囲領域を含めて前記被検眼を撮像する撮像部を有する観察系と、前記撮像部により撮影した画像を表示可能な表示部と、を有する眼科装置の被検眼表示方法であって、前記被検眼に前記主照明系によるスリット光が照射され且つ前記背景照明系が消灯状態であるときに前記撮像部により第1の画像を撮影する第1の撮影工程と、前記背景照明系が点灯状態であるときに前記撮像部により第2の画像を撮影させる第2の撮影工程と、前記第1の画像から前記スリット光の照射領域を切り出したスリット像部と、前記第2の画像から前記スリット光の照射領域を切り抜いた背景部とを合成した第3の画像を生成する合成工程と、少なくとも前記第1の画像、前記第2の画像、及び前記第の画像を前記表示部に表示する表示工程と、を備える。
In order to achieve the above object, in the eye inspection display method according to the present invention, a main illumination system that irradiates the eye to be inspected with slit light and a background that illuminates the surrounding area with respect to the slit light irradiation region by the main illumination system. A method for displaying an eye to be inspected by an ophthalmic apparatus having an illumination system, an observation system having an imaging unit that images the eye to be inspected including the surrounding area, and a display unit that can display an image taken by the imaging unit. The first imaging step of capturing the first image by the imaging unit when the subject to be inspected is irradiated with the slit light by the main illumination system and the background illumination system is off, and the background illumination system. A second imaging step of capturing a second image by the imaging unit when is lit, a slit image portion obtained by cutting out an irradiation region of the slit light from the first image, and the second image. A synthesis step of generating a third image obtained by synthesizing the background portion obtained by cutting out the irradiation region of the slit light from the above, and displaying at least the first image , the second image, and the third image on the display unit. It is provided with a display process for displaying in.

また、本発明に係る被検眼表示方法において、前記合成工程は、前記第1の画像と、前記第2の画像のそれぞれに対応する特徴点の位置のずれが所定範囲内である場合にのみ前記第3の画像を生成することとしてもよい。 Further, in the eye display method according to the present invention, the synthesis step is performed only when the deviation of the positions of the feature points corresponding to each of the first image and the second image is within a predetermined range. A third image may be generated.

また、本発明に係る被検眼表示方法において、前記第3の画像における前記スリット像部及び背景部の少なくともいずれか一方の領域の明暗を調節する明暗調整工程をさらに備えてもよい。 Further, the eye display method according to the present invention may further include a light / dark adjustment step for adjusting the light / darkness of at least one of the slit image portion and the background portion in the third image.

また、本発明に係る被検眼表示方法において、少なくとも前記第1の撮影工程及び前記第2の撮影工程は、1つのトリガ操作で行われるようにしてもよい。 Further, in the eye display method according to the present invention, at least the first imaging step and the second imaging step may be performed by one trigger operation.

上記手段を用いる本発明によれば、より容易に客観的に被検眼の観察を行うこと状態を把握しやすくすることができる。 According to the present invention using the above means, it is possible to more easily and objectively observe the eye to be inspected and to easily grasp the state.

本発明の一実施形態に係る眼科装置の構成を表す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the ophthalmic apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る眼科装置の光学系構成を表す概略図である。It is the schematic which shows the optical system composition of the ophthalmic apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る眼科装置の制御構成を表すブロック図である。It is a block diagram which shows the control structure of the ophthalmic apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る眼科装置の制御部が実行する被検眼の表示ルーチンを表すフローチャートである。It is a flowchart which shows the display routine of the eye under test executed by the control part of the ophthalmic apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 第1の画像例(a)及び第2の画像例(b)を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the 1st image example (a) and 2nd image example (b). 第1の画像及び第2の画像が合成されて生成される第3の画像を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the 3rd image generated by synthesizing the 1st image and the 2nd image. 第3の画像において背景部を暗くした画像例(a)及びスリット光照射領域を暗くした画像例(b)を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the image example (a) which darkened the background part in the 3rd image, and image example (b) which darkened the slit light irradiation area.

この発明に係る眼科装置の実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書に記載された文献の記載内容を、以下の実施形態の内容として適宜援用することが可能である。 An example of an embodiment of the ophthalmic apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the description content of the document described in this specification can be appropriately incorporated as the content of the following embodiment.

まず方向を定義しておく。装置光学系において最も被検者側に位置するレンズ(対物レンズ)から被検者に向かう方向を前方向とし、その逆方向を後方向とする。また、前方向に直行する水平方向を左右方向とする。更に、前後方向と左右方向の双方に直交する方向を上下方向とする。 First, define the direction. The direction from the lens (objective lens) located closest to the subject in the optical system of the device toward the subject is the front direction, and the opposite direction is the rear direction. Further, the horizontal direction perpendicular to the front direction is defined as the left-right direction. Further, the direction orthogonal to both the front-rear direction and the left-right direction is defined as the vertical direction.

〔外観構成〕
この実施形態に係る眼科装置はスリットランプ顕微鏡1であり、当該スリットランプ顕微鏡1の外観構成について、図1を参照しながら説明する。スリットランプ顕微鏡1には、コンピュータ100が接続されている。コンピュータ100は各種の制御処理や演算処理を行う。なお、顕微鏡本体(光学系等を格納する筐体)とは別にコンピュータ100を設ける代わりに、顕微鏡本体に同様のコンピュータ100を搭載した構成を適用することも可能である。
[Appearance configuration]
The ophthalmic apparatus according to this embodiment is a slit lamp microscope 1, and the appearance configuration of the slit lamp microscope 1 will be described with reference to FIG. A computer 100 is connected to the slit lamp microscope 1. The computer 100 performs various control processes and arithmetic processes. Instead of providing the computer 100 separately from the microscope main body (housing for storing the optical system and the like), it is also possible to apply a configuration in which the same computer 100 is mounted on the microscope main body.

スリットランプ顕微鏡1はテーブル2上に載置される。なお、コンピュータ100は他のテーブル上又はその他の場所に設置されていてもよい。基台4は、移動機構部3を介して水平方向に移動可能に構成されている。基台4は、操作ハンドル5を傾倒操作することにより移動される。 The slit lamp microscope 1 is placed on the table 2. The computer 100 may be installed on another table or in another place. The base 4 is configured to be movable in the horizontal direction via the moving mechanism unit 3. The base 4 is moved by tilting the operation handle 5.

基台4の上面には、観察系6および主照明系8を支持する支持部15が設けられている。また、支持部15は、図2に示す背景照明系20を支持している。支持部15の前部には、観察系6を支持する支持アーム16が左右方向に回動可能に取り付けられている。支持アーム16の前部には、主照明系8および背景照明系20を支持する支持アーム17が左右方向に回動可能に取り付けられている。支持アーム16、17は、それぞれの前部に同軸の回動軸Aを有し、それぞれ独立に回動可能とされている。 A support portion 15 for supporting the observation system 6 and the main lighting system 8 is provided on the upper surface of the base 4. Further, the support portion 15 supports the background illumination system 20 shown in FIG. A support arm 16 that supports the observation system 6 is rotatably attached to the front portion of the support portion 15 in the left-right direction. A support arm 17 that supports the main lighting system 8 and the background lighting system 20 is rotatably attached to the front portion of the support arm 16. The support arms 16 and 17 each have a coaxial rotation shaft A at the front portion thereof, and can rotate independently of each other.

観察系6は、支持アーム16を手動で回動させることで移動される。主照明系8および背景照明系20は、支持アーム17を手動で回動させることで移動される。なお、各支持アーム16、17は、電気的な機構によって回動されるように構成されていてもよい。その場合、各支持アーム16、17を回動させるための駆動力を発生するアクチュエータと、 この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばステッピン グモータ(パルスモータ)により構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。 The observation system 6 is moved by manually rotating the support arm 16. The main lighting system 8 and the background lighting system 20 are moved by manually rotating the support arm 17. The support arms 16 and 17 may be configured to be rotated by an electric mechanism. In that case, an actuator for generating a driving force for rotating the support arms 16 and 17 and a transmission mechanism for transmitting the driving force are provided. The actuator is composed of, for example, a stepping motor (pulse motor). The transmission mechanism is composed of, for example, a combination of gears or a rack and pinion.

主照明系8は、被検眼Eに主照明光を照射する。主照明系8は、前述のように、回動軸Aを中心に左右方向に振ることができる。それにより被検眼Eに対する主照明光の照射方向が変更される。主照明系8は上下方向にも振れるように構成されていてもよい。つまり、主照明光の仰角や俯角を変更できるように構成されていてもよい。 The main illumination system 8 irradiates the eye E to be inspected with the main illumination light. As described above, the main lighting system 8 can be swung in the left-right direction about the rotation axis A. As a result, the irradiation direction of the main illumination light with respect to the eye E to be inspected is changed. The main lighting system 8 may be configured to swing in the vertical direction as well. That is, it may be configured so that the elevation angle and the depression angle of the main illumination light can be changed.

主照明光の強度の変更は、基台4上に設けられた照明強度操作部18を用いて行われる。なお、背景照明系20により被検眼Eに照射される背景照明光の強度についても、照明強度操作部18を用いて行えるように構成されていてもよい。また、主照明光や背景照明光の強度の変更を、他の操作部材により行えるように構成することも可能である。他の操作部材としては、スリットランプ顕微鏡1の筐体に設けられた操作部材や、コンピュータ100に設けられた操作部材がある。 The intensity of the main illumination light is changed by using the illumination intensity control unit 18 provided on the base 4. The intensity of the background illumination light radiated to the eye E to be inspected by the background illumination system 20 may also be configured so that it can be performed by using the illumination intensity control unit 18. It is also possible to configure the intensity of the main illumination light and the background illumination light so that they can be changed by other operating members. Other operating members include an operating member provided in the housing of the slit lamp microscope 1 and an operating member provided in the computer 100.

観察系6は、主照明光(および背景照明光)の被検眼Eからの反射光を案内する左右一対の光学系を有する。この光学系は鏡筒本体9内に収納されている。鏡筒本体9の終端は接眼部9aである。検者は接眼部9aをのぞき込むことで被検眼Eを肉眼で観察する。前述のように、支持アーム16を回動させることにより鏡筒本体9を左右方向に回動させることができる。それにより被検眼Eに対する観察系6の向きを変更することができる。なお、主照明光の反射光には、例えば散乱光のように被検眼Eを経由した各種の光が含まれるが、これら各種の光を含めて「反射光」と呼ぶことにする。 The observation system 6 has a pair of left and right optical systems that guide the reflected light from the eye E to be inspected for the main illumination light (and the background illumination light). This optical system is housed in the lens barrel main body 9. The end of the lens barrel body 9 is the eyepiece 9a. The examiner observes the eye E to be inspected with the naked eye by looking into the eyepiece 9a. As described above, the lens barrel body 9 can be rotated in the left-right direction by rotating the support arm 16. Thereby, the orientation of the observation system 6 with respect to the eye E to be inspected can be changed. The reflected light of the main illumination light includes various types of light that have passed through the eye E to be inspected, such as scattered light, and these various types of light are also referred to as "reflected light".

鏡筒本体9に対峙する位置には顎受け台10が配置されている。顎受け台10には、被検者の顔を安定配置させるための顎受部10aと額当て10bが設けられている。 A jaw cradle 10 is arranged at a position facing the lens barrel main body 9. The chin cradle 10 is provided with a chin rest portion 10a and a forehead pad 10b for stably arranging the face of the subject.

鏡筒本体9の側面には、観察倍率を変更するための観察倍率操作ノブ11が配置されている。更に、鏡筒本体9には、被検眼Eを撮像するための撮像装置13(撮像部)が接続されている。撮像装置13は静止画及び動画を撮影可能なカメラ、例えばCCD(Charge Coupled Device)カメラ、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)カメラのような撮像素子を有するカメラである。これらの撮像素子は入力された光を電気信号(画像信号)として出力する機能を有する。主照明系8の下方位置には、主照明系8から出力される主照明光の光束を被検眼Eに向けて反射するミラー12が配置されている。また、ミラー12は、背景照明系20から出力される背景照明光を被検眼Eに向けて反射する。 An observation magnification operation knob 11 for changing the observation magnification is arranged on the side surface of the lens barrel main body 9. Further, an imaging device 13 (imaging unit) for imaging the eye E to be inspected is connected to the lens barrel main body 9. The image pickup device 13 is a camera having an image pickup element such as a camera capable of capturing still images and moving images, for example, a CCD (Charge Coupled Device) camera or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) camera. These image pickup devices have a function of outputting the input light as an electric signal (image signal). A mirror 12 that reflects the luminous flux of the main illumination light output from the main illumination system 8 toward the eye E to be inspected is arranged below the main illumination system 8. Further, the mirror 12 reflects the background illumination light output from the background illumination system 20 toward the eye E to be inspected.

[光学系の構成]
スリットランプ顕微鏡1の光学系の構成について、図2を参照しながら説明する。スリットランプ顕微鏡1が有する光学系としては、観察系6と、主照明系8と、背景照明系20とがある。
[Optical system configuration]
The configuration of the optical system of the slit lamp microscope 1 will be described with reference to FIG. The optical system included in the slit lamp microscope 1 includes an observation system 6, a main illumination system 8, and a background illumination system 20.

〔観察系〕
観察系6は左右一対の光学系を備えている。左右の光学系は、ほぼ同様の構成を有する。検者は、この左右の光学系により被検眼Eを双眼で観察することができる。なお、図2には、観察系6の左右の光学系の一方のみが示されている。符号O1は観察系6の光軸(観察光軸)である。
[Observation system]
The observation system 6 includes a pair of left and right optical systems. The left and right optical systems have almost the same configuration. The examiner can observe the eye E to be inspected binocularly by the left and right optical systems. Note that FIG. 2 shows only one of the left and right optical systems of the observation system 6. Reference numeral O1 is an optical axis (observation optical axis) of the observation system 6.

観察系6の左右の各光学系は、対物レンズ31、変倍光学系32、絞り33、リレーレンズ35、プリズム36および接眼レンズ37を有する。また、変倍光学系32とリレーレンズ35との間に、ビームスプリッタ34が、左右の光学系の一方又は双方に設けられている。接眼レンズ37は接眼部9a内に設けられている。符号Pは、接眼レンズ37に導かれる光の結像位置を示している。符号Ecは被検眼Eの角膜を、符号Epは虹彩を、符号Erは眼底をそれぞれ示している。符号Eoは検者眼を示している。 Each of the left and right optical systems of the observation system 6 has an objective lens 31, a variable magnification optical system 32, an aperture 33, a relay lens 35, a prism 36, and an eyepiece lens 37. Further, a beam splitter 34 is provided between the variable magnification optical system 32 and the relay lens 35 in one or both of the left and right optical systems. The eyepiece lens 37 is provided in the eyepiece portion 9a. Reference numeral P indicates an imaging position of light guided to the eyepiece lens 37. The reference numeral Ec indicates the cornea of the eye E to be inspected, the reference numeral Ep indicates the iris, and the reference numeral Er indicates the fundus. The symbol Eo indicates the examiner's eye.

変倍光学系32は、複数(例えば2枚)の変倍レンズ32a、32bを含んで構成される。この実施形態では、観察系6の光路に対して選択的に挿入可能な複数の変倍レンズ群が設けられている。これら変倍レンズ群は、それぞれ異なる倍率を付与するように構成されている。観察系6の光路に配置された変倍レンズ群が変倍レンズ32a、32bとして用いられる。それにより、被検眼Eの肉眼観察像や撮影画像の倍率(画角)を変更できる。倍率の変更、つまり観察系6の光路に配置される変倍レンズ群の切り替えは、観察倍率操作ノブ11を操作することにより行われる。また、図示しないスイッチ等を用いて電動で倍率を変更するように構成してもよい。またはズームレンズとして倍率を連続的に変更可能としてもよい。 The variable magnification optical system 32 includes a plurality of (for example, two) variable magnification lenses 32a and 32b. In this embodiment, a plurality of variable magnification lens groups that can be selectively inserted into the optical path of the observation system 6 are provided. These variable magnification lens groups are configured to give different magnifications. The variable magnification lens group arranged in the optical path of the observation system 6 is used as the variable magnification lenses 32a and 32b. Thereby, the magnification (angle of view) of the macroscopic observation image of the eye E to be inspected and the photographed image can be changed. The change of the magnification, that is, the switching of the variable magnification lens group arranged in the optical path of the observation system 6 is performed by operating the observation magnification operation knob 11. Further, the magnification may be changed electrically by using a switch or the like (not shown). Alternatively, the magnification may be continuously changed as a zoom lens.

ビームスプリッタ34は、観察光軸O1に沿って進む光を二分割する。ビームスプリッタ34を透過した光は、リレーレンズ35、プリズム36および接眼レンズ37を介して検者眼Eoに導かれる。プリズム36は、2つの光学素子36a、36bを含み、光の進行方向を上方に平行移動させる。 The beam splitter 34 splits the light traveling along the observation optical axis O1 into two. The light transmitted through the beam splitter 34 is guided to the examiner's eye Eo via the relay lens 35, the prism 36, and the eyepiece 37. The prism 36 includes two optical elements 36a and 36b and translates the traveling direction of light upward.

他方、ビームスプリッタ34により反射された光は、リレーレンズ41およびミラー42を介して、撮像装置13が有するカメラの撮像素子43に導かれる。撮像素子43は、この反射光を検出して画像信号を生成しコンピュータ100に出力することで、後述する表示部に撮像画像が表示される。したがって、表示された撮像画像を通しても被検眼Eの観察が可能である。 On the other hand, the light reflected by the beam splitter 34 is guided to the image sensor 43 of the camera included in the image pickup device 13 via the relay lens 41 and the mirror 42. The image pickup device 43 detects the reflected light, generates an image signal, and outputs the image signal to the computer 100, so that the image pickup image is displayed on a display unit described later. Therefore, it is possible to observe the eye E to be inspected through the displayed captured image.

〔主照明系〕
主照明系8は、光源51、リレーレンズ52、照明絞り56、集光レンズ53、スリット形成部54および集光レンズ55を有する。符号O2は、主照明系8の光軸(主照明光軸)を示す。
[Main lighting system]
The main illumination system 8 includes a light source 51, a relay lens 52, an illumination diaphragm 56, a condenser lens 53, a slit forming portion 54, and a condenser lens 55. Reference numeral O2 indicates an optical axis (main illumination optical axis) of the main illumination system 8.

光源51は主照明光を出力する。なお、主照明系8に複数の光源を設けてもよい。例えば、定常光を出力する光源(ハロゲンランプ、LED等)と、フラッシュ光を出力する光源(キセノンランプ、LED等)の双方を光源51として設けることができる。また、角膜観察用の光源と眼底観察用の光源とを別々に設けてもよい。光源51は、可視光を出力する可視光源を少なくとも含む。 The light source 51 outputs the main illumination light. A plurality of light sources may be provided in the main lighting system 8. For example, both a light source that outputs constant light (halogen lamp, LED, etc.) and a light source that outputs flash light (xenon lamp, LED, etc.) can be provided as the light source 51. Further, a light source for observing the cornea and a light source for observing the fundus may be provided separately. The light source 51 includes at least a visible light source that outputs visible light.

スリット形成部54は、スリット光を生成するために用いられる。スリット形成部54は、一対のスリット刃を有する。これらスリット刃の間隔(スリット幅)を変更することによりスリット光の幅が変更される。 The slit forming portion 54 is used to generate slit light. The slit forming portion 54 has a pair of slit blades. The width of the slit light is changed by changing the interval (slit width) of these slit blades.

照明絞り56は、その透光部のサイズを変更可能に構成されている。照明絞り56は、特に眼底観察において有効である。例えば、照明絞り56には、角膜Ecや水晶体による主照明光の反射を低減させたり、主照明光の明るさを調整したりといった用途がある。 The illumination diaphragm 56 is configured so that the size of the translucent portion thereof can be changed. The illumination diaphragm 56 is particularly effective for fundus observation. For example, the illumination diaphragm 56 has applications such as reducing the reflection of the main illumination light by the cornea Ec and the crystalline lens, and adjusting the brightness of the main illumination light.

〔背景照明系〕
背景照明系20は、被検眼Eに背景照明光を照射する。背景照明光は、主照明系8による被検眼Eに対する主照明光の照射領域の周囲の領域に照射される。なお、背景照明光の照射領域は、少なくともこの周囲領域を含むものであればよい。例えば、背景照明光の照射領域は、主照明系8による照射領域の少なくとも一部と重複していてもよい。
[Background lighting system]
The background illumination system 20 irradiates the eye E to be inspected with background illumination light. The background illumination light is applied to the area around the irradiation region of the main illumination light for the eye E to be inspected by the main illumination system 8. The irradiation area of the background illumination light may include at least this surrounding area. For example, the irradiation area of the background illumination light may overlap with at least a part of the irradiation area by the main illumination system 8.

背景照明系20は、光源(背景光源)を含む。背景光源は、可視光を出力する可視光源を少なくとも含む。この可視光は、例えば肉眼観察や撮影に用いられる。背景光源は、赤外光を出力する赤外光源を含んでいてもよい。この赤外光は、例えばマイボーム腺の観察や撮影に用いられる。背景照明系20が可視光源と背景光源の双方を含む場合、これら光源は例えば択一的に使用される。背景照明系20は、背景光源から出力された光を集束させる1つ以上のレンズを含んでいてもよい。符号O3は、背景照明系20の光軸(背景照明光軸)を示す。 The background illumination system 20 includes a light source (background light source). The background light source includes at least a visible light source that outputs visible light. This visible light is used, for example, for macroscopic observation and imaging. The background light source may include an infrared light source that outputs infrared light. This infrared light is used, for example, for observing and photographing the meibomian glands. When the background illumination system 20 includes both a visible light source and a background light source, these light sources are used alternately, for example. The background illumination system 20 may include one or more lenses that focus the light output from the background light source. Reference numeral O3 indicates an optical axis (background illumination optical axis) of the background illumination system 20.

背景光源から出力された光は、(上記レンズによって集光された後、)ミラー12により反射されて被検眼Eに照射される。この背景照明光の照射領域は、主照明系8による被検眼Eの照射領域(スリット光の照射領域)の周囲の領域を含む。 The light output from the background light source is reflected by the mirror 12 (after being focused by the lens) and irradiated to the eye E to be inspected. The irradiation region of the background illumination light includes the region around the irradiation region (irradiation region of the slit light) of the eye E to be inspected by the main illumination system 8.

[制御系の構成]
スリットランプ顕微鏡1の制御系について、図3を参照しながら説明する。スリットランプ顕微鏡1の制御系は、制御部101を中心に構成されている。なお、制御系の構成の少なくとも一部がコンピュータ100に含まれていてもよい。
[Control system configuration]
The control system of the slit lamp microscope 1 will be described with reference to FIG. The control system of the slit lamp microscope 1 is configured around the control unit 101. The computer 100 may include at least a part of the configuration of the control system.

〔制御部〕
制御部101は、スリットランプ顕微鏡1の各部を制御する。制御部101は、観察系6の制御、主照明系8の制御、および背景照明系20の制御を行う。観察系6の制御としては、変倍光学系32の制御、絞り33の制御、撮像素子43の電荷蓄積時間、感度、フレームレート等の制御などがある。主照明系8の制御としては、光源51の制御、スリット形成部54の制御、照明絞り56の制御などがある。背景照明系20の制御としては、背景光源の制御などがある。図3に示す例では、背景光源として、可視光を出力する可視背景光源20aと、赤外光を出力する赤外背景光源20bとが設けられているが、これらのうち一方(例えば可視背景光源)のみが設けられていてもよい。
[Control unit]
The control unit 101 controls each unit of the slit lamp microscope 1. The control unit 101 controls the observation system 6, the main lighting system 8, and the background lighting system 20. The control of the observation system 6 includes control of the variable magnification optical system 32, control of the diaphragm 33, control of the charge accumulation time, sensitivity, frame rate, etc. of the image sensor 43. The control of the main lighting system 8 includes a control of the light source 51, a control of the slit forming portion 54, a control of the illumination diaphragm 56, and the like. The control of the background illumination system 20 includes the control of the background light source. In the example shown in FIG. 3, a visible background light source 20a that outputs visible light and an infrared background light source 20b that outputs infrared light are provided as background light sources, and one of them (for example, a visible background light source) is provided. ) May be provided.

制御部101は、マイクロプロセッサ、RAM、ROM、ハードディスクドライブ等を含んで構成される。ROMやハードディスクドライブ等の記憶装置には、制御プログラムがあらかじめ記憶されている。制御部101の動作は、この制御プログラムとハードウェアとが協働することによって実現される。制御部101は、スリットランプ顕微鏡1の装置本体(例えば基台4内)やコンピュータ100に配置される。 The control unit 101 includes a microprocessor, RAM, ROM, a hard disk drive, and the like. A control program is stored in advance in a storage device such as a ROM or a hard disk drive. The operation of the control unit 101 is realized by the cooperation of the control program and the hardware. The control unit 101 is arranged in the apparatus main body (for example, in the base 4) of the slit lamp microscope 1 or in the computer 100.

〔表示部〕
表示部102は、制御部101の制御を受けて各種の情報を表示することが可能である。表示部102は、LCD等のフラットパネルディスプレイなどの表示デバイスを含んで構成される。表示部102は、スリットランプ顕微鏡1の装置本体に設けられていてもよいし、コンピュータ100に設けられていてもよい。さらに、表示部102は、スリットランプ顕微鏡1とLANやインターネット等の通信網を介して接続されたものや、記憶媒体を経由して表示を行うものであってもよい。
[Display]
The display unit 102 can display various types of information under the control of the control unit 101. The display unit 102 includes a display device such as a flat panel display such as an LCD. The display unit 102 may be provided on the main body of the apparatus of the slit lamp microscope 1, or may be provided on the computer 100. Further, the display unit 102 may be connected to the slit lamp microscope 1 via a communication network such as a LAN or the Internet, or may display via a storage medium.

〔操作部〕
操作部103は、操作デバイスや入力デバイスを含んで構成される。操作部103には、スリットランプ顕微鏡1に設けられたボタンやスイッチ(例えば操作ハンドル5、照明強度操作部18等)や、コンピュータ100に設けられた操作デバイス(マウス、キーボード等)が含まれる。また、操作部103は、トラックボール、操作パネル、スイッチ、ボタン、ダイアルなど、任意の操作デバイスや入力デバイスを含んでいてよい。また、操作部103としては、撮像装置13が有するカメラにより撮像されている画像をキャプチャするトリガとなるシャッターが設けられている。当該シャッターは例えば操作ハンドル5に押下式のスイッチとして設けられている。
[Operation unit]
The operation unit 103 includes an operation device and an input device. The operation unit 103 includes buttons and switches (for example, an operation handle 5, an illumination intensity operation unit 18, etc.) provided on the slit lamp microscope 1, and an operation device (mouse, keyboard, etc.) provided on the computer 100. Further, the operation unit 103 may include any operation device or input device such as a trackball, an operation panel, a switch, a button, and a dial. Further, the operation unit 103 is provided with a shutter that serves as a trigger for capturing an image captured by the camera included in the image pickup device 13. The shutter is provided, for example, on the operation handle 5 as a push-type switch.

図3では、表示部102と操作部103とを別々に表しているが、これらの少なくとも一部を一体的に構成することも可能である。その具体例として、タッチスクリーンを用いることができる。 Although the display unit 102 and the operation unit 103 are shown separately in FIG. 3, at least a part thereof can be integrally configured. As a specific example, a touch screen can be used.

このようにスリットランプ顕微鏡1は構成され、制御部101は被検眼の画像データを取得して、表示部102に表示する。ここで、図4を参照すると、制御部101が実行する被検眼の表示ルーチンを示すフローチャートが示されている。また、図5には第1の画像例(a)及び第2の画像例(b)が、図6には第3の画像例がそれぞれ示されており、途中これらの図を参照しつつ、図4のフローチャートに沿って制御部101が行う被検眼の表示方法について説明する。 The slit lamp microscope 1 is configured in this way, and the control unit 101 acquires image data of the eye to be inspected and displays it on the display unit 102. Here, referring to FIG. 4, a flowchart showing a display routine of the eye to be inspected executed by the control unit 101 is shown. Further, FIG. 5 shows a first image example (a) and a second image example (b), and FIG. 6 shows a third image example. While referring to these figures on the way, A method of displaying the eye to be inspected by the control unit 101 will be described with reference to the flowchart of FIG.

図4に示すように、被検眼Eの表示ルーチンでは、まずステップS1として制御部101は撮影条件を設定する。撮影条件としては、少なくとも主照明系8を点灯状態として被検眼Eにスリット光を照射する。その他にも、撮影条件としては、例えば観察位置アライメント、観察倍率の決定、ピント調整、スリット幅調整、スリット輝度調整、スリット入射角調整、背景光源の点灯や消灯等がある。これらの撮影条件の設定は検者が被検眼Eを観察しながら手動で設定してもよいし、予め撮影条件を設定しておき制御部101による自動制御で行ってもよい。 As shown in FIG. 4, in the display routine of the eye E to be inspected, the control unit 101 first sets the imaging conditions as step S1. As a shooting condition, at least the main lighting system 8 is lit and the eye E to be inspected is irradiated with slit light. Other imaging conditions include, for example, observation position alignment, observation magnification determination, focus adjustment, slit width adjustment, slit brightness adjustment, slit incident angle adjustment, and turning on / off of the background light source. These imaging conditions may be set manually by the examiner while observing the eye E to be inspected, or the imaging conditions may be set in advance and automatically controlled by the control unit 101.

次にステップS2において、制御部101は、シャッターが押下されたか否かを判別する。当該判別結果が偽(No)である場合、即ちシャッターが押下されていないうちは、上記ステップS1に戻り、撮影条件の設定が継続される。一方、当該判別結果が真(Yes)である場合、即ちシャッター押下による撮影要求があった場合には、ステップS3に進む。 Next, in step S2, the control unit 101 determines whether or not the shutter has been pressed. If the determination result is false (No), that is, while the shutter is not pressed, the process returns to step S1 and the setting of shooting conditions is continued. On the other hand, if the determination result is true (Yes), that is, if there is a shooting request by pressing the shutter, the process proceeds to step S3.

ステップS3として制御部101は、背景照明系20を消灯状態にする。つまり、このときに背景照明系20が点灯状態にある場合には、制御部101は背景光源を消灯するよう切り替え、背景照明系20がすでに消灯状態である場合にはその状態を維持する。なお、上述したように背景照明系20は可視背景光源20aと赤外背景光源20bを含んでおり、ここでは少なくとも可視背景光源20aを消灯状態にする。 As step S3, the control unit 101 turns off the background lighting system 20. That is, at this time, when the background lighting system 20 is in the lighting state, the control unit 101 switches to turn off the background light source, and when the background lighting system 20 is already in the lighting state, the state is maintained. As described above, the background illumination system 20 includes the visible background light source 20a and the infrared background light source 20b, and at least the visible background light source 20a is turned off here.

次にステップS4として制御部101は、第1の画像P1のキャプチャ及び保存を行う(第1の撮影工程)。詳しくは、制御部101は、被検眼Eに主照明系8によるスリット光が照射され、且つ、背景照明系20が消灯状態で、撮像装置13より出力された撮像画像を第1の画像P1としてキャプチャし、例えば制御部101が備える記憶装置に記憶する。以下、このように撮像装置13により出力された撮像画像をキャプチャし保存することを撮影ともいう。この第1の画像P1は、図5(a)に示すように、背景照明系20が消灯しているため、スリット光照射領域S1のみが明るく、その周囲領域である背景領域B1は暗く示される。なお、図5(a)において暗い部分は斜線で示している(以下同じ)。 Next, as step S4, the control unit 101 captures and saves the first image P1 (first photographing step). Specifically, the control unit 101 uses the captured image output from the imaging device 13 as the first image P1 while the eye E to be inspected is irradiated with the slit light by the main illumination system 8 and the background illumination system 20 is turned off. It is captured and stored in, for example, a storage device included in the control unit 101. Hereinafter, capturing and saving the captured image output by the imaging device 13 in this way is also referred to as shooting. In this first image P1, as shown in FIG. 5A, since the background illumination system 20 is turned off, only the slit light irradiation region S1 is bright, and the background region B1 which is the surrounding region is dark. .. The dark part in FIG. 5A is indicated by a diagonal line (the same applies hereinafter).

続くステップS5として、制御部101は、背景照明系20を点灯状態にする。なお、ここでは少なくとも可視背景光源20aを点灯状態にする。 In the following step S5, the control unit 101 turns on the background illumination system 20. Here, at least the visible background light source 20a is turned on.

次にステップS6として、制御部101は、第2の画像P2のキャプチャ及び保存(撮影)を行う(第2の撮影工程)。詳しくは、制御部101は、被検眼Eに主照明系8によるスリット光が照射され、且つ、背景照明系20が点灯状態で、撮像装置13より出力された撮像画像を第2の画像P2としてキャプチャし、例えば制御部101が備える記憶装置に記憶する。この第2の画像P2は、図5(b)に示すように、背景照明系20が点灯しているため、スリット光照射領域S2だけでなく、周囲領域である背景領域B2も明るく示される。 Next, as step S6, the control unit 101 captures and saves (shoots) the second image P2 (second shooting step). Specifically, the control unit 101 uses the captured image output from the imaging device 13 as the second image P2 while the eye E to be inspected is irradiated with the slit light by the main illumination system 8 and the background illumination system 20 is lit. It is captured and stored in, for example, a storage device included in the control unit 101. In this second image P2, as shown in FIG. 5B, since the background illumination system 20 is lit, not only the slit light irradiation region S2 but also the background region B2 which is a peripheral region is shown brightly.

次にステップS7として、制御部101は、第1の画像P1と第2の画像P2との合成を行うか否かについて判別する。これは、例えば操作部103により予め合成を行うか否かの設定が可能であり、制御部101はこの設定に基づいて当該判別を行う。当該判別結果が偽(No)である場合、即ち合成しないよう設定されていた場合は、ステップS8に進む。 Next, in step S7, the control unit 101 determines whether or not to combine the first image P1 and the second image P2. For example, the operation unit 103 can set in advance whether or not to perform the synthesis, and the control unit 101 makes the determination based on this setting. If the determination result is false (No), that is, if it is set not to synthesize, the process proceeds to step S8.

ステップS8において、制御部101は第1の画像P1と第2の画像P2の両方又はどちらか一方を表示部102に表示させ、当該ルーチンを終了する(表示工程)。ここでの第1の画像P1及び第2の画像P2の表示は、表示部102にて並べて同時に表示してもよいし、第1の画像P1と第2の画像P2とを連続的に切り替えて表示してもよい。 In step S8, the control unit 101 causes the display unit 102 to display both or one of the first image P1 and the second image P2, and ends the routine (display step). The display of the first image P1 and the second image P2 here may be displayed side by side on the display unit 102 at the same time, or the first image P1 and the second image P2 may be continuously switched. It may be displayed.

一方、上記ステップS7の判別結果が真(Yes)である場合、即ち合成するよう設定されていた場合、ステップS9に進む。 On the other hand, if the determination result in step S7 is true (Yes), that is, if it is set to synthesize, the process proceeds to step S9.

ステップS9では、制御部101は第1の画像P1のスリット光照射領域S1と第2の画像P2のスリット光照射領域S2の位置のずれが許容範囲内であるか否かについて判別する。これは、例えば第1の画像P1と第2の画像P2とを重ね合わせ、それぞれのスリット光照射領域S1、S2の特徴点を選定して、対応する特徴点同士のずれ量を算出し、当該ずれ量が予め定めた閾値以上であるか否かで判別する。当該判別結果が偽(No)である場合、即ちスリット光照射領域S1、S2の位置のずれが許容範囲外である場合は、制御部101はステップS1の撮影条件の設定に戻る。一方、当該判別結果が真(Yes)である場合、即ちスリット光照射領域S1、S2の位置のずれ許容範囲内である場合はステップS10に進む。 In step S9, the control unit 101 determines whether or not the displacement between the slit light irradiation region S1 of the first image P1 and the slit light irradiation region S2 of the second image P2 is within the allowable range. In this method, for example, the first image P1 and the second image P2 are superposed, feature points of the slit light irradiation regions S1 and S2 are selected, and the amount of deviation between the corresponding feature points is calculated. It is determined whether or not the deviation amount is equal to or greater than a predetermined threshold value. If the determination result is false (No), that is, if the displacement of the slit light irradiation areas S1 and S2 is out of the permissible range, the control unit 101 returns to the setting of the imaging conditions in step S1. On the other hand, if the determination result is true (Yes), that is, if the positions of the slit light irradiation regions S1 and S2 are within the allowable deviation range, the process proceeds to step S10.

これより以下ステップS10、S11、S12は、図6に示すように第1の画像P1と第2の画像P2とを合成し、第3の画像P3を生成する工程である(合成工程)。 From this point onward, steps S10, S11, and S12 are steps of synthesizing the first image P1 and the second image P2 to generate the third image P3 as shown in FIG. 6 (synthesis step).

具体的には、ステップS10では、制御部101は第1の画像P1のうちスリット光照射領域S1を切り出したスリット像部S3を取得する。 Specifically, in step S10, the control unit 101 acquires the slit image unit S3 obtained by cutting out the slit light irradiation region S1 from the first image P1.

続くステップS11では、制御部101は第2の画像P2のうちスリット光照射領域S2を切り抜いた背景部B3を取得する。 In the following step S11, the control unit 101 acquires the background portion B3 obtained by cutting out the slit light irradiation region S2 from the second image P2.

そして、ステップS12において、制御部101はステップS10において取得したスリット像部S3とステップS11で取得した背景部B3とを一体化させることで第3の画像P3を生成する。つまり、図6に示すように、スリット像部S3を、背景部B3において切り抜かれている部分にはめ込むことで第3の画像P3を生成している。そして、このように生成した第3の画像P3を表示部102に表示して当該ルーチンを終了する(表示工程)。 Then, in step S12, the control unit 101 generates a third image P3 by integrating the slit image unit S3 acquired in step S10 and the background unit B3 acquired in step S11. That is, as shown in FIG. 6, the third image P3 is generated by fitting the slit image portion S3 into the portion cut out in the background portion B3. Then, the third image P3 generated in this way is displayed on the display unit 102, and the routine is terminated (display step).

また、制御部101は、表示部102に表示された第3の画像P3において、スリット像部S3(スリット光照射領域)及び背景部B3(周囲領域)の明暗を調節可能である(明暗調整工程)。例えば、図7(a)に示す第3の画像P3’のように、背景部B3’を暗くしていき、スリット像部S3を際立させたり、図7(b)に示す第3の画像P3''のように、スリット像部S3''を暗くしていき、背景部B3を際立たせたりすることができる。こうしてスリット像部S3と背景部B3とのコントラストを調整できることとなる。 Further, the control unit 101 can adjust the brightness of the slit image portion S3 (slit light irradiation region) and the background portion B3 (surrounding region) in the third image P3 displayed on the display unit 102 (brightness adjustment step). ). For example, as in the third image P3'shown in FIG. 7 (a), the background portion B3'is darkened to make the slit image portion S3 stand out, or the third image shown in FIG. 7 (b). As in P3'', the slit image portion S3'' can be darkened to make the background portion B3 stand out. In this way, the contrast between the slit image portion S3 and the background portion B3 can be adjusted.

以上のようにして、まずスリットランプ顕微鏡1は背景照明系20が消灯状態の第1の画像P1の撮影と背景照明系20が点灯状態の第2の画像P2の撮影を一連の動作で行い、これら第1の画像P1、第2の画像P2を表示部102にて表示することができる。したがって、主たる観察部位であるスリット光照射領域S1が高コントラストに示されている第1の画像P1と、被検眼E全体が鮮明に示されている第2の画像P2とを同時に又は連続して確認することができ、表示部102を通して被検眼Eの観察部位と全体とを容易に見比べることができる。これにより専門知識を持っていなくとも、被検眼Eの観察部位が全体のどの位置にあり、その観察部位の様子も精査することができる。 As described above, the slit lamp microscope 1 first captures the first image P1 in which the background illumination system 20 is off and the second image P2 in which the background illumination system 20 is on in a series of operations. The first image P1 and the second image P2 can be displayed on the display unit 102. Therefore, the first image P1 in which the slit light irradiation region S1 which is the main observation site is shown with high contrast and the second image P2 in which the entire eye E to be inspected is clearly shown are displayed simultaneously or continuously. It can be confirmed, and the observed portion of the eye E to be inspected and the whole can be easily compared through the display unit 102. As a result, even if the person does not have specialized knowledge, the observation site of the eye E to be inspected can be located at any position in the whole, and the state of the observation site can be closely examined.

また、第1の画像P1からスリット光照射領域S1を切り出したスリット像部S3と第2の画像P2からスリット光照射領域S2を切り抜いた背景部B3とを合成して第3の画像P3生成することによって、一枚の画像で被検眼E全体と観察部位の細部とを同時に観察することができる。これにより、より容易に被検眼Eの観察を行うことができる。 Further, the slit image portion S3 obtained by cutting out the slit light irradiation region S1 from the first image P1 and the background portion B3 obtained by cutting out the slit light irradiation region S2 from the second image P2 are combined to generate the third image P3. As a result, the entire eye E to be inspected and the details of the observation site can be observed at the same time with one image. As a result, the eye E to be inspected can be observed more easily.

また、第1の画像P1のスリット光照射領域S1と第2の画像P2のスリット光照射領域S2の位置のずれが許容範囲内にある場合にのみ第3の画像P3を生成することによって、精度の低い合成画像が生成されることを排除することができる。これによって、より信頼性の高い観察を行うことができる Further, the accuracy is obtained by generating the third image P3 only when the positional deviation between the slit light irradiation region S1 of the first image P1 and the slit light irradiation region S2 of the second image P2 is within the allowable range. It is possible to eliminate the generation of low composite images. This allows for more reliable observations.

また、第3の画像P3においてスリット像部S3及び背景部B3の明暗を必要に応じて調節することができることで、さらに被検眼Eを観察しやすくすることができる。 Further, in the third image P3, the brightness of the slit image portion S3 and the background portion B3 can be adjusted as necessary, so that the eye E to be inspected can be further easily observed.

また、本実施形態のスリットランプ顕微鏡1では、シャッターを一度押下するだけで第1の画像及び第2の画像の撮影が行われることから、従来と変わらない操作で第1の画像及び第2の画像の撮影や、第3の画像の生成等が行うことができる。 Further, in the slit lamp microscope 1 of the present embodiment, since the first image and the second image are taken only by pressing the shutter once, the first image and the second image can be taken by the same operation as before. It is possible to take an image, generate a third image, and the like.

このようなことから、本実施形態に係る眼科装置及び被検眼表示方法によれば、より容易に客観的な被検眼の観察を行うことができる。 Therefore, according to the ophthalmic apparatus and the method for displaying the eye to be inspected according to the present embodiment, it is possible to more easily and objectively observe the eye to be inspected.

以上で本発明の実施形態の説明を終えるが、本発明の態様はこの実施形態に限定されるものではない。 Although the description of the embodiment of the present invention is completed above, the aspect of the present invention is not limited to this embodiment.

上記実施形態におけるスリットランプ顕微鏡1の観察系6は、撮像装置13により撮像した被検眼Eの画像を表示部102を通して観察できる他、接眼レンズ37を通して肉眼で被検眼の観察を行うこともできるが、本発明は撮像装置による観察のみが行えるスリットランプ顕微鏡にも適用できる。 The observation system 6 of the slit lamp microscope 1 in the above embodiment can observe the image of the eye to be inspected E captured by the image pickup apparatus 13 through the display unit 102, and can also observe the eye to be inspected with the naked eye through the eyepiece 37. The present invention can also be applied to a slit lamp microscope that can only be observed by an imaging device.

また、上記実施形態では被検眼の表示ルーチンとして、第1の画像P1の撮影(ステップS3、S4)の後に、第2の画像P2の撮影(ステップS5、S6)を行っているが、これらの順序はこれに限られるものではなく、例えば第2の画像の撮影を第1の画像の撮影よりも先に行ってもよい。 Further, in the above embodiment, as a display routine of the eye to be inspected, the second image P2 is photographed (steps S5 and S6) after the first image P1 is photographed (steps S3 and S4). The order is not limited to this, and for example, the second image may be taken before the first image is taken.

また、上記実施形態では第3の画像P3の生成において、第1の画像P1からスリット像部S3を取得(ステップS10)した後に、第2の画像から背景部B3を取得(ステップS11)しているが、これらの順序もこれに限られるものではなく、例えば第2の画像からの背景部の取得を、第1の画像からのスリット像部の取得よりも先に行ってもよい。 Further, in the above embodiment, in the generation of the third image P3, after the slit image portion S3 is acquired from the first image P1 (step S10), the background portion B3 is acquired from the second image (step S11). However, the order thereof is not limited to this, and for example, the acquisition of the background portion from the second image may be performed before the acquisition of the slit image portion from the first image.

また、上記実施形態では、第3の画像P3を生成して表示部102に表示しているが(ステップS12)、このとき第3の画像P3だけでなく第1の画像P1、第2の画像P2も同時に又は連続して表示部102に表示してもよい。 Further, in the above embodiment, the third image P3 is generated and displayed on the display unit 102 (step S12), but at this time, not only the third image P3 but also the first image P1 and the second image are displayed. P2 may also be displayed on the display unit 102 simultaneously or continuously.

また、上記実施形態では、第2の画像は、被検眼Eにスリット光が照射され、且つ、背景照明系20が被検眼に照射しつつ背景照明系を点灯状態で撮影されているが、必ずしもスリット光は照射されている必要はなく、主照明系が消灯状態で、背景照明系20のみが点灯状態であるときに撮影してもよい。その場合、第3の画像を生成する際には、第2の画像においてスリット光の照射領域を推定して、当該推定部分を切り抜いて背景部を取得すればよい。 Further, in the above embodiment, the second image is taken with the background illumination system lit while the subject eye E is irradiated with the slit light and the background illumination system 20 irradiates the subject eye. The slit light does not need to be irradiated, and may be taken when the main lighting system is off and only the background lighting system 20 is on. In that case, when the third image is generated, the irradiation region of the slit light may be estimated in the second image, and the estimated portion may be cut out to acquire the background portion.

さらに、上記実施形態では、第1の画像P1のスリット光照射領域S1と第2の画像P2のスリット光照射領域S2の特徴点のずれ量から両画像のずれを判別しているが、特徴点の選定はスリット光照射領域に限るものではない。例えば、目の瞳孔から特徴点を選定してもよい。 Further, in the above embodiment, the deviation between the two images is determined from the deviation amount of the feature points of the slit light irradiation region S1 of the first image P1 and the slit light irradiation region S2 of the second image P2. The selection of is not limited to the slit light irradiation area. For example, a feature point may be selected from the pupil of the eye.

また、上記実施形態では、第1の画像及び第2の画像を撮影するシャッターが操作ハンドル5に設けられた押下式のスイッチであるが、第1の画像及び第2の画像を撮影するためのトリガはこれに限られるものでなく、例えばキーボードやマウスによる操作でもよい。 Further, in the above embodiment, the shutter for capturing the first image and the second image is a push-type switch provided on the operation handle 5, but for capturing the first image and the second image. The trigger is not limited to this, and may be operated by a keyboard or a mouse, for example.

1 スリットランプ顕微鏡(眼科装置)
6 観察系
8 照明系
13 撮像装置(撮像部)
20 背景照明系
20a 可視背景光源
20b 赤外可視光源
37 接眼レンズ
51 光源
54 スリット形成部
100 コンピュータ
101 制御部
102 表示部
103 操作部
E 被検眼
P1 第1の画像
P2 第2の画像
P3 第3の画像
S1、S2 スリット光照射領域
S3 スリット像部
B1、B2 背景領域
B3 背景部
1 Slit lamp microscope (ophthalmic equipment)
6 Observation system 8 Lighting system 13 Imaging device (imaging unit)
20 Background illumination system 20a Visible background light source 20b Infrared visible light source 37 Eyepiece 51 Light source 54 Slit forming unit 100 Computer 101 Control unit 102 Display unit 103 Operation unit E Eye to be inspected P1 First image P2 Second image P3 Third Image S1, S2 Slit light irradiation area S3 Slit image part B1, B2 Background area B3 Background part

Claims (8)

被検眼にスリット光を照射する主照明系と、
前記主照明系による前記スリット光の照射領域に対する周囲領域を照明する背景照明系と、
前記周囲領域を含めて前記被検眼を撮像する撮像部を有する観察系と、
前記被検眼に前記主照明系によるスリット光が照射され且つ前記背景照明系が消灯状態であるときに前記撮像部により第1の画像を撮影させ、前記背景照明系が点灯状態であるときに前記撮像部により第2の画像を撮影させ、前記第1の画像から前記スリット光の照射領域を切り出したスリット像部と、前記第2の画像から前記スリット光の照射領域を切り抜いた背景部とを合成した第3の画像を生成する制御部と、
少なくとも前記第1の画像、第2の画像、及び前記第の画像を表示可能な表示部と、
を備える眼科装置。
The main lighting system that irradiates the eye to be inspected with slit light,
A background lighting system that illuminates the surrounding area with respect to the slit light irradiation area by the main lighting system,
An observation system having an imaging unit that images the eye to be inspected including the surrounding area,
When the eye to be inspected is irradiated with slit light by the main illumination system and the background illumination system is off, the imaging unit is made to take a first image, and when the background illumination system is on, the image is taken. A slit image portion obtained by capturing a second image by the imaging unit and cutting out the slit light irradiation region from the first image, and a background portion obtained by cutting out the slit light irradiation region from the second image. a control unit that generates a third image-synthesized,
A display unit capable of displaying at least the first image , the second image, and the third image, and
An ophthalmic device equipped with.
前記制御部は、前記第1の画像と、前記第2の画像のそれぞれに対応する特徴点の位置のずれが所定範囲内である場合にのみ前記第3の画像を生成する請求項記載の眼科装置。 Wherein the control unit includes a first image, of respective displacement positions of feature points corresponding to to generate the third image only if it is within a predetermined range according to claim 1, wherein said second image Ophthalmic device. 前記制御部は、前記第3の画像における前記スリット像部及び背景部の少なくともいずれか一方の領域の明暗を調節可能である請求項又は記載の眼科装置。 The ophthalmic apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the control unit can adjust the brightness of at least one of the slit image portion and the background portion in the third image. 前記制御部は、1つのトリガ操作で、少なくとも前記撮像部による前記第1の画像及び第2の画像の撮影を行う請求項1からのいずれか一項に記載の眼科装置。 The ophthalmic apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the control unit captures at least the first image and the second image by the imaging unit with one trigger operation. 被検眼にスリット光を照射する主照明系と、前記主照明系による前記スリット光の照射領域に対する周囲領域を照明する背景照明系と、前記周囲領域を含めて前記被検眼を撮像する撮像部を有する観察系と、前記撮像部により撮影した画像を表示可能な表示部と、を有する眼科装置の被検眼表示方法であって、
前記被検眼に前記主照明系によるスリット光が照射され且つ前記背景照明系が消灯状態であるときに前記撮像部により第1の画像を撮影する第1の撮影工程と、
前記背景照明系が点灯状態であるときに前記撮像部により第2の画像を撮影させる第2の撮影工程と、
前記第1の画像から前記スリット光の照射領域を切り出したスリット像部と、前記第2の画像から前記スリット光の照射領域を切り抜いた背景部とを合成した第3の画像を生成する合成工程と、
少なくとも前記第1の画像、前記第2の画像、及び前記第の画像を前記表示部に表示する表示工程と、
を備える被検眼表示方法。
A main illumination system that irradiates the eye to be inspected with slit light, a background illumination system that illuminates the ambient area of the slit light irradiation region by the main illumination system, and an imaging unit that images the eye to be inspected including the peripheral region A method for displaying an eye to be inspected by an ophthalmic apparatus having an observation system and a display unit capable of displaying an image captured by the imaging unit.
A first imaging step of capturing a first image by the imaging unit when the eye to be inspected is irradiated with slit light by the main illumination system and the background illumination system is off.
A second photographing step of causing the imaging unit to acquire a second image when the background illumination system is lit,
A compositing step of generating a third image in which a slit image portion obtained by cutting out the slit light irradiation region from the first image and a background portion obtained by cutting out the slit light irradiation region from the second image are combined. When,
A display step of displaying at least the first image , the second image, and the third image on the display unit.
A method of displaying an eye to be inspected.
前記合成工程は、前記第1の画像と、前記第2の画像のそれぞれに対応する特徴点の位置のずれが所定範囲内である場合にのみ前記第3の画像を生成する請求項記載の被検眼表示方法。 The synthesis steps, with the first image, the respective deviation of the position of the feature point corresponding to to generate the third image only if it is within a predetermined range according to claim 5, wherein said second image Examination eye display method. 前記第3の画像における前記スリット像部及び背景部の少なくともいずれか一方の領域の明暗を調節する明暗調整工程をさらに備える請求項又は記載の被検眼表示方法。 The eye display method according to claim 5 or 6 , further comprising a light / dark adjustment step of adjusting the light / darkness of at least one of the slit image portion and the background portion in the third image. 少なくとも前記第1の撮影工程及び前記第2の撮影工程は、1つのトリガ操作で行われる請求項からのいずれか一項に記載の被検眼表示方法。
The eye display method according to any one of claims 5 to 7 , wherein at least the first imaging step and the second imaging step are performed by one trigger operation.
JP2016178242A 2016-09-13 2016-09-13 Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected Active JP6784550B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016178242A JP6784550B2 (en) 2016-09-13 2016-09-13 Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016178242A JP6784550B2 (en) 2016-09-13 2016-09-13 Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018042644A JP2018042644A (en) 2018-03-22
JP6784550B2 true JP6784550B2 (en) 2020-11-11

Family

ID=61692368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016178242A Active JP6784550B2 (en) 2016-09-13 2016-09-13 Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6784550B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7318273B2 (en) * 2019-03-29 2023-08-01 株式会社ニデック OPHTHALMIC PHOTOGRAPHY AND OPHTHALMIC IMAGE PROCESSING PROGRAM
JP7220471B2 (en) * 2019-11-27 2023-02-10 株式会社タカギセイコー Slit-lamp microscope capable of observing meibomian glands

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018042644A (en) 2018-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5748268B2 (en) Meibomian gland observation device
JP5606813B2 (en) Ophthalmic equipment
US9364146B2 (en) Slit lamp microscope
JP4244160B2 (en) Fundus camera
WO2009110175A1 (en) Stereomicroscope
JP2016179004A (en) Slit lamp microscope and control method thereof
JP6518126B2 (en) Slit lamp microscope
JP5101370B2 (en) Fundus photographing device
WO2012169416A1 (en) Slit lamp microscope
US10039449B2 (en) Slit lamp microscope
JP6784550B2 (en) Ophthalmic device and method of displaying the eye to be inspected
JP3576671B2 (en) Ophthalmic imaging equipment
JP5522841B2 (en) Fundus photographing device
JP6585377B2 (en) Slit lamp microscope
JP2008136617A (en) Ophthalmologic apparatus
JP2019155147A (en) Ophthalmologic system including slit lamp microscope
JP2016174759A (en) Slit lamp microscope
JP2016174758A (en) Slit lamp microscope
JP7266434B2 (en) Ophthalmic device and method of operation thereof
WO2022091431A1 (en) Ophthalmological observation device
JP7035231B2 (en) Slit lamp microscope
JP7204546B2 (en) Ophthalmic device and method of operation thereof
JP6958367B2 (en) Fundus photography device
JP2023120028A (en) Ophthalmic laser treatment device
JP2020044198A (en) Optometer

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190903

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200728

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200722

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200914

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20201020

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201023

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6784550

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250