JP6780587B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示素子の製造方法などに関する。特に、高分子支持配向型の液晶表示素子を製造する方法に関する。
液晶表示素子において、液晶分子の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＦＦＳ（fringe field switching）、ＦＰＡ（field-induced photo-reactive alignment）などのモードである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭはスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。ＴＦＴは、材料によって非晶質シリコン（amorphous silicon）と多結晶シリコン（polycrystal silicon）とに分類される。後者は製造工程によって高温型と低温型とにさらに分類される。光源に基づいた分類は、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型である。
液晶表示素子はネマチック相を有する液晶組成物を含有する。この組成物は適切な特性を有する。この組成物の特性を向上させることによって、良好な特性を有するＡＭ素子を得ることができる。これらの特性における関連を下記の表１にまとめる。組成物の特性を市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は約７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は約−１０℃以下である。組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。１ミリ秒でもより短い応答時間が望ましい。したがって、組成物における小さな粘度が好ましい。低い温度における小さな粘度はより好ましい。
組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。素子のモードに応じて、大きな光学異方性または小さな光学異方性、すなわち適切な光学異方性が必要である。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。適切な積の値は動作モードの種類に依存する。この値は、ＶＡモードの素子では約０．３０μｍから約０．４０μｍの範囲であり、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの素子では約０．２０μｍから約０．３０μｍの範囲である。これら場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。組成物における大きな誘電率異方性は、素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、素子における大きな電圧保持率と大きなコントラスト比とに寄与する。したがって、初期段階において大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用したあと、大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。紫外線や熱に対する組成物の安定性は、素子の寿命に関連する。この安定性が高いとき、素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。
高分子支持配向（ＰＳＡ；polymer sustained alignment）型の液晶表示素子では、重合体を含有する液晶組成物が用いられる。まず、少量の重合性化合物を添加した組成物を素子に注入する。次に、この素子の基板のあいだに電圧を印加しながら、組成物に紫外線を照射する。重合性化合物は重合して、組成物中に重合体の網目構造を生成する。この組成物では、重合体によって液晶分子の配向を制御することが可能になるので、素子の応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善される。重合体のこのような効果は、ＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＦＦＳ、ＦＰＡのようなモードを有する素子に期待できる。
ＴＮモードを有するＡＭ素子においては正の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＶＡモードを有するＡＭ素子においては負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、またはＦＰＡモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。
本発明の１つの目的は、重合性化合物を含有する液晶組成物を提供することであり、ここで重合性化合物は、液晶性化合物との高い相溶性を有する。別の目的は、この重合性化合物から生じた重合体の作用によって液晶分子の垂直配向が達成可能な液晶組成物を提供することである。別の目的は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性のような特性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。別の目的は、これらの特性において、少なくとも２つのあいだで適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。別の目的は、このような組成物を含有する液晶表示素子を提供することである。別の目的は、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命のような特性を有する高分子支持配向型の液晶表示素子を提供することである。別の目的は、このような高分子支持配向型の素子を製造する方法を提供することである。
本発明は、製造方法に関する。重合性化合物を添加物として含有し、ネマチック相および負の誘電率異方性を有する液晶組成物を有する液晶表示素子から、高分子支持配向型の液晶表示素子を製造する製造方法において、前記添加物が、式（１）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物であり、前記液晶組成物を、配向膜および電極を有する２つの基板の間に封入し、前記基板の間に特定の電圧を印加しながら、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から２００ｍＷ／ｃｍ２の範囲である第一紫外線を前記基板に１４秒から５８０秒の間照射し、次に前記基板の間に電圧を印加せずに、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から１００ｍＷ／ｃｍ２の範囲である第二紫外線を前記基板に１０分から６０分の間照射する、製造方法に関する。式（１）の記号の定義は、項１を参照のこと。
本発明の１つの長所は、重合性化合物を含有する液晶組成物を提供することであり、ここで重合性化合物は、液晶性化合物との高い相溶性を有する。別の長所は、この重合性化合物から生じた重合体の作用によって液晶分子の垂直配向が達成可能な液晶組成物を提供することである。別の長所は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性のような特性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。別の長所は、これらの特性において、少なくとも２つのあいだで適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。別の長所は、このような組成物を含有する液晶表示素子を提供することである。別の長所は、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命のような特性を有する高分子支持配向型の液晶表示素子を提供することである。別の長所は、このような高分子支持配向型の素子を製造する方法を提供することである。
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。「液晶組成物」および「液晶表示素子」の用語をそれぞれ「組成物」および「素子」と略すことがある。「液晶表示素子」は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが、ネマチック相の温度範囲、粘度、誘電率異方性のような特性を調節する目的で組成物に混合される化合物の総称である。この化合物は、例えば１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を有し、その分子構造は棒状（rod like）である。「重合性化合物」は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加する化合物である。アルケニルを有する液晶性化合物は、その意味では重合性ではない。
液晶組成物は、複数の液晶性化合物を混合することによって調製される。この液晶組成物に、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物のような添加物が必要に応じて添加される。液晶性化合物の割合は、添加物を添加した場合であっても、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。添加物の割合は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。すなわち、液晶性化合物や添加物の割合は、液晶性化合物の全重量に基づいて算出される。重量百万分率（ｐｐｍ）が用いられることがある。重合開始剤および重合禁止剤の割合は、例外的に重合性化合物の重量に基づいて表される。
「ネマチック相の上限温度」を「上限温度」と略すことがある。「ネマチック相の下限温度」を「下限温度」と略すことがある。「比抵抗が大きい」は、組成物が初期段階において大きな比抵抗を有し、そして長時間使用したあと、大きな比抵抗を有することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。組成物や素子の特性を検討するために、経時変化試験が使われることがある。「誘電率異方性を上げる」の表現は、誘電率異方性が正である組成物のときは、その値が正に増加することを意味し、誘電率異方性が負である組成物のときは、その値が負に増加することを意味する。
式（１）で表される化合物を「化合物（１）」と略すことがある。式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を「化合物（１）」と略すことがある。「化合物（１）」は、式（１）で表される１つの化合物、２つの化合物の混合物、または３つ以上の化合物の混合物を意味する。他の式で表される化合物についても同様である。「少なくとも１つの‘Ａ’」の表現は、‘Ａ’の数は任意であることを意味する。「少なくとも１つの‘Ａ’は、‘Ｂ’で置き換えられてもよい」の表現は、‘Ａ’の数が１つのとき、‘Ａ’の位置は任意であり、‘Ａ’の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できる。このルールは、「少なくとも１つの‘Ａ’が、‘Ｂ’で置き換えられた」の表現にも適用される。
「少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよい」のような表現がこの明細書で使われる。この場合、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−は、隣接しない−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられることによって−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−に変換されてもよい。しかしながら、隣接した−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられることはない。この置き換えでは−Ｏ−Ｏ−ＣＨ２−（ペルオキシド）が生成するからである。すなわち、この表現は、「１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよい」と「少なくとも２つの隣接しない−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよい」の両方とを意味する。このルールは、−Ｏ−への置き換えだけでなく、−ＣＨ＝ＣＨ−や−ＣＯＯ−のような二価基への置き換えにも適用される。
成分化合物の化学式において、末端基Ｒ１の記号を複数の化合物に用いた。これらの化合物において、任意の２つのＲ１が表す２つの基は同一であってもよく、または異なってもよい。例えば、化合物（２−１）のＲ１がエチルであり、化合物（２−２）のＲ１がエチルであるケースがある。化合物（２−１）のＲ１がエチルであり、化合物（２−２）のＲ１がプロピルであるケースもある。このルールは、他の末端基などの記号にも適用される。式（２）において、ｄが２のとき、２つの環Ｄが存在する。この化合物において、２つの環Ｄが表す２つの環は、同一であってもよく、または異なってもよい。このルールは、ｄが２より大きいとき、任意の２つの環Ｄにも適用される。このルールは、Ｚ１、環Ｆなどの記号にも適用される。このルールは、化合物（１−４）における２つの−Ｓｐ２−Ｐ５のような場合にも適用される。
六角形で囲んだＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄなどの記号はそれぞれ環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄなどの環に対応し、六員環、縮合環などの環を表す。この六角形の一辺を横切る斜線は、環上の任意の水素が−Ｓｐ１−Ｐ１などの基で置き換えられてもよいことを表す。‘ａ’などの添え字は、置き換えられた基の数を示す。添え字‘ａ’が０（ゼロ）のとき、そのような置き換えはない。添え字‘ａ’が２以上のとき、環Ａ上には複数の−Ｓｐ１−Ｐ１が存在する。−Ｓｐ１−Ｐ１が表す複数の基は、同一であってもよく、または異なってもよい。「環Ａおよび環Ｃは独立して、Ｘ、Ｙ、またはＺである」の表現では、主語が複数であるから、「独立して」を用いる。主語が「環Ａ」であるときは、主語が単数であるから「独立して」を用いない。
液晶性化合物のアルキルは、直鎖状または分岐状であり、環状アルキルを含まない。直鎖状アルキルは、分岐状アルキルよりも好ましい。これらのことは、アルコキシ、アルケニルなどの末端基についても同様である。１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。化学式において、フッ素は左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルのような、環から２つの水素を除くことによって生成した、非対称な二価基にも適用される。このルールは、カルボニルオキシ（−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−）のような二価の結合基にも適用される。
本発明は、下記の項などである。
項１． 重合性化合物を添加物として含有し、ネマチック相および負の誘電率異方性を有する液晶組成物を含有する液晶表示素子から、高分子支持配向型の液晶表示素子を製造する製造方法において、前記添加物が、式（１）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物であり、前記液晶組成物を、配向膜および電極を有する２つの基板の間に封入し、前記基板の間に特定の電圧を印加しながら、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から２００ｍＷ／ｃｍ２の範囲である第一紫外線を前記基板に１４秒から５８０秒の間照射し、次に前記基板の間に電圧を印加せずに、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から１００ｍＷ／ｃｍ２の範囲である第二紫外線を前記基板に１０分から６０分の間照射する、製造方法。
式（１）において、環Ａおよび環Ｃは独立して、フェニル、１−ナフチル、または２−ナフチルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；環Ｂは、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，７−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ１およびＺ２は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−、または−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｃ（ＣＨ３）−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は独立して、重合性基であり；Ｓｐ１、Ｓｐ２、およびＳｐ３は独立して、単結合、または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；ａ、ｂ、およびｃは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてa、b、およびcの和は、１以上であり；ｄは、１、または２である。
項２． 項１に記載の紫外線照射において、前記基板の間に特定の電圧を印加しながら、照度が７０ｍＷ／ｃｍ２から１１０ｍＷ／ｃｍ２の範囲である第一紫外線を前記基板に１９秒から１２０秒の間照射し、次に前記基板の間に電圧を印加せずに、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から３０ｍＷ／ｃｍ２の範囲である第二紫外線を前記基板に１０分から３０分の間照射する、項１に記載の製造方法。
項３． 項１に記載の式（１）において、Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３が独立して、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）で表される重合性基の群から選択された基である、項１または２に記載の製造方法。
式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）において、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。
項４． 添加物として式（１−１）から式（１−４）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から３のいずれか１項に記載の製造方法。
式（１−１）から式（１−４）において、Ｐ４、Ｐ５、およびＰ６は独立して、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）で表される重合性基の群から選択された基であり
ここで、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；Ｓｐ１、Ｓｐ２、およびＳｐ３は独立して、単結合、または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。
項５． 添加物の割合が０．０３重量％から１０重量％の範囲である、項１から４のいずれか１項に記載の製造方法。
項６． 第一成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から５のいずれか１項に記載の製造方法。
式（２）において、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数２から１２のアルケニルオキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルであり；環Ｄおよび環Ｆは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたナフタレン−２，６−ジイル、クロマン−２，６−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたクロマン−２，６−ジイルであり；環Ｅは、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−３−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−５−メチル−１，４−フェニレン、３，４，５−トリフルオロナフタレン−２，６−ジイル、または７，８−ジフルオロクロマン−２，６−ジイルであり；Ｚ３およびＺ４は独立して、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはメチレンオキシであり；ｄは、１、２、または３であり、ｅは、０または１であり、そしてｄとｅとの和は３以下である。
項７． 第一成分として式（２−１）から式（２−１９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から６のいずれか１項に記載の製造方法
。
式（２−１）から式（２−１９）において、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数２から１２のアルケニルオキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルである。
。
項８． 第一成分の割合が１０重量％から８０重量％の範囲である、項６または７に記載の製造方法。
項９． 第二成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から８のいずれか１項に記載の製造方法。
式（３）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；環Ｇおよび環Ｉは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ５は、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシであり；ｆは、１、２、または３である。
項１０． 第二成分として式（３−１）から式（３−１０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項１から９のいずれか１項に記載の製造方法。
式（３−１）から式（３−１０）において、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
項１１． 第二成分の割合が１５重量％から９０重量％の範囲である、項９または１０に記載の製造方法。
項１２． 項１から１１のいずれか１項に記載の製造方法に用いられる、液晶組成物。
項１３． 項１２に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
項１４． 項１３に記載の液晶表示素子において、添加物が重合した液晶表示素子。
項１５． 液晶表示素子の動作モードが、ＩＰＳモード、ＶＡモード、ＦＦＳモード、またはＦＰＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である、項１３または１４に記載の液晶表示素子。
項１６． 項１２に記載の液晶組成物の、液晶表示素子における使用。
項１７． 項１２に記載の液晶組成物の、高分子支持配向型の液晶表示素子における使用。
本発明は、次の項も含む。（ａ）上記の液晶組成物を２つの基板のあいだに配置し、この組成物に電圧を印加した状態で光を照射し、この組成物に含有された重合性基を有する化合物を重合させることによって、上記の液晶表示素子を製造する方法。（ｂ）ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃で測定）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃で測定）が−２以下である、上記の液晶組成物。
本発明は、次の項も含む。（ｃ）特開２００６−１９９９４１号公報に記載された化合物（５）から化合物（７）は、誘電率異方性が正の液晶性化合物であるが、これらの化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する上記の組成物。（ｄ）上記の重合性化合物を少なくとも２つ含有する上記の組成物。（ｅ）上記の重合性化合物とは異なる重合性化合物をさらに含有する上記の組成物。（ｆ）光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物のような添加物の１つ、２つ、または少なくとも３つを含有する上記の組成物。（ｇ）上記の組成物を含有するＡＭ素子。（ｈ）上記の組成物を含有し、そしてＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＶＡ、またはＦＰＡのモードを有する素子。（ｉ）上記の組成物を含有する透過型の素子。（ｊ）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物として使用すること。（ｋ）上記の組成物に光学活性化合物を添加することによって調製された組成物を、光学活性な組成物として使用すること。
本発明の組成物を次の順で説明する。第一に、組成物の構成を説明する。第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物や素子に及ぼす主要な効果を説明する。第三に、組成物における成分の組合せ、成分の好ましい割合およびその根拠を説明する。第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。第五に、好ましい成分化合物を示す。第六に、組成物に添加してもよい添加物を説明する。第七に、成分化合物の合成法を説明する。第八に、組成物の用途を説明する。最後に、素子を製造する方法を説明する。
第一に、組成物の構成を説明する。この組成物は、複数の液晶性化合物を含有する。この組成物は、添加物を含有してもよい。添加物は、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物などである。この組成物は、液晶性化合物の観点から組成物Ａと組成物Ｂに分類される。組成物Ａは、化合物（２）および化合物（３）から選択された液晶性化合物の他に、その他の液晶性化合物、添加物などをさらに含有してもよい。「その他の液晶性化合物」は、化合物（２）および化合物（３）とは異なる液晶性化合物である。このような化合物は、特性をさらに調整する目的で組成物に混合される。
組成物Ｂは、実質的に化合物（２）および化合物（３）から選択された液晶性化合物のみからなる。「実質的に」は、組成物Ｂが添加物を含有してもよいが、その他の液晶性化合物を含有しないことを意味する。組成物Ｂは組成物Ａに比較して成分の数が少ない。コストを下げるという観点から、組成物Ｂは組成物Ａよりも好ましい。その他の液晶性化合物を混合することによって特性をさらに調整できるという観点から、組成物Ａは組成物Ｂよりも好ましい。
第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物や素子に及ぼす主要な効果を説明する。成分化合物の主要な特性を本発明の効果に基づいて表２にまとめる。表２の記号において、Ｌは大きいまたは高い、Ｍは中程度の、Ｓは小さいまたは低い、を意味する。記号Ｌ、Ｍ、Ｓは、成分化合物のあいだの定性的な比較に基づいた分類である。記号０は、値がゼロに近いことを意味する。
成分化合物の主要な効果は次のとおりである。化合物（１）は、重合によって重合体を与える。この重合体は、液晶分子の配向を安定化するので、素子の応答時間を短縮し、そして画像の焼き付きを改善する。化合物（２）は誘電率異方性の絶対値を上げ、そして下限温度を下げる。化合物（３）は、上限温度を上げる、または粘度を下げる。
第三に、組成物における成分の組合せ、成分の好ましい割合およびその根拠を説明する。組成物における成分の好ましい組合せは、化合物（１）＋化合物（２）であるか、または化合物（１）＋化合物（２）＋化合物（３）である。さらに好ましい組合せは、化合物（１）＋化合物（２）＋化合物（３）である。
化合物（１）は、高分子支持配向型の素子に適合させる目的で、組成物に添加される。化合物（１）は、容易に重合する。化合物（１）の反応性は高い。化合物（１）およびその重合体は、液晶分子の配向に寄与する。化合物（１）の好ましい割合は、液晶分子を配向させるために約０．０３重量％以上であり、素子の表示不良を防ぐために約１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、約０．１重量％から約２重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約０．２重量％から約１．０重量％の範囲である。
化合物（２）の好ましい割合は、誘電率異方性を上げるために約１０重量％以上であり、下限温度を下げるために約８０重量％以下である。さらに好ましい割合は約２５重量％から約７０重量％の範囲である。特に好ましい割合は約３０重量％から約６５重量％の範囲である。
化合物（３）の好ましい割合は、上限温度を上げるために、または粘度を下げるために約１５重量％以上であり、誘電率異方性を上げるために約９０重量％以下である。さらに好ましい割合は約２５重量％から約７０重量％の範囲である。特に好ましい割合は約３０重量％から約６０重量％の範囲である。
第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。式（１）において、環Ａおよび環Ｃは独立して、フェニル、１−ナフチル、または２−ナフチルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよい。好ましい環Ａまたは環Ｃは、フェニルである。環Ｂは、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、またはナフタレン−２，７−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよい。好ましい環Ｂは、１，４−フェニレンまたは２−フルオロ−１，４−フェニレンである。
Ｚ１およびＺ２は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）−、または−Ｃ（ＣＨ３）＝Ｃ（ＣＨ３）−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＺ１またはＺ２は、単結合、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−である。さらに好ましいＺ１またはＺ２は、単結合である。
Ｐ１、Ｐ２、およびＰ３は独立して、重合性基である。好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）で表される重合性基の群から選択された基である。さらに好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、または式（Ｐ−３）で表される基である。特に好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ−１）または式（Ｐ−２）で表される基である。最も好ましいＰ１、Ｐ２、またはＰ３は、式（Ｐ−１）で表される基である。式（Ｐ−１）で表される好ましい基は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２または−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２である。式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）の波線は、結合する部位を示す。
式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）において、Ｍ１、Ｍ２、およびＭ３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。好ましいＭ１、Ｍ２、またはＭ３は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ１は、水素またはメチルである。さらに好ましいＭ２またはＭ３は、水素である。
Ｓｐ１、Ｓｐ２、およびＳｐ３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２−ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＳｐ１、Ｓｐ２、またはＳｐ３は、単結合、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−である。さらに好ましいＳｐ１、Ｓｐ２、またはＳｐ３は、単結合である。
ａ、ｂ、およびｃは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてａ、ｂ、およびｃの和は、１以上である。好ましい和は、２、３、または４である。さらに好ましい和は、３または４である。好ましいｄは、１である。
式（２）および式（３）において、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、炭素数２から１２のアルケニルオキシ、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキルである。好ましいＲ１またはＲ２は、安定性を上げるために炭素数１から１２のアルキルであり、誘電率異方性を上げるために炭素数１から１２のアルコキシである。Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から１２のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ３またはＲ４は、粘度を下げるために炭素数２から１２のアルケニルであり、安定性を上げるために炭素数１から１２のアルキルである。
好ましいアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、またはオクチルである。さらに好ましいアルキルは、粘度を下げるためにメチル、エチル、プロピル、ブチル、またはペンチルである。
好ましいアルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、またはヘプチルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルコキシは、メトキシまたはエトキシである。
好ましいアルケニルは、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、または５−ヘキセニルである。さらに好ましいアルケニルは、粘度を下げるために、ビニル、１−プロペニル、３−ブテニル、または３−ペンテニルである。これらのアルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。粘度を下げるためなどから１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ペンテニル、３−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランスが好ましい。２−ブテニル、２−ペンテニル、２−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシスが好ましい。
好ましいアルケニルオキシは、ビニルオキシ、アリルオキシ、３−ブテニルオキシ、３−ペンテニルオキシ、または４−ペンテニルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルケニルオキシは、アリルオキシまたは３−ブテニルオキシである。
少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたアルキルの好ましい例は、フルオロメチル、２−フルオロエチル、３−フルオロプロピル、４−フルオロブチル、５−フルオロペンチル、６−フルオロヘキシル、７−フルオロヘプチル、または８−フルオロオクチルである。さらに好ましい例は、誘電率異方性を上げるために２−フルオロエチル、３−フルオロプロピル、４−フルオロブチル、または５−フルオロペンチルである。
少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたアルケニルの好ましい例は、２，２−ジフルオロビニル、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル、または６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニルである。さらに好ましい例は、粘度を下げるために２，２−ジフルオロビニルまたは４，４−ジフルオロ−３−ブテニルである。
環Ｄおよび環Ｆは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたナフタレン−２，６−ジイル、クロマン−２，６−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられたクロマン−２，６−ジイルである。好ましい環Ｄまたは環Ｆは、粘度を下げるために、または上限温度を上げるために、１，４-シクロヘキシレンであり、下限温度を下げるために１，４−フェニレンである。環Ｅは、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−３−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−５−メチル−１，４−フェニレン、３，４，５−トリフルオロナフタレン−２，６−ジイル、または７，８−ジフルオロクロマン−２，６−ジイルである。好ましい環Ｅは、粘度を下げるために２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり、誘電率異方性を上げるために７，８−ジフルオロクロマン−２，６−ジイルである。１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。テトラヒドロピラン−２，５−ジイルは、
または
であり、好ましくは
である。
環Ｇおよび環Ｉは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。好ましい環Ｇまたは環Ｉは、粘度を下げるために、または上限温度を上げるために、１，４-シクロヘキシレンであり、光学異方性を上げるために、１，４−フェニレンである。
Ｚ３およびＺ４は独立して、単結合、エチレン、カルボニルオキシ、またはメチレンオキシである。好ましいＺ３またはＺ４は、粘度を下げるために単結合であり、下限温度を下げるためにエチレンであり、誘電率異方性を上げるためにメチレンオキシである。Ｚ５は、単結合、エチレン、またはカルボニルオキシである。好ましいＺ５は、安定性を上げるために単結合である。
式（２）において、ｄは、１、２、または３であり、ｅは、０または１であり、そしてｄとｅとの和は３以下である。好ましいｄは、粘度を下げるために１であり、上限温度を上げるために２または３である。好ましいｅは、粘度を下げるために０であり、下限温度を下げるために１である。式（３）において、ｆは、１、２、または３である。好ましいｆは、粘度を下げるために１であり、上限温度を上げるために２または３である。
第五に、好ましい成分化合物を示す。好ましい化合物（１）は、化合物（１−１）から化合物（１−４）である。これらの化合物において、添加物の少なくとも１つが、化合物（１-１）または化合物（１−２）であることが好ましい。添加物の少なくとも２つが、化合物（１-１）および化合物（１−２）の組合せであることが好ましい。
好ましい化合物（２）は、化合物（２−１）から化合物（２−１９）である。これらの化合物において、第一成分の少なくとも１つが、化合物（２−１）、化合物（２−２）、化合物（２−３）、化合物（２−４）、化合物（２−６）、化合物（２−７）、化合物（２−８）、または化合物（２−９）であることが好ましい。第一成分の少なくとも２つが、化合物（２−１）および化合物（２−６）、化合物（２−１）および化合物（２−９）、化合物（２−３）および化合物（２−６）、化合物（２−３）および化合物（２−９）、化合物（２−４）および化合物（２−６）、または化合物（２−４）および化合物（２−９）の組合せであることが好ましい。
好ましい化合物（３）は、化合物（３−１）から化合物（３−１０）である。これらの化合物において、第二成分の少なくとも１つが、化合物（３−１）、化合物（３−３）、化合物（３−５）、または化合物（３−６）であることが好ましい。第二成分の少なくとも２つが化合物（３−１）および化合物（３−３）、化合物（３−１）および化合物（３−５）の組合せであることが好ましい。
第六に、組成物に添加してもよい添加物を説明する。このような添加物は、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、極性化合物などである。液晶分子のらせん構造を誘起してねじれ角を与える目的で光学活性化合物が組成物に添加される。このような化合物の例は、化合物（４−１）から化合物（４−５）である。光学活性化合物の好ましい割合は約５重量％以下である。さらに好ましい割合は約０．０１重量％から約２重量％の範囲である。
大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するために、または素子を長時間使用したあと、室温だけではなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するために、酸化防止剤が組成物に添加される。酸化防止剤の好ましい例は、ｎが１から９の整数である化合物（５）などである。
化合物（５）において、好ましいｎは、１、３、５、７、または９である。さらに好ましいｎは７である。ｎが７である化合物（５）は、揮発性が小さいので、素子を長時間使用したあと、室温だけではなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するのに有効である。酸化防止剤の好ましい割合は、その効果を得るために約５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように約６００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、約１００ｐｐｍから約３００ｐｐｍの範囲である。
紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。立体障害のあるアミンのような光安定剤もまた好ましい。これらの吸収剤や安定剤における好ましい割合は、その効果を得るために約５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないために約１００００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は約１００ｐｐｍから約１００００ｐｐｍの範囲である。
ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるために、アゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に添加される。色素の好ましい割合は、約０．０１重量％から約１０重量％の範囲である。泡立ちを防ぐために、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの消泡剤が組成物に添加される。消泡剤の好ましい割合は、その効果を得るために約１ｐｐｍ以上であり、表示不良を防ぐために約１０００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、約１ｐｐｍから約５００ｐｐｍの範囲である。
高分子支持配向（ＰＳＡ）型の素子に適合させるために重合性化合物が組成物に添加される。化合物（１）はこの目的に適している。化合物（１）と共に、化合物（１）とは異なる重合性化合物を組成物に添加してもよい。このような重合性化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、ビニルケトンなどの化合物である。さらに好ましい例は、アクリレートまたはメタクリレートの誘導体である。好ましい重合性化合物の少量を、化合物（１）と共に組成物に添加してもよい。組成物に添加された重合性化合物の好ましい割合は、約０．０３重量から約１０重量％の範囲である。
このような重合性化合物は紫外線によって重合する。光重合開始剤などの適切な開始剤存在下で重合させてもよい。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。例えば光開始剤であるＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（登録商標；ＢＡＳＦ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（登録商標；ＢＡＳＦ）、またはＤａｒｏｃｕｒ１１７３（登録商標；ＢＡＳＦ）がラジカル重合に対して適切である。光重合開始剤の好ましい割合は、重合性化合物の重量に基づいて約０．１重量％から約５重量％の範囲である。さらに好ましい割合は約１重量％から約３重量％の範囲である。
このような重合性化合物を保管するとき、重合を防止するために重合禁止剤を添加してもよい。重合性化合物は、通常は重合禁止剤を除去しないまま組成物に添加される。重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、メチルヒドロキノンのようなヒドロキノン誘導体、４−ｔ−ブチルカテコール、４-メトキシフェノ−ル、フェノチアジンなどである。
極性化合物は、極性をもつ有機化合物である。ここでは、イオン結合を有する化合物は含まれない。酸素、硫黄、および窒素のような原子は、より電気的に陰性であり、部分的な負電荷をもつ傾向にある。炭素および水素は中性であるか、または部分的な正電荷をもつ傾向がある。極性は、化合物中の別種の原子間で部分電荷が均等に分布しないことから生じる。例えば、極性化合物は、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ２、＞ＮＨ、＞Ｎ−のような部分構造の少なくとも１つを有する。
第七に、成分化合物の合成法を説明する。これらの化合物は既知の方法によって合成できる。合成法を例示する。化合物（１−１）はＷＯ２０１３−１６１５７６公報に記載された方法で合成する。化合物（２−６）は、特開２０００−５３６０２号公報に記載された方法で合成する。化合物（３−１）は、特開昭５９−１７６２２１号公報に記載された方法で合成する。化合物（５）の一部は市販されている。式（５）のｎが１である化合物は、アルドリッチ（Sigma-Aldrich Corporation）から入手できる。ｎが７である化合物（５）などは、米国特許３６６０５０５号明細書に記載された方法によって合成する。
合成法を記載しなかった化合物は、オーガニック・シンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載された方法によって合成できる。組成物は、このようにして得た化合物から公知の方法によって調製される。例えば、成分化合物を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる。
第八に、組成物の用途を説明する。大部分の組成物は、約−１０℃以下の下限温度、約７０℃以上の上限温度、そして約０．０７から約０．２０の範囲の光学異方性を有する。成分化合物の割合を制御することによって、またはその他の液晶性化合物を混合することによって、約０．０８から約０．２５の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。さらには、試行錯誤によって約０．１０から約０．３０の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。この組成物を含有する素子は大きな電圧保持率を有する。この組成物はＡＭ素子に適する。この組成物は透過型のＡＭ素子に特に適する。この組成物は、ネマチック相を有する組成物としての使用、光学活性化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用が可能である。
この組成物はＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＶＡ、ＦＰＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＴＮ、ＯＣＢ、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子への使用は特に好ましい。ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子において、電圧が無印加のとき、液晶分子の配向がガラス基板に対して並行であってもよく、または垂直であってもよい。これらの素子が反射型、透過型または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン−ＴＦＴ素子または多結晶シリコン−ＴＦＴ素子への使用も可能である。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）型の素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）型の素子にも使用できる。
最後に、素子を製造する方法を説明する。高分子支持配向型の液晶表示素子（略して、ＰＳＡ素子）を製造する方法の一例は、次のとおりである。アレイ基板とカラーフィルター基板と呼ばれる２つの基板を有する素子を組み立てる。この基板の少なくとも１つは、配向膜および電極を有する。液晶性化合物を混合して液晶組成物を調製する。この組成物に重合性化合物を添加する。必要に応じて添加物をさらに添加してもよい。この組成物を素子に注入する。この素子に電圧を印加した状態で光照射する。紫外線が好ましい。光照射によって重合性化合物を重合させる。この重合によって、重合体を含有する組成物が生成する。ＰＳＡ素子は、このような手順で製造する。
この手順において、電圧を印加したとき、液晶分子が配向膜および電場の作用によって配向する。この配向に従って重合性化合物の分子も配向する。この状態で重合性化合物が紫外線によって重合するので、この配向を維持した重合体が生成する。この重合体の効果によって、素子の応答時間が短縮される。画像の焼き付きは、液晶分子の動作不良であるから、この重合体の効果によって焼き付けも同時に改善されることになる。なお、組成物中の重合性化合物を予め重合させ、この組成物を液晶表示素子の基板のあいだに配置することも可能であろう。
本発明の好ましい態様を図で説明する。図１は液晶表示素子の一例を示す。この素子は、透明基板（上側基板１、下側基板２）、電極（上側電極３、電極４）、および垂直配向膜（上側配向膜５、下側配向膜６）を有する。負の誘電率異方性を有し、重合性化合物を含有する液晶組成物が基板の間に配置される。液晶分子７は、垂直配向膜の作用によって実質的に垂直に配向される。
基板には、少なくとも二段階で紫外線を照射する。第一段階では、基板間に特定の電圧を印加しながら照射する。好ましい照度は約３ｍＷ／ｃｍ２から約２００ｍＷ／ｃｍ２の範囲であり、好ましい照射時間は約１４秒から約５８０秒の範囲である。この紫外線を「第一紫外線」ということがある。この紫外線によって大部分の重合性化合物が重合する。第一紫外線において、さらに好ましい照度は、約７０ｍＷ／ｃｍ２から約１１０ｍＷ／ｃｍ２の範囲であり、さらに好ましい照射時間は約１９秒から約１２０秒の範囲である。特に好ましい照度は、約８０ｍＷ／ｃｍ２から約１００ｍＷ／ｃｍ２の範囲であり、特に好ましい照射時間は約２０秒から約１１２秒の範囲である。
第二段階では、基板間に電圧を印加しないで紫外線を照射する。好ましい照度は約３ｍＷ／ｃｍ２から約１００ｍＷ／ｃｍ２の範囲であり、好ましい照射時間は約１０分から約６０分の範囲である。この紫外線を「第二紫外線」ということがある。この紫外線によって残っている重合性化合物が重合体に変換される。第二紫外線において、さらに好ましい照度は、約３ｍＷ／ｃｍ２から約３０ｍＷ／ｃｍ２の範囲であり、さらに好ましい照射時間は約１０分から約３０分の範囲である。特に好ましい照度は、約３ｍＷ／ｃｍ２から約６ｍＷ／ｃｍ２の範囲であり、特に好ましい照射時間は約１１分から約１５分の範囲である。
実施例によって本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。本発明は、実施例１の組成物と実施例２の組成物との混合物を含む。本発明は、実施例の組成物の少なくとも２つを混合した混合物をも含む。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法によって同定した。化合物および組成物の特性は、下記に記載した方法によって測定した。
ＮＭＲ分析：測定には、ブルカーバイオスピン社製のＤＲＸ−５００を用いた。１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ３などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。
ガスクロマト分析：測定には島津製作所製のＧＣ−１４Ｂ型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム（２ｍＬ／分）である。試料気化室を２８０℃に、検出器（ＦＩＤ）を３００℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ；固定液相はジメチルポリシロキサン；無極性）を用いた。このカラムは、２００℃で２分間保持したあと、５℃／分の割合で２８０℃まで昇温した。試料はアセトン溶液（０．１重量％）に調製したあと、その１μＬを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のＣ−Ｒ５Ａ型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のＨＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、Restek Corporation製のＲｔｘ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、SGE International Pty. Ltd製のＢＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリカラムＣＢＰ１−Ｍ５０−０２５（長さ５０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いてもよい。
組成物に含有される液晶性化合物の割合は、次のような方法で算出してよい。液晶性化合物の混合物をガスクロマトグラフ（ＦＩＤ）で検出する。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は液晶性化合物の割合（重量比）に相当する。上に記載したキャピラリカラムを用いたときは、各々の液晶性化合物の補正係数を１とみなしてよい。したがって、液晶性化合物の割合（重量％）は、ピークの面積比から算出することができる。
測定試料：組成物および素子の特性を測定するときは、組成物をそのまま試料として用いた。化合物の特性を測定するときは、この化合物（１５重量％）を母液晶（８５重量％）に混合することによって測定用の試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。（外挿値）＝｛（試料の測定値）−０．８５×（母液晶の測定値）｝／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更した。この外挿法によって化合物に関する上限温度、光学異方性、粘度、および誘電率異方性の値を求めた。
下記の母液晶を用いた。成分化合物の割合は重量％で示した。
測定方法：特性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（Japan Electronics and Information Technology Industries Association；ＪＥＩＴＡと略す）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ｂ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を取り付けなかった。
（１）ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
（２）ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを「＜−２０℃」と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
（３）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定には東京計器株式会社製のＥ型回転粘度計を用いた。
（４）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を注入した。この素子に３９ボルトから５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ． Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、「（６）誘電率異方性」で測定した。
（５）光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計によって行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。
（６）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を注入した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。
（７）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧で表した。
（８）電圧保持率（ＶＨＲ；６０℃で測定；％）：重合性化合物を含有する組成物を、２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであるＰＳＡ素子に封入した。この素子に１５Ｖの電圧を印加しながら主波長が３６５ｎｍの紫外線（９０ｍＷ／ｃｍ２）を１１１秒間照射した。次に、重合性化合物の９８．５重量％が消費されるまで、電圧を印加せずに主波長が３３５ｎｍの紫外線（３ｍＷ／ｃｍ２）を照射した。紫外線の照射には、アイグラフィック株式会社製のメタルハライドランプを用いた。この素子にパルス電圧（１Ｖで０．７ミリ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６６７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸とのあいだの面積Ａを求めた。減衰しなかったときの面積を面積Ｂとして、電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率で表した。
（９）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。
１）重合性化合物を含まない組成物：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を注入した。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。応答時間は透過率９０％から１０％に変化するのに要した時間（立ち下がり時間；fall time；ミリ秒）で表した。
２）重合性化合物を含有する組成物：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＰＳＡ素子に試料を注入した。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に、１５Ｖの電圧を印加しながら主波長が３６５ｎｍの紫外線（９０ｍＷ／ｃｍ２）を１１１秒間照射した。次に、重合性化合物の９８．５重量％が消費されるまで、電圧を印加せずに主波長が３３５ｎｍの紫外線（３ｍＷ／ｃｍ２）を照射した。紫外線の照射には、アイグラフィック株式会社製の紫外線照射装置ＵＳ４−Ｘ０８０１Ｄ−ＣＨ型（メタルハライドランプＭ０８−Ｌ４１Ｃ）を用いた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。応答時間は透過率０％から９０％に変化するのに要した時間（立ち上がり時間；rise time；ミリ秒）で表した。
（１０）比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）：電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。
（１１）照度（ｍＷ／ｃｍ２）：第一紫外線の照度を測定する際には、ウシオ電機株式会社のセンサーＵＶＤ−Ｓ３６５を備えた紫外線照度計、ＵＩＴ−２５０型を用いた。第二紫外線の照度を測定する際には、ウシオ電機株式会社のセンサーＵＶＤ−Ｓ３１３を備えた紫外線照度計、ＵＩＴ−２５０型を用いた。
（１２）プレチルト角（度）：プレチルト角の測定には、シンテック株式会社製のＯｐｔｉ−Ｐｒｏを使用した。
組成物の実施例を以下に示す。成分化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号によって表した。表３において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。記号化された化合物の後にあるかっこ内の番号は化合物が属する化学式を表す。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）である。
［実施例１］
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １１．５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １１％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １２％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ２．５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２１％
３−ＨＨ−４ （３−１） ７％
１−ＢＢ−３ （３−３） １５％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ２％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７５．５℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１７．４ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０７；Δε＝−３．０．
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １１．５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １１％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １２％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ２．５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２１％
３−ＨＨ−４ （３−１） ７％
１−ＢＢ−３ （３−３） １５％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ２％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物を、２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．５μｍであるＰＳＡ素子に封入した。この素子に１５Ｖの電圧を印加しながら主波長が３６５ｎｍの第一紫外線（９０ｍＷ／ｃｍ２）を１１１秒間照射した。次に、この素子に電圧を印加せずに、主波長が３３５ｎｍの第二紫外線（３ｍＷ／ｃｍ２）を３０分照射した。未反応の重合性化合物の割合が、添加した重合性化合物に基づいて１．５重量％以下になった。このようにしてＰＳＡ素子を製造し、電圧保持率を測定した。ＶＨＲ＝９４．４％．
［比較例１］
実施例１の組成物をＰＳＡ素子に封入した。この素子に、１５Ｖの電圧を印加しながら主波長が３６５ｎｍの第一紫外線（９０ｍＷ／ｃｍ２）を１１１秒の間照射した。次に、この素子に電圧を印加せずに、主波長が３３５ｎｍの第二紫外線（３ｍＷ／ｃｍ２）を１２０分の間照射した。すなわち、電圧を印加することなく、第二紫外線をより長い間素子に照射した。このＰＳＡ素子の電圧保持率を測定した。ＶＨＲ＝７５．５％。
実施例１の組成物をＰＳＡ素子に封入した。この素子に、１５Ｖの電圧を印加しながら主波長が３６５ｎｍの第一紫外線（９０ｍＷ／ｃｍ２）を１１１秒の間照射した。次に、この素子に電圧を印加せずに、主波長が３３５ｎｍの第二紫外線（３ｍＷ／ｃｍ２）を１２０分の間照射した。すなわち、電圧を印加することなく、第二紫外線をより長い間素子に照射した。このＰＳＡ素子の電圧保持率を測定した。ＶＨＲ＝７５．５％。
実施例２から実施例１３を以下に示す。これらの実施例において、種々の液晶組成物を用い、実施例１と同様の方法により、ＰＳＡ素子を作製した。紫外線照射の条件は、実施例１の条件と同一にした。
［実施例２］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ３％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） ８％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ３％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） １８％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１） ３％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ５％
１−ＢＢ−３ （３−３） １０％
１−ＢＢ−５ （３−３） ５％
３−ＨＢＢ−２ （３−６） ２％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７６．６℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１７．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０８；Δε＝−３．０；ＶＨＲ＝９４．２％．
［実施例２］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ３％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） ８％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ３％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） １８％
３−ＨＨ−Ｏ１ （３−１） ３％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ５％
１−ＢＢ−３ （３−３） １０％
１−ＢＢ−５ （３−３） ５％
３−ＨＢＢ−２ （３−６） ２％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例３］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ５％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ８％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
Ｖ−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ６％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （２−１４） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２０％
３−ＨＨ−４ （３−１） １０％
１−ＢＢ−３ （３−３） ８％
３−ＨＨＥＨ−３ （３−４） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−３ （３−９） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７５．６℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１９．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０１；Δε＝−２．９；ＶＨＲ＝９４．０％．
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ５％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ８％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
Ｖ−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ６％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （２−１４） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２０％
３−ＨＨ−４ （３−１） １０％
１−ＢＢ−３ （３−３） ８％
３−ＨＨＥＨ−３ （３−４） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−３ （３−９） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例４］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） １９％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ４％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１５） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２０％
３−ＨＨ−Ｖ１ （３−１） ７％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ５％
３−ＨＨＢ−３ （３−５） ４％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．５重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７９．６℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１９．０ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９０；Δε＝−３．３；ＶＨＲ＝９７．４％．
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） １９％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ４％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１５） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２０％
３−ＨＨ−Ｖ１ （３−１） ７％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ５％
３−ＨＨＢ−３ （３−５） ４％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．５重量％の割合で添加した。
［実施例５］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） １０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ５％
２Ｏ−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ８％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
３−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−７） ５％
５−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−７） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１１） ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１１） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２） ５％
５−ＨＢ−Ｏ２ （３−２） ５％
Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３） ５％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （３−１０） ３％
上記の組成物に化合物（１−２−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７６．２℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１７．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９１；Δε＝−２．９；ＶＨＲ＝９４．０％．
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） １０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ５％
２Ｏ−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ８％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
３−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−７） ５％
５−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−７） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１１） ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１１） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２５％
３−ＨＢ−Ｏ２ （３−２） ５％
５−ＨＢ−Ｏ２ （３−２） ５％
Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３） ５％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ （３−１０） ３％
上記の組成物に化合物（１−２−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例６］
２−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
Ｖ２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ３％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １２％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
３−ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１８） ３％
５−ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１８） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２２％
Ｆ３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ３％
１−ＢＢ−３ （３−３） １０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５） ３％
Ｖ−ＨＢＢ−２ （３−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （３−９） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝８１．０℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１９．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１０；Δε＝−３．０；ＶＨＲ＝９４．１％．
２−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
Ｖ２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ３％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １２％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
３−ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１８） ３％
５−ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１８） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２２％
Ｆ３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ３％
１−ＢＢ−３ （３−３） １０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ （３−５） ３％
Ｖ−ＨＢＢ−２ （３−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−４ （３−９） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例７］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） １０％
３−Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−５） ３％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ８％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１０） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１２） ３％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１２） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２６％
２−ＨＨ−５ （３−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１） ５％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ７％
Ｖ２−ＢＢ２Ｂ−１ （３−７） ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （−） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．２重量％の割合で添加し、さらに化合物（１−２−１）を０．２重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７９．９℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝２０．０ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−２．８；ＶＨＲ＝９４．５％．
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） １０％
３−Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−５） ３％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ８％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） ５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１０） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１２） ３％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２ （２−１２） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２６％
２−ＨＨ−５ （３−１） ５％
３−ＨＨ−４ （３−１） ５％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ７％
Ｖ２−ＢＢ２Ｂ−１ （３−７） ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （−） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．２重量％の割合で添加し、さらに化合物（１−２−１）を０．２重量％の割合で添加した。
［実施例８］
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １６％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １２％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１５） ７％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２６％
３−ＨＨ−４ （３−１） ３％
１−ＢＢ−３ （３−３） ４％
１−ＢＢ−５ （３−３） ５％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ６％
３−ＨＢＢ−２ （３−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−５ （３−９） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７５．３℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１９．３ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−３．１；ＶＨＲ＝９２．５％．
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １６％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １２％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１５） ７％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２６％
３−ＨＨ−４ （３−１） ３％
１−ＢＢ−３ （３−３） ４％
１−ＢＢ−５ （３−３） ５％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ６％
３−ＨＢＢ−２ （３−６） ３％
３−ＨＨＥＢＨ−５ （３−９） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例９］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ４％
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ６％
３−Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （２−１３） ３％
３−ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１６） ３％
３−ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１７） ３％
Ｖ２−ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１８） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２０％
５−ＨＨ−Ｏ１ （３−１） ３％
１Ｖ２−ＨＨ−２Ｖ１ （３−１） ３％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ５％
１−ＢＢ−３ （３−３） ８％
Ｖ−ＨＢＢ−３ （３−６） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＨＨ−２ （３−８） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７５．４℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１９．６ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１００；Δε＝−３．０；ＶＨＲ＝９４．２％．
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ４％
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ６％
３−Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （２−１３） ３％
３−ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１６） ３％
３−ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１７） ３％
Ｖ２−ＨｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１８） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２０％
５−ＨＨ−Ｏ１ （３−１） ３％
１Ｖ２−ＨＨ−２Ｖ１ （３−１） ３％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ５％
１−ＢＢ−３ （３−３） ８％
Ｖ−ＨＢＢ−３ （３−６） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＨＨ−２ （３−８） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例１０］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ７％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） １３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （２−１４） ３％
３−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１９） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２５％
５−ＨＨ−Ｖ （３−１） ４％
３−ＨＨ−ＶＦＦ （３−１） ３％
７−ＨＢ−１ （３−２） ５％
３−ＨＨＥＨ−５ （３−４） ３％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５） ５％
Ｖ−ＨＢＢ−３ （３−６） ３％
上記の組成物に化合物（１−２−１）を０．５重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７０．９℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１８．８ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−２．８；ＶＨＲ＝９３．７％．
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） ７％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１） １３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ８％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５ （２−１４） ３％
３−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１９） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２５％
５−ＨＨ−Ｖ （３−１） ４％
３−ＨＨ−ＶＦＦ （３−１） ３％
７−ＨＢ−１ （３−２） ５％
３−ＨＨＥＨ−５ （３−４） ３％
Ｖ−ＨＨＢ−１ （３−５） ５％
Ｖ−ＨＢＢ−３ （３−６） ３％
上記の組成物に化合物（１−２−１）を０．５重量％の割合で添加した。
［実施例１１］
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ３％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ９％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１７） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２１％
３−ＨＨ−４ （３−１） ７％
１−ＢＢ−３ （３−３） １０％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
３−ＨＢＢ−２ （３−６） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝８０．９℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１７．６ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０４；Δε＝−２．８；ＶＨＲ＝９４．４％．
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−３） １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） １０％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ３％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ９％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１７） ３％
２−ＨＨ−３ （３−１） ２１％
３−ＨＨ−４ （３−１） ７％
１−ＢＢ−３ （３−３） １０％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
３−ＨＢＢ−２ （３−６） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例１２］
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １０％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １０％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１５） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） １６％
３−ＨＨ−４ （３−１） １０％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ８％
１Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３） ５％
３−ＨＨＢ−３ （３−５） ５％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
上記の組成物に化合物（１−２−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝８２．０℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１７．８ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９９；Δε＝−３．１；ＶＨＲ＝９３．９％．
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ５％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １０％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−８） １０％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−１５） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） １６％
３−ＨＨ−４ （３−１） １０％
３−ＨＨ−Ｖ （３−１） ８％
１Ｖ２−ＢＢ−１ （３−３） ５％
３−ＨＨＢ−３ （３−５） ５％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
上記の組成物に化合物（１−２−１）を０．３重量％の割合で添加した。
［実施例１３］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） １２％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） ３％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ６％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ９％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） １８％
３−ＨＨ−４ （３−１） ５％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ８％
３−ＨＨＢ−３ （３−５） ６％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
この組成物とＰＳＡ素子の特性は次のとおりであった。ＮＩ＝７８．８℃；Ｔｃ＜−２０℃；η＝１８．４ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９８；Δε＝−２．９；ＶＨＲ＝９４．１％．
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） １２％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−２） ３％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−４） ６％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ９％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−６） ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２ （２−９） ５％
２−ＨＨ−３ （３−１） １８％
３−ＨＨ−４ （３−１） ５％
３−ＨＨＢ−１ （３−５） ８％
３−ＨＨＢ−３ （３−５） ６％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ （３−５） ３％
上記の組成物に化合物（１−１−１）を０．３重量％の割合で添加した。
実施例１から実施例１３のＰＳＡ素子は、比較例１のＰＳＡ素子に比べて大きな電圧保持率（ＶＨＲ）を有することがわかった。よって、本発明の方法によって製造されたＰＳＡ素子は優れた特性を有すると結論できる。
本発明の方法で製造された液晶表示素子は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いることができる。
１ 上側基板
２ 下側基板
３ 上側電極
４ 電極
５ 上側配向膜（垂直配向膜）
６ 下側配向膜（垂直配向膜）
７ 液晶分子
２ 下側基板
３ 上側電極
４ 電極
５ 上側配向膜（垂直配向膜）
６ 下側配向膜（垂直配向膜）
７ 液晶分子
Claims (10)
- 重合性化合物を添加物として含有し、ネマチック相および負の誘電率異方性を有する液晶組成物を含有する液晶表示素子から、高分子支持配向型の液晶表示素子を製造する製造方法において、前記添加物が、式（１）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物であり、前記液晶組成物を、配向膜および電極を有する２つの基板の間に封入し、前記基板の間に特定の電圧を印加しながら、照度が８０ｍＷ／ｃｍ ２ から１００ｍＷ／ｃｍ ２ の範囲である第一紫外線を前記基板に２０秒から１１２秒の間照射し、次に前記基板の間に電圧を印加せずに、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から６ｍＷ／ｃｍ ２ の範囲である第二紫外線を前記基板に１０分から６０分の間照射する、製造方法。
- 請求項１に記載の紫外線照射において、前記基板の間に特定の電圧を印加しながら、照度が８０ｍＷ／ｃｍ ２ から１００ｍＷ／ｃｍ ２ の範囲である第一紫外線を前記基板に２０秒から１１２秒の間照射し、次に前記基板の間に電圧を印加せずに、照度が３ｍＷ／ｃｍ２から６ｍＷ／ｃｍ ２ の範囲である第二紫外線を前記基板に１０分から３０分の間照射する、請求項１に記載の製造方法。
- 添加物として式（１−１）から式（１−４）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１または２に記載の製造方法。
- 添加物の割合が０．０３重量％から１０重量％の範囲である、請求項１から３のいずれか１項に記載の製造方法。
- 第一成分として式（２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の製造方法。
- 第一成分として式（２−１）から式（２−１９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から５のいずれか１項に記載の製造方法。
- 第一成分の割合が１０重量％から８０重量％の範囲である、請求項５または６に記載の製造方法。
- 第二成分として式（３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の製造方法。
- 第二成分として式（３−１）から式（３−１０）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項１から８のいずれか１項に記載の製造方法。
- 第二成分の割合が１５重量％から９０重量％の範囲である、請求項８または９に記載の製造方法。
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