JP6778667B2 - 印刷配線板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(絶縁層加工工程)
図1に示すように、基板11の上面および下面にシード層12(例えば薄銅箔などの導電性金属箔)を積層形成する。またはシード層12を形成済みの基板11を準備する。シード層12が形成された基板11にレーザ加工にてビアホール下穴14を形成する。
図2に示すように、ドライフィルム13の一部を除去した上記積層板の回路部形成用のビアホール下穴14とその周囲のシード層12にパターンめっき処理を施して基板11上面の導体層16と基板11内部のビアホール15および基板11下面の導電層(シード層12、導電回路17を含む)を形成する。
図3に示すように、パターンめっき処理の後、残ったドライフィルム13を剥離してシード層12を露出させる。
図4に示すように、基板11の上面のドライフィルム18(感光性エッチングレジスト)をラミネート加工で貼り付けた後、露光および現像し、キャビティ形成予定領域以外のドライフィルム18を除去する。露出させたシード層12のうちドライフィルム18外の導電回路として不要な箇所をフラッシュエッチングにより除去し、最後にドライフィルム18を剥離する。
次に、図6に示すように、コア基板51の上層および/または下層に、任意回数のビルドアップを行ない、多層基板を作製する。つまりこの工程では、キャビティ形成予定領域にシード層12を残したまま、コア基板51(基板11)にビルドアップ層61、62を形成する。ビルドアップ層の回路形成には、例えば不要な導体をエッチングで除去するサブトラクティブ法のみならず、コア基板51と同様に、MSAP、セミアディティブ法が適用できる。
ビルドアップ層61の最上層に導体層63を形成した場合、図7に示すように、導体層63のうちキャビティ形成予定領域の真上の領域65を除去しておく。これは後述のキャビティ形成工程でのザグリ加工をし易くするための加工である。
1.ザグリ加工
この工程では、ビルドアップ層61のうち、キャビティ形成予定領域の上層部分をドリル加工して基板11の導体層16近傍まで除去してキャビティ80を形成する。
具体的には、図8に示すように、キャビティ形成予定領域の真上のパターンを除去した領域65の端に、ビット先端にセンサーを有するドリル66を配置し、コア基板51の表面の導体層16の手前の位置(キャビティ底部に至る手前の位置)まで削り込み、ドリル66をその位置から横方向Aへ移動させてザグリ加工を実施する。
この工程では、図9に示すように、開口上方Bからレーザ光を照射して、図8で底部に露出した、1.のザグリ加工(ドリル加工)で残したプリプレグ樹脂層68の一部をレーザ加工により除去する。レーザ加工には、例えば炭酸ガスレーザ(CO2レーザ)やYAGレーザなどの加工用レーザが適用可能である。このようにシード層12をレーザ光の遮蔽部材にして、キャビティ底部に残した上層部分の残部をレーザ加工により除去し、シード層12とその一部領域に設けた導体層16とをキャビティ80の底部に露出させる。
この工程では、キャビティ80の底部に露出した接続パッドとなる導体層16を残すようにシード層12をフラッシュエッチングにより除去する。換言すると、フラッシュエッチングにより、キャビティ底部の導体層16の外側のシード層12(導電性金属箔)を除去する。フラッシュエッチングには、例えば硫酸過水系のエッチング液を用いる。
この工程では、図10に示したビルドアップ層61、62の導体層63、64に対して、図11に示すように、回路として導体層69、70を形成する。回路形成は、凹みや貫通孔の壁面への追従性が優れたEDレジストをエッチングレジストに用いたサブトラクティブ法が適しているが、キャビティ80上にドライフィルムを張ってドライフィルム破れが発生しない大きさのキャビティ80であれば、ドライフィルムも適用可能である。なおEDレジストは、電着塗装の性質を応用したエッチングレジストである。
この工程では、図11に示したビルドアップ層61、62に対して導体層69、70の一部を含めて絶縁被膜し、図12に示すように、ソルダーレジスト71、72を形成する。
12…シード層
13…ドライフィルム
14…ビアホール下穴
15…ビアホール
16、69、70…導体層
17…導電回路
18…ドライフィルム
51…コア基板
61、62…ビルドアップ層
63、64…導体層
65…領域
66…ドリル
67…溝
68…プリプレグ樹脂層
71、72…ソルダーレジスト
80…キャビティ
Claims (2)
- 基板にシード層を形成またはシード層形成済み基板を準備する工程と、
前記基板の前記シード層の一部領域の上にパターンめっきを施して導体層を形成する工程と、
前記基板のキャビティ形成予定領域にドライフィルムを形成し、前記ドライフィルム外の前記シード層をフラッシュエッチングにより除去する工程と、
前記ドライフィルムを剥離し、前記キャビティ形成予定領域に前記シード層を残したまま前記基板にビルドアップ層を形成する工程と、
前記ビルドアップ層のうち、前記キャビティ形成予定領域の上層部分をドリル加工して前記基板の前記導体層の近傍位置まで除去してキャビティを形成する工程と、
前記シード層をレーザ光の遮蔽部材にして、前記キャビティに残した前記上層部分の残部をレーザ加工により除去し、前記シード層とその一部領域に設けた導体層とを前記キャビティの底部に露出させる工程と、
前記キャビティの底部に露出した接続パッドとなる導体層を残すように前記シード層をフラッシュエッチングにより除去する工程と
を有することを特徴とする印刷配線板の製造方法。 - 前記キャビティ形成予定領域に前記基板または前記基板の絶縁樹脂層を貫通するようにビアホール下穴を形成する工程と、
前記基板の前記ビアホール下穴を含むキャビティ形成予定領域と前記シード層の一部領域の上にパターンめっきを施して導体層を形成する工程と
をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の印刷配線板の製造方法。
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