JP6778407B2 - 共振子及び共振装置 - Google Patents
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Description
以下、添付の図面を参照して本発明の第1実施形態について説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る共振装置1の外観を概略的に示す斜視図である。また、図2は、本発明の第1実施形態に係る共振装置1の構造を概略的に示す分解斜視図である。
上蓋30はXY平面に沿って平板状に広がっており、その裏面に例えば平たい直方体形状の凹部31が形成されている。凹部31は、側壁33に囲まれており、共振子10が振動する空間である振動空間の一部を形成する。
下蓋20は、XY平面に沿って設けられる矩形平板状の底板22と、底板22の周縁部からZ軸方向(すなわち、下蓋20と共振子10との積層方向)に延びる側壁23とを有する。下蓋20には、共振子10と対向する面において、底板22の表面と側壁23の内面とによって形成される凹部21が設けられる。凹部21は、共振子10の振動空間の一部を形成する。上述した上蓋30と下蓋20とによって、この振動空間は気密に封止され、真空状態が維持される。この振動空間には、例えば不活性ガス等の気体が充填されてもよい。
図3は、本実施形態に係る、共振子10の構造を概略的に示す平面図である。図3を用いて本実施形態に係る共振子10の、各構成について説明する。共振子10は、振動部120と、保持部140と、保持腕111、112と、調整膜237とを備えている。
振動部120は、図3の直交座標系におけるXY平面に沿って広がる矩形の輪郭を有している。振動部120は、保持部140の内側に設けられており、振動部120と保持部140との間には、所定の間隔で空間が形成されている。図3の例では、振動部120は、基部130と4本の振動腕135A〜135D(まとめて「振動腕135」とも呼ぶ。)とを有している。なお、振動腕の数は、4本に限定されず、任意の数に設定される。本実施形態において、各振動腕135と、基部130とは、一体に形成されている。
基部130は、平面視において、X軸方向に長辺131a、131b、Y軸方向に短辺131c、131dを有している。長辺131aは、基部130の前端の面131A(以下、「前端131A」とも呼ぶ。)の一つの辺であり、長辺131bは基部130の後端の面131B(以下、「後端131B」とも呼ぶ。)の一つの辺である。基部130において、前端131Aと後端131Bとは、互いに対向するように設けられている。
振動腕135は、Y軸方向に延び、それぞれ同一のサイズを有している。振動腕135は、それぞれが基部130と保持部140との間にY軸方向に平行に設けられ、一端は、基部130の前端131Aと接続されて固定端となっており、他端は開放端となっている。また、振動腕135は、それぞれ、X軸方向に所定の間隔で、並列して設けられている。なお、振動腕135は、例えばX軸方向の幅が50μm程度、Y軸方向の長さが465μm程度である。
振動部120の表面(上蓋30に対向する面)には、その全面を覆うように保護膜235が形成されている。さらに、振動腕135A〜135Dにおける保護膜235の表面の一部には、それぞれ、下地膜236A〜236D(以下、下地膜236A〜236Dをまとめて「下地膜236」とも呼ぶ。)が形成されている。保護膜235及び下地膜236によって、振動部120の共振周波数を調整することができる。尚、必ずしも保護膜235は振動部120の全面を覆う必要はないが、周波数調整における下地の電極膜(例えば図4の金属層E2)及び圧電膜(例えば図4の圧電薄膜F3)へのダメージを保護する上で、振動部120の全面の方が望ましい。
保持部140は、XY平面に沿って矩形の枠状に形成される。保持部140は、平面視において、XY平面に沿って振動部120の外側を囲むように設けられる。なお、保持部140は、振動部120の周囲の少なくとも一部に設けられていればよく、枠状の形状に限定されない。例えば、保持部140は、振動部120を保持し、また、上蓋30及び下蓋20と接合できる程度に、振動部120の周囲に設けられていればよい。
保持腕111及び保持腕112は、保持部140の内側に設けられ、基部130の後端131Bと枠体140c、140dとを接続する。図3に示すように、保持腕111と保持腕112とは、基部130のX軸方向の中心線に沿ってYZ平面に平行に規定される仮想平面Pに対して略面対称に形成される。
複数の調整膜237は、下地膜236上に点在して形成されている。複数の調整膜237はそれぞれ、周波数調整用に各振動腕135の先端に形成されたスポット状の酸化モリブデンから成る膜である。下地膜236上において、複数の調整膜237のうち、一部の調整膜237は後述するF調工程で、レーザ(例えば基板を透過する波長を有するレーザ)によって除去される。図3は、一部の調整膜237が除去された後の様子を示している。図3の例では、振動腕135A乃至振動腕135Dにおいて、いずれも同じ位置に形成された調整膜237が残存しているがこれに限定されない。例えば振動腕135毎に異なる位置に形成された調整膜237が残存する構成でもよい。また、1つの調整膜237の径は、レーザのスポット径よりも小さいことが好ましく、具体的には0.1μm以上20μm以下程度である。
図4を用いて共振子10の積層構造について説明する。図4は、図3のAA’断面、及び共振子10の電気的な接続態様を模式的に示す概略図である。
図4を参照して共振子10の機能について説明する。本実施形態では、外側の振動腕135A、135Dに印加される電界の位相と、内側の振動腕135B、135Cに印加される電界の位相とが互いに逆位相になるように設定される。これにより、外側の振動腕135A、135Dと内側の振動腕135B、135Cとが互いに逆方向に変位する。例えば、外側の振動腕135A、135Dが上蓋30の内面に向かって開放端を変位すると、内側の振動腕135B、135Cは下蓋20の内面に向かって開放端を変位する。
図5A乃至図5Lを用いて本実施形態に係る共振装置1の製造方法について説明する。
本実施形態に係る共振子10の製造方法においては、後述するF調工程において、上蓋を介してレーザを照射することで、複数の調整膜237のうち一部が削られ、振動腕135の重量が変化する。これによって、共振子10の共振周波数を上昇させることで、共振周波数を所望の値に調整して、共振装置1を製造する。
第2実施形態以降では第1実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しない。
その他の共振子10の構成、機能は第1の実施形態と同様である。
図9乃至図11を用いて第3実施形態に係る共振子10の詳細構成のうち、第1実施形態との差異点を中心に説明する。
振動部120は、図9の直交座標系におけるXY平面に沿って平板状に広がる略直方体の輪郭を有している。また、振動部120は、X軸方向に短辺121a、121bを有し、Y軸方向に長辺121c、121dを有している。振動部120は、短辺121a、121bにおいて、保持腕111、112によって保持部140に接続され、保持されている。また、振動部120の全面を覆うように、保護膜235が形成されている。
その他の振動部120の構成は、第1実施形態と同様である。
本実施形態において、保持腕111,112は、Y軸方向に長辺を、X軸方向に短辺を有する略矩形の形状を有している。
その他の保持腕111、112の構成・機能は第1実施形態と同様である。
図12を用いて第4実施形態に係る共振子10の詳細構成のうち、第1実施形態との差異点を中心に説明する。図12は、静電MEMSの技術を用いた共振子10の平面図を示している。
その他の構成、機能等は第1実施形態と同様である。
図13A乃至図13Iを用いてF調工程又は積層構造のバリエーションについて説明する。図13A乃至図13Iは、いずれもF調工程において、調整膜が除去される様子を概略的に示した模式図である。
10 共振子
30 上蓋
20 下蓋
140 保持部
140a〜d 枠体
111、112 保持腕
120 振動部
130 基部
135A〜D 振動腕
F2 Si基板
F21 酸化ケイ素層(温度特性補正層)
235 保護膜
236 下地膜
237 調整膜
Claims (21)
- 電極に印加された電圧に応じて振動する振動部を有する共振子を備える共振装置の製造方法であって、
前記振動部における他の領域よりも振動による変位の大きい領域に設けたモリブデンからなる下地膜の表面に、酸化モリブデンからなる調整膜を形成する工程と、
レーザによって、前記下地膜を残存させつつ前記調整膜のうち少なくとも一部を除去して前記共振子の周波数を調整する工程と、
を含む、
共振装置の製造方法。 - 前記調整膜を形成する工程は、前記調整膜を複数のスポット状に形成する工程を含み、
前記周波数を調整する工程は、レーザによって少なくとも1つのスポット状の前記調整膜を除去する、
請求項1に記載の共振装置の製造方法。 - 前記周波数を調整する工程は、
前記複数のスポット状の調整膜の径よりも大きいスポット径を有するレーザを照射する工程をさらに含む、
請求項2に記載の共振装置の製造方法。 - 前記振動部を形成する工程をさらに含み、
当該振動部を形成する工程は、
基板の上面に、第1電極層、圧電層、第2電極層を順に形成する工程を含む、
請求項1乃至3の何れか一項に記載の共振装置の製造方法。 - 前記振動部を形成する工程は、
前記第1電極層、前記第2電極層、及び前記圧電層から、屈曲振動する振動腕を形成する工程を含み
前記他の領域よりも振動による変位の大きい領域は、前記振動腕の先端の領域である、
請求項4に記載の共振装置の製造方法。 - 前記振動部を形成する工程は、
前記第1電極層、前記第2電極層、及び前記圧電層から、輪郭振動する矩形形状の振動部を形成する工程を含み、
前記他の領域よりも振動による変位の大きい領域は、前記振動部の四隅の領域である、
請求項4に記載の共振装置の製造方法。 - 前記調整膜を形成する工程は、前記下地膜を酸化させて前記調整膜を形成する工程を含む、
請求項4乃至6の何れか一項に記載の共振装置の製造方法。 - 前記振動部を形成する工程は、
前記第2電極層の表面に保護膜を形成し、当該保護膜上に前記下地膜を形成する工程をさらに含む、
請求項7に記載の共振装置の製造方法。 - 前記振動部を形成する工程は、
前記下地膜と、前記第1電極層又は前記第2電極層とを電気的に接続させる工程をさらに含む、
請求項8に記載の共振装置の製造方法。 - 前記振動部を形成する工程は、
前記第2電極層に保護膜を形成する工程をさらに含み、
前記調整膜を形成する工程は、
前記調整膜と、前記第1電極層又は前記第2電極層とを電気的に接続させる工程をさらに含む、
請求項4乃至7の何れか一項に記載の共振装置の製造方法。 - 下蓋を用意する工程と、
前記共振子を挟んで、前記下蓋と対向するように、上蓋を配置する工程と、
をさらに含む、
請求項1乃至10の何れか一項に記載の共振装置の製造方法。 - 前記周波数を調整する工程は、前記上蓋を配置する工程のあとに前記上蓋を通してレーザを前記調整膜に照射させて行われる、
請求項11に記載の共振装置の製造方法。 - 電極に印加された電圧に応じて振動する振動部と、
前記振動部の周囲の少なくとも一部に設けられた保持部と、
前記振動部と前記保持部との間に設けられ、一端が前記振動部に接続され、他端が前記保持部に接続された保持腕と、
前記振動部における、他の領域よりも振動による変位の大きい領域に設けられたモリブデンからなる下地膜と、
前記振動部における、他の領域よりも振動による変位の大きい領域において、前記下地膜の表面に形成された酸化モリブデンからなる、複数のスポット状の調整膜と、
を備える共振子。 - 前記振動部は、
基板と、当該基板の上面に配置された、第1電極層、圧電層、及び第2電極層を有する、
請求項13に記載の共振子。 - 前記振動部は、
前記第2電極層の表面に形成された保護膜をさらに有しており、前記下地膜は、前記保護膜上に形成されたものである、
請求項14に記載の共振子。 - 前記振動部は、
前記下地膜と、前記第1電極層又は前記第2電極層とを電気的に接続させるビアを有する、請求項15に記載の共振子。 - 前記振動部は、
第2電極層の表面に形成された保護膜と、
前記調整膜と、前記第1電極層又は前記第2電極層とを電気的に接続させるビアと、
を有する、請求項14に記載の共振子。 - 前記複数のスポット状の調整膜は、0.1μm以上20μm以下の径を有する、請求項13乃至17の何れか一項に記載の共振子。
- 前記振動部は、
固定端と開放端とを有し、屈曲振動する振動腕、並びに、前記振動腕の固定端に接続される前端、及び当該前端に対向する後端を有する基部
を有し、
前記他の領域よりも振動による変位の大きい領域は、
前記振動腕における開放端側の先端の領域である、
請求項13乃至18の何れか一項に記載の共振子。 - 前記振動部は、
矩形状の主面を有し、当該主面に沿った平面内で輪郭振動し、
前記他の領域よりも振動による変位の大きい領域は、
前記振動部の四隅の領域である、
請求項13乃至18の何れか一項に記載の共振子。 - 請求項13乃至20の何れか一項に記載の共振子と、
前記共振子を間に挟んで互いに対向して設けられた上蓋及び下蓋と、
外部電極と、
を備える共振装置。
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