JP6777240B2 - マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 - Google Patents
マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6777240B2 JP6777240B2 JP2019535072A JP2019535072A JP6777240B2 JP 6777240 B2 JP6777240 B2 JP 6777240B2 JP 2019535072 A JP2019535072 A JP 2019535072A JP 2019535072 A JP2019535072 A JP 2019535072A JP 6777240 B2 JP6777240 B2 JP 6777240B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- elastic wave
- frequency
- wavelength
- thickness
- order mode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 62
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 31
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 27
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 27
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 5
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 46
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 6
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JCCYXJAEFHYHPP-OLXYHTOASA-L dilithium;(2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O JCCYXJAEFHYHPP-OLXYHTOASA-L 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02574—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of combined substrates, multilayered substrates, piezoelectrical layers on not-piezoelectrical substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14544—Transducers of particular shape or position
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02559—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of lithium niobate or lithium-tantalate substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02834—Means for compensation or elimination of undesirable effects of temperature influence
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02866—Means for compensation or elimination of undesirable effects of bulk wave excitation and reflections
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14502—Surface acoustic wave [SAW] transducers for a particular purpose
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14538—Formation
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6406—Filters characterised by a particular frequency characteristic
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6489—Compensation of undesirable effects
- H03H9/6496—Reducing ripple in transfer characteristic
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/72—Networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6423—Means for obtaining a particular transfer characteristic
- H03H9/6433—Coupled resonator filters
- H03H9/6483—Ladder SAW filters
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/72—Networks using surface acoustic waves
- H03H9/725—Duplexers
Description
fhs_t (n)<fl (m) 式(4)
fhs_t (n)<fl (m) 式(4)
前記fhs_t (n)は、前記弾性波フィルタ(n)に含まれる前記弾性波共振子(t)における前記sに対応する高次モードの周波数を示し、前記λt (n)は、前記弾性波フィルタ(n)に含まれる前記弾性波共振子(t)における前記IDT電極の電極指ピッチで定まる波長であり、前記fu (m)は、前記弾性波フィルタ(m)における通過帯域の高域側端部の周波数であり、前記fl (m)は、前記弾性波フィルタ(m)における通過帯域の低域側端部の周波数であり、前記式(5)における各係数は、前記sの値及び前記支持基板の結晶方位毎に下記の表4、表5または表6に示すそれぞれの値である。
図1は、本発明の第1の実施形態に係るマルチプレクサの回路図である。マルチプレクサ1は、アンテナ端子2を有する。アンテナ端子2は、例えばスマートフォンのアンテナに接続される端子である。
fhs_t (n)<fl (m) 式(4)
a)Si(100)(オイラー角(φSi=0±5°,θSi=0±5°,ψSi)とする)を使用する場合、ψSiの範囲は0°≦ψSi≦45°とする。もっとも、Si(100)の結晶構造の対称性から、ψSiとψSi±(n×90°)とは同義である(但し、n=1、2、3・・・)。同様に、ψSiと−ψSiとは同義である。
第2の実施形態では、第1の高次モードではなく、第2の高次モードのリップルが、第2〜第4のフィルタ4〜6の通過帯域に位置していない。これを図14〜図19を参照しつつ説明する。
fh2_t (n)<fl (m) 式(4A)
第3の実施形態では、第1の高次モードではなく、第3の高次モードのリップルが、第2〜第4のフィルタ4〜6の通過帯域に位置していない。これを図20〜図25を参照しつつ説明する。
fh3_t (n)<fl (m) 式(4B)
第4の実施形態は、第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の全てを満たすものである。第4の実施形態のマルチプレクサの具体的な構造は、第1〜第3の実施形態と同様である。
2…アンテナ端子
3〜6…第1〜第4の弾性波フィルタ
11…弾性波共振子
12…支持基板
13…窒化ケイ素膜
14…酸化ケイ素膜
15…圧電体
16…IDT電極
17a,17b…反射器
202…アンテナ
203…RF信号処理回路
210…マルチプレクサ
211〜214…第1〜第4のフィルタ
221〜224…増幅器
225…アンテナ共通端子
230…高周波フロントエンド回路
240…通信装置
P1,P2…並列腕共振子
S1〜S3…直列腕共振子
Claims (21)
- 一端が共通接続されており、通過帯域が異なるN個の(但し、Nは2以上の整数)弾性波フィルタを備えるマルチプレクサであって、
前記N個の弾性波フィルタを通過帯域の周波数が低い方から順番に、弾性波フィルタ(1)、弾性波フィルタ(2)、、、弾性波フィルタ(N)とした場合に、前記N個の弾性波フィルタのうち最も通過帯域の周波数が高い弾性波フィルタを除く少なくとも1つの弾性波フィルタ(n)(1≦n<N)が、1つ以上の弾性波共振子を含み、
前記1つ以上の弾性波共振子のうちのt番目の弾性波共振子(t)は、
オイラー角(φSi,θSi,ψSi)を有し、シリコンからなる支持基板と、
前記支持基板上に積層されている窒化ケイ素膜と、
前記窒化ケイ素膜上に積層されている酸化ケイ素膜と、
前記酸化ケイ素膜上に積層されており、オイラー角(φLT=0°±5°の範囲内,θ LT,ψLT=0°±15°の範囲内)を有し、タンタル酸リチウムからなる圧電体と、
前記圧電体上に設けられたIDT電極と、
を有し、
前記弾性波共振子(t)において、前記IDT電極の電極指ピッチで定まる波長をλとしたときに、前記波長λにより規格化した厚みを波長規格化厚みとし、前記圧電体の波長規格化厚みをTLT、前記圧電体のオイラー角をθLT、前記酸化ケイ素膜の波長規格化厚みをTS、前記窒化ケイ素膜の波長規格化厚みをTN、前記IDT電極の密度をアルミニウムの密度で除した値と前記IDT電極の波長規格化厚みとの積で求められる、アルミニウムの厚みに換算した前記IDT電極の波長規格化厚みをTE、前記支持基板内における伝搬方位をψSi、前記支持基板の波長規格化厚みをTSiの値とした場合に、前記T LT、前記θLT、前記TS、前記TN、前記TE、前記ψSi、前記TSiで定まる下記の式(1)及び式(2)で決定される第1、第2及び第3の高次モードの周波数fhs _t (n)(但し、sは1、2または3であり、sが1のとき第1の高次モードの周波数を示し、sが2のとき第2の高次モードの周波数を示し、sが3のとき第3の高次モードの周波数を示す。)の内の少なくとも1つと、前記弾性波フィルタ(n)の通過帯域の周波数よりも高い周波数の通過帯域を有するすべての弾性波フィルタ(m)(n<m≦N)とが、下記の式(3)または下記の式(4)を満たす、マルチプレクサ。
fhs_t (n)<fl (m) 式(4)
前記fhs_t (n)は、前記弾性波フィルタ(n)に含まれる前記弾性波共振子(t)における前記sに対応する高次モードの周波数を示し、
前記λt (n)は、前記弾性波フィルタ(n)に含まれる前記弾性波共振子(t)における前記IDT電極の電極指ピッチで定まる波長であり、
前記fu (m)は、前記弾性波フィルタ(m)における通過帯域の高域側端部の周波数であり、
前記fl (m)は、前記弾性波フィルタ(m)における通過帯域の低域側端部の周波数であり、
前記式(1)における各係数は、前記sの値及び前記支持基板の結晶方位毎に下記の表1、表2または表3に示すそれぞれの値である。
- 一端が共通接続されており、通過帯域が異なるN個の(但し、Nは2以上の整数)弾性波フィルタを備えるマルチプレクサであって、
前記N個の弾性波フィルタを通過帯域の周波数が低い方から順番に、弾性波フィルタ(1)、弾性波フィルタ(2)、、、弾性波フィルタ(N)とした場合に、前記N個の弾性波フィルタのうち最も通過帯域の周波数が高い弾性波フィルタを除く少なくとも1つの弾性波フィルタ(n)(1≦n<N)が、1つ以上の弾性波共振子を含み、
前記1つ以上の弾性波共振子のうちのt番目の弾性波共振子(t)は、
オイラー角(φSi,θSi,ψSi)を有し、シリコンからなる支持基板と、
前記支持基板上に積層されている窒化ケイ素膜と、
前記窒化ケイ素膜上に積層されている酸化ケイ素膜と、
前記酸化ケイ素膜上に積層されており、オイラー角(φLT=0°±5°の範囲内,θ LT,ψLT=0°±15°の範囲内)を有し、タンタル酸リチウムからなる圧電体と、
前記圧電体上に設けられたIDT電極と、
を有し、
前記弾性波共振子(t)において、前記IDT電極の電極指ピッチで定まる波長をλとしたときに、前記波長λにより規格化した厚みを波長規格化厚みとし、前記圧電体の波長規格化厚みをTLT、前記圧電体のオイラー角をθLT、前記酸化ケイ素膜の波長規格化厚みをTS、前記窒化ケイ素膜の波長規格化厚みをTN、前記IDT電極の密度をアルミニウムの密度で除した値と前記IDT電極の波長規格化厚みとの積で求められる、アルミニウムの厚みに換算した前記IDT電極の波長規格化厚みをTE、前記支持基板内における伝搬方位をψSi、前記支持基板の波長規格化厚みをTSiの値とした場合に、前記T LT、前記θLT、前記TS、前記TN、前記TE、前記ψSi、前記TSiで定まる下記の式(5)及び式(2)で決定される第1、第2及び第3の高次モードの周波数fhs _t (n)(但し、sは1、2または3であり、sが1のとき第1の高次モードの周波数を示し、sが2のとき第2の高次モードの周波数を示し、sが3のとき第3の高次モードの周波数を示す。)の内の少なくとも1つと、前記弾性波フィルタ(n)の通過帯域の周波数よりも高い周波数の通過帯域を有するすべての弾性波フィルタ(m)(n<m≦N)とが、下記の式(3)または下記の式(4)を満たす、マルチプレクサ。
fhs_t (n)<fl (m) 式(4)
前記fhs_t (n)は、前記弾性波フィルタ(n)に含まれる前記弾性波共振子(t)における前記sに対応する高次モードの周波数を示し、
前記λt (n)は、前記弾性波フィルタ(n)に含まれる前記弾性波共振子(t)における前記IDT電極の電極指ピッチで定まる波長であり、
前記fu (m)は、前記弾性波フィルタ(m)における通過帯域の高域側端部の周波数であり、
前記fl (m)は、前記弾性波フィルタ(m)における通過帯域の低域側端部の周波数であり、
前記式(5)における各係数は、前記sの値及び前記支持基板の結晶方位毎に下記の表4、表5または表6に示すそれぞれの値である。
- 前記第1及び第2の高次モードの周波数fhs_t (n)が、前記式(3)または前記式(4)を満たすように、前記TLT、前記θLT、前記TS、前記TN、前記TE、前記ψSi及び前記TSiの値が選択されている、請求項1または2に記載のマルチプレクサ。
- 前記第1及び第3の高次モードの周波数fhs_t (n)が、前記式(3)または前記式(4)を満たすように、前記TLT、前記θLT、前記TS、前記TN、前記TE、前記ψSi及び前記TSiの値が選択されている、請求項1または2に記載のマルチプレクサ。
- 前記第2及び第3の高次モードの周波数fhs_t (n)が、前記式(3)または前記式(4)を満たすように、前記TLT、前記θLT、前記TS、前記TN、前記TE、前記ψSi及び前記TSiの値が選択されている、請求項1または2に記載のマルチプレクサ。
- 前記第1、第2及び第3の高次モードの周波数fhs_t (n)の全てが、前記式(3)または前記式(4)を満たすように、前記TLT、前記θLT、前記TS、前記TN、前記TE、前記ψSi及び前記TSiの値が選択されている、請求項1または2に記載のマルチプレクサ。
- 前記支持基板の波長規格化厚みTSiが、TSi>4ある、請求項1〜6のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。
- TSi>10である、請求項7に記載のマルチプレクサ。
- TSi>20である、請求項8に記載のマルチプレクサ。
- 前記圧電体の波長規格化厚みが、3.5λ以下である、請求項1〜9のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。
- 前記圧電体の波長規格化厚みが、2.5λ以下である、請求項10に記載のマルチプレクサ。
- 前記圧電体の波長規格化厚みが、1.5λ以下である、請求項10に記載のマルチプレクサ。
- 前記圧電体の波長規格化厚みが、0.5λ以下である、請求項10に記載のマルチプレクサ。
- 前記複数の弾性波フィルタの一端が共通接続されているアンテナ端子をさらに備え、
前記式(3)または前記式(4)を満たす前記弾性波共振子が、前記アンテナ端子に最も近い、弾性波共振子である、請求項1〜13のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。 - 前記式(3)または前記式(4)を満たす前記弾性波共振子が、前記1つ以上の弾性波共振子の全てである、請求項1〜13のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。
- デュプレクサである、請求項1〜15のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。
- 前記複数の弾性波フィルタの一端が共通接続されているアンテナ端子をさらに備え、
3個以上の弾性波フィルタが前記アンテナ端子側で共通接続されている複合フィルタである、請求項1〜15のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。 - キャリアアグリゲーション用複合フィルタ装置である、請求項17に記載のマルチプレクサ。
- 前記1つ以上の弾性波共振子を有する前記弾性波フィルタが、複数の直列腕共振子と複数の並列腕共振子とを有するラダー型フィルタである、請求項1〜18のいずれか1項に記載のマルチプレクサ。
- 請求項1〜19のいずれか1項に記載のマルチプレクサと、
パワーアンプと、
を備える、高周波フロントエンド回路。 - 請求項1〜19のいずれか1項に記載のマルチプレクサ及びパワーアンプを有する高周波フロントエンド回路と、
RF信号処理回路と、
を備える、通信装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017154239 | 2017-08-09 | ||
JP2017154239 | 2017-08-09 | ||
PCT/JP2018/027358 WO2019031201A1 (ja) | 2017-08-09 | 2018-07-20 | マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019031201A1 JPWO2019031201A1 (ja) | 2020-07-09 |
JP6777240B2 true JP6777240B2 (ja) | 2020-10-28 |
Family
ID=65272891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019535072A Active JP6777240B2 (ja) | 2017-08-09 | 2018-07-20 | マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11271544B2 (ja) |
JP (1) | JP6777240B2 (ja) |
KR (1) | KR102320453B1 (ja) |
CN (1) | CN110999078B (ja) |
DE (1) | DE112018004059B4 (ja) |
WO (1) | WO2019031201A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6620908B2 (ja) * | 2017-03-09 | 2019-12-18 | 株式会社村田製作所 | マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
CN112655150B (zh) | 2018-09-07 | 2024-02-09 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置、高频前端电路以及通信装置 |
JP7426991B2 (ja) * | 2019-04-08 | 2024-02-02 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びマルチプレクサ |
JP7188412B2 (ja) * | 2020-04-17 | 2022-12-13 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及び複合フィルタ装置 |
CN116248072B (zh) * | 2022-12-29 | 2024-04-02 | 上海馨欧集成微电有限公司 | 一种声波滤波器及信号处理电路 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007077825A1 (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性波フィルタ |
JP2010187373A (ja) | 2009-01-19 | 2010-08-26 | Ngk Insulators Ltd | 複合基板及びそれを用いた弾性波デバイス |
JP2010193429A (ja) | 2009-01-26 | 2010-09-02 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性波装置 |
JP5180889B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2013-04-10 | 日本碍子株式会社 | 複合基板、それを用いた弾性波デバイス及び複合基板の製法 |
CN104935288B (zh) * | 2010-02-22 | 2018-08-03 | 天工滤波方案日本有限公司 | 天线共用器 |
JP2012005114A (ja) * | 2010-05-19 | 2012-01-05 | Panasonic Corp | 弾性波装置 |
JP5942740B2 (ja) | 2012-09-25 | 2016-06-29 | 株式会社村田製作所 | ラダー型フィルタ及び分波器 |
CN105723615B (zh) | 2013-11-29 | 2018-07-27 | 株式会社村田制作所 | 分波器 |
JP2015119452A (ja) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波フィルタ |
WO2015198904A1 (ja) * | 2014-06-26 | 2015-12-30 | 株式会社村田製作所 | 縦結合共振子型弾性表面波フィルタ |
WO2016103953A1 (ja) * | 2014-12-25 | 2016-06-30 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
DE112016002829B4 (de) * | 2015-06-25 | 2024-03-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multiplexer, Hochfrequenz-Frontend-Schaltkreis und Kommunikationsvorrichtung |
CN107852145B (zh) | 2015-09-10 | 2021-10-26 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置、高频前端电路以及通信装置 |
-
2018
- 2018-07-20 KR KR1020207000536A patent/KR102320453B1/ko active IP Right Grant
- 2018-07-20 WO PCT/JP2018/027358 patent/WO2019031201A1/ja active Application Filing
- 2018-07-20 JP JP2019535072A patent/JP6777240B2/ja active Active
- 2018-07-20 CN CN201880051686.3A patent/CN110999078B/zh active Active
- 2018-07-20 DE DE112018004059.3T patent/DE112018004059B4/de active Active
-
2020
- 2020-02-06 US US16/783,202 patent/US11271544B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110999078A (zh) | 2020-04-10 |
WO2019031201A1 (ja) | 2019-02-14 |
DE112018004059T5 (de) | 2020-04-23 |
CN110999078B (zh) | 2023-06-06 |
US20200177157A1 (en) | 2020-06-04 |
KR20200013051A (ko) | 2020-02-05 |
JPWO2019031201A1 (ja) | 2020-07-09 |
KR102320453B1 (ko) | 2021-11-02 |
DE112018004059B4 (de) | 2022-09-29 |
US11271544B2 (en) | 2022-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6819789B2 (ja) | 弾性波装置、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 | |
JP6777240B2 (ja) | マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 | |
JP6959819B2 (ja) | マルチプレクサ | |
JP6620908B2 (ja) | マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路及び通信装置 | |
JP6870684B2 (ja) | マルチプレクサ | |
US10680577B2 (en) | Acoustic wave device, multiplexer, high-frequency front-end circuit, and communication apparatus | |
US11855609B2 (en) | Acoustic wave device, radio-frequency front end circuit, and communication device | |
US11888461B2 (en) | Acoustic wave device, acoustic wave filter, and composite filter device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200123 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200908 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200921 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6777240 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |