JP6776709B2 - 電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法 - Google Patents

電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6776709B2
JP6776709B2 JP2016153953A JP2016153953A JP6776709B2 JP 6776709 B2 JP6776709 B2 JP 6776709B2 JP 2016153953 A JP2016153953 A JP 2016153953A JP 2016153953 A JP2016153953 A JP 2016153953A JP 6776709 B2 JP6776709 B2 JP 6776709B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
amplification device
power amplification
source
power
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016153953A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018023043A (ja
Inventor
理人 西森
理人 西森
達哉 廣瀬
達哉 廣瀬
育生 曽我
育生 曽我
雅之 細田
雅之 細田
忠紘 今田
忠紘 今田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2016153953A priority Critical patent/JP6776709B2/ja
Priority to US15/648,046 priority patent/US10270406B2/en
Publication of JP2018023043A publication Critical patent/JP2018023043A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6776709B2 publication Critical patent/JP6776709B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/189High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
    • H03F3/19High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/195High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only in integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/02Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation
    • H03F1/0205Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers
    • H03F1/0288Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers using a main and one or several auxiliary peaking amplifiers whereby the load is connected to the main amplifier using an impedance inverter, e.g. Doherty amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/30Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/30Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters
    • H03F1/301Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters in MOSFET amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03GCONTROL OF AMPLIFICATION
    • H03G3/00Gain control in amplifiers or frequency changers
    • H03G3/20Automatic control
    • H03G3/30Automatic control in amplifiers having semiconductor devices
    • H03G3/3036Automatic control in amplifiers having semiconductor devices in high-frequency amplifiers or in frequency-changers
    • H03G3/3042Automatic control in amplifiers having semiconductor devices in high-frequency amplifiers or in frequency-changers in modulators, frequency-changers, transmitters or power amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6605High-frequency electrical connections
    • H01L2223/6611Wire connections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • H01L2223/6655Matching arrangements, e.g. arrangement of inductive and capacitive components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6661High-frequency adaptations for passive devices
    • H01L2223/6666High-frequency adaptations for passive devices for decoupling, e.g. bypass capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6661High-frequency adaptations for passive devices
    • H01L2223/6672High-frequency adaptations for passive devices for integrated passive components, e.g. semiconductor device with passive components only
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48153Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • H01L2224/48195Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being a discrete passive component
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • H01L2924/30111Impedance matching
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2200/00Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/447Indexing scheme relating to amplifiers the amplifier being protected to temperature influence
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2200/00Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/451Indexing scheme relating to amplifiers the amplifier being a radio frequency amplifier
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2200/00Indexing scheme relating to amplifiers
    • H03F2200/481A resistor being used as sensor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Amplifiers (AREA)

Description

本発明は、電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法に関する。
近年、無線通信における通信データ量の増大に伴って、例えば、基地局の送信出力の増大が求められている。そして、広帯域および高効率が可能なマイクロ波電力増幅器として、入力信号を増幅する主増幅器(キャリア増幅器)、および、入力信号が所定レベルを超えたときに入力信号を増幅する補助増幅器(ピーク増幅器)を含むドハティ型の電力増幅装置が注目されている。
例えば、基地局の高周波高出力用増幅装置では、最終段の電力増幅装置としてドハティ型の電力増幅装置(ドハティ増幅器)が適用されることが多くなって来ている。すなわち、ドハティ増幅器は、平均電力とピーク電力の差が大きい移動通信システム信号でも高い効率が得られるため、例えば、基地局の最終段電力増幅装置として多用されている。
ここで、主増幅器はA級またはAB級で動作し、補助増幅器はB級またはC級で動作するが、例えば、低出力電力時には主増幅器が単独で動作し、高出力電力時には主増幅器だけでなく補助増幅器も動作するようになっている。
しかしながら、高出力電力時に補助増幅器がオフからオンして増幅動作を開始するとき、補助増幅器の出力位相は主増幅器の出力位相と大きく異なり、主増幅器と補助増幅器の出力電力を合成するとき、合成損失が大きくなってしまう。
従来、ドハティ型の電力増幅装置としては、様々なものが提案され、例えば、主増幅器と補助増幅器の出力電力を合成するときの合成損失を低減するために、入力電力に応じて主増幅器と補助増幅器のゲートバイアスを制御するといったものも提案されている。
国際公開第2008/012883号 特許第4210332号公報
前述したように、例えば、基地局の高周波高出力用増幅装置として、入力信号を増幅する主増幅器、および、入力信号が所定レベルを超えたときに入力信号を増幅する補助増幅器を含むドハティ型の電力増幅装置が適用されるようになって来ている。
しかしながら、高出力電力時に補助増幅器がオフからオンして増幅動作を開始するとき、補助増幅器と主増幅器の出力位相は大きく異なるため、主増幅器と補助増幅器の出力電力を合成するときの合成損失が大きくなるという問題がある。
これに対して、入力電力に応じて主増幅器と補助増幅器のゲートバイアスを制御し、主増幅器と補助増幅器の出力電力を合成するときの合成損失を低減するものも提案されている。しかしながら、主増幅器と補助増幅器のゲートバイアスを制御するには、例えば、直交スプリッタや検出器、並びに、バイアス制御回路等を設けることになり、回路が複雑化して高価なものになるという問題がある。
1つの態様では、電力増幅装置は、入力信号が入力される入力端子と、前記入力信号を受け取って増幅する主増幅トランジスタと、前記入力信号を受け取り、前記入力信号が所定レベルを超えたときに前記入力信号を増幅する補助増幅トランジスタと、前記主増幅トランジスタのソースとグラウンド間に設けられ、前記入力信号が所定の値以上になったとき、前記主増幅トランジスタのソース電位が増加するように制御する制御回路と、前記主増幅トランジスタの出力信号および前記補助増幅トランジスタの出力信号が出力される出力端子と、を有する。
1つの側面として、簡単な構成で主増幅器および補助増幅器の出力を合成するときの合成損失を低減することができるという効果を奏する。
図1は、電力増幅装置の一例を示すブロック図である。 図2は、図1に示す電力増幅装置における課題を説明するための図である。 図3は、本実施形態の電力増幅装置を示すブロック図である。 図4は、電力増幅装置の第1実施例を示すブロック図である。 図5は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器を流れる電流と入力電力の関係を示す図である。 図6は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器のゲート−ソース間電圧と入力電力の関係を示す図である。 図7は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器の位相差と入力電力の関係を、図1に示す電力増幅装置におけるものと比較して示す図である。 図8は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置による電力付加効率とバックオフ量の関係を、図1に示す電力増幅装置におけるものと比較して示す図である。 図9は、電力増幅装置の第2実施例を示すブロック図である。 図10は、図9に示す第2実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器のゲート−ソース間電圧と入力電力の関係を示す図である。 図11は、電力増幅装置の第3実施例を示すブロック図である。 図12は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器の一例を説明するための図である。 図13は、図12に示す主増幅器における容量素子の一例の例を示す図である。 図14は、本実施形態の電力増幅装置を適用した半導体集積回路の一例を模式的に示す図である。
まず、電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法の実施例を詳述する前に、電力増幅装置の一例、並びに、その問題点を図1および図2を参照して説明する。図1は、電力増幅装置の一例を示すブロック図であり、ドハティ型の電力増幅装置(ドハティアンプ)を簡略化して示すものである。
図1に示されるように、ドハティ型の電力増幅装置は、入力電力(入力信号)RFinを増幅する主増幅器(キャリア増幅器)1、および、入力電力が所定レベルを超えたときに入力電力を増幅する補助増幅器(ピーク増幅器)2を含む。図1において、参照符号31および32は、λ/4伝送線路(1/4波長伝送線路)を示し、41〜44は、整合回路を示す。
ここで、主増幅器1は、A級またはAB級で動作するトランジスタで形成され、補助増幅器2は、B級またはC級で動作するトランジスタで形成される。例えば、AB級で動作するトランジスタ(主増幅器)1のゲートには、整合回路41を介して入力電力RFinが入力され、C級で動作するトランジスタ(補助増幅器)2のゲートには、λ/4伝送線路31および整合回路43を介して入力電力RFinが入力される。また、トランジスタ1のゲートには、AB級バイアス電圧Vgg1が印加され、トランジスタ2のゲートには、C級バイアス電圧Vgg2が印加される。
トランジスタ1のドレインは、整合回路42およびλ/4伝送線路32を介して出力端子(RFout)に接続され、トランジスタ2のドレインは、整合回路44を介して出力端子に接続される。なお、トランジスタ1および2のドレインには、電源電圧Vddが印加され、トランジスタ1のソースおよびトランジスタ2のソースは、そのままグラウンド(接地:GND)に接続されている。すなわち、出力電力(出力信号)RFoutは、整合回路42およびλ/4伝送線路32を介してトランジスタ1のドレインに接続されたノードと、整合回路44を介してトランジスタ2のドレインに接続されたノードの共通接続個所から取り出される。
ところで、一般的なドハティ型の電力増幅装置において、主増幅器1はAB級(または、A級)にバイアスされ、補助増幅器2はC級(または、B級)にバイアスされる。そのため、低出力電力時は主増幅器1が単独で動作するために効率が良く、また、高出力電力時は主増幅器1だけでなく補助増幅器2も動作するため、高出力動作が可能になる。
しかしながら、主増幅器1と補助増幅器2は、ゲートバイアス(バイアス電圧Vgg1,Vgg2)が異なるため、トランジスタ1,2における寄生容量も異なる。図2は、図1に示す電力増幅装置における課題を説明するための図である。図2において、特性曲線L1は、主増幅器1の出力における入力電力(dBm)と位相(deg)の関係を示し、特性曲線L2は、補助増幅器2の出力における入力電力と位相の関係を示す。
上述したように、低出力電力時は主増幅器1が単独で動作するが、高出力電力時は主増幅器1だけでなく補助増幅器2も動作し、主増幅器1の出力電力と補助増幅器2の出力電力の電力合成が発生する。このとき、図2に示されるように、補助増幅器2は、高出力電力時に電力の増幅動作を開始するが、特に、その補助増幅器2の増幅動作開始直後では、主増幅器1と補助増幅器2の出力の位相差が大きい。すなわち、図2において、電力の合成が発生する矩形領域RRでは、主増幅器1と補助増幅器2の出力の位相差が大きいため、両方の増幅器1,2の出力電力を合成するとき、その合成損失が大きくなってしまう。
以下、電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法の実施例を、添付図面を参照して詳述する。図3は、本実施形態の電力増幅装置を示すブロック図であり、主増幅器(キャリア増幅器)1および補助増幅器(ピーク増幅器)2を含むドハティ型の電力増幅装置を示すものである。
図3と、前述した図1の比較から明らかなように、本実施形態の電力増幅装置は、図1に示す電力増幅装置において、主増幅器1のソースとグラウンド(GND)の間に制御回路5が設けられている。ここで、制御回路5は、例えば、入力電力RFinが所定の値以上になったとき、トランジスタ(主増幅器)1のソース電位が増加するように制御して、トランジスタ1およびトランジスタ(補助増幅器)2の電力を合成するときの合成損失を低減するようになっている。
図4は、電力増幅装置の第1実施例を示すブロック図である。図4と、上述した図3の比較から明らかなように、第1実施例の電力増幅装置において、制御回路5は、トランジスタ(主増幅器)1のソースSとグラウンドGND間に設けられた抵抗素子51および容量素子52を含む。
例えば、AB級で動作するトランジスタ1のゲートGには、整合回路41を介して入力電力RFinが入力され、C級で動作するトランジスタ(補助増幅器)2のゲートGには、λ/4伝送線路31および整合回路43を介して入力電力RFinが入力される。トランジスタ1のゲートGには、バイアス電圧(ゲートバイアス電圧)Vgg1が印加され、また、トランジスタ2のゲートGには、バイアス電圧(ゲートバイアス電圧)Vgg2が印加されている。ここで、抵抗素子51による電圧降下量は、例えば、トランジスタ1のゲートバイアス電圧Vgg1とトランジスタ2のゲートバイアス電圧Vgg2の差(|Vgg1−Vgg2|)に近づく(等しくなる)ように設定される。
トランジスタ1のドレインDは、整合回路42およびλ/4伝送線路32を介して出力端子(RFout)に接続され、トランジスタ2のドレインDは、整合回路44を介して出力端子に接続される。また、トランジスタ1および2のドレインDには、電源電圧Vddが印加され、トランジスタ2のソースSは、そのままグラウンドGNDに接続されている。なお、図4に示す第1実施例の電力増幅装置において、例えば、容量素子52は、必ずしも設けなくてもよいが、トランジスタ1のソースを、高周波的にグラウンドGNDに接地するために設けた方が好ましい。
図4に示す第1実施例の電力増幅装置のように、例えば、トランジスタ1のソースSとグラウンドGND間に、抵抗素子51および容量素子52を並列に設けることにより、トランジスタ1のゲート−ソース間電圧Vgs1は、次の[式1]により表すことができる。なお、制御回路5における抵抗素子51の抵抗値をRsとし、抵抗素子51を流れる電流(トランジスタ1を流れる電流)をIdc1とする。
Vgs1=Vgg1−Rs×Idc1 ・・・ [式1]
このように、第1実施例の電力増幅装置では、トランジスタ(主増幅器)1のソースSとグラウンドGND間に挿入した抵抗素子51により、トランジスタ1および2のゲートバイアス電圧差(|Vgg1−Vgg2|)と同程度の電圧降下を生じさせるようになっている。これにより、簡単な構成で主増幅器および補助増幅器の出力を合成するときの合成損失を低減することが可能になる。
図5は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器を流れる電流(A)と入力電力(dBm)の関係を示す図である。また、図6は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器のゲート−ソース間の電圧(V)と入力電力(dBm)の関係を示す図である。
図5に示されるように、トランジスタ(主増幅器)1を流れる電流(ドレイン電流)Idc1は、入力電力RFin(出力電力RFout)が増加すると、トランジスタ1のドレイン側の電源から引き込まれる電流が増加する。そのため、図6に示されるように、トランジスタ1のゲート−ソース間電圧Vgs1は、入力電力RFinが増加するにつれて負側に変動する。
これにより、図6において、補助増幅器(トランジスタ)2も動作して電力の合成が発生する矩形領域Rrでは、トランジスタ1および2のゲート−ソース間電圧の差(|Vgs1−Vgs2|)が小さくなり、合成する電力を低減することができる。
ここで、図6において、破線Vgs10は、例えば、前述した図1のように、トランジスタ1のソースとグラウンド(GND)間に制御回路5を設けないときのトランジスタ1のゲート−ソース間電圧を示す。すなわち、本実施例によれば、トランジスタ1のソースとグラウンド間に制御回路5(抵抗素子51)を設けることで、矩形領域Rrにおけるトランジスタ1および2のゲート−ソース間電Vgs1,Vgs2の差を小さくして、電力合成を抑制することが可能になる。
なお、制御回路5における容量素子52は、トランジスタ1のソースを高周波的に接地(GND)し、利得の低下を抑制するためのものである。すなわち、トランジスタ1のソースとグラウンド間に抵抗素子51のみを挿入した場合は、トランジスタ(主増幅器)1の利得の低下を招くことになる。このように、容量素子52は、トランジスタ1のソースとグラウンド間に設けなくても電力合成の損失を低減することは可能だが、設けた方が好ましい。
図7は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器の位相差(deg)と入力電力(dBm)の関係を、図1に示す電力増幅装置におけるものと比較して示す図である。図7において、参照符号PD1は、第1実施例の電力増幅装置における位相差と入力電力の関係(第1実施例の電力増幅装置の特性曲線)を示し、PD10は、図1に示す電力増幅装置における位相差と入力電力の関係(図1示す電力増幅装置の特性曲線)を示す。なお、参照符号PD100(破線)は、主増幅器および補助増幅器の位相差がない理想的な場合(理想特性曲線)を示す。
図7から明らかなように、第1実施例の電力増幅装置の特性曲線PD1は、図1に示す電力増幅装置の特性曲線PD10よりも、入力電力RFinの大きさに関わらず、理想特性曲線PD100に近い特性を有していることが分かる。
図8は、図4に示す第1実施例の電力増幅装置による電力付加効率(PAE:Power-Added Efficiency,%)とバックオフ量(dB)の関係を、図1に示す電力増幅装置におけるものと比較して示す図である。図8において、参照符号EC1は、第1実施例の電力増幅装置におけるPAEとバックオフ量の関係(第1実施例の電力増幅装置の特性曲線)を示し、EC10は、図1の電力増幅装置におけるPAEとバックオフ量の関係(図1示す電力増幅装置の特性曲線)を示す。
図8において、例えば、参照符号Pで示される電力増幅装置が40Wの電力を出力する場合において、第1実施例の電力増幅装置の特性曲線EC1は、図1示す電力増幅装置の特性曲線EC10よりも効率を約6%改善できることが分かる。すなわち、参照符号Pの破線で示されるように、例えば、バックオフ量が−8.5dBの動作電力では、PAE(電力付加効率)を特性曲線EC10による44%から特性曲線EC1による50%へ、約6%向上可能なのが分かる。これは、例えば、40W出力時の消費電力を約11W低減するのに相当する。このように、第1実施例の電力増幅装置によれば、簡単な構成で主増幅器および補助増幅器の出力を合成するときの合成損失を低減することが可能である。この効果は、後述する第2実施例および第3実施例でも同様に発揮される。
図9は、電力増幅装置の第2実施例を示すブロック図である。図9と、前述した図4の比較から明らかなように、第2実施例の電力増幅装置において、制御回路5は、さらに、トランジスタ1のソースとグラウンド間に設けられたダイオード素子53を含む。すなわち、第2実施例の電力増幅装置では、トランジスタ(主増幅器)1のソースとグラウンド間に、抵抗素子51,容量素子52およびダイオード素子53が並列に設けられている。
これにより、抵抗素子51による電圧降下量(トランジスタ1のソース電位)がダイオード素子53のVf以上になったときに、ダイオード素子53に電流が流れ始めるため、トランジスタ1のソース電位を一定に保持することが可能になる。
図10は、図9に示す第2実施例の電力増幅装置における主増幅器および補助増幅器のゲート−ソース間電圧と入力電力の関係を示す図であり、前述した図6に対応するものである。ここで、参照符号Vgs1は、トランジスタ1のゲート−ソース間電圧を示し、Vgs1nは、ダイオード素子53が設けられていない場合のゲート−ソース間電圧を示し、Vgs1dは、ダイオード素子53を設けた場合のゲート−ソース間電圧を示す。なお、参照符号Vgs2は、トランジスタ2のゲート−ソース間電圧を示す。
図10に示されるように、Vgs1nとVgs1dの比較から明らかなように、ダイオード素子53を設けた場合のVgs1dは、ダイオード素子53が設けられていない場合のVgs1nよりも、トランジスタ2のVgs2に近づけることができる。これにより、第2実施例の電力増幅装置によれば、より広い範囲で主増幅器1のゲート−ソース間電圧Vgs1(Vgs1d)と補助増幅器2のゲート−ソース間電圧Vgs2の差、並びに、位相差を小さくすることができ、より一層高い効率を得ることが可能になる。すなわち、第2実施例の電力増幅装置によれば、簡単な構成で主増幅器および補助増幅器の出力を合成するときの合成損失をより一層低減することができる。
図11は、電力増幅装置の第3実施例を示すブロック図である。図11と、前述した図4の比較から明らかなように、第3実施例の電力増幅装置では、制御回路5における抵抗素子51をNTCサーミスタ素子54に置き換えるようになっている。すなわち、トランジスタ1のソースとグラウンド間には、NTCサーミスタ素子54および容量素子52が並列に設けられている。
ここで、サーミスタは、温度により抵抗値が変わる素子であり、その中でも、NTC(Negative Temperature Coefficient)サーミスタ素子54は、温度が上がると抵抗値が低下する特性を有している。このNTCサーミスタ54を、第1実施例における抵抗素子51の代わりに挿入すると、高出力電力時には、トランジスタ(主増幅器)1に流れる電流Idc1が増加して温度が上昇し、NTCサーミスタ素子54の抵抗値が低下して電圧降下量が減少する。
その結果、高出力電力時におけるトランジスタ1のゲート−ソース間電Vgs1の変動が緩やかになり、より広い範囲で主増幅器と補助増幅器のゲート−ソース間電の差、並びに、位相差を小さくし、より一層高い効率を得ることができる。すなわち、第3実施例の電力増幅装置によれば、簡単な構成で主増幅器および補助増幅器の出力を合成するときの合成損失をより一層低減することが可能になる。
図12は、本実施形態の電力増幅装置における主増幅器の一例を説明するための図であり、図12(a)は、主増幅器の平面図であり、図12(b)は、図12(a)における直線*A−*Aに沿った側面図である。図12(a)および図12(b)に示されるように、主増幅器(トランジスタ)1は、ゲートG,ソースSおよびドレインDを有し、トランジスタ1のソースSとグラウンドGND間には、抵抗素子51が設けられている。さらに、トランジスタ1のソースSとグラウンドGND間には、図13を参照して説明するように、グラウンドGND,アルミニウム(トランジスタ1のソースS)およびフィルムFによる容量素子52が設けられている。
図13は、図12に示す主増幅器における容量素子の一例の例を示す図である。図13に示されるように、図12に示す主増幅器1における容量素子52は、例えば、金属より成るグラウンドGND上に絶縁フィルム(絶縁シート)Fを形成する、この絶縁フィルムFとしては、例えば、厚さ5μm程度のPET(ポリエチレンテレフタラ−ト:PolyEthylene Terephthalate)フィルムを適用することができる。
さらに、絶縁フィルムF上に、例えば、スパッタリングにより、厚さ100μm程度のアルミニウムを成膜し、このアルミニウム膜をトランジスタ1のソースSとして使用する。これにより、トランジスタ1のソースSとグラウンドGND間に容量素子52を設けることができる。なお、PETフィルムおよびアルミニウムは、単なる例であり、様々なものを適用することができるのはいうまでもない。
すなわち、本実施形態の主増幅器(トランジスタ)1は、そのソースSとグラウンドGND間に薄い絶縁フィルムFを挿入することで、容量素子(コンデンサ)52として機能させることができる。また、このような容量素子52は、実装する際の寄生インダクタンスや寄生抵抗を抑えることができ、マッチングのずれを低減することができる。なお、絶縁フィルムFの厚さは、設定する容量素子52の容量値にも依存するが、例えば、数百nm〜数μmである。
図14は、本実施形態の電力増幅装置を適用した半導体集積回路(ICパッケージ)の一例を模式的に示す図である。すなわち、上述した説明では、主増幅器1(補助増幅器2も同様)は、1つのトランジスタとして説明したが、複数のトランジスタにより形成することもできる。なお、図14では、複数のトランジスタにより形成された主増幅器1(半導体チップCP),抵抗素子51および容量素子52のみが描かれているが、例えば、前述した補助増幅器2、λ/4伝送線路31,32および整合回路41〜44等を含んでいてもよい。
ここで、図14において、参照符号G,D,Sは、主増幅器1を形成する複数のトランジスタの各ゲート,ドレイン,ソースを示し、LGは、ゲート用リード、LDは、ドレイン用リード、そして、Wはワイヤーを示す。また、参照符号GPは、ゲート電極パッド、DPはドレイン電極パッド、そして、SP1,SP2は、ソース電極用パッドを示す。
図14に示されるように、半導体チップCP上に形成された複数のトランジスタにおけるそれぞれのゲートG,ドレインDおよびソースは、ゲート電極パッドGP,ドレイン電極パッドDPおよびソース電極用パッドSP1,SP2に繋がれている。ソース電極用パッドSP1とグラウンドGNDの間には、複数のワイヤーを介して抵抗素子51が設けられ、また、ソース電極用パッドSP2とグラウンドGNDの間には、複数のワイヤーを介して容量素子52が設けられている。なお、ゲート電極パッドGPは、複数のワイヤーを介してゲート用リードLGに接続され、ドレイン電極パッドDPは、複数のワイヤーを介してドレイン用リードLDに接続されている。
このように、本実施形態の電力増幅装置(主増幅器1、および、抵抗素子51および容量素子52の制御回路5)は、1つの半導体集積回路として提供することができる。このような構成により、回路の簡略化が可能になり、また、ワイヤーWの長さを調整することで、抵抗素子51および容量素子52の寄生インダクタンスのバラつき等を抑えることができ、マッチングが取り易くすることもできる。
以上、実施形態を説明したが、ここに記載したすべての例や条件は、発明および技術に適用する発明の概念の理解を助ける目的で記載されたものであり、特に記載された例や条件は発明の範囲を制限することを意図するものではない。また、明細書のそのような記載は、発明の利点および欠点を示すものでもない。発明の実施形態を詳細に記載したが、各種の変更、置き換え、変形が発明の精神および範囲を逸脱することなく行えることが理解されるべきである。
以上の実施例を含む実施形態に関し、さらに、以下の付記を開示する。
(付記1)
入力電力を増幅する主増幅器と、
前記入力電力が所定レベルを超えたときに前記入力電力を増幅する補助増幅器と、
前記主増幅器のソースとグラウンド間に設けられ、前記入力電力が所定の値以上になったとき、前記主増幅器のソース電位が増加するように制御する制御回路と、を有する、
ことを特徴とする電力増幅装置。
(付記2)
前記制御回路は、
前記主増幅器のソースとグラウンドの間に設けられた抵抗素子を含む、
ことを特徴とする付記1に記載の電力増幅装置。
(付記3)
前記制御回路は、さらに、
前記主増幅器のソースとグラウンドの間に、前記抵抗素子と並列に設けられた容量素子を含む、
ことを特徴とする付記2に記載の電力増幅装置。
(付記4)
前記制御回路は、さらに、
前記主増幅器のソースとグラウンドの間に、前記抵抗素子および前記容量素子と並列に設けられたダイオード素子を含む、
ことを特徴とする付記3に記載の電力増幅装置。
(付記5)
前記制御回路は、
前記主増幅器のソースとグラウンドの間に、並列に設けられたNTCサーミスタ素子および容量素子を含む、
ことを特徴とする付記1に記載の電力増幅装置。
(付記6)
前記容量素子は、前記主増幅器のソースと、前記グラウンドと、前記主増幅器のソースおよび前記グラウンド間に設けられた絶縁フィルムにより形成される、
ことを特徴とする付記3乃至付記5のいずれか1項に記載の電力増幅装置。
(付記7)
前記制御回路による前記主増幅器のソースとグラウンド間の電圧降下量は、前記主増幅器のゲートバイアス電圧と前記補助増幅器のゲートバイアス電圧の差に等しい、
ことを特徴とする付記1乃至付記6のいずれか1項に記載の電力増幅装置。
(付記8)
前記主増幅器は、A級またはAB級で動作する第1トランジスタで形成され、
前記補助増幅器は、B級またはC級で動作する第2トランジスタで形成される、
ことを特徴とする付記1乃至付記7のいずれか1項に記載の電力増幅装置。
(付記9)
前記電力増幅装置は、ドハティ型の電力増幅装置である、
ことを特徴とする付記1乃至付記8のいずれか1項に記載の電力増幅装置。
(付記10)
付記1乃至付記9のいずれか1項に記載の電力増幅装置を含む、
ことを特徴とする半導体集積回路。
(付記11)
入力電力を増幅する主増幅器と、前記入力電力が所定レベルを超えたときに前記入力電力を増幅する補助増幅器と、を含むドハティ型の電力増幅装置の制御方法であって、
前記入力電力が所定の値以上になったとき、前記主増幅器のソース電位が増加するように制御する、
ことを特徴とする電力増幅装置の制御方法。
(付記12)
前記入力電力が所定の値以上になったときに増加する前記主増幅器のソース電位は、前記主増幅器のゲートバイアス電圧と前記補助増幅器のゲートバイアス電圧の差に等しい、
ことを特徴とする付記11に記載の電力増幅装置の制御方法。
(付記13)
前記主増幅器は、A級またはAB級で動作する第1トランジスタで形成され、
前記補助増幅器は、B級またはC級で動作する第2トランジスタで形成される、
ことを特徴とする付記11または付記12に記載の電力増幅装置の制御方法。
1 主増幅器(キャリア増幅器)
2 補助増幅器(ピーク増幅器)
5 制御回路
31,32 λ/4伝送線路(1/4波長伝送線路)
41〜44 整合回路
51 抵抗素子
52 容量素子
53 ダイオード素子
54 サーミスタ素子

Claims (10)

  1. 入力信号が入力される入力端子と、
    前記入力信号を受け取って増幅する主増幅トランジスタと、
    前記入力信号を受け取り、前記入力信号が所定レベルを超えたときに前記入力信号を増幅する補助増幅トランジスタと、
    前記主増幅トランジスタのソースとグラウンド間に設けられ、前記入力信号が所定の値以上になったとき、前記主増幅トランジスタのソース電位が増加するように制御する制御回路と、
    前記主増幅トランジスタの出力信号および前記補助増幅トランジスタの出力信号が出力される出力端子と、を有する、
    ことを特徴とする電力増幅装置。
  2. 前記制御回路は、
    前記主増幅トランジスタのソースとグラウンドの間に設けられた抵抗素子を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の電力増幅装置。
  3. 前記制御回路は、さらに、
    前記主増幅トランジスタのソースとグラウンドの間に、前記抵抗素子と並列に設けられた容量素子を含む、
    ことを特徴とする請求項2に記載の電力増幅装置。
  4. 前記制御回路は、さらに、
    前記主増幅トランジスタのソースとグラウンドの間に、前記抵抗素子および前記容量素子と並列に設けられたダイオード素子を含む、
    ことを特徴とする請求項3に記載の電力増幅装置。
  5. 前記制御回路は、
    前記主増幅トランジスタのソースとグラウンドの間に、並列に設けられたNTCサーミスタ素子および容量素子を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の電力増幅装置。
  6. 前記容量素子は、前記主増幅トランジスタのソースと、前記グラウンドと、前記主増幅トランジスタのソースおよび前記グラウンド間に設けられた絶縁フィルムにより形成される、
    ことを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれか1項に記載の電力増幅装置。
  7. 前記制御回路による前記主増幅トランジスタのソースとグラウンド間の電圧降下量は、前記主増幅トランジスタのゲートバイアス電圧と前記補助増幅トランジスタのゲートバイアス電圧の差に等しい、
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の電力増幅装置。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の電力増幅装置を含む、
    ことを特徴とする半導体集積回路。
  9. 入力信号が入力される入力端子と、前記入力信号を受け取って増幅する主増幅トランジスタと、前記入力信号を受け取り、前記入力信号が所定レベルを超えたときに前記入力信号を増幅する補助増幅トランジスタと、前記主増幅トランジスタの出力信号および前記補助増幅トランジスタの出力信号が出力される出力端子と、を含むドハティ型の電力増幅装置の制御方法であって、
    前記入力信号が所定の値以上になったとき、前記主増幅トランジスタのソース電位が増加するように制御する、
    ことを特徴とする電力増幅装置の制御方法。
  10. 前記入力信号が所定の値以上になったときに増加する前記主増幅トランジスタのソース電位は、前記主増幅トランジスタのゲートバイアス電圧と前記補助増幅トランジスタのゲートバイアス電圧の差に等しい、
    ことを特徴とする請求項9に記載の電力増幅装置の制御方法。
JP2016153953A 2016-08-04 2016-08-04 電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法 Active JP6776709B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016153953A JP6776709B2 (ja) 2016-08-04 2016-08-04 電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法
US15/648,046 US10270406B2 (en) 2016-08-04 2017-07-12 Power amplifier, semiconductor integrated circuit, and method of controlling the power amplifier

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016153953A JP6776709B2 (ja) 2016-08-04 2016-08-04 電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018023043A JP2018023043A (ja) 2018-02-08
JP6776709B2 true JP6776709B2 (ja) 2020-10-28

Family

ID=61069571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016153953A Active JP6776709B2 (ja) 2016-08-04 2016-08-04 電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10270406B2 (ja)
JP (1) JP6776709B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11949411B2 (en) 2020-03-19 2024-04-02 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4631493A (en) * 1985-03-18 1986-12-23 Eaton Corporation Circuit for DC biasing
JPH06101652B2 (ja) * 1987-02-12 1994-12-12 三菱電機株式会社 バイアス回路
US5374899A (en) * 1993-11-10 1994-12-20 Itt Corporation Self biased power amplifier employing FETs
US5892400A (en) * 1995-12-15 1999-04-06 Anadigics, Inc. Amplifier using a single polarity power supply and including depletion mode FET and negative voltage generator
US5757229A (en) * 1996-06-28 1998-05-26 Motorola, Inc. Bias circuit for a power amplifier
US6683499B2 (en) * 2000-12-27 2004-01-27 Emhiser Research, Inc. Divided-voltage fet power amplifiers
US20020130720A1 (en) * 2001-03-15 2002-09-19 Motorola, Inc. Distributed amplifier with transistors in a cascode configuration and negative feedback
KR100546491B1 (ko) * 2001-03-21 2006-01-26 학교법인 포항공과대학교 초고주파 도허티 증폭기의 출력 정합 장치
AU2003247109A1 (en) * 2002-08-19 2004-03-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. High power doherty amplifier
WO2008012883A1 (fr) * 2006-07-26 2008-01-31 Panasonic Corporation Périphérique de communication sans fil

Also Published As

Publication number Publication date
US10270406B2 (en) 2019-04-23
US20180041177A1 (en) 2018-02-08
JP2018023043A (ja) 2018-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5122688B2 (ja) 高周波用3ステージ窒化ガリウム系高電子移動度トランジスタ(GaNHEMT)ドハティ電力増幅器
TWI651928B (zh) 具有並聯射極隨耦器的改良功率放大器偏壓電路
US20060097783A1 (en) Amplifier
JP6229369B2 (ja) 電力増幅器
JP2017092526A (ja) 電力増幅回路
US9013238B2 (en) Radio frequency power amplifier and electronic system
US10855236B2 (en) Device stack with novel gate capacitor topology
JP2004343244A (ja) 高周波増幅回路
US9722546B2 (en) Bias circuit for low quiescent current amplifier
US20180006608A1 (en) Bias circuit
JP2005184838A (ja) バイアス回路を一体化した金属酸化膜半導体デバイス
US20140354363A1 (en) Power amplifier
US9024689B2 (en) Electronic system—radio frequency power amplifier and method for self-adjusting bias point
JP6776709B2 (ja) 電力増幅装置、半導体集積回路および電力増幅装置の制御方法
US9337778B2 (en) Adaptive bias circuit and power amplifier
US9853605B2 (en) Transistor package, amplification circuit including the same, and method of forming transistor
WO2005104355A1 (en) Method and apparatus for doherty amplifier biasing
KR102221543B1 (ko) 전력 증폭 회로
CN113141161A (zh) 功率放大器和功率放大器模块
JP5684697B2 (ja) クリッピング回路、差動増幅回路および増幅回路
JP3123485B2 (ja) 半導体電力増幅器
US6542036B2 (en) Low current amplifier circuit with protection against static electricity
JP2008236354A (ja) 増幅器
US20220416727A1 (en) Amplifier circuit
US20240030877A1 (en) Power amplifier circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190513

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200204

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200403

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200908

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200921

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6776709

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150