JP6775566B2 - 時計ムーブメントの主ゼンマイおよびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、時計ムーブメントの主ゼンマイの製造方法、ならびに、その主ゼンマイに関するものである。

本発明は、さらに、かかる主ゼンマイを備えた時計ムーブメント、ならびに、かかる時計ムーブメントを備えた時計に関する。

現状技術では、時計ムーブメントの主ゼンマイを製造する方法は、従来、金属バネを形成する初期ステップを含み、このステップは、伸線工程により金属ワイヤを得るサブステップと、その得られたワイヤを巻回するサブステップと、を含む。このような方法は、一般に、ストリップの内端に（「穴」として知られる）矩形開口を形成する別個のステップを含み、その開口は、ムーブメントの香箱真「コア」として知られる中央円柱部のフックと協働するように構成される。この場合、これらの方法は、そのゼンマイを香箱真に取り付けることを可能とするために、香箱真の周りで最初の巻回ターンをなす目または輪を形成するステップを含む。

しかしながら、このような方法では、限られた数の材料で主ゼンマイを製造することしかできない。実際に、これらの方法は、例えば電気メッキ材で形成される主ゼンマイを製造するのには適していない。従って、このような欠点のない主ゼンマイ製造方法を開発する必要がある。

本発明の目的は、独特な引っ掛け領域を備えた主ゼンマイを多種多様な材料を用いて製造する方法であって、特に、その小寸法および／またはその特殊な形状に起因して製造の複雑さを伴うような部品の３次元形成に関与する方法を提案することにより、上記の欠点のすべてまたは一部を克服することである。

この目的のため、本発明は、時計ムーブメントの主ゼンマイを製造する方法に関し、この方法は、渦巻状金属ストリップと、そのストリップの内端の内面に引っ掛け領域と、を作製するステップを含み、その引っ掛け領域は、少なくとも１つの成形部および／または少なくとも１つの凹部を有し、この作製ステップは、巻回フェーズおよび／または打ち抜きフェーズを全く伴わない。

他の実施形態では、
− 作製ステップは、電鋳により、渦巻状金属ストリップおよび引っ掛け領域を形成するサブステップを含む。
− この形成サブステップは、
・ フォトリソグラフィにより、基板上に少なくとも１段を含む電鋳型を作成するフェーズと、
・ 金属材料の電着により、電鋳型の少なくとも１段に充填するフェーズと、
・ 主ゼンマイを形成するために、引っ掛け領域を含むストリップを電鋳型から、そして基板から外すフェーズと、を含む。
− 作製ステップは、ウェハ状の金属基板からの材料除去により、渦巻状金属ストリップおよび引っ掛け領域を形成するサブステップを含む。
− その材料除去は、フォトリソグラフィおよび／または化学エッチング／エングレービングおよび／またはレーザカットおよび／またはＤＲＩＥ（深掘り反応性イオンエッチング）の技術により実現する。
− 作製ステップは、金属付加製造技術により、渦巻状金属ストリップおよび引っ掛け領域を形成するサブステップを含む。

本発明は、さらに、本方法により得られる時計ムーブメントの主ゼンマイに関する。

他の実施形態では、
− このゼンマイは、渦巻状金属ストリップと、そのストリップの内端の内面に形成された引っ掛け領域とを含み、その引っ掛け領域は、内端の内面に含まれる少なくとも１つの成形部および／または少なくとも１つの凹部を有する。
− 内端は、その引っ掛け領域を含む第１の内側コイルを有する。
− 内端は、その引っ掛け領域を含む固定コアを有する。
− 凹部は、底と側壁とを有し、それらの側壁のそれぞれは、底と鋭角をなしている。
− 凹部は、ストリップの厚さの半分よりも、十分に大きい深さまたは真に大きい深さを有する。

本発明は、さらに、かかる主ゼンマイを有する時計ムーブメントに関する。

効果的には、この時計ムーブメントは、連結領域を有する周壁を備えた香箱真を含み、その連結領域は、主ゼンマイの引っ掛け領域の少なくとも１つの凹部および／または少なくとも１つの成形部と協働することが可能な少なくとも１つの成形部および／または少なくとも１つの凹部を有し、香箱真に主ゼンマイを保持する助けとなる。

特に、この時計ムーブメントでは、
− 連結領域の凹部は、引っ掛け領域の成形部と協働することが可能であり、かつ／または、
− 連結領域の成形部は、引っ掛け領域の凹部と協働することが可能である。

本発明は、さらに、かかる時計ムーブメントを備えた時計に関する。

よって、これらの特徴の結果として、特にその小寸法および／またはその特殊な形状に起因して極めて高精度が要求される特にゼンマイの引っ掛け領域を形成することに関して、特に巻回プロセスおよび／または打ち抜きプロセスに耐えることができない材料である多種多様な材料から主ゼンマイを製造することが、この製造方法により可能となる。

その他の特徴および効果は、非限定的な例示として、添付の図面を参照して提示される以下の説明から、明らかになるであろう。

図１は、本発明の第１の実施形態による、時計ムーブメントの主ゼンマイの概略図である。 図２は、本発明の第１の実施形態による、主ゼンマイの内端の概略図であり、その内端は、凹部を含む引っ掛け領域を備えた第１の内側コイルを有する。 図３は、本発明の第２の実施形態による、主ゼンマイの内端の概略図であり、その内端は、凹部を含む引っ掛け領域を備えた固定コアを有する。 図４は、本発明の第３の実施形態による、時計ムーブメントの主ゼンマイの概略図である。 図５は、本発明の第３の実施形態による、主ゼンマイの内端の概略図であり、その内端は、成形部を含む引っ掛け領域を備えた第１の内側コイルを有する。 図６は、本発明の第４の実施形態による、主ゼンマイの内端の概略図であり、その内端は、成形部を含む引っ掛け領域を備えた固定コアを有する。 図７は、本発明の第５の実施形態による、主ゼンマイの内端の概略図であり、その内端は、凹部および成形部を含む引っ掛け領域を備えた固定コアを有する。 図８は、主ゼンマイの製造方法に関する論理図である。 図９は、香箱真と協働する第１〜第５の実施形態のいずれかの主ゼンマイを備えた時計ムーブメントを含む時計の概略図である。

図１〜７および９を参照して、本発明は、ウォッチのような時計１００の時計ムーブメント１０００の主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅに関するものである。このような主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅは、その内端６で時計ムーブメント１０００の香箱真２に引っ掛けられているので、香箱真２と協働することが可能である。実際に、以下で記載する本発明の種々の実施形態において、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの第１の内側コイル８または固定コア９は、香箱真２のコアに形成された連結領域に引っ掛けられるように構成された基本的に環状形状の目または輪を形成している。

図１〜７に示すこの主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの第１〜第５の実施形態において、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅは、渦を巻いたストリップ３と別称される渦巻状金属ストリップ３と、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅと、を含む一体部品である。このストリップ３は、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅが形成された内端６を有する。この引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅは、内端６の内面５に配置されており、少なくとも１つの成形部７ａおよび／または少なくとも１つの凹部７ｂを含む。

より具体的には、図１および２に示す主ゼンマイ１ａの第１の実施形態において、内端６は、１つのみの凹部７ｂを備えた引っ掛け領域４ａを含む第１の内側コイル８を有する。この主ゼンマイ１ｂの第２の実施形態を示す図３では、内端６は、１つのみの凹部７ｂを同じく備えた引っ掛け領域４ｂを含む固定コア９を有する。これらの２つの実施形態では、凹部７ｂは、ストリップ３と一体である。凹部７ｂは、底１０と側壁１１とを有し、それらの側壁１１のそれぞれは、好ましくは、底１０と鋭角をなしている。この構成では、凹部７ｂは、ストリップ３の厚さＥの半分よりも、十分に大きい深さＰまたは真に大きい深さＰを有する。また、凹部７ｂの底１０は、ストリップ３と一体であることも注目される。

図４および５に示す主ゼンマイ１ｃの第３の実施形態では、内端６は、１つのみの成形部７ａを備えた引っ掛け領域４ｃを含む第１の内側コイル８を有する。図６に示す主ゼンマイ１ｄの第４の実施形態では、内端６は、１つのみの成形部７ａを同じく備えた引っ掛け領域４ｄを含む前述の固定コア９を有する。これらの２つの実施形態では、成形部７ａは、ストリップ３の内端６の内面５上の増厚部である。図４〜７に示すように、この成形部７ａは、該当する実施形態に応じて第１の内側コイル８または固定コア９の、中心に向かって径方向に略均一の厚さで延出している。

図７に示す主ゼンマイ１ｅの第５の実施形態では、主ゼンマイ１ｅの内端６は、凹部７ｂおよび成形部７ａを含む引っ掛け領域４ｅを備えた固定コア９を有する。

第１と第３の実施形態において、注目されるのは、成形部７ａおよび凹部７ｂはそれぞれ、第１の内側コイル８の自由端に直接隣接して形成されているということである。この構成では、第１の内側コイル８の自由端は、第１の内側コイル８の残り部分と略同じ断面を有する。この断面は、凹部７ｂの断面の表面積よりも大きく、成形部７ａの断面の表面積よりも小さい表面積を有する。

主ゼンマイ１ｂ、１ｄ、１ｅの第２、第４、第５の実施形態において、固定コア９は、ストリップ３と一体のヒゲ玉であってよく、例えば、香箱真２のような香箱真コアまたはより一般的に回転真と協働するためのものであってよい。

主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅのこれらの種々の実施形態において、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅは、複数の凹部７ｂもしくは複数の成形部７ａ、または凹部７ｂと成形部７ａの組み合わせ、を含むことができる。これらの複数および組み合わせの凹部７ｂおよび／または成形部７ａは、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの内端６の内面５に配置され、特に、該当する実施形態に応じて第１の内側コイル８または固定コア９に形成された内面５の全体または一部にわたって配置される。

また、この場合、このゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの一体構造によって、少なくとも１つの凹部７ｂおよび／または少なくとも１つの成形部７ａを備えた引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅが小寸法であることに起因する落とし穴をいずれも回避するものと理解される。さらに、注目されるのは、この引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅは、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅのストリップに対して常に完璧に位置決めされているということである。この引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅは、ストリップ３と一体であり、例えば、香箱真２のコアの連結領域と協働するためのものである。この構造により、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅの寸法に関して、すなわち凹部７ｂまたは成形部７ａの寸法に関して、さらにストリップ３の内端６におけるその位置に関して、極めて高精度であることが可能となる。

この場合、前述のように、時計ムーブメント１０００の香箱真２は、その周壁に連結領域を備えたコアを有する。この連結領域は、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅの形状に相補的な形状を必然的に有し、香箱真２への主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの取り外し可能な取り付け／組み付けのために、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅのこのような引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅと協働するように特別に構成されている。実際に、この連結領域は、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅの少なくとも１つの凹部７ｂおよび／または少なくとも１つの成形部７ａと、特に噛み合いまたはスナップフィットによって協働することが可能な、少なくとも１つの成形部および／または少なくとも１つの凹部を同じく有し、これにより、香箱真２に主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅを保持する助けとなる。例として、連結領域の成形部は、この成形部の形状に相補的な形状を凹部７ｂは有するので、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅの凹部７ｂと協働することが可能である。同様に、連結領域の凹部は、この凹部の形状に相補的な形状を成形部７ａは有するので、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅの成形部７ａと協働することが可能である。

図８を参照して、本発明は、さらに、この主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅを製造する方法に関し、この方法は、渦巻状金属ストリップ３と、少なくとも１つの成形部７ａおよび／または少なくとも１つの凹部７ｂを有する引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅと、を作製するステップ１２を含む。この作製ステップ１２は、ストリップ３と、ストリップ３の内端６の内面５に形成される引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅと、を略同時または同時に形成することに関与する。本方法では、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅを作製するこのステップ１２は、巻回フェーズおよび／または打ち抜きフェーズを伴わない。

本方法の第１の変形例では、作製ステップ１２は、電鋳により、渦巻状金属ストリップ３および引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅを形成するサブステップ１３ａを含む。このサブステップ１３ａにおいて、主な電鋳ステップは、電鋳型を形成することと、次に、例えばガルバノプラスチックプロセスによって、その電鋳型に材料を充填することにある。このタイプの電鋳は、独語の用語「Ｒｏｅｎｔｇｅｎｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｅ， Ｇａｌｖａｎｏｆｏｒｍｕｎｇ， Ａｂｆｏｒｍｕｎｇ」の略語「Ｌ．Ｉ．Ｇ．Ａ．」で知られている。より具体的には、このサブステップ１３ａは、導電性の上層を有する基板を準備することにある初期フェーズ１４を含む。この層は、絶縁材の上に導電性材料を堆積させることによって、または基板が導電性材料で形成されていることによって、得られることがある。その後に、サブステップ１３ａは、フォトリソグラフィにより、基板上に少なくとも１段を含む電鋳型を作成するフェーズ１５を含む。ＬＩＧＡプロセスのタイプに応じて、電鋳型は、実際には、充填前に完全に形成される１段のみを有するもの、または電鋳型の各段がそのときに形成されるとともに次段に移る前に充填されるような数段を有するもの、であり得る。当然のことながら、少なくとも１段を有する一体型の主ゼンマイ１ａ〜１ｅを形成することが可能な任意のタイプ（ＬＩＧＡまたはその他）の電鋳プロセスを想定し得る。なお、注目されるのは、この電鋳型作成フェーズ１５では、例えば、樹脂を用いてフォトリソグラフィにより単一の電鋳型段を形成するということである。さらに、この電鋳型の内部に少なくとも１つの凹部が形成されて、それの成形部が、後の主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅのパターンに対応しており、すなわち、主ゼンマイ１ａ〜１ｅの該当する実施形態に応じて第１のコイルまたは固定コア９の内面５に組み込まれたその引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅを有するパターンに対応している。この第１の変形例では、本方法のサブステップ１３ａは、次に、金属材料の電着により、電鋳型の段に充填するフェーズ１６を含む。このフェーズ１６では、後の主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅのパターンに対応した形状の少なくとも１つの凹部を、その金属材料で充填する。その後に、サブステップ１３ａは、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅを形成するために、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅを備えたストリップ３を電鋳型から、そして基板から外すフェーズ１７を含む。好ましくは、本発明によれば、堆積させる金属材料は、ニッケル・リン合金であり、典型的には、リンが略１２％のもの（ＮｉＰ１２）である。実際に、主ゼンマイを製造するために、この種の合金を用いると、これは約９０ＧＰａの弾性率および約１７００ＭＰａの弾性限界を有するので、要件を満たすことが判明している。

本方法の第２の変形例では、作製ステップ１２は、ウェハ状の金属基板からの材料除去により、渦巻状金属ストリップ３および引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅを形成するサブステップ１３ｂを含む。この文脈で、その材料除去は、フォトリソグラフィおよび／または化学エッチング／エングレービングおよび／またはレーザカットの技術により実現する。さらに、サブステップ１３ｂでは、特に、形成されるべき金属ストリップがシリコンまたは何らかのセラミックのような材料で構成されるときに、ＤＲＩＥ（Ｄｅｅｐ Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｉｏｎ Ｅｔｃｈｉｎｇ：深掘り反応性イオンエッチング）技術を用いることもできる。サブステップ１３ｂでは、ストリップ３と引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅは、共通の金属基板から切り出される。材料除去される基板は、単一の材料で構成することができ、例えば、シリコン、またはこの主ゼンマイの用途に適していると当業者が判断する他の任意の変形可能な材料で構成することができる。例えば、基板は、酸化シリコン、石英、もしくはこれらの化合物の１つ、微結晶材料、および／またはこれらの材料の組み合わせ、で構成することができる。一変形例では、基板は、異なる材料の２つ以上の層を含む。他の変形例では、基板は、中空のものである。注目されるのは、好ましくは、基板は理想的には平面状であるということである。一変形例では、共通基材の押し出しにより、３次元トポロジを形成することが可能である。他の変形例では、いくつかの材料または同じ材料で形成された層を有する多層基板から、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅを形成する。

本方法の第３の変形例では、作製ステップ１２は、金属付加製造技術により、渦巻状金属ストリップ３および引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅを形成するサブステップ１３ｃを含む。この金属付加製造技術は、例えば、周知の最新技術を実施するものであり、従って、これについて本明細書では詳述しない。それは、例えば、以下のようなものである。
− 選択的レーザ溶融／焼結（ＳＬＭ／ＳＬＳ）プロセス、
− レーザメタルデポジション（ＬＭＤ）プロセス、または、
− 電子ビーム溶解（ＥＢＭ）プロセス。

よって、これらの種々の変形例において、この製造方法では、主ゼンマイ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅを形成するストリップ３を作製するためと、その主ゼンマイ１ａ〜１ｅの引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅの凹部７ｂおよび／または成形部７ａを作製するための、個別のステップを設けていないことは明らかである。実際に、凹部７ｂおよび／または成形部７ａは、主ゼンマイ１ａ〜１ｅのストリップ３と略同時または同時に、直ちに形成される。所望の実施形態に応じて、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅを含む固定コア９の場合に、この利点は、明らかに有効である。この文脈で、引っ掛け領域４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅの凹部７ｂおよび／または成形部７ａは、ストリップ３に対して常に完璧に構造的に位置決めされる。

１ａ 主ゼンマイ（第１の実施形態）
１ｂ 主ゼンマイ（第２の実施形態）
１ｃ 主ゼンマイ（第３の実施形態）
１ｄ 主ゼンマイ（第４の実施形態）
１ｅ 主ゼンマイ（第５の実施形態）
２ 香箱真
３ 渦巻状金属ストリップ
４ａ 引っ掛け領域（第１の実施形態）
４ｂ 引っ掛け領域（第２の実施形態）
４ｃ 引っ掛け領域（第３の実施形態）
４ｄ 引っ掛け領域（第４の実施形態）
４ｅ 引っ掛け領域（第５の実施形態）
５ （ストリップの内端の）内面
６ （ストリップの）内端
７ａ 成形部
７ｂ 凹部
８ 第１の内側コイル
９ 固定コア
１０ （凹部の）底
１１ （凹部の）側壁
１２ 作製ステップ
１３ａ 電鋳による形成サブステップ
１３ｂ 材料除去による形成サブステップ
１３ｃ 金属付加製造技術による形成サブステップ
１４ （形成サブステップ１３ａの）初期フェーズ
１５ （形成サブステップ１３ａの）電鋳型作成フェーズ
１６ （形成サブステップ１３ａの）充填フェーズ
１００ 時計（ウォッチ）
１０００ 時計ムーブメント
Ｅ ストリップの厚さ
Ｐ 凹部の深さ

Claims (16)

1. 時計（１００）のムーブメント（１０００）の主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）を製造する方法であって、渦巻状金属ストリップ（３）と、前記ストリップ（３）の内端（６）の内面（５）に引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）と、を作製するステップ（１２）を含み、前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）は、少なくとも１つの成形部（７ａ）および少なくとも１つの凹部（７ｂ）を有し、前記成形部（７ａ）は前記凹部（７ｂ）と相補的な形状を有し、前記成形部（７ａ）は前記凹部（７ｂ）と協働し、そして前記作製ステップ（１２）は、巻回フェーズおよび／または打ち抜きフェーズを伴わない、方法。
2. 前記作製ステップは、電鋳により、前記渦巻状金属ストリップ（３）および前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）を形成するサブステップ（１３ａ）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
3. 前記形成サブステップ（１３ａ）は、
   フォトリソグラフィにより、基板上に少なくとも１段を含む電鋳型を作成するフェーズ（１５）と、
   金属材料の電着により、前記電鋳型の前記少なくとも１段に充填するフェーズ（１６）と、
   前記主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）を形成するために、前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）を含む前記ストリップ（３）を前記電鋳型から、そして前記基板から外すフェーズ（１７）と、を含むことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
4. 前記作製ステップは、ウェハ状の金属基板からの材料除去により、前記渦巻状金属ストリップ（３）および前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）を形成するサブステップ（１３ｂ）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
5. 前記材料除去は、フォトリソグラフィおよび／または化学エッチング／エングレービングおよび／またはレーザカットおよび／またはＤＲＩＥエッチングの技術により実現することを特徴とする、請求項４に記載の方法。
6. 前記作製ステップは、金属３Ｄプリンターである金属付加製造技術により、前記渦巻状金属ストリップ（３）および前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）を形成するサブステップ（１３ｃ）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の方法により得られる、時計（１００）のムーブメント（１０００）の主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）。
8. 当該主ゼンマイは、渦巻状金属ストリップ（３）と、前記ストリップ（３）の内端（６）の内面（５）に形成された引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）とを含み、前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）は、前記内端（６）の前記内面（５）に含まれる少なくとも１つの成形部（７ａ）および少なくとも１つの凹部（７ｂ）を有し、前記成形部（７ａ）は前記凹部（７ｂ）と相補的な形状を有し、前記成形部（７ａ）は前記凹部（７ｂ）と協働する、
   ことを特徴とする、請求項７に記載の主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）。
9. 前記内端（６）は、前記引っ掛け領域（４ａ，４ｃ）を含む第１の内側コイル（８）を有することを特徴とする、請求項８に記載の主ゼンマイ（１ａ，１ｃ）。
10. 前記内端（６）は、前記引っ掛け領域（４ｂ，４ｄ，４ｅ）を含む固定コア（９）を有することを特徴とする、請求項８に記載の主ゼンマイ（１ｂ，１ｄ，１ｅ）。
11. 前記凹部（７ｂ）は、底（１０）と側壁（１１）とを有し、前記側壁（１１）のそれぞれは、前記底（１０）と鋭角をなしている、ことを特徴とする、請求項７〜１０のいずれかに記載の主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｅ）。
12. 前記凹部（７ｂ）は、前記ストリップ（３）の厚さ（Ｅ）の半分よりも、十分に大きい深さ（Ｐ）または真に大きい深さ（Ｐ）を有することを特徴とする、請求項７〜１１のいずれかに記載の主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｅ）。
13. 請求項７〜１２のいずれかに記載の主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）を有する、時計（１００）用の時計ムーブメント（１０００）。
14. 当該ムーブメントは、連結領域を有する周壁を備えた香箱真（２）を含み、前記連結領域は、前記主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）の引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）の少なくとも１つの凹部（７ｂ）および／または少なくとも１つの成形部（７ａ）と協働することが可能な少なくとも１つの成形部および／または少なくとも１つの凹部を有し、前記香箱真（２）に前記主ゼンマイ（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ）を保持する助けとなる、ことを特徴とする、請求項１３に記載の時計ムーブメント（１０００）。
15. 前記連結領域の前記凹部は、前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）の前記成形部（７ａ）と協働することが可能であり、かつ／または、
    前記連結領域の前記成形部は、前記引っ掛け領域（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ）の前記凹部（７ｂ）と協働することが可能である、ことを特徴とする、請求項１４に記載の時計ムーブメント（１０００）。
16. 請求項１４または１５に記載の時計ムーブメント（１０００）を備えた、時計（１００）。

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