JP6760756B2 - 受光素子 - Google Patents
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- InPからなる基板と、
前記基板の上に形成された第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の上に形成された光吸収層と、
前記光吸収層の上に形成された第2導電型の第2半導体層と
を備え、
前記光吸収層は、InGaAsSbから構成されてInPに対して圧縮歪を有する状態とされた圧縮歪層、およびInGaAsSbから構成されてInPに対して引っ張り歪を有する状態とされた引っ張り歪層が交互に多重積層されたType−Iの超格子構造とされ、カットオフ波長が1.8μm以上とされ、
前記圧縮歪層は、V族におけるSb組成比が0.03以上0.3以下とされ、InPに対する格子不整合が1.0%以上とされている
ことを特徴とする受光素子。 - InPからなる基板と、
前記基板の上に形成された第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の上に形成された光吸収層と、
前記光吸収層の上に形成された第2導電型の第2半導体層と
を備え、
前記光吸収層は、InGaAsSbから構成されてInPに対して圧縮歪を有する状態とされた圧縮歪層、およびInGaAsSbから構成されてInPに対して引っ張り歪を有する状態とされた引っ張り歪層が交互に多重積層されたType−Iの超格子構造とされ、カットオフ波長が1.8μm以上とされ、
前記引っ張り歪層は、V族におけるSb組成比が0.03以上とされていることを特徴とする受光素子。
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JP2016086856A JP6760756B2 (ja) | 2016-04-25 | 2016-04-25 | 受光素子 |
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JP2016086856A JP6760756B2 (ja) | 2016-04-25 | 2016-04-25 | 受光素子 |
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