JP6753434B2 - ジフルオロエチレンの製造方法 - Google Patents
ジフルオロエチレンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6753434B2 JP6753434B2 JP2018113187A JP2018113187A JP6753434B2 JP 6753434 B2 JP6753434 B2 JP 6753434B2 JP 2018113187 A JP2018113187 A JP 2018113187A JP 2018113187 A JP2018113187 A JP 2018113187A JP 6753434 B2 JP6753434 B2 JP 6753434B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hfo
- reaction
- stream
- catalyst
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
- C07C17/358—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by isomerisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/132—Halogens; Compounds thereof with chromium, molybdenum, tungsten or polonium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/22—Halogenating
- B01J37/26—Fluorinating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/07—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/07—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides
- C07C17/087—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides to unsaturated halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/25—Preparation of halogenated hydrocarbons by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/383—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/09—Geometrical isomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
Description
(1)触媒を充填した反応器に、トランス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(E))及び/又はシス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(Z))を含む組成物を供給し、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)の製造方法。
項2.
(1A)触媒を充填した反応器に、トランス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(E))を、又は
HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を、
供給し、HFO−1132(E)とシス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(Z))との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(Z)の製造方法。
項3.
(1B)触媒を充填した反応器に、
HFO−1132(Z)を、又は
HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を、
供給し、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(E)の製造方法。
項4.
前記工程(1)、(1A)又は(1B)で得られる反応生成物が、HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含み、
さらに、
(2)前記工程(1)、(1A)又は(1B)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(3)前記工程(2)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含む、項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
項5.
さらに、
(i)ハロゲン化エタンを脱ハロゲン化水素反応又は脱ハロゲン化反応に供することによりHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を得る工程
を含み、
前記工程(i)で得られたHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を前記工程(1)、(1A)又は(1B)においてHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物として用いる、項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
項6.
(a)触媒を充填した反応器R1に、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)並びにフッ化水素を含む組成物を供給して、フッ素化反応を行うことにより、1,1,2−トリフルオロエタン(HFC−143)を含む反応生成物を得る工程;
(b)触媒を充填した反応器R2に、前記工程(a)で得られた反応生成物を供給して脱フッ化水素反応を行い、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む反応生成物を得る工程;
(c)前記工程(b)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(d)前記工程(c)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器R1にリサイクルして、前記フッ素化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法。
項7.
(x)触媒を充填した反応器に、HFC−143と、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物とを供給して、HFC−143の脱フッ化水素反応と、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応とを行うことによりHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を得る工程;
(y)前記工程(x)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(z)前記工程(y)で得られた第1又は第2ストリームを前記工程(x)にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法。
項8.
前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)で用いる触媒が、Al、Mg、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb及びTaからなる群より選択される少なくとも一種の元素の、ハロゲン化物、酸化物及び酸化ハロゲン化物からなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含む、項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
項9.
前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)で用いる触媒が、フッ素化された酸化クロムを含む、項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
項10.
前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)を、200℃〜400℃で行う、項1〜9のいずれか一項に記載の製造方法。
項11.
前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)を、希釈ガス存在下で行う、項1〜10のいずれか一項に記載の製造方法。
項12.
前記希釈ガスが、He、N2、Ar、HF及びO2からなる群より選択される少なくとも一種の希釈ガスである、項11に記載の製造方法。
HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う。この異性化反応は、以下の反応式に従う。E−異性体は、Z−異性体よりも熱力学的に安定性が低いため、この平衡はZ−異性体側に傾いている。よって、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物を異性化反応に供することにより、HFO−1132(Z)の含有割合がより高められた組成物が得られる。この含有割合は温度に依存しており、より高温で反応を行うことでHFO−1132(Z)が減少し、HFO−1132(E)が増加する。反応温度は特に限定されず、適宜設定することができるが、収率の観点から、反応温度は180℃〜500℃程度の範囲、好ましくは200℃〜400℃程度の範囲とすればよい。
異性化の原料として用いられる、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物は、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、上記異性化反応を著しく妨げない限り、特に限定されず、幅広く選択することができる。
1,1,2−トリフルオロエタン(CHF2CH2F;HFC−143)
1−ブロモ−1,2−ジフルオロエタン(CHFBrCH2F)
1−クロロ−1,2−ジフルオロエタン(CHClFCH2F)
1,2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエタン(CHClFCHClF)
1,1,2,2−テトラフルオロエタン(CHF2CHF2)
1−クロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(CHClFCHF2)
上記脱ハロゲン化水素反応は、触媒存在下で行うことが好ましい。触媒としては、特に限定されず、幅広く選択できる。
脱ハロゲン化反応は、公知の方法に従って行うことができる。例えば、非プロトン性溶媒中で、有機マグネシウム化合物、亜鉛などの金属試薬と反応させることによって、脱ハロゲン化反応を行うことができる。
金属触媒としては、特に限定されず、幅広く選択できる。理論に束縛されないが、触媒Cは、フリーラジカルを発生させることにより、炭素炭素間二重結合を単結合的にさせ、二重結合の部位における回転運動を可能にする結果、異性化を引き起こすと考えられる。
異性化反応における金属触媒としては、脱ハロゲン化水素反応等に使用する1.2「脱ハロゲン化水素反応」に例示したルイス酸触媒を用いることができる。
反応温度は特に限定されず、適宜設定することができる。反応温度は180℃〜500℃程度の範囲とすることができ、好ましくは200℃〜400℃程度の範囲とすればよい。
本開示の第一の製造プロセス態様は、
(1)触媒を充填した反応器に、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物を供給し、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う工程;
(2)前記工程(1)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(3)前記工程(2)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法である。
工程(1)については上記1.4〜1.5に示したような異性化反応が適用できる。
2.3 工程(2)
工程(2)では、工程(1)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する。例えば、具体的には、工程(1)の異性化反応により生成した反応器出口ガスを、冷却して液化させた後、蒸留して、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する。
工程(3)では、工程(2)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器にリサイクルして、前記異性化反応に供する。
本開示の第二の製造プロセスの態様は、
(i)ハロゲン化エタンを脱ハロゲン化水素反応又は脱ハロゲン化反応に供することによりHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を得る工程;及び
(ii)金属触媒を充填した反応器に、前記工程(i)で得られた、HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を供給し、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法である。
工程(i)の諸条件は、1.1〜1.3に例示した、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法におけるものと同様とすることができる。
工程(ii)の諸条件は、第一の製造プロセス態様における工程(1)と同様とすることができる。
(iii)前記工程(ii)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(iv)前記工程(iii)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含んでいてもよい。これにより第一の態様におけるのと同じ効果が得られる。
本開示の第三の製造プロセスの態様は、
(a)触媒を充填した反応器R1に、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)並びにフッ化水素を含む組成物を供給して、フッ素化反応を行うことにより、1,1,2−トリフルオロエタン(HFC−143)を含む反応生成物を得る工程;
(b)触媒を充填した反応器R2に、前記工程(a)で得られた反応生成物を供給して脱フッ化水素反応を行い、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む反応生成物を得る工程;
(c)前記工程(b)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(d)前記工程(c)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器R1にリサイクルして、前記フッ素化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法である。
4.2.1フッ素化反応
フッ素化反応には触媒を用いた液相又は気相のフッ素化反応が適応できる。連続式で反応できるため生産効率が良好であるという観点から気相フッ素化が好ましい。液相フッ素化反応の態様としてはHF中でアンチモン触媒を用いてフッ素化反応を行う態様などが挙げられる。
4.2.2 触媒
気相フッ素化の触媒としては、酸化フッ化クロム、酸化フッ化アルミニウム、金属フッ化物等が好ましい。触媒としては、とりわけ、酸化フッ化クロム触媒が好ましい。
触媒を充填した反応器は、上述の触媒が充填された固定床、流動床などの形式の反応器で、ペレット状、粉体状、粒状などに整形された触媒を用いることができる。工程(c)で分離されたHFO−1132(E)を主成分とする第1ストリーム、又はHFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームは、反応器R1に供給され、フッ素化反応(HF付加反応)によりHFC−143を生成する。
反応温度は200℃〜400℃程度の範囲とすることができ、好ましくは250℃〜350℃程度、の範囲とすればよい。
触媒としては、「1.2 脱ハロゲン化水素反応」で例示したようなものが使用できる。
触媒を充填した反応器R2は、上述の触媒が充填された固定床、流動床などの形式の反応器で、ペレット状、粉体状、粒状などに整形された触媒を用いることができる。
脱フッ化水素反応の行われる反応温度は200℃〜500℃程度の範囲とすることができ、好ましくは300℃〜450℃程度とすればよい。
工程(c)では、工程(b)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する。例えば、具体的には、工程(b)の脱フッ化水素反応により生成した反応器出口ガスを、冷却して液化させた後、蒸留して、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する。
工程(d)では、工程(c)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器R1にリサイクルして、前記フッ素化反応に供する。
本開示の第四の製造プロセスの態様は、
(x)触媒を充填した反応器に、HFC−143と、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物とを供給して、HFC−143の脱フッ化水素反応と、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応とを行うことによりHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を得る工程;
(y)前記工程(x)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(z)前記工程(y)で得られた第1又は第2ストリームを前記工程(x)にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法である。
触媒としては、「1.2 脱ハロゲン化水素反応」で例示したような異性化反応で用いられる触媒が利用できる。特にフッ素化された酸化クロムが好ましい。
5.2.2 反応器R2
触媒を充填した反応器は、上述の触媒が充填された固定床、流動床などの形式の反応器で、ペレット状、粉体状、粒状などに整形された触媒を用いることができる。
脱フッ化水素反応、異性化反応の行われる反応温度は200℃〜500℃程度の範囲とすることができ、好ましくは300℃〜450℃程度とすればよい。
工程(y)では、工程(x)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する。例えば、具体的には、工程(x)の異性化反応により生成した反応器出口ガスを、冷却して液化させた後、蒸留して、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する。
工程(z)では、工程(y)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器にリサイクルして、前記異性化反応に供する。
(1)trans-1,2-ジフルオロエチレン及び/またはcis-1,2-ジフルオロエチレンの異性化反応
trans-1,2-ジフルオロエチレン及び/またはcis-1,2-ジフルオロエチレンを下記の方法で調製した酸化フッ化クロム触媒を用いて異性化反応を行い、どちらか一方の異性体濃度が供給したtrans-1,2-ジフルオロエチレン及び/またはcis-1,2-ジフルオロエチレンからなる原料組成物よりも上昇した反応組成物を得た。
上記異性化反応で得られた反応器出口組成物を蒸留してtrans-1,2-ジフルオロエチレンとcis-1,2-ジフルオロエチレンそれぞれを主成分とする組成物に分離した。蒸留塔として、内径25mm、高さ2mの塔に充填物としてヘリパックS-1を用いた蒸留塔を用いて分離を行った。結果を以下に示す。
上記反応結果、及び蒸留結果を用いた、各ストリームにおける各成分の流量(kg/hr)を表2に示す。目的生成物はHFO-1132(E)である。また、プロセスの概略図を図2に示す。
目的とする生成物をHFO-1132(Z)としたこと以外は実施例1と同じ方法で異性化反応および分離を行った。結果を表3に示す。プロセスの概略図を図2に示す。
cis-1,2-ジフルオロエチレンの気相フッ素化を行い、HFC-143とした後、これを脱フッ化水素反応してtrans-1,2-ジフルオロエチレンとcis-1,2-ジフルオロエチレンからなる組成物を得、これを分離工程へ送ってtrans-1,2-ジフルオロエチレン及びcis-1,2-ジフルオロエチレンそれぞれを主成分とするストリームに分離し、cis-1,2-ジフルオロエチレンをフッ素化反応器にリサイクルするプロセスを構築した。
cis-1,2-ジフルオロエチレンを実施例1と同様の方法で得た触媒10g充填された外径12.7mm、長さ700mmの反応器に供給してフッ素化反応を行った。cis-1,2-ジフルオロエチレン93mol%、1,1,1,2-テトラフルオロエタン1.2mol%、1,1,2-トリフルオロエタン3.8mol%からなる原料ガスをトータル60Nml/minの速度で反応器に供給し、フッ素化反応を行った。反応の結果を以下に示す。
上記の反応により得られたHFC-143を以下の条件で脱フッ化水素反応に供給し、trans-1,2-ジフルオロエチレンとcis-1,2-ジフルオロエチレンからなる組成物を得た。外径12.7mm、長さ700mmの反応器に実施例1と同様の方法で得た触媒を10g充填し、350~400℃で脱フッ化水素反応を行った。なお、原料ガスには触媒の劣化防止のために酸素を同伴させた。反応の結果を以下に示す。
上記反応結果、及び蒸留結果を用いた各ストリームにおける各成分の流量(kg/hr)を下記表1に示す。目的生成物はHFO-1132(E)である。また、ストリーム中に含まれるHFは次の工程に送る際に脱酸装置により除去されて送られるが、脱酸は吸着、蒸留、水洗などいずれの方法でも行うことができる。プロセスの概略図を図3に示す。
HFC−143とcis-1,2-ジフルオロエチレンを脱フッ化水素、異性化反応してtrans-1,2-ジフルオロエチレンとcis-1,2-ジフルオロエチレンからなる組成物を得、これを分離工程へ送ってtrans-1,2-ジフルオロエチレン及びcis-1,2-ジフルオロエチレンそれぞれを主成分とするストリームに分離し、cis-1,2-ジフルオロエチレンを脱フッ素化、異性化反応器にリサイクルするプロセスを構築した。
HFC-143とcis-1,2-ジフルオロエチレンを以下の条件で脱フッ化水素、異性化反応に供給し、trans-1,2-ジフルオロエチレンとcis-1,2-ジフルオロエチレンからなる組成物を得た。外径12.7mm、長さ700mmの反応器に実施例1と同様の方法で得た触媒を10g充填し、350℃で脱フッ化水素反応を行った。反応の結果を以下に示す。
Claims (11)
- (1)酸化クロムを含む金属触媒を充填した反応器に、トランス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(E))及び/又はシス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(Z))を含む組成物を供給し、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)の製造方法。 - (1A)酸化クロムを含む金属触媒を充填した反応器に、トランス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(E))を、又は
HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を、
供給し、HFO−1132(E)とシス−1,2−ジフルオロエチレン(HFO−1132(Z))との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(Z)の製造方法。 - (1B)酸化クロムを含む金属触媒を充填した反応器に、
HFO−1132(Z)を、又は
HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を、
供給し、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応を行う工程
を含む、HFO−1132(E)の製造方法。 - 前記工程(1)、(1A)又は(1B)で得られる反応生成物が、HFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含み、
さらに、
(2)前記工程(1)、(1A)又は(1B)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(3)前記工程(2)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。 - さらに、
(i)ハロゲン化エタンを脱ハロゲン化水素反応又は脱ハロゲン化反応に供することによりHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を得る工程
を含み、
前記工程(i)で得られたHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を前記工程(1)、(1A)又は(1B)においてHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物として用いる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。 - (a)酸化クロムを含む金属触媒を充填した反応器R1に、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)並びにフッ化水素を含む組成物を供給して、フッ素化反応を行うことにより、1,1,2−トリフルオロエタン(HFC−143)を含む反応生成物を得る工程;
(b)酸化クロムを含む金属触媒を充填した反応器R2に、前記工程(a)で得られた反応生成物を供給して脱フッ化水素反応を行い、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む反応生成物を得る工程;
(c)前記工程(b)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(d)前記工程(c)で得られた第1又は第2ストリームを、前記反応器R1にリサイクルして、前記フッ素化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法。 - (x)酸化クロムを含む金属触媒を充填した反応器に、HFC−143と、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物とを供給して、HFC−143の脱フッ化水素反応と、HFO−1132(E)とHFO−1132(Z)との間の異性化反応とを行うことによりHFO−1132(E)及びHFO−1132(Z)を含む組成物を得る工程;
(y)前記工程(x)で得られた反応生成物を、HFO−1132(E)を主成分とする第1ストリームと、HFO−1132(Z)を主成分とする第2ストリームとに分離する工程;及び
(z)前記工程(y)で得られた第1又は第2ストリームを前記工程(x)にリサイクルして、前記異性化反応に供する工程
を含む、HFO−1132(E)及び/又はHFO−1132(Z)を含む組成物の製造方法。 - 前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)で用いる金属触媒が、フッ素化された酸化クロムを含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)を、200℃〜400℃で行う、請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記工程(1)、(1A)、(1B)、(b)及び(x)を、希釈ガス存在下で行う、請求項1〜9のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記希釈ガスが、He、N2、Ar、HF及びO2からなる群より選択される少なくとも一種の希釈ガスである、請求項10に記載の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018113187A JP6753434B2 (ja) | 2018-06-13 | 2018-06-13 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
CN201980038487.3A CN112243435A (zh) | 2018-06-13 | 2019-06-13 | 二氟乙烯的制造方法 |
EP19820302.8A EP3808722A4 (en) | 2018-06-13 | 2019-06-13 | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF DIFLUORETHYLENE |
US16/973,991 US20210246090A1 (en) | 2018-06-13 | 2019-06-13 | Method for producing difluoroethylene |
PCT/JP2019/023556 WO2019240233A1 (ja) | 2018-06-13 | 2019-06-13 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
US17/161,910 US11247951B2 (en) | 2018-06-13 | 2021-01-29 | Method for producing difluoroethylene |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018113187A JP6753434B2 (ja) | 2018-06-13 | 2018-06-13 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019214535A JP2019214535A (ja) | 2019-12-19 |
JP6753434B2 true JP6753434B2 (ja) | 2020-09-09 |
Family
ID=68841859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018113187A Active JP6753434B2 (ja) | 2018-06-13 | 2018-06-13 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20210246090A1 (ja) |
EP (1) | EP3808722A4 (ja) |
JP (1) | JP6753434B2 (ja) |
CN (1) | CN112243435A (ja) |
WO (1) | WO2019240233A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6860033B2 (ja) * | 2019-04-19 | 2021-04-14 | ダイキン工業株式会社 | 1,2−ジフルオロエチレン(hfo−1132)の精製方法 |
JP6870704B2 (ja) * | 2019-06-10 | 2021-05-12 | ダイキン工業株式会社 | 1−ハロ−2−フルオロエチレンの製造方法 |
JP7171513B2 (ja) * | 2019-06-10 | 2022-11-15 | ダイキン工業株式会社 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
JP6809589B1 (ja) | 2019-10-28 | 2021-01-06 | ダイキン工業株式会社 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
WO2024071127A1 (ja) * | 2022-09-28 | 2024-04-04 | ダイキン工業株式会社 | ジフルオロエチレンの製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3432562A (en) * | 1965-09-24 | 1969-03-11 | Phillips Petroleum Co | Dehydrofluorination process and products |
GB9104775D0 (en) * | 1991-03-07 | 1991-04-17 | Ici Plc | Fluorination catalyst and process |
JP3412165B2 (ja) | 1991-05-24 | 2003-06-03 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化触媒およびハロゲン化炭化水素のフッ素化方法 |
US6281395B1 (en) | 1998-04-03 | 2001-08-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane manufacturing process |
EP2053919B1 (en) | 2006-08-23 | 2013-12-25 | The University Of Montana | Method of reducing neuronal cell damage |
CN103483143B (zh) * | 2006-08-24 | 2019-01-08 | 霍尼韦尔国际公司 | Hfc反式-1234ze的整联制造方法 |
US7485760B2 (en) * | 2006-08-24 | 2009-02-03 | Honeywell International Inc. | Integrated HFC trans-1234ze manufacture process |
GB0706978D0 (en) * | 2007-04-11 | 2007-05-16 | Ineos Fluor Holdings Ltd | Process |
ES2507575T3 (es) * | 2008-08-22 | 2014-10-15 | Daikin Industries, Ltd. | Procedimiento para preparar 2,3,3,3-tetrafluoropropeno |
US8217208B2 (en) * | 2008-12-12 | 2012-07-10 | Honeywell International, Inc. | Isomerization of 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene |
US8373010B2 (en) | 2010-09-03 | 2013-02-12 | Honeywell International Inc. | Methods to produce 3,3,3-trifluoropropene |
US8653309B2 (en) | 2011-04-20 | 2014-02-18 | Honeywell International Inc. | Process for producing trans-1233zd |
JP6119388B2 (ja) * | 2012-04-26 | 2017-04-26 | セントラル硝子株式会社 | トランス−1,3,3,3−テトラフルオロプロペンと1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンとの並産方法 |
JP2014011665A (ja) | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Kyocera Crystal Device Corp | 圧電装置 |
JP6328589B2 (ja) * | 2015-05-29 | 2018-05-23 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素オレフィンの製造方法 |
JP7101478B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2022-07-15 | Agc株式会社 | ヒドロクロロフルオロオレフィンの製造方法、および2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
CN106946647B (zh) * | 2017-02-08 | 2019-10-11 | 陕西延长石油矿业有限责任公司 | 一种混合料常温异构化制备反式-1,3,3,3-四氟丙烯的方法 |
CN107522592B (zh) * | 2017-09-07 | 2020-06-02 | 浙江衢化氟化学有限公司 | 一种联产多种卤代烯烃和氟代烷烃的方法 |
-
2018
- 2018-06-13 JP JP2018113187A patent/JP6753434B2/ja active Active
-
2019
- 2019-06-13 US US16/973,991 patent/US20210246090A1/en not_active Abandoned
- 2019-06-13 EP EP19820302.8A patent/EP3808722A4/en active Pending
- 2019-06-13 CN CN201980038487.3A patent/CN112243435A/zh active Pending
- 2019-06-13 WO PCT/JP2019/023556 patent/WO2019240233A1/ja unknown
-
2021
- 2021-01-29 US US17/161,910 patent/US11247951B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3808722A1 (en) | 2021-04-21 |
US11247951B2 (en) | 2022-02-15 |
US20210147323A1 (en) | 2021-05-20 |
EP3808722A4 (en) | 2022-03-23 |
CN112243435A (zh) | 2021-01-19 |
US20210246090A1 (en) | 2021-08-12 |
JP2019214535A (ja) | 2019-12-19 |
WO2019240233A1 (ja) | 2019-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6753434B2 (ja) | ジフルオロエチレンの製造方法 | |
JP5831589B2 (ja) | 含フッ素アルケン化合物の製造方法 | |
CN112105594B (zh) | 1,2-二氟乙烯和/或1,1,2-三氟乙烷的制造方法 | |
US8614361B2 (en) | Process for preparation of 2,3,3,3-tetrafluoropropene | |
EP2585423A2 (en) | Method for prolonging a catalyst's life during hydrofluorination | |
JP5413451B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製法 | |
US20110201851A1 (en) | Process for preparing 2,3,3,3-tetrafluoropropene | |
JP2019196347A (ja) | フルオロオレフィンの製造方法 | |
WO2010101198A1 (en) | Process for preparing fluorine-containing propenes containing 2,3,3,3-tetrafluoropropene and 1,3,3,3-tetrafluoropropene | |
JP5246327B2 (ja) | 気相フッ素化による含フッ素プロペンの製造方法 | |
EP2534120B1 (en) | Process for producing fluorine-containing alkene | |
US6268541B1 (en) | Process for the preparation of 1,1,1,2,2-pentafluoroethane | |
WO2024071127A1 (ja) | ジフルオロエチレンの製造方法 | |
CN113272268A (zh) | 环丁烷的制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190820 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191029 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20191029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200225 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200424 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200721 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200803 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6753434 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |