JP6751199B2 - 巻上機およびエレベーター - Google Patents

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Description

本発明は、巻上機およびエレベーターに関する。
エレベーターは、乗りかごに連係するロープを巻上機により巻上げ或いは巻戻すことにより、昇降路内において乗りかごの上昇或いは下降を行うようになっている。
そして、このような構造の巻上機にあっては、例えば特許文献1が知られる。特許文献1には「綱車軸15の他端には軸受20とこの軸受20を支持する軸受台21が設けられ、」「ブレーキ装置22は綱車5の中心より軸受台21側の無索溝58の外周に配置され、この軸受台21の上部に支持されている」と記載されている。
特開昭61−203086号公報
しかし特許文献1に記載された巻上機の構成では、ロープの影響を受けることがないことから、ペデスタルやマシンベースの設計に比較的余裕があるが、その一方で、巻上機軸方向の寸法が大きくなるという課題があった。
本発明の目的は、巻上機軸方向の寸法を小さくすることのできる巻上機およびエレベーターを提供することにある。
前記課題を解決し、本発明の目的を達成するために、本発明は、マシンベース上に固定される筐体と、前記筐体に軸受けを介して一端が支持される主軸と、前記主軸に取り付けられ、主ロープが巻き掛けられるシーブと、前記マシンベース上に固定され、他の軸受けを介して前記主軸の他端を支持するペデスタルと、を備える巻上機において、前記ペデスタルの横幅寸法は前記シーブの外径より小さく、前記ペデスタルは、前記ペデスタルを支持する脚部を有し、前記脚部は、前記シーブにおける前記主ロープが巻きかけられる溝部と前記マシンベースとの間に配置されることを特徴とする
前記構成のエレベーターによれば、巻上機軸方向の寸法を小さくすることができる。
なお、上述した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
本発明が搭載されたエレベーターの概要図である。 本発明の第一の実施形態に係るエレベーターの巻上機の側面図である。 図1に示す巻上機の正面図である。 本発明の第二の実施形態に係るエレベーターの巻上機の側面図である。 図4に示す巻上機の正面図である。
以下、実施例について、図1乃至図5を参照して説明する。なお、各図において同一または類似の構成には同じ符号を付して繰り返しの説明は省略する。
以下、本発明の一実施例を図1、図2、図3に沿って説明する。
図1は、本発明が搭載されたエレベーターの概要図である。図1のエレベーターは、建屋の昇降路13内を昇降する乗りかご11と、乗りかご11と一端部で接続される主ロープ8と、主ロープ8の他端部が接続される釣合い錘12と、機械室10に設置され、主ロープ8を巻き上げる巻上機1とによって構成される。
図2は、本発明の第一の実施形態に係るエレベーターの巻上機の側面図、図3は、図1に示す巻上機の正面図である。
本実施形態のエレベーターの巻上機1は、例えば、筐体2と、主軸3と、シーブ4と、ペデスタル5と、ブレーキ6とを有している。
また、筐体2は、機械室10を構成する床面に載置されるマシンベース7に固定され、図示しない電動機が設けられている。電動機には、主軸3の一端が回転可能に取り付けられており、電動機が駆動すると主軸3が回転し、主軸3の回転に連動してシーブ4が回転する。
主軸3は、筐体2に図示しない軸受けを介してその一端が支持され、電動機により駆動される。
シーブ4は、円柱形状に形成されており、その軸の中心には図示しない貫通穴が形成されている。この貫通穴の径は、主軸3の外径の大きさと略等しくなっており、主軸3はシーブ4の貫通穴を貫通してシーブ4に固定されている。また、シーブ4の側面部には、複数の主ロープ8が巻き掛けられている。
ペデスタル5は、マシンベース7に固定され、図示しない軸受けを介して主軸3の他端を支持している。
ブレーキ6は、筐体2により支持され、シーブ4と連動して回転する図示しないディスクブレーキを制動する。
そして、本実施形態のエレベーターは、巻上機軸方向の寸法を小さくするために工夫が施されている。具体的には、ペデスタル5の横幅寸法W1がシーブ4の外径W2より小さく設定されている。また、ペデスタル5の一部である脚部14がシーブ4の投影面積と重なる配置としている。すなわち、シーブ4における主ロープ8が巻き掛けられる溝部とマシンベース7との間に脚部14が配置されている。このような構成とすることで、ペデスタル5を従来のものより筐体2側に寄せつつ、ペデスタル5が、シーブ4から延びる主ロープ8と干渉することを防ぐことができる。
このように構成されるエレベーターは、乗りかごに連係する主ロープ8を巻上機1により巻上げ或いは巻戻すことにより、昇降路13内において乗りかごの上昇或いは下降を行うようになっている。すなわち、制御装置によって運行指令が、巻上機1を構成する電動機に与えられると、電動機が駆動して主軸3が回転する。
この主軸3の回転に連動してシーブ4が回転し、その際の主ロープ8とシーブ4との間の摩擦によって、シーブ4に懸架された主ロープ8がシーブ4の回転方向に沿って移動する。そして、主ロープ8の動きに従って、乗りかごおよび釣り合いおもりが上下に互いに反対方向に移動する。
このとき、制御装置からブレーキ6に制御駆動電流が流れ、内部の電磁コイルが励磁されてブレーキディスクが自由状態となっている。一方、ブレーキ6の制御駆動電流が遮断されると、電磁コイルが消磁され、図示しないブレーキばねによってブレーキディスクに制動力が作用する。
さらに、ペデスタル5の横幅寸法W1をシーブ4の外径W2より小さくすると共に、ペデスタル5を支える脚部14は、シーブ4の溝部とマシンベース7の間に配置される構成とした。
上記の構成によれば、ペデスタル5を従来のものより筐体2側に寄せることができ、したがって、巻上機軸方向の寸法を小さくし、省スペース化を図ることができる。
さらに、脚部14が筐体2側にあることでペデスタル5の強度を増すことが出来る。したがって、従来よりも軸方向の幅寸法が短いペデスタルを用いることが出来、巻上機全体の軸方向の寸法を短くすることが出来る。
次に、図4および図5を用いて本発明による第二の実施例を説明する。
図4は、本発明の第二の実施形態に係るエレベーターの巻上機の側面図、図5は、図4に示す巻上機の正面図である。
第一の実施形態では、シーブ4に巻き掛けられた主ロープ8が真下に延びたものを例として説明したが、第二の実施形態においては、シーブ4から延びる主ロープ8の一端が、反らせプーリ9を介して釣り合いおもり12の上端に連結されており、他端は乗りかご11の上端に連結されている。
このような構造の場合、ペデスタル5には曲げモーメントが作用する。このような曲げモーメントに対応するために第二の実施形態では工夫が施されている。
具体的には、マシンベース7は、筐体2が固定される面よりも高さが高いかさ上げ部7aを有し、このかさ上げ部7aに第一の実施形態で説明したペデスタル5より低い高さ寸法を有するペデスタル5Aを配置している。
反らせプーリ9を備えたエレベーターでは、乗りかご11に連結される主ロープ8の他端側にあっては真下に力F1が作用すると共に、釣り合いおもり12に連結される主ロープ8の一端側にあっては斜めに力F2が作用し、したがって、ペデスタル5Aには斜めの力Fがかかる。
そして、ペデスタル5Aにかかる曲げモーメントMは、M=F×Lの計算式で表されるように、ペデスタル5Aの高さ寸法にかかっている。
そこで、他の実施形態に示すペデスタル5Aの高さ寸法L1を、上述した実施形態に示すペデスタル5の高さ寸法L2より小さなものとし、ペデスタル5Aにかかる曲げモーメントMを小さくして相対的に強度の向上を図っている。一方、低くなったペデスタル5Aの高さを補うため、マシンベース7の一部をかさ上げし、このかさ上げ部7aにペデスタル5Aを配置する構成としている。
上記の構成によれば、マシンベース7の一部をかさ上げし、このかさ上げ部7aにペデスタル5Aを配置したことにより、ペデスタル5Aの高さ寸法L1を小さくし、ペデスタル5Aに求められる必要強度を簡易な構造で確保することができる。
さらに、強度を高めることが可能なことから、従来よりも軸方向の幅寸法が短いペデスタルを用いることが出来、巻上機全体の軸方向の寸法を短くすることが出来る。
なお、本発明におけるブレーキ6はブレーキディスクをシーブ4に対し筐体2側に配置したものであるが、ペデスタル5,5A側に配置した場合も可能である。
また、ブレーキ6は本発明で説明したディスクブレーキに限らず、ドラムブレーキについても同様であり、上記同様筐体2側、及び、ペデスタル5,5A側のどちら側に配置した場合も可能である。
以上、本発明の巻上機およびエレベーターの実施形態について、その作用効果も含めて説明した。
しかしながら、本発明は、上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
1 巻上機
2 筐体
3 主軸
4 シーブ
5,5A ペデスタル
6 ブレーキ
7 マシンベース
7a かさ上げ部
8 主ロープ
9 反らせプーリ
10 機械室
11 乗りかご
12 釣合い錘
13 昇降路
14 脚部

Claims (3)

  1. マシンベース上に固定される筐体と、
    前記筐体に軸受けを介して一端が支持される主軸と、
    前記主軸に取り付けられ、主ロープが巻き掛けられるシーブと、
    前記マシンベース上に固定され、他の軸受けを介して前記主軸の他端を支持するペデスタルと、を備える巻上機において、
    前記ペデスタルの横幅寸法は前記シーブの外径より小さく、
    前記ペデスタルは、その一部として該ペデスタルを支持する脚部を有し、
    前記脚部は、前記シーブにおける前記主ロープが巻きかけられる溝部と前記マシンベースとの間に配置され、
    前記マシンベースは、前記筐体が固定される面よりも高さが高いかさ上げ部を有し、
    前記かさ上げ部上に前記ペデスタルが固定されることを特徴とする巻上機。
  2. 前記主ロープは反らせプーリによって案内されることを特徴とする請求項に記載の巻上機。
  3. 昇降路内を昇降する乗りかごと、
    前記乗りかごと一端部で接続される主ロープと、
    前記主ロープの他端部が接続される釣合い錘と、
    機械室に設置され、前記主ロープを巻き上げる巻上機と、
    前記機械室に設けられ、前記巻上機が固定されるマシンベースと、を備え、
    前記巻上機は、
    前記マシンベース上に固定される筐体と、
    前記筐体に軸受けを介して一端が支持される主軸と、
    前記主軸に取り付けられ、前記主ロープが巻き掛けられるシーブと、
    前記マシンベース上に固定され、他の軸受けを介して前記主軸の他端を支持するペデスタルと、
    を備えるエレベーターにおいて、
    前記ペデスタルの横幅寸法は前記シーブの外径より小さく、
    前記ペデスタルは、その一部として該ペデスタルを支持する脚部を有し
    前記脚部は、前記シーブにおける前記主ロープが巻きかけられる溝部と前記マシンベースとの間に配置され
    前記マシンベースは、前記筐体が固定される面よりも高さが高いかさ上げ部を有し、
    前記かさ上げ部上に前記ペデスタルが固定されることを特徴とするエレベーター。
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