JP6751061B2 - ウエハ載置装置 - Google Patents
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Description
静電チャックと冷却板とが樹脂層を介して接着されたウエハ載置装置であって、
前記樹脂層の側面に沿って該側面を覆うように設けられたクランプ部材と、
前記クランプ部材と前記静電チャックとの間に配置された弾性変形可能な第1リング部材と、
前記クランプ部材と前記冷却板との間に配置された弾性変形可能な第2リング部材と、
を備え、
前記第1リング部材は、前記クランプ部材と前記静電チャックとによって押し潰された状態で保持され、
前記第2リング部材は、前記クランプ部材と前記冷却板とによって押し潰された状態で保持され、
前記樹脂層の側面は、前記第1リング部材と前記第2リング部材と前記クランプ部材とによって囲まれた閉空間内に配置されている、
ものである。
Claims (5)
- 静電チャックと冷却板とが樹脂層を介して接着されたウエハ載置装置であって、
前記樹脂層の側面に沿って該側面を覆うように設けられたクランプ部材と、
前記クランプ部材の締め付け量を調節する調節部材と、
前記クランプ部材と前記静電チャックとの間に配置された弾性変形可能な第1リング部材と、
前記クランプ部材と前記冷却板との間に配置された弾性変形可能な第2リング部材と、
を備え、
前記第1リング部材は、前記クランプ部材と前記静電チャックとによって押し潰された状態で保持され、
前記第2リング部材は、前記クランプ部材と前記冷却板とによって押し潰された状態で保持され、
前記樹脂層の側面は、前記第1リング部材と前記第2リング部材と前記クランプ部材とによって囲まれた閉空間内に配置され、
前記クランプ部材は、分断箇所を少なくとも1つ有し、
前記調節部材は、前記分断箇所の間隔を調節することによって前記クランプ部材の締め付け量を調節する、
ウエハ載置装置。 - 前記樹脂層の材質は、シリコーン樹脂、アクリル樹脂又はエポキシ樹脂であり、
前記第1及び第2リング部材の材質は、フッ素樹脂である、
請求項1に記載のウエハ載置装置。 - 前記クランプ部材が前記調節部材によって最も締め付けられた状態では、前記分断箇所の間隔がゼロになる、
請求項1又は2に記載のウエハ載置装置。 - 前記クランプ部材が前記調節部材によって所定の締め付け状態から最も締め付けられた状態に至る過程では、前記分断箇所の分断された端部同士は接触した状態を維持して前記クランプ部材の内外の連通を遮断する
請求項1〜3のいずれか1項に記載のウエハ載置装置。 - 前記分断箇所には、弾性変形可能なパッキンが配置されている、
請求項1又は2に記載のウエハ載置装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016182578 | 2016-09-20 | ||
JP2016182578 | 2016-09-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018050039A JP2018050039A (ja) | 2018-03-29 |
JP6751061B2 true JP6751061B2 (ja) | 2020-09-02 |
Family
ID=61766557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017168403A Active JP6751061B2 (ja) | 2016-09-20 | 2017-09-01 | ウエハ載置装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6751061B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6681522B1 (ja) * | 2018-09-13 | 2020-04-15 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置装置 |
CN110911316B (zh) * | 2019-12-04 | 2022-04-19 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种复合型冷却水盘及其制作方法和用途 |
JP2022147550A (ja) * | 2021-03-23 | 2022-10-06 | 株式会社東京精密 | ワーク保持装置 |
KR20240045368A (ko) * | 2021-09-02 | 2024-04-05 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 에지 아크 방전 완화를 위한 교체 가능한 정전 척 외부 링 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3078506B2 (ja) * | 1997-06-26 | 2000-08-21 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 静電チャック装置及び載置台 |
JP4451098B2 (ja) * | 2002-08-22 | 2010-04-14 | 住友大阪セメント株式会社 | サセプタ装置 |
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2017
- 2017-09-01 JP JP2017168403A patent/JP6751061B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018050039A (ja) | 2018-03-29 |
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